TWI251685B - Continuous processing device and continuous processing method - Google Patents

Description

1251685 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種對於被處理體的處理對象面連續地 施以任意複數種類的處理所用的連續處理裝置及連續處理 方法者。 【先前技術】

作爲被處理體，例舉如使用於液晶顯示體的原料玻璃 板。該玻璃板是隨著液晶顯示體的大型化而急速地變大型 。爲了對於大型玻璃板進行各種加工處理，成爲需要大型 加工處理或工廠。 習知的此種液晶顯示體的製造裝置，是對於液晶面板 的端子部分，藉由一面供給混合氣體一面形成電漿，使用 於選擇性地除去端子部分的配向膜或是絕緣膜。

【發明內容】 本發明的連續處理裝置，屬於對於被處理體的處理對 象面連續地施以複數種類的處理所用的連續處理裝置，其 特徵爲具備：保持上述被處理體而沿著搬運方向搬運上述 被處理體所用的被處理體搬運部，及沿著上述被處理體的 上述搬運方向並排地排列，且對於上述被處理體的上述處 理對象面以大氣壓或大氣壓附近的壓力下依次施以各不相 同的處理所用的複數種類的處理單元；上述複數種類的處 理單元的種類，是自由地變更及追加組合。 -5- (2) 1251685 依照此種構成，被處理體搬運部是保持被處理體而沿 著搬運方向可搬運被處理體。 複數種類的處理單元，是沿著被處理體的搬運方向並 排地排列。複數種類的處理單元，是對於被處理體以大氣 壓或大氣壓附近的壓力下依次施以各不相同的處理。該複 數種類的處理單元的種類，是成爲自由地變更及追加組合 。這時候，被處理體的處理對象面是向下狀態或向下狀態 均可以。 由此，複數種類處理單元的種類組合可加以變更或追 加之故，因而在對於被處理體的處理對象面進行複數種類 的處理時，可變更或追加所需要的複數種類處理的組合。 因此連續處理裝置是按照被處理體的種類可簡單且確實地 變更連續處理的方式。 在上述構成中，上述被處理體搬運部是具備：裝卸自 如地吸附與上述被處理體的上述處理對象面相反側的保持 對象面並予以保持的吸附部，及將上述吸附部朝上述搬運 方向引導的引導構件，及將上述吸附部沿著上述引導構件 移動的驅動部爲特徵較理想。 依照此種構成，吸附部是裝卸自如地吸附被處理體的 處理對象面相反側的保持對象面並予以保持。引導構件是 成爲將吸附部朝搬運方向引導。驅動部是具有將吸附部沿 著引導構件移動的功能。 由此，被處理體是一面藉由吸附部被吸附一面藉由驅 動部沿著引導構件朝搬運方向可確實地移動。 -6- (3) 1251685 在上述構成中，上述被處理體搬運部是以朝下方狀態 搬運上述被處理體的上述處理對象面；上述複數種類的處 理單元是對於上述被處理體的上述處理對象面朝上方進行 處理動作爲其特徵較理想。 依照此種構成，複數種類的處理單元是對於被處理體 的處理對象面朝上方進行處理動作。 由此，若在對於處理對象面的處理中使用液劑的情形 ，過多的液劑也可利用重力作用而可從處理對象面掉落。 由這些事情，可減少殘留的過多處理用的液體量之故，因 而液體不會對於後續進行的處理有不好影響。 又，可減少粒子附著在處理對象面。而且藉由毛細管 現象的縫隙塗敷，而在處理對象面進行液劑處理。 在上述構成中，上述複數種類的處理單元是包括洗淨 處理單元，乾燥處理單元，表面改質處理單元，液劑塗布 處理單元，退火處理單元爲其特徵較理想。 依照此種構成，被處理體的處理對象面是可進行洗淨 、乾燥、表面改質、液劑塗布及退火處理。 在上述構成中，上述被處理體是顯示裝置的基板爲其 特徵較理想。 依照此種構成，上述被處理體是顯示裝置的基板。對 於該顯示裝置的基板處理對象面，連續地施以複數種類的 處理。 本發明的連續處理方法，屬於對於被處理體的處理對 象面連續地施以複數種類的處理所用的連續處理方法，其 (4) (4)1251685 特徵爲：保持上述被處理體而沿著搬運方向一面搬運上述 被處理體，一面使用沿著上述被處理體的上述搬運方向並 排地排列複數種類的處理單元，對於上述被處理體的上述 處理對象面以大氣壓或大氣壓附近的壓力下依次施以各不 相同的處理之際，按照上述被處理的種類自由地變更及追 加上述複數種類的處理單元的種類的組合。 依照此種構成，被處理體搬運部是保持被處理體而沿 著搬運方向可搬運被處理體。 複數種類的處理單元，是沿著被處理體的搬運方向並 排地排列。複數種類的處理單元，是對於被處理體以大氣 壓或大氣壓附近的壓力下依次施以各不相同的處理。該複 數種類的處理單元的種類，是成爲自由地變更及追加組合 。這時候，被處理體的處理對象面是向下狀態或向下狀態 均可以。 由此，複數種類處理單元的種類組合可加以變更或追 加之故，因而在對於被處理體的處理對象面進行複數種類 的處理時，可變更或追加所需要的複數種類處理的組合。 因此連續處理裝置是按照被處理體的種類可簡單且確實地 變更連續處理的方式。 在上述構成中，上述被處理體搬運部是以朝下方狀態 搬運上述被處理體的上述處理對象面；上述複數種類的處 理單元是對於上述被處理體的上述處理對象面朝上方進行 處理動作爲其特徵較理想。 依照此種構成，複數種類的處理單元是對於被處理體 -8- (5) 1251685 的處理對象面朝上方進行處理動作。 由此，若在對於處理對象面的處理中使用液劑的情形 ’過多的液劑也可利用重力作用而可從處理對象面掉落。 由這些事情，可減少殘留的過多處理用的液體量之故，因 而液體不會對於後續進行的處理有不好影響。 又’可減少粒子附著在處理對象面。而且藉由毛細管 現象的縫隙塗敷，而在處理對象面進行液劑處理。 在上述構成中，上述複數種類的處理單元是包括洗淨 處理單元，乾燥處理單元，表面改質處理單元，液劑塗布 處理單元，退火處理單元爲其特徵較理想。 依照此種構成，被處理體的處理對象面是可進行洗淨 、乾燥、表面改質、液劑塗布及退火處理。 【實施方式】 以下，依據圖式說明本發明的適當實施形態。 第1圖是表示本發明的連續處理裝置的較理想實施形 態。 表示於第1圖的連續處理裝置10是具有被處理體搬運 部20及處理單元群25。 連續處理裝置10是對於被處理體14的處理對象面17連 續地施以任意組合的複數種類的處理所用的裝置。 首先說明連續處理裝置10的被處理體搬運部20。 表示於第1圖的被處理體搬運部20是一面吸附處理單 元14的保持對象面40—面沿著搬運方向T進行搬運所用的 -9- (6) 1251685 裝置。 被處理體搬運部20是具有吸附部30、支架31、真空發 生部3 3、驅動部3 5以及引導構件3 8。 吸附部30是用於可裝卸地吸附被處理體1 4的保持對象 面40的部分。該附附部30是被連接於真空發生部33。利用 真空發生部33進行作動，附附部30是成爲可裝卸地真空吸 附被處理體的保持對象面40的狀態。當停止真空發生部33 的作動，則吸附部30是從吸附狀態解放並拆下保持對象面 40 〇 支架31是將附附部30吊在引導構件38成爲保持狀態。 引導構件38是平行方向地固定在搬運方向T。 驅動部3 5是如電動馬達的主動器，該驅動部是用於將 該支架31沿著引導構件38並沿著搬運方向Y移動者。 由此，當驅動部35進行作動，附附部30成爲朝搬運方 向T並沿著引導構件38可直線移動。 在此，說明被處理體1 4的一例。 被處理體1 4是使用於如大型液晶顯示體的玻璃基板。 做爲被處理體14的大小’爲如縱長及橫長的至少一方具有 1.5 m以上的大型基板。 該被處理體的處理對象面17是被保持成爲向下方’爲 與爲保持對象面4 0相反側的面。對於該處理對象面1 7 ’成 爲使用處理單元群25而能連續地施以任意組合的複數種類 處理。 以下，說明表示於第1圖的處理單元群25。 -10- (7) (7)1251685 處理單元群2 5是具有排列底座部5 0與複數種類的處理 單元。表示於第1圖的複數種類處理單元是包括：洗淨處 理單元5 1、乾燥處理單元5 2、親液處理單元5 3、疏液處理 單元5 4、液劑塗布處理單元5 5 '乾燥處理單元5 6、以及退 火處理單元5 7。 洗淨處理單元5 1、乾燥處理單元5 2、親液處理單元5 3 、疏液處理單元5 4、液劑塗布處理單元5 5、乾燥處理單元 5 6、以及退火處理單元5 7是在排列底座部5 0上，沿著搬運 方向Τ依次地排列。 洗淨處理單元5 1、乾燥處理單元5 2、親液處理單元5 3 、疏液處理單元5 4、液劑塗布處理單元5 5、乾燥處理單元 56、退火處理單元57是具有排列底座部50上，可變更其排 列順序，或可將某一處理單元與另一處理單元更換，或可 追加其他處理單元的特徵。 例如在第1圖中，親液處理單元53與疏液處理單元54 是構成表面改質單元部54，惟也可前後地更換親液處理單 元5 3與疏液處理單元5 4的順序。亦即，作成疏液處理單元 5 4位於搬運方向Τ的上游側，而親液處理單元5 3位於搬運 方向Τ的下游側。 任何洗淨處理單元5 1、乾燥處理單元5 2、親液處理單 元5 3、疏液處理單元5 4、液劑塗布處理單元5 5、乾燥處理 單元56、以及退火處理單元57，是均可變更對於朝搬運方 向Τ所搬運的處理對象面1 7的處理順序。 在本發明的第一實施形態中，洗淨處理單元5 1、乾燥 -11 - (8) (8)1251685 處理單元52、親液處理單元53、疏液處理單元54、液劑塗 布處理單元55、乾燥處理單元56、以及退火處理單元57是 這些單元位於處理對象面17的下面。 如此地，藉由各處理單元51〜57位於處理對象面17的 下面’例如將液劑噴於處理對象面1 7加以供給時，處理對 象面1 7的多餘液劑利用重力由處理對象面：[7會掉落。爲了 可減少殘留的多餘液體量，可積極地回收所掉落的液劑。 而且可減少所殘留的多餘液體量，或是變成沒有，因此在 後續工程的單元後進行所定處理時，該液體不會成爲妨礙 〇 又，可減少粒子附著於處理對象面。而且藉由使用毛 細管現象的縫隙塗敷，在處理對象面可進行液劑處理。 以下，說明上述的洗淨處理單元5 1、乾燥處理單元5 2 、親液處理單元53、疏液處理單元54、液劑塗布處理單元 55、乾燥處理單元56、以及退火處理單元57的各該具體構 造例。 第2圖是表示圖示於第1圖的洗淨處理單元5 1的具體構 造例。 洗淨處理單元51是對於被處理體14的處理對象面17供 給洗淨液60並洗淨處理對象面17的裝置。洗淨液60是被收 容於槽61。槽61的洗淨液60是成爲經噴嘴63，以如噴射各 Θ角度如以箭號60所示地噴在處理對象面1 7。角度0是如 比45度還小的角度。 所噴上的洗淨液60是以虛線64所示地掉落，成爲被回 -12- (9) (9)1251685 收在回收槽6 5。該洗淨液6 0是被噴至處理對象面1 7之後， 經回收路徑6 6利用重力掉落而被回收到回收槽6 5。 該回收路徑66是利用噴嘴63的傾斜端面與對向面68所 形成。該對向面6 8是在處理對象面1 7附近具有傾斜面6 9。 由此，從噴嘴6 3所噴射的洗淨液來洗淨處理對象面1 7之後 ，所留下的多餘的洗淨液6 0是可確實地回收到回收槽6 5。 而且噴嘴63是具有對向面70。利用設有該對向面70防止噴 嘴63所發射的洗淨液60洩漏至回收路徑66外面。形成回收 路徑66的上端面72，是對於處理對象面17配置成具有所定 間隙。 又，洗淨液60成爲經回收路徑66如以虛線箭號64所示 地掉落，惟將該回收路徑66作成負壓而施以排氣的構成， 就可避免或減輕洗淨液60洩漏至搬運方向（進行方向）Τ 前後。 以下，說明表示於第1圖的乾燥處理單元52。 乾燥處理單元5 2的構造例是表示於第3圖。乾燥處理 單元52是具有乾空氣供給部76與冷卻單元77、78。乾空氣 供給部7 6是成爲經供給路徑8 0，在處理對象面1 7直接噴上 乾空氣。所噴上的乾空氣是在乾燥處理對象面〗7之後，沿 者以虛線的箭號7 9所不的方向，亦即朝下方向被引導到回 收路徑8 1而被回收。 供給路徑8 0是利用壁部8 2所形成。回收路徑8 1是利用 側壁8 3所形成。在側壁8 3分別設有冷卻單元7 7、7 8。冷卻 單元77是在搬運方向Τ位於上游側，而冷卻單元78是位在 -13- (10) 1251685 下游側。由此，冷卻單元7 7、7 8是藉由冷卻側壁8 3，可防 止側壁83的餘熱對於處理對象面1 7施加多餘的熱。 代替乾空氣供給部7 6、供給路徑8 0及回收路徑8 1，也 可做成如下。亦即，例如將發熱用的電熱線相對面配置於 處理對象面1 7，使得該電熱線能加熱處理對象面！ 7也可以 c 以下’說明表示於第1圖的親液處理單元5 3與疏液處 理單元5 4。 第4圖是表示親液處理單元5 3的具體構造例；第5圖是 表示疏液處理單元54的具體構造例。 親液處理單元5 3與疏液處理單元5 4是相同構造的所謂 大氣壓電漿處理裝置。 大氣壓電漿處理裝置是在大氣壓或大氣壓附近的壓力 下，發生電漿放電領域。在該電漿放電領域中，生成處理 氣體（也稱爲反應氣體）的激勵活性種之故，因而利用該 激勵活性種對於被處理體1 4的處理對象面1 7可進行親液處 理或可進行疏液處理。 首先說明第4圖的親液處理單元5 3。 親液處理單元53是對於位在被處理體14下方的處理對 象面17進行親液處理所用的裝置。 親液處理單元53是具有第一電極90與第二電極91及介 質92。 第一電極90是被連接於高頻交流電源93。高頻交流電 源93是被接地。第二電極91是被接地。介質92是配置於第 -14- (11) 1251685 一電極90與第二電極91之間。 第二電極91是具有開口部94。在該開口部94的內側， 利用第二電極9 1的沿面放電加以虛線所示地可形成電漿放 電領域95。對於該電漿放電領域95，從氣體供給部96供給 混合氣體。混合氣體是混合傳輸氣體與反應氣體者。作爲 傳輸氣體是如He，而作爲反應氣體是02。由此，在電漿 放電領域95，生成反應氣體的激勵活性種，利用該激勵活 性種，在處理對象面1 7進行親液處理而被賦予親水性。 第5圖的疏液處理單元54是與第4圖的親液處理單元53 構造上相同，其動作也相同。疏液處理單元54是具有第一 電極90A、第二電極91A、介質92A、高頻交流電源93A。 在第二電極9 1 A的開口部9 4 A，利用第二電極9 1 A的沿面放 電形成有如以虛線所示的電漿放電領域95A。在該電漿放 電領域95 A從氣體供給部96 A供給有混合氣體。混合氣體 的傳輸氣體是如He而作爲反應氣體是CF4。 由此，在電漿放電領域9 5 A生成有激働活性種，利用 該激勵活性種，對於處理對象面1 7進行疏液處理，賦予疏 水性。 表示於第4圖與第5圖的親液處理單元53及疏液處理單 元54’是均在大氣壓或大氣壓附近的壓力下可形成電漿放 電領域，構造較簡單。 以下，說明表示於第1圖的液劑塗布處理單元5 5。 液劑塗布處理單元55是具有槽100與噴嘴1〇1。在槽 100中收容有液劑103。該液劑1〇3是利用供給於噴嘴1〇1， -15- (12) 1251685 供給到被處理體]4的處理對象面1 7。噴嘴1 〇丨的前端是距 處理對象面1 7以所定間隙所配置°該噴嘴1 〇 1是利用所謂 毛細管現象抗拒重力將液劑1 03朝上方附著塗布於處理對 象面1 7。 亦即，被處理體1 4的處理對象面]7是在朝下方狀態之 故，因而具有可使用該塗布方式的優點。若處理對象面i 7 是在朝上方狀態，很難採用該塗布方式。使用該噴嘴1 〇 1 的液劑的塗布方式，是稱爲縫隙塗敷等。 利用此種噴嘴1 〇 1、液劑1 03只能附著在以親液處理單 元5 3經處理的親液部分。亦即，利用處理對象面〗7的吸附 力，及噴嘴1 〇 1的毛細管現象，成爲使得液只能塗布在微 細領域的親液處理部分。 表示於第1圖的控制部3 00是成爲可控制驅動部35、真 空發生部33、洗淨處理單元51、乾燥處理單元52、親液處 理單元5 3、疏液處理單元5 4、液劑塗布處理單元5 5、乾燥 處理單元56、以及退火處理單元57的各該單元的動作。 以下，利用表示於第1圖的連續處理裝置1 0，說明對 於被處理體14的處理對象面17連續地施以任意的複數種類 處理所用的連續處理方法的例子。 第7圖是表示連續處理方法的一例的流程圖。在說明 該連續處理方法之前，說明被處理體1 4的具體例子。被處 理體1 4是構成表示於第8圖的液晶顯示裝置（也稱爲液晶 顯示體）的玻璃基板。 表示於第9圖的液晶顯示裝置135是表示所謂一像素分 -16- (13) 1251685 。在此，簡述液晶顯示裝置1 3 5的構造例。 液晶顯示裝置1 3 5是TFT陣列基板1 5 6、與濾色基板 1 4 0及液晶層1 5 0。TF T基板1 5 6是將液晶驅動用開關元件 的TFT1 5 8及顯示電極152，形成在玻璃基板的被處理體14 的處理對象面17者。 濾色基板140是在玻璃基板142上形成濾色片144及保 護膜146所構成。又在保護膜146上形成有共通電極148。 第9圖的液晶層150是使用密封材料黏貼TFT陣列基板 15 6與濾色基板140之後，在兩者之間隙注入液晶所形成。 由此，產生液晶分子1 5 1的再排列，成爲能透過或遮斷光 線。該操作是藉由進行液晶顯示裝置1 3 5的各像素，液晶 顯示裝置是可顯示畫像。 顯示電極152及共通電極148是使用透明導電膜的ITO (Indium Tin Oxide)的保護膜。 以下，依據表示於第7圖的流程圖，說明對於表示於 第1圖的被處理體1 4的處理對象面1 7連續地施以任意的複 數種類處理的連續處理方法。 在第7圖的流程圖中，包含事先處理步驟ST1至退火處 理步驟S T 8。 在事先處理步驟ST1中，爲了進行以後所說明的親液 處理及疏液處理的親液及疏液處理圖案的形成。藉由將依 感光性樹脂的圖案形成膜（例如光阻膜）形成於處理對象 面17所進行。 以下，說明表示於第7圖的洗淨處理步驟ST2進行至退 -17- (14) 1251685 火處理步驟ST8。 表示於第1圖的被處理體1 4是藉由吸附部3 0被真空吸 附加以保持。藉由作動驅動部3 5、被處理體1 4與吸附部3 0 是朝搬運方向T沿著引導構件38被搬運。 這時候，被處理體1 4的保持對象面4 0被吸附在吸附部 30，使處理對象面17朝向下方，因此處理對象面17是朝處 理單元群25側。處理單元群25的各處理單元51〜57，是對 於處理對象面1 7可分別朝上方進行處理。 處理單元群2 5的各處理單元5 1〜5 7，是可裝卸地排列 於排列底座50上成爲線狀。 在第1圖的例子中，親液處理單元5 3是位在疏液處理 單元5 4的上游側。在洗淨處理單元5 1與親液處理單元5 3之 間排列有乾燥處理單元52。親液處理單元53與疏液處理單 元5 4是大氣壓電漿處理單元。液劑塗布處理單元55是位於 疏液處理單元54的下游側。在液劑塗布處理單元55與退火 處理單元57之間配置有乾燥處理單元56。該乾燥處理單元 56與乾燥處理單元52是可採用如第3圖所示的相同構造者 〇 首先在表示於第7圖的洗淨處理步驟ST2中，如第2圖 所示地，噴嘴63將洗淨液60噴射在處理對象面17。由此， 處理對象面17是利用洗淨液60被洗淨。使用於洗淨後的洗 淨液是不會洩漏到外部地可回收到回收槽6 5。由這些事項 ’可提局洗淨液的回收效率。 然後，移行至表示於第7圖的第一乾燥處理步驟ST3。 -18- (15) 1251685 在第一乾燥處理步驟S T 3中，表示於第3圖的乾燥處理 單元5 2的乾空氣供給部7 6，經供給路徑8 〇將乾空氣供給於 經洗淨的處理對象面1 7。 由此蒸發留在處理對象面1 7的洗淨液，而可乾燥處理 對象面1 7。使用於乾燥的乾空氣是成爲經回收路徑8 1朝從 處理對象面1 7遠離的方向，亦即朝下方方向被回收。 這時候冷卻單元7 7、7 8冷卻側壁8 3之故，因而側壁 8 3利用乾空氣被加熱的餘熱利用冷卻被除去。因此，該側 壁8 3的餘熱是可變成沒有，因此，在處理對象面：[7不會產 生因熱所產生的多餘的不良影響。 然後，移行至第7圖的親液處理步驟ST4。 在第8(A)圖中，在既述的第7圖的事先處理步驟 ST1，感光性樹脂的圖案形成膜200形成在被處理體14的處 理對象面1 7。在該感光性樹脂的圖案形成膜200事先形成 有穴201。 在親液處理步驟S Τ 4中’在該感光性樹脂的圖案形成 膜2 0 0的穴2 0 1，表示於第4圖的親液處理單元5 3利用依大 氣壓電漿處理所產生的〇2電漿形成親液處理部2 1 〇。在表 示於第4圖的親液處理單元5 3所發生的電漿放電領域8 5中 ，生成有反應氣體的激勵活性種。在該激勵活性種是在處 理對象面1 7的穴2 0 1的位置形成親液處理部（親液膜）2 1 0 〇 然後，移行至第7圖的疏液處理步驟ST5。 在疏液處理步驟S T 5中，表示於第5圖的疏液處理單元 -19- (16) 1251685 54，利用依大氣壓電漿處理所產生的CF4電漿如第8 ( B ) 圖所示地將疏液處理部2 3 0形成在感光性樹脂的圖案形成 膜200的表面。這時候，在表示於第5圖的疏液處理單元54 所發生的電漿放電領域9 5中，生成反應氣體的激勵活性種 。該激勵活性種是在感光性樹脂的圖案形成膜2 00的表面 形成疏液處理部（疏液膜）23 0。 如此地，在被處理體1 4的處理對象面1 7側，利用大氣 壓電漿處理，依次形成有表示於第8(A)圖的親液處理 部210與表示於第8 ( B )圖的疏液處理部23 0。 然後，移行至表示於第7圖的液劑塗布處理步驟s T 6。 在液劑塗布處理步驟ST6中，如第8 ( C )圖所示地將 液劑1 0 3塗布在親液處理部2 1 0。亦即液劑1 〇 3是被塡充在 穴201。該液劑塗布處理步驟ST6，是利用表示於第6圖的 液劑塗布處理單元5 5來進行塡充。液劑1 〇 3是經噴嘴1 〇 1對 於處理對象面17而且對於表示於第8(C)圖的穴201選擇 性地被塗布。該液劑1 03是對於親液處理部2 1 0所形成。作 爲該液劑1 〇 3，如構成液晶面板的透明電極所用的I T 〇膜時 ，可使用如將粒徑〇· 1 // m以下的ITO微粉末分散於溶媒者 ，或將二丁基錫二乙酸酯（DBTDA)及銦乙醯基乙酸酯 (InAA)溶解於乙醯丙酮等的有機溶媒者。 然後，移行至第7圖的第二乾燥處理步驟s T 7。 在第二乾燥處理步驟ST7中，乾空氣從表示於第3圖的 乾空氣供給部7 6供給於處理對象面1 7。由此進行處理對象 面17的液劑103乾燥。 -20- (17) (17)1251685 然後，在第7圖的退火處理步驟ST8中，在第8 ( C ) 圖的表示進行退火處理（除去燒成及感光性樹脂的圖案形 成膜）。由此，如第8 ( D )圖所示地形成有液劑1 〇 3與感 光性樹脂的圖案形成膜2 0 0的圖案。然後’如第8 ( E )圖 所示地，進行除去感光性樹脂的圖案形成膜2 00，成爲形 成有依液劑1〇3的顯不電極152的圖案。 如此地，表示於第1圖的被處理體1 4的處理對象面1 7 是從洗淨處理單元51至退火處理單元57可連續地施以任意 組合的複數種類的處理。 複數種類處理單元的種類組合可加以變更或追加之故 ，因而在對於被處理體的處理對象面進行複數種類的處理 時，可變更或追加所需要的複數種類處理的組合。因此連 續處理裝置是按照被處理體的種類可簡單且確實地變更連 續處理的方式。 被處理體搬運部20是以作成朝下方的狀態沿著搬運方 向T可搬運被處理體1 4的處理對象面1 7。爲了此，處理對 象面是經常以朝下方被搬運，因此即使對於該處理對象面 1 7供給有液體時，該多餘的液體是利用掉落而從處理對象 面可簡單地除去，防止多餘的液體留在處理對象面。由此 ’於其後所進行的處理對象面的處理，該液體不會有不良 影響’而順利地可連續地施以對於處理對象面的複數種類 處理。 在第一實施形態中，處理對象面1 7是依洗淨、乾燥、 親液處理、疏液處理、液劑塗布、乾燥及退火處理的順序 -21 - (18) 1251685 進行處理。但是並不被限定於此，當然處理對象面1 7是依 洗淨處理、乾燥處理、親液處理、疏液處理、液劑塗布處 理、乾燥處理、退火處理的順序進行也可以。 又，在表示於第1 〇圖的本發明的第二實施形態中，最 後的退火處理單元57，是與處理單元群25配置在其他外部 。亦即另外設在處理單元群2 5對於搬運方向T的更下游側 〇 構成如此，處理對象面1 7是進行洗淨、乾燥、親液、 疏液、液劑及乾燥處理之後，處理對象面是使用一具如較 大型的退火處理單元57，一次地也可進行其全面的退火處 理。 在本發明的連續處理裝置的實施形態中，從洗淨處理 單元5 1至退火處理單元5 7，可裝卸地線狀地排列於排列底 座5 0。爲了此’視需要可將處理單元的位置對於搬運方向 T更換在上游側與下游側。此乃可藉由對於被處理體1 4的 處理對象面1 7進行處理的內容加以變更。 又，視需要也可自由地對於處理單元群25除去不需要 的處理單元或是追加其他所需要的處理單元。 被處理體14是藉由被處理體搬運部20沿著搬運方向T 直線地移動’這時候，被處理體1 4是可沿著處理單元群2 5 的線狀地排列的處理單元5 1至5 7進行搬運。爲了此，習知 是如排列七台大型處理裝置，則在各該處理裝置之間需要 交接用的搬運機構。 但是在表示於第1圖的本發明的實施形態，若存有一 -22- (19) 1251685 個被處理體搬運部2 Ο，則可將處理對象面1 7相對面 種類的處理單元5 1至5 7並將各處理連續地施加於處 面1 7。 處理對象面1 7成爲對於處理單元群2 5朝下方保 搬運之故，因而如藉由洗淨處理單元5 1進行洗淨時 有多餘的洗淨液留在處理對象面1 7而利用重力可掉 的洗淨液亦加以除去。在液劑塗布處理單元5 5也同 餘的液劑利用重力作用進行掉落，因此可簡單地解 液劑的附著。若處理對象面1 7位於上方，則如此地 淨液或親液、疏液、液劑的多餘量留在處理對象面 且很難以藉由如第6圖所示之所謂縫隙塗敷塗布方 劑塗布在處理對象面1 7。 如此地，在本發明的連續處理裝置的實施形態 第7圖的事先處理步驟S Τ 1施加於處理對象面1 7之後 理體1 4是如第1圖所示地處理對象面1 7成爲下方地 吸附部3 0。 在本發明的連續處理裝置的實施形態中，各處 5 1至5 7線狀地排列，因此可極力縮短進行被處理體 理所用的製造線，可縮短導管。 被處理體14是可進行連續處理，因此表面改質 象面1 7後的過程較穩定，而可期待提高良品率。 被處理體14的處理對象面17是進行連續處理， 面改質處理對象面1 7之後的過程較穩定，而可期待 品率。 於複數 理對象 持而被 ，不會 落多餘 樣，多 決多餘 會有洗 17，而 式將液 中，在 ’被處 吸附在 理單元 14的處 處理對 因此表 提高良 -23- (20) 1251685 被處理體1 4的處理對象面1 7是進行連續處理，因此在 各處理之間有不必分別設置洗淨工程的情形。 本發明的連續處理裝置1 〇也稱爲複合過程裝置等。 被處理體1 4使用如大型液晶顯示體時會大型化。製造 此種大型被處理體1 4時，處理對象面1 7是利用各處理單元 可連續處理，因此可實現大幅度提昇生產性與減輕設備負 載。 本發明的連續處理裝置是在大氣壓或大氣壓附近的壓 力下可處理全過程，因此與在真空環境下所進行的處理相 比較，可大幅度地提昇能量效率。 在本發明的連續處理裝置中，爲了對準某種處理單元 的處理能力與其他處理單元的處理能力，例如將某種處理 單元不是配置一台而並非配置兩台以上的複數台。 可變更或各處理單元的組合，因此對應於過程變更而 能柔軟地變更連續處理裝置的功能。作爲處理單元的處理 ’包含洗淨處理、濾液處理、親液處理、疏液處理、去灰 處理、蝕刻處理、電漿聚合處理、液體成膜處理、乾燥處 理、退火處理等，此些處理的組合是可變更或追加地加以 更換。 在本發明的連續處理裝置中，各處理單元是具有與其 他種類的處理單元安裝的互換性。例如將某種處理單元作 爲一例子能與噴墨塗布單元更換。 在本發明的連續處理裝置的實施形態中，被處理體的 處理對象面以朝下方的狀態下被搬運，各處理單元是排列 -24- (21) 1251685 成相對面於朝下方的狀態的處理對象面。 但是，本發明的連續處理裝置是並不被限定於此，被 處理體的處理對象面利用被處理體搬運部以朝上方的狀態 下被搬運，當然，各處理單元是相對面於朝上方的狀態的 處理對象面地，在被處理體的上方位置中，沿著被處理體 的搬運方向排列也可以。 在本發明中，被處理體是如大型液晶顯示體的玻璃基 板。 但是並不被限定於此，當然即使使用於進行製造其他 種類的裝置時的基板，也可使用本發明的連續處理裝置。 又，作爲被處理體的種類，當然所謂大型的有機LED (發 光二極體）的基板也可以。 本發明是並不被限定於上述實施形態，在不超越申請 專利範圍下可進行各種變更。 上述實施形態的各構成是省略其一部分，如與上述不 相同地可任意地組合。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明的連續處理裝置的第一實施形態 的圖式。 第2圖是表示第1圖的洗淨處理單元的例子的圖式。 第3圖是表示第1圖的乾燥處理單元的例子的圖式。 第4圖是表示第1圖的親液處理單元的例子的圖式。 第5圖是表示第1圖的疏液處理單元的例子的圖式。 -25- (22) 1251685 第ό Η是表示第i圖的液劑塗布處理單元的例子的圖式 〇 第7圖是表示本發明的連續處理方法的例子的圖式。 胃8 Η是：表示本發明的被處理體的複數種類處理的例 子的圖式。 第9圖是表示作爲包含被處理體的一例的液晶顯示裝 置的一部分的圖式。 第1 〇圖是表示本發明的連續處理裝置的第二實施形態 的圖式。 〔主要元件對照表〕 10 連續處理裝置 14 被處理體 17 處理對象面 2 0 被處理體搬運部 2 5 處理單元 30 吸附部 3 1 支架 3 3 真空發生部 3 5 驅動部 38 引導構件 40 保持對象面 50 排列底座部 5 1 洗淨處理單元 -26- (23)1251685 52 乾 燥 處 理 單 元 53 親 液 處 理 單 元 54 疏 液 處 理 單 元 55 液 劑 塗 布 處 理 口口 —- 早兀 56 乾 燥 處 理 單 元 57 退 火 處 理 單 元 58 表 面 改 質 單 元 群 60 洗 淨 液 61、 100 槽 63、 10 1 噴 嘴 64 箭 號 65 回 收 槽 66、 8 1 回 收 路 徑 67 傾 斜 丄山 m 面 68、 70 對 向 面 69 傾 斜 面 72 上 端 面 76 乾 空 氣 供 給 部 ΊΊ、 78 冷 卻 單 元 80 供 給 路 徑 82 壁 部 83 側 壁 90 ^ 90Α 第 一 電 極 91、 9 1 A 第 二 電 極 -27 (24) (24)1251685 92 、 92A介質 9 3、9 3 A高頻交流電源 94、94A 開口部 9 5、9 5 A電漿放電領域 96、96A氣體供給部 101 噴嘴 103液劑 135液晶顯不裝置 1 4 0濾色基板 1 4 2玻璃基板 1 4 4濾色片 146保護膜 1 48 共通電極 1 5 0液晶層 1 5 1液晶分子 1 5 2顯示電極

156 TFT陣列基板. 158 TFT 2 00圖案形成膜 20 1穴 2 1 0親液處理部 2 3 0疏液處理部 3 00控制部 T 搬運方向 -28-

Claims (1)

1251685 ______________________ ) 拾、申請專利範圍 1. 一種連續處理裝置，屬於對於被處理體的處理對 象面連續地施以複數種類的處理所用的連續處理裝置，其 特徵爲具備： 保持上述被處理體而沿著搬運方向搬運上述被處理體 所用的被處理體搬運部，及 沿著上述被處理體的上述搬運方向並排地排列，且對 於上述被處理體的上述處理對象面以大氣壓或大氣壓附近 的壓力下依次施以各不相同的處理所用的複數種類的處理 單元； 上述複數種類的處理單元的種類，是自由地變更及追 加組合。 2. 如申請專利範圍第1項所述的連續處理裝置，其中 ，上述被處理體搬運部是具備：裝卸自如地吸附與上述被 處理體的上述處理對象面相反側的保持對象面並予以保持 的吸附部，及將上述吸附部朝上述搬運方向引導的引導構 件，及將上述吸附部沿著上述引導構件移動的驅動部。 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項所述的連續處理裝 置，其中，上述被處理體搬運部是以朝下方狀態搬運上述 被處理體的上述處理對象面；上述複數種類的處理單元是 對於上述被處理體的上述處理對象面朝上方進行處理動作 〇 4 .如申請專利範圍第3項所述的連續處理裝置，其中 ’上述複數種類的處理單元是包括洗淨處理單元，乾燥處 -29 - (2) 1251685 理單元，表面改質處理單元，液劑塗布處理單元，退火處 理單元。 5 ·如申請專利範圍第1項所述的連續處理裝置，其中 ，上述被處理體是顯示裝置的基板。 6. —種連續處理方法，屬於對於被處理體的處理對 象面連續地施以複數種類的處理所用的連續處理方法，其 特徵爲： 保持上述被處理體而沿著搬運方向一面搬運上述被處 理體，一面使用沿著上述被處理體的上述搬運方向並排地 排列複數種類的處理單元，對於上述被處理體的上述處理 對象面以大氣壓或大氣壓附近的壓力下依次施以各不相同 的處理之際，按照上述被處理的種類自由地變更及追加上 述複數種類的處理單元的種類的組合。 7 ·如申請專利範圍第6項所述的連續處理方法，其中 ，上述被處理體搬運部是以朝下方狀態搬運上述被處理體 的上述處理對象面；上述複數種類的處理單元是對於上述 被處理體的上述處理對象面朝上方進行處理動作。 8 ·如申請專利範圍第7項所述的連續處理方法，其中 ，上述複數種類的處理單元是包括洗淨處理單元，乾燥處 理單元，表面改質處理單元，液劑塗布處理單元，退火處 理單元。 -30-