TWI267917B - Apparatus for manufacturing flat-panel display - Google Patents

Description

• I 1267917 $ ， 同時’處理至3G攻置有—處理裝置31，以執行-期望處理用於載入處理 -室30的基板。例如在處理室3〇中建立的真空狀態中執行侧處理。 為將待處理基板從外部站載入處理室中，基板常必須通過上述習知卿 製造裝置的貞載鎖室及饋人室。為此緣故，花費許多時間載人基板，因此 導致基板朗效率的魏。當基板魏職減至外部鱗亦發生此一問 題0

w 取近’由於FPD尺寸增大的最賴勢無法避轉送基板所需時間的增 加’而使關題更形嚴重。❹卜，若FpD製造裝置觸賴造大尺寸卿， 因FPD製造裂置在清潔室中的面積必然增加，因此必須增加卿製造裝置 的基板處理效率。因此，上制題更加嚴重。 【發明内容】 因此，本發明的-目的是提供一種卿製造裝置，其中在饋入室中設置 -暫4基板儲存空間以減少載人及純基板的時間。 本發月的3目的是提供一種FpD製造裝置，其中在該卿製造裝置所 a數室中&取i具有堆疊室結構，藉此在達成基板處理效率增強時亦能 達成安裝面積的減少。 理=日_ _目的是提供—種FPD製造裝置，其中該卿製造裝置的處 理至具有-轉❹層室結構，然而該fpd製造裝負麵室及饋入室 具有單層室結構。 =發，另—目的是提供—種FPD製造健，其包括—負載鎖室，分成 品又及下至區段，該等室區段能互相獨立地饋入基板。 根據—特點，本發明提供—種平板顯示器製造裝置，其包括—負载鎖室 -7 - 1267917 Λ \ 及接到負載鎖室的一饋入室，該裝置尚包括：一暫時基板儲存空間，其設 - 置在饋入室的預設部分；及至少一處理室，其接到饋入室。 根據另一特點，本發明提供一真空處理裝置，其包括相連的複數個真空 至用以執行用於基板的期望處理，其中真空室中至少二者為垂直堆疊的 處理室，並調適成分別執行用於基板的預設處理。 根據另一特點，本發明提供一平板顯示器製造裝置，其包括一負載鎖室、 饋入至及一處理室，其中負載鎖室包括：一中間壁，其調適成將負載鎖 _室内部分成上室區段及下室區段；頂蓋及底蓋，其分別構成上室區段的頂 壁及下室區段的底壁，頂蓋及底蓋可垂直移動；一蓋子開/閉單元，其連接 到頂蓋及底蓋，用以垂直移動頂蓋及底蓋以朝中間壁接近或離開中間壁， 藉此選擇地開啟及關閉上及下室區段；閘閥，分別設置在上室區段與饋入 至之間及下室區段與饋入室之間，用以根據上及下室區段的開啟及關閉而 選擇地連通上及下室區段與饋入室；及上載入器及下載入器，其分別裝在 ^ 頂盍及底蓋上，上及下載入器各調適成儲存至少一待處理物件。 • 根據另一特點，本發明提供使用一平板顯示器製造裝置以處理基板的方 • 法，4裝置包括分成上及下室區段的負載鎖室，接到負載鎖室的饋入室， 及接到饋入室的處理室，該方法包括以下步驟·· Α)在藉由一閘閥使上室區 段與饋入室互相隔離的狀態中，向上移動一頂蓋，藉此開啟上室區段，該 頂蓋係可分離地安裝在上室區段；Β)將至少—基域人—上基板载入器， 其安裝在職的下表面；C)向下轉職，藉此義上室區段；D)操作一 排氣裝置，藉此在上室區段建立一真空狀態；玢驅動閘閥，藉此連通上室 1267917 :’區段與饋人室，· F)_人上級載人器的基板獻饋人室巾，並將饋入的基 板載人處理室中，· G)在藉齡·钉室區段與獻室互相_，同時在步 驟E)上室區段與饋入室之間有連通的狀態中，向下移動底i，藉此開啟下 室區段；H)在步驟F)將載入上室區段中的基板饋入饋入室的過程中，將至 少-基板載人上基板載人H中，該上基板載人器係安裝在底蓋壯表面； 向上移動底盍，藉此關閉下室區段；乃操作排氣裝置，藉此在下室區段中建 立-真空狀態；K)在執行步驟j)以建立下室區段中的真空狀態期間，藉由 _閘閥使上至區段與饋入室互相隔離；L)驅動閘閥，藉此連通下室區段與饋 入室；M)將載入下基板載入器的基板饋入饋入室中，並將饋入的基板載入 處理至中，N)將處理至中處理過的基板載入下基板載入器中；〇)在藉由閘 閥使上室區段與饋入室互相隔離，同時在步驟L)下室區段與饋入區段之間 有連通的狀恶中，向上移動頂蓋，藉此開啟上室區段；及？)在步驟M)將載 入下室區段中的基板饋入饋入室，及在步驟N)將處理過的基板載入下基板 載入器的過程中，將至少一基板載入下基板載入器中。 i 【實施方式】 以下將參考附圖以說明本發明的典型實例。 參考圖2,圖中說明根據本發明第一實例的FPD製造裝置。如圖2所示， FPD衣k衣置包括一負載鎖室1〇〇、一饋入室200 ’及至少一處理室3〇〇。 在所示例子中，三個處理室3〇〇設置在饋入室200周圍。 尤其地，如圖3所示，根據本發明第一實例的FPD製造裝置包括一暫時 1267917 基板儲存空間220，以暫時地在饋入室200的期望位部儲存基板。暫時基板 儲存空間220暫時儲存將在饋入室200處理的基板，或已在處理室3〇〇處 理過的基板。實際上，當處理室300實施用於基板的期望處理時，在暫時 基板儲存空間220中儲存數個新基板。當處理室3〇〇中實施的處理完成時， 處理過的基板從處理室300卸載，接著並儲存在暫時基板儲存空間22〇中。 然後，儲存在暫時基板儲存空間220中的新基板之一載入處理室3⑻中， 並對載入的基板實施新處理。因此，將在處理室3〇〇中處理的基板的載入 係藉由將暫時基板儲存空間220中儲存的基板之一載入處理室3⑻而達 成，可以不用直接從外部站將新基板載入處理室3〇〇中。 暫時基板儲存空間220與饋入室200内部連通，以便暫時基板儲存空間 220根據饋入室2〇〇的真空或大氣狀態而維持在真空狀態或大氣狀態。因 此，並不需要在暫時基板儲存空間220中安裝分開的真空建立裝置。 田處理至300重覆執行基板處理後，儲存在暫時基板儲存空間22〇中的 處理過基板達到預設數目時，處理過的基板會經由負載鎖室1〇〇 一次地向 外卸載。然後，經由負載鎖冑1〇〇將複數個新基板一次地從外部站載入暫 夺基板儲存空間22G中。因此，相較於依序實施個別基板的基板載入及卸 載操作的例子，可減少執行基板載人及卸載所需的時間。亦可減少在負載 鎖至100建立真空的操作數目（例如泵激操作），以便簡化處理基板的過程， 藉此達成處理效率的增強。 尤其地，在複數個處理室300連接到一饋入室，以便該等處理室330 執行相同處理或依序執行不同處理(意即，同時處理—次載人的複數個基板） 1267917 的情形中，使用暫時基板儲存空間220可更有利。 一基板儲存模(未顯示)設置在暫時基板儲存空間220中。較佳地，該基板 儲存模具有複數個基板支撐表面以同時儲存複數個基板。 右不使用基板支撐表面以儲存複數基板，則可使用另一方法，直中將能 同時儲存堆疊狀態中的複數個基板的一基板儲存盒從外部站載入暫時基板 儲存空間220中。例如，將一卡g(其係能同時儲存複數個基板的基板儲存 益)插入饋入室200中，以便在基板儲存模上載入該卡匣。因此在此例中， • 基板儲存模不需用到基板支撐表面，亦可支撐複數個基板。 一閘閥(未顯示)可設置在暫時基板儲存空間22〇的入口，以隔開暫時基板 儲存空間220與饋入室2〇〇。在此例中，;^需要使用分開的真空建立裝置在 暫時基板儲存如，情鴻粒—餘。。顧是暫板儲存空間 220維持在一真空狀態(類似於饋入室2〇〇)。 暫時基板儲存空間22〇可設置在饋入室2〇〇的側邊(負載鎖室卿即設置 在該側）’以便暫時基板儲存空間220與負載鎖室卿垂直地堆4(如圖2所 藝的。思即’kFPD製造裝置的頂部看去，負載鎖室1〇〇與暫時基板儲存空 間220完全互相重疊。在此例中，览點是僅使用饋入室2〇〇中配置的饋入 機械人210的水平及妓動作(不験轉饋人機械人21())即可獻基板。同 時，因負載鎖室励與暫時基板儲存空間22G侧的面積減少，因此可使 饋入室200周圍配置的處理室3〇〇增多。 暫時基板儲存空間22G可配置成與負載鎖室卿部分重疊(如圖$所示）。 意即，從™製造裝置的頂部看去時，暫時基板儲存空間22〇與負載鎖室 -11 - 1267917 可未完蝴目《，但w地互刪。在谢，優點是負載鎖室 廟與暫時基板儲存空間㈣佔用的面積雖然稍有增加，但相較於負載鎖室 刚與暫時基板儲存空間22〇完全互相重疊的例子，可減少裝置的高度。因 此，額外的優點是FPD製造裝置可容綠造及修復。 負載鎖室100與暫時基板儲存空間22〇的垂直位置可加以變化咏圖3及 4所示）。意即，如圖3所示，負載鎖室刚可設置在較下面位置，而暫時 基板儲存空_可設置在較上面位置。同時，如圖4所示，負載鎖室卿 與暫時基板儲存空間220分別可設置在與圖3相反的位置。 較佳地，暫時基板儲存空間22〇係可分離地連接到饋入冑細。暫時基板 儲存空間220具有能可她也連接_入室2〇〇的結構，則可輕易地修復 暫時基板儲存空間22G的内部，原因是可在暫時基板儲存空間細與饋入 室200分離的狀況下實施修復處理。 較佳地，如圖6所示，負载鎖室卿包括：數個開口 (未顯示），其分別形 成以穿透負載鎖室100的相對側壁，該等側壁位置础鄰負載鎖室娜接到 饋入室200的砸，以容許基板通過該等開口用於基板的載入及卸載；數 個門(未顯示），其分別調適成開/閉開口；及基板載入/卸載單元⑽，其分 別調適成在支撐紐的«、巾•及卸紐板。機此基板載入/ 卸載配置，目基滅人/卸鮮元11()侧地實絲城人及卸載操作，因 此可大大地減少載人/卸絲板所需的時間。基域人/卸載配置可僅設置在 負載鎖室1GG的減側壁之-’該等趣位動t__室⑽接到饋入 室200的侧壁。 1267917 4 t : 以下將詳細說明由根據此實例的FPD製造裝置實施的基板載入及卸載程 ’ 序。 首先，將配合以下例子說明基板載入及卸載程序，其中FPD製造裝置包 括一閘閥以載入及卸載基板，閘閥設置在負載鎖室100的側壁，其與負載 鎖室100接到饋入室200的侧壁相對(如圖2所示）。 當二個基板從外部站經由設置在負載鎖室侧壁(其與負載鎖室丨接 到饋入室200的側壁相對)的閘閥供應到負載鎖室1〇〇中時，設置在饋入室 馨 200中的饋入機械人將二個基板一個一個地載入個別的處理室3〇〇中。然 後，二個新基板從外部站載入負載鎖室1〇〇中，當處理室3⑻中實施一期 望處理時，該三個新基板在負載鎖室100中維持在載入狀態中。處理室3〇〇 中實施的處理完成後，即開啟數個閘閥，其各配置在饋入室與相關聯一處 理室300之間。然後處理過的基板自處理室3〇〇卸載，並儲存在暫時基板 儲存空間220中。 φ 後、以也將負載鎖至100中負載的二個新基板-個-個地載入個別的處 理室300中。關閉在饋入室2〇〇與相關聯處理室間的各閘閥。然後，在暫 π基板儲存空間220中儲存的處理過基板經由負载鎖室向外部卸載。 接著將三個待處理的新基板載入負載鎖室100中。 上述，根據此貫例，在饋入室周圍設置複數個處理室，以便想要在個 別處理室中同時處理複數個基板時，可同時在所有處理室實施(不用依序在 另J處理至貫施)基板的載入及卸載。因此可大大地減少載入/卸載基板所需 的時間。 d -13- 1267917 Μ - 接下來，將配合以下例子說明基板載入及卸載程序，其中FPD製造裝置 包括數個基板載入/卸載配置，其各包括一開口、一門及一基板載入/卸載單 元110，以經由負載鎖室100的相對側壁載入及卸載基板，該等側壁與一負 載鎖室100接到饋入室200的側壁相對。 藉由沿著負載鎖室100的相對側壁設置的輸送器(未顯示)將基板供應到 各基板載入/卸載單元110，該等側壁中設置基板載入/卸載配置。處理過的 基板則從基板載入/卸載單元110傳送到輸送器。 在此例巾目基板的載入及卸載在負載鎖冑1〇〇㊆側實施，因此可較有 效率地達絲板賴人及卸載。其餘域人及卸德似如同上述例 子的方式實施峨人及㈣基板，其t FPD製錢置包括—卿以載入及 卸載基板’該閘閥設置在負載鎖室卿的侧壁，其與負載鎖室1〇〇接到饋 入室200的側壁相對。因此，將不再提供進一步說明。 以下將說明根據本發明第二實例的FPD製造裝置。 第-貫例提供-FPD製造裝置’其包純數谢_真空室以執行用於 基板的期望處理’其中鱗真空室中至少二者健直堆疊的處理室，並調 適成分別執行用於基板的預設處理。 第二實例亦提供一真空處理裝置，其包括複數個真空室，該等直空室包 含負載鎖室、饋入室及處理室，其相連以執行用於基板的期望處理^ 該等處理室巾至少二者魅躲疊_適魏行祕基板_ /、 根據第二實例的™製造裝置包含複數個真空室，其包括續鎖室十 入室及處理室，其相連以執拥於基板_處理(如圖丨的例子)。第二: -14- 1267917 • 例的FPD製造裝置特徵為該等真空室中至少二者為垂直堆疊。因此在此例 •中’FPD製造裝置在清潔室巾佔用面積減少，因此得以增絲板處理效率。 尤其地，在第二實例的FPD製造裝置中，具相同内部配置及相同功能的 負載鎖至具有單層酉己置，及具相同内部配置及相同功能的饋入室具有單層 配置，然而處理室具有垂直堆疊或多層配置。 由於在處理室中較在其他真空室中實施處理所需時間較多，因此想要驅 動負載鎖室及饋人室，當另—處理室實施—期望處理時用以卸載_處理室 •巾處珊的基板，並在鱗理室中載人新基板，以便有鱗地達成該等處 理室間實施的基板處理。 車乂仏地垂直堆宜的處理室數目為二(如圖7所示）。該兩處理室可執行相 同功能，或可分別執行不同功能。 尤其地，若FPD製造裳置係—偷裝置，最好兩處理室各為電漿增· 刻㈣型祕室或反_子働獅)魏做，或者兩處理室分別為一四 型乾魅及，型輸室。意即，兩處理室可為pE型乾齡_型乾 餘室，以便處理錄行相同功能。或者，處理室可分別為—pE型餘室及 - RIE型乾做’以便處理室分別執行不同功能。 若垂直堆疊的處理室分別具有不同功能，優點是可使用一真空處縣置 貫施不同功能，讀*需要_額外的真空處理裳置。 同時，若垂直堆疊的處理室具有相同魏，優點是—處理室可在另一處 理室貫施1魏_實錄板獻 置的基板處理效率。 购作，赠增加真空型處理裝 > 15-

(I 1267917 9 • 4 ' 在垂直堆疊處理室配置中，+

， 免理至中之上方者(即處理室6〇〇a)為PE - 型乾餘室，及處理室中之下方古^ + <卜万者(即處理室600b)為R!E型乾蝕室。 在此例中由於料PE魏做則拙功率至上雜，若為肌 型乾健則RE功率施至下電極，因此處理室配置的整體高度低於其他處理 室配置者，俾不需要在該等處理室間設置安裝。 Μ，在«堆疊處理室配置中_執行上方及下方處理室的内部 .結構轉護及修復。因此，各處理室必有可打開的結構。 # Α此目的’根據此㈣，處理室敝及_b各具有-可垂直分離的結 構(士目9所示）地，上處理室6〇〇a具有的結構中，可垂直移動上處 理室6〇〇a的上部分以開閉上處理室論，及下處理室6_具有的結構中， 可垂直移動上處理室600a的下部分以開閉下處理室祕(如圖1〇所示)，以 便可方便地執行各處理室600a或6〇〇b内部的維護及修復。 FPD製造裝置可包括單一饋入室，其田比鄰垂直堆疊處理室而設置(如圖7 所示）。或者，FPD製造裝置可包括複數個垂直堆疊的饋入室(如圖8所示）。 .^ 若使用單一饋入室(如圖7所示），為將基板分別鑛入上及下處理室，必須 使用一饋入機械人510，其可垂直移動(如圖u所示）。 接下來，將說明根據本發明第三實例的FPD製造裝置。 本發明第三實例提供一 FPD製造裝置，其包括一負載鎖室、一饋入室及 一處理室，其中負載鎖室包括：一中間壁，其調適成將負載鎖室内部分成 一上室區段及一下室區段，頂盖及底蓋’其分別構成上室區段的頂壁及下 室區段的底壁，上及下蓋可垂直移動；一蓋子開/閉單元，其連接到上及下 -16 - 蓋，以垂直移動上及下蓋朝中間壁接近及離開中間壁，藉此選擇地開啟及 關閉上及下室區段；數個閘閥，分別設置在上室區段與饋入室之間及下室 區段與饋入室之間，以根據上及下室區段的開啟及關閉而選擇地連通上及 下室區段與饋入室；及上及下載入器，其分別裝在頂及底蓋，上及下載入 器各调適成儲存至少一待處理物件。 根據本發明的第三實例，在上及下室區段各安裝一排氣裝置及一氣體供 應器，以便上及下室區段可互相獨立地建立一真空狀態及一大氣狀態。因 此’可有效率地達成負載鎖室實施的基板載入及卸載。 根據本發明的第三實例，蓋子開/閉單元包括：一可移動軸，其連接到頂 盖或底蓋，一導引元件’其調適成導引可移動軸的移動；及一驅動器，其 連接到可移動軸以垂直移動可移動軸。根據蓋子開/閉單元的此配置，可輕 易開啟及關閉頂及底蓋。使用蓋子開/閉單元，頂及底蓋可交替地開啟及關 閉。 根據本發明第三實例的FPD製造裝置尚可包括一第一底板，其設置在上 載入器的末端，具有的面積並大於將儲存在上載入器中的物件面積。使用 第一底板可輕易移除基板在基板載入及卸載期間發生損壞所造成的基板碎 根據本發明第三實例的FPD製造裝置尚可包括一第二底板，其設置在下 載入器的末端，具有的面積並大於將儲存在下載入器中的物件面積。 根據本發明第三實例的FPD製造裝置尚可包括一控制器，其調適成控制 閘閥使頂蓋垂直移動以開啟上室區段時上室區段與饋入室互相隔離，並使

I 4 1267917 下至區段與饋入室互相連通，及控制閘閥使底蓋垂直移動以開啟下室區段 日守下至區段與饋人室互相隔離，並使上室區段與饋人室互相連通。 本卷明的第二貫例亦提供使用一 FPD製造裝置以處理基板的方法，該裝 且包括一負載鎖室(分成上及下室區段）、-饋入室(接至該負載鎖室)及一處 理至(接至饋入室），該方法包括以下步驟： )在藉由^閥使該上室區段與該饋入室互相隔離之狀態中，向上移動一 頂盖’藉此開啟該上室區段，該頂蓋係可分離地安裝至該上室區段； )將至>、基板載入一上基板載入器，其安裝於該頂蓋之下表面； C) 向下移動該頂蓋，藉此關閉該上室區段； D) 操作一排氣裝置，藉此在該上室區段建立一真空狀態； E) 驅動該閘閥，藉此連通該上室區段與該饋入室； F) 將載入紅基域人基板饋人巾，並將饋人之基域入該處 理室中； _ G)在藉由該閘閥使該下室區段與該饋入室互相隔離，同時在步驟E)該上室 區丰又/、忒饋入至之間有連通之狀態中，向下移動該底蓋，藉此開啟該下室 區段； H) 在步驟F)將載入該上室區段中之基板饋入該饋入室之過程中，將至少一 基板載入該上基板載入器中，該上基板載入器係安裝於該底蓋之上表面； I) 向上移動該底蓋，藉此關閉該下室區段； J) 操作該排氣裝置，藉此在該下室區段中建立一真空狀態； K) 在執行步驟J)以建立該下室區段中之真空狀態期間，藉由該閘閥使該上 1267917 - 室區段與該饋入室互相隔離； - L)驅動該閘閥，藉此連通該下室區段與該饋入室； M) 將載入該下基板载入器之基板饋入該饋入室中，並將饋入之基板載入該 處理室中； N) 將該處理室中處理完成之基板載入該下基板載入器中； 〇)在藉由該閘閥使該上室區段與該饋入室互相隔離，同時在步驟L)該下室 區段與該饋入區段有連通之狀態中，向上移動該頂蓋，藉此開啟該上室區 # 段；及 P)在步驟M)將載入該下室區段中之基板饋入該饋入室，及在步驟N)將處理 過之基板載入該下基板載入器之過程中，將至少一基板載入該下基板載入 器中。 以下將參考圖12、圖13及圖Ma至Mb詳細說明本發明的第三實例。 如圖12所示，^艮據弟二實例的FPD製造裝置(以參考數字7⑽表示)包括 一負載鎖室710、一饋入室720及一處理室730。饋入室72〇及處理室730 •各具有與上述習知FPD製造裝置相同的結構及功能，因此不再進一步提供 有關饋入室720及處理室730的說明。 根據第三實例，負載鎖室710包括一中間壁w、一頂蓋711a、一底芸 711b、閘閥712a及712b及蓋子開/閉單元713。 中間壁W水平地設置在負載鎖室710的中央部分，將負載鎖室谓分成 上室區段710a及下室區段™b。因此，負載鎖室71〇由中間壁…互相隔 開的上室區段710a及下室區段71〇b可互相獨立地操作。 4 1267917 I 若負載鎖室710分成上室區段71〇a及下室區段71〇b(如上述），則可獨立 地執订個別室區段710a及71Gb的基板載入及卸載，藉此達成基板載入/卸 載效率的增強。 頂蓋711a設置在上室區段71〇a。詳細地，頂蓋7Ua裝在上室區段71加 的上端以構成上室區段施的頂壁。如圖12所示，頂蓋皿從上室區段 71〇a向上移動以向上開啟上室區段71加。因此，想要將基板從外部站載入 負載鎖室ΉΟ的上室區段7l〇a時，或將基板從上室區段薦向外卸載時， 瞻藉Φ向上雜頂蓋711a便可達成基板的載人及卸載，藉此開啟上室區段 71〇a，並藉由使用毗鄰負載鎖室71〇設置的外部機械人(未顯示)經由開啟的 上室區段710a執行基板的載入及卸載。 底蓋711b設置在下室區段71〇b上。詳細地，底蓋711b裝在下室區段71〇b 的下端以構成下室區段710b的底壁。如圖12所示，底蓋刀比從下室區段 710b向下移動以向下開啟下室區段71〇b。 _ 如圖13所不，開口 714a及714b分別在對應至上及下室區段71〇a及71〇b 的區域經由負載鎖室710的側壁形成以接觸饋入室72〇。開口 71如及71牝 作為閘道，基板及饋入機械人722通過該等開口以達成負載鎖室71〇與饋 入室720間的基板傳送。因此，開口 714a及7Mb具有的大小能容許基板 及饋入機械人722通過開口 714a及714b。饋入室72〇分別在對應至開口 714a及714b的區域亦设置有開口 726a及726b，其具有與開口 714a及714b 相同的大小。在負載鎖室710形成的各開口 714a及714b與在饋入室72〇 形成的開口 726a及726b的相關者隔開一預設距離。

I 4 1267917 鼻 閘閥712a及712b分別插入在上室區段710a與饋入室72〇之間及下室區 華 段710b與饋入室720之間。閘閥712a是用以開/閉上室區段71〇a的開口 714a及饋入室720的開口 726a，而閘閥712b是用以開/閉下室區段710b的 開口 714b及饋入室720的開口 726b。閘閥712a及712b必須互相獨立地操 作。為互相獨立地使用上及下室區段7i〇a及710b，必須開/閉上及下開口 714a及714b。為此目的，閘閥712a及712b必須互相獨立地操作。 蓋子開/閉單元713分別設置在負載鎖室71〇的相對側壁，以開/閉頂蓋 籲7lla及底盡7llb。各蓋子開/閉單元力3必須具有能互相獨立地開/閉頂蓋 711a及底蓋711b的配置。 根據第三實例，如圖12所示，各蓋子開/閉單元713包括一往復轴⑽、 -導引兀件713b及-電力產生器713c，以垂直移動頂蓋7出。可移動抽 713a可垂直移動以垂直移動頂蓋7Ua，藉此開/閉頂蓋施。可移動轴仙 以其上端裝在頂蓋711a的姆橫端的相關者上，並以其下端連接到電力產 生器服。電力產生器713c可為一馬達，及可移動轴仙可具有圓柱結 響構，以便可根據馬達的旋轉而垂直移動。 導引元件7咖裝在負載鎖室Ή〇的相對側壁的相關者上，以導引可移動 軸713a的移動。導引元件713b具有一穿孔，可移動轴池可經由該穿孔 延伸。可鶴咖以分配概心施加給電力產生器服的重量。 電力產生器713C產生電力以垂直移動可移動轴仙。電力產生器Μ 固定地裝在咖謂的相麵壁上，並與可移動細a的下端相連。 各蓋子開/閉單元713亦包括另一往復軸他、另—導引元件挪及另

-21 - 1267917 一電力產生器713c，以垂直移動底蓋711b。用於底蓋711b的電力產生器 > 713c可省略。在此例中，用於頂蓋711a的電力產生器71允用以移動接到 頂蓋711a的可移動軸713a，亦用以移動接到底蓋7Ub的可移動軸71如。 上及下基板載入器715a及715b分別設置在頂蓋711a及底蓋711b。上下 基板載入态715a裝在頂蓋711a的下表面。較佳地，上基板載入器715a具 有能儲存複數個基板的結構。下基板載入器715b具有與上基板載入器715a 相同的結構，並裝置底蓋711b的上表面。 • 較佳地，底板71如及716b分別設置在上及下基板載入器715a及715b。 底板716a及716b具有的面積大於將儲存在上及下基板載入器715a及71沁 的基板面積，以便能防止上及下基板載入器715a及715b中儲存的一或多 個基板因損壞可能產生的基板碎片掉進負載鎖室71〇中。意即，因底板71如 及716b具有的寬板結構的面積大於將儲存在上及下基板載入器715a及 715b的基板面積，因此此類碎片可完全收集在底板71如及71吣上，不會 掉進負載鎖室710中。藉由向上移動頂蓋711&或向下移動底蓋乃比即可輕 _易移除收集的基板碎片，並藉此向外露出底板71如及716卜 • 根據第三實例，一排氣裝置(未顯示)及-氣體供應器(未顯示)安裝在上室 區I又710a中。排氣I置吸走上室區段π〇a中存在的氣體，並向外釋出吸取 的氣體，藉此在上室區段薇中建立一真空狀態。氣體供應器將氮等氣體 供應到上室區段710a巾，藉此在上室區段71〇a中建立一大氣狀態。同時， 與上室區段施巾者具有相同功能的另一排氣裝置及另—氣體供應器安裝 在下室區段7i〇b巾。因此，上及下室區段71如及71〇1)可互相獨立地建立 -22- 1267917 真空及大氣狀態。 僅有在上及下室區段篇及働互相獨立地操作的條件下，各上及下 室區段710a及710b才可作為獨立的負載鎖室。 在頂蓋711a _邊部分形成密封元件置人溝。沿著負載鎖室彻的侧壁 的上端設置-密封元件717a。沿著負載鎖室7ω _㈣獨形成另一密 封元件置入溝。沿著底蓋71 lb的周邊部分設置另—密封元件而。根據此 等配置，可在頂蓋7Ua或底蓋711b關閉的狀態中將上室區段術或下室 區段7動與外界_，藉此在上㈣段偷或下錢段湯巾建立真空 狀態。 根據第三實觸FPD製造裝置尚包括—控制器。當頂蓋7na向上移動以 開啟上室區段710a時，該控制器控制閘閥712a使上室區段71加與饋入室 720互相隔離。當底蓋711b向下移動以開啟下室區段7i〇b時，該控制器亦 控制閘閥712b使下室區段710b與饋入室720互相隔離。 藉此，上及下室區段710a及710b互相獨立地操作，以便可有效率地載 入及卸載基板。 以下將參考圖14a至Me說明使用根據第三實例的FpD製造裝置以處理 基板的方法。 首先，向上移動頂蓋711a以開啟上室區段7施(如圖14a所示）。此時， 上室區段710a的開口 714a及饋入室720的開口 726a由閘閥712a維持在關 閉的狀態中。因此，雖然上室區段710a是在大氣狀態中，但饋入室72〇卻 維持在真空狀態中。 -23- d：

•I 1267917 省 在上室區段710a開啟的狀態中，由負載鎖室71〇附近設置的外部機械人 (未顯示)將第一基板si載入上基板載入器715a中。此時，在上基板載入器 715a中可載入數個基板。 載入第一基板S1後，向下移動頂蓋7Ua以關閉頂蓋711a。藉此密封上 室區段710a。在此狀態中，驅動上室區段乃㈨的排氣裝置將氣體從上室區 段710a排出，藉此在上室區段7l〇a中建立一真空狀態。當上室區段71〇a 達到與饋入室720相同的真空位準時，將用以使上室區段7丨〇a與饋入室72〇 φ 互相隔離的閘閥712a打開。 打開閘閥712a時，設置在饋入室720中的饋入機械人722經由開口 714a 及726a將載在上基板載入器715a中的第一基板s丨饋入饋入室72〇中(如圖 如圖14b所示）。將第一基板si饋入饋入室72〇後，再由閘閥712a將上室 區段710a達到與饋入室720互相隔離。在此狀態中，饋入機械人722將第 一基板S1饋入處理室730中。 在將第一基板S1從上室區段710a載入饋入室720的過程中，將一第二 馨基板S2載入下室區段710b中。意即，當頂蓋711a關閉時，底蓋乃比向 下移動以開啟下室區段710b(如圖14b所示）。此時，下室區段7i〇b與饋入 室720仍由閘閥712b維持在互相隔離的狀態中。在此狀態中，外部機械人 將第二基板S2載入下基板載入器715b中。載入第二基板S2後，底蓋711b 向上移動以關閉底蓋711b。在此狀態中，將下室區段71〇b排氣。 完成下室區段710b的排氣後，開啟閘閥712b以連通下室區段71〇13與饋 入室720。在此狀態中，基板S2由饋入機械人722饋入饋入室72〇中。 因此，載入下室區段710b的基板在外部站供應的基板載入上室區段71〇a -24- 1267917 Μ 的過程中饋入饋入室720中(如圖14c所示），而載入上室區段710a的基板 在外部站供應的基板載入下室區段710b的過程中饋入饋入室72〇中(如圖 14b所示）。藉此，載入上及下室區段71〇a及71〇b的基板交替地饋入饋入 室720中。 根據本發明的FPD製造裝置，可大大地減少載入/卸載基板所需的時間， 並藉此減低處理大型基板所需的時間。因此，優點是增強基板處理效率。 根據本發明的FPD製造裝置，一基板在另一處理過的基板載入一分開空 鲁間後才載入處理室中。因此，可防止饋入室中實施基板饋入程序期間可能 產生的微粒掉在處理過的基板上，並藉此防止基板受損。 根據本發明，可在裝有真空處理裝置的清潔室面積維持不變的條件下增 強基板處理效率。 尤其地’真空處理裝置可包括數個處理室，其依堆疊狀態設置，並調適 成分別執行不同處理。在此例中，優點是可在一真空處理裝置同時實施不 同处卩卩使依堆豐狀設置的處理室具有__，仍有顯著增強基板 處理效率的優點。 鲁'^本ι月’堆豐式處理室各具有一結構，儘管是堆疊室配置仍能達成 内I5達成維及修復處理。因此，優點是該真空處理裝置可以如同 ，習知真空處理裝置的方式修復。 =本翻，負麵㈣上及下段互補立地執行基板的載入及卸 此’ FPD製造裝置的操作效率得到增強。 於兩負載鎖室垂直堆疊情形，FPD製造裝置具有與兩負載鎖 至―豐情形相同的效果，但具有較低的負載鎖室高度。因此，優點是 負載鎖室容易安裝及鎖入機械人的垂直移動範圍減低。 ο. -25- 1267917 Μ 【圖式簡單說明】 由以上詳細說明且配合附圖已了解本發明的上述目的及其它特徵與優 點，其中： 圖1以一剖面圖說明一習知FPD製造裝置的配置； 圖2以一平面圖說明根據本發明第一實例的FPD製造裝置的配置； 圖3至5以剖面圖說明根據本發明第一實例的FPD製造裝置的配置； 圖6是一剖面圖以說明根據本發明的負載鎖室的結構； 圖7是一剖面圖以說明根據本發明第二實例的fpd製造裝置； 圖8疋一剖面圖以說明根據本發明第二實例的另一 fpd製造裝置· 圖9疋一剖面圖以說明根據本發明第二實例的堆疊式處理室的結構； 圖10是-剖關以說明根據本發明第二實例的堆疊式處理㈣打開狀態； 圖11是-剖面圖以說明根據本發明第二實例的饋入機械人的操作； 圖12是-剖面圖以說明根據本發明第三實例的負載鎖室的結構； 圖η是不同於圖I2方向的剖面圖以說明根據本發明第三實例的fpd製造 0裝置的配置；及 圖14a至14c分別是剖面圖以解釋藉由使用根據本發明第三實例的卿製 造裝置以處理基板的方法。 【元件符號說明】 ，100，710負載鎖室 11載入模 2〇，200，720 饋入室 3〇 ’ 300 ’ 600a，600b，730 處理室 -26- 1267917 31 處理裝置 ] 110基板載入/卸載單元 220暫時基板儲存空間 510，722 饋入機械人 700 FPD製造裝置 710a上室區段 710b 下室區段 φ 711a頂蓋 711b底蓋 712a，712b 閘閥 713 蓋子開/閉單元 713a往復軸 713b 導引元件 713c電力產生器 # 714a，714b，726a，726b 開口 715a上基板載入器 715b下基板載入器 716a，716b 底板 717a，717b 密封元件 SI，S2 基板

-27-

Claims (1)

1. 4 1267917 拾、申請專利範圍： •丨·-種平板顯示器製造裝置，包括—負載鎖室及—接至㈣載鎖室之饋入 室，該裝置尚包括： -暫時基板儲存空間’其設置在該饋入室之預設部分；及 至少一處理室，其接到該饋入室。 2.如申請專利範圍第1項所述之平板顯千 卞亂、、'貝不為製造裝置，其中該暫時基板儲存 二間.又置在捕人至之-側壁，該負載鎖室接到該饋人室，以便該暫時 • 基板儲存空間及該負載鎖室在完全互相重疊時形成堆疊。 3·如申請專繼圍第丨項所述之平板顯·製錢置，射該暫時基板儲存 空間及該負載鎖室在部分互相重疊時形成堆疊。 4.如申請專利範圍第2或3項所述之平板顯示器製造裝置，其中該負載鎖室 包括： -開口，其形成以穿透該負賴室之相對侧壁中之—者，該側壁設置成 础鄰該負載魅接_人室之觀，以轉—基板通過該開口以載入及 卸載該基板； 一門，其調適成打開/關閉該開口；及 —基板載人及卸鮮元，其_成經由該.在支撐職板之狀態中而 執行該基板之载入及卸载。 5·如申請專利細第4項所述之平板顯示器製造裝置，射該負載鎖室尚包 括： 、員外開口’其形成以穿透該負載鎖室之相對側壁中之另一者，該侧壁 叹置成晚鄰該負载鎖室接到饋入室之側壁’以容許—基板通過該額外開 -28- I 1267917 Λ 口以載入及卸載該基板； 一額外門，其調適成打開/關閉該開口；及 額外基板載入及卸載單元，其調適成經由該開口在支樓該基板之狀態 中而執行該基板之載入及卸載。 6·如申請專利範圍第5項所述之平板顯示器製造裝置，其中·· 忒負载鎖至尚包括-輸送器，其設置成田比鄰該負載鎖室之相對側壁以饋 入基板；及 籲該輸送器分別將饋入之該等基板傳送至該等基板載入/卸載單元以載入該 等基板，並從該等基板載入/卸載單元接收基板以卸載該等基板。 7·如申請專利範圍第2或3項所述之平板顯示器製造裝置，其中該暫時基板 儲存空間包括-基板儲存模，並調適成儲存至少一基板。 8·如申請專利範圍第7項所述之平板顯示器製造裝置，其中該暫時基板儲存 空間包括-閘閥，其配置在該暫時基板儲存空間與該饋入室相接處，將 ^ 5玄暫時基板儲存空間與該饋入室互相隔開。 9.如申請專娜®第7項所叙平臟示^製造裝置，其巾該辦基板儲存 .空間可與該饋入室分離。 ίο.-種真空處理裝置，包括複數個相接之真空室，用以執行用於基板 之處理，其中該等真空室中至少二者係垂直堆疊，並分別調適成執行用 於基板之預設處理。 11·如申請專利範圍第1G項所述之真空處理裝置，其中該等垂直堆疊處理室 之數目為二。 -29- 1267917 4 • I 12.如中請專利範圍第u項所述之毅處理裝置，其中該等處理室執行相同 - 功能，或分別執行不同功能。 U.如申請專利範圍第η項所述之真空處理裝置，其中該等處理室分別為— 電漿增強钕刻型乾餘室及-反應離子餘刻型乾餘室。 14.如申請專利範圍第u項所述之真空處理農置，其中該等處理室中之下方 者為-反應離子餘刻型乾触室，及該兩處理室中之上方者為電聚增· 刻型乾餘室。 籲is.如申請專利範圍第u項所述之真空處理裝置，其中各該等處理室為電裝 增強蝕刻型乾飯室。 16.如申請專利範圍第㈣所述之真空處理裳置，其中各該等處理室為反應 離子钱刻型乾姓室。 17·如申請專利範圍第u項所述之真空處理裝置，其中： 4等處理至之上方者包括—頂蓋，其可垂直移動關閉該上處理室丨及 4等處理至之下方者包括—底蓋，其可垂直移動關眺下處理室。 籲18·如申請專利範圍第n項所述之真空處理裳置，其中該饋入室包括一饋入 • 機械人，其配置在饋入室中毗鄰該等處理室，以便該饋入機械人可垂直 移動。 19·一種平板顯示器製造裝置，包括一負載鎖室、一饋入室，及一處理室， 其中該負載鎖室包括： 一中間壁’其調適成將該負載鎖室内部分成一上室區段及一下室區段； 頂盖及底蓋’其分別構成該上室區段之頂壁及該下室區段之底壁，該等

   -30- 1267917 頂蓋及底蓋可垂直移動； 一蓋子開閉單元，其接到該等頂蓋及底蓋以垂直移動該等頂蓋及底蓋朝 該中間壁接近及離開該中間壁，及藉此選擇地開閉該等上室區段及下室 區段； 閘閥，其分別設置在該上室區段與該饋入室之間及該下室區段與該饋入 室之間，以根據該等上室區段及下室區段之開閉而選擇地使該等上室區 段及下室區段與該饋入室連通；及 上載入器及下載入器，其分別安裝至該等頂蓋及底蓋，該等上載入器及 下載入器各調適成儲存至少一待處理物件。 20.如申請專利範圍第19項所述之平板顯示器製造裝置，尚包括： 排乳裝置及-氣體供應器，其各安裝在該等上室區段及下室區段，能 使該等上段及下·段各自獨立地建立—真空狀態及—大氣狀態。 儿如申請專利範圍第丨9項所述之平板顯示器製造裝置，其中該蓋子開閉單 元包括： 一可移動軸，其連接至該頂蓋或底蓋； 一導引元件，其調適成導引該可移動軸之移動，·及 一驅動器’其連接至該可移動軸以垂直地移動該可移_。 A如申請專糊第19項所述之平板顯示器製造裝置，其中該上載入器包 括第-底板，其在該上載入器之下端繞輛旋轉，及具有之面積大於該 上载入器將儲存物件之面積。 23+如申請專利範圍第丨9項所述之平板齡器製造裝置，其中該下載入器包

   -31 - 1267917 括-第二底板，其在該下載入器之下端繞軸旋轉，及具有之面積大於該 下載入器將儲存物件之面積。 24·如申請專利範圍第19項所述之平板顯示器製造裝置，尚包括： -控制器，其綱成控繼等關在垂直移麟頂蓋關啟該上室區段 日守，使該上室區段與該饋入室互相隔離，並使該下室區段與該饋入室互 相連通，及控制该4閘閥在垂直移動該底蓋以開啟該下室區段時，使該 下至區段與该饋入室互相隔離，並使該上室區段與該饋入室互相連通。 25·—種處理基板之方法，其使用一平板顯示器製造裝置，該裝置包括一分 成上室區段及下室區段之負載鎖室，一接到該負載鎖室之饋入室，及一 接到該饋入室之處理室，該方法包括以下步驟： A) 在藉由一閘閥使該上室區段與該饋入室互相隔離之狀態中，向上移動 頂蓋’藉此開啟該上室區段，該頂蓋係可分離地安裝至該上室區段； B) 將至少一基板載入一上基板載入器，其安裝於該頂蓋之下表面； c)向下移動該頂蓋，藉此關閉該上室區段； D) 操作一排氣裝置，藉此在該上室區段建立一真空狀態； E) 驅動該閘閥，藉此連通該上室區段與該饋入室； F) 將載入δ亥上基板載入器之基板饋入該饋入室中，並將饋入之基板載入 該處理室中； G) 在藉由該閘閥使該下室區段與該饋入室互相隔離，同時在步驟玲該 上室區段與該饋入室之間有連通之狀態中，向下移動該底蓋，藉此開 啟該下室區段； -32- 1267917 Λ Η)在步驟F)將載入該上室區段中之基板饋入該饋入室之過程中，將至 少一基板載入該上基板載入器中，該上基板載入器係安裝於該底蓋之 上表面； I) 向上移動該底蓋，藉此關閉該下室區段； J) 操作該排氣裝置，藉此在該下室區段中建立一真空狀態； K) 在執行步驟J)以建立該下室區段中之真空狀態期間，藉由該閘閥使該 上室區段與該饋入室互相隔離； 鲁 L)驅動該閘閥，藉此連通該下室區段與該饋入室； M) 將載入該下基板載入器之基板饋入該饋入室中，並將饋入之基板載入 該處理室中； N) 將該處理室中處理完成之基板載入該下基板載入器中； 〇)在藉由該閘閥使該上室區段與該饋入室互相隔離，同時在步驟£)該 下至區段與该饋入區段有連通之狀恶中’向上移動該頂蓋，藉此開啟 該上室區段；及 • P)在步驟M)將載入該下室區段中之基板饋入該饋入室，及在步驟N) • 將處理過之基板載入該下基板載入器之過程中，將至少一基板載入該 下基板載入器中。 26.如申請專利範圍第25項所述之方法，其中步驟A)至叫各重覆執行至少 兩次。 -33-