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TWI273039B - Service station of ink-jet head - Google Patents

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TWI273039B
TWI273039B TW95109284A TW95109284A TWI273039B TW I273039 B TWI273039 B TW I273039B TW 95109284 A TW95109284 A TW 95109284A TW 95109284 A TW95109284 A TW 95109284A TW I273039 B TWI273039 B TW I273039B
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TW
Taiwan
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nozzle
rotating shaft
groove
hole
ink
Prior art date
Application number
TW95109284A
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English (en)
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TW200736063A (en
Inventor
Chen-Hsing Cheng
Shing-I Hu
Tsung-Yu Hung
Original Assignee
Icf Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Icf Technology Co Ltd filed Critical Icf Technology Co Ltd
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Application granted granted Critical
Publication of TWI273039B publication Critical patent/TWI273039B/zh
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Description

1273039 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種喷頭維護裝置,特別係一種用於製造彩色濾光片之噴 墨裝置之喷頭維護裝置。 ^ 、 【先前技術】 由於液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)為非主動發光之元件,必 須透過内部之背光源提供光源,搭配驅動IC與液晶控制形成黑、白兩色之 灰階顯示,再透過彩色濾光片(Color Filter)之紅(R)、綠(G)、藍'(B)三種顏色 層提供色相,形成彩色顯示畫®,因此彩色渡光片為液晶顯示器彩色化之 關鍵零組件。 喷墨方法為使用一喷墨裝置將含有RGB顏色層之墨水同時噴射於一玻 璃基板上之黑色矩陣内,墨水滴被脫水後於該基板上形成著色之rgb顏色 層圖案。使用喷墨方法能夠-次形成RGB顏色層,使得製備過程大量簡化, 成本大幅降低。故’喷墨方法具有製程簡化、聰、節省猶之諸多^點。 上述之噴墨裝置具有複數喷頭,各喷頭具有一墨水室及一噴嘴,墨水 室用以暫_存特定量之4水,喷嘴與墨水室相連。藉由—外部壓力將 水從墨水室歸倾㈣至紐上之概像魏_。由祕板上之每;_ 像素區域之容積為微米級’若墨水前於噴嘴上,職留之墨水會防礙墨 水下次之喷出,如此,便較難控制墨水下次之喷出量,難以保證^顏色^ 之均勻度^另’喷頭於待機狀態時,喷頭中之墨水會揮發,乾燥之墨水^ 堵塞喷頭導致墨水不_财出。因此,_之清潔及轉顯得尤為^要二 有鑑於此,提供-種能夠保證喷頭在待機狀態下,喷頭上之 ^水不會娜、絲,還可崎时嘴巾之阻絲,紐喷頭正常運作之 裳置實為必要。 【發明内容】 以下將以實施例說明一種噴頭維護裝置。 3_維護裝置,其包括__封罩歡,靖罩模吨括—封罩基座 及-與其相連之第-驅動部,該封罩基座包括設置於封罩基座上之第一凹 6 1273039 槽,複數密封孔及至少-單孔’該單孔設置於該第—凹槽底部,該單孔上 設置有單孔密封圈,㈣孔上設置有密封關,該第—驅動部用以 罩基座轉動之動作。 ' _ 相較於先前技術,所述之喷頭維護裝置所包括之封罩模組可以保證噴 頭在待機狀態下,喷頭上之喷嘴中之墨水不會揮發、乾燥,還可以清除喷 嘴中之阻塞物,保證喷頭正常運作。 ”、 【實施方式】 請-併參考第-圖及第二圖,本發明之噴頭維護裝置第一實施例包括 一封罩模組100,其包括一封罩基座11〇及一與該封罩基座11〇相連之第一驅 蒙動部120,該封罩基座110包括兩個設置於封罩基座11〇上之第一凹槽114,三 個密封孔112及兩個單孔111,該三個密封孔112平行設置,且兩個^一凹^ 114分別設置於兩個相鄰密封孔112之間,該兩個單孔ln分別設置於兩個^ 一凹槽Π4底部,每一個密封孔112上設置有一密封孔圈1122,單孔ui上設 置有單孔密封圈Π12。 & 單孔密封圈1112與密封孔圈1122用彈性良好之橡膠製作。 於本實施例中,設置三個密封孔U2分別對應三個喷頭,噴頭上具有併 列排佈之複數喷嘴。喷頭在待機狀態時,將喷頭移動到密封孔112之^方, 準,定位,將喷嘴置入密封孔112内,設置於密封孔112内之密封孔圈肋 i 緊密地包裹噴嘴邊緣,此時,喷頭之出液口即喷嘴則置於密封孔圈ιΐ22下 方之密封孔112内,密封孔圈U22之開口形狀與喷嘴相配合,便於緊密包裹 喷嘴邊緣。 μ 違饴封孔112外接一控制閥,該控制閥用來控制密封孔112内之氣壓, 從而使得該密封孔112内具有負壓,密封孔圈1122所包裹之喷嘴内之阻塞物 於負壓的作用下被吸出。 於該封罩基座110上設置一第一凹槽114,單孔lu設置於該第一凹槽 ^4底部,該單孔m外接一控制閥,該控制閥用來控制單孔ui内之氣壓,曰 使得單孔1U内具有負壓,其工作原理與密封孔112内之負壓設計相同, 當需要清理單一喷嘴之阻塞物時,喷頭會沿著第一凹槽114之與密封孔112 平行之延伸方向移動,將所需處理之喷嘴移動到單孔1U之上方,隨後將喷 7 1273039 ' 嘴伸人單孔111内’單孔密封圈⑽可以糊自身良好的雜將置入其内之 . 喷嘴邊緣緊密地包裹’同時喷頭之魏口即喷侧置於單孔密封圈lm下 方=單孔ill内,喷嘴内之阻塞物會由於負壓功能將其從噴嘴内吸出。當清 •理I—噴嘴之阻絲時,其餘喷嘴有可能會產生驗,所產生之漏液會^ 留於第-凹槽114底部,故需於第一凹槽114底部設置複數排液孔113,該排 液孔113與封罩基座11G之底面連通,㈣於第―凹槽u納之液體經由排液 孔113排出封罩基座no之外。 上述第一驅動部120包括:一第一驅動裝置121,例如馬達;一與第一驅 動裝置121相連之第一轉軸1211,第一驅動裝置121可以驅動第一轉軸ΐ2ιι • 轉動並控制其轉動速度與轉動距離;一底座123 ; —與該底座123相連之底 座轉軸1231,該第一轉軸1211轉動可以通過傳動帶122來帶動該底座轉軸 工231轉動’底座轉軸1231轉動所轉動之角度與第一轉軸1211相對應,故, 第一驅動裝置121可以通過對第一轉轴1211的控制來控制底座轉軸1231 ; 一 相對底座轉軸1231設置之緩衝座124,利用複數彈簧連接該緩衝座124與封 罩基座110,該底座轉轴1231帶動緩衝座124轉動,當封罩基座no受到外界 衝擊時,與封罩基座110相連之緩衝座124可以吸收衝擊之能量,以防止喷 頭因碰撞而受損。 > 請參考第三圖,本發明之喷頭維護裝置進一步包括一擦拭模組2〇〇。該 擦拭模組200包括一承載板210,及一與承載板210相連之第二驅動部22〇, 鲁該承載板210上具有一第二凹槽211,該第二驅動部220用以控制擦拭布224 於該第二凹槽211上方移動之動作。 上述第二驅動部220包括:一第二驅動裝置221,例如馬達;一與第二驅 動裝置221相連之第二轉軸222,在此,設置複數與第二轉轴222相配合之從 動轉軸2222,第二轉轴222通過擦拭布224帶動從動轉軸2222轉動,第二驅 動裝置221可以驅動第二轉軸222轉動並控制其轉動速度與轉動距離;一與 第二轉轴222相配合之從動轉軸223,擦拭布224纏繞於從動轉軸223上,擦 拭布224之一端經過上述承載板210上之第二凹槽211上方與第二轉軸222相 連,在此,第二轉轴222通過轉動使得擦拭布224於第二凹槽211上方移動, 已經經過第二凹槽211上方之擦拭布224再纏繞於該第二轉軸222上。擦拭布 8
請。惟,以 上所述者僅為本發明讀佳實财式,本_之· 為限,舉凡熟悉本案技藝之人士,在援依本t f施方式 變化,皆應包含於以下之申請專利範圍内本案&月精神所作之等效修飾或 【圖式簡單說明】 1273039 224於第二凹槽211上方所移動之距離由第二驅動裝置221來控制。值得注意 的是’第二轉軸222與從動轉軸223應當設計為可快速拆卸結構,便於更換 擦拭布224。 ' 上述擦拭布224選用質地柔軟之無塵布。 上述承載板210選用鐵弗龍材料製作。 於從動轉轴2222上連接一編碼器2221,該編碼器2221紀錄從動轉軸 2222之轉動速度與轉動距離,從而測得擦拭布224所移動之距離,所得數據 可以傳輸到第二驅動裝置221,實現第二驅動裝置221對第二轉軸222的控制 進而控制擦拭布224之移動速度與距離。 一於擦拭布224之下方設置一光傳感器225,當擦拭布224使用完畢時,該 光傳感器225可以發出一訊號,便於更換擦拭布224。 對需要擦拭之喷頭進行擦拭使通過下述過程完成的,首先將需要擦拭 之喷頭移動到承載板210上方即第二凹槽211上方,再將喷頭向第二凹槽加 底,向移動,於第二凹槽211底部上方一預定距離之位置上將喷頭停曰留一 預定時間,在默時_,第二轉軸222與從動轉軸223她合並通過第二 轉軸222的轉動使第二凹槽211上方之擦拭冑224緊貼承載板2ι〇,同時增大 擦拭布224的表®張力,減布224侧絲面張力$时麵對其進^产 該預定距離要小於第二凹槽211之深度,該預定時間可根據具&情二 疋,以能夠將喷頭上多餘之墨水或其他異物除去即可。 請參閱第四圖,本發明喷頭維護裝置之第二實施例包括: 400,; -封罩模組細;一擦拭模組測,其中,該清洗模、组細與擦拭^且 200分別設置於該第-基板·,上。喷頭可以通過該 擦拭喷嘴之動作,及防止喷嘴中之墨水揮發、乾燥,清除噴j 之動作。 土 综上所述,本發明符合發明專利要件,妥依法提出專利申 9 1273039 第一圖係本發明喷頭維護裝置之封罩模組之立體示意圖。 第二圖係第一圖中所示封罩模組之封罩基座之立體示意圖。 • 第三圖係本發明喷頭維護裝置之擦拭模組之立體示意圖。 第四圖係本發明喷頭維護裝置第二實施例之立體示意圖。 【主要元件符號說明】 封罩模組 100 單孔 111 封罩基座 110 第一驅動部 120 第一驅動裝置 121 密封孔 112 底座轉轴 1231 第一轉軸 1211 底座 123 傳動帶 122 緩衝座 124 第一凹槽 114 密封孔圈 1122 單孔密封圈 1112 排液孔 113 擦拭模組 200 承載板 210 第二凹槽 211 第二驅動部 220 擦拭布 224 光傳感器 225 從動轉轴 223, 2222 第二驅動裝置 221 第二轉轴 222 編碼 2221 第一基板 400?

Claims (1)

1273039 十、申請專利範圍: ,其包括—料敎,聰罩敝包括—封罩基座 2弟一驅動部’該峨座包括設置於封罩基座上之第 單孔有少—單孔,該單孔設置於第—凹槽底部,該 桃墙插關爾—驅動部 2. ίΐ請專利範圍第1項所述之喷頭維護裝置,其中,所述複數贿孔平 3二罩基座上’所述第-凹槽與密封孔相間設置。 .申明專利耗圍第1項所述之噴頭維護裝置 括··-第-驅動裝置;-與該第_驅_^、/:4弟駆動部包 -與該底座树之底座轉軸目連之第—轉軸;一底座; 《如申請專利範圍第i項所述之噴頭維護裝置, 孔,其設置於該第一凹槽底部。 八 乂匕括稷數排液 5. 如申請專利範圍第瑀所述之喷頭維 組,該擦拭模組包括一承载板及_ :之第一:=括-擦拭模 移動之動作。 用以控制擦拭布於該第二凹槽上方 6. 如申請專利範圍第5項所述之噴 括-第二驅動裝置;一盘、_跡°裝置’八中’所述第二驅動部包 擦拭布之從動轉軸,擦拭布之-端:轉軸;-裝設有 .項所述之噴頭維護裝—置,其二步包括—編石", 轉軸相配合之從動轉軸,第^蔓裝置,其進—步包括複數與第二 器,其設置於擦找布之下方。 更衣置,、進-步包括-光傳感 11
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