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TWI272321B - Process for producing single crystal of compound semiconductor and crystal growing apparatus - Google Patents

Process for producing single crystal of compound semiconductor and crystal growing apparatus Download PDF

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TWI272321B
TWI272321B TW092134902A TW92134902A TWI272321B TW I272321 B TWI272321 B TW I272321B TW 092134902 A TW092134902 A TW 092134902A TW 92134902 A TW92134902 A TW 92134902A TW I272321 B TWI272321 B TW I272321B
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Toshiaki Asahi
Kenji Sato
Takayuki Yabe
Atsutoshi Arakawa
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Nippon Mining Co
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Description

1272321 (υ 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種化合物半導體單晶的製造方法及結 晶成長裝置,特別是適用在藉由液體封閉柴氏(LEC )法 ’製造如ZnTe系化合物半導體單晶的方法及結晶成長裝 置的有用技術。 【先前技術】 現在,ZnTe系化合物半導體單晶是被期待作爲可利 用在純綠色的光發光元件的結晶。又在最近,更提高作爲 光發光元件的發光特性施以提高結晶的導電性的工夫,而 作爲該方法進行著將磷或砷等的雜質添加於結晶中的方法 〇 在此,利用著如垂直布里志曼(VE)法或垂直溫度 斜面徐冷(V G F )法地在結晶成長時可添加雜質的成長方 法。 但是依VB法或VGF法的ZnTe系化合物半導體單晶 的製造’是可成長大型結晶,相反地在以封閉劑覆蓋的狀 態下冷卻而成長結晶之故,因而經常產生藉由封閉劑與成 長結晶之熱脹差使結晶裂開的情形。 如此,本案發明人等是提案一種與vB法或vGF法同 樣地,利用在結晶成長時可添加雜質的LEC法,而成長 大型的ZnTe化合物半導體結晶的技術(日本特願2〇〇2_ 249963 號)。 (2) 1272321 上述先前技術是使用坩堝構造的結晶成長裝置而藉由 LEC法來成長結晶者,一直到終了結晶成長爲止一面保持 成長結晶的表面被封鎖劑的狀態一面成長結晶。由此,抑 制從成長結晶的表面蒸發構成成分,防止惡化成長結晶的 結晶性之故,因而可成長成品質優異的單晶。
可是,在上述先前技術中,沿著內坩堝的內壁而成長 結晶,就不使用大量封閉劑而一直到終了結晶成長爲止以 封閉劑可覆蓋成長結晶的表面。 然而,以封閉劑覆蓋成長結晶的表面,也並無法充分 地抑制分解成長結晶的構成成分,而也有蒸發成長結晶的 構成成分的可能性。
如此本發明是可適用於利用 LEC法的結晶成長法的 技術,其目的是在於提供一種容易地防止成長結晶的構成 成分會蒸發,又以優異的結晶品質可成長大型ZiiTe系化 合物半導體單晶的化合物半導體單晶的製造方法及結晶成 長裝置。 【發明內容】 本發明是爲了達成上述目的’一種化合物半導體單晶 的製造方法,其特徵爲:在由有底圓筒形第一坩堝,及配 置於該第一坩堝內側的狀態且在底部具有與上述第一坩堝 的連通孔的第二坩堝所構成的原料融液收容部收容半導體 原料與封閉劑; 藉由將在前端具有晶種結晶保持部的結晶拉起軸設置 -6 - (3) 1272321 可導入於上述第二坩堝的貫通口的板狀構件而加蓋於上述 第二坩堝’作成上述第二坩堝內的氣氛幾乎不變化的狀態 ’加熱上述原料收容部而熔融原料,下降上述結晶拉起軸 而在上述原料融液表面接觸晶種結晶;一面上述該結晶拉 起軸一面成長結晶(所謂LEC法)。 在此’第二坩堝內的氣氛幾乎不變化的狀態,是指完 全地被密閉的狀態,或是即使有稍些間隙也視作爲幾乎密 閉的狀態’或氣氛中的構成成分或其蒸氣壓幾乎不變化的 狀態。 由此,成長結晶是在第二坩堝內被拉起,隨著進行成 長使得結表面由封閉劑露出,惟第二坩堝內成爲大約密閉 構造之故,因而可有效果地抑制從成長結晶表面蒸發構成 成分。因此,可製造在結晶表面無分解的高品質的化合物 半導體單晶。又,藉由LEC法可將雜質容易地添加在結 晶成長中之故,因而將所製造的單晶作爲基體而可製造具 有所期望的特性的發光元件等的半導體元件。 又,在拉起成長結晶之同時,成長結晶的表面藉由封 閉劑所露出.的一般性LEC中,也可抑制成長結晶的構成 成分被蒸發之故,因而可製造結晶缺陷還少的高品質單晶 〇 又,上述板狀構件是以該結晶拉起軸被插通的狀態下 ,不能脫落地安裝於上述結晶拉起軸;在下降上述結晶拉 起軸之際,被支持於上述第二坩堝的側壁上端成爲蓋部。 由此,可將結晶拉起軸經由板狀構件而確實且容易可 (4) 1272321 導入於第二坩堝之同時,從第二坩堝可容易地取出成長結 晶。 作爲其他方法,也可能有例如將設置貫通口的狀態構 件事先固定於第二坦禍上部作爲蓋部,從板狀構件上部下 降結晶拉起軸,穿通貫通口而被導入在第二坩堝的方法, 惟在該方法中,若貫通口的中心與結晶拉起軸的中心有些 精度不準,則會使結晶拉起軸相撞於板狀構件,而有損壞 兩者之虞。又,也有考量估計貫通口與結晶拉起軸的中心 偏離,增大貫通口的直徑與結晶拉起軸的直徑相差,惟第 二坩堝內與密閉構造完全不一樣之故,因而成長結晶的構 成成分被蒸發之虞。又,若在第二坩堝固定在蓋部,則在 取出成長結晶之際須拆下蓋部,因而會降低單晶的生產性 〇 在本發明中,不會產生此種缺點問題的顧慮,可將第 二坩堝容易地作成半密閉構造。又,隨著結晶拉起軸的上 昇’也從內坩堝直接拆下板狀構件之故,因而可容易地取 出成長結晶。 又’本發明的結晶成長裝置,其特徵爲:至少具有可 密閉的外側容器·,配置於該外側容器的內側的有底圓筒形 的第一 i甘禍1 ;在配置於該第一坩堝內側的狀態下底部具有 與上述第一坩堝的連通孔的第二坩堝;在前端具有晶種結 晶保持部的結晶拉起軸;具有將上述結晶拉起軸可導入在 上述第二ί甘禍的貫通口,成爲上述第二坩堝的蓋部的板狀 構件。 -8 - (5) 1272321 依照此種結晶成長裝置,在結晶成長中第二坩堝是大 約被密閉之故,因而可有效果地抑制從成長結晶表面蒸發 構成成分,而可製造結晶缺陷較少的高品質單晶。 又,上述板狀構件是事先插通在上述結晶拉起軸在上 述結晶拉起軸設置防止上述板狀構件脫落的防脫構件。例 如在安裝於結晶拉起軸前端的晶種結晶保持部,可兼用作 爲防脫構件的功能。 又,上述板狀構件是石英製玻璃板較理想。由此,蒸 發板狀構件的構成元素,減少成長結晶的品質會惡化的可 能性。 又,藉由設在上述板狀構件的貫通口的直徑,及與上 述結晶拉起軸的直徑的相差是 1 mm以下,可將第二坩堝 有效果地作成半密閉構造。 【實施方式】 以下,依據圖式說明本發明的適當實施形態。 第1圖是表示本實施形態的結晶成長裝置的槪略構成 圖。 本實施形態的結晶成長裝置1 〇 〇是由:高壓容器1, 及在其內部配置在與高壓容器同心圓上的隔熱材2及加熱 電熱器3,及垂直地配置於高壓容器1的中央部的旋轉軸 4’及配置於旋轉軸4上端的基座13,及形成被嵌合於基 板的有底圓筒狀的pBN製的外坩堝(第一坩堝)5,及配 置在外坩堝5內側的PBN製的內坩堝(第二坩堝)6,及 (6) 1272321 垂直地設於內:t甘渦6上方且在下端具備固定晶種結晶9的 晶種結晶保持具8的旋轉拉起軸7,及插入在旋轉拉起軸 7且藉由晶種結晶補工模8被保持成不會脫落的石英製玻 璃板1 〇所構成。 內坩堝6是具有在底面與外坩堝5連通的連通孔6a ,經由該連通孔使得原料融液1 2能從外坩堝5移動至內 坩堝6。又內坩堝6是藉由適當的保持具(未圖示)被固 定在外坩堝5或是其他工模。 又,旋轉拉起軸7是連結於配置在高壓容器1的外部 的驅動部(未圖示)而構成旋轉拉起機構。旋轉軸4是連 結於配置在高壓容器1的外部(未圖示)而構成的坩堝旋 轉機構之同時,構成基板昇降機構。又,旋轉拉起軸7及 坩堝旋轉軸4的旋轉以及昇降移動的運動,是分別獨立地 設定或控制。 又,在石英製玻璃板1的中心,設有比旋轉拉起軸7 的直徑稍大的貫通口,而在該貫通口插通有旋轉拉起軸7 。例如貫通口的直徑與旋轉拉起軸7的直徑的相差是作成 1 mm以下較佳。此乃若過於增大貫通口直徑,則與旋轉 拉起軸7與石英製玻璃板1 〇之間隙會變大之故,因而會 降低密閉內坩堝6的功能。 使用上述的結晶成長裝置’藉由液體封閉柴氏法,一 面旋轉晶種結晶所成長的單晶棒一面拉起,而在其下端可 成長高純度的單晶。 以下,使用結晶成長裝置I 〇 〇 ’作爲化合物半導體的 -10- (7) I272321 〜例具體地說明製造ZnTe化合物半導體單晶的方法。第 2圖是表示ZnTe化合物半導體單晶的成長過程的說明。 在本實施形態中,作爲外纟甘渦使用內徑1 〇 0 m m f X高 度1 00mm x厚度1mm的pBN製坩堝,而作爲內坩堝使用 內徑54mmfx高度lOOmmx厚度1mm的pBN製j:甘禍。又 ’在內坩堝6的底面的中心部形成直徑〗〇 m m的連通孔6 a 〇 又,旋轉拉起軸7的直徑是12mmf,而設於石英製玻 璃板10的貫通口的直徑是作成13mm。 首先,作爲原料將純度6N的Zn與6N的Te使得Zn 與Te成爲等莫比地合計1.5kg放進外坩堝5及內坩堝內 ’而以400g的封閉劑(B2〇3 ) 1 1覆蓋其上面,使封閉劑 層的厚度成爲35mm。 之後,將外坩堝5及內坩堝6配置在基座1 3上,調 整高壓容器1內成爲以惰性氣體(例如Ar )充滿成所定 壓力。這時候,內坩堝6是藉由加熱電熱器2使得原料被 融解之後,以保持具固定成距液面20mm的深度浸漬在原 料融液的狀態。 又,原料融液是隨著結晶成長徐徐地減少,惟藉由旋 轉軸4的昇降驅動使基座1 3 (外坩堝5 )上昇,來控制內 坩堝6的浸漬狀態。例如,內坩堝6以距原料融液的液面 1 0 m m至4 0 m m的範圍被保持成浸漬狀態。 又,一面以封閉劑抑制原料表面,一面使用加熱電熱 器2而在所定溫度加熱,融解Zn與Te直接合成,在融解 -11 - 1272321 (8) 原料的狀態下保持一定時間。 以下,如第2 ( a )圖所示地,下降保持晶種 的旋轉拉起軸7。這時候,石英製玻璃板1 〇是僅 種結晶保持具8所支撐之故,因而與旋轉拉起軸一 。在此,晶種結晶使用結晶方位爲(1 〇〇 )的ZnTe 又,爲了防止晶種結晶9被分解,以鉬製蓋體(未 來覆蓋晶種結晶。 又,如第2 ( b )圖所示地,在石英製玻璃板1 內坩堝6的側壁之後,石英製玻璃板是被支持在內 之故,因而僅旋轉拉起軸被導進內坩堝6內。 然後,將晶種結晶接觸於原料融液的表面之後 至2rpm的旋轉速度旋轉旋轉拉起軸7,一面以2 的速度拉起,一面形成結晶的肩部。這時候,如_ )圖所示地,成長結晶的胴體部的直徑是成爲與內 內徑大約相同之故,因而不必藉由拉起速度及坩堝 拉起軸的旋轉速度來控制詳細直徑,可容易地得到 直徑的結晶。 如第2 ( d )圖所示地,結晶成長終了後僅冷 時間之後,上昇旋轉拉起軸7而取出成長結晶。這 石英製玻璃板]〇是被支持於晶種結晶保持具8而 昇之故,因而可容易地取出成長結晶。 如上所述地,進行依液體封閉柴氏(LEC )法 成長,在結晶成長後從封閉劑1 1分開成長結晶而 破裂的ZnTe化合物半導體結晶。是不會看到以一
結晶 9 錯由晶 起下降 結晶 ° 圖示) 〇到達 坩堝6 ,以1 .5 mm/h I 2 ( c 坩堝6 或旋轉 所期望 卻所定 時候, 直接上 的結晶 得到無 般LEC -12- (9) 1272321 法所培育的結晶的表面分解,而且有光澤面,此乃內坩堝 6藉由石英製玻璃板1 〇被密閉之故,因而幾乎不會變化 內部的氣氛狀態,而可防止成長結晶被分解而蒸發的情形 〇 又,所成長的結晶大小是直徑5 4mm fx長度60mm, 可實現習知認爲困難的ZnTe系化合物半導體單晶的大型 化。 以上依據實施例具體地說明藉由本發明人所實行的發 明,惟本發明是並不被限定於上述實施例。 例如,在本實施形態中,作成沿著內坩堝6的內徑來 成長結晶;使成長表面成爲被封閉劑覆蓋的狀態,惟也可 適用於拉起成長結晶之同時,成長結晶的表面由封閉劑所 露出的一般性L E C法,可抑制成長結晶的構成成分會蒸 發之故,因而可製造結晶缺陷較少的高品質單晶。 又,藉由在原料融液中添加作爲摻雜劑的雜質,成爲 可容易地控制結晶的導電性。這時候,在外坩堝5內的原 料融液中的雜質濃度與內坩堝6內的原料融液中的雜質濃 度產生相差,惟藉由將第二坩堝的連結孔的大小適當地變 更第二坩堝的內徑,來控制原料融液中的雜質濃度的相差 ,成爲可將內坩堝6內的原料融液中的雜質濃度保持成一 定。 依照本發明,由於在由有底圓筒形第一坩堝’及配置 於該第一 i甘禍內側的狀悲且在底部具有與上述弟一 ί甘渦的 連通孔的第二坩堝所構成的原料融液收容部收容半導體原 -13- 1272321 (10) 料與封閉劑;藉由將在前端具有品種結晶保持部的結晶拉 起軸設置可導入於上述第二坩堝的貫通口的板狀構件而加 蓋於上述第二坦渦,作成上述第二坦渦內的氣氛幾乎不變 化的狀態;加熱上述原料收容部而熔融原料,下降上述結 晶拉起軸而在上述原料融液表面接觸晶種結晶;一面上述 該結晶拉起軸一面成長結晶,因此進行結晶成長的第二祖 堝內成爲半密閉構造,而可有效果地抑制從成長結晶表面 蒸發構成成分。 因此,使用L E C法進行結晶成長之際,可製造結晶 缺陷較少的高品質單晶。又,藉由LE C法可將雜質容易 地添加在結晶成長中之故,因而將所製造的單晶作爲基體 而可製造具有所期望的特性的發光元件等的半導體元件。 〈產業上的利用可能性〉 本發明是並不被限定於ZnTe化合物半導體單晶,即 使在含有ZnTe的三維以上的ZnTe系化合物半導體單晶或 其他化合物半導體單晶的製造上也有效,藉由適用本發明 可得到大型又高品質的化合物半導體單晶。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示被使用在本發明的實施形態的結晶成長 裝置的槪略構成圖。 第2圖是表示ZnTe化合物半導體單晶的成長過程的 說明圖。 •14- (11) 1272321 (記號的說明) 1 :高壓容器 2 :隔熱材 3 :加熱電熱器 4 :坩堝旋轉軸 5 :外坩堝(第一坩堝)
6 :內坩堝(第二坩堝) 6a :連通孔 7 :石英製玻璃板 8 :晶種結晶補工模 9 :晶種結晶 η 1 0 :石英製玻璃板 1 1 :封閉劑 1 2 :原料融液 1 3 :基座 1 4 :結晶成長裝置 •15-

Claims (1)

1272321 ·) ,: " ' '·; V,: —π,」過 拾、申請專利範圍 第921 34902號專利申請案 f 中文申請專利範圍修正本 民國95年9月25日修正 1 · 一種化合物半導體單晶的製造方法, 在由有底圓筒形第一坩堝,及配置於該第一坩堝內側 的狀%且在底部具有與上述第一祖堝的連通孔的第二纟甘渦 所構成的原料融液收容部收容半導體原料與封閉劑; 藉由將在前端具有晶種結晶保持部的結晶拉起軸設置 可導入於上述第二坩堝的貫通口的板狀構件而加蓋於上述 第二坩堝,作成上述第二坩堝內的氣氛幾乎不變化的狀態 9 加熱上述原料收容部而熔融原料,下降上述結晶拉起 軸而在上述原料融液表面接觸晶種結晶; 一面上述該結晶拉起軸一面成長結晶,其特徵爲·· 上述板狀構件是以該結晶拉起軸被插通的狀態下,不 能脫落地安裝於上述結晶拉起軸;在下降上述結晶拉起軸 之際,被支持於上述第二坩堝的側壁上端成爲蓋部。 2· —種結晶成長裝置,至少具有: 可密閉的外側容器; 配置於該外側容器的內側的有底圓筒形的第一坩堝; 在配置於該第一坩堝內側的狀態下,底部具有與上述 第一坩堝的連通孔的第二坩堝; 1272321 (2) 在前端具有晶種結晶保持部的結晶拉起軸; 具有將上述結晶拉起軸可導入在上述第二坩堝的貫通 口,成爲上述第二坩堝的蓋部的板狀構件,其特徵爲·· 上述板狀構件是事先插通在上述結晶拉起軸;在上述 結晶拉起軸設置防止上述板狀構件脫落的防脫構件。 3 ·如申請專利範圍第2項所述的結晶成長裝置,其 中’上述板狀構件是石英製玻璃板。 4 ·如申請專利範圍第2項或第3項所述的結晶成長 裝置,其中,設在上述板狀構件的貫通口的直徑,及與上 述結晶拉起軸的直徑的相差是1 mm以下。 -2-
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