TWI269379B - Back-grinding/dicing tape applying system - Google Patents
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Description
1269379 坎、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 =發明係關於使用切晶帶之裝置,該裝置在一晶圓切割 ^丽在其背部使用一切晶帶,及使用背部研磨/切晶帶之系 流曰其包括··一背部研磨器,其藉由研磨一晶圓之背部使 Q又4,及一使用切晶帶之裝置,其向該變薄之晶圓 的背部使用一切晶帶。 【先别技術】 /在製造半導體中,在一晶圓表面上形成諸多晶片(晶粒) " 半$ 日日片而藉由一切晶程序(其中,將晶粒分離)及 、、’、口耘序(其中,將晶粒固定於一鉛制框架或類似結構上 並進行焊接)而完成。在該切晶程序中,可藉由一切晶裝置 在一晶圓之表面上的晶粒之間形成溝槽並使該等晶粒分離 。在该晶圓背部使用-切晶帶,以避免該等晶粒在分離過 程中散開。 圖1A與圖1B為顯示切晶前一晶圓的狀態之圖式,圖1 a為 頁視圖,而圖1B為一斷面圖。如圖所示,將一晶圓}配置 於一盤狀框架2内的一圓孔中,並將在該晶圓i與框架2的背 邰使用切晶帶3。一切晶裝置在晶粒之間會形成許多溝槽。 I成之溝槽使之到達切晶帶3,但即使晶圓切割成晶粒時, 由於其背部使用有切晶帶3,故該等晶粒不會散開。在某些 情況中,首先形成之該等溝槽使得該晶圓之一部分保留不 切割,隨後在該組合程序中將晶圓完全分離。在該組合程 序中,在該晶圓與該框架之間之部分切晶帶3展開(擴展狀 86500 1269379 態)時,執行一焊接程序,並逐一挑揀各晶圓,將6 -鉛制框架、一電路薄膜或類似結 、疋於 或類似牛,u狀 此日執行冷卻 ^ V ”’ ,以使垓等晶粒容易與該切晶帶3分離。 為在晶圓1與框架2的背部使用切晶帶3,使用一 :裝置。在該使用切晶帶裝置中,在該晶圓1的表面 木2的表面保留於臺面之狀態,將在該晶圓1與該框架2的北 度f於該框架的一切晶帶,使-切割Μ ^ 〇匡木上的该切晶帶接觸,並旋轉至將其切割成一圓形, 並在剝離該切晶帶後留下一圓形切晶帶。 最近,不是在如上述使用切晶帶之後進行切割,而是使 用已預先切割成一固定形狀並保留於一載膜上的切晶帶。 此處’預先切割成一固定形狀的切晶帶稱為預切割切晶帶 ,而預先亚未切割而待以後切割的的傳統切晶 割切晶帶。當使用預切割切晶帶時,,需要切割器= 須提供一機構,用於提供一具有一偵測器的預切割切晶帶 ,該偵測器偵測一預切割切晶帶的邊緣位置,並在該位置 相對於保持在固定位置的該晶圓及該框架對齊後,使用切 晶帶。 如上所述,在將已完成切晶程序之該晶圓上的各晶粒固 疋於一包裝(諸如一鉛架或用於下一組合程序中之電路的 薄膜)後,該晶粒的電極焊墊與該包裝的電極可藉由一焊線 或類似物連接。在向一晶粒背部或該包裝使用一黏合劑後 ,將該晶粒固定於該包裝。由於黏合劑具有流動性,其會 散佈至該包裝之該焊接表面的周邊及該晶粒的該等側面, 86500 1269379 固。由於該趣,會產生一問題,即該 月匕政佈至遠處不需要黏合的部 至p 4 卩刀。例如,若該黏合劑散佈 至“粒之表面’則該電極焊塾與該連接導線(如該 間的電性連接會受到不利影響。 X干") 接Γ,需使用將該包裝固定於該晶粒之背部的-晶粒焊 接H帶被稱為晶粒黏„、晶粒焊接膜等等。通常 各晶粒係逐個黏合於晶粒焊接帶,但此情況下的效率不古 ’因r在該晶圓的背部使用由一切晶帶與一晶粒谭接; 互相烊接組成的一;f,並將該晶圓與該晶粒焊接帶—同切 割。在隨後的組合階段,在該晶粒焊接帶附著於背部狀能 下,將該晶粒從該切晶帶上剝離,並將其㈣於該包裝: 。該切晶帶使用—材料’該材料的黏合力與該晶粒焊接 所用材料的黏合力不同,因A,可在該晶粒焊接帶附著於 晶粒狀態下’將該晶粒從該切晶帶剝離’並將二帶以紫外 線照射、加熱、冷卻等等。該晶粒焊接帶可附著於該未切 割切晶帶與該預切割切晶帶上。
最近的趨勢之一為在可攜式裝置或卡上安裝半導體裝置 更加頻繁,因此使半導體晶片(晶粒)變得越來越薄。為此 ,切晶前,用一研磨器研磨一晶圓的背部。這稱為背部研 磨,用於背部研磨的裝置稱為背部研磨器。在該表面使用 一保護帶用於保護的狀態下,執行背部研磨。當對—晶圓 執行背部研磨時,會產生變形,其可藉由蝕刻移除,但Z 刻不能在使用了保護帶的狀態下執行,因此,應在保護帶 剝離後執行蝕刻。藉由背部研磨,該晶圓之厚度通常會Z 86500 1269379 得約小於1 5 Ο μηι。 最·近,取代月部研磨接办丨 ., 傻钱刻的方法,對一晶圓背部執行 抛光以移除變形部分,R。θ / 且已盛行使用抛光/背部研磨裝置。 該裝置之好處在於,用以梦^…# 用以私除交形之背部研磨及拋光可使 用同一裝置完成,因此製造效率高。 在稭由上述使用切晶帶之裝置使用_切日日日帶後,在切晶 程序中將該㈣研磨晶圓分成“,並目定於—包裝中然 後組合。一般而5 ’將該丰導辦制、土加& / 千V脰衣造私序分成一前程序(其 中對該晶圓進行處理)及—後程序,該後程序係、在該晶圓^ 的所有程序結束後執行。例如在某些情況下,該前程序係 在一國家之一工廠内執行,而兮你 Ί 向3後程序係可在另一國家的 另一工廠内執行。 如上所述,該切晶帶包括該未切割切晶帶與該預切割切 晶帶,且該未切割切晶帶為傳統用法,而該預切割切晶帶 係最近才盛行使用。一般認為,值銥 勺得統的使用未切割切晶帶 裝置不能用於使用預切割切晶帶,# 7曰曰V,因此該裝置不能使用預 切割切晶帶。而且,該使用預切宝丨 貝刀割切晶帶裝置係在假定其 使用預切割切晶帶而製造的,因Μ 甘 U此,其不能使用未切割切 晶帶。一使用切晶帶裝置為(如上 ^ 、 上所述)一僅能使用一種帶 的裝置。 然而如上所述,該未切割切晶器命# ^ 日日咿與該預切割切晶帶在實 際製造程序中需混合使用,因此有 ’义要提供兩種使用切晶 帶之裝置,即一種用於該未切割切曰册二g ^ 刀日日页,而另一種用於該 預切割切晶帶。這會造成一問題,g ^ 即不但設備成本會增加 86500 1269379 ’而且需要有較大安裝空間。 此外,在剝離該保護帶並在該㈣研磨晶圓上實行餘刻 之後,或在拋光晶圓背部然後剝離該保護帶後,將 置於一晶圓盒内,帶到一工^ i^彳& 、 j廠進仃後處理,並將其切晶及 組合。 如上所述,該背部研磨晶圓之厚度係約小於150 _,去 將削呆h剝離或使用切晶帶後,若在保持該晶圓之 面上有灰層或類似物,則 ^ 貝b亥曰曰囫很谷易損壞出現產量 的問題。_ 牛低 【發明内容】 :發明係考慮了上述問題而開發出來,其第一目的是實 現-使用切晶帶之裝置,其可、 切曰器,,ν砝丨 个刀口j切日日耶與預切割 曰日 减〉、設傷成本並節省空間,第二目的是實現在 :使:背部研磨/切晶帶之系統及在其中使用的使用切曰 置’其係能減少該背部研磨晶圓的損壞率並提高產 為貫現上述第一目的 彳力姑 如曰* 目的依據本發明之第-方面的一使用 〜占 包括.一預切割切晶帶邊緣位置值測哭,复 能谓測該預切割切晶帶H 偵貝J。。其 使用的去+77 W 置及切告1i ,其將所 帶夕壯里^ 7而I狀,以便該使用切晶 页之衣置可用於該未切割切 日日贡及该預切剎切晶帶。 換3之’依據本發明之第— 為對一曰曰圓蚀田, 方面的该使用切晶帶之裝置 徵在於,包括…… '、…刀曰曰耘序的裝置,其特 .一保持该晶圓的臺面;一切晶帶供應機構 86500 1269379 ’其能設定該未切割切晶帶與該預切割切晶帶,並供應設 疋的未切割切晶帶或固定的預切割切晶帶;一預切割切晶 邊彖位置偵’則為’當該切晶帶供應機構供應該預切割切 日曰帶時,其能偵測該預切割切晶帶的邊緣位置;一使用機 構’其在該晶圓背部使用該切晶帶供應機構提供的該未切 ::切ί!物員切割切晶帶;及一切割器,當使用該未切 ^ ^其此將该未切割切晶帶切割成所需形狀。 依據本發明之第一方面的使用切晶帶之裝置可用於未切 割切晶帶與預切割切晶帶,由於該裝置能夠在使用該未切 ::晶帶時將其切割成所需形狀,且在使用該預切割切晶 页日、,其亦能夠藉由該預切割切晶帶邊緣位置偵測器偵測 到邊、、、彖位置,用於對齊位置及使用該切晶帶。 该未切割切晶帶與該預切割切晶帶可藉由該 晶粒焊接帶互相焊接而製成。 冗/、3 為貫現上述第-目的占 的在依據本發明之-第二方面的- 便用月口 [5研磨/ 士刀曰j 1 丨切曰…糸統中,變形部分藉由 研磨裝置移除,在背部研磨 九、4 -仅垃丁 α 所以,月間’在表面所使用的該保護 -保持不爾態了’將該晶圓送至一使用切晶帶之裝置 且在使用該切晶帶後將該保護帶剝離。 換言之,依據本發明之筮- ^月之弟一方面的使用背部研磨/切曰册 之糸統的特徵在於,其包括:―拋光/背部 研磨並拋光晶圓之背部使該晶圓變薄,半導體電^猎由 於该晶圓表面上,且該表面使用保護帶;…成 之裝置,其在該變薄之a 使用切晶帶 -寻之曰曰®、部使用該切晶帶;該使用背 86500 -10- 1269379 部研磨/切晶帶之系統的特徵還在於,使用該切晶帶之後, 该使用切晶帶之裝置將該保護帶剝離。 在依據本發明之該第二方面的使用背部研磨/切晶帶之 系、’該變薄晶圓係在使用_帶的狀態下送至該使用 切曰曰孓之i置’且在使用該切晶帶後將該保護帶剝離,即 該晶圓係始終處於使用—帶之狀態,因此不可能發生損壞。 /依據第二方面的一系統中使用的該使用切晶帶之裝置必 須在使用切晶帶後剝離該保護帶。此外,與第一方面類似 ,该裝置可用於未切割切晶帶與 較為理想。 刀“切日日孓兩種切晶帶 依據本發明之第三方面的一 # 統的特徵在於,里包括p研磨/切晶帶之系 之背…: p研磨器,其藉由抛光晶圓 之月錢该晶圓變薄,半導體電路即 使用切晶帶之裝置,其盥該背 "上,一 變薄之晶圓背部使用該切曰鄰配置,且在該 ^ 发刀日日贡,及一拾α说描 該背部研磨器的該變薄晶圓輪送至該使用切日·其=來自 通常’該背部研磨器及該 ”之凌置。 在不同工薇,因此,經^_二;之裝置係分別安置 與此相反,在依據本發明之第三;=之晶圓進行處理。 研磨器與該使用切晶帶之裝置係相鄰=系:中,該背部 並簡化其間的輸送路徑,減少曰圓/置,因此,可縮短 亦會減少。 日曰圓處理頻率,因而損壞率 【貫施方式】 圖2為一示意圖,其顯 ^製造程序中,本發明的 86500 1269379 5亥寺具體貫施例中—ϋ力忠/此iLR 7:tl l先/月口fv研磨裝置及一使用切晶帶 之裝置之組態。 如圖2所示,已通過探針測試的該晶圓係在置於一晶圓盒 16與17内的狀態下提供。在該晶圓之表面使用一保護帶。 -拋光/背部研磨裝置(p〇Hshing/back_grinding卿㈣加; PG) 1〇的-機械手臂取出置於該晶圓盒“與i7内的該晶圓 並將其輸送至該旋轉台上。隨著台的旋轉,該晶圓移動至 第-研磨器U及-第二研磨器,且其背部受到抛光(背部研 磨)。隨後,該晶圓進一步移動至一拋光器13,接受拋光, 以移除變形部分。然後,藉由—清潔器⑷青除該晶圓背部 及表面上的該等保護帶並將該晶圓輸送至一安裝基座1 $。 -機械手臂21將該安裝基座15上的該變薄晶圓輸送至一基 座22在基座22中將該晶圓反轉過來。隨後,能夠在一 執道25上移動的一機械手臂%將該晶圓輸送至一對準器u 。該對準器23偵測該晶圓的一定向平面或缺口並將該晶圓 調整至一固定位置及方向。隨後,機械手臂26將來自該對 準器23的該晶圓輸送至_ uv照射裝置24。該υνκ射穿置^ 以紫外線照射該等保護帶,以減少該保護帶的黏合力、。隨 後,機械手臂26將該晶圓輸送至—使用切晶帶之裝置%。 上述拋光/背部研磨裝置10與該uv照射裝置24與傳統裝 置相同。在傳統程序中,該晶圓的位置與方向不能由對準 器23調整’且保護帶係在紫外線照射後剝離,該晶圓包含 在晶圓盒之中,其與本項具體實施例不同,在本具體實施 例中,該使用切晶帶之裝置3〇係與該拋光/背部研磨裝^ 86500 -12- 1269379 及4 uv知、射裝置24相鄰配置,且將該晶圓輸送至該使用切 晶帶裝置3Q之操作無需在紫外線照射後剝離保護帶。 在j使用切曰曰帶之裝置3〇中,因為一框架已經安放在 位於藉由參考數字32指示的該部分處的一臺面上,故該晶 圓係月部朝上安放於_圓形孔洞巾。如上所述,該晶圓的 位置與方向已藉由對準器23調整,從而其安置於該臺面上 的一固疋位置處,並亦相對於框架3 1安置於一固定位置處 。固定於該臺面的該晶圓與該框架31移至參考數字32所指 示的位置,並進入一使用切晶帶裝置33,且在該背部使用 該切晶帶後,該晶圓與該框架31在一反轉機構34中反轉, 且該晶圓表面上的保護帶會在一保護帶剝離裝置3 5中剝離 。隨後,該晶圓與該框架自一卸載區段36輸送至一切晶裝 置9 1 ,並在切晶後在一組合裝置92中組合於一包裝中。 圖3為一不意圖,其顯示依據本具體實施例之使用切晶帶 之裝置33的組態。如圖3所示,該晶圓與一框架(此處以參 考數字4指示)被吸至臺面5上。由於具有一移動機構6,故 臺面5可兼在水平及垂直方向中移動。參考數字41所指示為 一切晶帶供應捲盤,其提供該切晶帶,且該旋轉軸可保持 靜止狀態或自由旋轉狀態(其中,旋轉軸藉由拉切晶帶而旋
轉)。該切晶帶係分成切晶帶本身及該襯墊,即部分滾輪U 上的表層覆蓋,且該襯墊與該切晶帶之供給同步繞一宁於 43旋轉。對於不使用襯墊的切晶帶,無需使用滾輪43。= 裝置如此設計,使該切晶帶本身係自滾輪42經由滾輪仏與 47後圍繞一滾輪48旋轉。提供有一邊緣偵測器44, 、 σ /、在預 86500 13 1269379 切割切晶帶情況下,偵測滾輪42與45之間該切晶帶的邊緣。 此外,其亦可能藉由適當改變該邊緣偵測器44的安裝位 置而偵測出該切晶帶之側緣或後緣。 、 滾輪47與48附著於一移動部件46上,且一移動機構的限 制垓私動部件46,使得其僅能向右及左移動。滾輪47稱為 壓帶滾輪’其能向上及向下移動,並在一恒定壓力下下壓 。切割器60係藉由一旋轉移動機構(儘管此處並未顯示)保 持其可旋# ’且該切割器之刀口可圍繞該框架之該孔洞晝 出一圓形軌跡。 圖4為示思圖,其顯示一預切割切晶帶。如圖*所示, -圓形切晶帶52形成於-載送帶51上,—圓形晶粒焊接帶 53形成於其上,並進一步形成一襯墊“,以便覆蓋該載送 帶51。如圖1所示,該切晶帶52係大於該框架2的該圓形孔 ,但不可大於框架2。該晶粒焊接帶53係用於將該晶粒的背 部固定於該包裝上之帶,且其為一圓幵[大小等於或略微 大於該晶圓。載送帶51及襯墊54之製造材料使其易於從切 晶帶52及晶粒焊接帶53上剝離。此處,該圖顯示,其上既 …、切aa V 5 2,也無晶粒焊接帶5 3存在的部分該載送帶$ 1係 直接與該襯墊54接觸,但唯一的要求是,在與該切晶帶” 的該圓形有一固定距離的一區域内沒有切晶帶52與晶粒黏 合帶53存在,因此,切晶帶52與晶粒黏合帶53可存在於除 該特定區域外的任何區域上。 圖5A至5C為示意圖,其說明該使用切晶帶之裝置如何使 用該未切割切晶帶。如圖5A所示,滾輪47與48係位於該對 36500 -14 - 1269379 晶圓的右側及右邊 ^ ^ 而邛,且框架位於滾輪47附近。隨後, 滾輪48終止旋轉,脸μ 又 ^ ^ 將滾輪41帶入一自由旋轉狀態,且將該 移動部件移至为4息 ’從而滾輪47與48亦移至左邊.。因此將 该未切割切晶帶從 攸/衰輪41拉出,且藉由滾輪47使該未切割 切晶帶受壓,並將复 ^貼至δ亥晶圓與該框架的背部。 如圖5 Β所示,去八丄> # ^ 田&生在5亥晶圓與該框架的整個背部使用 該未切割切晶帶之 ▼之狀恶呀,切割器60會移至該框架上,且 一刀片6 1的刀口合盥 y 3 °亥框木上的該未切割切晶帶接觸。隨 後’切割器60旋糙梦知 w 一 心動’亚將該未切割切晶帶切割成圖1 所示形狀。 ί1近後如圖5C所示,滾輪4H皮帶入一靜止狀態,且藉由 在滾輪48旋轉時,將該移動部件移至右邊,而將滾輪47與 鄉至右4。藉此,除了該㈣彳ϋ所切割之圓形部分外的 。亥未切割切晶帶之該部分會圍繞滾輪48滾動。&外,在部 分滾輪48處該未切割切晶帶之方向明顯變化之事實對於: 剝離的該圓形部分以外的該未㈣切晶帶非常重要。 在上述方式中,在固定於如圖1Α與圖1Β所示臺面上的該 ㈣料㈣H使㈣切適用於採用與該^ 粒焊接帶焊接的該未切割切晶帶的情況。而且,在圖5顯示 的狀&下,有可能在臺面未提升的情況下將滾輪47與48移 至取左側,且不在該晶圓與該框架使用該未切割切晶帶, Ik後藉由提升該臺面在該晶圓與該框架的該等完整表面上 同%使用該該未切割切晶帶。 當使用該預切割切晶帶時,滾輪47與48會移至右邊,且 86500 1269379 $面5移動,直至該框架的左端位於滾輪44的右側之上。隨 後γ將滾輪4 1帶入一自由旋轉狀態,並轉動滾輪48。藉此 滾輪41提供該預切割切晶帶,隨後,藉由邊緣偵測器44偵 測該預切割切晶帶之邊緣,且與此同#,該臺面開始向左 移動。由於臺面以與該預切割切晶帶相同的速度移動,故 可藉由向。亥aa圓及該框架擠壓滾輪4 7而在該框架及該晶圓 的固定位置使用該預切割切晶帶。由於該切晶帶的方向在 部分滾輪47處明顯變化,故該載送帶會圍繞滾輪48滾動, 而該圓形切晶帶與晶粒焊接帶會由此使用至該框架及該晶 圓上。按此方式,若藉由滾輪48之滾動在該框架及該晶圓 已移至#刀;袞輪4 7以外之左邊的狀態下停止,則可如圖工a 及1B所示,將固定於該臺面的該晶圓與該框架的該等背面 上使用該切晶帶。 保護帶剝離褒置35具有(例如)如圖3所示的一結構,且可 藉由沒有切割器的-裝置而實現。保護帶剝離裝置h會加 熱已反轉的該晶圓,以減少該保護帶的黏合力。隨後向該 保護帶使用另一黏合帶,且在剝離該黏合帶時,一同剝離 έ亥保護帶。 包括依據本發明之該等具體實施例之該背部研磨哭幻 使用切晶帶之裝置的部分已如上述。以下藉由參考圖: 圖6Η說明在此程序中在該晶圓表面使用該等帶的變化。 如圖6Α所示,在該抛光/背部研磨裝 辦锋义丄^ 、甲’在一厚晶圓 ,交溥丽在其表面上使用一保護帶7〇, m a 其月部藉由研磨, 80來研磨並拋光。隨後,如圖6B所示, 對使用保護帶70^ 86500 1269379 5亥變薄晶圓1進行、、主、知 仃π冻。之後,將晶圓1反轉,使其背部向 上。在該使用切晶帶裝置33中,該晶圓〗係安置在圖心; 該框架的該孔中背 口匕所不 圓_等背部使=Λ’:·如圖6D所示在該框架2與該晶 53焊接的該預切日:;52。此時,若使用與晶粒焊接帶 粒焊接帶53,❹曰曰^則僅在該晶圓1的背部使用該晶 、’使用切晶帶5 2 (如圖示)。 在如圖6E所示及趟 # 置35中使用-剝離:圖印所示’在保護帶剝離裝 ; 贡7 1,且當剝離帶7 1如圖0G剝離時,將 保護帶70—同剝離。 f將 =6H所示,在該切晶裝置中形成溝㈣ 溥晶圓1及晶粒焊接黑^古r t ^ ^ ^ 態下,藉由加熱、A卻戍切晶帶5 2的中點。在此狀 人 — 7 P或务、外、、泉照射,減小該切晶帶的黏 1”:且=真空吸收或類似操作可輕易從該切晶帶剝離 狀態下不會減小。…才料,以便其黏合力在此 如上料’依據本發明之第一方面的該使用切晶帶之穿 ,用该未切割切晶帶與該預切割謂,因此其不僅 ::減?广:成本而且可有效節省空間。此★,依據本 弟—及第二方面的該使用背部研磨/切晶帶之系統 2使用切晶帶之裝置’可有效減少對該等背部研磨晶圓 的損壞並可提高產量。 【圖式簡單說明】 本發明的該等特徵及好處根據以上結合附圖之說明更易 理解,其中: 又勿 86500 17 1269379 圖1 A與圖1 B為示意圖,其顯示一晶圓及一框架使用一切 晶帶的狀態。 圖2為一示意圖,其顧示本發明的該等具體實施例中包括 一背部研磨器及一使用切晶帶之裝置的部分組態。 圖3為一示意圖,其顯示該等具體實施例中該使用切晶帶 之裝置的組態。 圖4為一示意圖,其顯示在該等具體實施例中使用的一預 切割切晶帶。 _ 圖5A至5C為示意圖,其說明如何在該使用切晶帶之裝置 中使用一未切割切晶帶。 圖6A至6H為示意圖,其說明欲在該背部研磨程序及該使 用切晶帶之程序中使用的該等帶的變化。 【圖式代表符號說明】 卜1, 晶圓 2 框架 3 切晶帶 4 參考數字 5 臺面 6 移動機構 10 拋光/背部研磨裝置 11 第一研磨器 13 抛光器 14 清潔器 15 安裝基座 86500 -18 - 晶圓盒 機械手臂 基座 對準器 紫外線照射裝置 執道 機械手臂 使用切晶帶之裝置 框架 參考數字 使用切晶帶之裝置 反轉機構 保護帶剝離裝置 卸載區段 參考數字 滾輪 邊緣偵測器 滾輪 移動部件 滾輪 移動機構 載送帶 圓形切晶帶 圓形晶粒焊接帶 19 1269379 54 襯墊 60 切割器 70 保護帶 71 剝離 80 研磨石 81 溝槽 91 切晶裝置 92 組合裝置 -20- 86500
Claims (1)
126場說849丨號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(95年8月) 拾、申請專利範圍: 1. 一種使用背部研磨/切晶帶之 1心糸統,其包括: 一拋光/背部研磨裝置,里 主道M + h 今納一取自一晶圓盒之晶圓 ’半V體電路被形成於該晶阓 ^ m _之一表面,且於該晶圓之 该表面上使用一保護帶,該 凌置於5亥日日圓之背面進行研 磨作業後於該晶圓之背面持續進行拋光作業,且清= 晶及該使用該保護帶於該晶圓之該表面; 一對準器,其偵測該被反錶 饭久褥之晶囫之一定位平面或槽 口,並調整該晶圓至-固定位置及方向; 一紫外線(UV)照射裝置,Α 具使用紫外線照射該保護 帶,以減少該保護帶的黏合力;及 -使用切晶帶裝置,其選擇一未切割切晶帶或一預切 』切曰e f X對-平面框架使用該選定之切晶帶,該平 面框架有-圓形孔洞,且該晶圓之該背面被安放於該圓 I孔/同中反轉5亥框架及該晶圓,並自該晶圓之該表面 剝離該保護帶; 其中㈣光/背部研磨裝置、該對準器、該紫外線照射 裝置及該使用切晶帶裝置以相鄰的方式配置,且於該拋 光/背部研磨裝置、該對準器、該紫外線照射裝置及該使 用切晶帶裝置中之過程,係相續地產生。 86500
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