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TWI282489B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Lithographic apparatus and device manufacturing method Download PDF

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TWI282489B
TWI282489B TW094105491A TW94105491A TWI282489B TW I282489 B TWI282489 B TW I282489B TW 094105491 A TW094105491 A TW 094105491A TW 94105491 A TW94105491 A TW 94105491A TW I282489 B TWI282489 B TW I282489B
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TW
Taiwan
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substrate
array
projection
components
individually controllable
Prior art date
Application number
TW094105491A
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English (en)
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TW200538887A (en
Inventor
Cheng-Qun Gui
Anastasius Jacobus An Bruinsma
Jager Pieter Willem Herman De
Willem Jurrianus Venema
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Publication of TW200538887A publication Critical patent/TW200538887A/zh
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Description

1282489 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及元件製造方、去 【先前技術】 微影裝置係一將所需圖案應用到一 ]|板之一目標部分 的機器。舉例來說，微影裝置可用來製造㈣電路⑽、 平板顯示器及其它涉及精細結構的元件。在傳統的微影裝 置中，可以使用又稱為遮罩或主光罩
早'的圖案化凡件產生對 應於1C(或其他元件）個別層的電路圖案，然後再將此圖案 成像於具有輻射敏感材料層（如光阻或抗蝕劑）之基板 (如，矽晶圓或玻璃板）的目標部分上A , . n 1刀上（如，包含晶粒部分、 -或多個晶粒)。圖案化元件可包含用以產生電路圖案的可 個別控制部件之陣列，以取代遮罩。 -般而言’單-基板將包含連續曝露出來的相鄰目標部 分之-網路。已知的微影裝置包括所謂的步進機，其中藉 由一次性將整個圖案曝露於目標部分上而照射每一目^ 部分，以及所謂的掃描器，其中藉由沿一既定方向（「掃描^ 方向）透過輻射光束掃描圖案，同時與此方向平行或反平"行」 地掃描基板而照射每一目標部分。 當在基板上產生圖案時，需要確保輻射之圖案化光束與 需要產生圖案之基板表面正確對準。此可為必要的，以確 保此圖案之分離產生部分彼此正確對準，使得所產生之總 體圖案準確且部分間之邊緣處無間斷。或者，可有必要確 保基板上產生之圖案與先前在基板上產生之圖案準確對 99565.doc 1282489 準，例如與具有複數層之元件内的另一層對準。傳統上， 已藉由在基板臺上安裝基板實現此方案，從而測量基板相 對於基板台之位置，並隨後小心控制基板台之位置，直至 基板到達期望位置内。 【發明内容】 本發明之具體實施例提供可準確定位基板上所產生之 圖案的系統。 本發明之一項具體實施例中提供一微影裝置，其包括用 於供應輻射投影光束一照明系統、用於賦予投影光束之斷 面一圖案之可個別控制部件的陣列、用於支撐基板之基板 口以及用於將圖案化光束投射至基板之目標部分的投影 系統。投影系統包括聚焦部件陣列，各聚焦部件用於將圖 案化光束之局部投射至基板目標部分之局部。該裝置進一 步包括驅動器系統，其用於相對於可個別控制部件之陣列 移動聚焦部件之陣列。 因此，不用移動基板即可調整曝露於基板之圖案的位 置。此在（例如）平板顯示器之製造中可很有用。該情形中， 基板可極大，例如兩米乘兩小之基板可使得精 確定位基妹為ϋ難。料，特靠使賴A基板的情況 下’雖然:可將基板作為整體精確定位，但無法產生需要投 :圖案化光束之基板目標部分的精確定位。例如，基板熱 私脹可導致基板目標部分相對於可用於整體設定基板位 置之邊緣的明顯移動。此情形卜移動聚焦部件陣列以啁 整圖案化光束位置可用作精確定位方法，以補償基板或其 99565.doc 1282489 部分之定位中的此類不精確。 驅動器系統可配置成在至少以下情开少之一中相對於可 個別控制部件陣列移動聚焦部件陣列：（丨）沿第一方向，其 實質上平行於圖案化光束入射之基板表面；（2)沿第二方 向，其垂直於第一方向且實質上平行於圖案化光束入射之 基板表面；（3)沿第三方向，其實質上垂直於圖案化光束入 射之基板表面；以及（4)關於實質上平行於第一、第二及第 二方向之一或多個軸旋轉。 藉由適當地使用此等調整，不僅可補償基板目標部分相 對於基板台之位置錯誤，而且可補償（例如）基板之任何局 部變形。此變形可導致（例如）基板目標部分越出基板剩餘 部分之平面（即移至垂直於基板平面的方向），或與其成一 角度。因此，使用本發明，若基板不完全平坦，仍可實現 基板上圖案的改良成像，而不需要基板本身之移動。 、聚焦部件陣列可包括輻射阻擋層，其置放於聚焦部件間 並防止未入射至任-聚焦部件上❸㈣化《束内之韓射 到達基板。因此，當相對於可個別控制部件陣列移動聚焦 部件陣列時，與聚焦部件陣列内之第一聚焦部件相關聯的、 或多個可個別控制部件所發出之輻射不會入 個聚焦部件上，從而不會投射至基板目標部分的盎^ 同之局部。因此將減少或防止所謂的「重像」。另、外= ^至與各聚焦料㈣聯之孔㈣輻射將填滿孔徑。 二!:焦._擋層内各孔徑將保持填 導至基板的輪射強度不會由於聚焦部件陣列 99565.doc 1282489 之移動而改變，輻射阻擋層可用（例如）鉻製成。 該裝置可包括一第二可個別控制部件陣列，其用於賦予 第二投影光束之斷面-圖案，以及一第二投影系統，其包 括用於將第二圖案化光束投射至基板第二目標部分上的 第二聚焦部件陣列。此情形中，可將用於移動第一聚焦部 件陣列之驅動器系統配置成相對於第二聚焦料陣:移 動第-聚焦部件陣列。因此，同時可使用兩個分離圖案化 糸統’即所謂的「光引擎」’各圖案化系統包含用於圖案 化投影光束之可個龍制料陣列及㈣聯之投影系 統’並能_整人射至基板上的兩個圖案化光束之相對位 置。如此’可確保各可個別控制部件陣列所產生之曝光關 於彼此正確對準，以及總體圖案内無間斷，例如邊界處。 可提供第二驅動器系統，其用於相對於第二可個別控制 部件陣列移動第二聚焦部件陣列。因此，可確保兩個圖案 光束/、其入射的基板之個別部分，並且相對於彼此正 對準。 根據需要，可使用更多可個別控制部件陣列，各陣列具 =相關聯之才又影系統’其包含一聚焦部件陣列及用於控制 聚“、、卩件陣列相對於可個別控制部件陣列之位置的相關 聯_動$系統。因& ’可將複數個圖案化光束投射至基板 ^同時控制圖案化光束之相對位置。較佳的係各驅動器 系先此夠知與上述第一驅動器相同之方式(即至多六度自 由度）凋整相關聯聚焦部件陣列之位置。 乂波置可包括安裝驅動器系統之參考框架，以便驅動器 99565.doc 1282489 系統可相對於參考框架移動相關聯聚焦部件陣列。因此， 糟由知道基板或其-部分相對於參考框架之位置，可 各聚焦部件陣列相對於基板之位置。 可個別控制料陣狀/或除㈣料陣料之投 統部件可固定於參考框架，使得聚焦部件陣列相對於參考 框架之移動與聚焦部件陣列相對於可個別控制部件 之移動相同。 本發明之另-具體實施例提供件製造方法，其包括 以下步驟：提供-基板，提供使用照明系統之—輕射投影 系統，使用可個別控制部件陣列賦予投影光束之斷面一圖 :’以及使用投影系統將圖案化輻射光束投射至基板目標 部分上’投影系統包括一聚焦部件陣列，各聚焦部件用於 將圖案化光束之局部投射至基板目標部分之局部上。相對 於可個別控制部件陣列調整聚焦部件陣列之位置。 本發明之另一具體實施例提供一微影裝置，其包括用於 供應輻射投影光束一照明系統、用於賦予投影光束之斷面 一圖案之可個別控制部件陣列、用於支撐基板之基板台、 用於將圖案化光束投射至基板之目標部分的投影系統、用 於賦予第一投影光束之斷面一圖案之第二可個別控制部 件陣列以及用於將第二圖案化光束投射至基板第二目標 W分上的第二投影系統。第一可個別控制部件陣列之位置 相對於第一投影系統之位置固定，第二可個別控制部件陣 列之位置相對於第二投影系統之位置固定，並且該裝置包 括用於相對於第二可個別控制部件陣列及第二投影系統 99565.doc -10- 1282489 移動第一可個別控制部件陣列及第一投影系統的驅動器 糸統。 因此，可使用複數個光引擎，各光引擎包含可個別控制 部件陣列及相關聯投影系統，以投射複數個圖案化光束， k而使基板曝光，並且可調整圖案化光束之相對位置。特 定言之，此一配置亦可用於投影系統不包括如第一具體實 施例内之聚焦部件陣列的裝置。
較佳的係可將驅動器系統配置成在至少以下情形之一 "目對於第二光引擎移動第一光引擎··⑴沿第一方二，其 實質上平行於圖案化光束入射之基板表面；（2)沿第二^ 向，其垂直於第一方向且實質上平行於圖案化光束入射之 基板表面；（3)沿第三方向，其實質上垂直於圖案化光束入 射之基板表面；以及（4)關於實質上平行於第一、第二及第 三方向之-或多個軸旋轉。因此，即使基板存在局部變 形，可確保各圖案化光束準確定位並與其人射的基板之個 別部分對準。 各光引擎（即可個別控制部件陣列及相關聯投影系统） 可包括安裝該光引擎之組件的參考框架，以便其固定相對 位置。此情形中’驅動器系統可安裝成在此等參考框架間 作用’以便控制光引擎之相對位置。 >' 該裝置可包括安裝基板台之額外參考㈣^接著可將與 各光引擎相關聯之參考框架安裝於額外參考框架，以便相 關聯驅動器系統控制光引擎參考框架相對於額外參考框 架之位m ’相關聯驅動器系統可控制光引擎相對於 99565.doc -11- 1282489 基板台以及其上基板之位置。 本曰發明之另—具體實施例提供一方法’其包括以下步 ^ 3 土板使用—照明系統提供一輻射投影光束， 使用可個別控制部件陣列賦予投影光束之斷面一圖宰’將 圖案化輻射光束投射至基板目標部分上，提供一第二輻射 投影光束’使用第二可個別控制部件陣列賦予第二投影光 ^之斷面一圖案’將第二圖案化光束投射至基板之第二目 #部分上n驅動器系統控制第—可個別控制部件陣 列及投影系統相對於該第二可個別控制部件陣列以及第 二投影系統的位置，該投影系統用於將第-圖案化光束投 射至基板上及該第二投以統用於將第二圖案化光束投 射至基板上。 【實施方式】 概述及辭彙 …本文所使用的術語「可個別控制部件陣列」應廣義地解 鲁釋為可用於賦予一進入輻射光束一圖案化斷面，以便在基 板^一目標部分建立一期望圖案的任何構件。術語「光閥」 及「空間光調變器」（SLM)亦可用於本文。此圖案化構件 之範例可包括以下内容。 • 一可程式鏡面陣列。此可包含一可矩陣定址表面，其具 • 有一黏彈性控制層及一反射表面。舉例來說，此種裝置的 基本原理為，該反射表面的已定址區域會將入射光反射為 70射光而未疋址區域則會將入射光反射為未繞射光。使 用適田之空間濾光片，可從反射光束過濾掉未繞射光，僅 99565.doc -12- 1282489 讓繞射光到達基板。依此方式，該光束便會根據該可矩陣 定址表面的定址圖案加以圖案化。 吾人將會發現，另一替代方案為，該濾光片亦可濾掉繞 射的光，而僅留下未繞射光抵達該基板。亦可以相應方式 使用繞射光學微機電系統（MEMS)元件陣列。各繞射光學 MEMS元件由複數個反射帶所組成，該等反射帶可相對於 彼此變形，以形成可將入射光反射為繞射光的光柵。 可程式鏡面陣列的另一替代具體實施例係使用小鏡面 矩陣配置，藉由施加一適當的局部電場或運用壓電驅動構 件，便可讓各個鏡面相對於一軸產生傾斜。再者，鏡面為 可矩陣定址的，使得該定址鏡面以不同方向反射入射的輻 射光束至未定址的鏡面；在此方法中，根據可矩陣定址鏡 面的定址圖案形成反射光束圖案。可使用適當的電子構 件，以執行所需的矩陣定址。 在上述的兩種情形下，可個別控制部件陣列可包含一或 多個可程式鏡面陣列。本文所參考的鏡面陣列的詳細資料 可見於（例如）美國專利第5,296,891及5,523，193號及PCT專 利申請第W0 98/38597及W0 98/33096號，其全部以提及方 式併入本文中。 可私式LCD陣列。這種結構的實例可於美國專利第 5,229,872號中找到，其全部以提及方式併入本文中。 吾人應該發現到，使用預先偏斜特徵圖形、光學接近校 正法特徵圖形、相位變更技術及多重曝光技術時，顯示^ 可個別控制部件陣列上的圖案實f上可能不同於最後被 99565.doc 1282489 轉印到該基板之一層或其上的圖案。同樣地，最後在基板 上產生的圖案可能會與在可個別控制部件陣列上任何瞬 間所形成的圖案不相符。以下配置就有可能如此··在基板 各部分上所形成的最後圖案係在經過特定的時間或特定 數量的曝光後所建立的，可個別控制部件陣列上的圖案及 /或該基板之相對位置會在此期間發生變更。 儘管本文中特別參考在IC製造中使用微影裝置，應明白 此處所述之从影裝置可具有其他應用，例如整合光學系 統、磁域記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、薄膜磁 頭等。熟習技術人士會明白在此類替代應用之情況下，本 文使用的任何術語「晶圓」或「晶粒」可視為分別與更一 般之術m基板」或「目標部分」同義。本文所參考的基 板可在曝光之前或之後，在（例如）循跡工具（通常可將光阻 層塗敷於基板並使曝光光阻顯影的工具）或度量衡或檢驗 工具中進行處理。在可應用的情況下，本文之揭示案可應 用於此類及其他基板處理工具。此外，例如為了產生多層 ic，可將該基板進行不止一次的處理，因而本文所用術語 「基板」亦可指已包含多個處理層的基板。 本文所用術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型的電磁 輻射，包含紫外線（UV)輻射（例如波長為365、248、193、 157或126 nm)以及超紫外線（EUV)輻射（例如波長在5至汕 nm之範圍内），以及粒子束，例如離子束或電子束。 本文所用術語「投影系統」應廣泛地解釋為包含各種類 型的投影系統’包括折射光學系統、反射光學系統與反折 99565.doc -14- 1282489 射光學系統，視所用的曝光輻射而定，或視其他因素而 定，例如浸潰液的使用或真空的使用。本文使用的任何術 語「透鏡」可視為與更一般的術語「投影系統」同義。 照明系統亦可包含各種類型的光學組件，包括用以引 導、塑造或控制輻射投影光束的折射、反射及反折射光學 組件，且此類組件以下亦可統稱或獨稱為「透鏡」。 微影裝置的類型可以為具有兩個（雙級）或更多基板台 (及/或兩個或更多光罩台）。在此類「多級」機器中，可平 行使用額外的基板台，或在一或更多基板臺上進行準備步 驟而將或更多其他基板台用於曝光。 微影裝置的類型還可以為其中將基板浸潰在具有相對 較兩折射率之液體（如水）中，以便填充投影系統之最後部 件與基板之間的空間。亦可將浸潰液施加於微影裝置中的 其他空間，例如在光罩與投影系統之第一部件之間的空 間。浸潰技術在此項技術中已為人熟知，用來增加投影系 統之數值孔徑。 微影投影裝置 圖1示意地顯示根據本發明具體實施例的一微影投影裝 置100。裝置1〇〇包括至少一個輻射系統102(例如EX、IL(例 如AM、IN、CO等）等）、可個別控制部件陣列ppM 1〇4、物 件台WT 1〇6(例如基板台）、投影系統（「透鏡」）pL 1〇8。 輻射系統102可用於供應輻射（例如uv輻射）投影光束 PB 110 ’此特定情形中也包含輻射源la 112。 可個別控制部件陣列114(例如可程式鏡面陣列）可用於 99565.doc -15- 1282489 向投影光束110施加圖案。通常，可個別控制部件陣列114 之位置可相對於投影系統⑽固定。然而，替代具體實施 • 例中，可個別控制部件陣列114可與定位元件（未顯示）連 接，其用於關於投影系統108精確定位可個別控制部件陣 : 列。如本文所述，可個別控制部件Π4係反射型（例如具有 可個別控制部件反射陣列）。 物件台106可具有基板固定器（未特別顯示），其用於固 定基板W 114(例如光阻塗佈矽晶圓或玻璃基板），物件台 _ 1G6可與^位元件PW 116連接，其用於關於投影系統108精 確定位基板114。 投影系統（例如透鏡）108(例如石英及/或CaF2透鏡系統 或包含由此類材料製成的透鏡部件之反折射系統或鏡面 系統）可用於將從分光器118接收之圖案化光束投射至基板 114的目標部分C 120(例如一或多個晶粒）上。投影系統1〇8 可將可個別控制部件陣列114之影像投射至基板丨14上。或 者’投影系統108可投射次要光源之影像，將可個別控制 ® 部件陣列114之部件用作快門。投影系統1〇8亦可包含微透 鏡陣列（MLA) ’以形成次要光源並將微斑投射至基板丨j 4 上。 光源112(例如，同核複合分子雷射）可產生輻射光束 122。將此光束122直接或在穿過調節元件126(例如擴束器 Ex)後饋送至照明系統（照明器）IL 124内。照明器124可包含 調整元件AM 128，其用於設定光束122内強度分佈之外部 及/或内部徑向範圍（通常分別稱為卜外及心内）。此外，其 99565.doc -16- 1282489 通常會包含各種其他組件，例如積分器IN 13〇及聚光器CO 132。依此方式，撞擊可個別控制部件陣列114之光束11〇 的斷面具有期望之均勻度及強度分布。 關於圖1應注意光源112可在微影投影裝置i 〇〇之外殼内 (例如光源112為水銀燈時通常係此情形）。替代具體實施例 中，光源112亦可遠離微影投影裝置1〇〇。此情形中，可將 輻射光束122引導至裝置1〇〇内（例如借助適當引導鏡面）。 後者通常為光源112係同核複合分子雷射時的情況。應明白 兩種情況皆在本發明之考慮範圍中。 光束Π 0隨後在使用分光器11 $加以引導後攔截可個別 控制部件陣列114。藉由可個別控制部件陣列114加以反射 後’光束110穿過投影系統1 〇8，其將光束丨丨〇聚焦於基板丨j 4 之目標部分120上。 借助定位元件116(以及經由分光器14〇接收干涉光束 138之底板BP 136上的可選干涉測量元件IF 134)，基板台 106可精確移動’以便在光束1路徑内定位不同目標部分 120。使用時，用於可個別控制部件陣列U4之定位元件可 用於精確修正可個別控制部件陣列丨14關於光束丨丨〇之路徑 的位置，例如在掃描期間。通常借助一長衝程模組（粗略定 位）及一短衝程模組（精確定位）實現物件台1〇6的移動，其 未在圖1中明確繪出。亦可使用一相似系統來定位可個別 控制部件陣列114。應明白投影系統110可替代地/額外地移 動，而物件台106及/或可個別控制部件陣列114可具有固定 位置’以提供所需之相對移動。 99565.doc -17- 1282489 本發明之替代組態中，基板台106可固定，其中基板ll4 可在基板台106上移動。若已完成此組態，基板台1〇6在平 坦的最高表面上具有多個開口，透過開口饋送氣體，以提 供能夠支撐基板114之氣墊。此在傳統上稱為空氣軸承配 置。使用一或多個驅動器（未顯示）在基板台1〇6上移動基板 114，其能夠關於光束110之路徑精確定位基板ιΐ4。或者， 可藉由選擇性地開始及停止穿過開口之氣體而在基板台 106上移動基板114。 雖然在此處說明根據本發明的微影裝置1〇〇係用於曝光 一基板上的光阻，但是吾人將會發現，本發明並不限於此 應用，且裝置100亦可在無光阻式微影術中用來投射圖案 化投影光束110。 上述裝置100可在四種較佳模式中使用： 1 ·步進模式：將可個別控制部件陣列u 4之整個圖案 一次性（即單一「閃光」）投射至目標部分120上。接著在X 及/或y方向上移動基板台1〇6至用於光束11〇將要照射之不 同目標部分120的不同位置。 2·掃描模式··與步進模式實質上相同，除了給定目標 4为120不在單一「閃光」中予以曝光。相反，可個別控 制部件陣列114可採用速度v在給定方向（即所謂的「掃描方 向」，例如y方向）上移動，以便使投影光束11()掃描過可個 別控制部件陣列114。同時，採用速度v==Mv，沿相同或相 反方向同時移動基板台1〇6，其中μ為投影系統1〇8之放大 率。依此方式’可曝光較大的目標部分12〇，而不必犧牲 99565.doc -18- 1282489 解析度。 3·脈衝模式：可個別控制部件陣列U4實質上保持固 定，使用脈衝輻射系統1〇2將整個圖案投射至基板114之目 標部分120上。採用實質恆定的速度移動基板台106,以便 使投影光束11〇橫跨基板106掃描一直線。根據輻射系統1〇2 之脈衝間的需要更新可個別控制部件陣列丨14上之圖案，並 且定時該脈衝，以便在基板丨14上的需要位置處曝光連續目 標部分120。因此，投影光束11〇可掃描過基板114，曝光用 於基板114帶之完整圖案。重複該程序，直至已逐線曝光整 個基板114。 4·連績掃描模式：基本上與脈衝模式相同，不過使用 的係一實質恆定的輻射源，而且可於該投影光束11〇跨越該 基板114進行掃描且對其進行曝光時來更新該由複數個可 個別控制部件所組成之陣列上的圖案。 還可使用以上說明的使用模式之組合及/或變化或完全 不同的使用模式。 例示性光引擎 圖2顯示依據本發明之具體實施例的「光引擎」2〇〇。光 引擎200可用於圖案化輻射光束5並將其投射至基板13 上。輻射光束5入射至可個別控制部件陣列6。輻射光束5 隨後具有賦予其斷面之圖案，然後被引導至投影系統，其 可將圖案化光束投射至基板13上。本發明之此具體實施例 中’投影系統包括聚焦部件11之陣列丨〇。陣列丨〇之各聚焦 部件11將圖案化光束之部分投射至基板13上之點12。聚焦 99565.doc -19- 1282489 部件11可為透鏡。 例如，可使用1024x768透鏡陣列。透鏡11通常較小，因 此5^焦σ卩件11之陣列1〇常稱為微透鏡陣列（micr〇 array ; MLA)。實務中，微透鏡丨丨可形成於微透鏡陣列1〇 之基板側。此可提供自由的工作距離，通常從大約數百微 米至大約數毫米。 技衫糸統亦可包括額外部件，例如透鏡7、8及9，其用 於放大、成形、聚焦或以其他方式控制圖案化光束。 圖3更詳細地顯示依據本發明之具體實施例的聚焦部件 11之陣列10的一部分。陣列10較佳的係包括配置於各相鄰 聚焦部件11間之輻射阻擋層15。因此，僅入射至聚焦部件 11之圖案化光束的部分14穿過需要聚焦於基板13上相關聯 點12的陣列10。入射至輻射阻擋層15之輻射的剩餘部分不 月b到達基板。輻射阻擋層丨5内之孔徑可得以填滿。換言 之，引導至各聚焦部件11之圖案化輻射不僅可入射至聚焦 部件11上，亦可入射至環繞聚焦部件丨丨之輻射阻擋層i 5 上。因此，當移動聚焦部件u之陣列1〇時，仍然照射整個 聚焦部件11。如此，可確保基板13上的聚焦輻射點12之強 度不會隨聚焦部件1 1之陣列1 〇移動而變化。 圖4以平面圖形式顯示依據本發明之具體實施例的聚焦 部件11之陣列10的一部分。顯示輻射阻擔層15及複數個聚 焦部件11。輻射阻擋層丨5較佳的係用鉻製成。 輕射阻擋層15之大小與聚焦部件u之陣列_面積成 比例’該面積較佳的係盡可能保持較小，以最小化聚焦部 99565.doc -20 - 1282489 件11之陣列10所吸收的輻射數量。抗反射層可用於聚焦部 件11及/或輻射阻擋層15上，以便減小裝置内輻射的雜散反 射。入射輻射可導致聚焦部件11之陣列10的加熱。因此可 長:供冷卻系統（未顯示），以確保任何隨後溫度上升不會導 致聚焦部件11之陣列1 〇或其部分由於熱膨脹而降低位置精 確性。較佳的係冷卻系統可加以溫度控制。 如圖5a及5b所示，陣列1〇可與驅動器系統2〇(可控制其 位置）連接。
如圖5a所示，可將聚焦部件u之陣列1〇移動至平行於圖 案化光束入射之基板13表面的平面内。隨著將各聚焦部件 11移動至新位置u，’聚焦圖案化光束之對應部分的基板13 之點12也移動至新位置12，。因此，藉由偏移聚焦部件丨丨之 陣列10,可移動圖案化光束相對於基板13之位置，而不用 移動基板13或可個別控制部件陣列6。 如圖5b所示，亦可將聚焦部件u之陣列1〇移動至垂直於 圖案化光束人射之基板13表面的方向内。此可用以補償此 方向内基板13表面位置的變更。 應明白藉由旋轉聚焦部件u之陣列1〇，入射至基板 上之圖案化光束可相應地旋轉，例如用以補償基板13表面 上之扭曲。因此，通常可將驅動器系統2〇配置成在至多6 度自由度⑽”列1()之位置’即線性方式係在平行於圖 案化光束需要入射之基板的兩個垂直方向内以及在垂直 於圖案化光束需要入射之基板表面的第三線性方向内，旋 轉方式係關於平行於三個線性方向的三條軸。然而，另外 99565.doc -21 - 1282489 應明白’某些情況下在較少自由度内足以控制陣列丨〇之位 置，例如僅在平行於基板表面的兩個線性方向内。 如圖5a及5b所示，可經由連桿組21將驅動器系統2〇連接 至陣列10。相應地，驅動器2〇可與照射基板丨3之裝置部分 實體上分離’以便防止驅動器系統2〇引起的任何污染物到 達基板13。 或者，可將驅動器系統20直接安裝於陣列10。驅動器系 統2〇可包括複數個驅動器，例如音圈驅動器、勞侖茲驅動 器、壓電驅動器或其他已知驅動器。另外，一或多個驅動 器可專用於調整陣列10在給定方向上之位置，或者在控制 陣列10在複數個方向上之移動時可包括個別驅動器。 第一例示性環境 圖6顯示一具體實施例，其中該裝置可包括複數個光引 擎。此具體實施例中，該裝置具有第一及第二光引擎，其 包括第一及第二可個別控制部件陣列3 41、第一及第二 透鏡系統32、42、第一及第二聚焦部件陣列33、43以及藉 由連桿組35、45與聚焦部件陣列連接的第—及第二驅動器 系統34、44。該裝置可包括安裝兩個驅動器系統34、^之 參考框架40。因此’各驅動器系統34、44配置成控制其相 關聯聚焦部件陣列33、43相對於參考框㈣之位置。如 此’可容易地控制各陣列33、43相對於彼此之位置，從而 可控制投射至基板13上之相關聯圖案化光束的㈣位置。 應明白參考框架40可具有不同於，所示的其他組態。 例如’參考框架4。可為安裝陣列33、43以及其相關聯驅動 99565.doc -22- 1282489 器系統34、44之薄板。此一薄板可為(例如)投影系統之部 分。 參考框架40較佳的係可由低熱膨脹係數之材料製成，例 如Zer〇dUre(零膨脹玻璃）’以確保陣列33、43相對於彼此之 位置在使用中不會由於裝置之任何加熱而移動。作為替代 /附加方案，參考框架内可包括冷卻系統(未顯示)，以便減 小/消除此-熱效應、。較佳的係、冷卻系統可加以溫度控制。
根據參考框架40之組態，可將額外組件安裝於參考框架 4〇,以便同時得知其相對於陣列33、43之位置的位置。該 等組件包括用於支樓基板13之基板台、用於測量基板此 位置或測量基板!3之部分之位置的測量系統、用於確定聚 焦部件陣列33、43之位置的測量系統、除聚焦部件陣列 33、43及/或可個別控制部件陣列外的投影系統組件。應明 白若將此等部件安裝於參考框架4G，安裝可為可調整式， 以便可視需要測量及調整安裝位置。 對準特徵（亦稱為參考標記）可位於陣列33、43上及/或參 考框架40上，以辅助測量裝置組件之位置。 夕 安裝陣列33、43之參考框㈣可依次安裝於裝置之基座 框架（未顯示）上。此組態中，可提供額外驅動器系統（未顯 不），其用於控制參考框架4G㈣陣肋、43相對於基座框 架之位置。依此方式，可使用額外驅動器系統控制所有陣 列33、43相對於裝置其他組件之—般位置，以及使用愈各 陣列33、43相„之驅動器純34、44控制個別聚焦部件 陣列33、43相對彼此之位置。 99565.doc -23- 1282489 如上所述，可對基板13之表面變形及/或基板13之熱膨 服作出回應，調整陣列33、43之位置，從而調整圖案化光 束因此’可對曝光程序開始前所執行的基板13之測量作 出回應’控制驅動器系統、44。例如，曝光前可映射基 板13之表面佈局，此資料用於在曝光程序中控制陣列、 43之位置。作為替代或附加方案，該裝置可包括用於在曝 光私序中檢查基板13之感測器（未顯示）。例如，感測器可 用於在基板13之局部位置穿過圖案化光束下方前測量基 板13該部分及/或基板13之給定部分上的對準標記。此使得 校正可即時完成，從而可補償基板13之任何改變或發生於 曝光程序中之變形。 杈準系統可藉由在基板丨3上之各聚焦部件陣列33、43 相對於相關聯之可個別控制部件陣列31、41的複數個位置 曝光特徵圖案，即熟知的聚焦能量矩陣（f〇cus aw訂 matrix; FEM)。然後可顯影並檢查基板13，以識別圖案化 光束之最終位置。 或者’可將相機（未顯示）安裝於基板臺上，並配置成隨 驅動器系統34、44調整陣列33、43之位置而直接測量圖案 化光束之位置。此資訊可用於校準驅動器系統，以便其可 在曝光序列中對陣列34、44之位置執行較小調整，從而補 償基板13之任何表面變形。亦可視需要使用系統來測量及 補償圖案化光束在相對於可個別控制部件3ι、㈣動陣列 33、43時由於部分被輕射阻播層（未顯示恤擔而引起之任 何強度變化， 99565.doc -24- 1282489 或者’校準可㈣於提供充分精確之㈣對準及 聚焦部件陣列33、43之定位，然後在曝光序列持續時間中 將其固定就位。例如，仏丨㈣㈣心各光鮮投射至 基板13上的光斑陣列間之距離(各光斑為藉由聚焦部件 33、43之-聚焦至單-位置上之圖案化光束的部分）係光斑 矩陣間距之給定倍數（即單—光弓，擎所產生之各相鄰光斑 間的距離）。 聚焦部件㈣33、43位置放置的精確度通常需要係藉由 光引擎投射至基板13上之光斑陣列間的距離為光斑矩陣 間距之分數。例如，其可小於光斑矩陣間距之一半。 驅動器系統僅可以相對於光斑矩陣間距之較小距離調 整陣列33、43之位置。例如，其具有之衝程僅能將基板: 圖案化光束移動等於光斑矩陣間距之數倍的數量。此情形 甲，若兩個光引擎之相對位置需要修正比驅動器系統34、 44之衝程更大的數量，位置補償之部分可藉由以電子方式 偏移可個別控制部件陣列31、41上之圖案而實現。 應月白雖然以上5兒明僅參考兩個光引擎，實務中微影裝 置可包含更多連接使用的光引擎。例如，其可包含二十或 更多光引擎。因此各光引擎可與其本身之驅動器系統相關 聯，驅動器系統用於調整其聚焦部件陣列之位置，從而以 對應於先前說明之方式與其相對於其他光引擎及相對於 基板在基板上產生之圖案化光束相關聯。 第二例示性環境 圖7顯示依據本發明另一具體實施例的系統。如圖所 99565.doc -25- 1282489 示，系統包括兩個光引擎，各光引擎包括可個別控制部件 陣列3 1、41、光束成形及控制單元32、42及聚焦部件陣列 33、43。然而’弟一具體貫施例之裝置與圖6之第一具體 貫施例的裝置不同’因為各光引擎内聚焦部件陣列3 3、们 之位置相對於可個別控制部件陣列3 1、41之位置係固定 的。特定言之，如圖所示，各光引擎可包括固定至少聚焦 部件陣列33、43及可個別控制部件陣列31、41的相關聯框 架 51、52。 此組態中，調整光引擎參考框架51、52之相對位置亦可 調整各光引擎投射至基板13上之圖案化光束36、37的相對 位置。可提供額外參考框架50，各光引擎參考框架藉由相 關聯驅動器系統53、55及（視需要）相關聯連桿組54、56安 裝至此額外參考框架。 與以上參考圖6所述者相同，可將該裝置之額外組件（例 如用於支撐基板13之基板台及/或測量系統）安裝至額外參 考框架50。或者，額外驅動器系統可用於將額外參考框架 5〇安裝至裝置之基座框架，使得所有光引擎相對於裝置剩 餘。卩刀之位置可同時藉由額外驅動器系統加以調整，但可 猎由相關聯驅動器系統實現各光引擎相對於其他光引擎 之位置的控制。 第三例示性環境 圖8顯示依據本發明另一具體實施例的系統。如上所 述，依據本發明’可測量聚焦部件陣列1()㈣於參考框架 之位置。藉由測量微影裝置之其他部分的位置，例如基板 99565.doc -26- 1282489 台相對於相同參考框架（直接或間接），可決定㈣部件陣 列10相對於微影褒置其他部分之位置，從而視需要修正聚 ：!、部件制之位置。然而，為確保基板上影像之精確曝 I & ’首要㈣確絲线件陣㈣之位置輕相對於基板 給定位置内，並且在需要之公差内。因此圖8内所示之 配置内將感’則器61、62安裝於聚焦部件陣列1 〇。 感測器61、62決定聚焦部件陣列1〇與基板13間之分離。 此專測里接著可用於控制上述驅動器系統，以實現期望分 ，離。圖8顯示使用兩個感測器6丨、62之配置。如圖所示， 如此可測量聚焦部件陣列10相對於基板之位置，線性方式 係在Z方向（即垂直於基板表面）内，旋轉方式係關於γ軸。 應明白若（例如）僅需要監視聚焦部件陣列在Z方向上相對 於基板之線性分離，則僅需要單一感測器6丨、62。同樣， 藉由增加額外感測器，可按其他自由度測量分離。例如， 安裝至聚焦部件陣列丨〇並沿γ軸與圖8所示之感測器6丨、62 . 分離的額外感測器可決定陣列關於X軸相對於基板之旋 轉。 聚焦部件陣列10相對於基板之位置的直接測量可用於 簡化驅動器系統對陣列之控制及/或減少校準需要。 第四例示性環境 圖9顯示依據圖8所示具體實施例之一變化的系統。如圖 9所示，配置内，將擋板65安裝於聚焦部件陣列10周圍。 聚焦部件陣列、擋板65及基板13界定一空間66。此空間可 藉由清潔氣體加以沖洗，其透過入口 67、68從清潔氣體供 99565.doc -27- 1282489 應注入空間66並透過擋板65與基板13間的間隙69流出空 間。必須保持間隙69，以便防止基板與擋板65間之機械接 觸對基板13之損壞。 擔板65内之空間66與周圍環境間的壓力差異及間隙69 之大小決定穿過間隙69之氣體流量。間隙69之大小依次取 決於聚焦部件陣列10與基板13間之分離。相應地，藉由監 視播板内部與外部間的壓力差異以及透過入口 67、68流入 擋板之氣體流量，可決定間隙69之大小及聚焦部件陣列1〇 與基板間的分離。與上述相同，採用適當校準，可將此資 料供應至控制聚焦部件陣列1 〇之位置的驅動器系統，以提 供回饋。 除監視聚焦部件陣列1 〇與基板在Z方向上之線性分離 外，亦可決定關於X、Y軸之相對角位置。此可藉由分離地 監視穿過各氣體入口 6 7、6 8之氣體流量而得以實現。聚焦 部件陣列相對於基板之旋轉將導致擋板與基板間之間隙 69在聚焦部件陣列不同側面有不同大小。相應地，穿過間 隙69之氣體流量在擋板65之相對側面也不同，導致穿過入 口 67、68之氣體流量不同。例如，圖9所示之配置中，聚 焦部件陣列10關於Y軸之順時針旋轉將導致穿過入口 68之 氣體/氣里增加。應明白監視穿過額外氣體入口之氣體流量 在適當校準下會致動X軸周圍之可個別控制部件陣列的旋 轉之測量。 如上所述，系統可與供應氣體之沖洗氣系統組合，以移 除基板曝光所產生之污染物。然而，應明白上述系統可單 99565.doc -28- 1282489 獨用於監視聚焦部件陣列10相對於基板之位置。 第五例示性環境 圖10說明本發明之另—具體實施例。此情形中，將聚隹 部件陣列1〇安裝於支揮物70，支撐物配置成懸停於基扣 上方。特定言之，將支撐物7〇配置成其保持在基板部分上 方的實質固定高度（Z方向上）。相應地，一旦校準支撐物以 保持所需高度，聚焦部件陣列相對於曝光輻射的基板13之 部分的位置亦可固定。因此，有利的係聚焦部件陣列保持 相對於基板目標部公奢哲k k 忏丨刀實負上恆定之位置，而與基板任何局 部扭曲無關，從而防止影像品質損失。 用於控制聚焦部件陣列之位置的驅動器系統可配置成 调整支揮物70以及聚焦部件陣列1G之位置例如在平行於 基板表面之平面内移動。作為替代或附加方案’可將驅動 器系統配置成調整聚焦部件陣列相對於支樓物70之位 置。此可用於（例如）精確調整聚焦部件陣列在垂直於基板 表面之線性方向上（即z方向）相對於基板之位置及/或提供 關於平仃於基板表面之平面内的軸之旋轉調整(即關於X 及Y軸）。 車乂佳配置巾{揮物7G包括氣體軸承，其將支撐物保 持在距離基板之-固定距離處，而無需機械基礎。此情形 中’支樓物相對於基板之位置，線性方式係在垂直於基板 表面之方向上，旋轉方式係關於平行於基板表面之軸，可 藉由控制到達氣體軸承之氣體流量來調整。 結論 99565.doc -29- 1282489 雖然以上對本發明的不同具體實施例予以說明，應瞭解 其僅藉由範例來呈現，並非構成限制。特定言之，應明白 具體實施例之方面可予以組合。熟習技術人士會明白可在 形式及細節上作出各種變更，而不致㈣本發明之精神及 範傳。因此，本發明之廣度及料並不揭限於上述任何例 示性具體實施例，而應僅根據以τ的中請專利範圍及 效内容來定義。 、 【圖式簡單說明】
併入本文並且構成說明書一部分的附圖，在於說明本發 明，以及連同說明，可進_步用以解釋本發明的原理並: 讓熟習技術人士可以製造及使用本發明。 圖1描述依據本發明之-具體實施例的微影裝置； 圖2 .羊、、、田描述用於照射基板一部分之微影裝置的一部 圖3詳細描述圖2所示之裝置的一部分； 圖4以平面圖方式描述圖3所示之裝置的一部分； 同 圖h及％描述圖3所示之裝置的一部分在使用時的不 可能位置； 圖6描述本發明之一額外方面； 圖7說明|發明之第二具體實施例 圖8描述本發明之另_方面； 圖9描述圖8所示之配罟的娃
<配置的替代方案，其在使用沖 統之裝置中特別有利； 圖10說明本發明之另一具體實施例； 99565.doc 1282489 現在參照附圖說明本發明。在圖式中，相同參考數字指 示相同或功能類似的部件。此外，參考數字的最左數字可 識別首次出現該參考數字的圖式。 【主要元件符號說明】
5 輻射光束 6 可個別控制部件陣列 7 透鏡 8 透鏡 9 透鏡 10 陣列 11 聚焦部件 11! 位置 12 點 12! 位置 13 基板 14 圖案化光束的部分 15 輻射阻擋層 20 驅動器系統 21 連桿組 31 可個別控制部件陣列 32 透鏡系統 33 聚焦部件陣列 34 驅動器系統 35 連桿組 99565.doc -31 - 1282489
36 圖案化光束 37 圖案化光束 40 參考框架 41 可個別控制部件陣列 42 透鏡系統 43 聚焦部件陣列 44 驅動器系統 45 連桿組 50 參考框架 51 框架 52 框架 53 驅動器系統 54 連桿組 55 驅動器系統 56 連桿組 61 感測器 62 感測器 65 擋板 66 空間 67 入口 68 入口 69 間隙 70 支撐物 IL 照明系統 99565.doc -32- 1282489 AM 調整元件 IN 積分器 CO 聚光器 PB 投影光束 PPM 可個別控制部件 PL 透鏡 W 基板 IF 測量元件 BP 底板 WT 物件台 PW 定位元件 C 目標部分 99565.doc -33-

Claims (1)

128¾¾^5491號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(95年5月） 十、申請專利範圍： 1 · 一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其供應一輻射投影光束； - 一可個別控制部件陣列，其用於賦予該投影光束之斷 面一圖案； 一基板台，其支撐一基板； 才又景> 系統’其將該圖案化光束投射至該基板之一 目心α卩分上，該投影系統包括一聚焦部件陣列，該等聚 焦部件之各個將該圖案化光束之局部投射至該基板之 該目標部分的局部上；以及 驅動器系統，其相對於該可個別控制部件陣列移 動該聚焦部件陣列。 2. 3. ^申請專利範圍第1項之微影裝置，其中根據以下四種 =形之至少一項相對於該可個別控制部件陣列移動該 等聚焦部件：―實質上平行於該圖案化光束入射至該基 板表面上的第一方向’一垂直於該第一方向且實質上平 ::該圖案化光束入射至該基板表面上的第二方向，一 貫質上垂直於該圖案化光束人射至該基板表面上的第 三方向，以及關於實質上平行於該等第一、第二及第三 方向之一或多個軸旋轉。 =請專㈣圍第1項之微影裝置，其中該㈣部件陣 :括位於該等聚焦部件間之—㈣阻擔層，該輕射阻 h層防止未入射至該等变隹 之輻射到達該基板。…、、^圖案化光束内 99565-950512.doc 1282489 4· 5. 6. 置，其中該裝置進一步 ，其用於賦予一第二投影 二圖案化光束投射至該 二投影系統包括一第二 如申請專利範圍第1項之微影裝 包含： 一第二可個別控制部件陣列 光束之斷面—圖案；以及 一第二投影系統，其將該第 基板之一第二目標部分上，該第 I焦部件陣列， 其中該第二聚焦部件陣列 輯狀各聚焦部件將該第二圖 案化光束之局部投射至該基 部， 低< 4弟一目標部分的局 其中移動自亥第一聚隹部κ由 丄卜 …口Η牛庳列之該驅動器系統相對 於δ亥第一聚焦部件陣列移動 ^ 切邊弟一聚焦部件陣列。 如申請專利範圍第4項之微影 佩〜忒置，其中該裝置進一步 包含： 一第二驅動n系統’其用於相對於該第二可個別控 制部件陣列移動該第二聚焦部件陣列。 如申請專利範圍第5項之 甘士 4日城 乂心衣置，其中根據以下四種 情形之至少一項相對於兮筮_ 、Μ第一可個別控制部件陣列移 動该弟"一聚焦部件陣列：一麻· /f— L J 只質上平行於該第二圖案化 光束入射於該基板表面上的第一 千古A — A ^ 万向，一垂直於該第一 方向且實質上平行於該第- 币一圖案化光束入射於該基板 表面上的第二方向，一實暂L 員貝上垂直於該第二圖案化光束 入射於該基板表面上的第：r 士 布一方向，以及關於實質上平行 於該等第一、第二及第三方、 向之一或多個轴旋轉。 99565-950512.doc 1282489 7. 如"專利範圍第5項之微影裝置 包含： 其中該裝置進_步 弟-及第二驅動器系統，其安裝參 得該等第一；3笛—跡壬 /巧t木，使 一 ·、’、動器系統分別相對於該失 移動該等第一及第二聚焦部件陣列。f於及參考框架
10.
12. :申請專利範圍第7項之微影裝置，其中將該等第-及 可個別控制部件陣列安裝於該參考框芊。 如申請專利範圍第7項之微影裝置，其中將該等第—及 弟二投料、統巾除料㈣、料陣列外之料部件安 裝於該參考框架。 如申請專利範圍第i項之微影裝置，其進_步包含安裝於 該聚焦部件陣列之-感測器系統，其測量”焦部件陣列 與基板之該目標部分間的線性分離；其中來自該感測器系 統之該等資料用於該驅動器系統之該控制。 如申請專利範圍第1項之微影裝置，其進一步包含安裝 於該聚焦部件陣列之-感測器1統，其測量該聚焦部件 陣列與基板之該目標部分的相對角位置；其中來自該感 測器系統之該等資料用於該驅動器系統之該控制。 如申請專利範圍第1項之微影裝置，其進一步包含： 一擋板，其配置於該聚焦部件陣列周圍，該聚焦部 件陣列及該擔板界定鄰近该基板之_空卩3 · 一氣體供應系統，其向該空間供應氣體； 一監視器系統，其釭視到達該空間之氣體流量以及 99565-950512.doc 1282489 該空間與該擋板外部環境間的壓力差異； 其中該監視系統從該等氣體流量及壓力資料決定該 聚焦部件陣列與該基板的該分離；並且該等分離資料用 於該驅動器系統之該控制。 13·如申請專利範圍第12項之微影投影裝置，其中該監視系 統分別地監視從複數個入口進入該擋板之該氣體流 ΐ ’以及該控制器使用此資料來決定該聚焦部件陣列及 該基板之相對角位置。 籲14·如申請專利範圍第12項之微影投影裝置，其中該氣體供 應系統為一氣體沖洗系統之部分。 15. 一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其供應一輻射投影光束； 一可個別控制部件陣列，其用於賦予該投影光束之斷 面一圖案； 一基板台，其支撐一基板； 一投影系統，其將該圖案化光束投射至該基板的一 •目標部份之上； 一第二可個別控制部件陣列，其用於賦予一第二投影 光束之斷面一圖案； -第二投影系統，其將該第二圖案化光束投射至該 基板的一弟二目標部分之上；以及 -驅動器系統’其用於相對於該第二可個別控制部 件陣列及該第二投影系統移動該第—可個別控制部件 陣列及該第一投影系統， 99565-950512.doc 1282489 其中該第一可個別控制立土 一 / 制σ卩件陣列之位置相對於該第 才又衫糸統之位置而固定， …其中該第二可個別控制部件陣列之位置相對於該第 一投影系統之位置而固定。 16. 17. 18, 如申請專利範圍第15項之微畢彡 只及倣衫表置，其中根據以下四種 $形之至少一項相對於該第二可個別控制部件陣列及 弟二投影系統移動該第一可個別控制部件陣列及該第 一投影系統：-實質上平行於該等圖案化光束人射至該 基板表面上的第—方向，—垂直於該第-方向且實質上 平行於該等圖案化光束入射至該基 向，：實質上垂直於該等圖案化光束入射至該基:二 上的第二方向，以及關於實質上平行於該等第一、第二 及第二方向之一或多個軸旋轉。 如申請專利範圍第15項之微影裝置，其進一步包含·· 第參考框帛，其中將該第一可個別控制部件陣 列及該第一投影系統固定至該第一參考框架，·以及 一第二參考框架’其巾將該第：可個難制部件陣 列及该第二投影系統固定至該第二參考框架， 其中將該驅動器系統安裝成在該等第一及第二參考 框架間操作。 如申請專利範圍第1 7項之微影裝置，其進一步包含·· 弟一參考框条，用於文裝該基板台，其中將該第 一參考框架安裝至該第三參考框架，且其令該第一驅動 器系統控制該等第一及第三參考框架之該等相對位置； 99565-9505i2.doc 1282489 以及 一第二驅動器系統，其中將該第二參考框架安裝至 該第三參考框架且其中該第二驅動器系統控制該第二 及第三參考框架之該等相對位置。 19. 一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其供應一輻射投影光束； 一可個別控制部件陣列，其用於賦予該投影光束之 斷面一圖案； _ 一基板台，其支撐一基板； 一投影系統’其將該圖案化光束投射至該基板之一 目私部分上，該投影系統包括一聚焦部件陣列，每一該 等聚焦部件將該圖案化光束之局部投射至該基板之該 目標部分的局部上； 其中將該聚焦部件陣列安裝至一支撐物，在垂直於 該基板表面的一方向上，以距該基板之該目標部分的一 _ 貫負固定距離將該支撐物支撐在該基板上。 20·如中請專㈣圍第19項之微影裝置，其中該支撐物包括 至夕個空氣軸承，其採用該所需固定距離將該支撐物 維持在該基板上。 21· —種元件製造方法，其包含： 提供一基板； 輻射投影光束； 陣列賦予該投影光束之斷面 使用一照明系統提供一 使用一可個別控制部件 一圖案； 99565-950512.doc -6 · 1282489 使用一投影系統將該圖案化輻射光束投射至該基板 之一目標部分上，該投影系統包括一聚焦部件陣列； 使用每一該等聚焦部件將該圖案化光束之局部投射 至该基板之該目標部分的局部上；以及 相對該可個別控制部件陣列調整該聚焦部件陣列之 位w。 22· —種元件製造方法，其包含： 提供一基板； 使用一照明系統提供一輻射投影光束； 使用一可個別控制部件陣列賦予該投影光束之斷面 一圖案；以及 將該圖案化輻射光束投射至該基板的一目標部分上， 提供一第二輻射投影光束； 使用一第二可個別控制部件陣列賦予該第二投影光 束之斷面一圖案； 將該第二圖案化光束投射至該基板的一第二目標部 分上； 使用一驅動器系統控制該第一可個別控制部件陣列 及一第一投影系統相對於該第二可個別控制部件陣列 及一第二投影系統之位置； 使用該第一投影系統將該第一圖案化光束投射至該 基板上；以及 使用该弟一投影系統將該弟二圖案化光束投射至兮 基板上0 99565-950512.doc 1282489 23· 一種元件製造方法，其包含： 提供一基板； 使用一照明系統提供一輻射投影光束； 使用一可個別控制部件陣列^該投影光束之斷面 一圖案； 使用一投影系統將該圖案化輻射光束投射至該基板 之一目標部分上，該投影系統包括安裝於一支撐物之一 聚焦部件陣列；以及 • 使用每一該等聚焦部件將該圖案化光束之局部投射 至該基板之該目標部分的局部上； 其中該支撐物在垂直於該基板表面的一方向上，以相 對於該基板之該目標部分的一實質固定距離將本身支 撐在該基板上。 99565-950512.doc
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