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TWI281955B - Treatment method of waste tin lead stripping solution - Google Patents

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TWI281955B
TWI281955B TW92104369A TW92104369A TWI281955B TW I281955 B TWI281955 B TW I281955B TW 92104369 A TW92104369 A TW 92104369A TW 92104369 A TW92104369 A TW 92104369A TW I281955 B TWI281955 B TW I281955B
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Ching-Hua Jang
Huei-Ying Jeng
Jung-Jie Chen
Chin-Shiung Yang
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Persee Chemical Co Ltd
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  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
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Description

1281955 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 ^本t明係屬於一種剝錫鉛廢液之處理方法,其應用在 電子工業lu王中,因剝離電鑛錫或電錢錫錯層所產生廢液 、 去另外,本發明亦相關於一種可自剝離電鍍錫 或電錢錫錯的廢液令,回收金屬錫、金屬銅、硫酸銅、硫 酸亞鐵或硫酸鐵的方法。 【先前技術】 在一般印刷電路板的製造過程中,常常需要在銅層上 電鍍錫層或錫鉛層,以保護在鹼性蝕刻過程中的銅層。當 蝕刻後去除非線路部份的銅層後,通常利用硝酸系的強酸 溶=將電鍍錫層或電鍍錫鉛層剝除,以便使銅層的線路部 ^ 員見利用硝酸系的強酸溶液,來剝除電鍍錫層或 電鍍錫鉛層的方法,可以參考美國專利公告號第5, 9ιι,9〇7 、5, 928, 529、5, 989, 449、6, 258, 294 B1 及 2〇〇1/_73ΠΑ號等前案,其巾強酸溶液的主要成份為硝酸 人肖&L鐵,在剝除電鍍錫層或電鍵錫錯層的過程中,當溶 液中的游離硝酸根陰離子濃度低於4Ν,或含錫量高於 l〇〇g/L時,即需重新配製更換新的硝酸系溶液,因而會產 生剝離電鍍錫層或電鍍錫鉛層的廢液。由於剝離電鍍錫層 或電鍍錫鉛層的廢液中,含有2至15g/L的銅離子、工至 4〇g/L的鐵離子或亞鐵離子、1〇至12〇g/L的錫離子或亞錫 離子(當廢液在儲存或運送的過程中,錫離子會被氧化形 成氧化錫或氫氧化錫沈澱物析出,因此有時候存在於廢液 1281955
中的錫離子及亞錫離子含量會低於1〇g/L。)、〇至Hg/L 的鉛離子及2.0至6. ON的游離硝酸溶液,因此有必要妥善 處理經剝離電鍍錫層或電鍍錫鉛層的廢液,以免嚴 、、九 環境。 ’可木 目前習用的處理方法首先利用氫氧化納中和剝錫錯層 廢液中的游離硝酸,並調整pH值在8至13 曰 〜间,使大部 伤:重金屬陽離子形成氧化物或氫氧化物之沈澱物,過遽 所得的氧化物或氫氧化物固形物,再以冶煉的方法煉製金 屬錫,或者以高濃度鹼液將固形物溶解後,再以電解的方_ 法還原以得金屬錫’而渡液則利用蒸發結晶的方式以製成 琐酸納晶體。然而f用技術之主要缺點為氧化物或氫氧化 物固形物中含有不少重金屬銅、鐵及錯,特別是銅抑塑 冶煉或電解所得金屬錫的純度。 /曰 全屬==民國專利法公告第1 7791 1號「從1㈣廢液回收 , 〜3又丨不你竿1以μ 置換還原廢液中的錫離子或亞錫離子, 屬 加以回收。然"專利内容中所闡述的處理方;金= 的遇原劑及沈殿劑,且過程繁雜,故為不經濟之處 成H 於處理過程中,錫離子或亞錫離子極易形 成虱化物或氫氧化物沈澱析出, -片置換還原得金屬錫亦為其缺點此不易找出適當時機以 n於中華民國專利公告第258758號「鑛錫 再生方法及裝置」乙案中’揭露利用離子交換樹脂以分 中了方法」乙案中,揭露利用添加還原劑、沈殺劑及 中和別的方法,使處理後的排放水達到 置換還眉麻你由ΛΛ加私7二、_ ^ + I W i呂片 1281955 離電鍍液中的鐵、鉻、錫等離子之用以回收再生鍍錫助劑 及金屬錫的方法。然而該方法亦具有處理過程相當繁雜的 缺點,因此並不適用於處理剝離電鍍錫層與電鍍錫鉛層後 的廢液。 另外,中華民國專利公告第472〇3〇號「剝錫鉛廢液之 處里方法」乙案中,揭露於廢液中加入沈殿劑與中和劑(驗 性藥剤),並進行過濾、加熱去氨、沈澱溶解等一連串分離 私序以達到廢液中的有價成份的回收與廢液處王里的環保 . 工作。該方法可由剝錫鉛廢液回收之成分製成95%純度之 錫酸納、80%之氟化鈉或硝酸鈉及93%之硫酸銅晶體。錫 酸納可經過電解精練而得到99 9%的金屬錫;^鈉或石肖酸 納及硫酸銅,則可藉由再結晶的方式提高其純度。該方法 雖然可以達到廢液中有價成份之回收與廢液處理的環保工 作,但與前述習用技術具有相同的缺點,即中和後所產之- 氧化物或氫氧化物固形物中含有不少重金屬銅、鐵及^, 特別是銅含量過高時會使得後續精製錫的程序變得過於繁 雜。 ·· 至於中華民國專利公告第期4Μ虎、美國專利公 576圖、6UG349及62_5號等專利前案,則提及„ . 鑛錫液内所沈殿的錫泥或處理剥錫錯廢液的過程中所沈! :錫泥,:強驗溶解後,再經電解還原得金屬錫的方法:、. ”可供作處理錫泥的參考。另外,與本發明 - 專利公告第4981 12號「一種去除剝 4民國_ - ^ ^ Ά …錫或剩錫鉛廢液中銅、 錫離子之方法」,其處理剥怒廢液的内容亦可併 1281955 入作為茶考。 【發明内容】 、處理方式簡單而完 子的剝錫鉛廢液處理 有鑑於此,需要一種具有經濟性 整,且可有效回收廢液中所含金屬離 方法。 、、因此’本發明之目的為提供一種處理剝錫或剝錫鉛廢 液以回收金屬㉟、金屬銅或硫酸銅與硫酸亞鐵成硫酸鐵的 方法,其包括: 氧化步驟:在高溫下將錫離子與鉛 錯之氧化物及氫氧化物沈殺物; 離子氧化成為錫 Μ 鉛之氧化物及 錫與鉛之氧化
固液分離步驟:將氧化步驟所得之錫、 氫氧化物沈殿物加以固液分離; 還原步驟:將固液分離步驟所得之固態 物及氫氧化物還原成為金屬錫或錫鉛合金; 之濾液以礙中和後 、電解還原、置換 硫酸亞鐵、硫酸鐵 回收步驟:將固液分離步驟所產生 ,經過濾、蒸發結晶、加酸溶解、萃取 反應等程序回收製得金屬銅、硫酸銅、 、氨水、硝酸鈉或確酸鉀等有價資源。 根據本發明之方法除可確實達到廢液處理的目的,並 可達到資源完全回收的效果。 【實施方式】 剝錫鉛廢液之 、中和及蒸發 、還原步驟及 請參看第一圖所示,本發明處理剝錫或 方法主要疋利用咼溫氧化、冶煉、電解還原 結晶等方法來進行氧化步驟、固液分離步驟 11 1281955 回收步驟。 -明Γ法之氧化步驟乃是在高溫下氧化生成錫與鉛 之乳*風氧化物沈殿之步驟’於45 fiJ i2〇〇c的 圍内進行,較佳是在6〇到1(^c的溫度範圍内 = =於饥進行氧化作用時,沈殿物之生成速率太慢 進行氧化作料,則會有大量錢被蒸發出來 '、、、。生鼠乳化物⑽x)等揮發物之危險。因此,在45 到、12=的溫度範圍内’較佳是在60到mt;的溫度範圍 内進仃乳化步驟將具有快速將廢液中錫離 形成錫與^氧化物及氫氧㈣驗物之功效。 ^ 在氧化步驟中,可以單獨使用通氣氧化方法、化學氧 =,或電解氧化方法,亦可合併使用以提高氧化效果。 =μ化方法是將臭氧、氧氣或空氣等有助於氧化反應 體直接通入廢液中;該化學氧化方法是對廢液進 辰細來提面廢液中硝酸濃度或是直接添加濃石肖酸到 曆液中;而該電解夤化t、、土 β & 電位差使陽極區域發生氧化作用來進行 在前述之通氣氧化方法中, L. ^ ^ T 口為虱分子在高溫下可以 快速氧化錫離子與鉛離子,使 ^ 之之形成錫與鉛之氧化物及氫 氧化物沈殿物’因此溶液中 Μ Τ錫離子與鉛離子之濃度會快速 Ρ牛低。例如在80°C的溫度下,诵人每# 入乳氣1小時,即可使廢 液中的錫離子濃度降低至5g/L以下。 在前述之化學氧化方法中, ^ _ 因為廢液中硝酸濃度會被 徒咼,而硝酸在高溫下可以快洁一 κ速乳化錫離子與鉛離子,使 *乳化方法疋在電解槽中,對加 ·< Φ 乂TV 辇 /士 17曰e .、、 一 12 1281955 之形成錫與錯之氧化物刀_ 、、田产下n 物及氧礼化物沈澱物。例如在8〇。〇的 /皿度下棱尚廢液中硝酸濃度至7Ν 錫離子濃度降低至5g/L以下 ,即可使廢液中的 、當r _ T。該化學氧化方法可以在直空 酸可以3Α 而直接添加到廢液中之濃硝 酉夂了以疋浪度介於5〇〜1〇〇%之市售硝酸。 在前述之電解氧化方法中, ^ 6V . p, # ^ θ 陰%極電位差係保持在2 之間,猎由%極區域的電解氧化作用,使得廣液中之 =錯離子w與錯之氧化物及氫氧心: "4 g C陰%極電位差4肩的條件下進行電解氧化4#| 小寺,即可使廢液中錫離子濃度降低至5g/L以下。 :其需要’在氧化步驟中’若高溫氧化廢液中之鉛離 7銘之乳化物及氫氧化物沈澱物的效率過低時,可於 高溫氧化期間或之後’於廢液中添加接近於錯離子當量的 硫酸根離子以促進形成硫酸錯晶體而錢析出。其_ 硫酸根離子的化合物包括有 ^ 或硫酸<—不限疋為·硫酸、硫酸納 本發明方法之固液分離步驟中,可利用任何習知之固魯· 液分離方法來從廢液中分離出錫與錯之氧化物及氫氧化物 、並視情況需要進而產生硫酸錯沈殿物。相較於習用技術 或中華,國專利公告號第·3Q號,以本發明方法所得錫 與錯之氧化物及氫氧化物沈殿物中僅含微量銅離子及鐵(亞 鐵)離子,故後續還原步驟較易製得高純度金屬錫或錫錯a — 金。 ° 在還原步驟中,乃是將於固液分離步驟中分離所得之 13 1281955 固態錫與錯之氧化物及氫氧化物,以及可能產生之炉較 ' 沈澱物,先以水洗淨及烘乾後,再與含碳成份為主的活^ 碳、焦碳或石墨以及碳酸納混合並研磨,於6〇〇至12〇吖 高溫下,較佳,進行冶煉,可製得金屬錫或 錫鉛合金。或者先以水洗淨後,將沈殿物溶於強驗中,可 使用的強驗包括有,但不限定於:氣氧化納、氯氧化卸或 其混合物。較佳的驗為當量濃度介於2. Q到7肩之气氧化 納、。氫氧化钾或其混合溶液,所使用的溶解溫度在室 較佳在8〇。。到16(rc之間’而溶解所需要之時㈣ 間為兩於i小時’較佳為高於5小時,如此可使溶液中的 錫含置達到3〇g/L以上,通常可達5。到15〇的之間。滤 除未溶解的固形物後,將此含錫與錯之驗性溶液,於5〇到 膽的溫度下進行電解還原步驟,可回收製得金屬錫或錫 鉛合金’而陰陽極電位差則以介於15到7.〇v之間為較佳 。以尚溫冶煉法或電解還原法所製得之金屬錫或錫錯合全 ’可於硫酸亞錫溶液中更進一步被電解精製以製得高純度 錫,而其方法與習用電解精製粗銅成為精銅者相同。a __ 經氧化步驟高溫氧化後,剝錫錯廢液中大部份錫離子 與鉛離子均已被氧化形成錫與 礼化物及虱虱化物沈澱 , ,再、、,!固液分離步驟固液分離之 ;;;::;' 離子或亞鐵離子與2.〇至6.⑽的游離硝酸。 — 將固液分離步驟所產生之據液於回收步驟中 -- 納或氯氧化卸中和並調整其pH值至8〜13,使遽液;= 14 1281955 及銅4重金屬離子形成氧化物及氫氧化物沈澱析出,再經 固液分離後,可得含硝酸鈉或硝酸鉀的濾液與含鐵及銅等 氧化物及氫氧化物沈澱物的濾餅。所得濾液經加熱除氨後 ’可使用洛發結晶方法製得硝酸鈉或硝酸鉀晶體,而濾餅 則經添加稀硫酸溶液溶解後,利用萃取法製得硫酸銅及硫 酸鐵或硫酸亞鐵,或以置換法製得金屬銅粉末與硫酸亞鐵 ’亦或以電解還原法製得金屬銅粉末與硫酸亞鐵,亦或以 電解還原法製得金屬銅與硫酸亞鐵。前述之萃取法可參考 美國專利公告號第4, 252, 621號,中國大陸專利公告號第 1 1 54723A號及第1299784A號等,利用商標名為ux_54的 曰曰 曰曰 換溶液巾之銅離子為金相粉,錢㈣溶解形成亞鐵離 2 ’經過;t、乾燥製得金屬銅粉,㈣所產生的硫酸亞鐵 f液則經蒸發結晶製得硫酸亞鐵晶體,或以氧氣、空氣等 :::成硫酸鐵溶液;前述之電解還原法為將稀硫酸溶液 置於電解槽中,於陰陽極 φ ή6 ^ ^ 1主Μ的條件下,將溶液 Τ的銅離子還原成金屬 曰 殘餘&馱亞鐵溶液則經蒸發結 曰曰I侍心酸亞鐵晶體,或氧 溶液。 礼孔工乱專虱化形成硫酸鐵 有機萃取劑萃取稀硫酸溶液中的銅離子,再以濃硫酸溶液 ,萃取溶於有機萃取劑LIX—54之迴流,再利用於萃取稀硫 酉欠溶液中的銅離子,而硫酸銅溶液則經冷卻結晶或蒸發結 、過濾及乾燥等步驟製得硫酸銅晶體,過濾所產生的結 母液亦經迴流再用於反萃取有機萃取劑lix — 54^的銅離 子,4述之置換法為利用添加鐵粉於稀硫酸溶液中,以置 Φ4 15 1281955 【實施例】 實施例1 : 取5L剝錫鉛廢液,該廢液内含約1〇g/]L Cu2+、3〇g/L Fe2VFe3+、30g/L Sn2VSn4+及 1〇 抑2+。將該廢液加熱 至8 0 C,攪拌並通入氧氣2小時後,廢液中形成大量錫之 氧化物及氫氧化物沈澱物。過濾分離錫之氧化物及氫氧化 物沈澱物。在80°C下,將所得之固態錫之氧化物及氫氧化 ‘ 物’合於2L,》辰度為3N的氫氧化鈉溶液中歷時6小時。接著 、 ,提昇此含錫鹼溶液溫度至95r,並於陰陽極電位差為 3. OV的條件下進行高溫電解還原步驟歷時丨〇小時後,溶液 中錫含量約3g/L,並回收得到約12〇§金屬錫。 實施例2 : 同實施例1的操作,於過濾分離錫之氧化物及氯氧化 物沈殿物後’將其經水洗及洪乾,取lg乾沈澱物,加 入20g活性奴及80. 〇3g碳酸鈉,經混合及研磨後,於 °C高溫下歷時4小時,冶煉製得512g純度為98 5%的金屬 錫。 實施例3 :
取 lm 内含約 5g/L Cu2+、30g/L Fe2 + /Fe3+、3〇g/L
Sn /Sn及10 ppm Pb2+離子之剝錫鉛廢液,將該廢液加熱 至90 C㈣並通人氧氣2小時後,廢液中形成大量锡之 氧化物及氫氧化n殿物。在廢液溫度降低到5(rc以下時 過;t刀離錫之氧化物及氯氧化物沈殿物。力工⑽。C下,將 所得之固態錫之氧化物及氫氧化物溶於祖,濃度為扑的 16 1281955 f氧化鉀溶液中歷時10小時。然後,過遽去除溶液中尚去 冷解之固形物。奴後’調整此含錫鹼溶液溫度i ° 陰陽極電位差為3,的條件下進行高溫電解還原步驟= 約^、時後,此時溶液中錫含量低於5g/L,並可^ 23kg金屬錫。 了侍約 實施例4 ·· 同實施例3的操作’於過濾分離錫之氧化物及氫氧化 物沈澱物後,取254g澄沈澱物,加入63 6g活性碳及 253. 3g碳酸鈉,經混合及研磨,於95〇t高溫下歷時4小 時,冶煉製得58. 5g純度為99· 5%的金屬錫。 實施例5 : 類似於實施1〜4的操作,於過濾分離錫之氧化物及氫 · 氧化物沈澱物後,沈澱物以溼法電解還原或以火法冶煉製 得金屬錫,濾液則以濃度約3N氫氧化鈉液中和並調整pH 至約11,濾液中形成褐色的鐵、銅、錫、鉛等氧化物及氫 氧化物的褐色濾餅與含硝酸鈉的淡綠色濾液,取3 〇 〇m 1淡 綠色滤液,經蒸發結晶可製得約2Gg呈淡綠或淡黃的石肖酸_籲 納晶體’利用原子吸收光譜(A、A)分析其重金屬含量,結果^___ 編5虎 顏色 Cu(ppm) Fe(ppm) Sn(ppm) Pb(ppm)— 1 淡綠 25. 84 22. 61 ND ND 2 淡綠 ND 14. 89 ND ND 3 淡黃 ND 3. 67 ND ND__ 實施例6 ·· 17 1281955 同實施例5’於過渡分離得含鐵、銅、錫 及氫氧化物的褐色遽餅後’將此褐色據餅溶於濃度約:的 稀硫酸溶液中,形成微帶褐色的綠色溶液,於陰陽極電位 差yv及溫度15t的條件下電解2小日寺,溶液中銅離子幾 乎完全被電解還原成金屬銅,而使得溶液成為含硫酸亞鐵 為主的綠色溶液。 以上實施例僅為本發明技術的示範例子,其並非用來 , 限定本發明為特定形式,熟悉該項技術者在瞭解本發明之 後 了依此進行任何修飾或改變,而該等修飾或改變應包麵 括於本案申請專利範圍之範疇内。 【圖式簡單說明】 (一) 圖式部分 第一圖為本發明之流程示意圖。
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Claims (1)

1281955 拾、申請專利範圍 1、一種剝錫鉛廢液之處理方法,其包括: 氧化步驟:在高溫下將錫離子與錯離子氧化成為錫、 鉛之氧化物及氫氧化物沈澱物; 固液分離步驟:將氧化舟驟^ 乳化步驟所得之錫、鉛之氧化物及 氫氧化物沈澱物加以固液分離; 還原步驟:將固液分離舟5取 從刀離步驟所得之固態錫與鉛之氣化 物及氫氧化物還原成為金屬錫或錫鉛合金; _回收步驟:將固液分離步驟所產生之濾液以驗中和後 ,經過濾、療發結晶、加酸溶解、萃取、電解還原 反應等程序时製得金屬銅、硫、 、氨水、硕酸鈉或硝酸鉀等。 亞鐵、硫酸鐵 上如申請專利範圍第1項的剝錫錯廢液之處理方法 用其中氧化步驟乃在45到1⑽的溫度範圍内進行氧;^ 3、 如申請專利範圍第1或 ^- 甘士 t 一 、的制錫斜廢液之處理 方法,”中氧化步驟乃在80到105 化作用。 匕的/皿度粑圍内進行氧 4、 如甲請專利範圍第上項的剝 ,直中ϋ仆丰挪 吻私廢液之處理方法 ,、中虱化步驟乃利用通氣氧化方法進行。 万忐 5、 如申請專利範圍第1項的剝錫:麻"♦ ,呈φ翁儿止口尾液之處理方、、表 ,、中虱化步驟乃利用化學氧化方法進行。 方法 6、 如中請專利範圍第i項的I W乾廢液之處理方法 19 1281955 ,其中氧化步驟乃利用電解氧化一 7、 如申請專利範圍第丄項:。 ’其中氧化步驟乃利用通氣氧化 ^廢液之處理方法 解氧化方法合併進行。 '化學氧化方法及電 8、 如申請專利範圍第4或7 方法,其中通氣氧化方法包括通入氧、錯廢液之處理 9、 如申請專利範圍第4或二:到廢液中。 方法’其中通氣氧化方法包括通入空氣:錫錯廢液之處理 1 〇、如申請專利範圍第5或/項I液中。 理方法,纟中化學氧化方法包括對、、二錫氣廢液之處 11、如中請專利範圍第5或:/項=了:發濃縮。 理方法…化學氧化方法包括直接二的::錯廢液之處 。 钱添加濃硝酸到廢液中 1 2、如申請專利範圍第 方法,其中可使用濃度介於5〇 液中。 1 1項的剝錫斜廢液之處理 至100%的濃硝酸來添加到廢 理方法,6. 0V之間 、如申請專利範圍第6或 其中電解氧化方法之陰陽 7項的剝錫鉛廢液之處 極電位差保持在2.0到 %哪狗曆》夜之處理; 法,在氧化步驟期間,可視需要、禾★人# △ 祝而要添加含硫酸根離子的化^ 物以促使船離子形成硫酸錯晶體。 1 5、如申請專利範圍第]4馆&立丨^ 囷乐1 4項的剝錫鉛廢液之處3 方法,其中该含硫酸根離子的化合物為硫酸。 20 1281955 16、 如申請專利範圍第14項的剝锡錯廢液之處理 方法,其中該含硫酸根離子的化合物為硫酸鈉。 17、 如申請專利範圍第14項的剝錫錯廢液之處理 方法,其中該含硫酸根離子的化合物為硫酸鉀。 、如申請專利範圍第工項的剝錫錯廢液之處理方 其中在還原步驟中,添加含碳粉末之活性碳。 19、如申請專利範圍第!項的剝锡錯廢:之處理方 其中在還原步驟中,添加含碳粉末之焦碳。 2 0、如申請專利範圍第!項的剝錫錯廢液之處理方 其中在還原步驟中,添加含碳粉末之石黑。 2 1、如申請專利範圍第丄項的剝锡錯廢液之處理方 其中在還原步驟中,添加含碳粉末之活性碳、焦碳、 石墨的混合物。 A « 2 2 :如申請專利範圍第1項的剝錫錯廢液之處理方-法,其中還原步驟中添加有碳酸鈉以進行高溫冶練。 2 3、如申請專利範圍第丄項的剝錫錯廢液之處理方 法’其中還原步驟乃是在6〇"H2G(rC的溫度範圍 _ 冶煉。 2 4、如申請專利範圍第1或2 3項的剝錫錯廢液之. 處理方法’其中還原步驟乃是在謂爿咖t的溫度範圍 内進行冶煉。 · 2 5、如申請專利範圍第丄項的剝錫鉛廢液之處理方… 法’其中還原步驟乃是以座法電解還原’先利用強鹼㈣—’ 與錯之氧化物及氫氧化物沈殿物溶解後,再進行電解還原 法 法 法 法
21 2 1281955 處理方法 2 7 處理方法 2 8 處理方法 2 9 如申請專利範圍第U25項的刻錫錯廢液之- 其中δ亥強驗為氫氧化納。 如申請專利範圍第Η25項的剝錫錯廢液之| 其中该強驗為氫氧化鉀。 如申請專利範圍第!或25項的制錫錯廢液之 其中該強鹼為氫氧化鈉及氫氧化鉀之混合物。 ‘ 士口申請專利範圍第2 5項的剝錫錯廢液口之處理-,,其中該強鹼為鹼當量濃度介於2〇到7·⑽的溶液。 广理如申請專利範圍第1或25項的剥錫錯廢液之 處理方法,其中該溶解乃是在室溫到靴的溫度範 订0 廢、、如中請專利範圍第1或25或3 ◦項的剝錫# _ &理方法,其中該溶解乃是在8 - 範圍内進行。 』u的,皿度 3 2 、如申請專利範圊篦 處理方法,i中於,或2 5項的剝錫鉛廢液之 ”中於通原步驟乃是在50 n 内進行電解還原。 d皿度乾圍― 3 3、如申請專利範圍第 卢m t^ 乐丄次2 5項的剝錫鉛廢液 、 γέ is y- 1 ς 還原%r的陰%極電位差 係保持在1· 5到7. 〇V之間。 左 · 3 4、如申請專利範圍第1項的4 … 法,其中於逖原步驟所回收製得 乃 、隹一丰产六分 孟屬錫或錫錯合金,® 進一 y在,丨1 I亞錫溶液中電解 1月农从传鬲純度錫。 22 1281955 3 5、如申請專利範圍第1項的剝錫鉛廢液之處理方 , 法,其中於回收步驟中,該鹼中和程序為利用鹼中和固液 · 分離步驟所產生的濾液並調整pH值為8至13。 3 6、如申請專利範圍第1或3 5項的剝錫鉛廢液之 -處理方法,其中回收步驟將固液分離步驟所產生之濾液以 驗中和後,經過濾分離得含硝酸鹽的濾液及含銅及鐵等氧 化物及氫氧化物沈澱物的濾餅。 . 3 7、如申請專利範圍第1或3 6項的剝錫鉛廢液之 , 處理方法,該含硝酸鈉、硝酸鉀的濾液經蒸發結晶製得硝 酸鈉、硝酸鉀晶體。 3 8、如申請專利範圍第χ或3 6項的剝錫鉛廢液之 處理方法,該含鋼及鐵等氧化物及氫氧化物沈澱物之濾餅 — 以稀硫酸液溶解後,利用萃取法製得硫酸銅、硫酸亞鐵、 硫酸鐵。 — 3 9、如申請專利範圍第1或3 δ項的剝錫鉛廢液之 處理方法,該含銅及鐵等氧化物及氫氧化物沈澱物之濾餅 以稀硫酸液溶解後,利用置換法製得金屬銅粉末及硫酸亞·· 鐵0 •,干。间矛_L或;j b工貝的剌蜴鉛廢液之 處理方法’ 5玄含銅及鍾^装t 鐵寺虱化物及氫氧化物沈澱物之濾餅 以稀硫酸液〉谷解後’利用雷念2 ^ 〜用電解逖原法製得金屬銅及硫酸亞 鐵0 23
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