TWI268127B - Copper foil with an extremely thin adhesive layer and the method thereof - Google Patents
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 141
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 181
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 181
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 117
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 86
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 86
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 6
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 11
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 10
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Chemical group 0.000 claims description 10
- 241000208140 Acer Species 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 8
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 5
- 239000004519 grease Substances 0.000 claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims 2
- DBAKFASWICGISY-DASCVMRKSA-N Dexchlorpheniramine maleate Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.C1([C@H](CCN(C)C)C=2N=CC=CC=2)=CC=C(Cl)C=C1 DBAKFASWICGISY-DASCVMRKSA-N 0.000 claims 1
- 238000005899 aromatization reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims 1
- 235000012054 meals Nutrition 0.000 claims 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 41
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 25
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 16
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- -1 Propyl-3-aminopropionate dimethoxy decane Chemical compound 0.000 description 8
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 8
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNOLJFCCYQZFBQ-BUHFOSPRSA-N (ne)-n-[(4-nitrophenyl)-phenylmethylidene]hydroxylamine Chemical compound C=1C=C([N+]([O-])=O)C=CC=1C(=N/O)/C1=CC=CC=C1 LNOLJFCCYQZFBQ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- CWZQYRJRRHYJOI-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCC(OC)(OC)OC CWZQYRJRRHYJOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOQLPPITHNQPLR-UHFFFAOYSA-N 1-sulfanylpyrrolidin-2-one Chemical compound SN1CCCC1=O WOQLPPITHNQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDKSGHXRHXVMPF-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylundecane Chemical compound CCCCCCCCCC(C)(C)C QDKSGHXRHXVMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LARNQUAWIRVQPK-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxiran-2-amine Chemical compound NC1(CO1)C LARNQUAWIRVQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMHAIMCFNOJWSP-UHFFFAOYSA-N 3-amino-1-(dimethylamino)-1-methylurea Chemical compound CN(C)N(C)C(=O)NN BMHAIMCFNOJWSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNOSMOBWXVAAA-UHFFFAOYSA-N 6-anilinocyclohexa-2,4-dien-1-one Chemical compound O=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 ZLNOSMOBWXVAAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXTJFBHLOXGCPW-UHFFFAOYSA-N 6-cyanatohexyl cyanate Chemical compound N#COCCCCCCOC#N OXTJFBHLOXGCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- MFAWEYJGIGIYFH-QNSVNVJESA-N C(C1CO1)OCCC[C@H](C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C(C1CO1)OCCC[C@H](C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC MFAWEYJGIGIYFH-QNSVNVJESA-N 0.000 description 1
- GHTQBJZRHNNLIS-UHFFFAOYSA-N C(CCC)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C(CCC)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC GHTQBJZRHNNLIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000009024 Ceanothus sanguineus Nutrition 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 1
- 101001131829 Homo sapiens P protein Proteins 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 240000003553 Leptospermum scoparium Species 0.000 description 1
- 235000015459 Lycium barbarum Nutrition 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- 241000361919 Metaphire sieboldi Species 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 206010036790 Productive cough Diseases 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical group [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- QNDQILQPPKQROV-UHFFFAOYSA-N dizinc Chemical compound [Zn]=[Zn] QNDQILQPPKQROV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 102000047119 human OCA2 Human genes 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000013102 re-test Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000009528 severe injury Effects 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 210000003802 sputum Anatomy 0.000 description 1
- 208000024794 sputum Diseases 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- GENKCGFDJSAFDQ-UHFFFAOYSA-N trioxolane-4,5-dione Chemical compound O=C1OOOC1=O GENKCGFDJSAFDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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Description
1268127 五、發明說明(1) 【發明所屬之技術領域】 潰體本不對銅箱進行粗化處理以確保與預浸 性的情开下;板用的樹脂基板間之緊密貼合 薄接著劑層之銅。;;=著劑層之銅箱以及該具有極 【先前技術】 獻所=;=::°广:2974 °號公報為始 施加之粗化處理,传以4造印刷線路板的銅箱所 式形成凹凸。在進i 一面上附著微細銅粒等的方 藉由銅唱Θ w ^人文〉貝體等基材樹脂間的貼合時, 定效凸形狀於基材樹脂内所得之埋入固 ^ 传到銅泊與基材樹脂間的緊密接著性。 fl係經印刷線路板用的電解銅 旋;心=係銅電解液流過滾筒狀旋轉陰極與沿此 將銅析出於旋轉陰極m壯::之間利用電解反應而 的狀態,並自旋轉险極=鏔如^上,此析出的銅成為箔 階段之銅荡稱為未處理銅猪。 在本π兄月書中,此 成r二ΐ;:;銅箱之與旋轉陰極接觸的面,係轉寫了被完 成鏡面的旋轉陰極表面形狀,其中且 ,^ 由於每個社曰對作為析出側之溶液側表面形狀, 成山::、”曰面之析出銅的結晶成長速度相異,因此會形 成山形的凹凸形狀’在此稱為粗面。通常,此粗面係為= 第5頁 2213-6402-PF(N3).ptd 1268127 五、發明說明(2) 造鑛銅層壓板時,與絕緣材 接著,此未處理銅箔藉 面的粗面化處理及防銹處理 酸銅溶液中,流過所謂燒鍍 凹凸形狀上析出附著微細銅 電流範圍内的被電鍍情形為 因而,析出附著有微細銅粒 面』。而且,必要時,可以 電解銅箔。 然而,近年來,受到内 薄短小化、高功能化之潮流 密度的要求逐年升高。而且 藉由蝕刻所形成之線路形狀 用以進行完全阻抗控制之標 在此,為解決前述線路 開平1 1 - 1 07 94號公報揭露在 上,設置用以確保與基材樹 樹脂層,以試著不進行粗化 性0 料相互貼合的貼合面。 由表面處理製程,以施加對粗 。對粗面的粗面化處理係在硫 條件的電流,以在粗面山形之 ': 直到處於平滑電鍛條件之 止’以防止微細銅粒之脫落。 白勺粗面係稱為『粗化處理 施加對應之防銹處理等以完成 藏印刷線路板之電子裝置的輕 的影響,對於印刷線路板線路 ,不僅有對製品品質的要求, 之物體有高度的要求,甚至對 準線路蝕刻因子也有要求。 之蝕刻因子問題,日本專利特 未進行粗化處理之銅猪表面 脂間接著性的二層組成相異的 處理而得到良好的緊密貼合 然而’在本發明人等所瞭解的限度下,使用曰本專利 特開平1 1 - 1 0 794號公報所揭露之具有樹脂之銅箔時,於未 進订粗化處理的銅箱表面上,無法判斷出對基材樹脂是否 1穩疋的緊密接著性。而且,為了設置二層組成相異的樹 脂層’在雨述樹脂層製造之際,必須要進行二次以上的塗
1268127 五 發明說明(3) 佈製程,進而導致製造成本的上昇。 另一方面,假設在印刷線路板製造時,使用未進行粗 化處理之銅羯進行製造,可省略前述銅箔的粗化處理製广 私。如此的結果可能大幅降低生產成本,而使近年來藉由 國際價格競爭的淘汰成為可能的事實。而且,假如沒^進 行銅箔的粗化處理,於線路蝕刻之際,沒有必要設置用以 溶解粗化處理部分的過蝕刻時間’如此可能降低總蝕刻 本,進而使所得線路的蝕刻因子大幅提昇。 由上述可知,將未施加粗化處理銅箔使用於印刷線 反’對業界而言,係為大體上所認可的技術。換令之, =刷線路板製造時,使用未進行粗化處理之鋼箔ς行 =,會大幅降低印刷線路板之總製造 盔 \ 場所能給予的效果。 .,、、沄預彳出市 【發明内容】 於是,本案發日月人等深入研究的 中,具有極薄接著劑層之鋼箱。㈣,分別月 接著劑層之銅箱及『且 ^ 7、有極/專 法』進行說明。 /、有極溥接著劑層之銅箱的製造方 『具有極薄接著劑層之銅箔』 一本發明之具有極薄接著劑層之銅箔1係且右 不之模式的模式剖面。. /、/、有如弟1圖所 的方式記載,使用穿透六丄石f #馬合劑層2以極為明確 際的產品確認為 為沒有矽烷耦合劑声2的主以更容易瞭解。 ]層2的情形’此情形之影像可以由第工圖 2213-6402-PF(N3).ptd 第7頁 1268127 五 發明說明(4) 輕易想像得到。亦即, 最單純的言語表示係為^中極薄接著劑貼附銅箔丨以 具有極薄樹脂的物體。在加粗化處理銅箱3 —側面上 箱的情形下’此極薄樹脂:^ =樹脂層貼附顏 不。因此,如果僅以從此模式^f薄底漆樹脂層4』表 具有樹脂之銅荡的產品之樹i;為;:斷’只要習知稱為 現。 層為薄的,就有可能會發 之銅箱,包括:對設路板用之具有極薄接著劑層 箱之一側面上的樹二A材二_ f與位於未施加粗化處理銅 脂層的銅笮而+,/^ Α θ良子緊密貼合性的極薄底漆樹 峨轉合二:具有崎合劑層,且 樹浐厚 Ί 异厚度為1〜5微来的極薄底漆 s ^』,係為達成本發明之目的所得到之結果。 解钔:ϊ:ί此所謂之『未施加粗化處理銅箱』並未對電 解銅泊及滾壓銅箱等的種類、厚度並無明確的限定。而 ^在電解mi之情形τ ’需要同時以光澤面及粗面等兩 面為對象進行思考。而且,在此所提及之銅箔,係有省略 粗化處理及未含有防銹處理的含意。在此所提及之防銹處 理係指使用鋅、黃銅等無機防銹、或使用一氧二烯伍圜、 咪唾等有機防銹等。 在此’未施加粗化處理銅箔的表面粗糙度(r z )為2微 米以下’係指在未施加粗化處理之情形下,表面粗糙度僅 赵過2彳政米之物並未存在。然而’在本發明中係使用電解 2213-6402-PF(N3).ptd 第8頁 1268127 五、發明說明(5) ___ 銅箔粗面,由於具 (Rz為 樹脂層的存在,因而,丨^卡以下)之極薄底漆 度的物體。而可付到對基材樹脂有足夠的接著強 矽烷耦合劑層具有改善未施加粗化虚 溥底漆樹脂層間的潤溼性,以及 二,面與極 高壓鑄加工時密著性的辅助劑。可是在;=上用以提 的剥離強度比習知還高。然二π之電路 諸如電路被誤移除方法被確認為不會造成 少U公斤力剝離的問題。為此,近年來,至 上所使用,甚至h 〇公斤力了八=上的剝離強度已可為現實 題。關於此點之考量,石夕二二=上的程度也沒有任何問 乳吕此基性矽烷耦合劑為始的奴的以% 能基性矽烷等種種物質,2 = f性矽烷、丙烯宫 剝離強度,結果得到以量測 _合劑;itr 公斤力/公分以上。 法、喷霧法等’並未特別可使,一般的浸潰法、嘴淋環 同時,改採用任意使銅箱盘2,二:也可以在工程設計之 勻的方式相接觸且吸附的“有矽烷耦合劑的溶液以最均 一屮f此A將所使用之石夕垸麵合劑以具體的方式明碟祕本 不出來。也可以改用I所 飞月確地表 /、斤使用之印刷線路板用預浸潰體的 2213-6402-PF(N3).ptd 第9頁 1268127 --- !- 五、發明說明(6) 甲^ ί t織物同樣的執合劑’此輕合劑例如是以乙稀基三 ^矽烷、乙烯基笨基三甲氧基矽烷、7 —甲基丙烯氧 二、二11氧基石夕烧、τ-環氧丙氧基丙基三甲氣基石夕 ΐP %氧丙基丁基三曱氧基矽烷、τ -氨基丙基三乙氧 二7 Ν—冷―(氨基乙基)-γ -氨基丙基三曱氧基矽 =二(4— 氨基丙氧基)丁氧基)丙基-3-氨基丙 ς二曱氧基矽烷、咪唑矽烷、三氮雜苯矽烷、7 —毓基丙 基二甲氧基矽烷等為中心。
上述的石夕烧麵合劑係於作為溶劑的水中溶解成〇· 5〜 10克/升(g/Ι),並於室溫程度的溫度下使用。矽烷耦合劑 f於銅荡表面藉由突出之氫氧基的縮合聚合方式,形成彼 覆膜,即使使用更濃之濃度的溶液,也不會更明顯地增大 效果。因此’本來此濃度係對應製程處理速度等而決定。 ^而在低於〇 · 5克/升的情形下,石夕烧麵合劑之吸附速度 會減t ’以一般商業基本的核算來比較,會成為吸附不均 勻的形。而且,设濃度超過1 〇克/升時,較特別的是吸 附速度會變快,但會變得不經濟。
^ 接著’極薄底漆樹脂層係為厚度為1微米〜5微米的非 常薄的樹脂層。此種薄的樹脂層係為本發明中具有極薄接 著劑層之銅箔與預浸潰體等樹脂基材間貼合之際,大體上 不會產生熱壓鑄加工時之樹脂流動之狀態而得之物質。對 ‘知之銅箔與樹脂基材間的貼合而言,位於銅箱粗化面上 之凹凸’係可引起空氣的叹合混合,此.空氣抽離1平方公 尺之鍍銅層壓板時,會自端部引起5公釐〜1 5公釐左右的 2213-6402-PF(N3).ptd 第10頁 1268127 五、發明說明(7) 机動。可是,在本發明之具有極薄接著劑層之銅箔的 下,幾乎不會引起此樹脂流動,且為確保未施加粗化 处理之銅箱面對基材樹脂有良好之密著性的最重要的原 因。 / 在=發明說明書中,樹脂流動係以美軍規格(mil規 °之L~P-1 3949G為準則量測的值進行判斷。亦即,在 二中,取來自具有極薄接著劑層之銅羯的10公分角試 攝m此4個樣樣疊在一起的狀態下,於壓鑄溫度 =下度、壓•壓14公斤力/平方公分、壓鑄時間Η分鐘 ^件下進打貼合’此時的樹脂流動係以數學式工計算而 ’在本說明書中,樹脂流動的量測,如果僅使 動脂之銅…。‘層::脂 數學式1 : 樹脂流動(¾) 流出樹脂重量 X 100 〔層膣體重量〕-〔銅箔重量〕 此極薄底漆樹脂層不足丨微米時, 的嶋面,也難以披覆成均句:一γ滑無凹凸 薄底漆樹脂層超過5微米時,备導又相對於此’設植 卿或預以體間的界面產生剝離。再者,此極薄底公
1268127 五、發明說明(8) ^舳層之厚度,係以完全塗佈丨平方公尺的平面而得之換 鼻厚度。 二在此,對關於構成極薄底漆樹脂層的樹脂組成物進行 説明。本發明中所使用之樹脂組成物大致尚可區分成2 以下分別以『第1樹脂組成物』及『第2樹脂 進行說明。 (弟1樹脂組成物) 兩丨的月曰組成物係由環氧樹脂、硬化劑、可溶於溶 胺樹脂高分子、及對應所需所添加之適當 里的硬化促進劑所構成。 、田 環氧ί此用『=樹脂』係為分子内具有2個以上之 電;;Τ材料用途的物質,使用上沒
型環氧樹脂、雙㈣^雙^型環氧樹脂、雙紛F 曱酚漆用酚醛型環氧樹脂、 ^%乳树脂、 脂、環氧丙基胺型環氧二:,咖、演化環氧樹 合使用2種以上衣讀月日所組成之族群中選擇—種或混 一 ί環5樹脂係為樹脂組成物之主體,使用上係以?η舌 ®早位〜80重量單位的比人。 使用上係以20重 述硬化劑之情形。而且,气义:12疋,在此係指含有下 不足2〇重量單位的情形時匕的此環氧樹脂 到完全效果。設二密著 …的黏度增高,而使對㈣表面的均勻伟: 2213-6402-PF(N3).ptd 第12頁 Ϊ268127 五、發明說明(9) 且會導致=之芳香族聚醯胺樹脂高分子的添加 里失平衡,而硬化後無法得到足夠的韌性。 而且,環氧樹脂之『硬化劑』係為二氰胺、咪唑類、 酚等的胺類、雙酚A、溴化雙酚"的酚類、酚漆用 酸ί二:ΐ :酚漆用酚醛樹脂等的漆用酚醛類、無水笨二 各白2,酸等。由於對環氧樹脂的硬化劑添加量係為從 量自行導出即可,因此不需要明確地記明硬化 量,“比例。因@ ’本發明並未特別限定硬化劑之添加 胺换『芳香族聚酿胺樹脂高分子』係由芳香族聚醯 橡膠,樹脂反應而#。在此’芳香族聚酿胺樹脂 胺倍:田4知一 ^與二羧酸聚縮合而合成。此時之芳香族二 楓田二氨基二苯基曱烧、3,3,一二氨基二苯基 用笨_甲笨一胺、3’ 3 _氧代二苯胺等。而二羧酸係使 用、間苯n對苯二酸、反τ烯二酸等。 天狹=ίί此芳香族聚醯胺樹脂反應的橡膠性樹脂包括 膠’、:、,膝。成橡膠,㊣中合成橡勝為苯乙烯丁二稀橡 為了禮二仏橡膠、丁基橡膠、乙烯丙烯橡膠等。更甚之, 亞硝萨=ΐ成之介電體層的耐熱性,較佳係使用選自於 橡膠二=、氯丁二稀橡膠、石夕_橡膠、氨基甲酸乙酉旨 盥芳番^取,、、、性的合成橡膠。關於此類橡膠性樹脂,為了 G = 2胺樹脂反應製造共聚合⑯’較^系為兩末端 亞踢酸鹽):;ί用特別是,使用CTBN(叛基末端丁二稀
1268127 五、發明說明(10) 用以構成芳香族聚醯胺樹脂高分子的芳香族聚醯胺樹 脂與橡膠性樹脂,較佳是芳香族聚醯胺樹脂為2 5重量百分 =(wi;/G)〜7 5重量百分比,其餘部分摻合橡膠性樹脂。設 芳香族聚醯胺樹脂不足25重量百分比時,橡膠成分的存在 比率變大,而使高分子的耐熱性劣化,另一方面,設芳香 族聚醯胺樹脂超過75重量百分比時,芳香族聚醯胺樹脂的 存在比例變大,而使高分子的硬化後硬度變高變脆。此芳 香族聚醯胺樹脂高分子於鍍銅層塵板上對加工後之銅箔進 仃蝕刻加工之際,可以避免經由蝕刻液而使銅箔被後面的 蝕刻所損傷。 此芳香族聚醯胺樹脂高分子只要求具有可溶於溶劑的 f生貝即可。此方香族聚酿胺樹脂局分子,使用上係以2 〇重 量單位〜80重量單位的比例混合。設芳香族聚醯胺樹脂高 分子不足20重量單位時,在一般壓鑄條件下進行鍍銅層壓 板之製造’硬化後會變脆’且基板表面會生成微裂紋。另 一方面,設芳香族聚醯胺樹脂高分子超過8 〇重量單位時, 添加芳香族聚胺樹脂高分子不會有特別的障礙,僅在添 加超過80重量單位之芳香族聚醯胺樹脂高分子後,硬化^ 的強度不會再提昇。因此’基於經濟性之考量,t明只n 重量單位為上限值。 "^ 『對應所需所添加之適當量的硬化促進劑』係為二級 胺、咪唑系、尿素系硬化促進劑等。在本發明中,此硬化 促進劑之混合比例並未特別加以限定。因為硬化促進★ 要考慮鍍銅層壓板製程中的生產條件性等,因·,1、@ 1268127
製造者任意選擇並決定添加量。 (弟2樹脂組成物) 此第2樹脂組成物係由環氧樹脂(包含硬化劑)、取 醚楓樹脂及對應所需所添加之適當量的硬化促進劑所構^ 成0 在此所提之『環氧樹脂』由於可以使用與第丨樹脂組 成物相同的環氧樹脂,因此在此省略重複部分的詳細說 明。可是,用於此第2樹脂組成物之構成的樹脂組成物 佳係選擇性使用多官能型環氧樹脂。 此環氧樹脂係為樹脂組成物之主體,使用上係以5 量單位〜50重量單位的比例混合。可是,纟此與前述第! 樹脂組成物相同,係指含有硬化劑之情形。而且,設入 硬化劑狀態的此環氧樹脂不足5重量單位的情形時,無3法 完全發揮熱硬化性,而使作為基材樹脂之膠合劑的功二 樹脂組成物與銅猪的密著性得不到完全效果。設此产^ 脂超過50重量單位時,會導致聚醚碉樹脂的添加量=二树 衡’而硬化後無法得到足夠的韋刃性。 聚醚楓樹脂係為末端具有羥基或氨基的結構,且+ 可溶於溶劑之物質即可。末端具有羥基或氨基可以鱼二, 樹脂進行反應,而可溶於溶劑之性質則可使固態形^ = 調整變得不困難。因此,考量聚醚楓樹脂與上述環 之平衡,聚醚楓樹脂係使用50重量單位〜95會旦如 ^ ^ 例混合。此聚醚楓樹脂可降低構成印刷線路板之絕这2 吸水性,並使印刷線路板表面絕緣阻抗的變動變小:二j 又 。δ又聚
1268127 五、發明說明(12) -—-^ 醚楓樹=不足50重量單位時,水平表面處理液會對樹脂、告 成激烈損傷。另一方面,設聚醚楓樹脂超過9 5重量單:呔
時,會使於攝氏260度之銲料浴中進行浮標的銲料耐敎 試發生膨脹之情形。 …J 而且,『對應所需所添加之適當量的硬化促進劑 為二級胺、咪唑系、三苯基膦為代表的磷化合物、尿^系、 硬化促進劑等。在本發明中,此硬化促進劑之混合比例並 未特別加以限定。因為硬化促進劑需要考慮鍍銅層壓 程中的生產條件性等,因此較佳係由製造者任意選擇並ς 定添加量。 :、
具有極薄接著劑層之銅箔的製造方法』 接著對上述本發明之具有極薄接著劑層之銅箔的制 造方法進行說明。在此,具有極薄接著劑層之銅箱的製ς 方法,百先依據下列之製程&、製程b之順序調製用於極 底漆樹脂層之形成的樹脂溶液,再於銅羯之形成有矽烷耦 合劑層的面上,塗佈丨微米〜5微米換算厚度的此樹脂溶 液,且使此樹脂溶液乾燥至半硬化狀態。 關於用於極薄底漆樹脂層之形成的樹脂溶液的調製, 說明如後。首先,製程a ••混合環氧樹脂(包含硬化劑
)、可洛於溶劑的芳香族聚醯胺樹脂高分子或聚醚碉樹 脂、及對應所需所添加之適當量的硬化促進劑,以得到樹 脂混合物。 當,=所得之第1樹脂組成物時,樹脂混合物係由20 8 0重里單位的裱氧樹脂(包含硬化劑)、2 〇〜8 〇重量單
1268127 、 ------ 五、發明說明(13) 位之可溶於溶劑的芳香族聚醯胺樹脂高分子、及對應所需 所,加之適當量的硬化促進劑所構成。然而,當使用所得 ^ ^ 2樹脂組成物時,樹脂混合物則由2〇〜5〇重量單位的 環氧,脂(包含硬,劑)、50〜95重量單位之聚醚楓樹脂 (末端具有羥基或氨基且可溶於溶劑的物質)、及對應所 需所添加之適當量的硬化促進劑所構成。關於在此所記載 之各組成物及混合比例等個別的說明已敘述於上述中,在 此為了避免重複說明,而省略重複部分的說明。 之後,製程b .使用有機溶劑溶解前述樹脂混合物, 以得到樹脂固態形部分為10重量百分比(wt%)〜4〇重量百 分比的樹脂溶液。例如樹脂混合物為第丨樹脂組成物時, 使用丁酮及環戊酮中任一種溶劑或混合溶劑進行溶解。使 用丁酮及環戊酮的言舌,可藉由鍍銅層壓板製造之壓鑄加工 =的熱、經歷,^輕易且有效率地揮發去除 揮 處理也报容易,而且可輕易地對銅落表面Γί: 之树知洛液黏度進行最佳黏度的調整。而且 環=酮的混合溶劑進行溶解時,現階段而言係為對= 的取佳方法。#為混合溶劑,,並不需特別限混人兄 L另為芳香族聚酸胺樹脂高分子二整 /月漆故不了避免的會混入芳香族聚醯胺樹 因而假設丁嗣係為不可避*的混人,再考 =Τ中, 之熱經歷時丁嗣的揮發去除速度,丁酮係;較佳=用 劑。但,除了在此所具體舉出的實例外,σ的/、存溶 發明所使用之全部樹脂成分,並㈣用、要可以溶解本 第17頁 2213-6402-PF(N3).ptd 1268127 五、發明說明(14) 而且’設為第2樹脂組成物之情形下,由、 丁酮或環戊酮等進行溶解,因而改用二甲基於難以使用 基乙醯胺、N -曱基吡咯烷酮等溶劑。特別是:胺、二甲 2樹脂組成物的品質穩定性的觀點來看,較$ 長期確保第 述多種溶劑混合而得的溶劑。 土係使用由前 使用前述之溶劑以形成樹脂固態形部分 ㈢ 比(wt%)〜40重量百分比的樹脂溶液。在此77所、、—〇重+量百分 態形部分的範圍係以銅箱表面進行塗佈時v之樹脂固 膜厚為範圍。設樹脂固態形部分不足1〇重旦^確度較佳的 ;:變r、:塗佈至,表面後仍會流動厚: 二 相對於此,5又樹脂固態形部分超過4〇重量百乂二 時,黏度變高而使在銅箱表面之薄膜形成變得困難: 猪的:士之=液塗佈於具有简合劑層的銅 : 表面打,並未特別限定塗佈方法。但是,#彳土沾 疋必須要精確度佳的塗佈1微米〜5微乎的拖管声侖乂土、 利於薄膜形成時使用所邮沾 U未的換^厚度,以有 笔声面π ^ t 萌的凹板印刷塗佈機。再者,於銅 貝而形成至半硬化狀態的加熱條 『發明效果』 粗化有極薄樹脂層之銅箱,並不限於在未施加 接著面上具有薄的樹脂層的單純結 性之物質即可。、人P刷線路板之基材樹脂間的良好接著 【貫施方式】 2213-6402-PF(N3).Ptd
第18頁 1268127 五、發明說明(15) G施:實』施例及比較例展示本發明之最佳實施例。 在本實施例中,於18微米厚的表面處理銅箱 糙度k為1. 1微米的光澤面上’形成矽烷耦合劑層,於广 表面形成使用第1樹脂组成物的極薄底漆樹脂層,而得 具有極薄接著劑層之銅領。#者,此表面處理鋼箱1ί 處理層中含有1 〇毫克/平方公尺的鎳、8毫克/平方公尺二 鋅/、3 克/平方公尺的鉻。而且,將此於”_4預浸潰體中 進打,鑄加工貼合後,量測所得物之剝離強度。 最初,製造以第1樹脂組成物所構成之極薄底漆樹 層。此第1樹脂組成物’係使用〇_曱酚漆用酚醛型 脂(東都化成股份有限公司製的別⑶—了⑽)、可溶於、、容二 的芳香族聚醯胺樹脂高分子、以及以市售之曰本化藥股二 有限公司製的BP322 5-50P所得之環戊酮等的混合清漆作^ 溶劑等為原料進行製造H,此混合清漆巾,添加有作 為硬化劑之大日本油墨(dainipp〇n ink)股份有限公司乍 的VH-4170之酚樹脂,以及作為硬化促進劑之四國化成月^ 份有限公司製的2E4MZ。以下所示儀為第工樹脂組成物 有之混合比例、 〆、 38重量單位 50重量單位 1 8重量單位 0. 1重量單位 〇-曱紛漆用紛酸型環氧樹脂 方香力矢聚酿胺樹脂南分子 酚樹脂 硬化促進劑 更進一步,使用丁酮將此第丨樹脂組成物調整成樹脂
1268127 五、發明說明(16) 固態形部分為3 0重量百分比的樹脂溶液。 另一方面,最初’將銅箔浸潰於濃度為1 5 0克/升、液 體溫度為攝氏3 0度的稀硫酸溶液中3 0秒,以在去除油脂成 分得同時,進行殘餘之表面氧化披覆膜的去除,再以水洗 方式清淨化。而且,乾燥銅箔表面,再浸潰於添加有5克/ 升濃度之r -環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷的離子交換水 中,以進行吸附處理。而且,在爐内已調整為攝氏丨8 〇度 之氣氛氣之情形下’於電熱器處理4秒,以去除水分,並 進行矽烷耦合劑之縮合反應而形成矽烷耦合劑層。 使用凹板印刷塗佈機,將上述所製造之樹脂溶液塗佈 於銅羯之形成有矽烷耦合劑層的面上。而且,進行5分鐘 左右的風乾,之後於攝氏140度之加熱氣氛氣中進行3分里鐘 左右的乾燥處理,形成半硬化狀態之丨.5微米厚度的極薄里 底漆樹脂層,而得到本發明之具有極薄樹脂層之銅箔。/ =目=樹脂流動之量測中’係製造4〇微米厚之底漆樹脂芦 J八有树脂的銅羯(以下,係稱為『樹脂流動量測用曰 樣』)。 U而ί ’自此樹脂流動量測用試樣採取4個10公分的角 δ式樣,再以美軍規格MiL_p_ 1 3 949G為準角 量測。此結果顯示樹脂流動為1>5%。更甚之^'机動的 有極薄樹脂層之銅箔,將15〇微米厚之”—主具 具有極薄樹脂層之銅箔的極薄底、玄 1 /又,貝體與此 攝氏1 8 0度X 6 0分鐘的加熱條件下,熱 ; 銅層壓板。 & ~成形成兩面鍍 1仏丨 第20頁 2213-6402-PF(N3).ptd 1268127 — il » 五、發明說明(17) 再者,另一方面,使用形成有半 厚之極薄底漆樹脂層的呈有朽笼β s Η 之丨· 5被未 八有極溥树脂層之銅箔,整面萝抨 鍍銅層壓板之兩面銅箔芦,於μμ不^ ^ 曰增’於此兩面上貼齡, 蝕刻阻擋層。而且,於此Λ 、 而形成 %此兩面的蝕刻阻擋層上,《旦/ 出0. 2毫米寬的剝離強度量^ | 1 * .’、、衫 查夕始於如為μ 測測试用電路,以形成蝕刻圖 案。之後,於銅蝕刻液中進行電路蝕刻,再進 層剝離,以製造電路。此4 」ί5擋 片h/八八.此蚪的剝離強度在一面側為1.18公 斤力/公分,另一面側為1 91八tA/、、 ^ ^ _ 為1 · 2 1公斤力/公分,此顯示呈有非 常良好之實用可能的剝離強度。 八有非 『實施例2』 f ί : ί 2:制係通過省略實施例1之耦合劑處理而 付,為避免重復各製程的說明,在此省略 明,僅顯示評估結果。 丨刀的為 使用凹板印刷塗佈機,蔣盘每^ ΑΪ 1 L Γ-Τ - e 將-、貝施例1相同的樹脂溶液 塗佈於銅V白面。而且,進行5分鐘左右的風乾 ,。度,滅氣中進行3分鐘左右的乾燥處理臭形攝成 半硬化狀悲之1. 5斂米厚度的極薄底漆樹脂層,而得到 ΐ明之ϋ有極薄樹脂層之鋼帛。再者,於樹脂流動之量測 _ 低,茶树知層之具有樹脂的鋼箔(以 下,係稱為『樹脂流動量測用試樣』)。 而且,自此樹脂流動量測用試樣採取4個1〇公分 試樣二再以上述美軍規袼MIL—卜1 3 949G為準則進行樹脂角流 動的罝測。此結果顯示樹脂流動為2. 5 %。更甚之, 此具有極薄樹脂層之銅H,將15(^敬米厚之^_4預浸潰體 第21頁 2213-6402-PF(N3).ptd 1268127
與此具有極薄樹脂層之銅箔的 ^ κ ^ 自自〕極溥底漆層侧相接觸、屛 壓,於攝氏180度X 60分鐘的★也a L ^肩 兩面鍍銅層壓板。 %成形成 再,另方面使用形成有半硬化狀態之1 · 5微半 厚之極薄底漆樹脂層的且有搞Μ ·' 鑛銅層壓板之兩面銅有;:猪’整面製造 〜/自增’於此兩面上貼附乾膜, 二刻阻擋層。%且,於此兩面的蝕刻阻擋層上,曝光顯夺 2宅米寬的剝離強度量測測試用電路,以形成蝕刻圖〜 =。之後,於銅蝕刻液中進行電路蝕刻,再進行蝕刻阻擋 層剝離,以製造電路。此時的剝離強度在一面侧為κ 〇3 : 斤力/公分,另一面側為1.00公斤力/公分,此顯示具有 常良好之實用可能的剝離強度。 『實施例3』 在本實施例中,係於與實施例1相同之丨8微米厚的未 處理銅错之表面粗糙度RZ為1 · 1微米的光澤面上,形成石夕 烧麵合劑層,於此表面形成使用第2樹脂組成物的極薄底 漆樹脂層’而得到具有極薄接著劑層之銅箔。經由將下列 所述之實施例1之第1樹脂組成物改為第2樹脂組成物而得 本實施例。為避免重複各製程的說明,在此省略重複部分 的說明,僅顯示第2樹脂組成物及評估結果。 下述係製造用以構成極薄底漆樹脂層的第2樹脂組成 物。此第2樹脂組成物係使用環氧樹脂(日本化藥股份有 限公司製的EPPN-50 2 )、聚醚楓樹脂(住友化學股份有限 公司製的Sumikaexcel PES-5003P)為原料進行製造。而
2213-6402-PF(N3).ptd 第22頁 1268127 五、發明說明(19) 且’在此混合清漆中係添加咪唑系的2P4MHZ (四國化成股 份有限公司製)作為硬化促進劑,以得到第2樹脂組成 物。改變前述混合比例,以得到多個混合比例(第2樹脂 組成物A〜第2樹脂組成物E )。更甚之,使用二甲基甲醯 月^將此第2樹脂組成物分別調整成樹脂固態形部分為3 〇重 畺百分比的樹脂溶液。關於混合比例如表1所示。 —而且,使用凹板印刷塗佈機,將上述組成相異之樹脂 溶液塗佈於銅箔面。而且,進行5分鐘左右的風乾,之後 於攝氏180度之加熱氣氛氣中進行〗分鐘左右的乾燥處理, 形成半硬化狀態之1· 5微米厚度的極薄底漆樹脂層,而得 f本發明之具有極薄樹脂層之銅箱。再者,於樹脂流動之 ,測中,係、製造40微米厚之底漆樹脂層之具有樹脂的銅猪 以下,係稱為『樹脂流動量測用試樣』)。 而且,自此樹脂流動量測用試樣採取4個10公分的角 ==旦=以上述美軍規格MIL_p_1 3 949G為準則進行樹脂流 、里d。此結果顯不樹脂流動為丨.8 %。更 此具有極薄樹脂層之銅箔,將丨 使用 办μ β丄 肿1 ΰ u棱水厚之F R - 4預浸潰體 人此具有極薄樹脂層之銅箱、^ ^ ^ ^ ^ 、 壓,於攝氏i 80度X 60分鐘的/ /Λ 接觸、層 兩面鍍銅層壓板。 的加熱條件下,熱壓鑄成形成 厂”ίΐ二!一方面,使用形成有半硬化狀態之"汽乎 厗之極溥底漆樹脂層的具有炼 * ^ 鍍銅層壓板之兩面銅箱;曰層之銅箱,整面製造 敍刻阻擋層。而且二:币面上貼附乾膜,而形成 向且於此兩面的蝕刻阻擋層上,曝光顯影 第23頁 2213-6402-PF(N3).ptd 1268127 五、發明說明(20) 出0 · 2毫米寬的剝離強度量測測試用電路,以形成蝕刻圖 案。之後,於銅蝕刻液中進行電路蝕刻,再進行蝕刻阻撞 層剝離,以製造電路。此時的剝離強度如表1所示。 表1 第2樹脂 組成物A 第2樹脂 組成物B 第2樹脂 組成物C 第2樹脂 組成物D 第2樹脂 組成物E 樹 騎樹脂 重星里位 50 40 30 20 5 脂 PES* 重量單位 50 60 70 80 95 組 重蚤單位 1 1 1 1 1 成 重蚤里位ΐ m 101 一面側 公斤力/ 0.6 0.75 0.83 0.96 1.17 另面側 公分 0.62 0.78 0.85 0.97 1.19 銲料浮標測試 秒 600以上 600以上 543 538 480 邛es :聚醚m脂 『比較例1』 在此比較例中,係製造具有樹脂層之銅箔,此具有榭 脂層之銅箔形成有厚度為2 〇微米之實施例1之半硬化狀態 的極薄底漆樹脂層。 而且,自此具有樹脂層之銅箔採取4個1 〇公分的角試 樣’再以上述美軍規格MIL-P- 1 394 9G為準則進行樹脂流動 的量測。此結果顯示樹脂流動為〇 · 5 %。更甚之,使用此 具有樹脂層之銅箔,將150微米厚之FR_4預浸潰體與此具 有樹脂層之銅箔的樹脂層側相接觸、層壓,於攝氏丨8 〇度 X 60分鐘的加熱條件下,熱壓鑄成形成兩面鍍銅層壓板。 於上述所製造之鍍銅層壓板之兩面鋼箔層上,曝光顯
1268127 五、發明說明(21) 影出與實施例相同的〇· 2毫米寬的剝離強度量測測試用 路,以形成蝕刻圖案。之後,於銅蝕刻液中進行電路蝕 刻,再進行蝕刻阻擋層剝離,以製造電路。此時的剝離 度以與預浸潰體之界面剝離起算,在一面側為〇.28公 /公一分’另一面側為〇· 31公斤力/公分,此遠低於實施例! 〜貫施例3的剝離強度。 『比較例2』 αίΐ比較例中’使用上述特許文獻2所揭露之樹脂組 成物中的一種,並將樹脂層形成於實施例所使用之18微米 未處理銅箔之表面粗糙度Rz為丨· i微米的光澤面上,以〜 到具有接著劑層之銅箔。 传 最初,製造特許文獻2之製造例所記载的樹脂組成 物。亦即,將1 00重量單位之聚乙烯丁縮醛樹脂(電化學 工業股份有限公司,產品號碼6 0 0 0 C ··平均聚合度24⑽ )1 25重量單位之曱酚漆用酚醛型環氧樹脂大X日本油墨 化學工業股份有限公司,產品號碼Ν —6 73 ) 、2〇重量單位" 二ϋ脂(富士化成工業股份有限公司,產品名Delamhe H 溶解於由甲苯、丁酮、甲醇所構成的混合溶 诏中。接者,添加4重量單位之咪唑化合物(四國化成工 業股份有限公司,產品號碼2E4MZCN )及1重量單位之己二 ^氰酸醋,而形成固態形部分為18重量百分比的樹脂組: 物。 而且,將此樹脂組成物塗佈於前述未處理銅箔之光澤 面上。使用60微米間隙之條式塗佈機進行塗佈,於室溫下
第25頁 1268127 五、發明說明(22) 風乾1 0为知左右後,以攝氏β 〇度乾燥5分鐘,再以攝氏1 2 〇 度乾燥5分鐘左右。藉此,可得到乾燥後樹脂層厚度為5微 米的具有樹脂層之銅箔。 、 而且’自此具有樹脂層之銅箔採取4個1 〇公分的角試 樣,再以上述美軍規格MIL_P-1 394 9G為準則進行樹脂流動 的量測。此結果顯示樹脂流動為δ. 1 %。更甚之,使用此 具,樹脂層之銅箔,將〗50微米厚之^_4預浸潰體與此具 有樹脂層之銅箔的樹脂層側相接觸、層壓,於攝氏丨度 X 60分鐘的加熱條件下,熱壓鑄成形成兩面鍍銅層壓板夂。 史山?ΐ述所製造之鑛銅層壓板之兩面銅箱層1,曝光顯 3出與貫施例相同的〇. 2毫米寬的剝離強度量測測試用電 ,以形成蝕刻圖案。之後,於銅蝕刻液中進行電路蝕 i :擋層剝離’以製造電路。此時的剝離強 八八 .45公斤力/公分,另一面側為〇· 38公斤 理解二即實施例的剝離強度。另外,由此可以 里解的疋即使使用一種特許文獻2 仍然無法得到可與實施例i :路之树月曰組成物, m m β ^ η 貝把例3所不之本發明具有極 潯树月曰層之銅、冶同一程度的剝離強度。 [產業上可利用性] 本發明具有極薄樹脂芦 结, 理之未處理銅箱接著面上‘有薄的S =在,施加粗化處 而’卻可顛覆習知印刷線路板業界:“的皁純1構。然 的與基材樹脂間的接著性。而且,=田=能確保良好 理的銅箔,此I $彳+ t、s A ;使用未施加粗化處 /、進仃有通常之粗化處理的銅箱相比之下, 2213-6402-PF(N3).ptd 第26頁 1268127 (, 五、發明說明(23) 不僅微細圖案之形成變得更容易,且封裝產品中所要求之 標準電路形成也變得更容易。本發明具有極薄樹脂層之銅 箔,由於是具有單純的層結構,因此製造流程也非常單 純。此與習知具有樹脂之銅箔相比之下,不僅可以省略大 部分的製程,也可以大幅減少具有樹脂之銅箔的製造成 本。而且,由於是使用不具有粗化處理層的銅箔,因此電 路蝕刻的製程也不需要設置過蝕刻時間,進而可以大幅減 少加工成本。
2213-6402-PF(N3).ptd 第27頁 1268127 ( 圖式簡單說明 【圖示簡單說明】 第1圖係繪示於銅箔之一面上設置有極薄底漆樹脂層 的極薄樹脂層貼附銅箔的模式剖面圖。 【主要元件符號說明】 1〜具有極薄接著劑層之銅猪; 2〜矽烷耦合劑層; 3〜銅猪; 4〜極薄底漆樹脂層。
2213-6402-PF(N3).ptd 第28頁
Claims (1)
1268127 六、申請專利範圍 為設1置有_#=線路板用之有極薄接著劑層之銅绪,係 間良好施;粗化處理銅簿-側面與樹脂基材 其特‘在:薄底漆樹脂層的銅謂, 以下:ίί:加表面粗糙度⑷)為2微* 脂層。 八有換# ;度為1〜5微米的該極薄底漆樹 薄接著劑層之銅^利乾更圍弟^ =述的印刷線路板用之有極 極薄底漆樹脂層的^表夕坑輕合劑層,位於設置有該 ^.. i V^,j,; f - ^ ^ - . „ 合劑或毓系矽烷耦合劑所形成=馬σ刈層係由虱系矽烷耦 4 ·如申請專利範jfi篦! &、丄、 薄接著劑層之銅唱,1 、斤述的印刷線路板用之有極 物所形成,其中兮抖二極薄底漆樹脂層係由樹脂混合 樹脂(包含硬化齊、曰2:合物係由20〜80重量單位的環氧 香族聚醯胺樹脂高分子、 重里早位之可溶於溶劑的芳 化促進劑所構成。刀 及對應所需所添加之適當量的硬 5 ·如申請專利範圍第4 薄接著劑層之銅箱,今員所述的印刷線路板用之有極 醯胺樹脂高分子係由二】^底漆樹脂層所使用之芳香族聚 得。 方無來^胺與橡膠性樹脂反應而 6 ·如申請專利範圍m 回弟1項所述的印刷線路板用之有極 2213-6402-PF(N3).ptd 第29頁 1268127 &'申請專利範圍 :接著劑層之鋼箱,#中該極薄底漆樹脂層係由樹脂混合 所形成,其中該樹脂混合物係由2〇〜5〇重量單位的環氧 端1^I硬化劑)、5 0〜9 5重量單位之聚醚楓樹脂(末 氨基且可溶於溶劑的物質)、及S應所需所 4加之適* 1的硬化促進劑所構成。 薄接7著齊广層申二專η 軍ρ 。 具有極薄接 内: 49G為準則量測時的樹脂流動為5%以 造方L 一包種括印路板用之有極薄接著劑層之銅“ 薄底呋杓月匕屏又 列之製程8、製程b之順序調製用於極 溥底漆樹月曰層之形成的樹脂溶 铜:用於程 輕合劑層的面上,塗佈i微米〜5微:換;=形成有石夕烷 液,2該樹H脂溶乾燥至半硬化狀態的該樹月旨溶 ^ Ϊ ^ ^ ^ ^ ^ #1 添加之適當量的硬化促進劑:以得到::、:及對應所需所 r固f ••使用有機溶劑溶解該樹脂V:;合物;以及 脂固恶形部分為10 J細二口物,以得到樹 脂溶液。 百刀比(wt%)〜40重量百分比的核| 述 述的印刷線路薄範圍第2項所 2213-6402-PF(N3).ptd 第30頁 #、申請專利範圍 η· 一種鍍鋼層壓板,使 述的印刷線路板用夕古托餐 υ申%專利範圍 12 有極薄接著劑層之銅箱。 項所 迷的印刷線路板用古 申明專利範園第 欠:瑕用之有極薄接著劑層之鋼箔。阁第4項所 • 種鍛銅層壓板,使用如申〜 ^刷,路板用之有極薄接著劑層之銅箱乾園第5項所 述的印刷:ff鋼層壓板,使用如申請專利範圍宽R 15 j路板用之有極薄接著劑層之銅箔。弟6項所 述的印刷:if銅層壓板,使用如申請專利範圍第7 、、襄路板用之有極薄接著劑層之銅箔。弟7項所
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003277428 | 2003-07-22 | ||
| JP2004172985A JP3949676B2 (ja) | 2003-07-22 | 2004-06-10 | 極薄接着剤層付銅箔及びその極薄接着剤層付銅箔の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200509761A TW200509761A (en) | 2005-03-01 |
| TWI268127B true TWI268127B (en) | 2006-12-01 |
Family
ID=34082380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW93120200A TWI268127B (en) | 2003-07-22 | 2004-07-06 | Copper foil with an extremely thin adhesive layer and the method thereof |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8815387B2 (zh) |
| JP (1) | JP3949676B2 (zh) |
| KR (1) | KR100655557B1 (zh) |
| CN (1) | CN100358398C (zh) |
| TW (1) | TWI268127B (zh) |
| WO (1) | WO2005009093A1 (zh) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7473458B2 (en) | 2002-03-05 | 2009-01-06 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Metal foil with resin and metal-clad laminate, and printed wiring board using the same and method for production thereof |
| JP4240448B2 (ja) * | 2002-08-22 | 2009-03-18 | 三井金属鉱業株式会社 | 樹脂層付銅箔を用いた多層プリント配線板の製造方法 |
| TWI262041B (en) | 2003-11-14 | 2006-09-11 | Hitachi Chemical Co Ltd | Formation method of metal layer on resin layer, printed wiring board, and production method thereof |
| TWI282259B (en) | 2004-01-30 | 2007-06-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | Adhesion assisting agent-bearing metal foil, printed wiring board, and production method of printed wiring board |
| JP5002943B2 (ja) * | 2004-11-10 | 2012-08-15 | 日立化成工業株式会社 | 接着補助剤付金属箔及びそれを用いたプリント配線板 |
| JP2006310574A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | 両面フレキシブルプリント基板の製造法及び両面フレキシブルプリント基板。 |
| TW200704833A (en) | 2005-06-13 | 2007-02-01 | Mitsui Mining & Smelting Co | Surface treated copper foil, process for producing surface treated copper foil, and surface treated copper foil with very thin primer resin layer |
| CN101208373B (zh) | 2005-07-21 | 2010-12-01 | 日本化药株式会社 | 聚酰胺树脂,环氧树脂组合物及其固化物 |
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-
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- 2004-06-10 JP JP2004172985A patent/JP3949676B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-06 TW TW93120200A patent/TWI268127B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-07-15 KR KR1020057014302A patent/KR100655557B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-15 US US10/565,587 patent/US8815387B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-15 WO PCT/JP2004/010101 patent/WO2005009093A1/ja not_active Ceased
- 2004-07-15 CN CNB2004800020067A patent/CN100358398C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1723745A (zh) | 2006-01-18 |
| US20070243402A1 (en) | 2007-10-18 |
| KR100655557B1 (ko) | 2006-12-11 |
| WO2005009093A1 (ja) | 2005-01-27 |
| TW200509761A (en) | 2005-03-01 |
| JP3949676B2 (ja) | 2007-07-25 |
| KR20060063775A (ko) | 2006-06-12 |
| US8815387B2 (en) | 2014-08-26 |
| JP2005053218A (ja) | 2005-03-03 |
| CN100358398C (zh) | 2007-12-26 |
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|---|---|---|---|
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