TWI276471B - Nozzle arrangement - Google Patents

Description

1276471 ⑴ 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種噴嘴裝置，可應用於以一處理流體 對工件進行處理的情形，或藉由處理流體於一對應的處理 槽中處理工件。特別地，本發明是關於一種噴嘴裝置，可 應用於印刷電路板的濕化學處理之連續系統。

【先前技術】

已知有上述種類的噴嘴裝置。例如，這樣的噴嘴裝置 可應用於印刷電路板的濕化學處理之連續系統中，以便使 通過的印刷電路板達到最快速與最均勻的處理。因此，以 習知的方式來說，這類的噴嘴裝置會被設置在該印刷電路 板通過的水平高度之上方及/或下方，且斜對角地朝向印 刷電路板的流動方向。從該噴嘴裝置會噴灑出對應的處理 流體於印刷電路板的表面上，或是從噴嘴裝置吸收回去， 以便沿著印刷電路板的表面使處理流體達到固定與均勻的 交換。 在EP 1 187 515 A2號案中，揭示多數不同的噴嘴裝 置，藉由此連接關係組合起來，在此使用多數圓管’這些 圓管均具有不同的噴嘴形式。因此，這些噴嘴裝置可以具 有斜對角設置的狹縫噴嘴、成排配置的圓形噴嘴’或多數 軸向配置的狹縫噴嘴。 在D E 3 7 0 8 5 2 9 A 1號案中，使用狹縫噴嘴’藉由多 數對應噴嘴的可變狹縫寬度’可以調整個別媒介的流動量 (2) (2)1276471 與噴灑壓力。 在D E 3 5 2 8 5 7 5 A 1號案中，爲了執行水平通過的印 刷電路板中之孔洞的淸潔、活性化及/或金屬化，使用一 噴嘴，係位於印刷電路板通過的水平高度下方且垂直於流 動的方向，從該噴嘴處，將固定波形的處理流體輸送到通 過的每一印刷電路板之下方。此噴嘴是配置在一噴嘴外殼 的頂部，包含一具有入口噴嘴的前室（pre-chamber )， 此前室藉由一遮蔽罩而與噴嘴的內側區域之上部隔開。藉 由遮蔽罩的輔助，可以達成將處理流體分配到噴嘴上。在 狹縫噴嘴之前，噴嘴的內部區域係作爲該前室，以便產生 均勻的處理流體流動。 在EP 0 280 078 B1揭示一種噴嘴裝置，用以藉由對 應的處理流體，而對工件（特別是印刷電路板）執行淸潔 或化學處理。此噴嘴裝置包含一下進入箱及一外殼箱，藉 由下進入箱，處理流體可經由外殼箱底板中的孔洞而進入 外殻箱的內側。外殼箱具有一中央分隔壁，結合有兩穿孔 高度且上頭設置有狹縫，如此能使處理流體流向兩狹縫， 且經由這些狹縫而形成均勻的正弦波形。因此工件（特別 是印刷電路板的孔洞）會通過這些狹縫，且藉由文丘里效 應（Venturi effect)可確保密集的質量轉移。 在習知的噴嘴裝置，流體流動的速度在入口處是最大 的，由於在此位置會通過最大的流體容積。隨著與入口的 距離增加，流速逐漸下降，由於只有部分的處理流體會通 過過個別的噴嘴開口。除了現存的靜態壓力之外，還會在 -6 - (3) (3)1276471 噴嘴開□處導致堆積壓力與不均勻的流速，接著導致排出 的處理流體量不均句。 【發明內容】 本發明的目的是要提供一種噴嘴裝置，用以釋放一處 ί里流體’其中可以在噴嘴裝置的縱向上使處理流體達成相 當均勻的流速與流量。可以使噴嘴的剖面達到高度的精巧 ’以便在上述習知系統中僅需使用最小的空間。除此之外 ’零件數目與製造成本均可保持得很低。在所有排出開口 處’噴灑或流動的幾何學與噴灑方向均會相同。 本發明的上述目的，可藉由本案申請專利範圍第1項 或第5項所界定之噴嘴裝置而達成。附屬項的申請專利範 圍係用以界定本發明的其他較佳實施例。 本發明的噴嘴裝置包含一細長外殻，具有用以饋入處 理流體的至少一流體饋入開口及至少一流體輸送開口，該 流體輸送開口是形成於外殻中，用以將處理流體釋放到欲 處理的工件上。在外殼中，形成一流體通道，以便使處理 流體能從流體饋入開口輸送到該至少一流體輸送開口處。 最少一輸送開口的形狀是狹縫狀，或以均勻間隔彼此前後 排列成一排的圓孔。 根據本發明第一實施例’流體通道的剖面在外殼的縱 向上從流體饋入開口處逐漸縮小’如此可在縱向上及沿著 至少一流體運送開口使流體通到產生剖面的連續縮減。在 流體通道至流體饋入開口（或流體入口）的距離中採用這 -Ί - (4) 1276471 種流路剖面，則其中可以通過最大的流量，可以沿著噴嘴 裝置及至少一流體輸送開口之全長達成流速的平衡。 在縱向上具有相同剖面的外殼中，可以設置一縱向插 入件’其剖面從流體饋入開口在縱向上逐漸縮減，致使其 剖面可根據流體通道的剖面而減少。此插入件與流體輸送 開口的配置關係，最好是所有流體輸送開口均具有等長的 輸送通道。

然而’對於外殼壁的厚度來說，也有可能從流體饋入 開口處在外殼的縱向上之一或更多點上增加。

在噴嘴裝置內側的插入件亦包含大量個別的區段。這 些區段可以是置換器或穿孔體。以此方式，根據所需要的 長度’可以在每一噴嘴裝置上成排設置例如 6 0個上述部 件’具有不同剖面，或是設置具有不同內徑的碟片。這些 個別的區段可以採用膠黏、焊接或固定器而連接在一起。 流體的流動剖面會從流體入口的第一區段到噴嘴裝置的尾 端一段一段持續地減少。假如，其中一區段具有一輸送開 口，則在此區段中的儲存室可以是圓柱形而非圓錐形，如 此就能以很低的成本產生出階梯狀的流體通道。 根據本發明第二實施例，流體通道經由外殻縱向互相 隔開的幾個分配開口而相連通，這些分配開口的長度均不 同。假如在外殼縱向上，從流體饋入開口處開始，這些分 配開口的長度逐漸增加的話，則可能在噴嘴或流體輸送開 口處在噴嘴裝置的整個長度上達成處理流體的速度平衡。 孔洞或分配開口的不同長度會導致流動阻力的不同，因此 (5) (5)1276471 導致流速的平衡。 上述的分配開口可以全部具有相同的直徑。然而，同 樣地，也可以設計出具有不同直徑的分配開口。直徑改變 的決定性因素是在饋入通道中不同的流速及相關的不同壓 力條件。 根據另一實施例，分配開口可以在流體輸送路線上具 有不同的直徑，且這些分配開口可以具有相同直徑的尖底 擴孔。假如將這些尖底擴孔的直徑選定成相等的話，可會 使流動容積與輸送速度產生進一步的均勻。 上述的分配開口可以製作成一插入件，且對應於孔洞 的形式。插入件可藉由外殼中 U形固定器之助而固定起 來。 已經觀察到以下的現象，藉由流動的流體之動力，此 噴射流在開口通道的角落處不會輸送到流體輸送開口，但 會在處理流體流動的方向上斜對角地輸送。藉由增加輸送 通道的長度，可以減少這樣的效應。如此，同樣會在敏感 的處理製品上導致不均勻的處理結果。 假如在至少一流體輸送開口與流體通道之間，設置有 一儲存室的話，則以對應於上述插入件的凹口之形式是特 別有利的’如此可進一步分配壓力且減少動態力量。分配 開口在此一較佳實施例中之配置方式，能使輸送出來的流 體噴射彈跳在配置有流體輸送開口的壁上。然後，一旦噴 射流已經藉由流體輸送開口而轉向之後，在流向處理製品 或工件之前，噴射流會斜對角地轉向且彈跳至延磨過的插 (6) (6)1276471 入件壁上。 可以將流體輸送開口或處理流體的入口設置在外殻的 縱向側上。因此，對於此流體輸送開口來說，可以將其配 置在外殼的中央區段內。 流體輸送開口最好是以幾條狹縫的形式出現，這些狹 縫在外殼的縱向上間隔配置，可以具有相等的尺寸或不同 的尺寸。假如流體輸送開口被設計成幾排彼此偏移的狹縫 而在外殻的縱向上排列的話，這一點是格外有利的。取代 偏移的幾排狹縫，也可以使用幾排的孔洞。在此兩種情形 之中，均能緊貼著處理製品產生均勻的流動。 將流體輸送開口與處理製品之間的距離變成相等也是 很重要的，如此可使噴嘴裝置免於在處理流體的堆積或噴 射壓力之下產生彎曲，也可以避免製造過程中（例如焊接 )所導致的高溫或變形。藉由在噴嘴裝置上（或內）設置 縱向配置的金屬固定器也可以達成此所需的穩定性。 根據另一實施例，本發明的噴嘴裝置可以具有雙邊剖 面連續縮減的流體通道，如此在外殼的一側上，可以將一 防漏外蓋配置在此外殼上，此外蓋與外殼一起界定流體輸 送開口。根據此實施例，流體輸送開口特別包含多數狹縫 ’以間隔配置在噴嘴裝置的縱向上，且斜對角地朝著縱向 延伸’也就是在噴嘴裝置的寬度方向上延伸，如此一來， 流體輸送開口會在噴嘴裝置的雙邊上配置。因此，每一狹 縫或連接通道均能以一端連接至外殼的流體通道上，而以 另一端流入兩流體輸送開口之每一開口內。 -10- (7) (7)1276471 本實施例特別適合使處理流體在處理槽中產生均勻流 動。在特定處理中’例如空氣中的氧等物質可能會從環境 中被吸收之危險，則處理流體的流動就必須越遠越好，不 能形成會增加處理流體表面積的噴射或頂點。藉由本發明 的噴嘴裝置，在整個噴嘴裝置的有效總長上產生均勻、緩 慢的低流速，就可以達成上述目的。 最後的實施例可以結合上述實施例的特點。當然，最 後的實施例也可以不需要具有上述的儲存室或分配開口。 本發明的噴嘴裝置最好適用於水平生產印刷電路板的 濕化學系統中之流體噴嘴。當然，本發明並未侷限至此特 定的應用範圍，也可以被使用在淸潔或化學處理一工件時 所需之處理流體的噴嘴裝置，或者必須在處理流體的處理 槽中產生相當均勻的流動時。因此，在一般的情形中，本 發明可應用於需要均勻輸送處理流體的情形。 【實施方式】 圖1所示的噴嘴裝置特別適合作爲水平輸出生產印刷 電路板之鍍鋅系統的流路噴嘴，此種噴嘴裝置包含一主要 爲平行六面體狀的外殼2。在此外殼2的後表面，配置有 一連接套筒1，係偶合至外殼的一流體饋入開口，用以饋 送一處理流體。在外殼2的一側面上正對著欲處理的工件 或處理製品，設置有數排彼此偏移的狹縫或孔洞，以便形 成處理流體用的多數輸送開口 8。在本實施例中，狹縫狀 的輸送開口 8具有相同的尺寸，因此也具有相同的長度、 -11 - (8) 1276471 寬度或直徑。然而’爲了產生預定的噴灑或流動圖案，當 然也可以選擇不同的尺寸。 在外殼2的內側沿著一 ^形固定器4，設有一最好是 由塑膠製成的械形插入件3，該U形固定器係用以穩固此 插入件’且是由能抵抗所使用的化學物品之材質製成，例 如特殊鋼、鈦、銀等。

插入件3的目的是用以平衡在流體通道中的流速，藉 此能在噴嘴裝置的整個長度上均勻地分配處理流體。 如圖1所示’插入件3在縱向上呈現圓錐狀，致使在 其尾端與連接套筒1相連之處，其具有最小的厚度，而在 相反端則具有最大的厚度。介於插入件3與固定器4之間 ’設有一中空空間，可作爲處理流體的流動通道。在偶合 至連接套筒1的尾端處，此流體通道5的流動剖面是最大 的，且連續地朝向流動剖面最小的另一端縮減。

在正對著處理製品表面上，噴嘴裝置沿著其長度上具 有均勻隔開的輸送開口 8，以通孔形式出現，在本實施例 中均具有相同的直徑。在所示的孔洞位置處，也可以使用 狹縫狀的輸送開口。 從圖1可以看出，輸送開口 8的長度在噴嘴裝置的整 個長度上是相等的。處理流體會以箭頭所指方向經由連接 套筒1通過噴嘴裝置而進入流體通道5內，且在縱向上會 進入輸送開口 8。 由於械形插入件3之故，在流體通道5的所有點上， 流速是相同的，且所有輸送開口 8具有相等的尺寸，因而 -12- (9) (9)1276471 產生非常均勻的噴灑圖案。 根據圖2 ’械形插入件係配置在噴嘴裝置的頂部。輸 迗開口 8是相_地存在於外殻2與插入件3中，如此導致 在不同長度的流體通道上卻具有相等直徑的輸送開口。可 以使用不同長度的輸送通道，以便平衡噴灑圖案。在較長 的孔洞中且離流體入口較長的距離處，設有一朝向尾端增 加的流動阻力，如此可使流動情形更加平衡。 根據圖3，在插入件3中，設有一凹處，且在插入件 3的縱向上，形成彼此隔開的多數分配開口 7。在插入件 3上的開口在插入件3的分配開口 7與外殻2中的狹縫狀 輸送開□(未顯示）之間，形成一處理流體用的儲存室6 ，用以進一步分配壓力。從每個分配開口 7所發出流體噴 射起初會緊靠著外殼壁射出，從此處緊靠插入件3的壁而 斜對角地向下轉向，進而改變方向，從狹縫狀輸送開口 8 發射到處理製品1 〇上。這樣的偏向是用以釋放流動的流 體之動力。 圖7顯示圖3中的剖面C - C5，可進一步顯示出噴嘴 裝置的結構。 由於械形插入件的緣故，分配開口 7具有不同的長度 。假如在長度的差異上顯得很麻煩的話，則可以在這些孔 洞上設置不同長度的尖底擴孔，如圖3中的細部放大圖D 所示，以便調整流動情形。 從饋入開口到連通儲存室6的噴嘴裝置之間連續地縮 減流體通道5，且在從輸送開口 8 (例如數排狹縫）輸送 ^ 13- (10) (10)1276471 之前流體流動產生多重偏向，這樣的組合能確保從每一狹 縫處產生等量的流體及相同的排放速度。 從圖5可以看出’固疋益4主要係沿著插入件3的整 個長度上延伸。在此固定器的外端上，插入件3的厚度藉 由固定器的壁厚而增加，如此能確保在噴嘴裝置的外殼2 內側中於流體通道5上的氣密（如圖3所示）。插入件3 亦會沿著其頂端以等量增厚，致使能牢固地安裝在U形 的固定器4上，如圖7所示。然而，也可以將U形固定 器放置在外殻2的外側上。因此，可以省掉在插入件3上 的額外厚度。可以藉由螺絲將固定器固定於外殼上。然而 ，這些螺絲卻不可以突出到流體通道5內。 在圖3 - 7中的實施例，在出口開口 8處，處理流體的 均勻流速原則上是藉由兩項措施而達成的。首先，由於斜 對角狀的插入件3之故，處理流體的輸出剖面在噴嘴裝置 內部（也就是流體通道）是從連接套筒1到噴嘴裝置的尾 端呈連續縮減。其次，分配開口 7並不會直接攜帶處理流 體制處理製品上。反而，處理流體受到二次轉向，然後經 由流體輸送開口 8 (在本實施例中爲數排狹縫）而輸送出 去。 在分配開口 7中的流體阻力會由於其遞增的長度而連 續地增加。爲了使此情形不至於影響流體分配，所以如圖 2, 3，5所示，插入件3的傾斜度最好選擇爲稍微平坦，使 得在噴嘴裝置的尾端仍存有一間隙。在圖3的實施例中， 在尾δ而處的間隙高度大約是4 m m。 -14- (11) (11)1276471 上述兩項措施（扁平的插入件與在額外儲存室中的流 體轉向）之結合會產生出最佳的效果，這是由於僅將流體 通道5的剖面縮減可能會導致不充分的壓力均等且噴射流 是斜對角地發出。由於結合了全部具有等寬度或直徑之輸 送開口 8，所以從所有的輸送開口中，在每單位時間內會 流出等量的流體。 圖6顯示具有儲存室的噴嘴裝置之另一實施例，其中 存在有兩個插入件3，3’。插入件3是如同前述一樣，呈 現械形且被裝配至噴嘴裝置的底部區域中。在噴嘴裝置的 頂部之插入件3 ’沿著其全長具有相等的剖面。在插入件 3 ’中，設有分配孔洞7，均具有相等的長度。於是，械形 流動通道在尾端會比圖2，3 5 5所示之情形更爲陡峭。 然而，藉由僅採用上述兩種措施之一項，也可能在一 特殊應用中達成處理流體道輸送開口 8的充分均勻流速。 當然，在不背離本發明之技術思想之前提下，仍可以 構思出上述實施例的其他變型。例如，連接套筒1可以移 至噴嘴裝置的外殻2中央，使得處理流體的饋入方式會發 生在中央。 藉由此實施例，從中央連接套筒1到外殼2的兩端之 間，外殼2內側的流體通道5之輸出剖面會縮減，且插入 件3的厚度會對應地從中央連接套筒1到兩端會在寬度上 增加，致使在插入件3中的分配開口 7之長度也會朝兩側 增力口。 而且，在本實施例中，流體通道5的連續縮減輸出剖 -15- (12) 1276471 面僅係藉由插入件3的遞增寬度所造成的。當然，可以輕 易聯想到將流體通道5的幾個側表面在外殼2的縱向上遞 增擴大。在其頂部上，可以省掉用來分配壓力的儲存室。 .爲了增進流速的均勻程度，狹縫狀輸送開口 8也可以 具有不同的寬度，藉此在外殼2的縱向方向上，寬度可以 從入口套筒1處縮減。如此會導致不同的流量，而會在處 理製品上產生不同的效果。 雖然所示的實施例中，分配開口 7也可以設計成具有 φ 不同的直徑，以便產生連續增加的流動阻力，特別是可以 構思出在分配開口 7的直徑中之連續縮減，這是由於朝向 噴嘴裝置的尾端其壓力是處於最大値。 在分配開口 7的側邊鄰近流體通道5處，分配開口可 設有較大直徑的尖底擴孔9 (如圖3 )。爲了在外殼2的 縱向上產生連續遞增的流體阻力，所以這些尖底擴孔可以 具有不同的深度，特別在外殼2的縱向上具有連續增加的 深度。 β 也可以省掉圖形中所示的固定器4，也可以構思出將 插入件3與外殻2組合成一單件。最後，要說明的是在本 實施例中，多數輸送開口 8是在外殻2的縱向上彼此以間 隔互相正對設置的，特別是以非常均勻隔開的多排狹縫’ 這些狹縫相互隔開，然而，在原則上，藉由單一縱向輸送 開口 8也能保證噴嘴裝置的正確與另人滿意的操作性’比匕 輸送開口僅具有一狹縫狀輸送開口 8，係延伸在外殼2的 縱向上。 - 16 - (13) (13)1276471 圖8 - 1 0顯示本發明一實施例之噴嘴裝置，圖8顯示 此噴11角裝置在一局部剖面上之側視圖，圖9顯示此噴嘴裝 置在一局部剖面上之頂視圖，及圖1 〇顯示沿著圖8中的 線C - C之噴嘴裝置的一剖面圖。 圖8 - 1 0所示的噴嘴裝置係關於一實施例，本實施例 特別適合使處理流體在處理槽中產生均勻流動。在特定處 理中，例如空氣中的氧等物質可能會從環境中被吸收之危 險’則處理流體的流動就必須越遠越好，不能形成會增加 處理流體表面積的噴射或頂點。藉由圖8 -1 〇所示之噴嘴 裝置’在整個噴嘴裝置的有效總長上產生均勻、緩慢的低 流速。 如同先前的實施例，圖8 - 1 0所示的噴嘴裝置同樣地 包含一連接套筒1及一縱向平行四邊形狀的外殼2，其中 裝入有插入件3，可界定出一流體通道5，在噴嘴裝置或 外威2的縱向上具有連續縮減的剖面。在此關係中，可以 從圖9中看出，插入件3在兩側上會減少流體通道5的剖 面’如此流體通道5的剖面會從連接套管1到噴嘴裝置的 尾端連續且均勻地縮減，致使在流體通道5中，總是能夠 使處理流體產生大致相同的流速。 在外殻2的一側上，藉由適當的連接方法（例如焊接 或膠黏）而將一防漏外蓋11設置在外殼上。從圖8與9 可以看出，在外蓋Π的下側上，具有多數狹縫或連接通 道，係斜對角地延伸至噴嘴裝置的縱向上，且特別沿著噴 嘴裝置的總有效長度上均勻隔開。這些在外蓋Π.中的狹 - 17_ (15) 1276471 局部剖面的方式呈現； 圖4是一頂視圖，顯示圖3的噴嘴裝置，係沿著圖3 所示的交叉線A-A’以局部剖面的方式呈現； 圖5式一側視圖，顯不圖3及4中的一插入件，以及 一固定器，用以將此插入件固定在噴嘴裝置內；

圖6是一側視圖，顯示有別於圖3或4之本發明的另 一實施例的噴嘴裝置，沿著圖4所示的交叉線B - B ’以局 部剖面的方式呈現； 圖7是一剖面圖，係沿著圖3所示的交叉線C - C \顯 示圖3的噴嘴裝置； 圖8是一側視圖，係以局部剖面方式顯示本發明另一 實施例的噴嘴裝置； 圖9是一頂視圖，係以局部剖面方式顯示圖8的噴嘴 裝置；及

圖1 0是一剖面圖，係沿著圖8所示的交叉線C - C ’顯 示圖8與9之噴嘴裝置。 主要元件符號對照表 1 :連接套筒 2 :外殼 3 :插入件 4 :固定器 5 :流體通道 6 :儲存室 -19 - (16) (16)1276471 7 :分配開口 8 :流體輸送開口 9 :尖底擴孔 1 0 .處理製品 1 1 :外蓋

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Claims (1)

1. (1) 拾、申請專利範圍 附件4A : 第92 1 3 3 23 5號專利申請案 中文申請專利範圍替換本 民國95年12月4日修正 1 · 一種噴嘴裝置，用以釋放一處理流體，該噴嘴裝 置包含一縱向外殼（2)，該外殼具有用以饋入處理流體 的至少一流體饋入開口及至少一流體輸送開口（ 8 )，該 流體輸送開口是形成於外殼（2.)中，用以釋放該處理流 體，藉此在外殼（2 )中形成一流體通道（5 )，以便使處 理流體能從流體饋入開口輸送到該至少一流體輸送開口（ 8 )上，其特徵在於該流體通道（5 )的剖面在外殼（2 ) 的縱向上從流體饋入開口處縮減。 2. 如申請專利範圍第1項之噴嘴裝置，其中該流體 通道（5 )的剖面在外殼（2 )的縱向上從流體饋入開口處 逐漸縮小° 3. 如申請專利範圍第1或2項之噴嘴裝置，其中在 #胃巾可以設置一縱向插入件，多數輸送開口互相之間形 $間隔，藉此輸送開口會與外殼（2 )中的流體輸送開口 (8 )之位置一致。 4. 如申請專利範圍第1或2項之噴嘴裝置，其中流 髀通道（5 ) %剖® &夕和胃（2 ) %縱@ i ^胃^ f足淀1 髀饋入開口處縮減。 一種噴嘴裝置，用以釋放一處理流體，該噴嘴裝 1276471 (2) 置包含一縱向外殼（2 )，該外殻具有用以饋入處理流體 的至少一流體饋入開口及至少〜流體輸送開口（8)，該 流體輸送開口是形成於外殼（2 )中，用以釋放該處理流 體，藉此在外殼（2 )中形成一流體通道（5 )，以便使處 理流體能從流體饋入開口輸迭到該至少一流體輸送開口（ 8 )上，其特徵在於該流體通道（5 )經由多數分配開口（ 7 )而與至少一流體輸送開口（ 8 )相通，該分配開口係以 間隔設置在外殼（2 )的縱向上，以便將處理流體從流體 通道（5)經由至少一流體輸送開口（8)的分配開口（7 )而輸送出去。 6 ·如申請專利範圍第5項之噴嘴裝置，其中所有的 分配開口（ 7 )具有相同的直徑。 7 ·如申請專利範圍第5或6項之噴嘴裝置，其中從 流體饋入開口，分配開口（ 7 )的長度會在外殻（2 )的縱 向上遞增。 8.如申請專利範圍第5或6項之噴嘴裝置，其中在 外殼（2 )的縱向上，流體饋入開口的分配開口（ 7 )之長 度是相等的。 9·如申請專利範圍第5項之噴嘴裝置，其中分配開 口（7)具有不同的直徑。 10·如申請專利範圍第9項之噴嘴裝置，其中從流體 饋入開□，分配開口（ 7 )的直徑會在外殻（2 )的縱向上 縮減。 11·如申請專利範圍第5或6項之噴嘴裝置，其中分 -2 - (3) 1276471 配開口（ 7 )在朝向流體通道（5 )的側邊上設有尖底擴孔 (9 ) 〇 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項之噴嘴裝置，其中分配 開口（7)的尖底擴孔（9)具有不同的深度。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之噴嘴裝置，其中從流 體饋入開口，分配開口（ 7 )的尖底擴孔（9 )之深度會在 外殼（2 )的縱向上增加。 1 4·如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中在 該外殼（2)中設置有一圓錐形縱向插入件（3)及另一縱 向插入件（3 ’），具有等長隔開的多數分配開口（ 7 )， 致使流體通道（5 )會經由該分配開口（ 7 )而與至少一流 體輸送開口（ 8 )相通，以便從流體通道（5 )經由至少一 流體輸送開口（ 8 )的分配開口（ 7 )饋入處理流體。 15·如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中在 該外殼（2)中設置有一圓錐形縱向插入件（3)，具有以 間隔配置的多數分配開口（ 7 )，致使流體通道（5 )會經 由該分配開口（ 7 )而與至少一流體輸送開口（ 8 )相通， 以便從流體通道（5 )經由至少一流體輸送開口（ 8 )的分 配開口（ 7 )饋入處理流體。 1 6 .如申請專利範圍第1 4項之噴嘴裝置，其中該縱 向插入件（3)及/或另一縱向插入件（3，）是藉由一固定 器（4)而固定於外殼（2)上。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之噴嘴裝置，其中該外 殼（2 )主要的形狀是平行四邊形，且固定器（* )則是u -3 - (4) 1276471 形。 1 8 ·如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中介 於至少流體輸送開口（ 8 )與流體通道之間，且在至少一 流體輸送開口（8)之前，形成有一儲存室（6)用來分配 壓力。 19·如申請專利範圍第14項之噴嘴裝置，其中儲存 室（6)是以凹處的形式而設置在縱向插入件（3)或縱向 插入件（3 ’）中，該插入件係位於朝向至少一流體輸送開 口（ 8 )之分配開口（ 7 )的側邊上。 2〇·如申請專利範圍第1 9項之噴嘴裝置，其中所有 的分配開口（ 7 )與至少一流體輸送開口（8)呈現偏移配 置，使得處理流體會經由儲存室受到至少兩次方向改變之 後流出流體輸送開口（ 8 )。 2 1.如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中至 少一流體饋入開口是設置在外殻（2 )的一縱向尾端。 22·如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中至 少一流體饋入開口是設置在外殻（2 )的一中間區段。 23. 如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中該 外殼（2 )具有多數流體輸送開口（ 8 )，在外殼（2 )的 縱向上以間隔配置。 24. 如申請專利範圍第23項之噴嘴裝置，其中流體 輸送開口（ 8 )是狹縫狀或圓形。 25·如申請專利範圍第23項之噴嘴裝置，其中流體 輸送開口（ 8 )具有相同的尺寸。 -4 - 1276471 (5) 26·如申請專利範圍第23項之噴嘴裝置，其中流體 輸送開口（ 8 )在外殼（2 )的整個長度上從流體饋入開口 處具有縮減的寬度，或者在外殼（2)上具有縮減的直徑 〇 27.如申請專利範圍第23項之噴嘴裝置，其中該狹 縫狀的流體輸送開口（ 8 )在外殼（2 )中形成有數排且互 相偏移。 28·如申請專利範圍第1或5項之噴嘴裝置，其中在 外殼（2)中，多數在外殻（2)寬度方向上延伸的連接通 道是以間隔形成於外殻（2 )的縱向上，以一端與外殼（2 )中的流體通道相通，而另一端與至少一流體輸送開口（ 8 )相通。 29·如申請專利範圍第28項之噴嘴裝置，其中連接 通道形成於外殻（2 )上的一外蓋（1 1 )中。 30·如申請專利範圍第29項之噴嘴裝置，其中該外 蓋（1 1 )藉由一防漏密封件而定位於外殼（2 )上。 3 1 ·如申請專利範圍第2 8項之噴嘴裝置，其中該連 接通道在外殼（2 )的縱向上以均勻隔開的方式配置。 3 2 .如申請專利範圍第2 8項之噴嘴裝置，其中該連 接通道主要是在外殼（2)的整個長度上分布。 3 3 ·如申請專利範圍第2 8項之噴嘴裝置，其中每一 連接通道主要是以一直線斜對角地延伸至外殼（2 )的縱 向。 34·如申請專利範圍第28項之噴嘴裝置，其中每一 -5- 1276471 (6) 連接通道呈開放而進入外殼（2 )任一側上的一流體輸送 開口 （ 8 )。 -6 -