TWI278019B - Lithographic apparatus and method for calibrating the same - Google Patents

Description

1278019 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置以及其校準方法 【先前技術】

μ 一微影裝置係-種將所要㈣應用至基板之目標部分的 機械1置。舉例而言，微影裝置可用於製造積體電路 (Ic)。在該種情況下，可使用一另稱為，，光罩，，或，，主光罩，， 勺U〜圖案化件來產生一對應於Ic之單獨層的電路圖 案，且可將此圖案成像於具有一層輕射敏感材料（意即抗 蝕劑)之基板(例如一矽晶圓)的目標部分(例 數個晶粒之部分）上。 1 α #。已知微影裝置包括所謂的步進器，其中每一目標部4 .稭由一次將一完整圖案曝光至目標部分來得到昭射，而4 所謂的掃描器中，每-目標部分藉由使用投影光束以給, 方向掃描方向”）掃描圖案同時以與此方向平行或反平+ 之方向同步掃描基板來得到照射。 个 本文使用之術語，，圖案化器件”應廣義解釋成涉及— :投影光束之截面中賦予其-㈣以在基板之目標部= 圖案的器件。應注意，賦予投影光束的圖案可不〜 對應於基板之目標部分上的所要圖案。通常，賦予〜 束的圖案將對應於待產生於目標部分中之 ：：夫 能層，例如一積體電路(IC)。 ”寺疋功 圖案化器件可為可透射或可反射。圖案化構件之實例勺 I03375.doc 1278019 括光罩、可程式化鏡面陣列及可程式化液晶顯示器（LCD) 面板。光罩在微影術中已熟知，且其包括諸如二進位型、 父互相移型及衰減相移型及各種混合光罩類型之光罩類 型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣排列， 可單獨傾斜每一小鏡面以在不同方向反射入射輻射光束； 以此方式，圖案化該反射光束。 微影裝置通常採用一動作控制系統。該動作控制系統包 含：一位置僧測器，其用於憤測基板台在至少-平面（即 乂、隹)内的位置’及一控制器，其經構造以用於依靠 位置伯測器提供之輸出訊號來驅動致動器/因為位置 器偵測基板台之位置且控制哭適 瓜、 仅利口口之週田仃為減少了偵測 及理想位置之間的差異，所以該動作控制 台位於正確位置宁沾叮—斗 干ί暴板 ^ 置（&的可谷许之範圍内）。因而位置#測 益及控制器形成-前饋及/或反饋控制系統之部分。、 ::當前微影裝置中’基板台(有時亦稱 圓平堂）之所要精確度係在奈米級之量級中。因此，= 此項技術之發展水平，要求 “康 度。此外，對位置她之要求同樣 ^^ a . . J樣呵’因為根據此項拮 術毛展^平，微影震置中的基板台可於二維、 在一覆蓋大約0.5 mx〇 5 m之平面 夕 忍即 器運作所需要之範圍包含大約〇5:’：：該位置谓測 項技術之發展水平，為達到該 …圍。根據此 -或多個干涉儀，較佳為一用於第置偵測器包含 垂直於該第—維之第二 、准的干涉儀及-用於 …儀。然而，該等干涉儀之 103375.doc 1278019 缺點在於其為一昂貴的位置偵測器。 此項技術之通常狀態中熟知的另一位置偵測其類型係一 種光學編碼器。該編碼器由一光源、一格栅及一偵測器組 成。藉由關於光源及偵測器移動格柵，由於例如反射及透 射產生了變化，因此在由摘測器接收的光圖案中產生了變 化。因此該格柵包含於自該光源至偵測器的光學路徑中， 且藉由移動該格栅，偵測器所接收之圖案產生了變化。自 遠等變化’可計算格柵關於該光源及偵測器之位移。可自 邊等位移及已知的開始位置計算一位置。如熟習此項技術 者將瞭解的，以上描述一種增量編碼器，熟習此項技術者 將热悉亦存在絕對編碼器的事實。 同在申凊中之美國專利公開案2002/0041380中描述了一 種特殊類型光學編碼器，該申請案以參考的方式併入本文 中。此光學編碼器包含一繞射型編碼器，其包含—經構造 以產生光束之光束產生、一筮 玍态 弟一格柵、一可關於第一格 冊移動之第二格柵及一經設置以傾測繞射於第一及第二格 柵上的光束之繞射光束的偵測器，其中兩個格柵中之一‘ 機械地連接至基板台，而另一 不。栅柃械地連接至微影裝置 之參考基座’基板台之移動引. ,, . 軔W起弟一格柵關於第二格柵移 動，且運行中引起繞射光束的變化。 已知微影裝置包含一用於柝岳 用於技制基板台移動之動作控制系 統。在動作控制系統之控制之下， △ 土板口可在至少兩個方 向中移動。基板台之移動應理解 万 梦么立 鮮成基板台關於投影系統之 矛夕動，思即基板台的移動導夂 ¥致圖案化輻射光束關於該基板 ^3375.010. 1278019 台的移動。 【發明内容】 本文所體現及廣泛描述的本發明之原則提供_種校準在 具有;:照明系統之微影裳置中之輕射感測器的校準裝置。 二“:例中’該裝置包含-經組態以固持基板的基板固 接：、-經組態以調節轄射光束的照明器、一經組態以支 、：所要®f賦^輻射光束之圖案化器 =化光束投影至基板之目標部分的投影系=構經 L以控制基板台之移動的動# 勁制糸統，該動作控制系鲚 偵測基板台位置的位置偵測器。該等複數個位 哭以提:至?至少二個偵測器包括一單維或多維光學編碼 個位置值’該等光學編碼器於三維座標夺 統中之不同位置|禹技$ I ^ 基板台，且提供至少-位置值至該 置 ”動作&制糸統經組態以自六個位 场φ 個位置值的子集計算基板台在三維座桿夺 統中的位置，且自丄侗你恶从山 丛^糸 子隼舛曾其 、 之至少三個位置值的另一 集计^基板台關於三維座標系統之方位。 根據本發明之另一能揭 述&电s 心樣，美供一種用於校準根據任一前 边μ求項之微影裝置中的位 含·於七A μ 置1貝^的方法，該方法包 索…弟一參考標記矩陣的基板上產生—第一圖 Γ於包含—第二參考標記矩陣的基板上產生-第1 由.、， 第一*考私圮之矩陣與該第—參考伊 ρ ’判定第一矩陣之參考標丁 記之間的各自之位置偏差.…：：弟-矩陣之參考標 偏差，於才义準矩陣中錯存位置偏差。 J 03375.doc 1278019 乂本文使用之術語”投影系統，，應廣義解釋成包含 包括折射型、反射型、反射折射型、磁性：； :及：電光學系統，或其任何組合，只要其適於所使用的 *光輻射’或用於諸如使用浸液 ’ 術語，，投影透鏡，，之任何使用可認為與更通二 系統”同義。 何π杈衫 【實施方式】 實施例的微影裝置 圖〗不意性描述一根據本發明之 該裝置1包含： :照明系統（照明器）IL:用於提供輕射（例如紫外湖 或遠紫外線（EUV)輻射）之投影光束； :第-支持結構（例如—光罩台/固持器）Μτ :用於支持 益件（例如一光軍）财且麵接至第一定位機構ΡΜ以 關於元件PL精確定位圖案化^件； 力構ΡΜΜ 一基板台(例如-晶圓臺/固持器)WT :用於固持一 (例如塗覆抗钱劑之晶圓)貿且耗接至第二定位機構p二 於元件PL精確定位基板；及 、一投影系統（例如一反射型投影透鏡）pL :帛於藉由圖案 化器件MA將賦予投影光束叩之圖案成像於基板％的目猡 部分C(例如包含一或多個晶粒）。 ^ 如本文所描述的，該裝置係透射類型（例如使用一透射 型光罩）。或者，該裝置可為反射類型（例如使用—上述之 可程式化鏡面陣列類型，或使用一反射型光罩）。 該照明系統可包括各種類型的光學組件，諸如折射型、 103375.doc •10- 1278019 反射型、磁性、電磁、靜電或 任何組合，以導向、成形或控制輕射广干組件’或其 該支持結構支持（即承載）圖案化器件之重旦1 於圖案化器件之方位、微影裝置之設計==取決 件是否被固持於真空環境中之其它停==圖案化器 化器件。該支持結構可使用機械、真空、靜；==案 圖案化器件。舉例而言，該支; 或台，其可按愛亚僻J兩框条 J杈而要為固定的或移動 圖案化器件在所要的仂署,, 3又持九構可確保 也”主并置”十 例如關於投影系、統。本文中術 :主先罩或"光罩，，的任何使用可認 案化器件，，同義。 、带π衡，口圖 ::景:裝置可為具有兩個(雙平臺)或兩個以上基 /或兩個或兩個以上光罩台)的類型。在該等

中，可平行使用額外之台，或可在 L 步驟而—或多個其它台正用於曝光/戈夕個里上執行預備 ㈣影裝置亦可為一種其中將至少基板之一部分由例如 水之具有相對高折射率的液體來覆蓋，以填滿投影系統盘 基板之間的空間之類型。浸液亦可應用於微影裝置中之； 它空間，例如於光罩與投影系統間。浸沒技術於增加了投 影系統之數值孔徑的技術中為熟知的技術。本文使用之術 語"浸沒”不意謂—諸如基板之結構必須淹沒在液體中，而 是：意謂曝光過程中將液體定位於投影系統與基板之間。 /看圖1 '、、、明益1L自輻射源SO接收輻射光束。舉例而 言’當該光源為—準分子雷射器時，光源及微影裝置可為 103375.doc 1278019 單獨的實體。在該等情況下，認為光源不會形成微影裝置 的部分，且輻射光束在光束傳送系統BD2協助下自光源 SO穿過而傳至照明器IL，該光束傳送系統3〇包括（例如）適 當導向鏡面及/或光束放大器。在其它情況下，例如，當 光源為汞燈時，光源可為微影裝置之整體部分。光源§〇及 照明器IL，以及光束傳遞系統BD(若需要）可稱為輻射系 統。 照明裔IL可包含一用於調節輻射光束之角強度分佈的調 節器AD。通常’至少可調節在該照明器之光瞳平面中的 強度分佈之外不及/或内部輻射範圍（通常分別稱為σ外部及 σ内σ卩）此外，妝明斋IL可包含各種其它組件，諸如積光 态IN及聚光器CO。該照明器可用於調節輻射光束，使得 在其截面上具有所要的均一性及強度分佈。 幸田射光束B入射至固持於支持結構（例如光罩台mt)的圖 案化器件上（例如光罩MA)，且藉由該圖案化器件來圖案 化。輻射光束B橫穿光罩“八後穿過投影系統“，該投影系 統PS聚焦光束至基板〜之目標部分c上。f晉助於該第二定 位σσ P W及位置偵測器IF(根據此項技術的發展水平，其為 例如一干涉器件、線性編碼器或電容式感應器、根據本發 明以下將描述之類型.的光學編碼器），可精確地移動基板 台WT，（例如）以將不同目標位置c定位於輻射光束6之路 徑中。 相似地例如在自光罩庫機械擷取後或在掃描過程中， 第疋位态PM及另一位置偵測器（圖1中未明確描述）可用 103375.doc 12 1278019 於關於輻射光束B之路徑精確定位光罩MA。該定位器、位 置偵測态及控制器包含於一動作控制系統中。該控制器經 建構及程式化以基於表示一所要位置的訊號及一表示實際 位置之位置偵測窃的輸出訊號來驅動該定位器。奋動作控 制系統可形成一前饋或反饋控制迴路。大體而言，光罩台 M丁之移動可認為是借助於形成第一定位器pM之部分的長 衝程模組（粗定位）及短衝程模組（精定位）而實現的。 相似地，基板台WT之移動可認為係使用形成第二定位 器PW之部分的長衝程模組（粗定位）及短衝程模組（精定幻 而實現的。在步進器的情況下（相對於掃描器），光罩台Μτ 僅可連接至短衝程致動器’或被固定。可使用光罩對準伊 請、M2及基板對準標記？1、p2來對準光罩MA及基板 W。雖然所說明的基板對準標記佔據專用目標部分，但是 可疋位於目；^ σρ分之間的空間（其已知為切割道對準护 記)。相似地，在於光罩ΜΑ上提供多於一個晶粒之情： 中’光罩對準標記可定位於晶粒之間。 所描述之裝置可用於下列較佳模式中·· 步進模式：光罩台⑽及基板台WT大體上保持固定 將賦予投影光束之整個圖荦一 而 單_碎能-人杈衫至目標部分C上（意即 Τ祕先)。基板台WT接著在顺Υ方向上移動以 曝光不同目標部分C。在步 u 限制了在單一靜態曝光中所A4 取大尺寸 尤干所成像之目標部分C的尺寸。 知描模式··同步掃;^出Μ ϋ田先罩台ΜΤ及基板台WT，而將賠二 投影光束之圖案投影至 、'武予 又〜至目標部分C上（意即單一動態 103375.doc 1278019 pT之。：板台”相對於光罩台MT之速度與方向由投影系統 大率（縮小率）及影像反轉特性來判定。在掃m 中，曝光場之最大尺廿"， κ 田杈式 (在非掃扩方Λ卜、制了早-動態曝光中目標部分 方向)之寬度，而掃描運動之長度判定了目棹部 刀（在知描方向）之高度。 ” # 其匕拉式·光罩台Μτ大體上保持固定地 化圖案化器件，且妒杂十行 』私式 光束之Η荦” 板台WT’並將賦予投影 過至目標部分c。在此模式中，通常在掃描 土反D WT之每一移動後或連續輻射脈衝之間可 :要採用一脈衝輕射源並更新該可程式化圖案化器件。此 作核式可易於應用於利用例如上述之可程式化鏡面陣列 員型之可程式化圖案化器件的無光罩微影術中。 可使用上述所使用之模式的組合及/或變化或 不同的模式。 在此况月贸中’希望所使用之術語：方向、維及軸係關 於一個及同—座標系統。此外，術語位置值應理解為意謂 著位置偵測器之一輸出訊號，該輸出訊號代表一位置。 圖2a展示根據本發明之微影裝置之位置價測器之實施例 的示意圖。圖2a描述該偵測器之一維圖。該位置偵測㈣ 包含一第一格柵§1及—第二格柵g2。該第一格柵“及該第 一格栅g2相互平行而定位。該位置偵測器進一步包含一產 生光束LB之光源S。入射於第一格柵“上時，光束產生由 DIF1示意性表示之繞射圖案，因而產生一繞射光束^^6。 4 %射光束再一次於该第二格栅該g2上產生一繞射圖案， 103375.doc 1278019 該光束之部分入射輻射 ..sc "射，口同一路徑（由DLB、LB表示）傳回 尤源S。 為偵測所接收之繞射輻射， ^ T c , 耵先源與感光器LS組合，該感 光為LS偵測被繞射兩次 4 < #田射，意即於第一格柵gl及第二 才。柵g2上繞射兩次，且該 二 知射精由感光器來接收回。基板 口 WT之移動發生時， Μ弟秸柵gl關於該格柵g2移動。 此圖2 a中描述之實例中 T之此私動發生於X表示之方向中。 依據由X表示之方向中 卜 a.L 、私動，在該第一格柵及該第二 。冊上之光束LB的繞射圖宰 ^ T c 口茶將產生變化，由此引起由感光 口口 LS接收回之光的變 °亥第一格柵及該第二格柵關於彼 此移動等於格栅間距 ^ ^ ^ 距離時，將產生一相同繞射，因 彼將!妾收相等$之輕射。因此’棱據兩個袼栅關於 :w繞射圖案之週期性變化將引起由感光㈣接收 回之輪射的週期性變化。 -立&丄 化在圖2&中，該等格柵藉由線條來 不思性地表示，此為一 1:1馮早維位置偵測器提供一妥善解決方 法0 可將關於圖2a之以μ姐-μ 印 上揭不的位置偵測器描述為一維編碼 二。以下描述之實施例將使用-維及二維編碼器。 4、'扁碼$或位置谓測11可藉由使用兩個關於圖2a描述之 早獨位置伯測器來產生，由此每一位置谓測器包含—第一 格巍-第二格柵之集合。然而’在另一實施例中，可使 用早個二維位置偵測器。在該二維位置偵測器中，一普、甬 格柵之集合係用於兩個位置偵測器，每一用於偵測格柵之 移動的mi於該轉度之不㈣-個維度。 J03375.doc 15 1278019 j似驭雨個以上各包 碼器集合使用普通袼柵集合。、 /原及一感光器的編 剛，該等袼柵不僅包含_ σϋ為在夕於一個維度中執行量 包含一在兩個方向包含線ΡΜ之線條’而且該等袼栅 於第-方向。3線條之拇格，第二方向較佳為垂直 或者，該格栅亦可組態為所謂的,,棋般 圖案中’為偵測心方向中 一一圖案。在該種 包含兩個光源S及兩個残光哭Ls\ 一個二維位置價測器 叫从尤态LS，1中一 Φ、、店η ^ 之組合偵測Χ方向中的位 “、一感光器 乂占， 7位私，而一光源及一碭并哭夕4人 偵測y方向中的位移。 以先為之組合 另一種可能為使用_ 柵执夕 、、隹柵袼。圖2b示意性描述了三個此 柵袼之可能的配置。一 一個此 柵U、14。第二配()包含兩個單獨的-維格 一維袼柵16、18。黛-耐们一維袼柵之 2〇 配置（C)展示一個二維柵袼处構 :。使用二維袼柵時，光束之垂直入射( ：= 直於X及z方向）可楹根一加 r衣不之垂 ’、個一維繞射。圖2b之配置A中， R —單獨格柵至每—維度。配置⑽示一個 光束可於其上繞射於兩個平面中：第—平面包含: (如圖示垂直於X及Z方向)及料，第二平面包含法; m置c展示—可用作一繞射圖案之二維柵格結二 、，2特指二維栅格結構之另一方位。此栅格結構可於以 下平面中引起繞射··包含法向矢量及χ軸之平面一、勺人 法向矢量及Ζ軸之平面二、包含法向矢量及 3 + 4S命^ W成小於 &及-45度的向量且設置於χζ平面中的平面三 一及平面 103375.doc -16- 1278019 使用 该等不同配置（A、B、c)可於 一-維栅袼亦可用作為干涉儀之反射目標。在該組態中， 、准或—維位置偵測器可為相同目標而運作。 之、=柵袼可包含在與光源之入射波前相關的不同位準處 之或兩個反射表面。使用編碼器時，通常選擇第一與第 二反射表面所反射之光之間的光徑長度的差異為四分^一 ^長以減少零階反射。二維柵格可作為平面鏡干涉儀系 ^反射為，只要藉由第一及第二反射器表面反射之零階 =直入射光的干擾並非完全破壞性且具有足夠強度以驅動 先藉由變化柵格之第一與第二反射表面之間的距離， 八 不同波長或改變柵袼像素區域的尺寸，可得到一組 口使件平面鏡干涉儀之干涉儀光束的反射引起一充足的訊 2調變、’使得可债測垂直於光束之柵格的位移。同樣地， 干V儀編碼器組合可用於量測物件之位置。大體而言， 3干涉f編碼器組合可包含一個一維或二維編碼器、一光 1 ""及干涉儀系統，其中該一維或二維編碼器包含 #個一維或二維格柵（或栅格），且該干涉儀系統具有一經 "又置而將格柵應用為反射器的干涉儀光束。 ，參看圖2描述之位置偵測器IF包含一繞射型編碼器，該 光源s亦可稱為光束產生器，且該感光器亦可稱為偵測 器。 熟習此項技術者應瞭解，代替或除上述之繞射型編碼器 卜亦可使用其匕類型之編碼器。此外，在圖2描述之實 103375.doc 1278019

例中，雖然可使用-絕對編碼器，但是位置 一增量編碼器。 』口口 ^包S 以下將變得更加清楚，上述之繞射型編 .該等格柵件之間的距離，意即沿圖2中2 ^占在於 離，可於此特殊類型編碼器中在 向的距 4曰甘此，a 大乾圍内改變，因此使 侍”特別適於與基板台一起使用， 可於士的也Λ C + 係由於该基板台通常 、大、、々為0.5乘以〇·5米之平面内移動。因此 可相對於彼此定位於短距離内 …。栅 Φ十厘米甚或0,5m。 ^其亦可疋位於相距數 因為基板或晶圓臺WT之位移範圍非常大，所以如參看 =圖3a和圖3b所說明的’繞射型位置偵測器可用於不同 ㈣之：維及二維編碼器中。假定晶圓讀可在由座：χ 板:界在二千面内移動’則繞射型編碼器可應用於偵測基 方向中的移動。該繞射型編碼器可應用於一組 :中’其中圖2中之方“對應於讀，而由z表示之方向對 _應'於（例如）垂直於晶圓臺w丁之移動的x_y平面的方向。 在另一實施例中，繞射型編碼器可能應用於一組能中， 其中圖2中表示之方向z對應於X轴或y軸。在該種情^下， 由2表示之方向中之位移可與晶圓臺资之移動範圍一樣 大。在該種情形下，不能容忍格拇§1與以之間距離變化的 繞射型編碼器之特徵成為顯著的優點。 不同實施例可獲取包含與—平面鏡干涉儀組合之一或兩 個繞射型編碼器的二維或三維位置量測單元，其中一個二 維柵格用作反射目標。圖2c示意性描述-在XY平面中的6 103375.doc 1278019 DOF(6自由度）量測組態。在此實施例中，位置偵測器ρι、 P2及P3連接至基板平臺之側面，i目標連接至平臺周圍的 參考框架。位置偵測器（或感測器）？1及？2可設置於基板台 之側面1上，位置偵測器（或感測器）p3可設置於側面2上。 如所不，位置偵測器P1致能x、z維中基板台之位置量 測，位置偵測器P2致能y及z維中基板台之位置量測，位置 偵測器P3致能X維中啓用基板台之位置量測。同樣地，感 測器P1之目標可為致能乂及2維中位置量測的二維栅格， 同時為了在Y方向中執行位置量測，該栅格設置為上述之 反射器。感測态p2之目標可為例如一編碼器柵格，其經設 置以里測基板台之Z位置，且進一步經設置以將光束反射 至感測器p2以量測γ位置。感測器p3可包含例如一平面鏡 干涉儀，同樣地，感測器p3之目標可為一編碼器柵格（如 上述）或一反射平面鏡。在所示之配置中，與感測器共同 運作之柵格及該等感測器可大體上設置於同一 χγ平面 中。或者，該等感測器可連接至一參考框架，而組合之編 碼器及干涉儀栅格可連接至基板平臺。 圖2d示意性描述一包含三個二維量測頭ρι、？2及^之6 D〇F垂直組態的可能實施例。該等量測頭可設置為與一反 射二維柵格共同運作，該反射二維柵格可（例如）連接至參 考框架，其設置為鄰近該量測頭配置之頂面丁。如圖“所 示可叹置忒等®測頭及柵格使得每一讀取頭可提供關於 Z方向及另一方向（X或Y)之位置資訊。同樣地，該二維柵 格用作為一反射表面使得可藉由量測頭來接收反射光束， 103375.doc -19- 1278019 以提供關於z位置的位置 Y)的位置資訊。 貝讯。可獲取關於另-方向(X或 為進一步增加位置偵 可包含-由低熱膨脹材料製Μ: ’位置偵測器之袼栅 瓷。此外，該等格栅可包人、之：#乂佳包含玻璃或陶 道，該液體循環系統包含二=至—液體循環系統之通 用於液體之溫度來轉定…糟由在液體循環系統中作

式，可釋定乂之溫度的熱穩定單元。以此方 八 了 ％疋格柵之溫度，音 乃 來加熱或冷卻袼栅。 胃’之體循锿系統中之液體 將參看圖3a及圖3b來描述根 測器之微影裝置的有利組態。 例可使用上述之繞射編碼器， 器〇 據本發明包含複數個位置偵 參看圖3a及圖3b描述之實施 儘管可使用其它類型的編碼

圖如苗述-基板或晶圓臺WT之俯視圖。此實施例中之 晶圓臺wt包括五個(5)位置谓測器pi_p5，較佳為上述之編 碼器類型。晶圓臺资包含一第—側面，圖h中由㈣丨表 不違第-側面’其大體上平行於座標系統之X轴。晶圓臺 WT進一步包含一第二側面’圖3a中由Side 2表示該第二側 面，其大體上平行於座I系、统之㈣。晶圓臺资進一步包 3第二側面，圖3a中由Slde 3表示該第三側面，其與該 第一側面相對且因此也大體上平行於χ轴。 將第一位置偵測器Ρ 1及第二位置偵測器ρ2耦接至該第一 側面之中心的兩側。該第一位置偵測器ρ丨包含一個二維編 石馬器且經設置以量測X維及Ζ維中晶圓臺WT的位置（由此提 103375.d〇c • 20- 1278019 供X及z維之位置值），其中2維垂直於乂及7維。該第二位置 偵測器p2組態成一個一維編碼器且其經設置以量測z維中 之位置。 程式化一動作控制系統（圖3a及圖扑中未展示），以自第 一位置偵測器pl之輸出訊號判定晶圓臺w丁在义維中的位 且自第及第一位置偵測器p 1及p2之輸出訊號判定晶 圓臺WT圍繞y軸的旋轉。

才似地第一位置偵測益p3及第四位置偵测器p4連接至 該第，：面之中心的兩㈣，圖3甲由Side 2表示該第二側 口。 π亥第一、扁碼器p3組態為一在y維及z維中的二維編碼 益’同時第四編碼器p4為一在2維中之一維編碼器。 该動作控制系統自該第三位置偵測器p 3之輸出訊號判定 y維中之位置，且自該第三及第四位置價測器p3、p4的組 合之輸出訊號判定晶圓臺w τ關於x軸的旋轉。 一弟五位置偵測器p5機械地連接至圖3中由Side 3表示之第 二側面，且經設置以量測晶圓臺WT在X維中的位置。程式 系統以自第—及第五位置偵測器pi、”之輸出 〜仔日曰圓里W 丁關於2轴之旋轉。除參 其若干變化亦為可能的，可將—置放於與第 置：及Τ,對之曰曰圓$…丁之側面處，可改變P3及p4的位 置’及其類似。 …’位置編P1_P5提供總共七個輸出訊號，意即 位置值及P3各提供兩個位置值（各為二維編碼器），而 P P4及P5各提供一個位置值（各為—維編碼器），且該動 I03375.doc 21 1278019 作㈣系，使用此等位置值來計算位置及方位。 及弟一位置偵測器’且類似地第三及第二位置偵測 益可使用同—格柵。因此，兩個格柵之一集合由第一及第 一位置摘測器共享，而兩個柊 隹入山μ 置偵測器共享。嫩栅之-集合由弟三及第四位 實際實施例中’晶圓臺於心維(意即沿基板表面 =面）中移動之範圍將大於或大體上大於垂直於維 方向(意即Ζ維)中移動之範圍。因此，由兩個位置雜 歹1 Μρ2 ’或Ρ3及Ρ4)共享之格栅將具有-沿X軸（pi、 P2)或y軸（p3、p4)之較大雉谇 一 大、’隹度’’然而因為沿z軸之移動的範 圍較小，所以沿2軸僅要求—較小維度。 此外’在一實際實施例中，將在維中校準（例如使 用一校準矩陣）該等編碼器。 b係因為z方向中移動的範圍 罕乂小，編碼荔之固有校車4生 仪旱和確度為足夠的，因此通常免除 增加精確度之校準。 〃 對於增加之精轉度，骑全 、迪1可此地为開該等位置偵測器對 P!、p2 及 p3、p4。另 一 士工 面，牦加此等位置偵測器之間的 距離將要求與該位置偵 、 、、态對相關之格柵的X方向（P1、P2) 或y方向（p3、p4)中長度的择 η 避免減少該位置偵測器 對中（且因此晶圓臺WT之、梦氣—m — 之）私動之可用乾圍。因此，實施中 可要求此等要求之間的折衷。 此外’可能省略位置伯、、則哭、w , a ^ p在晶圓臺w丁靠近其最 右位置時，此導致減少 扣確度。此係由於因為P3以及P4 之格栅之間的距離增大， 所以最右位置之P3及p4的精確度 103375.doc -22- 1278019 'Λ Ί _描述根據本發明之另—實施例之晶圓臺资及複數 個光學位置谓測器的俯視圖。圖财，可移動晶圓臺资 展示為在其中心位置（意即在關於第一、第二及第三維中 任一維中移動之範圍的中心中）。在此實施例中，第一位 置偵測liplO連接至晶圓臺资之第一側面以心i。該第一 側面Side 1大體上平行於第一維。 第一位置偵測器Pl0包含一設置成提供第一維⑻及第三 維（z)中位置值的二维迫 叩 以 、准編碼益。第一位置偵測器P10之格柵 W沿第—側面㈣1之長度延伸。格柵_機械純至晶 圓跟隨其移動。當晶圓臺WT在其中心位置時，較 仏疋位该弟一位置偵測器P10或至少其光源(圖3b中未詳細 展示二者）以將光束導向至柵格_之中心。因此，可使得 沿X轴位置中的聽番A、 •)耖動乾圍較大。即，可使得該移動等於第 側面_ 1的長度，而光源及光學偵測器於全部移動範 圍中與格柵gl〇在運作中相聯繫。 夕動乾 位置债測器Pl0較佳包含如上述之繞射型編碼器，且因 此可包含-不跟隨晶圓臺资移動之第二格拇（未展 立 即該第二格柵關於其為固定的。 思 圖3b進一 一 /展不-弟二位置偵測器Pll ’其在大體上垂 直於弟-側面之第二側面驗2處。該第

組態為一包括一加功 J ^PU 括一柵格的二維編碼器，且該第二位 測裔p 11提供一 *健 1貝 ’、在弟二維（y)及第三維〇)中之位置訊號。 又’圖％展示一在第三側面Side3處的第三位置偵測器 I03375.doc -23 · 1278019 pi2。該。第三位置㈣器pl2組態為—包括—柵格扣的二 ^、扁馬叩且4第二位置摘測器P12提供-在第_維（χ)及 第三維(Ζ)令之位置訊號。同以上關於第-編碼器gH)之所 述亦應用於第二及第三編碼器。 設置該動作控制系統（圖3b中未詳細展示）以自由第一、 第二及第三位置侦測器plG、p^pi2提供之位置值來計 异晶圓臺WT在三維座標系統中所有三個維度的位置及方 位:意即基板台WT關於所有三個維度的旋轉位置。 “ ά在大體上平行於第二側面的第四側面swe 2處 提供另一第四位置偵測哭n M。#綠 罝H pl3。该弟四位置偵測器組態為 可見）時，該第四編碼器特別有用，此係由於在該位置 光源與第一位置偵測益p】}之間的距離以及光源與第 二位置偵測器的柵格gll之間的距離為其最大值或接近最 大值，由此減少了第二位置偵測器pll的精確度。 一包含一柵格gl3的二維編碼器，且其提供一在第三（z)維 中的位置訊號。當晶圓臺w,近其最右位置(如圖中平面 在该位置中，一方面光源與第四位置偵測器pl3之間的 距離以及另一方面光源與第四位置偵測器之柵格g13之間 :距離為其最小值或接近最小值。因&，在晶圓臺wt的 取右位置或靠近該最右位置處，第四位置偵測器pi3的精 確度不會惡化。另一影響為晶圓臺WT愈向其最右位置移 動，Pi、P2及P3的位置訊號愈會提供成一條線的位置，而 非在形成二角的二點（其為有效點，在此點上pl丨量測一移 動至圖中平面之右端的位置）提供位置，因此降低了動作 103375.doc -24- 1278019 控制系統自P10、p 11及p 12的z位置訊號判定多維資訊的能 力。因而’動作控制系統將較佳將相對較多的權重給予接 近基板台最右位置之第四飨派契、 罘四、、扁碼為P13的位置訊號，而將較 少權重給予p 11所提供的z位置訊號。 圖3a及圖3b中描述的組態能夠利用最小數量之位置谓測 器來量測所有自由度中(意即在維，以及X”及z 軸周圍的方位’即關於χ、7及z軸的旋轉位置、曰曰圓臺貨丁 之位置。此外，如上根據圖2所解釋的，在根據本發明之 微影裝置中使用的編碼器不僅在量測方向中（圖2中由X表 示）允許的位移範圍較大，而且在垂直於量測方向的方向、 中（圖2中由z表示）允許的位移範圍亦較大。 如圖3a及圖3b中所述，在實際實施例中，晶圓臺WTh 方向中具有大約〇·5 m的移動範圍，且在丫方向中具有大約 U m的移動範圍。至少對於位㈣測器pi於此移動範 圍引起該特定偵測器之格柵之間關於彼此之距離的可能範 圍（意即根據圖2之距離z的變化）大約為〇5出。因為上述之 繞射型編碼器可於該等格栅之間的大範圍距離上精確運 作’所以根據圖3a及圖3b所述之組態可在所述的移動範圍 上精確運作’因此可自此類光學編碼器之特殊優點得只。 ^圖域圖3b中展示之例示性實施例提供本發明之態樣 的右干只例，但可能有多個變化。動作控制系統可包含專 用硬體及/或可包含一適當程式化的可程式化器件，諸如 微控制器、微處理器等。 座標系統可包含任何直角或非直角座標系統。因為座標 I03375.doc •25- ^278019 丁、、、苑為非’貫體存在，’， 即每.ΛΛ j目由运擇座標系統之維度（意 P母一軸的方向)以滿足本案中設定的要求。 本灸明之另一貫施例中 t的-雜„ σ 似[〜衷置包含一在x-y平面 編碼哭^ 心方向令的移動範圍較大，該 、、扁碼态的袼柵可較大，在實 的大丨^ 隹Μ ^貫轭例中大約等於基板表面 J、。因為袼柵干擾圖案化的輻 此訾浐A丨山 干田〜^來係不當的，所以 此貝她例中之編碼器將定 此右4仏 孓丞扳σ之基板區域旁邊， 此有效地將基板台的大小大約加倍。 因 =步增加上述之任何實施例中之該等編碼一 、、扁碼裔的精確度，校準該 正值或係數）可儲存於^唯(t扁碼^校準值（例如位置修 τ 、（ ^ /口—線提供位置校準）或多維 一平面或多維空間提供校準）校準矩陣中。因為 ::: =編碼器中誤差的相對較大的源，而諸如熱穩 ^ ^ , 啫如使用上述之低熱膨脹材料之其 構件來抑制’所以校準有效地增加了精確度。 此刻將參看圖4描诚用认ρ、、仕 ;^父準根據本發明之微影裝置中 之位置備測器的方法。 w . 在任矛力100中，使用一參考微影裝 置在基板上產生一第一圄查 墙 图案’ 5亥第一圖案包含參考標記之

第 矩陣。接著，在任子欠1 Π 1 rH ^ ^ 任^ 101中，使用包含待被校準之位 置偵測器的微影裝置在同一 一 J 基板上產生一第二圖案，該第 一圖本包含參考標記之第二矩陣。 ^任務102中’比較參考標記之第二矩陣與參考標記之 弟—矩陣、。’若此步驟中谓測到參考標記之第-與第二矩陣 勺7〇美匹i己貝“亥程序之步驟提供一完美匹配，意即 103375.doc •26- 1278019 不需要修正。然而，通當 第二矩陣之A#。 一巨陣之參考標記與對應的 荽蔣仿罢伯、， 疋4置偏差’見任務1 03。接 者將位置偏差儲存於校準矩 置偏差，gif Μ , 中（任泰104)。若未觀測到位 ,1將-個零值儲存於校準矩陣，。通常， 獨的弟"一 Stl Μ — Ατ; ηώ J.L· ^ 丰、—矩陣的*考標記重複任務⑽⑽，但有 ㈣寻ν驟為複數個參考標記而平行地執行。 利用根據本發明之方法， J屋生大里的各種微影裝置間 的匹配。麥考微影裝置 ^ 衣置J於％對項中經受校準，但 能苓考微影裝置未庐取古痄 4取以精確的絕對㈣。根據本發明 之方法引起具有待被校阜 仅旱之位置偵測器的微影裝置與參考 微影裝置之間的高度匹配·忾旦，姑4^ ^ 门又已配·镟影技術中，各種微影裝置之 間的匹配通常比該等裝置之每-裝置的絕對精確度更重 要。 根據本發明之方法亦W座田 心乃凌亦可應用於一單個微影裝置中，音即 第二微影裝置即是第一微影裝置。在該情況下，第二圖幸 錯由^體上將基板旋轉90。或⑽。來產生，第二圖案係由相 同曰曰圓上之參考標記之相同矩陣來產生。藉由大體上旋轉 9〇。’可獲取所謂的山或山的校準。藉由大體上旋轉 1 80可利用根據本發明的校準方法來達到位置誤差的平 均值。 又’使用-單個微影裝置時（意即該第二微影裝置為第 =微影裝置）’在產生第一圖案後且在產生第二圖案之 前’可使用一種所謂魚骨技術，將基板或晶圓平移大於大 體上一參考標記之距離或複數個參考標記之距離。在理想 103375.doc -27· 1278019 情況下，以此方式將該第二圖案關於該第一圖案移動—參 考標記之距離。 藉由比較第二矩陣之適當參考標記與第一矩陣之參考標 纪，可獲取兩個矩陣之參考標記之間的位置偏差。此位置 偏差儲存於校準矩陣中。使用與上述之校準方法之實施例 相反之魚骨技術，與基板之表面區域相比較，圖案通常較 〆】、〇 使用本案中較早描述的實施例，可應用例如l〇〇xl 〇〇參 考祆5己之矩陣，而使用魚骨技術可應用例如3x3參考標記 或4x4參考標記之矩陣。如上述之魚骨校準之步驟僅覆莫 絲表面之小部分。㈣，使用微影裝置在基板上產生= 多圖案，每一圖案關於先前之圖案平移越過大體上 夕 個參考標記之距離。 5夕 以此方式，彳執行逐步的校準：Λ較一圖案之參考標記 與先前圖案之參考標記；判定該等參考標記間之位置二 將其儲存於校準矩陣之適當位置。熟f此項技術者 :、，使用魚骨技術要求_圖案之參考標記與先前圖案 =標記的重疊’因此實施中應用3χ3或4χ4參考標記之 巨陣時，平移越過大體上]、2或3個參考標記之距離。 八此外關於上述之變化，亦可藉由將位置侦測器安裝於包 於侦測基板台之位置的干涉儀位置谓測器之微影褒 準該微影裝置之位置谓測器，同時亦可校準上述 另::：。該編碼器可使用干涉儀來校準。又，如校準之 可使用以上述之任何方法來將判定至位置_ I03375.doc »28- 1278019 器之校準矩陣用作另一微影裝置中第二位置偵測器之校準 的起始值。已證明此為有利的，且提供良好起始點，此係 由於在實施中’特別是在相同生產批次中生產時，位置偵 測器間的匹配表現得較高。 雖然本文中微影裝置使用特定參考製造IC(積體電路）， 但是應瞭解本文描述之微影裝置具有其它應用，諸如製造 積體光學系統、磁域記憶體之導向及偵測圖案、平板顯示 器、液晶顯示器（LCD)、薄膜磁頭等。熟習此項技術者應 瞭解，在該等可選應用中，可認為本文中的術語，，晶圓，，或 ’’晶粒”之任何使用分別為更普通之術語，，基板"或，，目標部分，， 的同義詞。可在曝光之前或之後，可在（例如）執跡（一種通 常將一層抗蝕劑塗覆至基板且顯影已曝光抗蝕劑之工 具）、度量工具及/或檢查工具中處理本文提及之基板。在 可應用之處，本文之公開内容可應用於該及其它基板處理 /、此外了不止一次地處理基板，例如為產生多層 1C，因此本文使用之術語基板亦指已含有多個處理層之基 板。 雖然在光學微影技術中’本發明之實施例使用特定泉 考，但是應瞭解本發明可用於其它應用中，例如壓印微影 術及情況允許之處，並不侷限於光學微影技術。在塵印微 影術中’目案化器件中之構形界定產生於基板上之圖案。 圖案化器件之構料麼至提供至基板之抗_層上，該基 板上抗蝕劑藉由應用電磁輻射、加熱、加a或其組合來： 化。固化抗蝕劑後，將圖案化器件移出抗蝕劑，且在其中 I03375.doc -29- 1278019 留下一圖案。 本文使用之術語’’輻射”及’’光束’’涵蓋所有電磁輻射類 型，包括紫外線（UV)輻射（例如具有或大約具有365、 248、193、157或126 nm之波長）及遠紫外線（EUV)輻射（例 如具有在5-20 nm範圍内之波長），以及粒子束，諸如離子 束或電子束。 情況允許之處，術語，，透鏡”可指光學組件之各種類型之

任何一種或其組合，包括折射式、反射式、磁性、電磁和 靜電光學組件。 以上描述本發明之特定實施例 π胛不發明可不同於 所描述而實施。舉例而言，本發明可採取含有一或多個描 述以上所揭示之方法的可機讀指令序列的電腦程式之形 式’或絲一料該電腦程式的資料儲存媒體（例如半導 體圯憶體、磁碟或光碟）之形式。 4皿吕以上&述本發明之特定實施例，但是應瞭解本發明 亦可不同於所描述而實施。所描述之内容無意於限制：發 月相反地本發明之範圍由申請專利範圍來界定。 【圖式簡單說明】 圖1杬述一根據本發明之一實施例的微影裝置； 圖2a回度不意描述根據本發明之微影裝置 的例示性實施例； 尤予編碼為 圖2b示意描述三個可能之H格^ 0 2 c不意描述一句八 了 ,

s 一干涉儀編碼器組合之第一 6 n 量測組態； $ & DOP 103375.doc -3,0 · 1278019 圖2d示意描述一包含一干涉儀編碼器組合之第二6 DOF 量測組態； 圖3a及3b各描述一根據本發明之實施例之基板台及複數 個位置偵測器之組態；及 圖4描述一用於校準微影裝置之位置偵測器之方法的實 施例。 【主要元件符號說明】

12 格栅 14 格柵 16 格柵 18 格柵 20 棚格 22 栅格 AD 調節器 B 輻射光束 BD 光束傳遞系統 C0 聚光器 difl 繞射圖案 DLB 繞射光束 gi 格柵 gio 格柵 g" 格柵 gl2 格拇 g!3 格柵 103375.doc -31 - 1278019 g2 格柵 IF 位置偵測器 IL 照明器 IN 積光器 LB 光束 LS 感光器 Ml 光罩對準標記 M2 光罩對準標記 MA 光罩 MT 支持結構 P 格柵間距 PI 基板對準標記 P2 基板對準標記 P3 位置偵測器 P4 位置偵測器 P5 位置偵測器 P10 位置偵測器 PI 1 位置偵測器 P12 位置偵測器 P13 位置偵測器 PM 定位器 PS 投影系統 PW 定位器 S 光源 103375.doc -32- 1278019 side 1 側面 1 side 2 側面 2 side 3 側面 3 side 4 側面 4 SO 幸S射 源 T 頂面 w 基板 WT 基板 台

103375.doc -33

Claims (1)

1. l278〇l9 十、申請專利範圍： —種微影裝置，其包含： —經組態以固持一基板之基板台； I組悲以調節一輻射光束之照明器； —經組態以支持一將一所要圖案賦予該 案化器件的支持結構；

   ^κ圖木化光束投影至該基板之一目標部分的投影 糸統；及 重一=組態以控制該基板台之移動的動作控制系統，該 > 統包含债測該基板台之位置的複數個位置伯 ^ Ί等位置_器中之至少三個各包括-單維光學 =裔或多維光學編碼器以提供至少六個位置值，該等 2、、扁碼a在_個三維座標系統中之不同位置處柄接至 5亥基板台， :中為4二維座標系統之每一維提供至少一位置值，及 其中遠動作控制系統經組態以自該等六個位置值中之 :少：個位置值的子集計算該基板台在該三維座標系統 白之&置’且自該等六個位置值中之至少三個位置值 的另子集計算該基板台相對於該三維座標系統之一方 2·如請求項1之微影裝置，其中該動作控制系統包含一校 準陣列以校準該等位置偵測器。 •如μ求項1之微影裝置，其中該等位置偵測器包含： 一第一二維編碼器，其經組態以量測該基板台在該三 103375.doc 12/8019 維座標系統之-第一維及 石馬器機械I馬接至該基板台之一―巾的位置，該第-編 面大體上平行於該第_‘，# —側面’其中該第-側 第一 一維編石馬f 4 - / 之該第三維k j U I ^量測該三維座標系統 板台之該第一側面， 、，扁碼器機械耦接至該基 其中該第一及哕笛一 Μ W第一編碼器相 4分耦接至該第一4 于於§亥第一側面之中間 ^ 側面之相對部分，及 其中該動作控制系統自 該第一維中之—仂w η ώ 、、扁碼益之—位置值判定 位置’且自該第一一 置值判定爷其^ 及孩第一編碼器之位 』疋4基板台圍繞該第二 4·如嗜卡馆。 < 方疋轉。 口月求項3之微影裝置，其 含： 甲°亥荨位置偵測器進一步包 ,„楚一 :二維編碼器，其經組‘以量㈣基 維座標系統之一第-雉及該筮—输丄 碼器機械輪接至該基板台之—第二側面，…：：編 面大體上平行於該第二維， /、w弟一側 第四一維編碼器，其經組鲅 之該筮-从 心以里測該二維座標系統 柘Γ 中之—位置，該第四編碼器機械耦接至該A 板台之該第H 供至°亥基 y、中°亥第二及該第四編瑪器轉接 _ 於=第二側面之—中間部分的相對部分，之相對 該第統自！第三編瑪器之一位置值判定 ’中之—位置，且自該第三及該第四編石馬器之位 103375.doc 1278019 置值列定該基板台圍繞該第—維之_旋轉。 5.如請求項3之微影裝置，進一步包含： ." 、’隹編碼益，其經組態以量測該基板台在該第 …一 彳置5亥第五編碼器機械耦接至該基板台之 弟二側面之一虫办山 七够一， 末碥，该弟三側面大體上平行於該第一 、、隹且與該基板A# y . 兮〜 —側面相對，該動作控制系統自 : 及'^第五編碼11之位置值判定該基板台圍繞該第 二維之一旋轉。 二求項1之微影裝置，其中該光學編碼器包含： Μ:―二維光學編碼器，其經組態以提供在該三維座 :糸統之該第-及該第三維中的位置值 碼器轉接至該基 弟先子、，扁 平行於該第一維； ㈣，㈣-側面大體上 2二二維光學編碼器’其經組態以提供在該三維座 才示系統之該第二及 碼哭鉍姐 弟二維，的位置值，該第二光學編 平行於該第二維 4二側面，該第二側面大體上 側：第維光學編碼器’其轉接至該基板台之該第三 相對。4二側面大體上平行於該第一維且與該第-維 •如請2項6之微影裝置，進_步包含·· 的學編碼器，其經組態以提供該第三維中 、 5亥第四光學編碼器耦接至該基板台之一第四 側面，該第四彳丨 體上平行於該第二維且與該第二側 I03375.doc 1278019 面相對。 8.如請求項1之微影裝置，其中該光學編碼器包含一繞射 型編碼器，其包含·· 一經建構以產生一光束之光束產生器， 一第一格柵，及 -可相對於該第一格柵移動之第二格栅，及一經設置 Γ測'繞射於該第-及該第二格栅上之光束之繞射光 ^的偵測器，料格柵中之—格栅機械地連接至該基板 而另-格柵機械地麵接至該微影震置之—參考基 座， :中該基板台之移動引起第一格栅相對於第二格柵之 私動且運行中引起該繞射光束之變化。 I Si項8之微影裝置’其中該等格柵包含-由-低敎 知脹材料製成之盤。 …、、、 1 0 ·如睛求項8之微影步罟 、、夜Μ〜 其中^袼柵包含—純至- 元二％錢之通道，該液體循環系統包含—熱穩定單 产來；：於藉由在該液體循環系統中作用於該液體之溫 度木“定該格栅之溫度。 士口月求項1之微景多褒， 一位¥ #、 1 /、f °亥4位置偵測器中之至少 一夂、測器包含-個二維光學編碼器，其包含·· 動3柵’其機械㈣至該基板台以料該基板台之移 柵’該等光學_器中的每一者與該格 作以沿一不同維度偵測該袼柵之移動。 103375.doc 1278019 12·如4求項u之微影裝置 月办騰材料製成之盤。 其中該等袼柵包含一由一低熱 13. 二°:求項11之微影裝置’其中該等格栅包含-耦接至- :::環系統之通道，該液體循環系統包含一熱穩定單 “用於藉由在該液體循環系統中作用於 度來穩定該格柵之溫度。 體之，皿 14.

   種用於校準一位置偵測器之方法，其包含： 於包含一第一參考標記矩陣之基板上產生— 案；

   於包含一第二參考標記矩陣之該基板上產生一第二圖 案； 比較該第二參考標記之矩陣與該第—參考標記 陣； 定該第—矩陣之參考標記與對應之該第二矩陣之參 考標記之間的個別的位置偏差；及 # 於該校準矩陣中儲存位置偏差。 15.如晴求項14之方法，其中該基板在產生該第二圖案之前 大體上旋轉90度或18〇度。 16·如請求項14之方法，其中該基板在產生該第二圖案之前 大體上平移越過—或多個參考標記之距離。 17· —種微影裝置，其包含： 一經組態以固持一基板之基板台； 經組怨以調節一輻射光束之照明器； 一經組恶以支持一將一所要圖案賦予該輻射光束之圖 103375.doc 1278019 案化器件的支持結構； 一將該圖案化光束投影至該基板 系統；及 目軚部分的投影 經組態以控制該基板平臺或該 作柝釗$ w 得結構之移動的動 &制糸統，該動作控制系統包含 動 掊牡媸—/ 、 1貝，則该基板台或該去 、… 位置的複數個位置偵測器，发中j 器中之至少-個位置侦測器維係—干專位置偵測 苴和人_加 干涉儀編碼器組合， ”匕3—個—維或二維編碼器柵格、— 干涉儀，並中哕一維弋_他 先予感測态及_ 以作為巧、I; 碼11㈣1 續構且經設置 作為β亥干涉儀之反射目標而共同運作。 I8·如請求項17之微影裝 係安裝至9W 〃巾6亥干涉儀及該光學感測器 女衣至《板台或該切結構，且 # 編碼器柵格係設置於-參考框架上，、 或二維 19·如請求項17之微影 含至少-、，”中該等複數個位置偵測器包 二 :個干涉儀編碼器组合，各個組合包 格，—光學感測器及-干涉儀，其中該 之反射: = = =經建構且經設置以作為該干涉儀 該基板台或該支S’且其中該光學感測器係安裝至 格係安裝於-來考^且其中該一維或二維編石馬器栅 該基板台或料⑭王木上’使得可在6個自由度中判定 〇 5 ^寺結構關於該參考框架之位置。 103375.doc