TWI267651B - High refraction film, high refraction film-forming coating composition, anti-reflection film, protective film for polarizing plate, polarizing plate and image display device - Google Patents

Description

1267651 玖、發明說明： iiL本發明技術領城 本發明係關於高折射膜、形成高折射膜之塗層組成 物、及抗反射膜、偏光板保護膜、偏光板、及包括高折射 膜之影像顯示裝置。 (二)先前技術 抗反射膜係配置於各種影像顯示裝置之顯示表面上以 抑制由於外部光或影像造成之對比降低，此裝置包括液晶 顯示裝置（LCD)、電漿顯示板（PDP)、電發光顯示器（ELD)、 與陰極射線顯示裝置（CRT)。因此，抗反射膜需要具有高物 理強度（抗刮性等）、化學抗性及耐候性（抗濕熱性、抗光 性等）。 至於用於抗反射膜之抗反射塗層（具有高折射膜、中 折射膜、低折射膜等之層壓結構之層），迄今通常使用包括 金屬氧化物透明薄層之層壓物之多層塗層。通常實行化學 氣相沈積（CVD)法或物理氣相沈積（PVD)法形成這些金屬氧 化物透明薄層，特別是真空沈積法，其爲一種物理氣相沈 積法。 然而，用於形成金屬氧化物透明薄層之真空沈積法爲 低生產力，因此不適合大量生產，而已提議一種具有高生 產力之塗覆法。 在藉塗覆法製備抗反射膜之情形，較佳爲藉由加入在 膜中較細密地分散之具有高折射率之無機細粒而製備高折 射膜。已知在大量加入在膜中細密地分散之具有高折射率 之無機細粒時，形成具有較高折射率之透明高折射膜（例 1267651 如，參見 JP-A-8-1104(H、 JP-A-8-179123、 JP-A-ll-153702、 JP-A-2001-166104、 JP-A-200卜188104、 JP-A-2002-116323、 及；ΓΡ-Α-2002-156508 專利）。 亦已知在高折射膜中加入具有極高折射率之二氧化鈦 細粒非常有效（例如，參見；ίΡ-Α-l卜1 5 3702、JP-A-20(H- 166104、 JP-A-2001-188104、 JP-A-2002-116323、及 JP-A- — .-一一* 2002-156508 專利）。 然而，在上述二氧化鈦用於抗反射膜之情形，其因在 日照下長期使用二氧化鈦細粒時，因爲二氧化鈦細粒具有 光催化作用，抗反射膜中所含有機化合物分解，明顯地使 抗反射膜之物理強度及光學性質退化而不利。此現象特別 是在具有細密地分散於其中而加入之二氧化鈦顆粒之高折 射膜明顯地發生。 此外，通常作爲分散無機細粒之手段之表面活性劑及 分散劑有效地保持無機細粒細密地分散，因此在形成高折 射層之步驟形成透明高折射層，但是對如此得到之高折射 層提供高物理強度（抗刮性等）、化學抗性及耐候性（抗濕 熱性、抗光性）爲非常困難的。 因此，已希望藉塗覆法製備物理強度（抗刮性等）、化 學抗性及耐候性（抗濕熱性、抗光性）優良之抗反射膜， 但是這些需求從未充分地滿足。 另一方面，近來之趨勢爲使更多液晶顯示裝置（LCD)具 有其上提供抗反射膜之較寬螢幕。 偏光板對液晶顯示裝置（LCD)爲不可或缺之光學材 料，而且通常具有以兩片保護膜保護之偏光膜。 1267651 藉由提供這些具抗反射性能之保護膜，可得顯示裝置 之成本及厚度之戲劇性降低。 用於偏光板之保護膜需要具足夠之黏著性以黏附於偏 光膜。至於改良_對偏光板之黏著性之方法，其通常係將保 護膜皂化，因而使其表面親水化而實行。 藉由在保護膜上形成抗反射層後進行皂化，可進一步 降低成本/然而，在將抗反射膜皂化形成偏光板保護膜之 情形，皂化溶液進一步將高折射層之物理強度（抗刮性 等）、化學抗性及耐候性（抗濕熱性、抗光性）退化。 (三）本發明內容 本發明已使用已知技術解決上述問題。 本發明之第一目的爲提供一種耐候性優良之高折射 本發明之第二目的爲提供一種用於形成該高折射膜之 塗層組成物。 本發明之第三目的爲提供一種抗反射膜及偏光板保護 膜，其物理強度（抗刮性等）、化學抗性及耐候性（抗濕熱 性）優良。 本發明之第四目的爲以低價大量提供該抗反射膜及偏 光板保護膜。 本發明之第五目的爲提供一種偏光板及影像顯示裝 置’其已藉適當方法接受抗反射處·.理。 · 以上之目的係藉具有以下組分之高折射膜、形成高折 射膜之塗層組成物、抗反射膜、偏光板保護膜、偏光板及 影像顯示裝置完成。 1267651 1. 一種具有1 · 5 5至2 · 4 0之折射率之高折射膜，其包括具有 1至2 0 0奈米之平均粒徑，主要由二氧化鈦組成之無機細 业丄 松。 2· —種用於形成具有1 .5 5至2 · 4 0之折射率之高折射膜之塗 層組成物，此膜包括主要由二氧化鈦組成，含至少一種 运：自銘、銘與銷之兀素之無機細粒。 3. —種抗反射膜，其包括透明撐體及形成於其上之高折射 膜。 4. 一種抗反射膜，其包括透明撐體及至少一層形成於其上 之高折射層與低折射層，其中該高折射層爲具有1.5 5至 2 · 4 0之折射率’包括主要由二氧化鈦組成且含至少一種 選自鈷、鋁與銷之元素之無機細粒之層，及該低折射層 爲由硬化膜製成之層，此膜包括含衍生自含氟乙烯基單 體之重複單位及在其側鏈具有（甲基）丙燒醢基之重複 單位之共聚物作爲主要成分。 5. —種製造上述抗反射膜之方法。 6· —種偏光板保護膜，其包括透明撐體及形成於其上之高 折射膜，其中該透明撐體表面相對水之接觸角不大於40 度。 7. —種製造上述偏光板保護膜之方法。 8. —種偏光板’其包括偏光膜及兩片使該偏光膜插入其間 之保護膜’其中使用抗反射膜作爲兩片保護膜至少之 9. 一種偏光板，其包括偏光膜及兩片使該偏光膜插入其間 之保護膜，其中使用抗反射膜作爲兩片保護膜至少之 1267651 一，及使用具有光學異構性之光學補償膜作爲另一片。 W· —種影像顯示裝置，其具有抗反射膜或偏光板配置於其 影像顯示表面上。 進行本發明之模式 本發明在以下進一步說明。 高折射膜 本發明之高折射膜特徵爲加入主要由二氧化鈦組成且 含至少一種選自鈷、鋁與鍩之元素之無機細粒，及呈丨.5 5 至2 · 4 0之折射率。本發明之高折射膜爲所謂之高折射膜或 中折射膜，而且在以下通稱爲「高折射膜」。高折射膜之折 射率較佳爲1.60至2.20,特別是1.65至2.10。本發明之高 折射膜在以下進一步說明。 主要由二氧化鈦組成之無機細粒 本發明之高折射膜包括具有二氧化鈦作爲主要成分之 無機細粒，其含至少一種選自鈷、鋁與鍩之元素。在此使 用之名詞「主要成分」表示組成細粒之成分中之最高含量 (重量％ )。 主要由二氧化鈦組成之本發明無機細粒較佳爲具有 1.90至2.80，更佳爲2.10至2.80，最佳爲2.20至2.80之 折射率。 本發明之無機細粒可控制高折射膜之折射率及抑制膜 之硬化收縮。 主要由二氧化鈦組成之無機細粒較佳爲在介質中儘可 能地保持細微分割，而且其主要顆粒較佳爲具有1至200 奈米，更佳爲1至150奈米，甚至更佳爲1至100奈米， -10- 1267651 特別是1至8 0奈米之平均粒徑。藉由將無機細粒細微分割 至不大於200奈米之大小，可形成具有所需透明度之高折 射膜。 無機細粒之粒徑可藉光散射法或電子顯微照相測量。 無機細粒之表面積比較佳爲1 0至4 0 0平方米/克，更佳爲 20至200平方米/克，最佳爲30至150平方米/克。 高折射膜中之無機細粒含量以高折射膜重量計較佳爲 10至90重量％，更佳爲15至80重量％，特別是15至75 重量％ 〇 關於主要由二氧化鈦組成之無機細粒之結晶結構，主 要成分較佳爲金紅石、金紅石/銳鈦礦混合結晶、銳鈦礦與 非晶結構，特別是金紅石結構。 藉由將至少一種選自Co (銘）、Α1 (鋁）與Zr (锆） 之元素加入主要由二氧化鈦組成之無機細粒中，可抑制二 氧化鈦之光催化活性，使其可改良本發明高折射膜之耐候 性。 這些元素中，較佳爲至少將C 〇加入無機細粒中。此外， 可組合使用二或更多種上述元素。 此外，C〇、A1與Zr較佳爲以氧化物之形式存在。 以無機細粒中之Ti (鈦）計，Co、A1與Ζι.之含量較佳 爲0.05至30重量％，更佳爲0.1至10重量％，甚至更佳爲 〇. 2至7重量％，特別是0 · 3至5重量％，最佳爲0.5至3重 量% 〇

Co、A1與Zr係存在於主要由二氧化鈦組成之無機細粒 內部或表面上。Co、A1與Ζι·較佳爲存在於主要由二氧化 -11- 1267651 鈦組成之無機細粒內部，最佳爲主要由二氧化駄組成之無 機細粒內部及表面上。

Co、A1與Zr在主要由二氧化鈦組成之無機細粒內部之 存在（例如’摻雜）可藉各種方法完成。這些方法之實例 包括離子植入法（Yasushi Aoki 之 ’’Hyoumen Kagaku (Surface

Science)”，第 18 卷，第 5 期，第 262-26 8 頁，1 9 9 8 )，及 JP-A-11-263620、-512336 ( ”JP-T”表示 PCT 申請案 之公告曰文翻譯）、EP-A 0 335 7 73、與JP-A-5-330825專利 所述之方法。 特別地，一種包括將Co、A1與Zr引入主要由二氧化 鈦組成之無機細粒形成製程中之方法（如〗？_了_11_5丨2 3 3 6、 EP-A 0 335 773、與 JP-A-5-330825 專利所述）特佳。 視目的而定，含二氧化鈦作爲主要成分之無機細粒可 進一步包括其他元素加入其中。其他元素可加入作爲雜 資。其他兀素之貫例包括Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、

As、Cr、Hg、Zn、Mg、Si、P、與 S。 含二氧化鈦作爲主要成分之本發明無機細粒可接受表 面處理，以降低或排除二氧化鈦之光催化活性。此表面處 理係藉由使用無機或有機化合物而進行。用於表面處理之 無機化合物之實例包括含鈷無機化合物（Co〇2、C〇2〇3、 C ο 3 0 4等）、含鋁無機化合物（a 12 〇 3、A丨⑴η ) 3等）、含锆無 機化合物（Zr〇2、Zr(〇H)4等）、含矽無機化合物（Sl〇2等）、 及含鐵無機化合物（Fe 20 3等）。 追些無機化合物中特佳爲含鈷無機化合物、含鋁無機 化合物、及含鉻無機化合物，最佳爲含鈷、Al(〇H)3、與 -12- 1267651

Zr(〇H)4之無機化合物。 用於表面處理之有機化合物之實例包括多醇、院醇 胺、硬脂酸、矽烷偶合劑、及鈦酸酯偶合劑。矽烷偶合劑 最佳。特別地，無機細粒較佳爲接受使用以下通式（1)表示 之有機金屬化合物及其衍生物之表面處理。 (R^-SKom (I) 在通式（I)中，R 1表不經取代或未取代烷基或芳基。R 2 表示經取代或未取代烷基或醯基。下標m表示〇或1至3 之整數’及下標η表不1至4之整數，其條件爲❿與^之 和爲4。 在通式（I)中，R1表示經取代或未取代烷基或芳基。烷 基之貝例包括甲基、乙基、丙基、異丙基、己基、第三丁 基、第二丁基、己基、癸基、十六碳基等。Rl表示之烷基 中之碳原子數較佳爲1至30，更佳爲1至丨6，特別是1至 6。R1表示之芳基之實例包括苯基、萘基等。這些芳基中較 佳爲苯基。 取代基並未特別地限制，但是較佳爲鹵素原子（氟、 氯、溴等）、羥基、氫硫基、羧基、環氧基、烷基（甲基、 乙基、異丙基、丙基、第三丁基等）、芳基（苯基、萘基等）、 院氧基（甲氧基、乙氧基、異丙氧基、己氧基等）、芳氧基 (苯氧基等）、烷硫基（甲硫基、乙硫基等）、芳硫基（苯 硫基等）、烯基（乙烯基.、1-丙烯基等）、烷氧基矽烷基（三 甲氧基矽烷基、三乙氧基矽烷基等）、醯氧基（乙醯氧基、 (甲基）丙烯醯基等）、烷氧基羰基（甲氧基羰基、乙氧基 羰基等）、芳氧基羰基（苯氧基羰基等）、胺甲醯基（胺甲 -13- 1267651 酉W基、N -甲基胺甲醯基、N，N_二甲基胺甲醯基、甲基_Ν· 年：基胺甲薩基等）、與醯基胺基（乙醯基胺基、苯甲醯基胺 基、丙；(¾胺基、甲基丙烯胺基等）等。 這些基中’甚至更希望爲羥基、氫硫基、羧基、環氧 基、院基、院氧基矽烷基、醯氧基、與醯胺基。這些基中 特佳爲環氧基、可聚合醯氧基（（甲基）丙烯醯氧基等）、 與可聚合酸基胺基（丙烯胺基、甲基丙烯胺基等）。這些取 代基可進一步經取代。 R2表示經取代或未取代烷基或醯基。烷基、醯基及取 代基之說明與R1相同。R2較佳爲未取代烷基或未取代醯 基，更佳爲未取代烷基。 下標m表示〇或丨至4之整數。〇與n之和爲4。在有 多個R1’或R2’時，多個’或R2’可爲相同或不同。下標㈤ 較佳爲0、1或2，特別是}。 通式（I)表示之化合物之指定實例示於下，本發明不受 其限制。 (1) (C2H5〇)4 一 Si (2) (CaHvO^Si (3) (i.C3H7〇)4—Si (4) (CH3C〇2)4 — Si (5 ) (CH3C〇2)2 — Si —(〇C2H5)2 (6) CHs - Si—(〇c2H&)3 (7) C2H6~Si-(〇c2HB)3 (8) 卜 C4H9 - Si -（〇CH3)3 -14- (9)1267651 《—CH2~Si-(0CH3 (10) 11) -CW -（och3)3 0 -CH90CH2CHrSi-(0CH3)2 12) -CH2CH2CHrSi-(OCH3)2

(13) -CH2CH2CH「SH〇C2Hs)3 (14) 0 ^^^^CH20CH2CH2--Si-(0CH3); (1 5) q H^^CH2〇CH2CH2CHrSi-(〇C2H5),!5^ (1 6) C3F7CH2CH2-Si —(〇C2Hb)3 (1 7) C6F13CH2CH2-Si_(〇C2H5)3 (18)

=\ co2ch2ch2ch厂 SH〇CH3); (19) 、co2ch2ch2ch2-sH〇ch3)2 (2 0) =\ C〇2CH2CH2-Si-(OCH3): -15- 1267651 (2 1) (2 2) (2 3) (2 4) (2 5) (2 6) (2 7) (2 8) C〇2CH2CH2CH2CHrSi-(OC2H5)3 ，· ch2ch2-sh〇ch3)3广\y-ch「s*h〇ch3)3

HO-C-CH2CH2 - Si - (OCH3)3 0 NH2CH2 CH2CH2 ~ Si - (0 CH3)3 HS - CH2CH2CH2 - Si - (〇CH3)3

(0CH3)3

-16 -

1267651 (2 9) 々一CH2〇CH2CH，SH〇CH3)3 (3 〇) (CH3〇)3-Si-CH2CH2CH2CH2-Si-(〇CHs)3 (31) (CH3〇)a - Si - CH2 CH2CH2CH2CH2CH2- Si - (0 CH3)3 (3 2) (CH3〇)2 - Si - CH2CH 2CH2CH2—s i - (〇 CHs) 2

I >TJ CHs CH3 (3 3) _ 一\ conhch2ch2ch「sh〇ch3)3 (3 4) CONHCH2CH2CHrSi-(OCH3)3 (3 5) =\ CO - m-ch2ch2ch2-sh〇ch3)3 CH3 (3 6) \〇-NHCH2CH2CH2CHrSi-(OCH3) (3 7) C0-NHCH2CH2CHrSi-(OCH3)2 CH3 -17- 1267651 (3 8 (CH, Ο OCHXH, )2—Si-(〇CH3): (3β) —^―CH2OCH2CHrSi-(〇CH3)2

0 L (40) HO - C**CH?CH2CH2 - Si-(〇CH3);

II I 〇 CH〇 (4 1)

CH, OCH〇CH9 ),—Si-(〇CH3)2 C〇2CH2CH2CH2 )2一Si-(〇CH3)2 -18 - 1267651 (43) CH2=CH-Si-(OCH3)3 (44) CHs 二 CH - Si - (〇CH3)2

I CHa (4 5)

、C〇2CH2CH2CHrSH〇CH3);

(4 6)

Si-(OCH3), (4 7)

co2ch2ch2ch2-s 卜(OCH3)

0 (4 8) HS - CH2CH2CH2 ~ Si - (0 CH 3)2

I CHs 這些指定實例中，特佳爲化合物（1)、（12)、（18)、（19) 等。 通式（I)化合物之含量爲高折射膜中總固體含量之1至 90重量％，更佳爲2至80重量％，特別是5至50重量％。 -19- 1267651 鈦酸酯偶合劑之實例包括金屬烷氧化物，如四異丙氧 鈦’例如，四甲氧鈦、四乙氧鈦、PLENACT ( Ajinomoto有 限公司製造之 KR-TTS、KR-46B、KR-55、KR-41B 等）等。 用於表面處理之有機化合物之較佳實例包括多醇、烷 醇胺、及具有陰離子基之其他有機化合物。這些有機化合 物中’特佳爲具有羧基、磺酸基或磷酸基之有機化合物。 較佳爲使用硬脂酸、月桂酸、油酸、亞麻油酸、次亞 麻油酸等。 用於表面處理之有機化合物較佳爲進一步具有可交聯 或可聚合官能基。可交聯或可聚合官能基之實例包括可進 行自由基籽之加成反應/聚合反應之乙烯不飽和基（例如， (甲基）丙烯酸基、烯丙基、苯乙烯基、乙烯氧基）、可陽 離子性聚合基（環氧基、氧雜戊烷基、乙烯氧基）、聚縮合 反應性基（可水解矽烷基、N-羥甲基等）等。較佳爲使用 具有乙烯不飽和基之基。 可組合進行二或更多種上述之表面處理方法。特佳爲 組合使用含鋁無機化合物與含鉻無機化合物。 主要由二氧化鈦組成之本發明無機細粒可接受表面處 理而具有核/殼結構，如JP-A-200 1 - 1 66 1 04專利所述。 加入高折射膜中，主要由二氧化鈦組成之無機細粒之 形狀較佳爲米粒形、球形、立方體、心軸形、或非晶性， 特佳爲非晶性或心軸形。 二或更多種無機細粒可組合加入高折射膜中。 分散劑 爲了分故用於本發明筒折射膜之主要由二氧化鈦組成 善 1267651 之無機細粒，可使用分散劑。 爲了分散本發明之主要由二氧化鈦組成之無機細粒， 較佳爲使用具有陰離子基之分散劑。 至於陰離子基，可使用具有酸性質子之基，如羧基、 磺酸基（硫基）、磷酸基（膦基）、與磺醯胺基或其鹽。特 別地，羧基、磺酸基、磷酸基或其鹽較佳，特別是羧基或 磷酸基。每個分散劑分子所含陰離子基之數量可爲一或 _ 〇 爲了進一步改良無機細粒分散力之目的，多個陰離子 基可加入分散劑中。分散劑中所含陰離子基之數量較佳爲 平均二或更多個，更佳爲五或更多個，特別是10或更多 個。每個分散劑分子可含多種陰離子基。 分散劑可含可交聯或可聚合官能基。可交聯或可聚合 官能基之實例包括可進行自由基籽之加成反應/聚合反應 之乙烯不飽和基（例如，（甲基）丙烯酸基、烯丙基、苯乙 烯基、乙烯氧基）、可陽離子性聚合基（環氧基、氧雜戊烷 基、乙烯氧基）、聚縮合反應性基（可水解矽烷基、N-羥甲 基等）等。較佳爲使用具有乙烯不飽和基之基。 較佳地用於主要由二氧化鈦組成，用於本發明高折射 膜之無機細粒分散液之分散劑爲，具有陰離子基及可交聯 或可聚合官能基且在其側鏈具有可交聯或可聚合官能基之 分散劑。 具有陰離子基及可交聯或可聚合官能基且在其側鏈具 有可交聯或可聚合官能基之分散劑之重量平均分子量（Mw) 並未特別地限制，但是較佳爲不小於1，0 0 〇。分散劑之重量 -21- 1267651 平均分子量（Mw)較佳爲2,000至1，〇〇〇,〇〇〇，甚至更佳爲 5,000 至 200,000，特別是 10,0〇〇 至 1〇〇, 〇〇〇。 具有陰離子基及可交聯或可聚合官能基且在其側鏈具 有可交聯或可聚合官能基之分散劑較佳爲在其側鏈或在其 終端具有上述陰離子基。關於將陰離子基加入側鏈之方 法，此合成可藉由使用聚合物反應而進行，如涉及單體聚 合之方法（例如，（甲基）丙烯酸、順丁烯二酸、部份酯化 順丁烯二酸、伊康酸、檸康酸、（甲基）丙烯酸2_羧乙酯、 (甲基）丙烯酸2-硫乙酯、磷酸單-2-(甲基）丙烯醯氧基 乙酯），及涉及具有胺基等之聚合物與酸酐反應之方法。 在其側鏈具有陰離子基之分散劑中含陰離子基聚合物 單位之含量以總聚合物單位計爲1 0 ·4至1 〇 〇莫耳％，較佳爲 1至50莫耳％，特別是5至20莫耳％。 另一方面，關於將陰離子基加入分散劑終端之方法， 此合成可藉由使用涉及含陰離子基鏈轉移劑（例如，硫羥 乙酸）存在下之聚合反應之方法、涉及含陰離子基聚合引 發劑（例如，Wako Pure Chemical Industries有限公司製造 之V-501)之聚合反應之方法等而進行。 特佳分散劑爲在其側鏈具有陰離子基之分散劑。 可交聯或可聚合官能基之實例包括可進行自由基籽之 加成反應/聚合反應之乙烯不飽和基（例如，（甲基）丙烯 酸基、烯丙基、苯乙烯基、乙烯氧基）、可陽離子性聚合基 (環氧基、氧雜戊烷基、乙烯氧基）、聚縮合反應性基（可 水解矽烷基、N -羥甲基等）等。較佳爲使用具有乙烯不飽 和基之基。 -22- 1267651 每個分散劑分子中所加入之可交聯或可聚合官能基之 數量較佳爲平均二或更多個，更佳爲五或更多個，特別是 十或更多個。每個分散劑分子中可加入多種可交聯或可聚 合官能基。 至於在本發明之較佳分散劑中在其側鏈具有乙烯不飽 和基之聚合物單位，可使用具有聚-1,2 -丁二；I：希或聚_1，2 -異 戊二烯結構之聚合物單位，或鍵結指定殘基（-C〇〇r或 -CONHR中之R)之（甲基）丙烯酸酯或醯胺聚合物單位。 上述指定殘基（R基）之實例包括-(CUCRpCH、 -(CH2〇）n-CH2CRi=CR2R3、-(CH2CH2〇）n-CH2CR1：=CR2R3、 -(CH2)n-NH-C〇-〇-CH2CRi=CR2R3、 -(CH2)n-〇-C〇-CR!=CR2R3、與- (CH2CH2〇）2-X(其中1^至R3各表示氫原子、 鹵素原子、CVC2()烷基、芳基、烷氧基、或芳氧基，R]、R2 或R3可彼此連接形成環，η表示1至10之整數，及χ表示 二環戊二烯基殘基）。酯殘基之指定實例包括_CH2CH = CH2 (相當於JP-A-64- 1 7047專利所述之（甲基）丙烯酸烯丙酯 之聚合物）、-CH2CH2〇-CH2CH = CH2、-CH2CH2〇C〇CH = CH2、 -ch2ch2〇c〇c(ch3) = ch2、-ch2c(ch3) = ch2、-ch2ch = ch-c6h5、 -ch2ch2〇c〇ch = ch-c6h5、 -ch2ch2-nhc〇〇-ch2ch二ch2、與-ch2ch2〇-x (其中X表示二環戊二烯基殘 基）。醯胺殘基之指定實例包括-CH2CH = CH2、-CH2CH2-Y(其 中Y表示1-環己烯基殘基）、-CH2CH2-〇C〇-CH二CH2、與 -CH2CH2-〇C〇-C(CH3) = CH2。 上述具有乙烯不飽和基之分散劑進行自由基（在可聚合 化合物之聚合方法中之聚合引發自由基或生長自由基）對 >23- 1267651 不飽和連接基之加成，因此分子本身或經可聚合物化合物 之聚合物鏈加成聚合，使得分子交聯造成硬化。或者，上 述分散劑進彳了以自由基去除原子（例如，相鄰不飽和連夺妾 基之碳原子上之氫原子）而產生聚合物自由基，其然後彼 此連接而使分子交聯，造成分散劑硬化。 關於在側鏈加入可交聯或可聚合官能基之方法，此合 成可藉由使用涉及共聚合含可交聯或可聚合官能基單體 (例如，（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸縮水甘油酯、 甲基丙烯酸三烷氧基矽烷基丙酯）、共聚合丁二烯或異戊二 烯、或共聚合具有3 -氯丙酸酯位置之乙烯基單體繼而脫氯 之方法（如JP-A-3 -24965 3專利所述）、涉及藉聚合物反應 (例如，含環氧基乙烯基單體成爲含羧基聚合物之聚合物 反應）加入可交聯或可聚合官能基之方法等而進行。 含可交聯或可聚合官能基之單位可組成含陰離子基聚 合物單位以外之所有聚合物單位，但是較佳爲所有可交聯 或可聚合單位之5至50莫耳％，特別是5至30莫耳％之量。 本發明之較佳分散劑可爲具有具可交聯或可聚合官能 基與陰離子基之單體以外之適當單體之共聚物。此共聚物 成分並未特別地限制，而是可由如分散液安定性、與其他 單體成分之相容性、及所得膜強度之各種觀點而選擇。此 共聚物成分之較佳實例包括（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基） 丙烯酸正丁酯、（甲基）丙烯酸第三丁酯、（甲基）丙烯酸 環己酯、苯乙烯等。 本發明分散劑之較佳具體實施例並未特別地限制，但 是由成本及易於合成之觀點，較佳爲嵌段共聚物或無規共 -24- 1267651 聚物，特別是無規共聚物。 本發明分散劑之指定較佳實例示於以下’但是本發明 不受其限制。這些實例表示無規共聚物，除非另有指示。 co2ch2ch=ch2 co2h coor x/y/z比例表示莫耳比例。 X y z R Mw p~(1) 80 20 0 一 40.000 P - (2) 80 20 0 一 110,000 P-⑶ 80 20 0 一 10,000 P-⑷ 90 10 0 — 40,000 p-⑸ 50 50 0 一 40,000 P~(6) 30 20 50 ch2ch2ch3 30,000 P-⑺ 20 30 50 ch2ch,ch2ch3 50,000 P - (8) 70 20 10 ch(gh3)3 60,000 P-⑼ 70 20 10 一 ch2chch2ch2ch2ch3 ch2ch3 150,000 P-⑽ 40 30 30 -ch2~〇 15,000 -25 1267651 ch3 co2ch2ch=ch2 A Mw P - (11) —ch2· —CH— t COOH 20,000 P - (12) —civ — CH— I co2ch2ch2cooh 30,000 • —ch2· —CH— 丄 P-03) o 100,000 P-{14) —CFV I S03Na ch3 _?一 20,000 co2ch2ch2so3h P-(15) —ch2— ch3 I c—— 〇 I II C02CH2CH2OP(OH)2 50,000 • PH：16) 一ch2~ch— 〇 C02CH2CH20 -f CH2 jj- OP (OH) 2 15,000 -26- 1267651 CH3 十A#。 COOH A Mw P - (17) CH3 —ch2—c— COOCH2CH2OCH=CH 20,000 P-⑽ —ChU —CH~ 0 I II COOCH2CH2OCCH2CH=CH2 25T000 P - (19) ch3 —ch2—c—— COO-CHs~《》~CH=CH2 —CH2一CH一 18,000 P - (20) T OCCH2CH=CH2 II 20,000 〇 P - (21) —CHo—CH— 〇 1 II CONHC H2C H2OCC H=C H2 35,000

-27- 1267651

2 H c

i R H3t8 R c——CIC CHs C〇〇H COOR2 R2

Mw P - (22) P - (23) P - (24) P - (25) P - (26) P-C27) P - (28) P-(29) P-(30) OII CH2CH2OCCH=CH2 〇II CH2CH2OCCH=CH2 〇II CH2CH2OCC=CH2 CHa C4H9(n) C4H9(t) C4H9(n) 10 10 80 25,000 10 10 80 25,000 10 10 80 500,000

HO )~\ C4H9(n) —(H >-CH2OCCH=CH2 O HO

HO CH2OCCH=CH2 HO CH2OCCH=CH2II 〇 II 〇 ch2〇cch=ch2li 0 ^)-ch2occh=ch2

HO 10 10 80 23,000 C4H9(n) 80 10 10 30,000 C4H9(n) 50 20 30 30,000 C4Hs(t) 10 10 80 20,000 CH2CH2OH 50 10 40 20,000 〇 CH3 / \ I C4H9(n) 10 10 80 25,000 —(H CH2〇CC=CH2 -28- 1267651 P-（31) CH2—CH·^~

Mw=60,000

OCHoCHCH^OOC

COOH OCCH=CH2

II o P-(32) CH,

O

S-COOH

Mw=10,000

co2ch2ch-ch2 P-(33) CH3 COOH j C H2—G 十 S - CHCH2COOH co2ch2ch^ch2

Mw=20,000 P-（34) co2ch2ch=ch2 co2ch2ch2cooh Mw=30,000 (嵌段共聚物） P-（35)

COOH ch2ch^— / 20 co2ch2ch2occh=ch2 o

Mw=15,000 (嵌段共聚物） -29- 1267651 P-(36)

Π3 Η 2 〇 C——C——C CH, 20

Mw=8,000 P_(37) CH, 80 CH〇—C- CHp 一 C·

Mw=5,000

COOH C02CH2CH2CH2Si(〇CH2CH3)3 P-(38) —("CH —CH2-— —O 十^ Mw-10,000 CH20 -(- CH2 Si (OCH2CH3)3 CH2—O —CH2 OCCH ^CH 2 〇 無機細粒之使用量以分散劑計較佳爲丨至5 〇重量％ , 更佳爲5至3 0重量％，最隹爲5至2 0重量％。可組合使用 二或更多種分散劑。 高折射膜及其形成方法 用於高折射膜之含二氧化鈦作爲主要成分之無機細粒 係以分散液之形式使用，以形成高折射膜。爲了分散無機 細粒，在上述分散劑存在下將無機細粒分散於分散介質 -30- 1267651 中 ο 至於分散介質，較佳爲使用具有60°c至170°c沸點之液 體。分散介質之實例包括水、醇類（例如，甲醇、乙醇、 異丙醇、丁醇、苄醇）、酮類（例如，丙酮、甲乙_、甲基 異丁基酮、環己酮）、酯類（例如，乙酸甲酯、乙酸乙醋、 乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙醋、 甲酸丁酯）、脂族烴類（例如，己烷、環己烷）、_化煙類 (例如，二氯甲烷、氯仿、四氯化碳）、芳族烴類（例如， 苯、甲苯、二甲苯）、醯胺類（例如，二甲基甲醯胺、二甲 基乙醯胺、正甲基吡咯啶酮）、醚類（例如，二乙_、二螺 烷、四氫呋喃）、及醚醇類（例如，1-甲氧基-2-丙醇）。甲 本、一甲苯、甲乙酮、甲基異丁基酮、環己酮、與丁醇較 佳。 特佳分散介質爲甲乙酮、甲基異丁基酮、與環己酮。 此無機細粒係使用分散機械以分散之。分散機械之實 例包括砂輪硏磨機（例如，具針之球磨機）、精磨機、高速 動葉輪硏磨機、圓石硏磨機、輥磨機、磨粉機、與磨膠機。 砂輪硏磨機、精磨機、與高速動葉輪硏磨機特佳。此外， 可進行預備分散處理。用於預備分散處理之分散機械之實 例包括球磨機、三輥硏磨機、捏合機、與擠壓機。 用於本發明之高折射膜較佳爲藉由將較佳爲形成基質 (例如，游離放射線硬化多官能基單體或多官能基寡聚物） 所需之黏合劑前驅物、光聚合引發劑等加入將無機細粒分 散於上述分散介質所得之分散液，以形成用於形成高折射 膜之塗層組成物，將用於形成高折射膜之塗層組成物應用 -31- 1267651 於透明撐體，然後使游離放射線硬化化合物（例如’多官 能基單體或多官能基寡聚物）接受交聯反應或聚合反應以 造成硬化而形成。 此外，較佳爲在應用膜同時或之後，使用於形成高折 射膜之塗層組成物所含之黏合劑與分散劑進行交聯反應或 聚合反應。 特別地關於高折射膜中之黏合劑，上述較佳分散劑及 游離放射線硬化多官能基單體或多官能基寡聚物接受交聯 反應或聚合反應，以造成分散劑中之陰離子基在黏合劑中 被捕捉。高折射膜中之黏合劑具有使陰離子基保持無機細 粒分散之官能基。交聯或聚合結構使黏合劑可形成膜，改 良含無機細粒之高折射膜之物理強度、化學抗性與耐候 性。 游離放射線硬化多官能基單體或多官能基寡聚物中之 官能基較佳爲可光聚合、可電子射線聚合、或可放射線聚 合，特別是可光聚合官能基。 可光聚合官能基之實例包括不飽和可聚合官能基，如 (甲基）丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、與烯丙基等。這 些可光聚合官能基中較佳爲（甲基）丙烯醯基。 具有可光聚合官能基之可光聚合多官能基單體之指定 實例包括烷二醇之（甲基）丙烯酸二酯，如新戊二醇丙烯 酸酯、1，6-己二醇（甲基）丙烯酸酯、與丙二醇二（甲基） 丙烯酸酯，聚烷二醇之（甲基）丙烯酸二酯，如·三乙二醇 二（甲基）丙烯酸酯、二丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚 乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、與聚丙二醇二（甲基）丙烯 -32 - 1267651 ι酉曰’多價醇之（甲基）丙烯酸二酯，如異戊四醇二（甲 &)丙_酸酯’環氧乙烷或環氧丙烷加成物之（甲基）丙 稀一醋，如2,2 -貳丨4_(丙烯氧基-二乙氧基）苯基）丙烷、 與2,2-戴丨4-(丙烯氧基-聚丙氧基）苯基}丙烷等。 此外’環氧基（甲基）丙烯酸酯.、胺甲酸乙酯（甲基） 丙堵酸酯、與聚酯（甲基）丙烯酸酯作爲可光聚合多官能 基單體較佳。 特別地，多價醇與（甲基）丙烯酸之酯較佳。甚至更 希望爲每個分子具有三或更多個（甲基）丙烯醯基之多官 會匕$單體。這些多官能基單體之指定實例包括三羥甲基丙 院二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三（甲基）丙烯酸 醋、1，2，4 -環己烷四（甲基）丙烯酸酯、戊甘油三丙烯酸酯、 異戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、異戊四醇（甲基）丙烯酸 酯、（二）異戊四醇三丙烯酸酯、（二）異戊四醇五丙烯酸 酯、（二）異戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、（二）異戊四醇 六（甲基）丙烯酸酯、三異戊四醇三丙烯酸酯、三異戊四 醇六三丙烯酸酯等。 可組合使用二或更多種多官能基單體。 可光聚合多官能基單體之聚合反應較佳爲在光聚合引 發劑之存在下進行。光聚合引發劑之較佳實例包括光自由 基聚合引發劑與光陽離子性聚合引發劑。這些光聚合引發 劑中特佳爲光自由基聚合引發劑。 光自由基聚合引發劑之實例包括苯乙酮、二苯基酮、 Michler’s苯甲酸苯甲酯、α-戊基肟酯、單硫化四甲基硫胺 甲醯基、9 -氧二苯并硫哌喃等。 -33- 1267651 商業可得光自由基聚合引發劑之實例包括NIPPON KAYAKU 有限公司製造之 KAYACURE ( DETX-S、BP-100、 BDMK、CTX、BMS、2-EAQ、ABQ、CPTX、EPD、ITX、QTX、 BTC、MCA 等）、日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司製造 之 Irgacure ( 65 1 ^ 184、500、907、369、1173、2959、4265、 4263、等）、Sariomer 公司製造之 Esacure( KIP100F、KB1、 EB3、BP、X33、KT046、KT37、KIP 15 0、TXT )等。 特別地，可光分離光自由基聚合引發劑較佳。這些可 光分離光自由基聚合引發劑敘述於Kazuhiro Takabo 之”Saishin UV Koka gijutsu (Modern UV Curing Technology)”，K.K. Gijutsu Joho Kyokai，第 159 頁，1991。 商業可得可光分離光自由基聚合引發劑之實例包括曰 本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司製造之 Irgacure ( 651、 184、 907)。 光聚合引發劑較佳爲以100重量份多官能基單體計爲 0.1至15重量份，更佳爲1至10重量份之量使用。 除了光聚合引發劑，亦可使用感光劑。感光劑之指定 實例包括正丁胺、三乙胺、三正丁膦、Mi chi er，s酮、與9-氧二苯并硫哌喃。 商業可得感光劑之實例包括NIPPON KAYAKU有限公 司製造之 KAYACURE ( DMBI、EPA)等。 光聚合反應較佳爲藉由在高折射膜之應用及乾燥後， 以紫外線照射而進行。 用於本發明之高折射膜亦可含上述之通式（I)表示之化 合物及/或其衍生化合物，其爲用於無機細粒表面處理之化 -34- 1267651 合物。 在此具體實施例中，通式（I)化合物之含量以高折射膜 中之總固體含量計亦較佳爲1至90重量％，更佳爲2至80 重量％，特別是5至50重量％。此外，特佳爲使用化合物（1)、 (12) 、 （18) 、 （19)等。 本發明高折射膜中所含之黏合劑較佳爲進一步具有矽 醇基。在黏合劑中進一步加入矽醇基可進一步改良高折射 膜之物理強度、化學抗性與耐候性。 例如，可藉由將通式（I)表示之化合物（其具有可交聯 或可聚合官能基）加入上述形成高折射膜之塗層組成物， 將此塗層組成物應用於透明撐體，然後使上述分散劑、多 官能基單體或多官能基寡聚物及通式（I)表示之化合物接受 交聯反應或聚合反應，而將矽醇基加入黏合劑中。 通式（I)表示之化合物之特佳實例爲具有（甲基）丙烯 醯基作爲可交聯或可聚合官能基之化合物，如3 _丙烯氧基 丙基三甲氧基矽烷與3_甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷。 亦較佳爲，高折射膜中之黏合劑具有胺基或四級銨 基。具有胺基或四級銨基之高折射膜之黏合劑可藉由，例 如，將具有可交聯或可聚合官能基及胺基或四級銨基之單 體加入上述形成高折射膜之塗層組成物，將此塗層組成物 應用於透明撐體，然後使單體與上述分散劑及多官能基單 體或多官能基寡聚物接受交聯反應或聚合反應而形成。 具有胺基或四級銨基之單體係作爲塗層組成物中無機 ’t田粒之分政介質。此外’在塗覆後，單體可與分散劑及多 官能基單體或多官能基寡聚物接受交聯反應或聚合反應以 -35- 1267651 形成黏合劑，使其可保持無機細粒在高折射膜中相當分 散’如此製備物理強度、化學抗性與耐候性優良之高折射 膜。 具有胺基或四級銨基之單體之實例包括（甲基）丙烯 酸N，N-二甲胺基乙酯、（甲基）丙烯酸ν,ν-二甲胺基丙酯、 (甲基）丙烯酸氯化羥丙基三甲銨、氯化二甲基烯丙銨等。 具有胺基或四級銨基之單體之使用量以分散劑計較佳 爲1至40重量％，更佳爲3至30重量％，特別是3至20 重量％。在塗覆高折射膜同時或之後進行交聯或聚合反應以 形成黏合劑，可使這些單體在塗覆高折射膜之前有效地作 用。 交聯或聚合之黏合劑具有交聯或聚合之聚合物主鏈之 結構。聚合物主鏈之實例包括聚烯烴（飽和烴）、聚醚、聚 脲、聚酯、聚胺、聚醯胺、與三聚氰胺樹脂。這些聚合物 主鏈中特佳爲聚烯烴主鏈、聚醚主鏈與聚脲主鏈，更佳爲 聚烯烴主鏈與聚醚主鏈，特別是聚烯烴主鏈。 聚烯烴主鏈係由飽和烴形成。聚烯烴主鏈係藉由，例 如，不飽和可聚合基之加成聚合反應而得。聚醚主鏈具有 各與醚鍵（-〇-)鍵結之重複單位。聚醚主鏈係藉由，例如， 環氧基之開環聚合反應而得。聚脲主鏈具有各與脲鍵（ -NH-CO-NH-)鍵結之重複單位。聚脲主鏈係藉由，例如，異 氰酸基與胺基之聚縮合反應而得。聚胺甲酸乙酯主鏈具有 各與胺甲酸乙酯鍵（-NH-C-0-)鍵結之重複單位。聚胺甲酸乙 酯主鏈係藉由，例如，異氰酸基與羥基（含N -羥甲基）之 聚縮合反應而得。聚酯主鏈具有各連接酯鍵GC0-0-)之重 -36- 1267651 複單位。聚酯主鏈係藉由’例如，羧基（含酸鹵基）與經 基（含N -經甲基）之聚縮合反應而得。聚胺主鍵具有各 亞胺鍵（-NH-)鍵結之重複單位。聚胺主鏈係藉由，例如， 乙二亞胺基之開環聚合反應而得。聚醯胺主鏈具有各與醯 胺鍵（-NH-CO-)鍵結之重複單位。聚醯胺主鏈係藉由，例 如，異氰酸基與羧基（含酸鹵基〆之反應而得。三聚氰胺 主鏈係藉由，例如，三畊基（例如，三聚氰胺）與醒（例 如，甲醛）之聚縮合反應而得。在三聚氰胺中，主鏈本身 具有交聯或聚合之結構。 陰離子基較佳爲經連接基連接主鏈成爲黏合劑側鏈。 用於連接陰離子基與黏合劑主鏈彼此之連接基之較佳 實例包括-C 0 -、- 0 -、伸烷基、伸芳基、及選自其組合之二 價基。交聯或聚合之結構具有二或更多個彼此化學地鍵結 (較佳爲共價地）之主鏈。交聯或聚合之結構較佳爲具有 三或更多個彼此共價地鍵結之主鏈。交聯或聚合之結構較 佳爲藉由-C〇-、-0-、-S-、氣原子、憐原子、脂族殘基、芳 族殘基、及選自其組合之二價或更高價基。 此黏合劑較佳爲含具有陰離子基之重複單位與具有交 聯或可聚合結構之重複單位之共聚物。共聚物中具有陰離 子基之重複單位之比例較佳爲2至9 6莫耳％，更佳爲4至 94莫耳％，最佳爲6至92莫耳％。此重複單位可具有二或 更多個陰離子基。共聚物中具有交聯或可聚合結構之重複 單位之比例較佳爲4至98莫耳％，更佳爲6至96莫耳％， 最佳爲8至94莫耳％。 黏合劑中之重複單位可具有陰離子基及交聯或聚合之 -37- 1267651 結構。此黏合劑可含其他之重複單位（無陰離子基及交聯 或聚合之結構之重複單位）。 其他重複單位之較佳實例包括含矽醇基、胺基或四級 銨基之重複單位。 在具有矽醇基之重複單位中，矽醇基係直接或經連接 基連接黏合劑主鏈。此矽醇基較佳爲經連接基連接主鏈成 爲側鏈。用於連接砂醇基與黏合劑主鏈彼此之連接基之較 佳實例包括-C0-、-0-、伸烷基、伸芳基、及選自其組合之 二價基。在黏合劑含具有矽醇基之重複單位時，矽醇基之 比例較佳爲2至98莫耳％，更佳爲4至96莫耳％，最佳爲 ό至94莫耳％ 〇 在具有胺基或四級銨基之重複單位中，胺基或四級錶 基係直接或經連接基連接黏合劑主鏈。此胺基或四級銨基 較佳爲經連接基連接主鏈成爲側鏈。此胺基或四級銨基較 佳爲二級、三級或四級銨基，更佳爲三級或四級銨基。連 接二級、三級或四級銨基中氮原子之基較佳爲烷基，更佳 爲Ci-C^烷基，甚至更佳爲CrC6烷基。四級銨基之抗衡 離子較佳爲鹵離子。用於連接胺基或四級銨基與黏合劑主 鏈彼此之連接基之較佳實例包括- CO-、-NH-、-0-、伸烷基、 伸芳基、及選自其組合之二價基。在黏合劑含具有胺基或 四級銨基之重複單位時，胺基或四級銨基之比例較佳爲〇. i 至32莫耳％’更佳爲〇·5至30莫耳％，最佳爲1至28莫耳 %。 矽醇基與胺基或四級銨基可含於具有陰離子之重複單 位或具有交聯或聚合之結構之重複單位中，產生相同之效 -38 - 1267651 此交聯或可聚合黏合劑較佳爲藉由將形成高折射膜之 塗層組成物應用於透明撐體，然後在塗覆同時或之後使塗 層組成物接受交聯或聚合反應而形成。 此高折射膜較佳爲包括藉由含氟以外之鹵化元素（例 如，Br、I、C1 )之游離放射線硬化化合物、含如S、N與P 等之原子之游離放射線硬化化合物之交聯或聚合反應得到 之黏合劑。 除了上述成分（無機細粒、聚合引發劑、感光劑等）， 此高折射膜可包括樹脂、表面活性劑、抗靜電劑、偶合劑、 增稠劑、著色抑制劑、著色材料（顏料、染料）、防沬劑、 調平劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、膠黏劑、 聚合抑制劑、氧化抑制劑、表面改良劑、導電金屬細粒等 加入其中。 此高折射膜可包括如下所述，加入其中作爲可保護對 抗眩光之防眩層之具有0.2至1 〇微米平均粒徑之顆粒。 此高折射膜之厚度可視目的而適當地設計。在此高折 射膜作爲光學千涉層之情形，此高折射膜之厚度較佳爲3 0 至200奈米，更佳爲50至170奈米，特別是60至150奈 米。在此高折射膜亦作爲硬塗層之情形，此高折射膜之厚 度較佳爲0.5至10微米，更佳爲丨至7微米，特別是2至 5微米。 在形成高折射膜時，游離放射線硬化化合物之交聯反 應或聚合反應較佳爲在具有不大10體積％之氧濃度之大氣 中進行。 -39- 1267651 藉由在具有不大10體積％之氧濃度之大氣中形成高折 射膜，可改良此高折射膜之物理強度、化學抗性與耐候性， 甚至此高折射膜對相鄰層之黏著性。 更佳爲，此高折射膜係藉由游離放射線硬化化合物在 具有不大6體積％，甚至更佳爲不大4體積％，特別是不大 於2體積％，最佳爲不大1體積％之氧濃度之大氣中之交聯 反應或聚合反應形成。 將氧濃度調整至不大於10體積％較佳爲藉由以其他氣 體，特別是氮（以氮沖洗），取代大氣（氮濃度：約7 9體 積％ ;氧濃度：約2 1體積％ )而進行。 用於此高折射膜之塗料溶劑之較佳實例包括甲乙酮、 甲基異丁基酮、與環己酮。 塗料溶劑可含酮系以外之溶劑。這些溶劑之實例包括 醇類（例如，甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、苄醇）、酯類（例 如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲 酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯）、脂族烴類（例如， 己烷、環己烷）、鹵化烴類（例如，二氯甲烷、氯仿、四氯 化碳）、芳族烴類（例如，苯、甲苯、二甲苯）、醯胺類（例 如’二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯啶酮）、醚 類（例如，二乙醚、二噁烷、四氫呋喃）、及醚醇類（例如， 1-甲氧基-2-丙醇）。 塗料溶劑中酮系溶劑之含量以含於塗層組成物中之溶 劑總重量計較佳爲不低於1 〇重量％ ’較佳爲不低於3 〇重量 % ’更佳爲不低於60重量％。 依照]IS K5400之鉛筆硬度測試，此高折射膜之強度較 -40- 1267651 佳爲不低於Η，更佳爲不低於2H ’最佳爲不低於3H。 在接受依照JIS Κ5400之Taber測試時，測試樣本之磨 損較佳爲儘量小。 如果無提供防眩性能之粒子，則此高折射膜之霧化較 佳爲儘量低。此高折射膜之霧化較佳爲不大於5 %，更佳爲 不大於3 %，特佳爲不大於1 %。 抗反射膜 此外，本發明之抗反射膜亦具有提供於透明撐體上之 上述高折射膜。此外，本發明之抗反射膜可進一步具有低 折射膜，其具有小於高折射膜之折射率。提供於本發明抗 反射膜之透明撐體及各層詳述於下。 透明擋體 透明撐體較佳爲塑膠膜。塑膠膜之實例包括纖維素酯 (例如，三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、丙醯纖維素、丁 醯纖維素乙醯基丙醯纖維素、硝基纖維素）、聚醯胺、聚碳 酸酯、聚酯（例如，聚對酞酸乙二酯、聚萘甲酸乙二酯、 聚-1，4-環己烷二亞甲基對酞酸酯、聚乙烯-1，2 -二苯氧基乙 院-4,4’-二羧酸酯、聚對酞酸丁二酯）、聚苯乙烯（例如， 間規聚苯乙烯）、聚烯烴（例如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基 戊烯）、聚碾、聚醚楓、聚烯丙酯、聚醚醯亞胺、聚甲基丙 烯酸甲酯、與聚醚酮。這些塑膠膜中較佳爲三乙醯纖維素、 聚碳酸酯、聚對酞酸乙二酯、與聚萘甲酸乙二酯。特別地， 在此產物用於液晶顯示裝置時，三乙醯纖維素較佳。 在h明撑體爲二乙醯纖維素膜之情形’較佳爲三乙醢 纖維素膜係藉由使將三乙醯纖維素溶於溶劑中而製備之三 -41 - 1267651 乙醯纖維素摻雜物接受單層鑄製或多層共鑄製而製備。 特別地，由環保之觀點，由使三乙醯纖維素在實質上 無二氯乙烷之溶劑中接受低溫溶解或高溫溶解而製備之Η 乙醯纖維素摻雜物製備之三乙醯纖維素膜較佳。 單層三乙醯纖維素膜係藉由如JP-A- 7 - 1 1 05 5專利等揭 示之圓筒鑄法、或帶鑄法等製備，而後者多層製成之三乙 醯纖維素膜係藉由如JP-A-6 1 -947 25、JP-B-62-43 846專利等 揭示之所謂之共鑄法製備。 例如，在水平循環金屬帶或至轉動圓筒製成之撐體 上，使用摻雜物塗佈單位（稱爲「模」），鑄製藉由將原料 屑溶於如下之溶劑中而得之溶液（摻雜物）：鹵化烴類（二 氯甲烷等）、醇類（甲醇、乙醇、丁醇等）、酯類（甲酸甲 酯、乙酸甲酯等）、及醚（二噁烷、四氫呋喃、二乙醚等）， 然後視情況地將各種添加劑加入溶液，如塑性劑、紫外線 吸收劑、退化抑制劑、潤滑劑、與剝除加速劑。 在單層形式之情形，單一摻雜物接受單層鑄製。在多 層形式之情形，低濃度摻雜物與高濃度摻雜物接受共鑄 製，使得低濃度摻雜物層壓於高濃度纖維素酯摻雜物兩側 上。如此鑄製之摻雜物在撐體上乾燥至一定程度。自撐體 剝除如此變硬之膜’然後使用各種運輸單位通過乾燥區以 去除溶劑。 上述用於溶解三乙醯纖維素之溶劑之典型實例爲二氯 甲烷。然而，由全球環境或作業環境之觀點，較佳爲溶劑 實質上無鹵化烴類，如二氯甲烷。在此使用之名詞「實質 上無鹵化烴類」表示有機溶劑中之鹵化烴類比例小於5重 -42- 1267651 量％ (較佳爲小於2重量％ )。在使用實質上無二氯甲院溶 劑製備三乙醯纖維素摻雜物之情形’較佳爲使用以下之特 殊溶解法。 第一種方法稱爲「冷溶解法」且敘述於下。首先’在 室溫附近之溫度（-1 〇 °c至4 0 °C )將三乙醯纖維素逐漸地攪 拌加入溶劑中。繼而將混合物冷卻至至-10°C (較佳 爲-80°C至-1(TC，更佳爲- 50°C至- 20°C，最佳爲- 50°C至-30 °C )之溫度。冷卻可在乾冰—甲醇浴（-75°C )上或在冷卻 二乙二醇溶液（-3 0°C至-20 °C )中進行。如此冷卻，三乙醯 纖維素與溶劑之混合物固化。然後將混合物加熱至〇°C至 200t：(較佳爲（TC至150°C，更佳爲（TC至120°C，最佳爲 0°C至50 °C )之溫度，得到三乙醯纖維素在溶劑中流動之溶 液。加熱可藉由使混合物在室溫靜置或以熱浴將混合物加 熱而進行。 第二種方法稱爲「熱溶解法」且敘述於下。首先，在 室溫附近之溫度（-10°C至4(TC )將三乙醯纖維素逐漸地攪 拌加入溶劑中。本發明之三乙醯纖維素溶液較佳爲藉由將 三乙醯纖維素加入含各種溶劑之混合溶劑中使其膨脹而製 備。在此方法中’三乙醯纖維素之溶解濃度較佳爲不大於 3 0重量％，但是由製膜時乾燥效率之觀點，較佳爲儘量高。 繼而在0.2 MPa至30 MPa之壓力下，將混合有機溶劑加熱 至7 0°C至2 40°C (較佳爲80°C至220°C，更佳爲10CTC至 200 °C，最佳爲100°C至i9(rC )之溫度。如此加熱之溶液 無法直S塗覆’因此需要冷卻至低於所使用溶劑之最低沸 點。在此情形，通常將系統冷卻至_5(rc至5(rc之溫度，使 -43- 1267651 得其壓力回到一般壓力。冷卻可僅藉由使容納三乙醯纖維 素之高壓高溫容器或管線在室溫靜置，或較佳爲藉由以如 冷卻水之冷卻介質將裝置冷卻而進行。 上述透明撐體之厚度並未特別地限制，但是較佳爲1 至300微米，更佳爲30至150微米，特別是40至120微 米，最佳爲40至100微米。 此透明撐體之透光度較佳爲不低於80%，更佳爲不低於 86%。此透明撐體之霧化較佳爲不大於2.0%，更佳爲不大 於1.0%。此透明撐體之折射率較佳爲1·4至1.7。此透明撐 體可包括紅外線吸收劑或紫外線吸收劑加入其中。紅外線 吸收劑之加入量以透明撐體重量計較佳爲0.0 f至20重量 %，更佳爲0 · 0 5至1 0重量％。至於潤滑劑，可將惰性無機 化合物細粒加入透明撐體中。無機化合物之實例包括 Si〇2、Ti02、BaS04、CaC03、滑石、與高嶺土。 此透明撐體可接受表面處理。表面處理之實例包括化 學處理、機械處理、電暈放電處理、火燄處理、紫外光照 射、高頻處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、 混合酸處理、及臭氧氧化。這些表面處理方法中較佳爲輝 光放電處理、紫外光照射、電暈放電處理、及火燄處理， 特別是輝光放電處理與電暈放電處理。 最外層 較佳爲在抗反射膜之高折射膜側上形成主要由含氟化 合物組成之最外層。主要由含氟化合物組成之最外層係作 爲低折射膜或防污層。 在此使用之名詞「主要由含氟化合物組成」表示最外 -44- 1267651 層中之含氟化合物含量以最外層總重量計不低於5〇重量 % ’較佳爲不低於60重量％。 含氟化合物之折射率較佳爲1.35至1·50，更佳爲丨.3 6 至1.47，甚至更佳爲1.38至丨.45。此外，含氟化合物較佳 爲含35%至80%重量比，較佳爲45%至75%重量比之量之氟 原子。 Q赢化合物之貫例包括含氟聚合物、含氟砂院化合 物、含氟表面活性劑、含氟醚等。 含氟聚合物之實例包括藉含氟原子之乙烯不飽和單體 之交聯反應或聚合反應合成者。含氟原子之乙烯不飽和單 體之實例包括氟烯烴類（例如，氟乙烯、氟亞乙烯、四氟 乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2,2-二甲基-1，3-二環戊 烷）、氟化乙烯酯、及經氟取代醇與丙烯酸或甲基丙烯酸之 至於含氟聚合物，可使用包括含氟原子之重複單位與 無氟原子之重複單位之共聚物。 上述共聚物可藉由含氟原子之乙烯不飽和單體與無氟 原子之乙烯不飽和單體之聚合反應而得。 無氟原子之乙烯不飽和單體之實例包括烯烴類（例 如，乙烯、丙烯、異戊二烯、氯乙烯、氯亞乙烯）、丙烯酸 酯類（例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2 -乙基己 酯）、甲基丙烯酸酯類（例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯 酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯）、苯乙 烯及其衍生物（例如，苯乙烯、二乙烯基苯、乙烯基甲苯、 α-甲基苯乙烯）、乙烯醚類（例如，甲基乙烯基醚）、乙烯 -45- 1267651 酯類（例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、桂皮酸乙烯酯）、 丙烯醯胺類（例如，N-第三丁基丙烯醯胺、N-環己基丙烯 醯胺）、甲基丙烯醯胺、與丙烯腈。 含氟矽烷化合物之實例包括含全氟烷基矽烷化合物 (例如，（十七氟-1，2,2,2-四癸基）三乙氧基矽烷）。 在含氟表面活性劑中，其親水性部份可爲陰離子性、 陽離子性、非離子性、或兩性。組成疏水性部份之烴中之 氫原子係部份地或完全地經氟原子取代。 含氟醚通常爲作爲潤滑劑之化合物。含氟醚之實例包 括全氟聚乙烯等。 特佳爲’最外層係由具有交聯或聚合之結構加入其中 之含氟聚合物形成。具有交聯或聚合之結構加入其中之含 氟聚合物係藉由交聯或聚合具可交聯或可聚合基之含氟聚 合物而得。 具可交聯或可聚合基之含氟聚合物可藉由將可交聯或 可聚合基加入無可交聯或可聚合基之含氟聚合物作爲側鏈 而得。可交聯或可聚合基較佳爲在以光（較佳爲紫外線或 電子束（EB))照射時反應，或加熱而提供具交聯或聚合之 結構之含氟化合物之官能基。可交聯或可聚合基之實例包 括如（甲基）丙烯醯基、異氰酸基、環氧基、吖啶、噁唑 啉、醛、羰基、肼、羧基、羥基、與活性亞甲基之基。至 於具可交聯或可聚合基之含氟化合物，可使用商業可得產 物。 具可父聯或可聚合基之含氟化合物之交聯或聚合反應 較佳爲藉由在塗覆塗層組成物同時或之後以光或電子束照 -46 - 1267651 射形成最外層之塗層組成物，或將塗層組成物加熱而進 行。 除了含氟化合物，最外層可含塡料（例如，無機細粒、 有機細粒）、矽烷偶合劑、表面活性劑等。特佳爲，將無機 細粒、矽烷偶合劑、與潤滑劑加入最外層。 加入最外層之無機細粒之較佳實例包括二氧化矽（矽 石）、含氟細粒（例如，氟化鎂、氟化鈣、氟化鋇）等。這 些無機細粒中特佳爲二氧化矽（矽石）。組成無機細粒之主 要顆粒之重量平均分子量較佳爲1至150奈米，更佳爲1 至100奈米’最佳爲1至80奈米。在最外層中，無機細粒 較佳爲較細密地分散。無機細粒之形狀較佳爲米粒形、球 形、立方體、心軸形、短纖維形、環形、或非晶性。 至於加入最外層之矽烷偶合劑，可使用上述通式（I)表 示之化合物及/或其衍生化合物。矽烷偶合劑之較佳實例包 括含羥基、氫硫基、羧基、環氧基、烷基、烷氧基矽烷基、 丙烯氧基、與丙烯胺基之矽烷偶合劑，特別是含環氧基、 可聚合丙烯氧基（（甲基）丙烯氧基）與可聚合丙烯胺基（丙 烯胺基、甲基丙烯胺基）之矽烷偶合劑。 通式（I)表不之化合物中，特佳爲具有（甲基）丙嫌醯 基作爲可交聯或可聚合基之化合物，如3-丙烯氧基丙基三 甲氧基矽烷與3 -甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷。 至於潤滑劑，具有二甲基矽或聚矽氧烷段加入其中之 含氟化合物較佳。 此最外層較佳爲藉由以光或電子束照射具有含氟化合 物及視情況之特定成分溶於或分散於其中之塗層組成物， -47- 1267651 或將塗層組成物加熱，造成交聯反應或聚合反應而形成。 特別地，在最外層係藉由游離放射線硬化化合物之交 聯反應或聚合反應而形成之情形，此交聯反應或聚合反應 較佳爲在具有不大ίο體積％之氧濃度之大氣中進行。藉由 在具有不大10體積％之氧濃度之大氣中形成最外層，可得 物理強度及化學抗性優良之最外層。 氧濃度較佳爲不大6體積％，更佳爲不大4體積％，特 別是不大於2體積％，最佳爲不大1體積％。 將氧濃度調整至不大於1 0體積％較佳爲藉由以其他氣 體，特別是氮（以氮沖洗），取代大氣（氮濃度：約79體 積％ ;氧濃度：約2 1體積％ )而進行。 在最外層作爲低折射膜之情形，最外層之厚度較佳爲 30奈米至200奈米，更佳爲50奈米至150奈米，特別是60 奈米至1 20奈米。在最外層作爲防污層之情形，最外層之 厚度較佳爲3奈米至50奈米，更佳爲5奈米至35奈米， 特別是7奈米至25奈米。 此最外層較佳爲呈現不大於0.25之表面動磨擦係數， 以改良抗反射膜之物理強度。在此使用之名詞「動磨擦係 數」表示最外層表面相對具5毫米直徑之不銹鋼球之動磨 擦係數，其在使不銹鋼球以0.98牛頓之負載力以60公分/ 分鐘之速率沿最外層表面移動時測量。最外層之表面動磨 擦係數較佳爲不大於0.17，特別是不大於0.15。 爲了改良抗反射膜之防污性，最外層相對水之接觸角 較佳爲不小於90° ，更佳爲不小於95° ，特別是不小於1〇〇° -48- 1267651 低析射膜 低折射膜亦作爲上述最外層或可配置於最外層下方。 在此低折射膜亦作爲上述最外層之情形，可應用已關 於最外層所述之事項。在此低折射膜配置於最外層下方之 情形，此低折射膜較佳爲含砂化合物。 此低折射膜之折射率爲1 · 2 〇至1. 5 5，較佳爲1. 3 〇至 1.50’更佳爲1.35至1.48，特別是1.40至1.48。 在此低折射膜配置於最外層下方之情形，此低折射膜 可藉塗覆法或氣相法（真空沈積法、濺射法、離子電鍍法、 電漿CVD法等）形成。塗覆法較佳爲，因爲其可以低成本 製造低折射膜。 在藉塗覆製造低折射膜時，低折射膜較佳爲由選自以 下通式（II)表不之化合物、其水解物、及藉水解物縮合製造 之交聯矽聚合物（特別是交聯矽聚合物）製備。

Xa Y bSiZ4.a-b (Π) 在通式（II)中，X表示Cl-C12有機基（例如，烷基、芳 基、鹵化烷基、鹵化芳基、烯基、或環氧基、（甲基）丙烯 氧基、氫硫基、胺基、氰基）。Y爲 Ci_C3烴基。z表示鹵 素原子或院氧基（例如，〇CH3、〇C2H5、OC3H7)。下標i 與1爲相同或不同，而且各爲ο至2之整數。通式（π)之化 合物並未特別地限制，但是通式（11)之指定實例包括四烷氧 基砂烷，如矽酸甲酯與矽酸乙酯，三烷氧基或三丙烯氧基 石夕院，如甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三 甲氧基乙氧基矽烷、甲基三乙醯氧基矽烷、甲基三丁氧基 砂烷、乙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基 -49- 1267651 三乙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基 乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、苯 基三乙醯氧基砍院、γ-氯丙基二甲氧基砍院、γ-氯丙基三乙 氧基矽烷、γ-氯丙基三乙醯氧基矽烷、3,3,3-三氟丙基三甲 氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油 氧基丙基三乙氧基矽烷、( β-縮水甘油氧基乙氧基）丙 基三甲氧基ϊ夕院、β-( 3,4 -環氧基環己基）乙基三甲氧基石夕 烷、β- ( 3,4-環氧基環己基）乙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙 烯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、γ-氫硫基丙基三乙氧基矽烷、Ν-β-(胺基乙基）-γ-胺基丙基 三甲氧基矽烷、γ- ( 2-胺基乙基）胺基丙基三甲氧基矽烷、 與β -氰基乙基三乙氧基矽烷，二烷氧基或二醯氧基矽烷， 如二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基甲基 二甲氧基矽烷、苯基甲基二乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基 丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧 基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基苯基二甲氧基矽烷、γ-縮水甘 油氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、γ-氯丙基甲基二甲氧基矽 烷、γ-氯丙基甲基二乙氧基矽烷、二甲基二乙醯氧基矽烷、 γ-甲基丙烯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯氧基丙 基甲基二乙氧基矽烷、γ-氫硫基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-氫硫基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二甲氧基 矽烷、γ-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、甲基乙烯基二甲氧 基矽烷、與甲基乙烯基二乙氧基矽烷等。 特別地，在硬度爲必要的之情形，含環氧基與（甲基） -50 - 1267651 丙烯醯基之矽化合物較佳。這些矽化合物可單獨地或以二 或更多種之組合使用。 這些矽化合物較佳爲以各種硬化劑或觸媒硬化。這些 硬化劑或觸媒之實例包括路易士酸、各種含路易士鹼之酸 與鹼、及由其形成之中性或鹼鹽，如有機羧酸、鉻酸、過 次氯酸、硼酸、溴酸、硒酸、硫代硫酸、正矽酸、硫氰酸、 硝酸、鋁酸、碳酸與金屬（特別是鹼金屬）之鹽、或碳酸 之銨鹽、鋁、銷與鈦之烷氧化物、及其錯合物。特別地， 鋁螯合劑化合物較佳。鋁螯合劑化合物之實例包括乙醯乙 酸乙酯二異丙酸鋁、参乙醯乙酸乙酯鋁、乙醯乙酸烷酯二 異丙酸鋁、乙醯乙酸鋁單乙醯酯貳乙醯乙酸乙酯、參乙醯 乙酸鋁等。 低折射膜較佳爲包括無機細粒加入其中，如LiF、

MgF2、Si〇2之細粒，特別是Si〇2。 低折射膜之厚度較佳爲30奈米至200奈米，更佳爲50 奈米至150奈米，最佳爲60奈米至120奈米。 在低折射膜無提供防眩性能之顆粒之情形，低折射膜 之霧化較佳爲儘量低，更佳爲不大於5 %，甚至更佳爲不大 於3 %，特別是不大於1 %。 依照JIS K5400之鉛硬度測試，低折射膜之強度較佳爲 不低於Η，更佳爲不低於2H，最佳爲不低於3H。 在接受依照JIS Κ5400之Taber測試時，測試樣本之磨 損較佳爲儘量小。 在本發明中，低折射膜亦藉含共聚物作爲主要成分之 硬化膜形成，此共聚物包括衍生自含氟乙烯基單體之重複 -51· 1267651 單位與在其側鏈具有（甲基）丙烯醯基之重複單位作爲重 要成分。在此使用之名詞「主要成分」表示在組成硬化膜 之成分中具有最大量（重量％)之成分。衍生自此共聚物之 成分較佳爲佔膜固體含量之不低於70重量％，更佳爲不低 於80重量％，特別是不低於90重量％。爲了改良磨損抗性 之目的，特佳爲進一步加入如多官能基（甲基）丙烯酸酯 之硬化劑。 低折射膜之折射率較佳爲1.20至1.49，更佳爲1.20至 1·45，特別是 1.20 至 1.44。 低折射膜之厚度較佳爲50奈米至400奈米，更佳爲50 奈米至200奈米。低折射膜之霧化較佳爲不大於3%，更佳 爲不大於2 %，最佳爲不大於1 %。依照1公斤負載之鉛硬 度測試，低折射膜之特定強度較佳爲不低於Η，更佳爲不 低於2Η。 爲了改良低折射膜之防污性，低折射膜相對水之接觸 角較佳爲不小於90° ，更佳爲不小於95° ，特別是不小於 100。。 用於本發明低折射膜之共聚物敘述於下。 含氟乙烯基單體之實例包括氟烯烴類（例如，氟乙烯、 氟亞乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯）、（甲基）丙 烯酸之部份或完全氟化烷酯衍生物（例如，Biscoat 6FM (商 標名 ’ OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY 有限公司製 造）、Μ-2020 (商標名，DAIKIN INDUSTRIES有限公司製 造））、完全或部份氟化乙烯醚等。這些含氟乙烯基單體中 較佳爲全氟烯烴類。由折射率、溶解度、透明度、可得性 -52· 1267651 等之觀點，這些全氟烯烴類中特佳爲六氟丙烯。在這些含 氟乙烯基單體之組成比例提高時，低折射層之折射率可增 加，但是低折射層之強度降低。在本發明中，含氟乙烯基 單體較佳爲以使得共聚物中之氟含量爲20%至60 %重量 比，更佳爲25 %至55 %重量比，特別是30%至50%重量比之 量加入。 本發明之共聚物具有在其側鏈中具（甲基）丙烯醯基 作爲重要組分之重複單位。將（甲基）丙烯醯基加入共聚 物中之方法並未特別地限制。此方法之實例包括（1 )一種包 括合成具有親核基（如羥基與胺基）之聚合物，然後使（甲 基）丙烯酸氯、（甲基）丙烯酸酐、（甲基）丙烯酸與甲磺 酸之無水混合物等對聚合物作用之方法，（2)—種包括在觸 媒（如硫酸）存在下，使（甲基）丙烯酸對上述具親核基 聚合物作用之方法，（3)—種包括使具異氰酸基與（甲基） 丙烯醯基組合之化合物（如異氰酸甲基丙烯醯氧基丙酯） 對上述具親核基聚合物作用之方法，（4) 一種包括合成具環 氧基之聚合物，然後使（甲基）丙烯酸對聚合物作用之方 法’（5)—種包括使具環氧基與（甲基）丙烯醯基組合之化 合物（如甲基丙烯酸縮水甘油酯）對具羧基聚合物作用之 方法，（6)—種包括聚合具有3-氯丙酸酯位置之乙烯基單 體，然後使此產物接受脫氯之方法等。在本發明中，特佳 爲藉方法（1)或（2)將（甲基）丙烯醯基加入具羧基聚合物 中〇 在這些含（甲基）丙烯醯基之重複單位之組成比例提 高時，低折射層之強度可增加，但是低折射層之折射率亦 -53- 1267651 提高。雖然視衍生自含氟乙烯基單體之重複單位種類而 定，含（甲基）丙烯醯基之重複單位較佳爲佔低折射層之5 至90重量％，更佳爲30至70重量％，特別是40至60重量 % 〇 由如對基板黏附性、聚合物之Tg (有助於膜硬度）、在 溶劑中之溶解度、透明度、滑動性、及防塵性/防污性之觀 點，除了上述衍生自含氟乙烯基單體之重複單位及在其側 鏈具有（甲基）丙烯醯基之重複單位，用於本發明之共聚 物可視情況地藉由共聚合其他乙烯基單體而得。視目的而 定，可組合使用多種這些乙烯基單體。這些乙烯基單體以 共聚物計較佳爲以0至65莫耳％，更佳爲0至40莫耳％， 特別是0至3 0莫耳％之總量加入。 可組合重複單位使用之乙烯基單體單位並未特別地限 制。這些乙烯基單體單位之實例包括烯‘煙類（乙烯、丙烯、 異戊二烯、氯乙烯、氯亞乙烯等）、丙烯酸酯類（丙烯酸甲 _、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯 酸2·羥乙酯）、甲基丙烯酸酯類（甲基丙烯酸甲酯、甲基丙 烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯等）、苯 乙烯衍生物（苯乙烯、對羥甲基苯乙嫌、對甲氧基苯乙烯）、 乙烯醚類（甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、環己基乙烯基 _、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚等）、乙烯酯類（乙 酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、桂皮酸乙烯酯等）、不飽和羧酸（丙 烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、伊康酸等）、丙 烯醯胺類（N，N-二甲基丙烯醯胺、N-第三丁基丙烯醯胺、 N-環己基丙烯醯胺等）、甲基丙烯醯胺（N，N-二甲基甲基丙 -54- 1267651 烯醯胺）、丙烯腈等。 至於較佳具體實施例，用於本發明之共聚物爲以下通 式（III)之共聚物。 -4CF2-CF~hc--HCHs-CH^-- CF3 0 (1工1) !i 0-(L)m-CC=CH2

X 在通式（III)中，L表示（VC1Q連接基，較佳cvc6連接 基，特別是C^-C：4連接基，其可爲直鏈或具有分支結構，或 可具有環形結構或選自0、N與S之雜原子。 連接基之較佳實例包括*-(CH2)2-0-**、*-(CH2)2-NH-**、 *-(CH2)4-〇·**、*-(CH2)6-〇-**、*-(CH2)2-(CH2)2-〇-**、 *-C〇NH-(CH2)3-**、 *-CH2CH(〇H)CH2-〇-氺、 *-CH2CH2〇C〇NH(CH2)3-〇-** (其中*表示在聚合物主鏈上之 連接位置，及* *表示在（甲基）丙烯醯基側上之連接位置） 等。下標m表示0或1。 在通式（III)中，X表示氫原子或甲基，由硬化反應性之 觀點，較佳爲氫原子。 在通式（III)中，A表示完全衍生自乙烯基單體之重複單 位。此重複單位並未特別地限制，只要其爲可與六氟丙烯 共聚合之單體之組分，而且可由對基板黏附性、聚合物之 Tg(有助於膜硬度）、在溶劑中之溶解度、透明度、滑動性、 及防塵性/防污性之觀點適當地選擇。視目的而定，此重複 單位可由單一乙烯基單體或多種乙烯基單體形成。 乙烯基單體之較佳實例包括乙烯醚類，如甲基乙烯基 -55- 1267651 醚、乙基乙烯基醚、第三丁基乙烯基醚、環己基乙烯基醚、 異丙基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚、縮 水甘油基乙烯基醚、與烯丙基乙烯基醚，乙烯酯類，如乙 酸乙烯酯、丙乙烯酯與丁酸乙烯酯，（甲基）丙烯酸酯，如 (甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）·丙烯 酸羥乙酯、（甲基）丙烯酸縮水甘油酯、（甲基）丙嫌酸烯 丙酯、與（甲基）丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷，苯乙烯 衍生物，如苯乙烯與對羥甲基苯乙烯，不飽和羧酸，如巴 豆酸、順丁烯二酸與伊康酸，其衍生物等。這些乙烯基單 體中較佳爲乙烯醚衍生物與乙烯酯衍生物，特別是乙烯醚 衍生物。 下標X、y與Z各表示各組分之莫耳％且各表示滿足以 下關係之値：30$xS60、5Sy$70及0SzS65，較佳爲 35SxS55、30SyS60 及 0SzS20，特別是 40Sx$55、 40$ y $ 55 及 OS zS 10。 用於本發明之共聚物之特佳具體實施例爲以下通式 (IV)。 CF3 〇 (IV) l!

〇-4CH2hrOCC=CH2 0—fCH2hr~〇H X 在通式（1乂）中’7、\與7如通式（111)所定義。又、1與7 之較佳範圍與通式（ΙΠ)相同。 下標π表不不小於2至不大於1 〇，較佳爲不小於2至 -56- 1267651 不大於6，特別是不小於2至不大於4之整數。 B表示完全衍生自乙烯基單體之重複單位，其可爲單〜 組成物或可由多種組成物形成。重複單位之實例包括參考 上述通式（III)中之A所述者。 下標21與Z2各表示各組分之莫耳％且各表示滿足以卞 關係之値：〇SZlS65及0Sz2S65，較佳爲0$ZlS30及 OSz2Sl〇，特別是 0^21^10及 0$Z2s5。 通式（III)或（IV)表示之共聚物可藉由，例如，使用任何 上述方法’將（甲基）丙烯醯基加入含六氟丙烯成分與羥 太兀基乙烯基醚成分之共聚物中。 用於本發明之共聚物之較佳實例示於以下，但是本發 明不受其限制。

-57- 1267651 i〇h~c^ ^CH2-CH^ icH2-CH^

CFs I , J 〇iL1tH 〇4ntCC^CH2

X

P-I 50 0 1 ^-ch2ch2o-$* P-2 SO 0 1 i-CN2CH2〇-$* c P-3 45 5 1 *-ch2ch2o-^* 1 P-4 40 10 1 ^-ch2ch2o-*^ } P-5 30 20 1 *-ch2ch2〇-** 1* Ρ-δ 20 30 1 卜 ch2ch2o - n l· Ρ-7 50. 0 0 H Ρ-δ 50 0 1 * - c4h8o-* 本 H P-9 50 0 1 *icn2^ 〇, -U H P-10 50 0 ] i一 本本 H 符號*表示聚合物主鏈側，及符號林表示（甲基）丙烯醯基側。 -58- 1267651 +CF2-七 + CH2-CH 士 -fcH2-CH^ % 〇 時) 0卡1㈣啊

X X y η L1 X P-11 50 .0 1 Η P -12 50 0 1 r? t - ch2ch2ocnhch2ch2ch2o~ * * π Η P-13 50 0 1 本一 CH2CH2〇SnHCH2CH2CH2〇—* CHa P -14 50 0 1 0 *-CH2CH^zCH2〇CmCH2CHzCH2〇-^ OH CH3 P-15 50 0 1 *-CH2CHCH2〇-^i Η P-16 50 0 1 *-CH2CH〇—n ch2oh Η P-17 50 0 1 *-ch2ch2och2-chch2o— ^ OH OH Η P-U 50 0 1 泰 卜 ch2och2ch-ch2o— ** ch3 P—19 50 0 1 本一 CH2OCH2CH — 0— *本 ch2oh ch3 P-20 40 10 1 卜 ch2ch2o CH3 符號*表示聚合物主鏈側’及符號林表示（曱基）丙烯醯基側。

-59 - 1267651 如 七如 H2—fH 士 +A士 CF3 Ο

II 0—L1——CCH=CH2 a b c L1 a

P-ZI 55 45 0 *-CH2CH2〇—t* P-22 45 55 0 *-ch2ch2o—** 〇 P-23 50 45 5 Jl * -CH2CH20CmCH2CH^CH20-^ » -ch2-ch- och2ch2oh P-24 50 45 5 *-CH2CH^CH2〇~*i e OH -ch2-ch- CHg— o P-25 50 45 5 *-ch2cho一^本字 _ CH2〇H 0 P-26 50 40 10 ^CHzCHz〇—tt - CHsfpH- OCH2CH3 P-2T 50 40 10 *-chsch2〇~** -〇VCH 一 CH3 P-28 50 4D 10 *-CH2CHz〇—n COOH 符號*表示聚合物主鏈側，及符號料表示丙烯醯基側。 -60 - 1267651 -fcF2-CF^x -f〇H2-CH^; CH2-CH^ CF3 a o^ch2^〇h 〇-fCH2)n〇CC-CH2

X

X y Z1 Z2 n X B P-29 50 40 5 5 2 H - CH2-(pH— 0 - CH2CH3 P-30 50 35 5 10 2 H -ch2-ch~ 0-C{CH3)3 • P-31 40 40 10 10 4 ch3 - CH2”pH 0-{h) + CF2—令七 +Z 七 cf3

a b Y z P-32 45 5 ch3 -CH—CH- 1 0 CH3 一 CH—CH— C〇2CH2CHCH2〇CC=CH2 OH CH3 1 COOH P-33 40 10 - ch2-ch— 0 -CH-CH- c〇2h conhch2ch2occh=ch2 0=CN y=0 -61 - 1267651

Rf 0:C6、 oc

L一 CCH^CH2 L-H X y z Rf L P-34 GO 40 0 一 C H^C HgCg F»j 一 CH2CH20 - P - 35 60 30 10 -CH2CH2C4F8H-n 一 CH2CH2〇— • P-36 40 60 0 一 CH2CH2C6F12H 一 ch2ch2ch2ch2o— -chV〇-i〇^h occh=ch2

Rf O ofcHg-^OCCH^CHa x . y z .n Rf P-37 50 50 0 2 CHgC^FgH^n P - 38 40 55 5 2 -CH2C4FBH-n P-39 30 70 0 4 ^CHgCgF ·)7"Π P-40 60 40 0 2 ^CH2CH2CaF16H-n

-62- 1267651 用於本發明之共聚物之合成可藉由以任何聚合方法 (如溶液聚合、沈澱聚合、懸浮液聚合、沈澱聚合、大塊 聚合、與乳液聚合）將前驅物（如含羥基聚合物）合成， 然後藉上述聚合反應將（甲基）丙烯醯基加入前驅物中而 進行。此聚合反應可藉任何已知方法進行，如分批法、半 連續法、及連續法。 引發聚合之方法之實例包括涉及使用自由基聚合引發 劑之方法、涉及以光或放射線照射之方法等。這些聚合方 法及聚合引發法敘述於Teiji Tsuruta之”Kobunshi Gosei Houhou (Polymer Synthesis Method)”，更新版（Nikkan Kogyo Shinbun 出版，1971 )及 Takayuki 〇tsu 與 Masayoshi Kinoshita 之”Koubunshi Gosei no Jikkenho (Method of Experiment of Polymer Synthesis)”，Kagaku Dojin，1972，第 124 至 154 頁。 上述聚合方法中特佳爲使用自由基聚合引發劑之溶液 聚合法。至於用於溶液聚合之溶劑，可使用一種或二或更 多種有機溶劑之混合物，如乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮、 甲乙酮、甲基異丁基酮、環己酮、四氫呋喃、二噁烷、N，N-二甲基甲醯胺、N，N-二甲基乙醯胺、苯、甲苯、乙腈、二 氯甲烷、氯仿、二氯乙烷、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、 及丁醇。可使用這些有機溶劑與水之混合物。 聚合溫度需關於如此製造之聚合物之分子量、引發劑 種類而預先決定，而且範圍爲低於〇°C至高於100 °C，但是 聚合較佳爲在50°C至10(TC之溫度。 反應壓力可適當地預先決定’但是通常較佳爲1至1 00 1267651 公斤/平方公分，特別是1至30公斤/平方公分。反應時間 爲約5小時至3 0小時。 用於如此得到之聚合物之再沈澱溶液之較佳實例包括 異丙醇、己烷、甲醇等。 本發明之形成低折射率層組成物通常爲液體形式，而 且藉由將作爲主要組分之上述共聚物、視情況地及各種添 • 加劑與自由基聚合引發劑溶於適當溶劑中而製備。在此情 形，固體含量濃度視目的而適當地預先決定，但是通常爲 約0.1至60重量％，較佳爲約0.5至50重量％，特別是約1 至2 0重量％。 由改良低折射層磨損抗性之觀點，可將少量（由對高 折射層之層間黏著性之觀點）添加劑，例如，硬化劑（如 多官能基（甲基）丙烯酸酯化合物、多官能基環氧基化合 物、聚異氰酸酯化合物、胺基塑料、多元酸或其酐）、或無 機細粒（如矽石）加入低折射層。如果加入，這些添加劑 之量以低折射層中之總固體含量計較佳爲〇至3 0重量％， 更佳爲0至20重量％，特別是〇至1 〇重量％。 爲了提供如防污性、防水性、化學抗性、與滑動性之 性質之目的，可適當地加入已知矽系或氟系防污劑、潤滑 劑等。如果加入，這些添加劑之量以低折射層中之總固體 含量計較佳爲0至2 0重量％，更佳爲〇至1 〇重量％，特別 是0至5重量％。 硬塗曆 硬塗層係提供於透明撐體表面上以提供具物理強度之 抗反射膜。特佳爲將硬塗層提供於透明撐體與少述高折射 -64- 1267651 膜之間。 此硬塗層較佳爲藉由低分子量寡聚物或聚合物之游離 放射線硬化化合物之交聯反應或聚合反應而形成。此硬塗 層可藉由，例如，將含游離放射線硬化多官能基單體或多 官能基寡聚物之塗層組成物應用於透明撐體上，然後使多 官能基單體或多官能基寡聚物接受交聯反應或聚合反應而 形成。 游離放射線硬化多官能基單體或多官能基寡聚物較佳 爲可光聚合、可電子射線聚合或可放射線聚合官能基，特 別是可光聚合官能基。 可光聚合官能基之實例包括不飽和可聚合官能基，如 (甲基）丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、或烯丙基，及可 陽離子性聚合官能基，如環氧基、硫環氧基、或乙烯基。 其中，（甲基）丙烯醯基與環氧基較佳。 具有可光聚合官能基之可光聚合多官能基單體之指定 實例包括關於高折射膜所例示者。此可光聚合多官能基單 體較佳爲在光聚合引發劑或感光劑存在下聚合。光聚合反 應較佳爲藉由應用硬塗層，將硬塗層乾燥，然後以紫外線 照射硬塗層而進行。 此硬塗層較佳爲含具有不大於200奈米之平均主要粒 徑之無機細粒。在此使用之名詞「平均粒徑」表示重量平 均直徑。預先決定使平均主要粒徑不大於200奈米，可形 成可保持其所需透明度之硬塗層。 此無機細粒用以提高硬塗層厚度及抑制塗層之硬化收 縮。此無機細粒亦爲了控制硬塗層折射率之目的而加入。 -65- 1267651 至於此無機細粒，除了關於高折射膜所例示之無機細 粒，可使用二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、碳酸鋇、滑石、 高嶺土、硫酸鈣、二氧化鈦、氧化鉻、氧化錫、ΑΤΟ、ITO、 氧化鋅等之細粒。這些細粒中較佳爲二氧化矽、二氧化鈦、 氧化鉻、氧化鋁、氧化錫、ΑΤΟ、ΙΤΟ、與氧化鋅。 含於硬塗層之無機細粒之平均主要粒徑較佳爲5奈米 至200奈米，更佳爲10奈米至150奈米，甚至更佳爲20 奈米至100奈米，特別是20奈米至50奈米。 此無機細粒較佳爲儘量細微地分散於硬塗層。 就平均粒徑而言，硬塗層中之無機細粒之粒度較佳爲5 奈米至300奈米，更佳爲10奈米至200奈米，甚至更佳爲 20奈米至150奈米，特別是20奈米至80奈米。 硬塗層中之無機細粒之含量以硬塗層總重量計較佳爲 1 0 %至9 0 %重量比，更佳爲1 5 %至8 0 %重量比，特別是1 5 % 至7 5 %重量比。 如前所述，高折射膜亦可作爲硬塗層。在高折射膜亦 作爲硬塗層之情形，高折射膜較佳爲藉由使用關於高折射 膜所述之方法，將具有高折射率之無機細粒細微地分散於 硬塗層中而形成。 此硬塗層可進一步包括後述加入其中以亦作爲具防眩 性能之防眩層，具有〇. 2微米至1 〇微米平均粒徑之顆粒。 此硬塗層之厚度可視目的而適當地決定。此硬塗層之 厚度較佳爲〇·2微米至10微米，更佳爲0.5微米至7微米， 特別是0.7微米至5微米。 依照US Κ5 400之鉛筆硬度測試，此硬塗層之強度較佳 -66- 1267651 爲不低於Η，更佳爲不低於2H，最佳爲不低於3H。 在接受依照K5400之Taber測試時，測試樣本之磨 損較佳爲儘量小。 在此硬塗層係藉游離放射線硬化化合物之交聯反應或 聚合反應而形成之情形，此交聯反應或聚合反應較佳爲在 具有不大10體積％之氧濃度之大氣中進行。藉由在具有不 大10體積％之氧濃度之大氣中形成硬塗層，可得物理強度 與化學抗性優良之硬塗層。 此交聯反應或聚合反應更佳爲在具有不大4體積％，特 別是不大於2體積％，最佳爲不大1體積％之氧濃度之大氣 中之進行。 將氧濃度調整至不大於10體積％較佳爲藉由以其他氣 體，特別是氮（以氮沖洗），取代大氣（氮濃度··約79體 積％ ;氧濃度：約2 1體積％ )而進行。 此硬塗層較佳爲藉由將用於形成硬塗層之塗層組成物 應用於透明撐體表面而形成。 塗料溶劑較佳爲關於高折射膜所例示之酮系溶劑。藉 由使用此酮系溶劑，進一步改良透明撐體（特別是三乙醯 纖維素撐體）之表面對硬塗層之黏著性。 此塗料溶劑之特佳實例包括甲乙酮、甲基異丁基酮、 與環己酮。 此塗料溶劑可含關於高折射膜所例示之酮系溶劑以外 之溶劑。 關於此塗料溶劑，塗料溶劑之含量以塗層組成物所含 之溶劑總重量計較佳爲不少於1 〇重量％，更佳爲不少於3 0 -67- 1267651 重量％，甚至更佳爲60重量％。 抗反射膜之表面粕度 用於本發明之抗反射膜可具有在其表面上形成之粗 度，使高折射膜呈現防眩性質。 防眩性質係有關平均表面粗度（Ra)。以自1〇〇平方公分 面積隨機取樣之1平方毫米表面積之平均表面粗度（Ra)計 算，表面粗度較佳爲0.01微米至0.4微米，更佳爲〇·〇3微 米至0.3微米，甚至更佳爲0.07微米至0.2微米。 平均表面粗度（Ra)敘述於Jiro Nara之”Hyoumen Arasa no Sokutei-Hyoukaho (Method for Measuring and Evaluating Surface Roughness)”，Techno Compact 系歹[J (6)，K.K. Sogo Gij utsu Center o 用於本發明之抗反射膜表面上之谷與峰之形狀可由原 子力顯微鏡（AFM)評估。 至於形成表面粗度之方法，可使用任何已知之方法。 在本發明中可使用包括以高壓將具有粗化表面之板壓在膜 表面上之方法（例如，壓花）、或包括將細粒加入抗反射膜 上任何層以形成防眩層，因而在抗反射膜表面上形成粗度 之方法。 至於在膜表面上形成粗度之壓花法，可使用任何已知 之方法，但是特佳爲使用JP-A-2000-329905專利所述之方 法形成粗度。 在細粒加入抗反射膜上任何層以形成防眩層之情形， 至於加入防眩層之細粒，較佳爲使用具有0.2微米至10微 米平均粒徑之細粒。在此使用之名詞「平均粒徑」表示次 -68- 1267651 要顆粒（如果顆粒不黏聚則爲主要顆粒）之重量平均直徑。 此細粒之實例包括無機細粒及有機細粒。無機細粒之 指定實例包括二氧化矽、二氧化鈦、氧化鉻、氧化鋁、氧 化錫、IT 0、氧化鋅、碳酸鈣、硫酸鋇、滑石、高嶺土、硫 酸鈣等之細粒。這些無機細粒中較佳爲二氧化矽與氧化 鋁。 至於有機細粒，較佳爲使用樹脂細粒。樹脂細粒之指 定實例包括矽樹脂、三聚氰胺樹脂、苯胍胺樹脂、聚甲基 丙烯酸甲酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、與聚氟亞乙烯樹脂製成 之細粒。這些樹脂細粒中較佳爲由三聚氰胺樹脂、苯胍胺 樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、與聚苯乙烯樹脂製成者， 特別是由聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、苯胍胺樹脂、與聚苯乙 烯樹脂製成者。 至於用於防眩層形成粗度之細粒，較佳爲使用樹脂細 松。 此細粒之平均粒徑較佳爲0.5微米至7.0微米，更佳爲 1·0微米至5.0微米，特別是1·5微米至4.0微米。 此細粒之折射率較佳爲1·3 5至1.80，更佳爲1.40至 1.75，甚至更佳爲1.45至1.75。 此細粒之粒徑分布較佳爲儘量尖銳。表示細粒之粒徑 分布之S値由以下方程式表示且較佳爲不大於2，更佳爲 不大於1.0，特別是不大於0.7。 S = [D(0.9)-D(0.1)]/D(0.5) D(0.1):等於以體積計算之粒徑之1〇%積分値 D (0 · 5 ):等於以體積計算之粒徑之5 〇 %積分値 -69- 1267651 D (Ο · 9):等於以體積計算之粒徑之9 Ο %積分値 此細粒之折射率並未特別地限制，但是較佳爲與防眩 層實質上相同（相差不超過0.005 )，或與防眩層相差不小 於 0·02 。 藉由預先決定使細粒與防眩層之折射率時實質上相 同，具防眩膜之影像顯示裝置上之對比改良。 藉由使細粒與防眩層間之折射率不同，其表面上具防 眩膜之液晶顯示器之可視性（眩光、視角等）改良。 在細粒與防眩層間之折射率有所差異之情形，此差異 較佳爲0.03至0.5,更佳爲0.03至0.4,特別是0.05至0.3。 提供防眩性能之細粒可加入任何在抗反射膜上形成之 層，較佳爲硬塗層、低折射膜或高折射膜，特別是硬塗層 或高折射膜。此細粒可加入多層。 抗反射膜之其他層 爲了製備具有較佳抗反射性能之抗反射膜，較佳爲提 供具有高折射膜與透明撐體間折射率之中折射層。 此中折射層較佳爲以關於本發明高折射膜所述之相同 方式製備。中折射層之折射率調整可藉由控制膜中無機細 粒含量而進行。 抗反射膜可包括上述以外之層。例如，可提供黏著層、 遮蔽層、滑動層、或抗靜電層。遮蔽層係提供以遮蔽電磁 波或紅外線。 在將抗反射膜應用於液晶顯示裝置之情形，爲了改良 視角之目的，可另外形成具有具0.1微米至1 〇微米平均粒 徑之細粒加入其中之底塗層。在此使用之名詞「平均粒徑」 -70- 1267651 表示次要顆粒（如果顆粒不黏聚則爲主要顆粒）之重量平 均直徑。細粒之重量平均直徑較佳爲0.3微米至5.0微米， 更佳爲0.3微米至4.0微米，特別是0.5微米至3.5微米。 此細粒之折射率較佳爲1.35至1.80，更佳爲1.40至 1.75，甚至更佳爲1.45至1.75。 此細粒之粒徑分布較佳爲儘量尖銳。表示細粒之粒徑 分布之S値由以上方程式表示且較佳爲不大於1.5,更佳爲 不大於1.0，特別是不大於0.7。 細粒與底塗層間之折射率差異較佳爲不小於0.02，更 佳爲0.03至0.5，甚至更佳爲0.05至0.4，特別是0.07至 0.3。 加入底塗層中之細粒之實例包括關於防眩層所述之無 機細粒與有機細粒。 此底塗層較佳爲形成於硬塗層與透明撐體之間。此底 塗層亦可作爲硬塗層。 在此底塗層包括具0.1微米至1 0微米平均粒徑之細粒 加入其中之情形，底塗層之霧化較佳爲3%至60%，更佳爲 5 %至50%，甚至更佳爲7%至45%，特別是10%至40%。 形成抗反射膜等夕方法 在本發明中，組成抗反射膜之各層較佳爲藉塗覆法製 備。在各層係藉塗覆法形成之情形，可使用浸塗法、空氣 刀塗覆法、簾塗法、輥塗法、線棒塗覆法、凹版塗覆法、 微凹版塗覆法、或擠塗法（敘述於美國專利2,681，294 )。 二或更多層可同時塗覆。同時塗覆法敘述於美國專利 2,761，791、2,941，8 9 8、3,5 08,947、與 3,526,528，及 Yuji -71- 1267651

Harasaki 之”Kotingu Kogaku (Coating Engineering)，，，Asakura Shoten，第 253 頁，1973。 除了上述細粒、聚合抑制劑與感光劑，抗反射膜中之 各層可包括樹脂、表面活性劑、抗靜電劑、偶合劑、增稠 劑、著色抑制劑、著色材料（顏料、染料）、防沬劑、調平 劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、膠黏劑、聚 合抑制劑、氧化抑制劑、表面改良劑等加入其中。 在本發明中，此抗反射膜較佳爲在其高折射層側呈現 不大於0.25之表面動磨擦係數，以改良其物理強度（抗刮 性等）。在此使用之名詞「動磨擦係數」表示高折射膜表面 相對具5毫米直徑之不銹鋼球之動磨擦係數，其在使不銹 鋼球以0.98牛頓之負載力以60公分/分鐘之速率沿高折射 膜表面移動時測量。高折射膜側表面之動磨擦係數較佳爲 不大於0.1 ：7，特別是不大於0.15。 抗反射膜較佳爲在其高折射膜側呈現相對水較佳爲不 小於90° ，更佳爲不小於95° ，特別是不小於100°之接觸 角，以改良其防眩性質。 在此抗反射膜無防眩性能之情形，抗反射膜之霧化較 佳爲儘量低。 在此抗反射膜具防眩性能之情形，抗反射膜之霧化較 佳爲0 · 5 %至5 0 %，更佳爲1 %至4 0 %，最佳爲1 %至3 0 %。 抗_反射膜之組成 現在結合圖式敘述本發明抗反射膜之組成之實例。 第1圖爲一般地描述具有優良抗反射性能之抗反射膜 層結構之略示切面圖。 -72- 1267651 第1(a)圖所示之具體實施例具有按此次序配置透明撐 體1、硬塗層2、高折射膜3、與低折射膜（最外層）4之 層結構。透明撐體1、高折射膜3、與低折射膜4各具有滿 足以下關係之折射率。 高折射膜之折射率 > 透明撐體之折射率 > 低折射膜之折射 率 第1 (a)圖所示之層結構因在高折射膜與低折射膜各滿 足以下方程式（1)與（2)時，可如JP-A-5 9 -5040 1專利所述製 備具有較佳抗反射性能之抗反射膜，而爲有利的。 (ιηλ/4) X 0.7 < ιΜι < (ιηλ/4) X 1.3 (1) 在方程式（1)中，m表示正整數（通常爲1、2或3)，η! 表示高折射膜之折射率，及屯表示高折射膜之厚度（奈 米）。λ表示範圍爲380至680(奈米）之可見光波長。 (ηλ/4) X 0.7 < n2d2 < (ηλ/4) χ 1.3 (2) 在方程式（2)中，m表示正奇數（通常爲1)，η2表示低 折射膜之折射率，及d2表示低折射膜之厚度（奈米）。λ表 示範圍爲380至680(奈米）之可見光波長。 在此使用之名詞「滿足方程式（1)與（2)」表示在上述波 長範圍內，有滿足方程式（1)之m (正整數，通常爲1、2 或3 )及滿足方程式（2)之η (奇數，通常爲1)。其可應用 於以下方程式（3)至（8)。 第1(b)圖所示之具體實施例具有按此次序提供透明撐 體1、硬塗層2、中折射層5、高折射膜3、與低折射膜（最 外層）4之層結構。透明撐體1、硬塗層2、中折射層5、 高折射膜3、與低折射膜4各具有滿足以下關係之折射率。 -73- 1267651 高折射膜之折射率 > 中折射層之折射率 > 透明撐體之折射 率 > 低折射膜之折射率 第1(b)圖所示之層結構因在中折射膜、高折射膜與低 折射膜各滿足以下方程式（3)、（4)與（5)時，可如；IP-A-59-5 0401專利所述製備具有較佳抗反射性能之抗反射膜，而爲 有利的。 (1ιλ/4) X 0.7 < n3d3 < (1ιλ/4) X 1.3 (3) .在方程式（3)中，h表示正整數（通常爲1、2或3)，n3 表示中折射膜之折射率，及d3表示中折射膜之厚度（奈 米）。λ表示範圍爲380至680(奈米）之可見光波長。 (ίλ/4) X 0.7 < n4d4 < (ίλ/4) χ 1.3 (4) 在方程式（4)中，i表示正整數（通常爲1、2或3)，η4 表示高折射膜之折射率，及d4表示高折射膜之厚度（奈 米）。λ表示範圍爲380至680(奈米）之可見光波長。 (j λ/4) χ 0 · 7 < η 4 d 4 < (j λ/4) χ 1 · 3 (5) 在方程式（5)中，j表示正奇數（通常爲l)，n5表示低 折射膜之折射率，及d5表示低折射膜之厚度（奈米）。λ表 示範圍爲380至680(奈米）之可見光波長。 在第1 (b)圖所示之層結構中，特佳爲中折射層、高折 射膜與低折射膜各滿足以下方程式（6)、(7)與（8)。 在此，λ爲500奈米，h爲1，i爲2’及j爲1。 (1ιλ/4) χ 0· 80 < n3d3 < (ΙιλΜ) χ 1 ·00 (6) (ίλ/4) χ 0.75 < n4d4 < (ίλ/4) χ 0.95 (7) (]λ/4) χ 0.95 < n5d5 < (]λ/4) χ 1.05 (8) 在此使用之名詞「高折射率、中折射率、低折射率」 -74- 1267651 表示層彼此相對之折射率程度。在第1(a)與（b)圖中，使用 高折射膜作爲光學干涉層，而可製備具極優良抗反射細能 之抗反射膜。 亦較佳爲，硬塗層、中折射層或中折射膜包括具0.2 微米至1 0微米平均粒徑之細粒加入其中，以製備具有防眩 性能之防眩膜。 第2(a)圖所示之具體實施例具有按此次序提供透明撐 體1、防眩層（高折射膜）6、與低折射膜（最外層）4之 層結構。加入防眩層之細粒7爲具有0.2微米至10微米平 均粒徑之細粒。 第2(b)圖所示之具體實施例具有按此次序提供透明撐 體1、硬塗層2、防眩層（高折射膜）6、與低折射膜（最 外層）4之層結構。加入防眩層6之細粒7爲具有0.2微米 至1 0微米平均粒徑之細粒。 在第2(a)與（b)圖所示之具體實施例中，透明撐體1、防 眩層（高折射膜）6、與低折射膜（最外層）4各具有滿足 以下關係之折射率。 肪眩層之折射率 > 透明撐體之折射率 > 低折射膜之折射率 第2(a)與（b)圖所示之層結構因在低折射膜4滿足以下 方程式（9)時，可製備具有優良抗反射膜，而爲有利的。 (ΐα/4) X 0.7 < n6d6 < (ΐα/4) X 1.3 (9) 在方程式（9)中，k表示正奇數（通常爲1)，n6表示低 折射膜之折射率，及d6表示低折射膜之厚度（奈米）。λ表 示範圍爲380至680(奈米）之可見光波長。 在此使用之名詞「滿足方程式（9 )」表示在上述波長範 -75- 1267651 圍內，有滿足方程式（9)之k (奇數，通常爲1)。 在高折射膜具有硬塗層性質時’較佳爲使用第2(a)與（b) 圖所示之具體實施例，而可製備具有極優良物理強度（抗 刮性等）之抗反射膜。 偏光板 本發明之偏光板在偏光膜保護膜（偏光板保護膜）之 至少一側上提供本發明之抗反射膜。此偏光板保護膜較佳 爲在透明撐體之高折射膜相反側上之表面上，即，在其如 上所述與偏光膜層壓之側上，呈現相對水不大於40°之接 觸角。 藉由使用本發明之抗反射膜作爲偏光板保護膜，可製 備具有抗反射性能之偏光板，而可戲劇性地降低顯示裝置 之成本與厚度。 此外，藉由製備在偏光板保護膜之一側上提供本發明 之抗反射膜、及在偏光板保護膜之另一側上提供光學各向 異性光學補償膜之偏光板，可製備改良液晶顯示裝置之日 光對比且戲劇性地提高水平與垂直視角之偏光板。 偏光膜 至於用於本發明偏光板之偏光膜，可使用任何已知材 料。用於偏光膜之聚合物膜並未特別地限制，而且可爲由 溶於揮發性溶劑之適當熱塑性聚合物製成之膜。聚合物之 實例包括PVA、聚碳酸酯、纖維素丙烯酸酯、聚楓等。拉 伸聚合物膜之方法並未特別地限制。可使用任何已知之拉 伸方法。 偏光板保護膜 -76- 1267651 在使用本發明抗之抗反射膜作爲偏光膜保護膜（偏光 板保護膜）之情形，此抗反射膜較佳爲在透明撐體之高折 射膜相反側上之表面上，即，在其與偏光膜層壓之側上， 呈現相對水不大於40° ，更佳爲不大於30。，特別是不大 於25°之接觸角。 在此接觸角不大於40°時，可改良對主要由聚乙烯醇 組成之偏光板之黏著性。 至於透明撐體，特佳爲使用三乙醯纖維素膜。 製備本發明偏光板保護膜之方法之實例包括以下兩種 方法。 ⑴包括將上述各層（例如，高折射膜、硬塗層、最外層） 應用於皂化透明撐體一側之方法。 ⑵包括將上述各層（例如，高折射膜、硬塗層、低折射 膜、最外層）應用於透明撐體一側，然後在其與偏光 膜層壓之側上使塗層材料接受皂化之方法。 在方法（1)中，在僅透明撐體之一側皂化時，將各層應 用於透明撑體之未巷化側。在透明撐體兩側均已巷化時， 則在應用各層之前，使透明撐體在其塗覆各層之皂化表面 上接受表面處理，如電暈放電處理、輝光放電處理、及火 燄處理。 在方法（2)中，較佳爲將抗反射膜完全浸於皂化溶液 中。在此情形，抗反射膜可將具各層之側以保護膜保護而 浸於皂化溶液中，使得透明撐體在其與偏光膜層壓之側上 接受皂化。 或者，抗反射膜可在其與偏光膜層壓之側上於透明撐 -77- 1267651 體表面上塗以皂化溶液，使得透明撐體在其與偏光膜層壓 之側上接受皂化。 方法（2)因可以低成本製造偏光板保護膜而爲有利的。 偏光板保護膜需要滿足光學性質（抗反射性能、防眩 性能）、物理性質（抗刮性等）、化學抗性、防污性（抗污 性）、及耐候性（抗濕熱性、抗光性），如關於本發明之抗 反射膜所定義。 因此，偏光板保護膜在其具有高折射膜之側上較佳爲 呈現不大於0.25，更佳爲不大於0.17，特別是不大於0.15 之動磨擦係數。 此外，偏光板保護膜在其具有高折射膜之側上較佳爲 呈現不小於90° ，更佳爲不小於95° ，不小於100°之相對 水接觸角。 皂化 上述皂化係藉任何已知方法進行，例如，將透明撐體 或抗反射膜浸於鹼溶液中適當之時間。 鹼溶液較佳爲氫氧化鈉之水溶液。氫氧化鈉水溶液濃 度較佳爲0.5至3 N，特別是1至2 N。鹼溶液之溫度較佳 爲30°C至70°C，特別是40°C至60°C。 如此已浸於鹼溶液中之透明撐體或抗反射膜較佳爲以 水完全淸洗或浸於稀酸中以將鹼成分中和，使得防止鹼成 分殘留於膜中。 在進行皂化時，將透明撐體表面親水化。偏光板保護 膜結合透明撐體之親水化表面上之偏光膜。 親水化表面可用於改良透明撐體對主要由聚乙烯醇組 -78- 1267651 成之偏光膜之黏著性。 此皂化較佳爲以在透明撐體之高折射膜相反側上之表 面相對水之接觸角不大於40° ，更佳爲不大於30° ，特別 是不大於25°之方式進行。 光學補償膜 光學補償膜（阻礙膜）可改良液晶顯示器之視角。 至於光學補償膜，可使用任何已知材料。然而，爲了 提高視角之目的，可使用如美國專利2，5 8 7,3 9 6與 2,565,644、JP-A-2002-82226專利所述之光學補償片。特佳 爲具有以具碟狀（disc otic)結構單位之化合物形成之光學各 向異性層之光學補償膜，此化合物提供於透明撐體上而隨 距透明撐體之距離改變碟狀（discotic)化合物碟片表面與撐 體間之角度，如JP-A-2001-100042專利所述。換言之，具 有碟狀（discotic)結構單位之化合物可爲混合定向、彎曲定 向、扭曲定向、均勻定向、垂直定向、或其他定向，特別 是混合定向。 此角度較佳爲隨距光學各向異性層之撐體側距離增加 而增加。 在使用光學補償膜作爲偏光膜保護膜之情形，此光學 補償膜較佳爲在其與偏光膜層壓之側上皂化。此皂化較佳 爲依照上述皂化方法進行。 亦較佳爲其中透明撐體爲纖維素酯之具體實施例，其 中定向層係形成於光學補償膜與透明撐體之間之具體實施 例，其中透明撐體具有光學負向單軸性及在正交透明撐體 表面之直線方向延伸之光軸之具體實施例，具有光學雙 -79- 1267651 軸性之具體實施例，及滿足以下條件之具體實施例。 20^ {(nx + ny)/2-nz} x 400 其中nx表示在阻礙軸方向之平面內折射率（平面內折射率 最大値）；ny表示在垂直阻礙軸方向之平面內折射率；nz 表示在垂直平面方向之折射率；及d表示光學各向異性層 之厚度（毫米）。 声像顯示裝置 此抗反射膜可應用於影像顯示裝置，如液晶顯示裝置 (LCD)、電漿顯示板（PDP)、電發光顯示器（ELD)、與陰極射 線顯示裝置（CRT)。此抗反射膜以抗反射膜之透明撐體側與 影像顯示裝置之影像顯示表面相反之排列方式結合影像顯 示裝置。 第3及4圖各爲一般地描述其中本發明之抗反射膜應 用於影像顯示裝置之具體實施例之略示切面圖。 第3 (a)圖描述其中抗反射膜應用於影像顯示裝置（特 別是PDP、ELD或CRT)之較佳具體實施例。此抗反射膜 具有透明撐體（1)，其以夾在其間之黏著層（8)結合影像顯示 裝置之影像顯示表面。 第3(b)圖及第4(c)與4(d)圖各爲其中抗反射膜應用於 LCD之較佳具體實施例。在第3(b)圖中，抗反射膜之透明 撐體（1)係以夾在其間之黏著層（8)結合偏光膜之保護膜 (9)。偏光板之另一個保護膜（10)係以夾在其間之黏著層（8) 結合液晶顯不裝置之液晶顯不表面。 在第4(c)圖中，抗反射膜（偏光板保護膜）之透明撐 體（1)係以夾在其間之黏著層（8)結合偏光膜（1 1)。偏光膜之 -80- 1267651 保護fl吴（1 Ο)係以夾在其間之黏著層（8)結合液晶顯示裝置之 液晶顯示表面。在第4 (d)圖中，本發明之抗反射膜（偏光 板保護膜）具有透明撐體（1)，其直接結合偏光膜（11)。偏 光膜之保護膜（10)係以夾在其間之黏著層（8)結合液晶顯 示裝置之液晶顯示表面。黏著層（8)可包括添加劑加入其 中，如細粒與染料。 用於本發明之抗反射膜及偏光板可用於透光型、反射 型或半透光型液晶顯示裝置，如扭曲向列（TN)模式、超扭 曲向列（STN)模式、垂直對齊（VA)模式、平面內交換（IPS) 模式、及光學補償彎曲管（OCB)模式之模式。 在抗反射膜或偏光板用於透光或半透光型液晶顯示裝 置之情形，其可組合商業可得亮度增強膜（具有偏選擇層 之偏光分離膜，如Sumitomo 3M製造之D-BEF)使用，以 得到具較高可視性之顯示裝置。 此外，抗反射膜或偏光板可組合λ/4板形成用於反射型 液晶之偏光板或用於有機EL顯示器之表面保護板，如此排 除來自表面及其內部之反射光。 ㈣實施方式 實例 本發明現在在以下實例中進一步說明，但是本發明之 範圍不應視爲僅以這些實例詮釋。 實例1-1 硬塗層用塗料溶液之製備 將450.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固 體含量濃度·· 30重量％ ’NISSAN INDUSTRIES有限公司製 -81 - 1267651 造）、15.0克甲乙酮、2 20.0克環己酮、與16.0克光聚合引 發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司 製造）加入315.0克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四 醇六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米 孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備硬塗層用塗料溶 液。 二氯化鈦細粒分散液之製備 製備尙未接受表面處理（使用氫氧化鋁與氫氧化銷之 表面處理）之含鈷二氧化鈦細粒（MPT-129，ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）。 然後將38·6克之以下分散劑及704.3克環己酮加入 257.1克之上述細粒。然後使用精磨機使混合物接受分散而 製備具70奈米重量平均直徑之二氧化鈦分散液。

0==C och2ch=ch2

COOH

Mw = 40,000

中析射層用塗料溶液之製備 將58.4克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙 烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製 造）、3.1克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.1克感光劑（Kayacure DETX， NIPPON KAYAKU有限公司製造）、482.4克甲乙酮、與 1，8 6 9.8克環己酮加入8 8.9克之以上二氧化鈦分散液。然後 -82- 1267651 將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯 製造之過濾器過濾，而製備中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液之製備 將49.9克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙 烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製 造）、4.0克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.3克感光劑（Kayacure DETX， NIPPON KAYAKU有限公司製造）、455.8克甲乙酮、與 1,427.8克環己酮加入586.8克之上述二氧化鈦分散液。然 後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙 烯製造之過濾器過濾，而製備高折射層用塗料溶液。 矽烷化合物之製備 在裝有攪拌器與回流冷凝器之反應容器中，裝入161 重量份3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（KBM-5103，Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、123重量份草酸與415重量份乙 醇且混合。此混合物在70°C反應4小時，然後冷卻至室溫 而得透明矽烷化合物如可硬化組成物。如此得到之矽烷化 合物具有1，600之重量平均分子量，而且具有^00 0至 20,000分子量之成分佔寡聚物或更高成分之10〇%。此矽烷 化合物之氣相層析顯示其中未殘留原料3-丙烯氧基丙基三 甲氧基矽烷。 低折射膜用塗料溶液之製備 使具有1·42之折射率之可熱交聯含氟聚合物（Opstar JN7228;固體含量濃度：6重量％’ JSR公司製造）接受溶 劑取代，而得具有1 0重量％固體含量濃度之可熱交聯氟聚 -83- 1267651 合物之甲基異丁基酮溶液。然後將8 ·0克之矽石細粒之甲 乙酮分散液（MEK-ST，固體含量濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製造）、1.75克上述矽烷化合物、73.0 克甲基異丁基酮、與33.0克環己酮加入56.0克之上述可熱 交聯氟聚合物溶液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經 具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備低折 射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液應用於具有80微 米厚度之三乙醯纖維素膜（TD-80UF，Fuji Photo Film有限 公司製造）。塗層材料在100 °C乾燥，然後自160瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以300 毫焦耳/平方公分之劑量以具有400毫瓦/平方公分之照明 度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大 於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成具有3.5 微米厚度之硬塗層。 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用於硬塗 層。塗層材料在100 °C乾燥，然後自240瓦/公分氣冷式金 屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫焦耳/ 平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外 線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於1.0體 積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成中折射層（折射率： 1 .65 ;厚度：67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用於中 折射層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/公分氣冷 -84- 1267651 式金屬鹵化物燈（EYGR A PHI CS有限公司製造）以600毫 焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平方公分之照明度 之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於 1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成高折射層（折 射率：1.93 ;厚度：107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用於高 折射層。塗層材料在80°C乾燥，自240瓦/公分氣冷式金屬 鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫焦耳/平 方公分之劑量以具有550毫瓦/平方公分之照明度之紫外線 照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積 之氧濃度，然後在1 2〇°C加熱1 〇分鐘而形成低折射層（折 射率：1.43;厚度：86奈米）。如此製備抗反射膜。 比較例1 - A 抗反射膜之製備 以如實例1 -1之相同方式製備抗反射膜，除了使用二氧 化鈦糸田粒（TTO-55N， ISHIHARA S ANGUO KAISHA 有限公 司製造）代替實例1 -1之含鈷二氧化鈦細粒。此高折射層 具有1.93之折射率及107奈米之厚度。 窗例卜2 二氣化鈦細粒之製備 依照製備二氧化鈦細粒之已知方法及已知之摻雜法 (JP-A-5 - 3 3 08 25專利），除了以鈷取代鐵（Fe)，而製備其中 摻雜鈷之含鈷二氧化鈦細粒。 按Ti/Co計，鈷之摻雜量爲98.5/1.5 (重量比）。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結構且 -85- 1267651 具有40奈米之平均主要粒度及44平方米/克之表面積比。 抗反射膜之製備_ 以如實例1 -1之相同方式製備抗反射膜，除了使用以上 製備之二氧化鈦細粒代替實例1 -1之含鈷二氧化欽細粒。 此高折射層具有1.93之折射率及1〇7奈米之厚度。 實例1 - 3 二氬化鈦細粒之製1 依照製備二氧化鈦細粒之已知方法及已知之摻雜法 (JP-A-5-3 3 0 825專利）’除了以鋁取代鐵（Fe) ’而製備其中 摻雜鋁之含鋁二氧化鈦細粒。按Ti/A1計’鋁之摻雜量爲 97.5/2.5 (重量比）。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結構且 具有39奈米之平均主要粒度及43平方米/克之表面積比。 抗反射膜之製霞· 以如實例1 -1之相同方式製備抗反射膜’除了使用以上 製備之二氧化鈦細粒代替實例1 -1之含鈷二氧化鈦細粒。 此高折射層具有1·92之折射率及107奈米之厚度。 實例1-4 二氧化鈦細粒之製傲_ 依照製備二氧化鈦細粒之已知方法及已知之摻雜法 (JP-A- 5 - 3 3 0 8 25專利），除了以鉻取代鐵（Fe)，而製備其中 摻雜鍩之含锆二氧化鈦細粒。按Ti/Zr計’鉻之摻雜量爲 97·5/2·5 (重量比）。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結構且 具有4〇奈米之平均主要粒度及39平方米/克之表面積比。 -86- 1267651 杭反射膜之製i 以如實例1 之相同方式製備抗反射膜，除了使用以上 製備之二氧化鈦細粒代替實例1 -1之含鈷二氧化鈦細粒。 此高折射層具有1·92之折射率及107奈米之厚度。 奮例1- 5 二氬化鈦細粒之製備 依照製備二氧化鈦細粒之已知方法及已知之摻雜法 (JP-A-5-3 3 0825專利），除了以锆取代鐵（Fe)，而製備其中 摻雜鈷與鋁之含鈷/鋁二氧化鈦細粒。按Ti/Co/Al計，鈷與 鋁之摻雜量爲97.5/ 1.25/ 1.25 (重量比）。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結構且 具有40奈米之平均主要粒度及39平方米/克之表面積比。 杭反射膜之製備_ 以如實例1 _ 1之相同方式製備抗反射膜’除了使用以上 製備之二氧化鈦細粒代替實例1 -1之含鈷二氧化鈦細粒。 此高折射層具有1·92之折射率及107奈米之厚度。

比較例H 二氯化鈦細粒之製備- 以如實例1-2之相同方式製備二氧化鈦’除了無摻雜元 素。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結構且 具有39奈米之平均主要粒度及42平方米/克之表面積比。 杭反射膜之_製備__ 以如實例1-1之相同方式製備抗反射膜’除了使用以上 製備之二氧化鈦細粒代替實例1 -1之含銘二氧化欽細粒。 -87- 1267651 此高折射層具有1.93之折射率及107奈米之厚度° 抗反射膜之評估 然後評估如此製備之抗反射膜（實例1 -1至1 -5 ’比較 例1 - A與1 - B )之以下性質。結果示於表1。 (1)霧化評估 使用霧化計（NHD-1001DP，NipponDenshokuIndustries 有限公司製造0評估抗反射膜之霧化。 (2) 反射度評估 使用光譜光度測定計（V-5 50，ARV-474，JASCQ公司 製造）在3 80奈米至780奈米測量5°入射角之光譜反射 度。然後測定在450奈米至650奈米波長之平均反射度。 (3) 耐候性評估 使用氙電弧燈型抗光測試機（XF型），在63 °C溫度及 5 0 %相對濕度之大氣中，以石英濾光器傳送之光進行〇小 時、3 00小時、600小時、與900小時曝光時間之耐候性測

然後將已如此曝光之抗反射膜在25 °C溫度及60 %相對 濕度調節水分2小時。 然後在此抗反射膜之具高折射層表面上以切割刀進行 包括11條縱線與1 1條橫線之棋盤式切割，總共1 00個正 方形，然後在相同之位置接受NIITO DENK0公司製造之聚 酯膠帶（第3 1 B號）之黏附測試3次。然後觀察此抗反射 膜之剝落情況。然後依照以下之4段標準評估結果。

在1 0 0格中未觀察到剝落之格：E

在100格中觀察到2或更少格剝落：G -88- 1267651 在10 0格中觀察到3至10格剝落：F 在1 0 0格中觀察到超過1 0格剝落：p 表1

霧化 平均反射度 耐候性 (%) (%) 0小時 300小時 600小時 900小時 實例Η 0.35 0.34 E E E E 比較例1-Α 0.38 0.35 E F P P 實例1-2 0.33 0.32 E E E E 實例1·3 0.36 0.33 E E G F mm i-4 0.35 0.33 E E G F 實例1-5 0.34 0.34 E E E E 比較例1-B 034 0.34 E F P P 實例2 -1 硬塗曆用塗料溶液之製備 將45 0.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固 體含量濃度·· 30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製 造）、15.0克甲乙酮、220.0克環己酮、與16.0克光聚合引 ‘ 發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司 製造）加入315.0克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四 醇六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米 孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備硬塗層用塗料溶 液。 氣化鈦細粒分散液之製備 製備尙未接受表面處理（使用氫氧化鋁與氫氧化鉻之 •89- 1267651 表面處理）之含鈷二氧化鈦細粒（ΜΡΤ-129，ISHIHARA SANGU〇 KAISHA有限公司製造）。 然後將38.6克之以下分散劑、添加劑（丙烯酸N，N-二 甲胺基乙酯）、及701.7克環己酮加入257.1克之上述細粒。 然後使用精磨機使混合物接受分散而製備具70奈米重量 平均直徑之二氧化鈦分散液。 CH,

H2C ~C 0 0

、 li II c — 〇CH2CH2OCCH2CH^CH2CH2CH2OP(OH)2

Mw = 324 ο 虫_折射層用塗料溶液之製備 將58.4克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙 烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製 造）、3.1克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.1克感光劑（Kayacure DETX， NIPPON KAYAKU有限公司製造）、482.4克甲乙酮、與 1，869.8克環己醒加入88.9克之上述一氧化欽分散液。然後 將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯 製造之過濾器過濾，而製備中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液之製備 將49.9克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙 烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製 造）、4.0克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本Cibasophy Ciba-GeUy有限公司製造）、1.3克感光劑（Kayacure DETX， NIPPON KAYAKU有限公司製造）、455.8克甲乙酮、與 -90- 1267651 1，427.8克環己酮加入586.8克之上述二氧化鈦分散液。然 後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙 烯製造之過濾器過濾，而製備高折射層用塗料溶液。 矽烷化合物之製備 在裝有攪拌器與回流冷凝器之反應容器中，裝入161 重量份3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（KBM-5103, Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、123重量份草酸與415重量份乙 醇且混合。此混合物在70°C反應4小時，然後冷卻至室溫 而得透明矽烷化合物如可硬化組成物。如此得到之矽烷化 H 合物具有1，600之重量平均分子量，而且具有1，〇〇〇至 20,000分子量之成分佔寡聚物或更高成分之100%。此矽烷 化合物之氣相層析顯示其中未殘留原料3 -丙烯氧基丙基三 甲氧基矽烷。 低析射膜用塗料溶液夕製備 使具有1.42之折射率之可熱交聯含氟聚合物（〇pstar JN7 22 8 ;固體含量濃度：6重量％，：f SR公司製造）接受溶 劑取代，而得具有1 0重量％固體含量濃度之可熱交聯氟聚 一 合物之甲基異丁基酮溶液。然後將8 · 0克之矽石細粒之甲 乙酮分散液（MEK-ST，固體含量濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製造）、1.75克上述矽烷化合物、73.0 克甲基異丁基酮、與33.0克環己酮加入56·0克之上述可熱 交聯氟聚合物溶液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經 具0 · 4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備低折 射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 -91- 1267651 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液應用於具有80微 米厚度之三乙醯纖維素膜（TD-8 OUF，Fuji Photo Film有限 公司製造）。塗層材料在100 °C乾燥，然後自160瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以300 毫焦耳/平方公分之劑量以具有400毫瓦/平方公分之照明 度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大 於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成具有3.5 微米厚度之硬塗層。 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用於硬塗 層。塗層材料在100 °C乾燥，然後自240瓦/公分氣冷式金 屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫焦耳/ 平方公分之劑量以具有550毫瓦/平方公分之照明度之紫外 線照射’同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於丨.〇體 積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成中折射層（折射率： 1.65 ;厚度：67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用於中 折射層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/公分氣冷 式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫 焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平方公分之照明度 之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於 1 · 〇體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成高折射層（折 射率：1 .93 ;厚度：107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用於高 折射層。塗層材料在80°C乾燥，自240瓦/公分氣冷式金屬 鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫焦耳/平 -92- 1267651 方公分之劑量以具有5 50毫瓦/平方公分之照明度之紫外線 照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於1 .〇體積 之氧濃度，然後在120°C加熱10分鐘而形成低折射層（折 射率：1.43;厚度：86奈米）。如此製備抗反射膜。 比較例2-A 抗反射膜之製備 以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用二氧 化鈦糸田粒（TTO-55N，ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公 司製造）代替實例2-1之含鈷二氧化鈦細粒。此高折射層 具有1.93之折射率及107奈米之厚度。 實例2-2 抗反射膜之製備 以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用實例 1 -2製備之摻鈷二氧化鈦細粒代替實例2-1之含鈷二氧化鈦 細粒。此高折射層具有1.93之折射率及107奈米之厚度。 實例2-3 抗反射膜之製備 以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用實例 1-3製備之摻鋁二氧化鈦細粒代替實例2-1之含鈷二氧化鈦 細粒。此高折射層具有1.92之折射率及107奈米之厚度。 實例2-4 抗反射膜之製備 以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用實例 1 -4製備之摻鉻二氧化鈦細粒代替實例2-1之含鈷二氧化鈦 細粒。此高折射層具有1. 9 2之折射率及1 07奈米之厚度。 -93- 1267651 實例2-5 杭反射膜之製備 以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用實例 1-5製備之摻鈷/鋁二氧化鈦細粒代替實例2-1之含鈷二氧 化鈦細粒。此高折射層具有1.92之折射率及107奈米之厚 度。 ' 比較例2 - B 抗反射膜之製備

以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用比較 例1-B製備之二氧化鈦細粒代替實例2-1之含鈷二氧化鈦 細粒。此高折射層具有1.9 3之折射率及1 07奈米之厚度。 抗反射膜之評估 然後以如實例1之相同方式評估如此製備之抗反射膜 (實例2-1至2-5，比較例2-A與2-B)。結果示於表2。

表 2 ___

霧化 平均反射度 耐候性 (%) (%) 0小時 300小時 600小時 900小時 實例2-1 0.32 0.33 E E E E 比較例2-A 0.35 0.36 E F P P 實例2-2 0.31 0.33 E E E E 實例2-3 0.35 0.35 E E G F 實例2-4 0.34 0.34 E E G F 實例2-5 0.32 0.34 E E E E 比較例2-B 0.33 0.36 E F P P 實例3 -94- 1267651 影像顯示裝置之評估 將在實例1-1至1-5及2-1至2-5弓 射膜各連接至影像顯示裝置之顯示表頂 置。包括本發明抗反射膜之影像顯示裝 射性能，因此及極爲優良之可視性。 實例4 偏光板保護膜之製備 將氫氧化鈉之1 .5 N水溶液保持在 液。此外，製備稀硫酸之0.0 1 N水溶名 使用上述皂化溶液，使在實例1 -1 中製備之抗反射膜各在透明撐體之具淳 相反側上之表面上接受皂化。 將已皂化之透明撐體以水完全淸洗 鈉水溶液，以上述之硫酸稀釋水溶液精 以去除硫酸稀釋水溶液，然後在100°c 然後評估抗反射膜在透明撐體之具 之相反側上之皂化表面上相對水之接觸 40度。如此製備偏光板保護膜。 偏光板之製備 將具有75微米厚度之聚乙烯醇膜 司製造）浸於含1〇〇重量份水、7重量{ 化鉀之水溶液中，使得職吸附之。繼而 重量％水溶液中縱向地單軸拉伸4.4倍 而製備偏光板。 然後使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏 製備之本發明抗反 以製備影像顯示裝 置呈現優良之抗反 50°C而製備皂化溶 菱。 至1-5及2-1至2-5 :發明高折射層側之 以自其去除氫氧化 &洗，以水完全淸洗 乾燥。 本發明高折射層側 丨角。此接觸角不大 (KURARAY有限公 分碘與1〇5重量份碘 ί將此膜在硼酸之4 ，然後乾燥同時拉緊 著劑，以其皂化三 -95· 1267651 乙醯纖維素側與偏光板相反之排列方式，將本發明之抗反 射膜（偏光板保護膜）黏附於偏光板之一側。此外，使用 相同之聚乙烯醇系黏著劑，將已以上述之相同方式皂化之 三乙醯纖維素黏附於偏光板之另一側。 影像顯示裝置之評估 如此製備之具有本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA、 與OCB膜式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置呈 現優良之抗反射性能，因此及極爲優良之可視性。 實例5 偏光板之製備 使具有對透明撐體表面傾斜而配置之碟狀（discotic)結 構單位之光學各向異性光學 12B，Fuji Photo Film有限公司製造），其中碟狀（discotic) 化合物碟片與透明撐體表面間之角度隨距透明撐體之距離 而改變，在如實例4之相同條件下，在其具光學各向異性 層側之相反側接受皂化。 然後使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以其皂化三 乙醯纖維素側與偏光膜相反之排列方式，將實例4製備之 抗反射膜（偏光板保護膜）黏附於實例4製備之偏光膜之 一側。此外，使用相同之聚乙烯醇系黏著劑，以其皂化三 乙醯纖維素側與偏光膜相反之排列方式，將皂化之光學補 償膜黏附於偏光膜之另一側。 影像顯示裝置之評估__ 與具有無光學補償膜之偏光板之液晶顯示裝置相比， 如此製備之具有本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA、與 -96- 1267651 〇CB膜式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置呈現 優良之對比、非常寬之垂直與水平視角、優良之抗反射性 能、及極爲優良之可視性與顯示品質。 實例6 -1 硬塗層用塗料溶液之製備 將450.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固 體含量濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製 造）、15·0克甲乙酮、220.0克環己酮、與16.0克光聚合引 發劑（Irgacure 907，日本 CibasophyCiba-Geigy 有限公司 製造）加入315.0克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四 醇六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米 孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備硬塗層用塗料溶 液。 二氧化鈦細粒分散液之製備 將3 7.5克以下分散劑、2.5克陽離子性單體（DMAEA， K0HJIN有限公司製造）、及710克環己酮加入250克二氧 化鈦細粒（TTO-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公 司製造）。然後使用精磨機使混合物接受分散而製備具6 5 奈米重量平均直徑之二氧化鈦分散液。

〇=C COOH OCH2CH=CH2

Mw = 40,000 -97- 1267651 中折射層用塗料滚液之製備 將89.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙 烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製 造）、4.68克光聚合引發劑（irgacure 907，日本Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、ι·56克感光劑（Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU有限公司製造）、770.4克甲乙酮、 與2,9 8 3.0克環己酮加入155.2克之上述二氧化鈦分散液。 然後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚 丙烯製造之過濾器過濾，而製備中折射層用塗料溶液。 高_折射層用塗料溶液之製備 將48.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙 烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製 造）、33.5克含丙烯酸基矽烷偶合劑（KBM-5103, Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、4.03克光聚合引發劑（Irgacure 9 07，日本Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感 光劑（Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622·5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入985.7克之上述 二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具 〇·4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備高折射層 用塗料溶液。 低折射膜用塗料溶液之製備 將8.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固體 含量濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製 造）、8.0克含丙烯酸基矽烷偶合劑（KBM-5103，Shin-Etsu Chemi cal有限公司製造）、100.0克甲乙酮、與5.0克環己 -98- 1267651 酮加入93.0克之具有1.42之折射率之可熱交聯含氟聚合物 (〇pstarJN7228;固體含量濃度：6重量％，JSR公司製 造）。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具1微米孔度之 聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備低折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液應用於具有80微 米厚度之三乙醯纖維素膜（TD-80UF，FujiPhotoFilm有限 公司製造）。塗層材料在l〇〇°C乾燥，然後自160瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以300 毫焦耳/平方公分之劑量以具有400毫瓦/平方公分之照明 度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大 於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成具有3.5 微米厚度之硬塗層。 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用於硬塗 層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/公分氣冷式金 屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫焦耳/ 平方公分之劑量以具有5 50毫瓦/平方公分之照明度之紫外 線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於i .〇體 積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成中折射層（折射率： 1.63;厚度·· 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用於中 折射層。塗層材料在lOOt：乾燥，然後自240瓦/公分氣冷 式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫 焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平方公分之照明度 之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於 -99- 1267651 1 · 〇體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成高折射層（折 射率：1.90;厚度：107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用於高 折射層。塗層材料在80 °C乾燥，自240瓦/公分氣冷式金屬 鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600毫焦耳/平 方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線 照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至不大於1 ·0體積 之氧濃度，然後在12(TC加熱10分鐘而形成低折射層（折 射率：1.43;厚度：86奈米）。如此製備抗反射膜。在中折 射層與高折射層中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑 交聯及/或聚合。 抗反射膜之評估 然後評估如此製備之抗反射膜之以下性質。結果示於 表3 〇 (1) 鋼絲絨抗刮性評估 觀察在使#0000鋼絲絨以1.96牛頓/平方公分之負載在 抗反射膜表面上來回兩次時，抗反射膜之具高折射層側上 表面之刮痕。然後依照以下之4段標準評估結果。 E :未觀察到刮痕 G:觀察到一些實質上看不見之刮痕 F:觀察到絕對可見到之刮痕 P :明顯地觀察到絕對可見到之刮痕 (2) 鉛筆硬度評估

抗反射膜在25 °C溫度及60%相對濕度調節水分2小 時。然後依照：iIS K5400定義之鉛筆硬度評估法，以JIS -100- 1267651 S 6006定義之測試鉛筆評估此抗反射膜在其具高折射層表 面上之鉛筆硬度。負載爲4.9牛頓。 (3) 動磨擦係數評估 評估此抗反射膜在其具高折射層側上之動磨擦係數作 爲表面滑動性指數。爲了測量動磨擦係數，樣品在25 t溫 度及60 %相對濕度調節水分2小時。使用具有不銹鋼球體 (具5毫米直徑）之動磨擦係數測量儀（HEIDON-14)，以 0.98牛頓之負載及60公分/分鐘之速率進行測量。 (4) 化學抗性評估 將甲乙酮滴在抗反射膜之具高折射層側之表面上。然 後以淸潔之布擦拭甲乙酮。然後觀察此抗反射膜之膜剝 離。然後依照以下之2段標準評估結果。 G :無膜剝離 P:膜剝離 (5) 指紋擦拭力評估 在抗反射膜之具高折射層側上壓印指紋。然後以淸潔 之布擦拭抗反射膜之壓印指紋表面。然後觀察此抗反射 膜。然後依照以下之3段標準評估結果。 G =完全地擦拭指紋 F:部份地無法擦拭指紋 P:實質上完全無法擦拭指紋 (6) 萬能筆擦拭力評估 以油性萬能筆（ZEBRA Macky，紅色）沾染抗反射膜之 具高折射層側，然後靜置1分鐘。然後觀察此抗反射膜。 然後依照以下之3段標準評估結果。 -101- 1267651 G :完全地擦拭萬能筆 F :部份地無法擦拭萬能筆 P:實質上完全無法擦拭萬能筆 (7) 接觸角評估 抗反射膜在25 °C溫度及60 %相對濕度調節水分2小 時。然後在抗反射膜之具高折射層側上以水評估接觸角。 (8) 棋盤黏著性評估 抗反射膜在25 °C溫度及60%相對濕度調節水分2小 時。然後在此抗反射膜之具高折射層表面上以切割刀進行 包括1 1條縱線與1 1條橫線之棋盤式切割，總共1 00個正 方形，然後在相同之位置接受NIITO DENKO公司製造之聚 酯膠帶（第3 1 B號）之黏附測試3次。然後觀察此抗反射 膜之剝落情況。然後依照以下之4段標準評估結果。 E :在1 00格中未觀察到剝落之格 G :在1 00格中觀察到2或更少格剝落 F :在100格中觀察到3至10格剝落 P:在100格中觀察到超過10格剝落 (9) 抗光性評估 使用氙電弧燈型抗光測試機（XF型），在63°C溫度及 5 0 %相對濕度之大氣中，以石英濾光器傳送之光進行〇小 時、300小時、600小時、與900小時曝光時間之抗光性測 試。 然後將已如此曝光之抗反射膜在25 °C溫度及60%相對 濕度調節水分2小時。 然後在此抗反射膜之具高折射層表面上以切割刀進行 -102- 1267651 包括11條縱線與1 1條橫線之棋盤式切割，總共1 〇〇個正 方形，然後在相同之位置接受NIITO DENKO公司製造之聚 酯膠帶（第3 1 B號）之黏附測試3次。然後觀察此抗反射 膜之剝落情況。然後依照以下之4段標準評估結果。 E :在1 0 0格中未觀察到剝落之格 G:在100格中觀察到2或更少格剝落 F:在100格中觀察到3至10格剝落 P ··在1 00格中觀察到超過1 0格剝落 1267651 抗光性 100小時200小時300小時 pin (Χι (¾ PLh Ρη Ρη Ρη 〇 ϋ ϋ a ϋ ϋ Ο ϋ ϋ Ο ϋ m m m W ΡΡ m ω ω W 11 1 I I 1 ϋ ϋ 1 I I I ϋ Ra (微米） 1 I 1 1 0.06 0.06 I 1 1 1 0.07 棋盤 黏著性 W W w m ω ω ω PQ W m 接觸角 (。） g 1 Ή S S i—H i1 H g Γ··Η g Γ......< S τ < S τ—Η S τ—Η g r-H Τ 1 < 萬能筆 擦拭力 Ο ο 〇 o ϋ ο ϋ Ο Ο Ο ϋ 指紋 擦拭力 ο ο o o ο ο ϋ ο ο ο ο 化學 抗性 ο ο a o ο ο ο ο ο ϋ ϋ 動磨擦 係數 0.10 0.10 0.09 0.23 0.11 0.11 0.10 0.09 0.11 0.10 0.12 鉛筆 硬度 Ε CO cn CO m m κ m cn cn cn κ CO κ m 鋼絲絨 抗刮性 ω PQ o pq W W ϋ w ω 實例6-1 實例6-2 實例6-3 實例6-4 實例6-5 實例6-6 實例6-7 實例6-8 實例6-9 實例6-10 實例6-11

-104- 1267651 ΓΧπ Ph pin Ph Ph Pin Ρη Ρη Ο ϋ 〇 〇 ϋ ϋ 〇 ϋ o Ο ϋ Ο 〇 Ο pq w pq ω w ω ω ω ω W W ο I 1 1 t I 1 1 1 W W W I 0.06 1 1 1 1 1 1 1 1 0.13 0.13 0.12 0.12 I W w w w w m m w ω W ω S τ· Η s r—H S g r—H S r—H g t < S t—H g r—H g t—H S τ—Η S r—Η S ι~1 g r—Η g ί ι ϋ o ϋ o ϋ 〇 o 〇 ϋ ϋ Ο Ο ϋ Ο ϋ o ϋ .o O o o o ϋ ο ϋ ο ϋ ο ο o ϋ 〇 o o o o ϋ ο ο ϋ ϋ ο 0.12 0.10 0.09 0.10 0.09 i—1 r—i o 0.10 0.10 0.11 0.11 0.11 0.10 ι~1 r Η Ο 0.10 cn cn E CO cn CO cn m cn κ m κ CO cn CO Κ CO κ CO W W o ω pq W w ω ϋ w ο pq 實例642 實例643 實例6-14 實例6-15 實例6-16 實例6-17 實例6-1^ 實例6-19 實例6-20 實例6-21 實例6-22 實例6-23 實例6-24 實例6-25

-105- 1267651 P-. ο ο ω w U-i Ph o w pq PH Ph PLh 1¾ ϋ W W ω ο ϋ pq ω W o ϋ 〇 o ω W W ω w w ω W m W w w W W 1 1 1 I 1 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 1 I I 1 1 1 1 1 1 1 1 1 W W pq w pq w w pq pq ω w w w S τ—Η S τ—Η τ—i s S r—H g r—H S τ -H g τ Ή g r—H s 1 _1 S r—H s τ—H S r—H s 1~1 ϋ ϋ ϋ ϋ o ϋ 〇 o o o Ph Ph o a ο ο ο ο o ϋ 〇 o o o 〇 〇 a a ο ο ϋ ο o ο ϋ o o o Ph Oh o 〇 ι~1 r-H S ο S r-H v-H S ο g g g τ—H τ—H 〇 τ—H ο τ—Η g Ο ο • 3 § o ο ο o o ό o 〇 Ο O m cn κ CO κ cn cn E cn cn cn K cn K cn K cn ffi CM ffi csi CO K cn ω ω ω W W ω ω W pq w PLh Cln Ph CS1 ΟΟ CN1 ON CNl 安 r—i cn (Nl cn cn cn MD MD ί〇 cn v〇 < cA PQ CO u CO Q CO \6 νό νό \6 MD 孽 m 孽 m 冕 孱 S 鎰 鎰 Ι·( IK {_( IK Ι«ί {$； IK IK IK 1« J-J JJ J_j -u -u

-106- 1267651 1¾ ΙΧι PH Ph Oh Ο o 〇 Oh m m ω Ph Ph Ph ο 1 1 1 扁 1 0.06 1 1 1 1 1 m w W w W g τ—< cn S 1—< S r < g r—H g τ 1 H ϋ CU ϋ ϋ o o ο PL·, o o o o ο 〇 o o o o 0.12 0.27 0.29 0.10 0.11 0.09 CO cs PQ E cn CO K cn Ρη Ph Oh Ph Ph 0-< W [X. o w HH cn c0 cn m cn cn m cn m 鎰 鎰 鎰 鎰 鎰 鎰 ja JJ) J-Λ jjj J-Λ aj 1267651 實例6-2 低析射膜用塗料溶液之製備 將8.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固 體含量濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司 製造）、100.0克甲乙酮 '與5.0克環己酮加入93.0克之 具有1.42之折射率之可熱交聯含氟聚合物（Opstar JN7228;固體含量濃度：6重量％，JSR公司製造）。然 後將混合物攪拌。然後使混合物經具1微米孔度之聚丙 烯製造之過濾器過濾，而製備低折射層用塗料溶液。 杭反射膜之製備 使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用於實 例6-1製備之高折射層。塗層材料在80°C乾燥，然後在 1 20 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚 度：86奈米）。如此製備抗反射膜。 杭反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例 6-3 低析射膜用塗料溶液之製備 將100.0克甲乙酮與5.0克環己酮加入130.0克之具 有1.42之折射率之可熱交聯含氟聚合物（〇Psta]： JN7228;固體含量濃度：6重量％，：FSR公司製造）。然 後將混合物攪拌。然後使混合物經具1微米孔度之聚丙 烯製造之過濾器過濾，而製備低折射層用塗料溶 '液° -108 - 1267651 抗反射膜之製備_ 使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用於實 例6-1製備之高折射層。塗層材料在80°C乾燥，然後在 120°C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43 ;厚 度：88奈米）。如此製備抗反射膜。 杭反射隖之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-4 防污層用塗料溶液之製備 將 100.0 克氟系溶劑（Florinate FC-77，Sumitomo 3M 製造）加入1·〇克斥水性表面活性劑（KP801M，Shin-Etsu Chemical有限公司製造）。然後將混合物攪拌。然 後使混合物經具1微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過 濾，而製備防污層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 藉濺射法在實例6-1製備之高折射層上形成3丨02製 造之低折射層（折射率：1.47 ;厚度：84奈米）。使用 棒塗器將防污層用塗料溶液以斥水性表面活性劑之塗 覆量達到15毫克/平方米之量應用於低折射層。然後塗 層材料在1 20°C加熱6分鐘而形成防污層。如此製備抗 反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 1267651 膜。結果示於表3。 實例6 - 5 抗_反射膜之製備 依照JP-A-2000-3 29 905專利之實例所述之方法，使 實例6-1製備之抗反射膜接受壓花。如此製備具防眩性 能之抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。此外，依照以下之方法評估抗反射膜之平均表面粗 ® 度（Ra)及防眩性能。結果示於表3。 (1) 平均表面粗度（Ra)評估 平均表面粗度係使用原子力顯微鏡（SPI-3 800N AFM; Seiko Instruments Inc·製造）評估。在如此製備 之抗反射膜之具高折射層側上，測量自1 〇〇平方公分面 積隨機取樣之100.微米xlOO微米面積之粗度。然後將 在總共1 0 0個位置（1平方毫米面積）測量之平均表面 粗度値（Ra)平均。 _ (2) 防眩性能評估 將無遮光罩之暴露螢光燈（8,0〇〇cd /平方公分）之 影像反射於抗反射膜上。然後依照以下之標準評估反射 影像之模糊程度。 E:極難或無法辨識螢光燈輪廓 G:稍微可辨識螢光燈輪廓 F :螢光燈模糊地出現，但可辨識其輪廓 -110- 1267651 p:螢光燈毫不模糊地出現 實例6-6 抗反射膜之製備 依照JP-A-2000- 3 2 9 905專利之實例所述之方法，使 實例6-2製備之抗反射膜接受壓花。如此製備具防眩性 能之抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-7 高折射層用塗料溶液之製備 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（Irgacure 907，曰本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入985.7克之實 例6-1製備之二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然 後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過 濾，而製備高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備

然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於實例6-1製備之中折射層。塗層材料在1〇〇 °C乾燥， 然後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 1267651 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 50毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成局折射層（折射率·· 1.9 0 ;厚度： 107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用 於實例6 -1製備之低折射層。塗層材料在8 0 °C乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1·0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 86奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中，分散劑係藉上述以光照射.而與黏合劑交聯及/或聚 合。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-8 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將實例6 - 2製備之低折射層用 塗料溶液應用於實例6-7製備之高折射層。塗層材料在 8 0 °C乾燥，然後在1 2 〇 °C加熱1 〇分鐘而形成低折射層 (折射率·· 1 · 4 3 ;厚度：8 6奈米）。如此製備抗反射 -112- 1267651 膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-9 二氣化鈦細粒分散液之製備 將3 7.5克之用於實例6 -1之分散劑及7 1 2.5克環己 酮加入250克二氧化鈦細粒（TTO-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）。使用精磨機使混合物 接受分散而製備具65奈米重量平均直徑之二氧化鈦細 粒分散液。 中折射層用塗料溶液之製備 將8 9.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4·68克光聚合引發劑（Irgacure 907，曰本 CibasophyCiba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155.2克之上 述二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具〇·4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液之製備 將48.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPH A，NIPPON KAYAKU有限公 -113- 1267651 司製造）、33.5克含丙烯酸基矽烷偶合劑（^?4-5103, Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、4.03克光聚合引發 劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司 製造）、1.35 克感光劑（Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮 加入985 ·7克之上述二氧化鈦分散液。然後將混合物攪 拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過 濾器過濾，而製備高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6-1製備之硬塗層。塗層材料在丨⑽乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1 .6 3 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在1〇〇 °C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1 · 9 0 ;厚度：1 〇 7奈米）。 1267651 然後使用凹版塗覆器將實例6-1製備之低折射層用 塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在8 0 °C乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 86奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 ® 合。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 -1 0 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將實例6-2製備之低折射層用塗料 溶液應用於實例6-9製備之高折射層。塗層材料在80 · °C乾燥，然後在1 2 0 °C加熱1 〇分鐘而形成低折射層（折 射率：1.4 3 ;厚度·· 8 6奈米）。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 -1 1 抗反射_之製備 -115- 1267651 依照JP-A-2000- 3 29905專利之實例所述之方法’使 實例6-9製備之抗反射膜接受壓花。如此製備具防眩性 能之抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 竇例6-12 抗反射膜之製備 依照JP-A-2000-3 2 9905專利之實例所述之方法，使 實例6-1 0製備之抗反射膜接受壓花。如此製備具防眩 性能之抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射膜。結 果示於表3。 實例6 -1 3 高折射層用塗料溶液之製備 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（lrgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1,35克感光劑 (Kayacure DETX » NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1，865.0克環己酮加入985.7克之實 例6-1製備之二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然 後使混合物經具0 · 4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過 -116· 1267651 濾，而製備高折射層用塗料溶液。 抗反射臆夕製備 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於實例6-9製備之中折射層。塗層材料在l〇(TC乾燥， 然後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成高折射層（折射率：1.90;厚度： 107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用 於實例6-1製備之低折射層。塗層材料在80°C乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 86奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 合。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 月旲。結果不於表3。 實例6-14 1267651 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將實例6-2製備之低折射層用塗料 溶液應用於實例6-13製備之高折射層。塗層材料在80 °C乾燥，然後在1 20°C加熱1 0分鐘而形成低折射層（折 射率：1.43 ;厚度：86奈米）。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-15 高折射層用塗料溶液之製備 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之？昆合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、5.6克含環氧基矽烷偶合劑（KBM-5103，

Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、4.03克光聚合引發 劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司 製造）、1.35 克感光劑（Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、622.5克甲乙酮、與1，865.0克環己酮 加入9 85.7克之實例6-9製備之二氧化鈦分散液。然後 將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙 烯製造之過濾器過濾，而製備高折射層用塗料溶液。 低析射膜用塗料溶液之製備 將8.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固 體含量濃度·· 30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司 製造）、0.8克含烷基矽烷偶合劑（KBM-3103C’ Shin-Etsu 1267651

Chemical有限公司製造）、100.0克甲乙酮、與5.0克環 己酮加入93.0克之具有1.42之拆射率之可熱交聯含氟 聚合物（〇pstarJN7228;固體含量濃度：6重量％，JSR 公司製造）。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具1 微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備低折射層 用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於賓例6-9製備之中折射層。塗層材料在100 °C乾燥， 然後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 50毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成高折射層（折射率·· 1.90;厚度： 107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用 於高折射層。塗層材料在80°C乾燥，自240瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600 毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平方公分之照 明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至 不大於1.0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而 形成低折射層（折射率：1.43 ;厚度：86奈米）。如此 製備抗反射膜。在中折射層與高折射層中，分散劑係藉 上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚合。 -119- 1267651 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 -1 6 抗反射膜之製備

使用凹版塗覆器將實例6-2製備之低折射層用塗料 溶液應用於實例6-15製備之高折射層。塗層材料在80 °C乾燥，然後在120°C加熱10分鐘而形成低折射層（折 射率：1.43;厚度：86奈米）。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 -1 7 二氢化鈦細粒分散液之製備

將37.5克之以下分散劑及712.5克環己酮加入250 克二氧化鈦糸田粒（TTO-55B，ISHIHARA SANGUOKAISHA 有限公司製造）。使用精磨機使混合物接受分散而製備 具65奈米重量平均直徑之二氧化鈦細粒分散液。

0 = C COOH OCH2CH=CH2

Mw = 6, 000 Φ析射層用塗料溶液之製備 將8 9 · 5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 -120- 1267651 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）' 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高析射層用塗料溶液之製備 將48 ·8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、33.5克含丙烯酸基矽烷偶合劑（KBM-5103，

Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、4.03克光聚合引發 劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司 製造）、1.35 克感光劑（Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮 加入985.7克之上述二氧化鈦分散液。然後將混合物攪 拌。然後使混合物經具0 · 4微米孔度之聚丙烯製造之過 濾器過濾，而製備高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6 -1製備之硬塗層。塗層材料在1 〇 〇 °c乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 1267651 550毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1.63 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在1 0 0 °C乾燥，然後自2 4 0瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳./平方公分之劑量以具有550毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.90;厚度：107奈米）。 然後使用凹版塗覆器將實例6-1製備之低折射層用 塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在80°C乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 50毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 86奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 合。 杭反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 -122- 1267651 實例6 -1 8 二氧化鈦細粒分散液夕製備 將37.5克之以下分散劑及712.5克環己酮加入250 克二氧化鈦細粒（TT〇-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公司製造）。使用精磨機使混合物接受分散而製備 具65奈米重量平均直徑之二氧化鈦細粒分散液。

Η3 4/ V C — C — C _3= Η20 C 3 Η Βο 2

2 Η/ ο ο CIC — C Η2 C ιι Η 2C Η Cο

Mw = 110,000 備 製 之 液 溶 料 塗 用 層 射 折 中 將8 9.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酉旨之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4·68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高析射曆用塗料溶液之製備 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯、與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 -123- 1267651 司製造）、4·03克光聚合引發劑（lrgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 6 22.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入9 8 5.7克之以 上二氧化駄分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射腾之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6 -1製備之硬塗層。塗層材料在1 〇 〇 °C乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 50毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1 · 6 3 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 50毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1·〇體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1 · 9 0 ;厚度：1 〇 7奈米）。 然後使用凹版塗覆器將實例6-1製備之低折射層用 -124- 1267651 塗料彳谷液應用於高折射層。塗層材料在8〇 乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在12〇 °C加熱1 0分鐘而形成低折射層（折射率：1.4 3 ;厚度： 8 6奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 合。 杭反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-19 二氧化鈦細粒分散液之製備 將3 7.5克之以下分散劑及712.5克環己酮加入250 克二氧化鈦糸田粒（TT〇-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公司製造）。使用精磨機使混合物接受分散而製備

1267651 中析射曆用塗料溶液之製備 將8 9.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮 '與2,983.0克環己酮加入155.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 、 高折射層用塗料溶液之製備 將48.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之？昆合物（DPH A，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（Irgacure 907，曰本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入985.7克之上 述二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具〇 .4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備

然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6_1製備之硬塗層。塗層材料在100°C乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 1267651 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1 .6 3 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.9 0 ;厚度：1 07奈米）。 然後使用凹版塗覆器將實例6-1製備之低折射層用 塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在80 °C乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 50毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 8 6奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 合。 抗反射膜之評伏 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 -127- 1267651 膜。結果示於表3。 實例6-20 二氣化鈦細粒分散液之製備 將3 7.5克之以下分散劑及712.5克環己酮加入250 克二氧化欽糸田粒（TTO-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公司製造）。使用精磨機使混合物接受分散而製備 具6 5奈米重量平均直徑之一氧化欽細粒分散液。 c

^ ayc — c. 1 HP 80

CH Η 20 ό IIo CH oc=o 2 H 2C Hco ΗoOS-c 9

Mw = 6,000 備 製 之 液 溶 料 塗 用 層 射 折 中 將8 9.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4·68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 CibasophyCiba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高析射層用塗料溶液之製備 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇

-128- 1267651 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（Irgacure 907，曰本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1，865.0克環己酮加入985.7克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6-1製備之硬塗層。塗層材料在1〇〇°c乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1 .6 3 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.90;厚度：1〇7奈米）。 1267651 然後使用凹版塗覆器將實例6 -1製備之低折射層用 塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在8 0 °C乾燥，自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 86奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中’分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 合。 抗反射膜之詳估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 2 1 硬塗層用塗料溶液之製備 將155.0克甲乙酮與220.0克環己酮加入625.0克硬 塗層材料（DeSolite Z7526 ;固體含量濃度：72重量％， JSR公司製造）。然後將混合物攪拌。然後使混合物經 具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備硬 塗層用塗料溶液。 - 氧化鉻分散液之製備 將60.0克分散劑（ka-14)及740克環己酮加入200.0 克之具有30奈米重量平均主要粒徑之氧化鉻粉末。然 後使用精磨機使混合物接受分散而製備具40奈米重量 -130- 1267651 平均粒徑之氧化銷分散液。 防眩層用塗料滚液夕製備 將2 0.0克之具有2微米平均粒徑之交聯聚苯乙烯顆 粒（SX-200H，Soken Chemical & Engineering 有限公司 製造）加入甲乙酮與環己酮之5 4/46(重量比）混合物。 然後使用高速分散器將混合物以5,000 rpm分散而製備 交聯聚苯乙烯細粒分散液。 將104.0克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）與12.0克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）加入355.8克之以 上氧化銷分散液。然後將混合物攪拌。藉此溶液之應用 及紫外線硬化得到之塗層具有1.61之折射率。 然後將29.0克之以上製備之交聯聚苯乙烯顆粒分 散液加入此溶液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經 具30微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備防 眩層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液應用於具有 80微米厚度之三乙醯纖維素膜（TD-80UF，Fuji Photo Film有限公司製造）。塗層材料在l〇(TC乾燥，然後自 160瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以300毫焦耳/平方公分之劑量以具有400毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，造成塗層硬化， -131- 1267651 因而形成具有3.5微米厚度之硬塗層。 然後使用凹版塗覆器將防眩層用塗料溶液應用於 硬塗層。塗層材料在90 °C乾燥，然後自240瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以.600 毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 50毫瓦/平方公分之照 明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至 不大於2體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形成具有 1 7 %之霧化之防眩層。 然後使用凹版塗覆器將實例6-1製備之低折射層用 塗料溶液應用於防眩曆。塗層材料在80°C乾燥，自240 瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司 製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/ 平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容 器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在120°C 加熱1 0分鐘而形成具有96微米厚度之低折射層。如此 製備抗反射膜。在防眩層中，分散劑係藉上述以光照射 而與黏合劑交聯及/或聚合。 抗反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 2 2 抗反射隖之製備

使用凹版塗覆器將實例6-2製備之低折射層用塗料 溶液應用於實例6-21製備之防眩層。塗層材料在80°C -132- 1267651 乾燥，然後進一步在120°C加熱10分鐘而形成具有96 微米厚度之低折射層。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 2 3 ΑΤΟ分散液之製備 將4 0.0克之以下分散劑、2.7克陽離子性單體 (DMAEA，Κ0ΗΠΝ有限公司製造）、及760克環己酮加 入 200.0 克 ΑΤ〇細粒（SN-100P，ISHIHARA SANGU0 KAISHA有限公司製造）。然後使用精磨機使混合物接受 分散而製備具40奈米重量平均直徑之ΑΤΟ分散液。 CH o=c ch3 CHp-C— 20 〇ch2ch=ch2 〇=S%h2ch J(0H)i

Mw = 20,000 防眩層用塗料滚液之製備 將2 00.0克之具有3.5微米平均粒徑之交聯聚苯乙 燃顆粒（SX-350H，Soken Chemical & Engineering 有限 公司製造）加入800.0克甲乙酮。然後使用高速分散器 將混合物以10, 〇〇〇 rpm攪拌1小時而製備交聯聚苯乙烯 顆粒分散液A。 將200.0克之具有5.0微米平均粒徑之交聯聚苯乙 -133- 1267651 烯顆粒（SX-500H，Soken Chemical & Engineering 有限 公司製造）加入800.0克甲乙酮。然後使用高速分散器 將混合物以1 0,000 rpm攪拌1小時而製備交聯聚苯乙烯 顆粒分散液B。 將96.0克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、11.0克光聚合引發劑（Irgacure 184，曰本 CibasophyCiba-Geigy有限公司製造）、及19.6克含丙 燃酸基砍院偶合劑（KBM-5103，Shin-Etsu Chemical有 籲 限公司製造）加入3 5 5.0克之以上ΑΤΟ分散液。藉此溶 液之應用及紫外線硬化得到之塗層具有1.5 7之折射 率。 然後將55.0克之以上製備之交聯聚苯乙烯顆粒分 散液Α與7 2 · 3克之以上製備之交聯聚苯乙烯顆粒分散 液B加入此溶液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經 具30微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備防 眩層用塗料溶液。 _ 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液應用於具有 80微米厚度之三乙醯纖維素膜（TD-8 0UF，Fuji Photo Film有限公司製造）。塗層材料在90°C乾燥，然後自240 瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司 製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/ 平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容 -134- 1267651 器中之空氣至不大於ι·ο體積之氧濃度，造成塗層硬 化，因而形成具有4 4 · 5 %之霧化之防眩層。 然後使用凹版塗覆器將實例6 -1製備之低折射層用 塗料溶液應用於防眩層。塗層材料在80 °C乾燥，自240 瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司 製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有55 0毫瓦/ 平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容 器中之空氣至不大於1·0體積之氧濃度，然後在120 °C 加熱1 0分鐘而形成具有96微米厚度之低折射層。如此 製備抗反射膜。在防眩層中，分散劑係藉上述以光照射 而與黏合劑交聯及/或聚合。 杭反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-24 杭反射膜之製備 使用凹版塗覆器將實例6-2製備之低折射層用塗料 溶液應用於實例6-23製備之防眩層。塗層材料在80 °C 乾燥，然後進一步在120°C加熱10分鐘而形成具有96 微米厚度之低折射層。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-25 -135- 1267651 二氧...化鈦細粒分散液製備 將3 8 · 6克之用於實例6 -1之分散劑及7 04.3克環己 酮加入257.1克二氧化鈦細粒（MT-500HD，TAYCA公 司製造）。然後使用精磨機使混合物接受分散而製.備具 75奈米重量平均直徑之二氧化鈦分散液。 中折射層用塗料滚液之製備 將89.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（lrgacure 907，日本 鲁

Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入151.1克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高析射層用塗料溶液之製備 將48.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 _ 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（lrgacure 907，曰本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1，865·0克環己酮加入959.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 -136- 1267651 高折射層用塗料溶液。 矽烷化合物之製備 在裝有攪拌器與回流冷凝器之反應容器中，裝入 161重量份3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（KBM-5103， Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、123重量份草酸與 4 1 5重量份乙醇且混合。此混合物在7 0 °C反應4小時， 然後冷卻至室溫而得透明矽烷化合物如可硬化組成 物。如此得到之矽烷化合物具有1，6 0 0之重量平均分子 量，而且具有1，000至20,000分子量之成分佔寡聚物或 更高成分之1 00 %。此矽烷化合物之氣相層析顯示其中 未殘留原料3 -丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷。 低折射膜用塗料溶液之製備 使具有1.42之折射率之可熱交聯含氟聚合物 (〇pstarJN7228;固體含量濃度：6重量％，JSR公司 製造）接受溶劑取代，而得具有1 0重量％固體含量濃 度之可熱交聯氟聚合物之甲基異丁基酮溶液。然後將 8·0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固體含量 濃度·· 30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製 造）、1 · 7 5克以上矽烷化合物、7 3.0克甲基異丁基酮，、 與3 3.0克環己酮加入56.0克之上述可熱交聯氟聚合物 溶液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具1微米孔 度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備低折射層用塗料 溶液。 抗反射膜之製備 -137- 1267651 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用於實 例6 -1製備之硬塗層。塗層材料在1 〇 〇。(3乾燥，然後自 24 0瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有55〇毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層 硬化’因而形成中折射層（折射率：1 .6 3 ;厚度：6 7奈 米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在1 0 0 °C乾燥，然後自2 4 0瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1 · 9 0 ;厚度·· 1 〇 7奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用 於高折射層。塗層材料在8 0 °C乾燥，自2 4 0瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以600 毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平方公分之照 明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空氣至 不大於1 ·〇體積之氧濃度，然後在120 °C加熱10.分鐘而 形成低折射層（折射率：1.4 3 ;厚度：8 6奈米）。如此 製備抗反射膜。在中折射層與高折射層中，分散劑係藉 上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚合。 -138- 1267651 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方·式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-26 低折射膜用塗料溶液夕製fp 使具有1·42之折射率之可熱交聯含氟聚合物 (〇pstarJN7228;固體含量濃度：6重量％，JSR公司 製造）接受溶劑取代，而得具有1 0重量％固體含量濃 度之可熱交聯氟聚合物之甲基異丁基酮溶液。然後將 ® 8.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（MEK-ST，固體含量 濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製 造）、73.0克甲基異丁基酮、與33.0克環己酮加入56.0 克之以上可熱交聯氟聚合物溶液。然後將混合物攪拌。 然後使混合物經具1微米孔度之聚丙烯製造之過濾器 過濾，而製備低折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將如此製備之低折射層用塗料溶 液應用於實例6-25製備之高折射層。塗層材料在80°C 乾燥，然後在12(TC加熱10分鐘而形成低折射層（折 射率·· 1.4 3 ;厚度：8 6奈米）。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-27 -139- 1267651 一氧化駄細粒之製備 依照製備二氧化鈦細粒之已知方法及已知之摻雜 法（JP-A-5 - 3 3 0825專利），除了以鈷取代鐵（Fe)，而製 備其中摻雜鈷之含鈷二氧化鈦細粒。 按Ti/Co計，鈷之摻雜量爲100/2 (重量比）。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結 構且具有41奈米之平均主要粒度及45平方米/克之表 面積比。 二氧化欽細粒分散液之製備 然後將38.6克之用於實例6-1之分散劑及7 04.3克 環己酮加入257.1克以上顆粒。然後使用精磨機使混合 物接受分散而製備具70奈米重量平均直徑之二氧化鈦 分散液。 中折射層用塗料溶液之製備 將89.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayac訂e DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入151.1克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0 · 4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 射層用塗料溶液之製備 -140- 1267651 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA ’ NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（Irgacure 907，曰本 CibasophyCiba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1，865.0克環己酮加入959.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製傲_ 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用於實 例6-1製備之硬塗層。塗層材料在1〇〇 °C乾燥，然後自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層 硬化，因而形成中折射層（折射率：1 .6 3 ;厚度·· 6 7奈 米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在1〇〇。(3乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平 方公为之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， -141- 1267651 因而形成高折射層（折射率：1 · 9 1 ;厚度：1 ο 7奈米）。 然後使用凹版塗覆器將實例6-25製備之低折射層 用塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在8 〇它乾燥， 自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有 限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550 笔瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗 反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在 120°C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43 ;厚 度：8 6奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折 射層中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/ 或聚合。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 2 8 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將實例6-26製備之低折射層用塗 料溶液應用於實例6-27製備之高反射層。塗層材料在 8 (TC乾燥，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層 (折射率：1.4 3 ;厚度：8 6奈米）。如此製備抗反射 膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 月旲。結果不於表3。 -142- 1267651 實例6 - 2 9 二氧化鈦細粒之製備 依照製備二氧化鈦細粒之已知方法及已知之摻雜 法（JP-A-5-3 30825專利），除了以鈷取代鐵（Fe)，而製 備其中摻雜鈷之含鈷二氧化鈦細粒。 按Ti/Co計，鈷之摻雜量爲100/2 (重量比）。 如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型結晶結 構且具有41奈米之平均主要粒度及45平方米/克之表 面積比。 然後使用表面處理劑（氫氧化鋁/氫氧化鉻=6/1.5 (重量比）），以二氧化鈦/表面處理之比例達到100/3.5 (重量比）之方式使如此製備之顆粒接受表面處理。 二氧化鈦細粒分散液之製備 然後以如實例6-27之相同方式使如此製備之顆粒 接受分散而製備具70奈米重量平均直徑之二氧化鈦分 散液。 中折射層用塗料溶液之製備 將89.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX ^ NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,9 8 3.0克環己酮加入151.1克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 >143- 1267651 經具〇. 4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高析射曆用塗料溶液之製備 將48· 8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4·03克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 CibasophyCiba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622·5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入959.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0 · 4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用於實 例6 -1製備之硬塗層。塗層材料在1 〇 〇 °c乾燥，然後自 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1·〇體積之氧濃度，造成塗層 硬化，因而形成中折射層（折射率：1 · 6 4 ;厚度：6 7奈 米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在loot乾燥，然後自24 〇瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 -144- 1267651 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有55〇毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1·0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成局折射層（折射率：1 .9 0 ;厚度：1 〇 7奈米）。 然後使用凹版塗覆器將實例6 - 2 5製備之低折射層 用塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在8 〇 °c乾燥， 自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有 限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550 毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗 反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，然後在 1 2 0 °C加熱1 0分鐘而形成低折射層（折射率：1.4 3 ;厚 度：8 6奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折 射層中，分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/ 或聚合。 抗反射膜之評佑 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 I旲。結果不於表3。 實例6 - 3 0 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將實例6-26製備之低折射層用塗 料溶液應用於實例6-29製備之高反射層。塗層材料在 8 0°C乾燥，然後在120 °C加熱1〇分鐘而形成低折射層 (折射率：1.43 ;厚度：86奈米）。如此製備抗反射 膜。 -145- 1267651 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 3 1 二氧化鈦細粒分散液之製備 將3 8.6克之用於實例6-1之分散劑及7 04.3克環己 酮加入25 7.1克二氧化鈦細粒（TTO-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）。使用精磨機使混合物 接受分散而製備具70奈米重量平均直徑之二氧化鈦細 粒分散液。 中折射層用塗料溶液之製備 將58.4克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、3.1克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.1克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 482.4克甲乙酮、與1，869.8克環己酮加入85.3克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液之製備 將47.9克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPH A，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.0克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 1267651

Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.3克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 4 5 5.8克甲乙酮、與1，427·8克環己酮加入5 63.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6 -1製備之硬塗層。塗層材料在1 〇 〇 °C乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1.63;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在100°C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以60 0毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.89;厚度：1〇8奈米）。 然後使用凹版塗覆器將實例6-1製備之低折射層用 塗料溶液應用於高折射層。塗層材料在8 (TC乾燥，自 -147- 1267651 240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公 司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫 瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反 應容器中之空氣至不大於1.0體填之氧濃度，然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率：1.43;厚度： 8 6奈米）。如此製備抗反射膜。在中折射層與高折射層 中’分散劑係藉上述以光照射而與黏合劑交聯及/或聚 合。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 3 2 二氧化鈦細粒分散液之製備 以如實例6 - 3 1之相同方式製備二氧化鈦分散液，除 了以MT-5 00HD ( TAYCA公司製造）取代實例6-31之 二氧化欽細粒。 虫_折射層用塗料溶液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備中折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 高折射層用塗料溶液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備高折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 抗反射層膜之製備 以如實例6 - 3 1之相同方式製備抗反射膜。 -148 - 1267651 在中折射層與高折射層中，分散劑係藉上述以光照 射而與黏合劑交聯及/或聚合。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 3 3 二氧化鈦細粒分散液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備二氧化鈦分散液，除 了以在實例6-27中製備之二氧化鈦細粒取代實例6-3 1 之二氧化鈦細粒。 中折射層用塗料溶液之製備 以如實例6 - 3 1之相同方式製備中折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 高折射層用塗料溶液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備高折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 抗反射層膜之製備 以如實例6 - 3 1之相同方式製備抗反射膜。 在中折射層與高折射層中，分散劑係藉上述以光照 射而與黏合劑交聯及/或聚合。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-34 -149- 1267651 二氣化鈦細粒分散液之製備 以如實例6 - 3 1之相同方式製備二氧化鈦分散液，除 了以在實例6-29中製備之二氧化鈦細粒取代實例6-31 之二氧化鈦細粒。 中折射層用塗料溶液之_製備 以如實例6-3 1之相同方式製備中折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 高折射層用塗料溶液之製備 以如實例6 - 3 1之相同方式製備高折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 抗反射層膜之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備抗反射膜。 在中折射層與高折射層中，分散劑係藉上述以光照 射而與黏合劑交聯及/或聚合。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6 - 3 5 二氧化鈦細粒分散液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備二氧化鈦分散液，除 了 以含鈷二氧化鈦細粒（MPT-129，ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）取代實例6-31之二氧化鈦細 粒。MPT-129爲包括表面已接受表面處理（以氫氧化鋁 與氫氧化銷表面處理）之二氧化鈦之顆粒。 -150- 1267651 中折射層用塗料滚液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備中折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 高折射層用塗料溶液之製備 以如實例6-31之相同方式製備高折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 抗反射層膜之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備抗反射膜。

在中折射層與高折射層中，分散劑係藉以上以光照 射而與黏合劑交聯及/或聚合。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。

比較例3 - A 二氧化鈦細粒分散液之製備

將3 7.5克之以下分散劑及712.5克環己酮加入250 克二氧化鈦細粒（TT〇-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公司製造）。使用精磨機使混合物接受分散而製備 具65奈米重量平均直徑之二氧化鈦細粒分散液。 CH3 ch3 ~^〇Η2 一- C—)— 、 | / 90 ^ | / 10 0 = c、 〇 = c och2ch2ch3 χοοη2οη2οοοη

Mw = 30,000 -151 - 1267651 生折射厝用塗料溶液之製備 將89.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造>、4·68克光聚合引發劑（lrgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155·2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 愚折射層用塗料溶液之製備 將4 8.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPH A，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、33.5克含丙烯醯基矽烷偶合劑（KBM-5103， Shin-Etsu Chemical有限公司製造）、4.03克光聚合引發 劑（lrgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy 有限公司 製造）、1 .35 克感光齊ij( Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮 加入9 8 5.7克之以上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪 拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過 濾器過濾，而製備高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6-1製備之硬塗層。塗層材料在l〇〇°C乾燥，然 -152 - 1267651 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1.63 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在100 °C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 50毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.90;厚度：107奈米）。 然後以如實例6-1之相同方式在高折射膜上形成低 折射層（折射率：1.43 ;厚度：86奈米）。如此製備抗 反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 比較例3 - B 抗反射膜之製備 以如實例6-2之相同方式在比較例3-A製備之高折 射膜上形成低折射層（折射率：1.43;厚度：86奈 米）。如此製備抗反射膜。 -153- 1267651 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。

比較例3 - C 二氧化鈦細粒分散液之製| 將3 7 · 5克之以下分散劑、2.5克陽離子性單體 (DMAEA，KOHJIN有限公司製造）、及712.5克環己酮 力口入 25 0 克二氧化鈦細粒（TTO-55B，ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）。使用精磨機使混合物接受分散 而製備具65奈米重量平均直徑之二氧化鈦細粒分散 液0 ^Η3 h2c=c

〇 0 、 II II C — OCH2CH2OCCH2CH2CH2CH2CH2OP(OH)2 ο

Mw = 324 中折射層用塗料溶液之製備 將89.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 (^匕830?11乂（：“2-〇6丨£7有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPP〇N KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 -154- 1267651 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過瀘器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液之製 將4 8 · 8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異.戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入985.7克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6 -1製備之硬塗層。塗層材料在1 〇 〇 °C乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1 · 6 3 ;厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在1 〇 〇 °C乾燥，然後自2 4 0瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 -155- 1267651 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.90;厚度：107奈米）。 然後以如實例6-1之相同方式在高折射膜上形成低 折射層（折射率：1.43 ;厚度：86奈米）。如此製備抗 反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 比較例3 - D 杭反射膜之製備 以如實例6-2之相同方式在比較例3-C製備之高折 射膜上形成低折射層（折射率：1.43 ;厚度：86奈 米）。如此製備抗反射膜。 杭反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 比較例3-E 杭反射膜之製備 依照jP-A_ 2000- 3 29905專利之實例所述之方法’使 比較例3-D製備之抗反射膜接受壓花。如此製備具防眩 性能之抗反射膜。 抗反射膜之評估_ -156- 1267651 以如實例6 - 5之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。

比較例3 - F 低折射層用塗料溶液之製備 將280.0克乙醇、440.0克1-丁醇、110.0克水、與 3.0克磷酸加入180.0克單甲基三甲氧基矽烷。然後將 混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯 製造之過濾器過濾，而製備低折射層用塗料溶液。 抗反射膜之製備 使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液應用於在 比較例3-C中製備之高折射層。塗層材料在80°C乾燥， 然後在120 °C加熱10分鐘而形成低折射層（折射率： 1.46;厚度·· 86奈米）。如此製備抗反射膜。 杭反射膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。

比較例3-G 低析射層用塗料溶液之製備 使用凹版塗覆將商業可得低折射層用塗層組成物 (Cytop CTL-102AP，ASAHI GLASS 公司製造）應用於 在比較例3 - C中製備之高折射層。塗層材料在8 0 °C乾 燥，然後在1 20°C加熱1 〇分鐘而形成低折射/層（厚度： 8 6奈米）。如此製備抗反射膜。 杭反射膜之評估_ -157- 1267651 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。

比較例3-H 二氧化鈦細粒分散液之製備 將3 7 · 5克之在比較例3 - C中製備之分散劑、2 · 5克 陽離子性單體（DMAEA，KOHJIN有限公司製造）、及 7 10克環己酮加入25 0克二氧化鈦細粒（TTO-55N， ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）。然後使用 精磨機使混合物接受分散而製備具65奈米重量平均直 徑之二氧化鈦細粒分散液。 中折射層用塗料溶液之製備 將8 9.5克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.68克光聚合引發劑（Irgacure 907，曰本 CibasophyCiba-Geigy有限公司製造）、1.56克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 770.4克甲乙酮、與2,983.0克環己酮加入155.2克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液之製備 將48.8克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限公 司製造）、4.03克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 1267651

Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.35克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 622.5克甲乙酮、與1,865.0克環己酮加入985.7克之以 上二氧化鈦分散液。然後將混合物攪拌。然後使混合物 經具〇. 4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 高折射層用塗料溶液。 抗反射臈之製備 然後使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液應用 於實例6-1製備之硬塗層。塗層材料在100 °C乾燥，然 後自240瓦/公分氣冷式金屬函化物燈（EYGRAPHICS 有限公司製造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有 5 5 0毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖 洗反應谷窃中之空热至不大於1.0體積之氧濃度5造成 塗層硬化，因而形成中折射層（折射率：1.64 厚度： 67奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液應用 於中折射層。塗層材料在100 °C乾燥，然後自240瓦/ 公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以600毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1.91;厚度：107奈米）。 然後以如實例6-25之相同方式在高折射膜上形成 低折射層（折射率·· 1 .4 3 ;厚度·· 8 6奈米）。如此製備 -159- 1267651 抗反射膜。 抗反射膜之評1 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3 ° 比較例3-1 杭反射膜之製備 以如實例6-26之相同方式在比較例3-H製備之高折 射膜上形成低折射層（折射率：1·43;厚度：86奈 米）。如此製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。

比較例3 - J 二氧化鈦細粒分散液之製備 將38.6克之用於比較例1-C之分散劑、2.6克陽離 子性單體（DMAEA，ΚΟΗΠΝ有限公司製造）、及701.7 克環己酮加入257.1克二氧化鈦細粒（ΤΤ 0-5 5Ν， ISHIHARA SANGUO KAISHA有限公司製造）。使用精磨 機使混合物接受分散而製備具7 0奈米重量平均直徑之 二氧化鈦細粒分散液。 中_折射層用塗料垮液之製備 以如實例6-3 1之相同方式製備中折射層用塗料溶 液’除了使用以上之二氧化欽分散液。 高折射層用塗料溶液之製備 -160 - 1267651 以如實例6-3 1之相同方式製備高折射層用塗料溶 液，除了使用以上之二氧化鈦分散液。 抗反射層膜之製蓆 以如實例6-31之相同方式製備抗反射膜。 抗反射膜之評估 以如實例6 -1之相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果示於表3。 實例6-36 抗反射層膜之製備 以如實例6-1之相同方式製備抗反射膜，除了提供 以下具有8微米厚度之硬塗層取代實例6-1之硬塗層。 硬塗層用組成物之製備 將1，296克三羥甲基丙烷三丙烯酸酯及809克之聚 甲基丙烯酸縮水甘油酯之5 3 · 2重量％甲乙酮溶液（重量 平均分子量·· 1·5χ1 04)溶於943克甲乙酮與880克環己 酮之混合溶液。將184.48克Irgacure及24克二（六氟 磷酸第三丁基苯基鎭）加入溶液同時攪拌，將所得混合 物攬拌10分鐘。使混合物經具〇.5微米孔度之聚丙烯 製造之過濾器過濾，而製備硬塗層用塗料溶液。 硬塗層之製備_ 使用棒塗器將以上得到之塗層組成物應用於高折 射層。在80°C乾燥2分鐘後，將塗膜以5〇〇毫焦耳/平 方公分之紫外線照射，同時以氮沖洗以維持使得氧濃度 爲1.0體積或更小之大氣。如此形成具有8微米厚度之 -161 - 1267651 硬塗層。 以如實例6-1之相同方式評估如此得到之抗反射膜 之性能。結果得到如實例6 -1之相同良好結果。 實例7 - 1 皂化透明撐體之製備 製備氫氧化鈉之1 .5 N水溶液，然後保持在5 〇 °C。 製備硫酸之0 · 0 1 N稀釋水溶液。 將具有80微米厚度之三乙醯纖維素膜（丁八〇 TD 8 0UF，Fuji Photo Film有限公司製造）浸於上述氫氧 化鈉水溶液2分鐘，然後浸於水中使得完全淸除氫氧化 鈉水溶液。繼而將三乙醯纖維素膜浸於上述之硫酸稀釋 水溶液中1分鐘’浸於水中使得完全淸除硫酸稀釋水溶 液，然後在10(TC完全乾燥。 然後評估如此皂化之三乙醯纖維素膜在其表面上 相對水之接觸角。結果’在其兩個表面上此接觸角均不 大於40度。 如此製備皂化透明撐體。 偏光板保護膜之製備 使用丹麥之Vetaphone Inc·製造之電暈放電處理 機，使皂化透明撐體在其一側上接受電暈放電處理。 繼而以如實例6-1之相同方式，在皂化透明撐體之 電暈放電側上應用硬塗層、中折射層、高折射層、及低 折射層，而製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 -162- 1267651 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之偏光板保 護膜。結果示於表4。 實例7 - 2 偏光板保護膜之製備 使用丹麥之Vetaphone Inc.製造之電暈放電處理 機，使在實例7-1中製備之皂化透明撐體在其一側上接 受電暈放電處理。 繼而以如實例6-2之相同方式，在皂化透明撐體之 電暈放電側上應用硬塗層、中折射層、高折射層、及低 折射層，而製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之偏光板保 護膜。結果示於表4。 實例7-3 偏光板保護膜之製備 使用丹麥之Vetaphonelnc.製造之電暈放電處理 機，使在實例7 -1中製備之皂化透明撐體在其一側上接 受電暈放電處理。 繼而以如實例6-1 3之相同方式，在皂化透明撐體之 電暈放電側上應用硬塗層、中折射層、高折射層、及低 折射層，而製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之偏光板保 護膜。結果示於表4。 -163- 1267651 實例7-4 偏光板保蓋膜之製備 使用丹麥之Vetaph one Inc.製造之電暈放電處理 機，使在實例7 -1中製備之皂化透明撐體在其一側上接 受電暈放電處理。 繼而以如實例6 -1 4之相同方式，在皂化透明撐體之 電暈放電側上應用硬塗層、中折射層、高折射層、及低 折射層，而製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 以如實例6-1之相同方式評估如此製備之偏光板保 護膜。結果示於表4。 實例7 - 5 MJLM保護膜之製備 使用丹麥之Vetaphonelnc.製造之電暈放電處理 機’使在實例7-1中製備之皂化透明撐體在其一側上接 受電暈放電處理。 繼而以如實例6-21之相同方式，在皂化透明撐體之 電暈放電側上應用硬塗層、中折射層、高折射層、及低 折射層，而製備偏光板保護膜。 護膜之評估 以如實例6-5之相同方式評估如此製備之偏光板保 護膜。結果示於表4。

實例U mm ^ m m -164- 1267651 使用丹麥之Vetaphone Inc.製造之電暈放電處理 機’使在實例7 -1中製備之皂化透明撐體在其一側上接 受電暈放電處理。 繼而以如實例6-22之相同方式，在皂化透明撐體之 電暈放電側上應用硬塗層、中折射層、高折射層、及低 折射層’而製備偏光板保護膜。 偏光板保護臆少i平{古 以如實例6 - 5之相同方式評估如此製備之偏光板保 護膜。結果示於表4。 實例7 - 7 皂化透明撐體之製備 製備氫氧化鈉之1 .5 N水溶液，然後保持在5 0 °C。 製備硫酸之0.0 1 N稀釋水溶液。 將如實例6-1製備之抗反射膜浸於上述氫氧化鈉水 溶液2分鐘，然後浸於水中使得完全淸除氫氧化鈉水溶 液。繼而將此抗反射膜浸於上述硫酸稀釋水溶液中1分 鐘，浸於水中使得完全淸除硫酸稀釋水溶液，然後在 1 0 0 °C完全乾燥。 然後評估如此皂化之抗反射膜在透明撐體之具高 折射膜側之相反側上之表面上相對水之接觸角。結果， 此接觸角均不大於40度。如此製備皂化透明撐體。 偏光板保護膜之評_篮· 然後評估如此製備之偏光板保護膜之由於皂化造 成之膜剝離。 -165- 1267651 以如實例6-1之相同方式進一步評估偏光板保護 膜。結果示於表4。 (1)由於皂化造成之膜剝離 使1 00片抗反射膜接受皂化。然後各目視地觀察這 些抗反射膜之膜剝離情況。然後依照以下之3段標準評 估。 G:在100片中均未觀察到剝離 F :在100片中之5或更少片觀察到剝離 P :在100片中超過5片觀察到剝離 實例7 - 8 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-2中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 9 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-5中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估一 然後以如實例7 -7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜之由於皂化造成之膜剝離。然後以如實例6-5 之相同方式評估如此製備之偏光板保護膜。結果示於表 -166 - 1267651 4 〇 實例7 -1 Ο

偏光板保護膜之製I 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6- 6中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評i 然後以如實例7-9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4 ° _ 實例7 -1 1 偏光板保護臈之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 -7中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護臈之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 2 · 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-8中製備之 抗反射膜接受巷化。如此製備偏光板保護膜。 偏.光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 偏保護膜之製備 -167- 1267651 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 - 9中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 4 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-10中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 5 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-1 1中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 6 偏光板保護膜之製備__ 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 -1 2中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評佐_ -168 - 1267651 然後以如實例7-9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 7 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-1 3中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 8 偏光板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 -1 4中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 -1 9 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-15中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光_板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 2 0 -169- 1267651 偏_.光.板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 -1 6中製備之 抗 <反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏_光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 2 1 黴光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-17中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 2 2 偏光板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 -1 8中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏:光 板保護膜。結果示於表4。 實例7-23 偏光板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 -1 9中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 -170- 1267651 iiJll反保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。、 實例7 - 9. 4 偏板保護膜之製備 以如實例7_7之相同方式使如在實例6-20中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 釐光板保護膜之評佶 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 2 5 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-21中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7-26 偏光板保護膜之製備一 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-22中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評i 然後以如實例7-9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 -171- 1267651 實例7-27 偏光板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 - 2 3中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 2 8 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-24中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 2 9 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-25中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 3 0 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-26中製備之 -172- 1267651 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評佐_ 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4 ° 實例7 - 3 1 偏光板保護膜之製備_ 以如實例7-7之相同方式使如在實例6_27中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 馨 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 3 2 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-28中製備之 抗反射膜接受巷化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 · 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 3 3 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-29中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 -173- 1267651 板保護膜。結果示於表4 ° 實例7 - 3 4

偏光板保護fll之.製」I 以如實例7_7之相同方式使如在賓例6-30中製備之 .抗反射膜接受島化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評-佐- 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4 ° 實例7-3 5 偏光板保p膜之製備- 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-31中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保轉膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 4 6 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在實例6-32中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏..光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 ^ V7_ 偏保護腾之製備 -174- 1267651 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 - 3 3中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 實例7 - 3 8 偏光板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在實例6 - 3 4中製備之 抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 賨例7 - 3 9 偏光板保護膜之製備 以如實例2-7之相同方式使如在實例6-35中製備之 抗反射膜接受官化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。

比較例4 - A 偏光板保護膜之製備 以如實例7 - 7之相同方式使如在比較例3 - A中製備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 -175- 1267651 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4 ° 比較例4 - B 偏光板保護膜之 以如實例7-7之相同方式使如在比較例3-Β中製備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之霞 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4 °

比較例4-C 偏光板保護膜之製備_ 以如實例7-7之相同方式使如在比較例3-C中製備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 比較例4-D 偏光板保護膜之製備 以如實例7 -7之相同方式使如在比較例3 -D中製備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 -7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。

比較例 4 - E -176- 1267651 偏光板保譁臈之製備 以如實例7-7之相同方式使如在比較例3-E中製備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評_估 然後以如實例7-9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。

比較例4-F 偏光板保護膜之製備 以如比較例3 -D之相同方式製備抗反射膜，除了在 製備中折射層及高折射層時不進行氮沖洗。 以如實例7 - 7之相同方式使如此製備之抗反射膜接 受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。

比較例4 - G 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在比較例3-H中製備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜。 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-7之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。

比較例4-H 偏光板保護膜之製備 -177 - 1267651 以如實例7 - 7之相同方式使如在比較例3 -1中氣1備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護膜° 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7 - 9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表4。 比較例4-1 偏光板保護膜之製備 以如實例7-7之相同方式使如在比較例中_備 之抗反射膜接受皂化。如此製備偏光板保護_ ° 偏光板保護膜之評估 然後以如實例7-9之相同方式評估如此製備之丨扁％ 板保護膜。結果示於表4。

-178- 1267651 抗光性 1 小時 100 200 300 1___ 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 I I 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 11 1 1 1 1 w 1 1 Ο Ο 1 .ι 丨 iRa (微米） 1 1 I 1 0.13 0.13 1 1 0.06 0.06 1 I 棋盤 黏著性 W w w w ω ω w w PQ W 接觸角 (。） S t-H S ί s t—H S r-H S r-H (N 〇 r-H s r-H r-H 〇 τ—H O r-H ο r—Η ▼-Η r-H ο 獬闪 雛_ 〇 〇 o o o ϋ o o o Ο Ο Ο 指紋擦 拭力 1 1 i 1 1_ 〇 ϋ o a o ϋ o o o Ο ο ο 化學 抗性 i 1 〇 Ο o o o ο o o o ο ο ο 動磨擦 係數 0.10 0.09 0.10 0.09 0.11 0.11 0.13 0.12 0.13 0.13 0.12 0.11 鉛筆 !硬度 1 1 1 - 1 I m m cn cn cn cn K m m m ΓΟ κ cn 鋼絲械 1抗刮性 ί PQ W PQ o w o W ω W ο 膜剝離 1 1 1 1 1 » o o O ο Ο ο 實例7-1 實例7-2 實例7-3 實例7-4 實例7-5 實例7-6 實例7-7 實例'8 實例'9 實例7-10 實例7-11 實例7-12 -179- 1267651 1 I 1 I I I I I I ί ； 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 I 1 I 1 I 1 1 1 ! 1 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 I 1 1 1 1 1 1 1 1 ϋ ϋ 1 1 1 1 1 1 1 1 w P-l ω 1 1 0.07 0.06 1 1 1 1 1 1 1 1 0.13 0.13 0.12 1 0.12 ! 1 ω W ω W ω W ω ω w ω W W P-l ω PQ w s r—Η r— ο ^Η ο r-H <Ν Ο Τ-Η I ! 102 1_ r-H ο Η t—Η r-H Ο r-H s r-H τ—Η Ο r-H r-H r-H S r-H r—4 〇 r-H r—ί o s r-H S r—H Ο ϋ ϋ Ο ο ο Ο Ο 〇 ϋ Ο Ο o o o o ο ϋ ο ο ο α ϋ ο 〇 ϋ ο ο o o o o ο ϋ α ο ο ο ο ο 〇 ο ο α o o o o 0.13 1 0.12 0.13 ί 1 0.13 0.12 ! 1 0.12 ! 0.12 I 0.12 0.13 0.12 0.13 0.12 0.13 0.13 0.12 0.13 κ κ CO κ m m cn Ε m m m Ε m X cn m m m m m W ω w ο ω ω W ua PQ ϋ W 〇 Ο Ο Ο ο Ο ϋ ϋ ο ϋ Ο ϋ ο 〇 〇 o 〇 實例7-13 實例7-14 實例7-15 實例746 實例7-17 實例7-18 實例7-19 實例7-20 實例7-21 實例7-22 實例7-23 實例7-24 實例7-25 實例7-26 實例7-27 實例7-28

-180- 1267651 1 1 I I I 1 PL< Ph Ph PtH Pin I 1 1 1 1 I I 1 1 I 1 Ph Ah 〇 ϋ ϋ I 1 1 1 1 1 ι· 1 1 1 1 o w Ρ-1 1 1 1 1 1 1 ϊ 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 1 〇 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 I 1 1 1 1 0.06 w PQ ω PQ w PQ w w W P-1 W Ρ-) w w w w r—H O t—H Ο r-H S r-H 100 τ-Η t—H 〇 y—i r-H 1—< 102 r H s ▼—H τ 、 τ-Η ο r—H o r-H r-H 〇 r—H 〇 T*H S r—H ϋ Ο Ο ο o 〇 o o o ϋ α Ph Ph Ρμ Ph O ϋ ο ο o o o o O ' ϋ ο Ο 〇 o ϋ ϋ o ο ο ο o o o o o ϋ ο Ph Ph Ph 0.12 0.13 0.12 0.13 0.12 0.13 0.12 0.11 0.12 0-12 0.12 0.13 0.12 0.12 0.11 0.13 K cn κ ΓΠ X cn K m m m m m κ m m E (N <N m ffi ω m m W m m ω ω m P^, Ph Oh Ph 〇 ο Ο ϋ ϋ O O o O ο Ο 〇 〇 o 〇 ϋ 實例7-29 實例7-30 實例7-31 實例7-32 實例7-33 實例7-34 實例7-35 實例7-36 實例7-37 實例7_38 實例7-39 比較例4-A 比較例4-B 比較例4-C 比較例4-D 比較例4-E 1

-181 - 1267651 1 1 1 Ph 1 1 1 Ph 1 1 1 Ph 瞧 1 1 1 1 1 1 1 w w w 1 T1' i o r—H ο τ-Η s r-H 1 Ph A 1 o a ϋ 1 PM Ph 1 0.12 0.13 0.12 1 m cn ffi m 1 Ph Ph pH a 〇 o i o 孽 HH 1 鎰 Λ3 J-Λ 1267651 寳例8 偏光板保護膜之製備_ 製備氫氧化鈉之1.5 N水溶液，然後保持在3 5乞。製備硫 酸之0.01 N稀釋水溶液。 以如實例7之相同方式製備偏光板保護膜，除了適當地調 整將膜浸於氫氧化鈉水溶液中之時間，使得透明撐體在其具高 折射膜側之相反側上之表面上呈現相對水爲35度之接觸角。 饈光板保護膜之評估 然後以如實例7-7及7-9之相同方式評估如此製備之偏光 板保護膜。結果示於表5。

-183- 1267651 抗光性 小時 100 200 300 Ph Ph Ph PH PtH ϋ ϋ 〇 〇 〇 ϋ 〇 〇 〇 ϋ ϋ ο w w w PP w ω ω w ω ω 防眩 性能 1 1 1 1 m ω 1 1 〇 ϋ 1 1 Ra (微米） I 1 1 1 0.13 0.13 1 1 0.06 0.06 1 I 棋盤 黏著性 W pq w w ω w ω w ω ω 接觸角 (。） S τ—Η m o T-H s 〇 S r-H g 1—» s r-H S r-H O τ—H r-H o r-H r-H Ο r-H (Ν Ο τ-Η 嶄 濉_ Ο o ϋ o o o o o o o Ο Ο 指紋 擦拭力 ο o O ϋ o o o o o o ϋ Ο 化學 抗性 ο o O o o o o o o o ο ο 動磨擦 係數 0.09 0.10 I 0.09 0.10 0.10 0.10 0.12 an 1 0.12 | _1 ! 0.12 r-H r-H ο 0.10 鉛筆 硬度 cn m m cn cn m m cn m cn ro κ cn 鋼絲滅 抗刮性 P-1 w PQ o o W W ω W W ο 膜剝離 t 1 1 1 1 1 〇 o ϋ o Ο ο 實例8-1 實例8-2 實例8-3 實例8-4 實例8-5 實例8-6 實例8-7 1 實例8-8 實例8-9 實例8-10 實例8-11 實例8-12

-184- 1267651

pin Ρη (¾ Uh Ph P-< ϋ Ο ϋ ο Ο ο ϋ o ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ 〇 o a ω W PQ ω W w w PQ w w W w ω m w I 1 ο ο 1 1 1 1 I 1 1 1 I ㈤ w w I 1 0.07 0.06 1 I 1 1 1 1 1 1 I 0.13 0.13 1 0.12 ω W W W PQ w w w ω PQ w S r—Η S τ—Η S τ—( S 1 < S r—H r—H S r-H S r-H S 1—H r-H 〇 r-H s r-H S r—K 102 s ι—H S r-H Ο ϋ ο ο ϋ ϋ o o 〇 o o o ϋ o o 〇 Ο ο ο ο ο ϋ o o ϋ o o o ο a a a Ο ϋ ο ο ο ϋ o o o o o o ο ϋ o o 0-12 0.11 0.12 0.12 τ—( r "Η Ο r—< r-H d r-H r__ ί 〇 ι—Η r-H Ο 0.12 0.11 0.12 0.11 0.11 0.12 ! 0.12 0.11 m κ m ffi cn κ ΓΟ Κ ΓΠ m ffi m ffi CO ffi m E n ffi ffi m ffi m ffi m ffi m K cn ω W W W o ω W W ω ω PQ W 〇 ο Ο Ο ο Ο o 〇 ϋ 〇 〇 o 〇 o 〇 o o ^~ι * 寸 τ—Η 1 V < τ1 'i r- r-H 00 r—^ σ> Η * • r·· Ή <N <N (N ΓΟ (N ' 寸 (N in cs Ό <N 卜 (N 00 ΟΟ ΟΟ 孽 ΟΟ 00 00 00 ΟΟ 00 00 冕 00 ΌΌ m 00 孽 ob 00 〇〇 魏 W IK IK IK IK IK 駟; w |i( IK IK

-185- 1267651

Ph Ph PH 〇 Ο w PH o ω W PH U-i Pin ϋ 〇 ο ω ω ω 〇 〇 w w W 〇 ϋ a 〇 w w P-l m ω w w w w w pq W w PQ w w w 1 1 1 1 1 1 1 1 1 i l 1 1 1 1 0.12 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 l 1 1 w w w PQ w PQ w w w w w ω W w w s S t-H r-H o T-H S r-H s r—H S r*-H r-H r—H S r—H s S T—H S r-Ή S ▼-H S r-H s 1 r-H O H s r-H o o o ϋ 〇 o o o ϋ o 〇 o 〇 o ϋ o o o o a 〇 o :c? o O o O o 〇 o ϋ ϋ o o o a a ϋ ϋ ϋ o o o o ϋ o ο o 0.12 0.11 0.12 0.11 0.12 0.11 0.12 0.10 0-11 0.10 0.11 0.10 0.12 t—H 〇 0.11 1 _1 0.10 m cn m K m m CO K m m cn ro 3H <N (N m m 〇 ω W W W W ω W PQ ω w Ph Ph Ph Ph 〇 ϋ 〇 ϋ 〇 ϋ a o a o a ϋ 〇 〇 o 〇 實例8-28 實例8-29 實例8-30 實例8-31 實例6-32 實例6-33 實例8-34 實例8-35 實例8-36 實例8-37 實例6-38 實例8-39 比較例5-A 比較例5-B 比較例5-C 比較例5-D

-186 - 1267651 I Ρη β-< Ο I Ρη Ρη Ρη m 1 α, Ρη Ρη ο 1 I 1 1 0.06 1 I 1 1 m ω W S r-H S r-H r—1 ο r-H S r-H S Ο ο ο Ο Ο ο ο ο ο ο ο ο ο ο ο 0.12 1 0.11 0.12 0-12 m 1 κ m κ m κ m Ρη 1 Ρη Ρη Ah Ο pLi ο ο Ο 比較例5-Ε 比較例5-F 比較例5-G 比較例5-Η 比較例5-1 1267651 實例9 透明撐體之製備 將藉由混合20重量份三乙醯纖維素、48重量份乙 酸甲酯、2 0重量份環己酮、5重量份甲醇、5重量份乙 醇、2重量份磷酸三苯酯/磷酸聯苯基二苯酯（1/2)、0·1 重量份矽石（粒徑：20奈米）、及20重量份2，4-戴（正 丁硫基）-6- (4 -羥基-3,5 -二第三丁基苯胺基）-I，3,5-三畊且攪拌而得到之不均勻膠狀溶液在-7 0 °C冷卻6小 時，然後攪拌加熱至5 0 °C而製備三乙醯纖維素摻雜物 A 〇 依照JP-A-7 - 1 1 0 5 5專利使以上之三乙醯纖維素摻 雜物A接受單層筒鑄而製備具有80微米厚度之三乙酶 纖維素膜。如此製備透明撐體。 抗反射膜及偏光板保護膜-之製備及評估 依照實例6至8之測試步驟，除了使用如此製備之 透明撐體。結果與實例6至8實質上相同。 實例1 〇 诱明撐體之製備 在不銹鋼可密封容器中於1 MPa將實例9之三乙醯 纖維素摻雜物A在1 8 0 °C加熱5分鐘。然後將密封容器 置於5 0 °C水浴中而製備三乙醯纖維素摻雜物B。 然後依照JP-A-7-ll〇55專利使以上之三乙醯纖維 素摻雜物B接受單層筒鑄而製備具有4〇微米厚度之三 乙醯纖維素膜。如此製備透明撐體。 -188- 1267651 抗反射膜及偏光板保護膜之製備及評估_ 依照實例9之測試步驟，除了使用如此製備之透明 撐體。結果與實例9實質上相同。 實例1 1 偏光板之製備 將具有75微米厚度之聚乙烯醇膜（KURARAY有限 公司製造）浸於含重量份水、7重量份碘與105重 量份碘化鉀之水溶液中，使得碘吸附之。繼而將此膜在 硼酸之4重量％水溶液中縱向地單軸拉伸4.4倍，然後 乾燥同時拉緊而製備偏光板。 然後使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以其皂化 三乙醯纖維素側與偏光板相反之排列方式，將實例7 至1 〇所述之偏光板保護膜黏附於偏光板之一側。此 外，使用相同之聚乙烯醇系黏著劑，將已以如實例7-1 相同方式皂化之三乙醯纖維素黏附於偏光板之另一 側。 爲了比較，藉由適當地調整皂化時間，製備在其與 偏光板相反之側上具有相對水大於40度接觸角之偏光 板保護膜。然後以上述之相同方式處理此偏光板保護膜 而製備偏光板。 偏光板之評估及評估結果 然後各評估如此製備之偏光板之以下性質。 (1)衝穿測試 藉由使用啞鈴模將1 〇 〇片衝穿2 6英吋之大小，使 - 189- 1267651 如此製備之偏光板各接受衝穿測試。然後觀察偏光膜有 無自偏光板保護膜剝離。 (2)耐久性測試 使1 〇 〇片在衝穿測試中未觀察到剝離之偏光板在 7 〇 °C與9 3 % RH之恆溫濕及2 5 °c與9 3 % RH之恆溫濕中 交替地靜置1 2小時，總共1 〇 〇小時，以進行耐久性測 試。然後觀察測試樣品之保護膜自偏光膜剝離。 1 〇〇片由本發明之偏光板保護膜製備之偏光板，其 在其偏光膜相反側上具有相對水不大於40度之接觸 角’在衝穿測試及耐久性測試中均未觀察到偏光膜與偏 光板保護膜間之剝離。 另一方面，在1 00片在其偏光膜相反側上具有相對 水大於40度之接觸角之偏光板保護膜中，有5或更多 片在衝穿測試及耐久性測試中觀察到偏光膜與偏光板 保護膜間之剝離。 實例1 2 使具有對透明撐體表面傾斜而配置之碟狀（disc otic) 結構單位之光學各向異性光學補償膜（Wide View Film SA-12B，Fuji Photo Film有限公司製造），其中碟狀 (disc otic)化合物碟片與透明撐體表面間之角度隨距透 明撐體之距離而改變，在如實例7-7之相同條件下，在. 其具光學各向異性層側之相反側接受皂化。 然後使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以其皂化 三乙醯纖維素側與偏光膜相反之排列方式，將實例7 -190- 1267651 至1 〇製備之本發明偏光板保護膜黏附於實例6製備之 偏光膜之一側。此外，使用相同之聚乙烯醇系黏著劑， 以其皂化三乙醯纖維素側與偏光膜相反之排列方式，將 皂化之光學補償膜黏附於偏光膜之另一側。與具有無光 學補償膜之偏光板之液晶顯示裝置相比，如此製備之具 有本發明偏光板之ΤΝ、STN、IPS、VA、與OCB膜式 透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置呈現優良之 曰光對比、非常寬之垂直與水平視角、優良之抗反射性 能、及極爲優良之可視性與顯示品質。 實例1 3 硬塗層用塗料溶液之製備 將4 5 0.0克之矽石細粒之甲乙酮分散液（ME K-ST， 固體含量濃度·· 30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限 公司製造）、15.0克甲乙酮、220.0克環己酮、與16.0 克光聚合引發劑（Irgacure 9 0 7，日本Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）加入315.0克之二異戊四醇 五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙烯酸酯之混合物 (DPHA，NIPPON KAYAKU有限公司製造）。然後將混 合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米孔度之聚丙烯製 造之過濾器過濾，而製備硬塗層用塗料溶液。 二氧化鈦細粒分散液A之製備 至於二氧化鈦細粒，可使用已使用氫氧化鋁與氫氧 化锆接受表面處理之含鈷二氧化鈦細粒（Μ P T - 1 2 9， ISHIHARA SANGUO KAISHA 有限公司製造）。 1267651 然後將38.6克之以下分散劑及704.3克環己酮加入 2 5 7 · 1克細粒。然後使用精磨機使混合物接受分散而製 備具7 0奈米重量平均直徑之二氧化鈦分散液。

0=C COOH \〇CH2CH=CH2

Mw = 40,000 中析射層用塗料溶液A之製備

將5 8 · 4克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DP Η A)、3.1克光聚合引發劑 (Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba_Geigy 有限公司 製造）、1·1 克感光劑（Kayacure DETX，NIPPON KAYAK U 有限公司製造）、482.4克甲乙酮、與1，869·8克環己酮 加入8 8 · 9克之上述二氧化鈦分散液。然後將混合物攪 拌。然後使混合物經具〇 ·4微米孔度之聚丙烯製造之過 濾器過濾，而製備中折射層用塗料溶液。 高折射層用塗料溶液Α之製備 將47.9克之二異戊四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇 六丙烯酸酯之混合物（DPHA，NIPPON KAYAKU有限 公司製造）、4.0克光聚合引發劑（Irgacure 907，日本 Cibasophy Ciba-Geigy有限公司製造）、1.3克感光劑 (Kayacure DETX，NIPPON KAYAKU 有限公司製造）、 455.8克甲乙酮、與1，427.8克環己酮加入586.8克之上 -192- 1267651 述二氧化鈦分散液A。然後將混合物攪拌。然後使混合 物經具0.4微米孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製 備高折射層用塗料溶液。 矽烷化合物之製備 在裝有攪拌器與回流冷凝器之反應容器中，裝入 161重量份3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（KBM-5103， Shin-EtsuChemical有限公司製造）、123重量份草酸與 4 1 5重量份乙醇且混合。此混合物在7 0 °C反應4小時， 然後冷卻至室溫而得透明矽烷化合物如可硬化組成 物。如此得到之矽烷化合物具有1，6 0 0之重量平均分子 量，而且具有1，〇〇〇至20,000分子量之成分佔寡聚物 或更高成分之1 〇 〇 %。此矽烷化合物之氣相層析顯示其 中未殘留原料3 -丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷。 低析射膜用塗料溶液A之製備 將依照本發明之聚合物（P -1)以3 0重量％之濃度溶 於甲基異丁基酮中。然後將以固體含量計爲5重量。/〇之 量之光聚合引發劑I r g a c u r e 9 0 7(商標名）加入此溶液， 而製備低折射層用塗料溶液A。 抗反射膜1 0 1之製備 · 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液應用於具有 80微米厚度之三乙醯纖維素膜（TD-80UF，Fuji Photo Film有限公司製造）。塗層材料在loo °c乾燥，然後自 160瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限 公司製造）以300毫焦耳/平方公分之劑量以具有400 1267651 毫瓦/平方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗 反應容器中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗 層硬化，因而形成具有3.5微米厚度之硬塗層。 使用凹版塗覆器將中折射層用塗料溶液A應用於 硬塗層。塗層材料在1 0 0 °C乾燥，然後自2 4 0，.瓦/公分氣 冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以 600毫焦耳/平方公分之劑量以具有550毫瓦/平方公分 之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空 氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化，因而形 成中折射層（折射率：1 · 6 5 ;厚度：6 7奈米）。 然後使用凹版塗覆器將高折射層用塗料溶液A應 用於中折射層。塗層材料在1 0 0 °C乾燥，然後自2 4 0瓦 /公分氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製 造）以6 00毫焦耳/平方公分之劑量以具有55〇毫瓦/平 方公分之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器 中之空氣至不大於1.0體積之氧濃度，造成塗層硬化， 因而形成高折射層（折射率：1 · 9 3 ;厚度·· 1 〇 7奈米）。 然後使用凹版塗覆器將低折射層用塗料溶液A應 用於高折射層。塗層材料在80°C乾燥，自160瓦/公分 氣冷式金屬鹵化物燈（EYGRAPHICS有限公司製造）以 6〇〇毫焦耳/平方公分之劑量以具有5 5 0毫瓦/平方公分 之照明度之紫外線照射，同時以氮沖洗反應容器中之空 氣至不大於1 · 0體積之氧濃度，而形成低折射層（折射 率：1 .4 3 ;厚度·· 8 6奈米）。如此製備抗反射膜1 0 1。 -194- 1267651 抗反射膜102辛106之製備 然後以如上述抗反射膜樣品1 0 1之相同方式製備抗 反射膜1 〇 2至1 〇 6，除了（ 1 )改變用於中折射層與高折射 膜之二氧化鈦細粒，（2)用於低折射層A之依照本發明 之共聚物（P-1)各改爲P-4、P-5與P-13，及（3)以如表6 所示之以下低折射層用塗料溶液B取代低折射層用塗 料溶液A。 二氧化鈦細粒之製備 以如樣品1 02之相同方式製備具有其他元素加入其 中之經不同表面處理之二氧化鈦細粒，除了所使用二氧 化鈦細粒之製備及鈷、鋁或鉻取代鐵（Fe)之摻雜（注射） 及表面處理係依照已知方法（JP-A- 5 - 3 3 082 5專利）進 行。調整各元素之含量，使得Ti/元素之比例（重量比） 爲9 8.5 /1 . 5。如此製備之二氧化鈦細粒應具有金紅石型 結晶結構且具有40奈米之平均主要粒度、3 8奈米之表 面積比及44平方米/克之表面積比。 低折射膜用塗料溶液B之製備 使具有1 . 4 2之折射率之可熱交聯含氟聚合物 (Opstar JN7228;固體含量濃度·· 6重量％，JSR公司 製造）接受溶劑取代，而得具有1 〇重量％固體含量濃 度之可熱交聯氟聚合物之甲基異丁基酮溶液。然後將 8 . 〇克之矽石細粒之甲乙酮分散液（Μ E K- S T，固體含量 濃度：30重量％，NISSAN INDUSTRIES有限公司製 造）、1.75克上述矽烷化合物、73.0克甲基異丁基酮、 -195- 1267651 與3 3.0克環己酮加入5 6.0克之上述可熱交聯氟聚合物 溶液。然後將混合物攪拌。然後使混合物經具0.4微米 孔度之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備低折射層用塗 料溶液。

-196 - 1267651 g τ—Η 4§ 壊 本發明 r-H 戡 = 比較 名 τ-Η 本發明 r-H A(P-l) 本發明 Ο r-H = A(P-13) 本發明 S r-H = A(P-5) 本發明 S i—H A (P-4) 本發明 r-H o 氫氧化鋁與 氫氧化锆 A(P-1) 本發明 樣品號碼 _ ·长 11 表面處理 低折射層 v〇 f < 1( 壊 壊 - 比較 r—Η 壊 = 比較 寸 ^-Η Τ' Η = 比較 cn r-H 't-η •一 比較 (Ν r-H r-H 氫氧化鋁與 氫氧化銷 PQ 比較 τ—^ r-H τ—H 壊 - 比較 〇 t-H = 餾 件 /^s r—Η g §s 壊 士 件 *N m mi 1 剧 m m 昭 祕账 胆 11呍

197- 1267651 抗反射膜之評估 然後評估如此製備之抗反射膜之以下性質。結果示於 表8 〇 (1) 霧化評估 使用霧化計（NHD-1001DP’ Nippon Denshoku Industries 有限公司製造）評估抗反射膜之霧化。 (2) 反射度評估 使用光譜光度測定計（V- 5 5 0 ’ ARV-474，JASCO公司 製造）在380奈米至780奈米測量5°入射角之光譜反射 度。然後測定在450奈米至650奈米波長之平均反射度。 (3) 耐候性評估 使用經硼矽酸鹽玻璃濾光器及石英濾光器調整用於室 外平均日照之氙電弧燈型抗光測試機（XF型），在6 3 °C溫 度及50 %相對濕度之大氣中，在照射表面上以80 k lux之照 明度進行〇小時、3 0 小時、6 0 0小時、與9 0 0小時曝光時 間之耐候性測試。 然後將已如此曝光之抗反射膜在25 °C溫度及60%相對 濕度調節水分2小時。 此抗反射膜然後在其具有高折射層之表面上以切割刀 進行包括1 1條縱線與1 1條橫線之棋盤式切割，總共1 〇 〇 個正方形，然後在相同之位置接受NIITO DENKO公司製造 之聚酯膠帶（第3 1 B號）之黏附測試3次。然後觀察此抗 反射膜之剝落情況。然後依照以下之4段標準評估。 E :在1 0 0格中未觀察到剝落之格 G :在1 0 0格中觀察到2或更少格剝落 -198- 1267651 ^在1 ο 0格中觀察到3至1 0格剝落 Ρ :在1 0 0格中觀察到超過1 0格剝落 表8 樣品號碼 霧化 平均反射度 耐候性 (%) (%) 0小時 300小時 600小時 900小時 101 0.34 0.34 Ε Ε Ε Ε 102 0.34 0.35 Ε F Ε Ε 103 0.34 0.35 Ε Ε Ε Ε 104 0.34 0.34 Ε Ε Ε Ε 105 0.34 0.35 Ε Ε Ε G 106 0.34 0.34 Ε Ε Ε G 107 0.35 0.35 Ε G Ρ Ρ 108 0.34 0.34 Ε Ε Ε G 109 0.34 0.34 Ε Ε G G 110 0.34 0.34 Ε Ε G G 111 0.34 0.34 Ε F Ρ Ρ 112 0.35 0.34 Ε G Ρ Ρ 113 0.35 0.34 Ε F Ρ Ρ 114 0.35 0.34 Ε F Ρ Ρ 115 0.34 0.34 Ε F Ρ Ρ 116 0.35 0.33 Ε Ρ Ρ Ρ

在表7中可見到，使用具有依照本發明之二氧化鈦細 粒加入高折射層中及依照本發明之含氟共聚物加入低折射 層中之抗反射膜，可實現優良之耐候性及抗反射性能。亦 可見到，已接受表面處理之含鈷二氧化鈦細粒呈現優良之 耐候性。 -199- 1267651 在以如樣品1 ο 1至1 1 6之相同方式（除了樣品1 〇 i至 1 1 6之硬塗層改成用於實例6至3 6之硬塗層）製備之樣品 中，得到如在樣品1 〇 1至1 1 6得到之相同.效果。 實例1 4 影像顯示裝置之評估 如此製備之具本發明抗反射膜之影像顯示裝置呈現優 良之抗反射性能及極爲優良之可視性。 實例15 偏光板保護膜之製備 · 將氫氧化鈉之1 · 5 N水溶液保持在5 0 °C而製備皂化溶 液。此外，製備稀硫酸之〇. 〇 1 N水溶液。 將在實例1 3 (樣品第1 Ο 1至1 1 6號）中製備之抗反射 膜浸於以上之氫氧化鈉水溶液2分鐘，然後浸於水中使得 完全淸除氫氧化鈉水溶液。繼而將此抗反射膜浸於上述硫 酸稀釋水溶液中1分鐘，浸於水中使得完全淸除硫酸稀釋 水溶液，然後在1 〇 0 °C完全乾燥。 然後評估如此皂化之抗反射膜在透明撐體之具高折射 籲 膜側之相反側上之表面上相對水之接觸角。結果，此接觸 角均不大於40度。如此製備皂化透明撐體。 偏光板之製備 將具有75微米厚度之聚乙烯醇膜（KURARAY有限公 司製造）浸於含1 0 0重量份水、7重量份碘與1 0 5重量份 碘化鉀之水溶液中，使得碘吸附之。繼而將此膜在硼酸之4 重量％水溶液中縱向地單軸拉伸4 · 4倍，然後乾燥同時拉緊 而製備偏光板。 -200- 1267651 然後使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以其皂化三 乙醯纖維素側與偏光板相反之排列方式，將本發明之抗反 射膜（偏光板保護膜）黏附於偏光板之一側。此外，使用 相同之聚乙烯醇系黏著劑，將已以上述之相同方式皂化之 二乙酸纖維素黏附於偏光板之另一側。 影像顯示裝置之評估 如此製備之具有本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA、 與0 C B膜式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置呈 現優良之抗反射性能，因此及極爲優良之可視性。這些效 果在VA模式特別明顯。 實例1 6 偏光板之製備 使具有對透明撐體表面傾斜而配置之碟狀（discotic)結 構單位之光學各向異性光學 12B，Fuji Photo Film有限公司製造），其中碟狀（discotic) 化合物碟片與透明撐體表面間之角度隨距透明撐體之距離 而改變，在如實例1 5之相同條件下，在其具光學各向異性 層側之相反側接受皂化。 然後使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以其皂化三 乙醯纖維素側與偏光膜相反之排列方式，將實例1 5製備之 抗反射膜（偏光板保護膜）黏附於實例1 5製備之偏光膜之 一側。此外，使用相同之聚乙烯醇系黏著劑，以其皂化三 乙醯纖維素側與偏光膜相反之排列方式，將皂化之光學補 償膜黏附於偏光膜之另一側。 影像顯示裝置之評估 -201 - 1267651 與具有無光學補償膜之偏光板之液晶顯示裝置相比， 如此製備之具有本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA、與 OCB膜式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置呈現 優良之對比、非常寬之垂直與水平視角、優良之抗反射性 能、及極爲優良之可視性與顯示品質。 這些效果在VA模式特別明顯。 本發明之優點

藉由製備含無機細粒（其包括含至少一種選自鈷、鋁 與锆之元素之二氧化鈦作爲主要成分）之高折射膜，可以 低成本大量提供耐候性（特別是抗光性）優良之抗反射膜。 藉由製備具有本發明組成（其藉塗覆法由在此詳述之 分散劑、黏合劑及無機細粒製成）之高折射層，可以低成 本大量提供物理強度（抗刮性等）、化學抗性及耐候性（抗 濕熱性、抗光性）優良之抗反射膜及偏光板保護膜。此外， 因而提供具有上述特徵之偏光板及影像顯示裝置。 (石）圖式簡單說明

第1(a)與（b)圖各爲一般地描述抗反射性能優良之抗反 射膜層結構之略示切面圖。 第2(a)與（b)圖各爲一般地描述進一步具有防眩性質之 抗反射膜層結構之略示切面圖。 第3(a)與（b)圖各爲一般地描述抗反射膜與偏光板保護 膜對液晶顯示裝置之應用具體實施例之略示切面圖。 第4(c)與（d)圖各爲一般地描述抗反射膜與偏光板保護 膜對液晶顯示裝置之應用具體實施例之略示切面圖。 -202- 1267651 主要部分之參考號碼及符號說明 1 透明撐體 ， 2 硬塗層 3 高折射膜 4 低折射膜（最外層） 5 中折射層 6 防眩層 7 具有1.40至1.80之折射率及0.5至10微米之平均粒徑 之顆粒 8 黏著層 9 偏光板保護膜 1 〇偏光板保護膜 1 1偏光板

Claims (1)

1267651 拾、申請專利範圍： 1. 一種具有特定折射率之高折射膜，其包括具有1至200 奈米之平均粒徑，含二氧化鈦作爲主要成分之無機細 粒。 2. 如申請專利範圍第1項之高折射膜，其中該二氧化鈦含 至少一種選自鈷、鋁與誥之元素。 3. 如申請專利範圍第2項之高折射膜，其中各元素係以基 於鈦重量計爲0.05至30重量％之量含於其中。

4. 如申請專利範圍第2項之高折射膜，其中該元素係存在 於無機細粒內部。 5. 如申請專利範圍第2項之高折射膜，其中該元素爲鈷。 6. 如申請專利範圍第1項之高折射膜，其中該無機細粒具 有10至400平方米/克之表面積比。 7·如申請專利範圍第丨項之高折射膜，其中該無機細粒塗 有至少一種選自無機化合物、有機金屬化合物、與有機 化合物之化合物，其降低或排除光催化活性。

8·如申請專利範圍第7項之高折射膜，其中降低或排除光 催化活性之該無機化合物含至少一種選自鈷、鋁與鍩之 元素。 9·如申請專利範圍第7項之高折射膜，其中降低或排除光 催化活性之該化合物爲以下通式⑴表示之化合物及其衍 生物 (RUUOR2)、 (!) 其中R1表示經取代或未取代烷基或芳基，R2表示經取代 或未取代烷基或醯基，m表示〇或1至3之整數，及η - 204 - 1267651 表示1至4之整數，其條件爲m與η之和爲4。 Μ如申請專利範圍第1項之高折射膜，其進一步包括有機 化合物黏合劑。 U·如申請專利範圍第1項之高折射膜，其中該無機細粒係 以分散劑分散。 12·如申請專利範圍第11項之高折射膜，其中該分散劑具有 陰離子基。 13·如申請專利範圍第u項之高折射膜，其中該分散劑進一 步具有可交聯或可聚合官能基。 14.如申請專利範圍第1 3項之高折射膜，其中該分散劑在其 側鏈具有可交聯或可聚合官能基。 15·如申請專利範圍第1 3項之高折射膜，其中該分散劑具有 不低於1，000之重量平均分子量。 16. —種形成具有1.55至2.40之折射率之高折射膜之塗層組 成物，其包括含二氧化鈦之無機細粒作爲主要成分，其 含至少一種選自鈷、鋁與銷之元素。 17. 如申請專利範圍第1 6項之塗層組成物，其中該無機細粒 塗有至少一種選自無機化合物、有機金屬化合物、與有 機化合物之化合物，其降低或排除光催化活性。 18. —種抗反射膜，其包括透明撐體及形成於其上之如申請 專利範圍第1項之高折射膜。 19. 一種抗反射膜，其包括透明撐體及至少一層形成於其上 之高折射層與低折射層，其中該高折射層爲具有1 .5 5至 2.40之折射率，包括含二氧化鈦作爲主要成分及至少一 種選自鈷、鋁與鉻之元素之無機細粒之層，及該低折射 1267651 層爲包括作爲主要成分之共聚物之硬化膜之層， 物包括衍生自含氟乙烯基單體之重複單位及在其 有（甲基）丙烯醯基之重複單位。 20.如申請專利範圍第1 9項之抗反射膜，其中該共丨 下通式（III)之共聚物 —(CF2~CF-^hr·十—(Α·Η-CF3 〇 II • 0—(LhirCC=CH2 X 其中L表不CrCio連接基，m表不0或1，X衰 子或甲基，A表示完全衍生自乙烯基單體之重複 而且可由單一成分或多種成分組成，及X、y與 各組分之莫耳％且表示滿足以下關係之値：3 0 $ 5SyS70 及 0SzS65。 21. 如申請專利範圍第1 9項之抗反射膜，其中該無卷 有至少一種選自無機化合物、有機金屬化合物、 化合物之化合物’其降低或排除光催化活性。 22. 如申請專利範圍第2 1項之抗反射膜，其中降低写 催化活性之該無機化合物含至少一種選自鈷、銘 元素。 23. 如申5F3專利範圍桌2 1項之抗反射膜，其中降低 催化活性之該化合物爲以下通式⑴表示之化合 生物 (Ri)m-SU〇R2)n (I) 此共聚 側鏈具 :物爲以 (III) I示氫原 單位， z各表示 X $ 6 0、 I細粒塗 與有機 泛排除光 與銷之 B排除光 ]及其衍 > 206 - 1267651 其中R1表示經取代或未取代烷基或芳基，R2表示經取代 或未取代院基或醯基，m表示0或1至3之整數，及η 表示1至4之整數，其條件爲㈤與^之和爲4。 24· 一種製備如申請專利範圍第1 8項之抗反射膜之方法。 25. 一種偏光板保護膜，其包括如申請專利範圍第1 8項之抗 反射膜’其中在透明撐體之具該高折射膜側之相反側上 之表面上相對水之接觸角不大於40度。 26 —種製造如申請專利範圍第25項之偏光板保護膜之方 法。 27· —種偏光板’其包括偏光膜及兩片使該偏光膜插入其間 之保護膜’其中使用如申請專利範圍第1 8項之抗反射膜 作爲兩片保護膜至少之一。 28· —種偏光板’其包括偏光膜及兩片使該偏光膜插入其間 之保護膜’其中使用如申請專利範圍第1 8項之抗反射膜 作爲兩片保護膜至少之一，及使用具有光學異構性之光 學補償膜作爲另一片。 29·如申請專利範圍第2 8項之偏光板，其中該光學補償膜具 有供於透明撐體表面上之光學異構層，該光學異構層 具有具碟狀（discotic)結構單位之化合物，該碟狀 (discotic)結構單位碟片表面對透明撐體表面傾斜，而且 該碟狀（discotic)結構單位碟片表面與透明撐體表面間之 角度隨距透明撐體之距離而改變。 30. —種影像顯示裝置，其具有如申請專利範圍第1 8項之抗 反射膜或如申請專利範圍第27或28項之偏光板配置於 其影像顯示表面上。 -207 -