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TWI285291B - A manufacture method for liquid crystal display device and marks of substrate thereof - Google Patents

A manufacture method for liquid crystal display device and marks of substrate thereof Download PDF

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TWI285291B
TWI285291B TW093129463A TW93129463A TWI285291B TW I285291 B TWI285291 B TW I285291B TW 093129463 A TW093129463 A TW 093129463A TW 93129463 A TW93129463 A TW 93129463A TW I285291 B TWI285291 B TW I285291B
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liquid crystal
crystal display
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manufacturing
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Yen-Wen Fang
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Hannstar Display Corp
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Priority to US11/093,574 priority patent/US20060065343A1/en
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Description

1285291 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種對位液晶顯示器之製造方法,特 別是有關於一種在液晶顯示器之基板中,製作對位記號的 方法。 【先前技術】 液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)是一種利 用液晶特性來達到顯示效果的顯示裝置,由於其較傳統常 用之陰極射線管顯示器在尺寸與重量方面有更佳的彈性, 因此,液晶顯示器目前常被使用在各種的個人系統上,小 從行動電話、個人數位助理及數位相機上的顯示幕,大到 電視機及廣告看板,處處都可以見到液晶顯示器的影子。 液晶顯示器之所以能夠較傳統之陰極射線管顯示器 在尺寸及重量更有彈性,是因為液晶顯示器的大部份元件 都是平板狀的,例如建構顯示影像的薄膜電晶體(Thin_Film Transistor,TFT)陣列基板以及決定畫素(pixei)明暗狀態的 彩色濾光片(color filter)基板,因此可視應用需求將這些元 件切割成適中的尺寸,在重量上也較有著龐大立體外形的 陰極射線管來得輕巧許多。 由於液晶顯示器是由許多平板狀元件層層疊起所組 成的,也就是說一道光線必須經過層層的關卡才能在顯示 幕上成像,所以在重疊這些平板狀元件時,必須將元件上 組成畫素的各個細胞(cell)結構對應的極為準確,才能使顯 示幕上的每一個晝素正確地顯像,否則會容易產生種種如 1285291 製作程序的方法。 因此本發明的又一目的就是在提供一種能夠同時在多 片基板上製作對位記號之方法。 因此本發明的再一目的就是在提供一種不會產生微粒 子污染的對位液晶顯示器之製造方法。 為達到本發明之上述目的,首先先提供一欲在相同位 置製作相同對位記號的基板,並將這些基板重疊起來;再 將這些基板放置於對位記號製作基台上,此種對位記號製 作基台上有一高功率光束射出頭,用以射出高功率光束於 基板内部燒熔出對位記號,並利用改變聚焦位置的方式在 不同的基板上燒熔出相同的對位記號;最後再使用製程中 一般之對位作業,並以燒熔出之對位記號為基準進行基板 的組立。 【實施方式】 本發明的基本構想在於利用高功率光束的高功率、可 穿透、可變焦等特性在基板的内部製作記號,因此對基板 的外表不會有任何的影響傷害,也不會製造出有污染性的 微粒子。由於利用本發明方法所製作的記號在短時間内便 可迅速成形,所以可將記號成形過程中種種可能造成誤差 的風險降至最低。 一般在液晶顯示器當中所使用的基板是玻璃基板,如 薄膜電晶體陣列基板及彩色濾光片基板都是利用玻璃基板 經過種種的製程步驟後所產生。玻璃材料具有透明,且可 為咼溫所燒熔的特性,如第丨圖所示,可以利用如雷射光 1285291 之類的高功率光束1〇4在透明基板1〇2的内部聚焦產生高 熱,當高功率光束1〇4聚焦所產生的熱能足以燒熔基板ι〇2 的材質時,就會從基板102的内部因材質的燒熔而產生出 印球狀的不透明區域1〇6。 要注意的是必須將高功率光束1〇4的聚焦範圍,需控 制在疋的大小,否則若聚焦範圍過大,不透明區域J 〇6 的大小就有可能超過整個基板1〇2的厚度1〇8,如此,便會 破壞了基板102的表面。以目前的雷射技術為例,一個不 透明區域約可做到100//m的大小。所以一般來說會視基板 1〇2的厚度1〇8來調整高功率光束1〇6的聚焦範圍,以使不 透明區域106的範圍能整個被控制在基板1〇2的内部,但 更好的做法是讓不透明區域丨〇6所佔的空間小於基板厚度 108的半。亦即’若不透明區域1 〇6具有一長軸,則該長 軸應小於該基板厚度108之一半。另外一個值得注意的問 題是高功率光束104的聚焦時間也不宜太久,否則可能會 造成基板102因過熱而變形的問題,這樣的話也會使不透 明區域106的位置產生誤差,一般來說在進行對位記號製 作及基板組立的程序時,基板表面的溫度變化應控制在〇 〜〇.5〇C。 第2A-2D圖表示了利用上述方法產生之不透明區域 來製作對位記號的方法。首先在第2A圖中提供了基板2〇2 及高功率光束射出裝置204,其中高功率射出裝置2〇4具有 聚焦點206,也就是說,高功率光束射出裝置2〇4所射出的 高功率光束會聚焦於聚焦點206。在第2B圖中,聚焦點2〇6 被調整進入基板202内部欲製作不透明區域的位置。在第 1285291 2C圖中,高功率光束射出裝置綱射出高功率光束,並在 聚焦點的位置上聚焦燒熔出不透明區域2⑽。在第圖 中’移動了高功率光束射出裝置綱,並以同樣的做法於基 板内口P另位置製作出不透明區域21〇。重複上述步驟可在 同-基板之中製作出多個不透明區域,並可經由設計將這 些不透明區域排列成一特定記號。 第3A圖當中便例示了三種利用卵球狀不透明區域所 排列出來的記號。另外,任何需要作在基板上的記號皆可 利用本發明的方法來加以達成,而並不僅限於對位記號的 製作而已。例如有時會需要在玻璃基板上打上一供識別的 玻璃編號(glass ID),也可利用本發明的方法來加以製作, 且其可為如第3B圖所示之文字型態或如第3C圖所示之矩 陣式二維條碼的圖樣(左側為二維條碼原圖,右側為對應至 基板上的圖樣),其中,較具代具性的矩陣式二維條碼有
Datamatrix、Maxicode、Vericode、Softstrip、Codel 以及 Philips Dot Code 等形式。 利用上述步驟在各基板上製作出對位記號後,在基板 的組立程序進行時,便可利用這些對位記號來協助基板的 組立。如第4圖所示的基板組立情形,假設當中所要組立 的兩塊基板為第一基板402及第二基板404,第一基板402 的内部有利用第一不透明區域406所排列成的第一對位記 號408,而第二基板4〇4的内部則有利用第二不透明區域 410所排列成的第二對位記號412,以及由第三不透明區域 414所排列成的玻璃編號416。其中,第一對位記號408與 第二對位記號412在外形上是完全相同的,所以在對位程 1285291 進仃時’只要第—基板402或第二基板404的位置,使 · 第對位'己號408能與第二對位記號412完全重疊,便τ · 將第基板402與第二基板404精確地組立在一起。另外, f 4圖中第一對位記號備、第二對位記號412及玻璃編號 6的在基板上的位置並不為本實施例所限制,只要是位在 · 不影響基板正常作業的位置即可。 、 第5A圖與第5B圖揭示了本發明之另一實施例,當中 表示了树明方法可一次製作多片基板上的對位記號,而 不須在每片基板上單獨製作,以減少各對位記號之間的誤 鲁 差及加快對位信號的製作時間。首先請參閱第5A圖,假設 第基板502與第二基板5〇4在後續的組立程序中會被組 立在一起,或是第一基板502與第二基板5〇4皆需要在相 同的位置上擁有相同外形的對位記號,如一批一模一樣的 產品,此時第一基板502與第二基板5〇4便可在同一對位 記號製作程序中進行對位記號的製作。 首先先將第一基板502及第二基板504重疊在一起, 然後照上述的程序利用高功率光束5〇6在第一基板5〇2中 鲁 製作出第一不透明區域508,接著再利用變焦聚光的方式讓 间功率光束在第二基板504中聚焦,在第二基板5〇4中製 作出第二不透明區域510,如第5B圖所示。其中,由於第 ·_ 一不透明區域508及第二不透明區域51〇是在同一程序, … 同一位置中被製作出來,所以其之間的誤差將會較習知方 法所製造出來的誤差小很多。 第6A-6F圖表示了利用上述方法產生之不透明區域來 製作對位記號的方法。首先在第6 A圖中提供了重疊著的第 10 1285291 一基板002與第二基板604以及高功率光束射出裝置6〇6, 其中高功率光束射出裝置具有聚焦點608。在第6Β圖中, 先將聚焦點608調整至第一基板6〇2内部欲製作不透明區 域的位置上。在第6C圖中,高功率光束射出裝置6〇6射出 高功率光束,並於聚焦點的位置燒熔出不透明區域61〇。接 著在第6D圖中,將聚焦點608垂直移動至第二基板6〇4 内部。在第6Ε圖中,高功率光數射出裝置6〇6以相同的方 式,在基板612内部燒熔出與不透明區域61〇相對著的不 透明區域612。接著在第6F圖中,移動了高功率光束射出 裝置,並以相同的方式在第一基板6〇2及第二基板6〇4不 同的位置上分別在製作出相對著的不透明區域614及 616。重複上述步驟則可在第一基板6〇2與第二基板6〇4中 同時製作出完全相同且相對著的記號。 又如製作機台的容量足以容許多片基板同時參與製 作,則在短時間内便可完成多片基板上對位記號的製作, 如此也大大地節省了對位記號的製作時間。對於不透明區 域的製作順序並不為本實施例所限制,例如在第5Α圖及第 5B圖中也可先製作第二不透明區域51〇再製作第一不透明 區域508,或者如在第6A_6F圖所示的步驟中,可先直接 疋成第一基板602當中對位記號的製作,再接續完成第二 基板604當中對位記號的製作。 第7A圖揭示了一種可達到本發明目的的機台裝置, 其中基板702被固定放置在一底座(未繪示)上,並有複數個 用以製作對位記號的高功率光束射出裝置7〇4分布在基板 預定位置的上方。在進行對位記號的製作時,這複數個 1285291 n功率光束射出裝置會同時動作,以在基板702的預定位 置同時製作出對位記號,在作業當中可藉由平面移動高功 率光束射出裝置704或是機台的底座的方式來形成對位記 唬’或者也可利用如第7B圖中所示,在基板702與高功率 光束射出裝置704之間利用光罩706將對位記號一次形 成。另外若同時有多片基板被置放在底座上的話,則可藉 由高功率光束射出裝置7〇4本身的變焦功能或垂直移動高 功率光束射出裝置704或機台底座的方式來對各個基板進 行製作程序。在實際應用上,高功率光束射出裝置的數量 及位置皆不為本實施例所限制。 第8A-8E圖表示了液晶顯示器基板上對位記號之一應 用例。首先在第8A圖中提供了使用在液晶顯示器之中的第 一基板802及第二基板804,其中在第一基板8〇2的表面及 内口P刀別形成有薄膜電晶體(Thin Film Transistor,TFT)陣 列806以及由不透明區域所組成的對位記號8丨〇,而第二基 板804的表面及内部則分別形成有彩色濾光片 filter)808以及由不透明區域所組成的對位記號812,其中, 對位記號810及對位記號812具有相同的圖樣,並且是利 用前述的對位記號製作方法同時或分別製作出來的。在第 8B圖中,第一基板8〇2與第二基板8〇4相互重疊組立,其 中,在組立時薄膜電晶體陣列806與彩色濾光片8〇8必須 互相相對,對位記號810與對位記號812的圖樣必須完全 重合,並須於第一基板802與第二基板8〇4之間置入封膠 814。在第8C圖中,經由封膠814中的通道816注入液晶 818,以填充由第一基板802、第二基板8〇4、薄膜電晶體 12 1285291 陣列806、形色濾光片8〇8及封膠814所包圍組成的空間。 在第8D圖中,封閉了通道816。最後在第8e圖中,切除 了第一基板802及第二基板8〇4中不會參與液晶顯示反應 的部分’其中包括了對位記號81〇及對位記號812所位於 的部分。經過了此這些步驟之後,即能夠製作出一液晶顯 示器所使用之液晶顯示面板。 第9A-9D圖表示了液晶顯示器基板上對位記號之另一 應用例。首先在第9A圖中提供了使用在液晶顯示器之中的 第一基板902及第二基板904,其中在第一基板9〇2的内部 形成有由不透明區域所組成的對位記號91〇,而第二基板 9〇4的表面及内部則分別形成有彩色濾光片整合薄膜電晶 體陣列結構906以及由不透明區域所組成的對位記號 912 ’其中,對位記號91 〇及對位記號9丨2具有相同的圖樣, 並且是利用前述的對位記號製作方法同時或分別製作出來 的。在第9B圖中,第一基板902與第二基板904相互重疊 組立,其中,在組立時必須先在彩色濾光片整合薄膜電晶 體陣列結構906上滴入足量的液晶918,並與第一基板902 互相相對,對位記號910與對位記號912的圖樣必須完全 重合,並須於第一基板9〇2與第二基板904之間置入封膠 914 °在第9C圖中,將第一基板902與第二基板904組立 之後’液晶918均勻地擴散在第一基板902、第二基板904、 彩色濾光片整合薄膜電晶體陣列結構906、及封膠914所包 圍組成的空間中。最後在第9D圖中,切除了第一基板802 及第一基板804中不會參與液晶顯示反應的部分,其中包 括了對位記號910及對位記號912所位於的部分。經過了 13 1285291 此這些步驟之後,即能夠製作出一液晶顯示器所使用之液 晶顯示面板。 第10圖揭示了本發明方法之程序流程圖。首先在步驟 1002中,先決定出要在上面製作記號的基板,這裡的記號 疋才曰如對位圮號及玻璃編號等永久性的記號。在步驟i 004 中,長:供了一個用以製作記號的高功率光束射出裝置。在 步驟1006中,將高功率光束射出裝置移動至適當的位置, 並將南功率光束射出裝置的光束聚焦點調整至基板的内 部。在步驟1008中,高功率光束自高功率光束射出裝置射 出,並於基板内部聚焦點的位置聚焦燒熔出一不透明區域。 重複上述這些步驟,可於基板的内部製作出由多個不 透明區域所組成的記號,其中包括了對位記號。而所謂的 南功率光束是指如準分子雷射(excimer laser)或固態雷射 (solid state laser)之類的雷射光束,或是其他能達到同樣效 果的能量光束。最後可利用本方法所製作出來的對位記號 來進行基板的組立作業,在此使用一般習知的組立程序來 進行即可。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上,然其並非用 以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍内,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例 能更明顯易懂,所附圖式之詳細說明如下: 1285291 _第1圖為以高功率光束在基板上製作不透明區域之 示意圖。 第2A-2D圖為以高功率光束在基板上製作記號之式意 圖。 第3A圖為以高功率光束製作在基板上之記號例。 第3B圖為以高功率光束製作在基板上之文字例。 第3C圖為以高功率光束製作在基板上之矩陣式二維 條碼例。 第4圖為組立兩基板之示意圖。 第5A-5B圖為以高功率光束在複數個基板上製作不透 明區域之示意圖。 第6A-6F圖為以高功率光束在複數個基板上製作記號 之示意圖。 第7A圖為製作記號之機台示意圖。 第7B圖為以透過光罩方式製作記號之示意圖。 第8A-8E圖為液晶顯示面板之一組立方法之示意圖。 第9A-9D圖為液晶顯示面板之另一組立方法之示意 圖。 第10圖為符合本發明實施例之程序流程圖。 【主要元件符號說明】 102 :基板 104 :高功率光束 106 :不透明區域 108 :基板厚度 202·基板 204:向功率光束射出裝置 206 :聚焦點 208 :不透明區域 15 1285291 210 :不透明區域 404 :基板 408 :對位記號 412 ··對位記號 416 :玻璃編號 504 :基板 508 :不透明區域 602 :基板 606 :高功率光束射出裝置 610 :不透明區域 614 :不透明區域 702 :基板 706 :光罩 804 :基板 808 :彩色濾光片 812 :對位記號 816 :通道 904 :基板 910 :對位記號 914 :封膠 1002 ·提供—基板 1006:移動高功率射出裝置的 位置,並將其聚焦點調整 至該基板内部 402 ·•基板 406 :不透明區域 410 :不透明區域 414 ·•不透明區域 502 :基板 506 :高功率光束 510:不透明區域 604 :基板 608 :聚焦點 612 :不透明區域 616 :不透明區域 704 :高功率光束射出裝置 802 ··基板 806 ·薄膜電晶體陣列 810 :對位記號 814 :封膠 902 :基板 906 :彩色濾光片整合薄膜電 晶體陣列結構 912 :對位記號 1004:提供一高功率射出裝置 1〇〇8:利用該高功率光束裝置 射出之高功率光束,於該 基板内部製作一不透明 區域
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Claims (1)

  1. 修(更)正本 、申請專利範園: -種液晶顯示器基板 歩 提供-基板; £之“方法,包含 提供-高功率光束射出I置,其用 以射出-高功率光束; 調整該高料 板之内部; “、、點需位於該基 移動該高功率光束射出裝置至一第一位 射出該高功率光束,並於該聚焦點處形成,以及 區域,作為一第一記號。 第一不透明 專利範圍。項所述之液晶顯示器基板記號之製 每方法,更包含步驟·· 形成一薄膜電晶體陣列結構於該基板上。 •如申睛專利範圍第丨項所述之液晶顯示器基板記號之製 造方法,更包含步驟: 形成一彩色濾光片結構於該基板上。 4·如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器基板記號之製 造方法,更包含步驟: 形成一彩色濾光片整合薄膜電晶體陣列結構於該基板 上0 17 1285291 1申月專利圍第!項所述之液晶顯示器基板記號之製 &方法’其中該高功率光束係為一雷射光束。 6·^申#專利範圍帛1項所述之液晶顯示ϋ基板記號之製 w方法,其中該第一不透明區域係為一卵球狀區域。 士申叫專利範圍第6項所述之液晶顯示器基板記號之製 ^方法’其中該卵球狀區域具有一長軸,且該長轴係小 於该基板厚度之一半。 8_如申請專利範圍帛i項所述之液晶顯示器基板記號之製 造方法’更包含步驟: 移動該高功率光束射出裝置至一第二位置;以及 射出該高功率光束,並於該聚焦點處形成一第二不透明 區域,作為一第二記號。 9·如申請專利範圍第8項所述之液晶顯示器基板記號之製 造方法’其中該第一記號與該第二記號係構成一對位記 號或一識別編號。 10·如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示器基板記號之製 造方法,其中該識別編號係為一文字圖樣或一矩陣式二 維條碼圖樣。 U·如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器基板記號之製 18 1285291 造方法,更包含步驟: 提供一光罩,使其位於該高功率光束射出裝置與該基板 之間。 12·如申請專利範圍第11項所述之液晶顯示器基板記號之 製造方法,其中該第一不透明區域係包含複數個卵球狀 區域。 13·如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器基板記號之製 造方法,其中該第一不透明區域形成時’該基板之表面 的溫度變化介於0〜〇.5°C之間。 14· 一種液晶顯示器之製造方法,包含步驟: 提供一第一基板與一第二基板,且該第一基板疊合於該 苐二基板; 提供一高功率光束射出裝置,其用以射出一高功率光束; 調整該高功率光束之-第-聚焦點,且該第—聚焦點需 位於該第一基板之内部; 射出該高功率光束’並於該第一聚焦點處形成一第 透明區域; 且該第二聚焦點需 調整該高功率光束之一第二聚焦點 位於该第二基板之内部;以及 射出該面功率光束 透明區域。 並於該第二聚焦點處形成一第二不 19 1285291 15.如申請專利範圍第14項所述之液晶顯示器之製造方 法,更包含步驟: 形成一薄膜電晶體陣列結構於該第一基板上;以及 形成一彩色濾光片結構於該第二基板上。 16·如申請專利範圍第14項所述之液晶顯示器之製造方 法,更包含步驟: 形成一彩色濾光片整合薄膜電晶體陣列結構於該第一基 板i。 17.如申請專利範圍第14項所述之液晶顯示器之製造方 法,更包含步驟: 對位該第一不透明區域於該第二不透明區域; 隙合該第一基板與該第二基板。
    18·如申請專利範圍第17項所述之液晶顯示器之製造方 法,更包含步驟: 注入液晶於該第一基板與該第二基板之間; 岔封該第一基板與該第二基板;以及 分別切除該第一基板具有該第一透明區域之部分與該第 二基板具有該第二透明區域之部分。 19·如申請專利範圍第17項所述之液晶顯示器之製造方 法,更包含步驟: & 滴入液晶於該第一基板上; 20 1285291 散佈液晶於該第一基板與該第二基板之間;以及 分別切除該第一基板具有該第一透明區域之部分與該第 二基板具有該第二透明區域之部分。
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