TWI273591B - Organic dye for recording layer and high density optical recording medium using the same - Google Patents

Description

I2735ftli7twf.d〇c/g 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種高密度光記錄媒體，且特別 是關於-種使用短波長f射之高密度光記錄媒 體，其使向密度儲存及高密度資訊記錄之重現/回 放成為可能。 【先前技術】

近年來，使用雷射之光記錄媒體顯著發展中。 通常’光記錄媒體例如光碟之設計是利用將一束約 1 “之聚焦雷射光束照射至形成於—圓盤形基板 士之「薄記錄層以進行資訊記錄，吸收雷射光束能 里之後’記錄層被照射之部分經歷諸如分解、基發 t融之熱變形’而達到記錄之目的。藉由讀取： =光束造成形變部分與不具形變部分之間的反 射率差異來進行被記錄資訊的重現。 因此’光記錄媒體需要能有效地吸㈣射光束 :;::ΐ要求其對用以記錄之特定波長雷射光束 波被財光’且對用於資訊重現之特定 現。χ ^具有向反射率，以精確進行資訊重 …、、’由於光繞射之因辛 錄媒骰铋六处丄 便用田射源之光記 来次\ 子月b力仍有限制。目前，已提出—些提高 貝。孔儲存媒體儲存密度之原理及方法，包括轉變 5 127359^^^0^ 雷射源之波長例如：自紅光雷射轉變至藍光雷射， 或提高光學透鏡之物鏡數值孔徑（” NA")。其他一 些方法包括：改良數位信號之編碼方法，或使用超 高解析度近場光學結構之光碟儲存方法，或藉由使 用堆疊式多重記錄層提高資訊儲存媒體之儲存能 力技術（例如，壓縮光碟），意即將資訊儲存媒體 之記錄層發展成為三維空間多層結構以提高儲存 能力。上述所有方法皆可用以有效提高光記錄媒體 之儲存能力。 在轉變至較短波長雷射源之方法中，諸如

Hitachi 、 LG 、 National 、 Pioneer 、 Philips 、

Samsung 、 Sharp 、 Sony 及 Th〇ms〇n Multimedia 之 公司於20()2年共同公佈了新—代高錢光碟儲存 規格（監光光碟（Blue —ray Disc))。可藉由使用 405 nm之監光雷射源、NA為〇· 85及〇·】_之光 傳輸覆蓋層結構將單面單層藍光光碟提昇至27 gb 記錄容量。另外，還有以Toshiba公司為首所提出 之HD-DVD光碟片規格；其同樣使用4〇5⑽之藍光 雷射源、NA僅為〇· 65以及與DVD光碟片相同之〇. 6 mm光傳輸覆蓋層結構將單面單層藍光光碟提昇至 15 GB記錄容量。因而，使用短波長雷射源進行讀 取及儲存操作之光記錄媒體已成為高密度光記錄 12735917 twf.doc/g _ 媒體發展的主流。 【發明内容】 因此’本發明係針對使用波長不大於530⑽ 之紐波長雷射源的一高密度光記錄媒體，以記錄高 . 密度資訊及重現/回放高密度資訊記錄。 、同 - 本發明提供一種用於記錄層之染料，該記錄層 適用於使用波長不大於530 nm之短波長雷射源^ • 一光記錄媒體，以記錄高密度資訊及重現/回放高 密度資訊記錄。 根據本發明之一目的，上述之染料在3〇〇至6〇〇 ， η"1之範圍内的波長下顯示出吸收，且具有極佳之耐 光性及熱穩定性。

其中，η可為〇或1之正整數，X可為氧原子或 C(CN)2, Α代表含取代基或不含取代基之環狀烷基 (cyclic alkyl groUp)，且 r1、、r3、、r5、尺6、 ^、^、^、"分可代表氫原子〜鹵素原子〜具卜“ 12 7 3 5 Θ ll7twf.doc/g 12 7 3 5 Θ ll7twf.doc/g

碳原子數（Ci-u)之烷基、具卜18碳原子數（Ch8) 之烷氧基、具1-18碳原子數（C^8)之羧基、氨基、 含取代基之氨基、具1-18碳原子數（Ci-u)之烷酯 基、具1-18碳原子數（Ci-u)之羧基、包含氨基、 魏基之苯、硝基（nitro group )、金剛烧羰基 (adamanty 1 carbonyl group)、金岡丨J 烧基 (adamanty 1 group)、烯基（alkenyl group)、块基 (alkynyl group)、氨基（amino group)、偶氮基（azo group)、芳香基（aryl group)、經基苯（aryloxy group)、幾基苯（arylcarbonyl group)、經基苯幾 基（aryloxycarbonyl group)、幾基苯經基 (arylcarbonyloxy group)、 經基 苯魏基 (aryloxycarbonyloxy group) 、烧 魏基 (alkylcarbony1 group) 、烧 叛基 (alkylcarbonyloxy group) 、烧 氧叛基 (alkoxycarbonyloxy group) 、 烧氧魏 基 (alkoxycarbony 1 group)、氨基曱酸基（carbamoyl group)、氰酯基（cyanate group)、氰基（cyano group)、曱醯基（formyl group)、曱酷氧基 (formyloxy group)、雜環基（heterocyclic group)、異硫代氰酯基（i sothiocyanate group)、 異氰基（i socyano group)、異氰酯基（i socyanate 1273 5 fiiLtwf.doc/g group)、亞硝基（nitroso group)、全氟烷基 (perfluoroalkyl group)、全氟烷氧基 (perfluoroalkoxy group)、磺胺基（sulfinyl group)、確醯基（sulfonyl group)、矽烧基（silyl group)、硫代氰酯基（thiocyanate group)。 舉例而言，本發明之染料可使用於光記錄媒體 之一記錄層。因為本發明之染料在300至600 nm 之範圍内的波長下顯示出吸收，，所以可用以製造 使用波長不大於530 nm之短波長雷射源（較佳為 波長為405 nm之雷射源）的高密度光記錄媒體， 以記錄高密度資訊及重現/回放高密度資訊記錄。 【實施方式】 為讓本發明之上述他目的、特徵和優點能更明顯 易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳 細說明如下。 本發明提供一種適用於記錄層之染料，而可用 =製=使用波長不大於530 nm之短波長雷射源的 。同j度光圮錄媒體，以記錄高密度資訊及重現/ ° 2度寅成$己錄。該染料具有下列化學結構通 12735917twf.d〇c/g

(Ο

其中’n可為〇或1之正整數，x可為氧原子或 C(CN)2 ’ A代表含取代基或不含取代基之環狀烧基 (cyclic alkyl group)，且 R1、R2、r3、R4、r5、r6、

R、R、R、R1Q代表氫原子、鹵素原子、具1 一18碳 原子數（CVu)之烷基、具1-18碳原子數（Cl_18) 之烧氧基、具1-18碳原子數（Ci-i8)之叛基、氨基、 含取代基之氨基、具1-18碳原子數（Ci-is)之烧酯 基、具1-18碳原子數（Ci-u)之叛基、包含氨基、 羧基之苯、硝基（nitro group )、金剛烧羰基 (adamanty 1 carbonyl group)、金岡丨J 烧基 (adamantyl group)、烯基（alkenyl group)、炔基 (aIkyny 1 group)、氨基（amino group)、偶氮基（azo group)、芳香基（aryl group)、經基苯（aryloxy group)、幾基苯（arylcarbonyl group)、經基苯獄 基（aryloxycarbonyl group)、羰基苯羥基 (arylcarbonyloxy group)、羥基苯叛基 (aryloxycarbonyloxy group) 、烷 羰基 12735 ftl7twf.d〇c/g

(alkylcarbony1 group) 、烧 叛基 (alkylcarbonyloxy group)、烧 氧羧基 (alkoxycarbonyloxy group)、烧氧幾基 (alkoxycarbonyl group)、氨基甲酸基（carbamoyl group)、氰酯基（cyanate group)、氰基（cyano group)、曱醯基（formyl group)、曱醯氧基 (formyloxy group)、雜環基（heterocyclic group)、異硫代氰醋基（isothiocyanate group)、 異氰基（i socyano group)、異氰酉旨基（i socyanate group)、亞石肖基（nitroso group)、全氟烧基 (perfluoroalky 1 group) 全氟烧氧基 (perfluoroalkoxy group)、石黃胺基（sulfinyl group)、磺醯基（sulfonyl group)、石夕烧基（silyl group)、硫代氰醋基（thiocyanate group)。 本發明之染料（I)在300至600 nm之範圍内的 波長下顯示出吸收，且具有極佳之耐光性及熱穩定 性。因此，藉由使用包含本發明染料之記錄層來製 造一高密度光媒體，可應用不大於530 nm之波長 的短波長雷射源（較佳為具有405 nm之波長的藍 光雷射源）於該記錄層上以記錄高密度資訊及重現 /回放高密度資訊記錄。 根據本發明之一實施例，可藉由使用下列起始 12735917twf.d〇c/g 物來合成本發明之染料（I)。

(b)中 ’ R1、R2、R3、R4、R5、r6、R7、R8、R9、Rio 分 可代表氫原子、鹵素原子、具丨_18碳原子數（Cl_18) 之烧基、具1-18碳原子數（G-u)之烧氧基、具 1 18¼原子數（Ci-u)之緩基、氨基、含取代基之 氨基、具1-18碳原子數（Ci-18)之烷酯基、具1-18 碳原子數（Ci-u)之羧基、包含氨基、羧基之苯、 硝基（nitro group )、金剛院獄基（adamantyl carbonyl group)、金剛烧基（adamantyl group)、 稀基（alkenyl group)、炔基（alkynyl group)、氨 基（amino group)、偶氮基（azo group)、芳香基 (aryl group)、羥基苯（aryloxy group)、羰基笨 (arylcarbony1 group)、羥基苯羰基 (aryloxycarbony1 group)、 叛基苯經基 (arylcarbonyloxy group)、 經基 苯叛基 1273 59il7twf.d〇c/g

(aryloxycarbonyloxy group) '烧 羰基 (alkylcarbony1 group) 、烧 魏基 (alkylcarbonyloxy group)、烧 氧缓基 (alkoxycarbonyloxy group)、烧氧羰基 (alkoxycarbonyl group)、氨基曱酸基（carbamoyl group)、氰酯基（cyanate group)、氰基（cyano group)、曱酸基（formyl group)、曱酸氧基 (formyloxy group)、雜環基（heterocyclic group)、異硫代氰酯基（i sothiocyanate group)、 異氰基（i socyano group)、異氰酯基（i socyanate group)、亞硝基（nitroso group)、全氟烧基 (perfluoroalky 1 group)、全氟烧氧基 (perfluoroalkoxy group)、石黃胺基（sulfinyl group)、石黃酿基（sulfonyl group)、石夕烧基（silyl group)、硫代氰酯基（thiocyanate group) o

⑧ 13 1273591 7twf.doc/g 其中，在起始物（c)中，A代表含取代基或不含 取代基之環狀烷基（Cyclic alkyl gr〇up) , χ可為 氧原子或C(CN)2。 #

可藉由下列化學反應來合成本發明之染料（I)。

：0：

MeOH Reflux, 8HrS

因此，可參照上述之製造流程，舉出以下幾類本 發明之染料（I)之化合物結構，應注意者的是，本發 明之範圍並不受限於下列之化合物結構實施例。又 %

14 (1) I2735ftk wf.doc/g

(S 15 (6) 1273 5 ft 17twf.d〇c/g

(7)

(9)

〇 o

(10)

16 (1 (11) 1273 5Qil7twf.d〇c/g

(12)

(14) ο

ο

ο

17 (15) 1273 5Q17twf.d〇c/g

(18)

18 (19) 1273 5 ft li 7twf.d〇c/g och3 h3co

19 (24) twf.doc/g

(31) 以下將描述本發明之染料（丨）的特定染料衍生 物（1)、（2)、（3)及（4)之化學合成。 合成實例1

將0.02莫耳n，N-二乙氨基苯甲醛及〇 〇1莫 耳起始物（c)(X為氧原子）溶解於2〇莫耳曱醇中， 並將所得溶液回流歷時8小時。在反應完成之後， 將產物過濾、並乾燥以獲得亮橘色固體結晶。產率約 為80%。此衍生物之化學結構如下式所示。

(1) ：述“料仿生物（1)之樣品溶解於乙醇溶液 1273 59 i 7twf.d〇c/g 中，並使用所得溶液在光譜光度計中量测吸光率。 上述染料衍生物溶液在471 nm下顯示出最大吸光 率。 ' 合成實例2 將0.02莫耳n，n-二甲氨基苯曱醛及〇 〇1莫 - 耳原料（C)(X為氧原子）溶解於20莫耳甲醇中，並 將所得溶液回流歷時8小時。在反應完成之後，將 • 產物過濾、並乾燥以獲得亮橘色固體結晶。產率約為 80%。此衍生物之化學結構如下式所示。

，亚使用所得溶液在光譜光度計中量測吸光率。 上述衍生物溶液在466 nm下顯示出最大吸光率。 合成實例3 將0.02莫耳N，N —二丁氨基苯曱醛及〇 〇1莫 耳原料（c)(X為氧原子）溶解於2〇莫耳曱醇中，並 字斤得/合液回流歷時8小時。在反應完成之後，將 物過濾並乾秌以獲得亮黃色固體結晶。產率約為 22 I27359l7twf.d〇c/g 80%。此衍生物之化學結構如下式所示。

(3) 將上述染料衍生物（3)之樣品溶解於乙醇溶液

中，並使用所得溶液在光譜光度計中量測吸光率。 上述衍生物溶液在466 nm下顯示出最大吸光率。 合成實例4 將0·02莫耳n，N-二庚氨基苯曱醛及〇 〇1莫 耳原料（c)(X為氧原子）溶解於2〇莫耳甲醇中，並 將所得溶液回流歷時8小時。在反應完成之後，將 產物過濾並乾燥以獲得亮黃色固體結晶。產率約為 80%衍生物之化學結構如下式所示。 …

(4) 將上述染料衍生物之樣品溶解於乙醇溶液中 23 Ι2735θι17 twf.doc/g 並使用所得溶液在光譜光度計中量測吸光率。上述 衍生物溶液在464 nm下顯示出最大吸光率。l 圖1是本發明之染料衍生物（1)之薄膜紫外/ 見光吸收光譜。 圖2是本發明之染料衍生物（4)之薄膜紫外/可 見光吸收光譜。 圖3疋本發明之染料衍生物（丨）作為肋—dVD_r 記錄層之碟片反射光譜。 _以下將參考圖4，其描述高密度藍光光記錄媒 體之結構。如圖4,該高密度光記錄媒體包含—第 基板、一覆盍層（Cover layer) 408及至少設 置於該第一基板400與該覆蓋層（c〇ver layer)4〇8 之間並含有至少一種上述本發明染料（I )之衍生 物的5己錄層402。此外，可在該記錄層術上提 供一反射層4G6’而且若有需要，可於該第一基板 4〇0上提供—底塗層’可於該記錄層402或該反射 層406上提供一保護層4〇4，並可於該第—基板 上在該記錄層402之相對側提供一表面保護層。 》根/康本發明之一目的，最好該第一基板4曰〇〇及 該覆蓋層（Cover layer)4〇8對雷射束而言是透明 的。該第一基板400及該覆蓋層4〇8之材料可包 24 1273 5QiLtwf.doc/g 含，例如但不限於··玻璃或塑料。較佳使用塑料材 料。塑料材料可包含，例如但不限於··聚碳酸酯 (PC)、聚甲基丙烯酸甲酯（pMMA)、聚合樹脂、玻 . 璃、丙烯酸樹脂（acryl resin)、甲基丙烯酸樹脂 • ( me1:hacryl resin )、乙酸乙烯樹脂（vinyl acetate resin )、氯乙稀樹脂（vinyi chi〇ride resin)、硝酸纖維素（nitr〇 ceUul〇se)、聚乙烯 • 樹脂（P〇1yethylene resin )、聚丙烯樹脂 (polypropylene resin )、聚碳酸酯樹脂 (polycarbonate resin )、聚醯亞胺樹脂 (polyimide resin)、環氧樹脂（epoxy resin)、 聚颯樹脂（polysulfone resin)及mCOC (金屬茂 型環烯烴共聚物（Metallocene based Cyclic Olefin Copolymer))。在上述塑料材料中，自高生 產率、低成本及抗潮濕之觀點來看，注射成型之聚 碳酸醋樹脂基板較佳。該第一基板4 0 0厚度可在〇 5 mm與1 · 3 mm之間’更佳為約0 · 6 mm。舉例而言， 該第一基板400包含凸區、或具有不大於〇.4//m - 之寬度（track pi tch)的預先彎曲之凹區或溝槽。 該第一基板400中之凸區、或預先彎曲之凹區或溝 槽乃是雷射讀取頭之雷射追蹤所用之信號表面。 根據本發明之一目的，本發明之含有染料（I ) 25 12735齡 wf.doc/g $記錄層402的厚度約在lnm至5〇〇1111]之範圍内，較 佳約在5ηηι至200nm之範圍内。可藉由使用熟知之薄 膜形成方法來形成本發明之記錄層4〇2，該些方法 諸如旋轉塗佈法、滾壓法、真空氣相沉積法1鑛 法、刮片法、澆鑄法、噴墨印刷法或含浸法。然而， 自生產率及成本之觀點來看，旋轉塗佈法較佳。可 製備溶於2, 2, 3, 3-四氟丙醇中含丨.5重量％的本發 明染料（I)之溶液，並將其用於在第一基板4〇〇丄 方疋表·塗復形成薄膜記錄層4 〇 2。但亦可使用諸如 尊_驗、氯仿或一氣甲烧之其他溶劑製造用於 形成薄膜記錄層402之染料溶液。醇之較佳實例包 括2, 2’3’3-四氟丙醇、甲醇、乙醇及異丙醇。酮之 較佳實例包括丙酮及二甲基乙基酮。醚之較佳實例 包括乙鱗及四氯咬喃。 根據本發明之一目的，反射層4〇6可包含例如但 不限於：金、銀、銅、铭或翻、鈦及其合金金屬或 其類似物，其在欲使使用之雷射波長區具有高反射 率。可利用真空濺鑛（sputteringk方式於記錄層 4〇2上形成反射層406 ;反射層4〇6之厚度可為約“η 至300nm之範圍内。 最後，可將覆蓋層408貼合於反射層4〇6上以完 成藍光高密度光記錄媒體之製造；將該覆蓋層4〇8 26 I27359il7twf.d〇c/g 貼合到反射層406之方法係選自旋轉塗佈法、網印 法、熱融膠法、滾壓貼合。 可使本發明之光記錄媒體之記錄層4〇2形成於 第一基板400之一個側面上。根據本發明之一目 的，為更加提高光記錄媒體之儲存能力，可使用多 重記錄層製造多層堆疊式光記錄媒體結構。 根據本發明之一目的，第一基板之鏡面側上之 表面保護層可包含例如但不限於··紫外線固化丙烯 酸樹脂或矽型硬塗布劑。該表面保護層較佳具備抗 靜電能力以防止灰塵或其類似物附著。 可藉由將一束波長不大於530 nm之雷射光束 (例如使用具有405 nm波長之藍光雷射）照射至記 錄層上，而於光記錄媒體上進行記錄。在被雷射光 束照射之部分，由於吸收雷射能量之而造成記錄層 產生諸如分解、蒸發或熔融之熱變形。可藉由讀取 具熱、交形部分與不具有熱變形部分之間的反射率 差異來進行被記錄資訊的重現。 上、在下列條件下，使用PULSTEC DDU-1 000藍光測 試機來評估上述光記錄媒體之記錄及重現特性，該 些條件包括：|有405 nm波長之藍光雷射光束，物 鏡數值孔徑（NA)為0.65, CLV = 6.61m/s，參考 層（Ag)二l50nm;碟片類型！：碟片未寫前反射率

27 1273 59il 7twf.doc/g 咼至碟片寫後反射率變低，參考（16%〜32%);類型 2 :碟片未寫前反射率低至碟片寫後反射率變高， 參考（14%〜28%) ’及記錄模式3T、11T。發現記錄功 率在7至12 mW之範圍内，且發現讀取功率為〇· 5 • mW °自下表1中所顯示之記錄及重現特性結果可 - 見，本發明之合倂有包含染料衍生物（1-4 )之記 錄層的光記錄媒體可保持接近丨〇 mW之記錄及讀取 • 功率’且兩種記錄模式3T、ΐιτ之CNR皆保持高水 平，例如在4 0 -5 0 dB之間。因而，上述本發明之染 料（I)實際上可用作用於例如藍光HD-DVD—R之記錄 . 層之光記錄材料。 表1

(S

染料編 號 最大吸收 波長 (MeOH) 波長405nm 的薄膜折 射率 (n+ik) 寫錄功 率 I11l I11h 3T CNR 11T CNR 合成實 施例1 471nm 0.877+0.6 42i lOmW llOmV 235mV 48dB 50dB 合成實 施例2 464nm 0.900+0.5 02i lOmW 120mV 220mV 43dB 42dB 合成實 施例3 466nm 0.965+0.3 73i lOmW 223mV 279mV 50dB 48dB 合成實 施例4 466nm 1.008+0.4 16i 12mW 153mV 352mV 45dB 48dB 28 I27359il7twf.d〇c/g 共甲n代表^料缚膜折射率的實部值，k代表染 料薄膜折射率的虛部值，^代表碟片寫後的ιιτ未 記錄區域（space)反射率，IllHft表碟片寫後的ητ 訊號（mark)反射率’且⑽《表载波信號噪聲比 (carrier-to-noise ratio)。 由於含有本發明之染料⑴的 600 mn之範圍内顯示出吸收，且具有極佳之财光性 及熱穩定性’因此可使用波長不大於咖⑽之短波 長雷射（較佳波長為約4G5 nm之藍光雷射）於盆上 記錄高密度資訊並重現其上所記錄之高密度資 二=而，含有本發明之染料⑴的記錄層適用於 兩岔度光記錄媒體。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，麸1 π以限定本發明’任何熟習此技藝者，在；脫離 :發：之精神和範圍内，當可作些許之更動= ¥因此本發明之保護範圍當視後 圍所界定者為準。 H月專利乾 【圖式簡單說明】 所包括之附圖用以提供對本發明更多之理解， 且將其併入而構成此說明查 說明書-同說明本發明二=些圖示與 之原理。 a之Μ施例用以解釋本發明 29 I2735ftl7twf.d〇c/g 圖1是本發明之染料衍生物（l)薄臈之紫外/β 見光吸收光譜。 ” 圖2是本發明之染料衍生物（2)薄膜之紫外/ - 見光吸收光譜 α - 圖3是本發明之染料衍生物（1)作為hd_dvd_r — 記錄層之碟片反射光譜。 圖4是根據本發明之一實施例之高密 • 媒體之結構的剖面示意圖。 ° 【主要元件符號說明】 400第一基板 402記錄層 4〇4保護層 406反射層 覆蓋層（c〇ver iayer)

Claims (1)

127359,1 7twf.doc/g 十、申請專利範圍 1· 一種記錄層，用於使用波長不大於530 nm

之短波長雷射源的一高密度光記錄媒體，其包含至 少一種具有以下化學結構通式之染料：

(I) 其中，η可為〇或1之正整數，X可為氧原子或c(CN)2， A代表含取代基或不含取代基之環狀烷基（cycHc alkyl group)，且 R1、r2、r3、R4、、r6、R7、r8、

R、R分別代表氫原子、鹵素原子、具1 一 18礙原 子數（匕，）之烷基、具卜18碳原子數（Ci 18)之 烷氧基、具1-18碳原子數（Ci-u)之羧基、氨基、 含取代基之氨基、具1-18碳原子數（Cl_18)之烷酯 基、具1-18碳原子數（Ci-u)之羧基、包含氨基、 羧基之苯、硝基（nitro group)、金剛烷羰基 (adamanty 1 carbonyl group)、金剛烧基 (adamantyl group)、稀基（alkenyl group)、快基 (alkynyl group)、氣基（amino group)、偶氮基（az〇 group)、方香基（aryl group)、經基苯（aryloxy 31 Ι2735θι1 7twf.doc/g Ι2735θι1 7twf.doc/g

group)、魏基苯（arylcarbonyl group)、經基苯数 基（aryloxycarbonyl group)、幾基苯經基 (arylcarbonyloxy group)、 經基 苯叛基 (aryloxycarbony 1oxy group) 、烧 幾基 (alkylcarbony 1 group) 、烧 叛基 (alkylcarbonyloxy group)、烧氧叛基 (alkoxycarbonyloxy group)、烧氧魏基 (alkoxycarbonyl group)、氨基甲酸基（carbamoyl group)、氰酯基（cyanate group)、氰基（cyano group)、曱酿基（formyl group)、曱酸氧基 (formyloxy group)、雜環基(heterocyclic group)、異硫代氰酯基（isothiocyanate group)、 異氰基（isocyano group)、異氰醋基（isocyanate group)、亞硝基（nitroso group)、全氟烧基 (perfluoroalky 1 group)、全氟烧氧基 (perfluoroalkoxy group)、石黃胺基（sulfinyl group)、續醯基（sulfonyl group)、矽烧基（silyl group)、硫代氰酯基（thiocyanate group) o 2. —種高密度光記錄媒體，其使用波長不大於 530 nm之短波長雷射以進行資料讀取及記錄，其包 含： 一第一基板及一覆蓋層（Cover 1 ayer);以及 (s 32 1273 5Qilytwf.doc/g 如申請專利範圍第1項所述之至少一記錄層， 設置於該第—基板與該覆蓋層（Cover layer)之 間’其中該記錄層成分至少包括如中請專利範圍第1 項所述之一染料。 3·如申請專利範圍第2項所述之高密度光記錄 媒體，其中該第一基板及該覆蓋層（c〇ver layer) 之材料係選自由下列各物組成之群：聚碳酸酯 (PC )、聚曱基丙烯酸甲酯（pmma )、聚合樹脂、玻 璃、丙烯酸樹脂（acryl resin)、甲基丙烯酸樹脂 (methacryl resin )、乙酸乙烯樹脂（vinyl acetate resin)、氣乙烯樹脂（vinyl chl〇ride resin)、硝酸纖維素（nitro cel iulose)、聚乙烯 樹脂（polyethylene resin )、聚丙烯樹脂 (polypropylene resin )、聚碳酸醋樹脂 (polycarbonate resin )、聚醯亞胺樹脂 (polyimide resin)、環氧樹脂（epoxy resin)、 聚颯樹脂（polysulfone resin)及！nCOC (環烯烴 共聚物（Metallocene based Cyclic Olefin Copolymer ) ) o 4 ·如申請專利範圍第2項所述之高密度光記錄 媒體’其中該第一基板之厚度在0.5 mm至1.3 mm 之間。 33