TWI248870B - Antireflection film for optical applications - Google Patents

Description

1248870 五、發明說明（1) 發明所屬之技術領域 本發明係關於光學用膜、更詳細來說，係關於除了有效 地防止電漿顯示器（PDP )、映像管（CRT )、液晶顯示器 (LCD )等之影像顯示元件表面之光的反射，同時耐擦傷 性優異外、製造成本低之光學用膜者。 背景技術 於PDP、CRT、LCD等之顯示器中，有從外部入射光於畫 面上，該光反射而看不見顯示影像之情形，特別是近年來 ，隨著平面顯示器之大型化，解決上述之問題遂越發成爲 重要之課題。 爲了解決如此之問題，迄今針對於各種顯示器，則採取 各樣之抗反射處置或防眩處置。進行著使用其中一種抗反 射膜於各種顯示器。 該抗反射膜習知係以蒸鍍或濺鍍等之乾式處理法，於基 材薄膜上，以使低折射率之物質薄膜化之方法或交互積層 折射率高之物質[ΙΤ0 (錫摻雜氧化銦）、Ti02等]與折射 率低之物質（MgF2、Si02等）之方法等來製作。然而，以 如此乾式處理法所製作之抗反射膜有所謂製造成本不可避 免隨著變高的問題。 其中，近年來則嘗試著以濕式處理法、即塗布法來製作 抗反射膜。然而，在以該濕式處理法所製作之抗反射膜中 ，比較於以前述之乾式處理法所製作之抗反射膜，則產生 所謂表面之耐擦傷性差的問題。 1248870 五、發明說明（2) 發明所欲解決之課題 本發明係因如此情況之基礎，以提供有效地防止PDP、 CRT、LCD等之影像顯示元件表面之光反射、同時耐擦傷性 優異、而且製造成本低之光學用膜爲目的者。 甩於解決課題之手段 本發明者等針對抗反射性能及耐擦傷性優異、而且廉價 之抗反射膜重複專心一意之硏究結果，於基材薄膜上，以 濕式處理依次積層具有特定形狀與厚度之硬被覆層、高折 射率層I、高折射率層I I及低折射率層，於進一步之情況 下，發現以設置有防污被覆層之抗反射膜作爲光學用膜， 得到適合於前述之目的，基於該發現之知識而達成發明之 完成。 即，本發明提供 (1 ) 一種光學用膜，其特徵爲於基材薄膜之至少一側 之表面上，依次積層（A )包含以電離放射線硬化樹脂之 2〜2 0// m厚度之硬被覆層、（B)包含以電離放射線硬化樹 脂與金屬氧化物、折射率在1·7〇〜1.95範圍之30〜120nm 厚的高折射率層I、（ C )包含以電離放射線硬化樹脂與金 屬氧化物、折射率在1.60〜1.70範圍之5〜70nm厚的高折 射率層11、及（D )包含矽氧烷系聚合物、折射率在 1.37〜1.47範圍之60〜180nm厚的低折射率層； (2) 如第1項記載之光學用膜，其中（Α)層之硬被 覆層爲防眩性硬被覆層； 1248870 五、發明說明（3) (3 )如第1項或第2項記載之光學用膜，其中（B)層 之高折射率層I中之金屬氧化物爲氧化鈦及/或錫摻雜氧 化銦； (4 )如第1項、第2項或第3項記載之光學用膜，其 中（C)層之高折射率層II中之金屬氧化物爲銻摻雜氧化 錫； (5 )如第1項至第4項之任一項之記載之光學用膜， 其中（D )層之低折射率層具有帶電防止性能； (6 )再者，如第1項至第5項之任一項之記載之光學 用膜，其係於（D )層上，設置（E )防污被覆層所形成。 【發明之實例】 本發明之光學用膜係具有以濕式處理法，於基材薄膜之 至少一側之表面上， 依次積層（A)硬被覆層、（B)高折射率層I、（C)高 折射率層I I、及（D )低折射率層，進一步因所希望而於 (D )層上設置（E )防污被覆層之構造的抗反射膜。 關於本發明之光學用薄膜中之基材薄膜係無特別之限制 ，可由傳統光學用抗反射膜基材之習知塑膠薄膜中適當選 擇來使用。如此之塑膠薄膜方面，可舉例有聚對苯二甲酸 乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘乙二酯等之聚酯薄膜 :聚乙稀薄膜、聚丙烯薄膜、賽珞玢、二醋酸纖維素薄膜 、三醋酸纖維素薄膜、醋酸丁酸纖維素薄膜、聚氯乙烯薄 膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-醋酸乙烯共 1248870 五、 發明說明 ( 4； ) 聚 物 薄 膜 、 聚 苯 乙 烯薄 膜、 聚 碳酸酯薄 膜、聚甲 基 戊 烯 薄 膜 Λ 聚 楓 薄 膜 聚 二醚 酮薄 膜 、聚醚碾 薄膜、聚 醚 亞 胺 薄 膜 聚 亞 胺 薄 膜 氟樹 脂薄 膜 、聚醯胺 薄膜、丙 烯 酸 樹 脂 薄 膜 等 〇 該 等 之 基 材 薄 膜 係透 明、 半 透明均可 ，又，可 著 色 Μ /\\\ 著 色 者 亦 可 ， 可針 對用 途來 適 宜地選擇 。例如在使 用 作 爲 液 晶 顯 示 體 之保 護 用的 情況 下 ，以無色 透明之薄, 膜: 爲: 適 〇 該 等 基 材 之 厚 度 並無 特別 之 限制，針 對情況來 適 宜 地 擇 通 常 爲 1 5〜 250 μ m 、而以 30〜200 // m爲佳之 範 圍 0 又 該 基 材 薄 膜 係 因 提局 與設 置 於該表面 之層的密 著 性 之 巨 的 ， 可 於所希 望 之 單面 或雙 面 上，以氧 化法或凹 凸 化 法 來 實 施 表 面 處 理 0 上 述氧 化法 方 面，舉例有電暈放 電 處 理 鉻 酸 處 理 ( 濕 式 ) 、火 焰處 理 、熱風處 理、臭氧 • 紫 外 線 照 射 處 理 等 〇 又 > 凹凸 化法 方 面，舉例 有噴砂法 溶 劑 處 理 法 等 〇 雖 然 該 等 之表 面處 理 法係針對 基材薄膜 之 種 類 來 適 宜 地 々ΒΒ 进 擇 但 是 一般 係因 效 果及操作 性等方面 考 量 ， 而 以使用 電 暈 放 電 處 理法 爲佳 0 又 5 可使用 於 單 面或 雙面 上 實施底漆j 處理者。 在 本 發 明 之 光 學 用膜 中， 於 前述基材 薄膜之至 少 一 側 之 表 面 上 ， 首 先 設 置 作爲 (A )J 罾之包含' 以電離放 射 線 硬 化 樹 脂 之 硬 被 覆 層 0 該硬 被覆 層 係以具有 防眩性者 爲 佳 ， 因 而 ， 於 該 硬 被 覆 層 中， 可含有 前述以電 離放射線 硬 化 樹 脂 ， 同 時含有 賦 予 防眩性之各: 種: -6 嗔充劑。 1248870 五、發明說明（5) 如此之硬被覆層係例如可由塗布電離放射線硬化性化合 物，與如所希望之包含賦予防眩性之塡充劑或光聚合起始 劑等之硬被覆層形成用塗工液於基材薄膜上而形成塗膜， 並照射電離放射線來硬化該塗膜而形成。 前述之電離放射線硬化性化合物方面可舉例有光聚合性 預聚合物及/或光聚合性單體。在上述光聚合性預聚合物 方面’有自由基聚合型與陽離子聚合型，自由基聚合型之 光聚合性預聚合物方面，舉例有多酯丙烯酸酯系、環氧丙 烯酸酯系、氨酯丙烯酸酯系、多醇丙烯酸酯系等。其中， 多酯丙烯酸酯系預聚合物方面，例如可由以（甲基）丙烯 酸來酯化於以多價羧酸與多價醇之縮合所得之兩末端具有 經基之多酯寡聚物的經基、或由以（甲基）丙嫌酸來酯化 加成環氧化物於多價羧酸所得之寡聚物末端的羥基而得。 環氧丙烯酸酯系預聚合物係可由例如於比較低分子量之雙 酚型環氧樹脂或可溶可熔酚醛樹脂型環氧樹脂之環氧乙烷 環上，反應（甲基）丙烯酸來酯化而得。氨酯丙烯酸酯系 預聚合物係可由例如以（甲基）丙烯酸來酯化以多醚多醇 物或多酯多醇物與聚異氰酸酯之反應所得之多氨酯寡聚物 而得。再者，多醇丙烯酸酯系預聚合物係可由以（甲基） 丙烯酸來酯化多醚多醇物之羥基而得。該等之光聚合性預 聚合物係可用1種， 或亦可組合2種以上來使用。 另外，陽離子聚合型之光聚合性預聚合物方面，通常使 1248870 五、發明說明（6) 用環氧系樹脂。該環氧系樹脂方面，舉例有於雙酸樹脂或 可溶可熔酸醒樹脂等之多價酌類中，以環氧氯丙院等環氧 化之化合物、以過氧化物等來氧化直鏈狀烯烴化合物或環 狀烯烴化合物所得之化合物。 又，光聚合性單體方面，舉例有1，4-丁二醇二（甲基） 丙烯酸酯、1，6 -己二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊二醇二 (甲基）丙烯酸酯、多乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊 二醇己二酸酯二（甲基）丙烯酸酯、羥基特戊酸季戊二醇 二（甲基）丙烯酸酯、二（甲基）丙烯酸二環戊酯、己內 酯改質二（甲基）丙烯酸二環戊酯、環氧乙烷改質二（甲 基）丙烯酸二環戊酯、環氧乙烷改質磷酸二（甲基）丙烯 酸酯、二（甲基）丙烯酸芳基化環己酯、異氰酸酯二（甲 基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、二季 戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、丙酸改質二季戊四醇五（甲 基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、己內酯 改質二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等之多官能丙烯酸酯 。該等之光聚合性單體係可用1種，或亦可組合2種以上 來使用。 另外，如所希望所使用之光聚合起始劑方面，針對於自 由基聚合型之光聚合性預聚合物或光聚合性單體，舉例有 苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因異丙醚、苯偶 因正丁醚、苯偶因異丁醚、乙醯苯、二甲胺基乙醯苯、 2,2-—甲氧基-2-苯基乙醯苯、2，2-二乙氧基-2-苯基乙醯 1248870 五、發明說明（7) 苯、2 -羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己苯酮、 2 -甲基- l- [4-(甲基硫代）本基]-2 -嗎琳丙-1-嗣、4-( 2 -羥基乙氧基）苯基-2-(羥基-2-丙基）酮、苯酮、對苯 基苯酮、4,4· -二乙胺基苯酮、二氯苯酮、2 -甲基蒽醌、 2 -乙基蒽醌、2 -三級丁基蒽醌、2 -胺基蒽醌、2 -甲基噻噸 酮、2 -乙基噻噸酮、2 -氯噻噸酮、2，4 -二甲基噻噸酮、 2,4 -二乙基噻噸酮、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮 、對二甲胺基安息香酸酯等。又，對於陽離子聚合型之光 聚合性預聚合物之光聚合起始劑方面，舉例有由芳香族毓 離子、芳香族氧基毓離子、芳香族碘鐵離子等之鏺類、與 四氟化硼、六氟化磷、六氟化銻、六氟化砷等之陰離子所 構成之化合物。該等係可使用1種，或亦可組合2種以上 來使用，又，該配合量係相對於1 00重量份之前述光聚合 性預聚合物及/或光聚合性單體，通常在0.2〜10重量份之 範圍來選擇。 另外，因所希望而使用之賦予防眩性的塡充劑方面，可 從已知作爲習知用於賦予防眩性之塡充劑來適宜地選擇使 用。如此之塡充劑方面，可舉例有1 . 5~7 // m左右之平均 粒徑的氧化矽粒子、爲以膠體狀氧化矽粒子之胺化合物之 凝結物、平均粒徑爲0 . 5〜5 // m左右者、或0 . 5〜5 // m左右 之平均粒徑的氧化矽粒子與1〜60ηπι左右之平均粒徑的金 屬氧化物微粒子之混合物等。於該等塡充劑之 硬被覆層中之含有量，可考慮所得之光學用膜的防眩性 1248870 五、發明說明（8) 能或耐擦傷性等來適宜地選擇。 於本發明中所使用之硬被覆層形成用塗工液，係於必要 時，可於適當的溶液中，以個別既定之比例添加、溶解或 分散前述之電離放射線硬化性化合物及因所希望而使用之 前述塡充劑或光聚合起始劑、進一步之抗氧化劑、紫外線 吸收劑、光安定劑、勻塗劑、消泡劑等來調製。 此時所使用之溶劑方面，舉例有己烷、庚烷、環己烷等 I之脂肪族碳氫化合物；甲苯、二甲苯等之芳香族碳氫化合 物；二氯曱烷、二氯乙烷等之鹵化碳氫化合物；甲醇、乙 醇、丙醇、丁醇等之醇類；丙酮、甲基乙基酮、2 -戊酮、 異佛爾酮等之酮類；醋酸乙酯、醋酸丁酯等之酯類；乙基 溶纖劑等之溶纖劑系溶劑等。 如此所調製之塗工液的濃度、黏度方面，如果是可塗布 之濃度、黏度均可，並無特別之限制，可針對狀況來適宜 地選定。 其次，在基材薄膜之一側表面上，使用習知公認之方法 ’例如刮條塗布法、刮刀塗布法、輥塗法、刮板塗布法、 □模式塗布法、凹槽輥塗布法等來塗布上述塗工液而形成 塗膜’乾燥後，以於其上照射電離放射線來硬化該塗膜， 而形成硬被覆層。 電離放射線方面，舉例有紫外線或電子射線等。上述紫 外線係以高壓水銀燈、熔融Η燈、氙燈等而得。另外電子 射線係以電子射線加速器等而得。於該電離放射線之中， -10- 1248870 五、發明說明（9) 係特別以紫外線爲適。還有，在使用電子射線之情況下， 不添加聚合起始劑而可得硬化膜。 如此所形成之硬被覆膜層的厚度爲2〜20// m之範圍。該 厚度未滿2 // m則 恐怕不能充分地發揮所得之光學用膜的耐擦傷性，而又 超過20// m則會於硬被覆層上產生龜裂。該硬被覆層之較 佳厚度爲3〜15# m之範圍，特別以5〜10# m之範圍爲適。 於本發明之光學用膜中，該（A )層之硬被覆層之折射 率通常爲1.47〜1.60，而以1.49〜1.55之範圍爲佳。 於本發明之光學用膜中，在前述硬被覆層上，依次形成 爲（B)層之高折射率層I及爲（C)層之高折射率層II。 前述（B )層之高折射率層I包含以電離放射線硬化樹 脂與金屬氧化物，折射率在1.7 0〜1.95之範圍，而且厚度 爲3 0〜120nm之範圍。該折射率未滿1.70則難以得到抗反 射性能優異之光學用膜，而不能達到本發明之目的。又， 難以形成折射率超過1 . 9 5之層。較佳之折射率爲 1.70〜1 . 75。 前述金屬氧化物方面，如能得到膜厚爲30〜120nm而折 射率在1.70〜1.95之範圍之層者均可，並無特別之限制， 舉例有氧化鈦、錫摻雜氧化銦、氧化鉬等。於該等之中， 以氧化鈦及錫摻雜氧化銦爲佳。該等之金屬氧化物係可單 獨地使用1種，或亦可組合2種以上來使用。 於高折射率層I中前述金屬氧化物之含有量方面係無特 -11- 1248870 五、發明說明（1〇) 別之限制，針對該高折射率層I之所希望的厚度及折射率 等來適宜地選擇，通常，相對於100重量份硬化樹脂，爲 200〜600重量份左右。 該高折射率層I係可如以下來形成。首先，於必要時， 於適當的溶液中，以個別既定之比例添加、溶解或分散電 離放射線硬化性化合物、前述金屬氧化物及因所希望而使 用之光聚合起始劑或各種添加劑，例如抗氧化劑、紫外線 吸收劑、光安定劑、勻塗劑、消泡劑等來調製塗工液。其 次，於（A )層之硬被覆層上塗布該塗工液而形成塗膜， 以照射電離放射線來硬化該塗膜，可形成（B )層之高折 射率層I。 其中，電離放射線硬化性化合物、光聚合起始劑、用於 塗工液之調製的溶劑、塗工液之塗布方法及電離放射線等 係有關於爲前述（A )層之硬被覆層之說明來表示。 其次，設置於該高折射率層I上之（C )層的高折射率 層I I係包含以電離放射線硬化樹脂與金屬氧化物，折射 率在1.6 0〜1.70，而且厚度爲5〜70nm之範圍。該（C)層 係折射率高，而且重要的是與設置於其上之（D)層之包 含矽氧烷系聚合物的低折射率層之密著性優異。由於該等 方面，前述金屬氧化物方面，如能滿足上述條件者均可， 雖然無特別之限制，但可舉例以銻摻雜氧化錫、（ΑΤΟ ) 、氧化錫等爲佳。該等之金屬氧化物係可單獨地使用1種 ’亦可組合2種以上來使用。 -12- 1248870 五、發明說明（11) 該金屬氧化物層I I之折射率未滿1 . 60則難以得到抗反 射性能優異之光學用膜，而不能達到本發明之目的。又， 難以得到優異之與設置於其上之（D )層的密著性，同時 折射率超過1 .70之層。 總之，於本發明之光學用膜中，以於（A )層之硬被覆 層上積層高折射率層I及II，使該層I與層II 一體化而 具有作爲高折射率層之功能，同時可形成與包含（D )層 之矽氧烷系聚合物之低折射率層的密著性優異之層。 於高折射率層II中前述金屬氧化物之含有量方面係無 特別之限制，針對該高折射率層II之所希望的膜厚及折 射率等來適宜地選擇，通常相對於1 〇〇重量份之硬化樹脂 ，爲200〜600重量份左右。 該高折射率層I I係可如以下來形成。首先，於必要時 ，於適當的溶液中，以個別既定之比例添加、溶解或分散 電離放射線硬化性化合物、前述金屬氧化物及因所希望而 使用之光聚合起始劑或各種添加劑，例如抗氧化劑、紫外 線吸收劑、光安定劑、勻塗劑、消泡劑等來調製塗工液。 其次，於（B )層之高折^ 射率層上塗布該而形成塗膜，以照射電離放射線 來硬化該塗膜，可形k ( c)層之高折射率層11。 其中，電離放射線硬化性化合物、光聚合起始劑、用於 塗工液之調製的溶劑、塗工液之塗布方法及電離放射線等 係有關於爲前述（A )層之硬被覆層之說明來表示。 -13- 1248870 五、發明說明（12) 於本發明中，前述（A)層之硬被覆層、（B)層之高折 射率層I及（C )層之高折射率層I I之形成，係以示於以 下之方法來進行爲有利的。 首先，於基材薄膜之一側的表面上塗布硬被覆層形成用 塗工液以形成塗膜，並照射電離放射線來硬化成半固化狀 態。此時，在照射紫外線之情況下，光量通常爲 5 0〜15 0mJ/cm2左右。其次，在如此形成之半固化狀態的硬 化層上，塗布（B)層形成用塗工液而形成塗膜，與上述 同樣地照射電離放射線來硬化成半固化狀態。其次，於該 半固化狀態之硬化層上，塗布（C )層形成用塗工液以形 成塗膜，充分地照射電離放射線，與前述（A )層及（B ) 層一起完全地硬化。此時，在照射紫外線之情況下，光量 通常爲400〜1 000mJ/cm2左右。 如此一來，於基材薄膜上，依次形成（A )層與（B )層 間、及（B )層與（C )層間之密著性優異之（A )層之硬 被覆層、（B)層之高折射率層I及（C)層之高折射率層 11° 於本發明之光學用膜中，於如此形成之（C )層之高折 射率層I I上，形成爲（D )層之低折射率層。該低折射率 層係包含矽氧烷系聚合物者，折射率在1.37〜1.47之範圍 ，而且厚度爲60〜1 8Onm之範圍。該折射率或厚度脫離上 述範圍則難以得到抗反射性能及耐擦傷性優異之光學用膜 -14- 1248870 五、發明說明（彳3) 該包含矽氧烷系聚合物之層方面，可舉例有無機氧化石夕 系化合物（亦包含聚矽酸）、聚有機矽氧烷系化合物、或 包含該等之混合物之層。形成該層之無機氧化矽系化合物 或聚有機矽氧烷系化合物係可由習知公認之方法來製造。 例如，以使用使用鹽酸或硫酸等之無機酸、草酸或醋酸 等之有機酸來部份或完全加水分解、縮聚合以一般式[1 ] R]nSi ( OR2) 4. η · · · [1] [通式中之R1爲非加水分解性基、鏈烷基、置換烷基（ 置換基：鹵素原子、羥基、二醇基、環氧基、（甲基）丙 嫌釀氧基寺）、鏈嫌基、方基或方院基；R2爲低級鏈院基 ;η爲0或1〜3之整數。R1及0R2個別爲複數的情況下， 複數個R1可相同或不同均可，複數個0R2可相同或不同均 可。] 所表示之烷氧基矽烷化合物爲佳。 該情況下，如果完全加水分解η爲〇之化合物、即四院 氧基砂院則得到無機氧化砂系之化合物，如果部分加水分 解，則得到聚有機矽氧烷系化合物或無機氧化矽系化合物 與聚有機矽氧烷系化合物之混合物。另外，η爲丨〜3之化 合物’由於聚有非加水分解性基，以部份或完全加水分解 ，則得到聚有機砂氧院系化合物。此時，爲了均勻地進行 加水分解，亦可使用適當的有機溶劑。 以前述一般式[1 ]所表示之烷氧機矽氧烷化合物之範例 方面’舉出有四甲氧基矽院、四乙氧基矽院、四正丙氧基 -15- 1248870 五、發明說明（14) 矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四異丁氧基矽 烷、四仲丁氧基矽烷、四叔丁氧基矽烷、甲基三曱氧基矽 烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三異丙 氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基 三乙氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、 苯基三乙氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、 r-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、r-甲基丙烯醯氧基丙 基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、甲基苯基二甲氧 基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、二 乙烯基二甲氧基矽烷、二乙烯基二乙氧基矽烷、三乙烯基 甲氧基矽烷、三乙烯基乙氧基矽烷等。該等係可單獨地使 用1種，或亦可組合2種以上來使用。 又，此時，如果需要，可適量地添加鋁化合物，例如氯 化鋁或三烷氧基鋁等。 再者，其他方法方面，可使用於原料之矽化合物中使用 間矽酸鈉、鄰矽酸鈉或水玻璃（矽酸鈉混合物），來使鹽 酸、硫酸、硝酸等酸或氯化鎂、硫酸鈣等之金屬化合物起 作用並加水分解處理之方法。以該加水分解處理，雖然生 成游離之矽酸，該等係易於聚合，因原料種類而異，爲鏈 狀、環狀、網狀者之混合物。由水玻璃所得之聚矽酸係以

胃式[2] OR

I

.R — 〇^S i — 〇)srR 0>R …[2] (通式中之m係表示聚合度、R爲氫原子、矽或者鎂或 -16- 1248870 五、發明說明（15) 鋁等之金屬。） 所表示之鏈狀構造爲主體。 如此一來，得到完全之無機氧化矽系化合物。還有，亦 可使用氧化矽膠體（SiOx · ηΗ20)作爲無機氧化矽系化合 物。 該（D )層之低折射率層矽可由使用習知公認之方法、 例如刮條塗布法、刮刀塗布法、輥塗法、刮板塗布法、口 模式塗布法、凹槽輥塗布法等，於（C )層之高折射率層 II上塗布包含前述之矽氧烷系聚合物或其前驅物之塗工液 ，以形成塗膜，並加熱處理而形成。 在包含如此所形成之矽氧烷系聚合物之低折射率層中， 於該矽氧烷系聚合物聚有矽烷醇或其他親水性基之情況下 ，賦予帶電防止性能，於所得之光學用膜上難以附著灰塵 等而佳。 於本發明之光學用膜中，如所希望地，可於前述（D ) 層之低折射率層上設置防污被覆層。該防污被覆層係一般 可由使用習知公認之方法、例如刮條塗布法、刮刀塗布法 、輥塗法、刮板塗布法、口模式塗布法、凹槽輥塗布法等 ’於（D )層之低折射率層上塗布包含氟系樹脂之塗工液 ，以形成塗膜，並加熱處理而形成。 該防污被覆層之厚度通常爲1〜10nm，而以3〜8ηπι之範圍 爲佳。以設置該防污被覆層所得之光學膜係表面之光滑性 變佳同時不容易污損。 -17- 1248870 五、發明說明（16) 於本發明之光學用膜中，基材薄膜之被覆層係於反側之 表面上，可形成用於貼著於液晶顯示體等之被著體之黏著 劑層。構成該黏著劑層之黏著劑方面，以使用光學用途者 、例如丙燦酸系黏著劑、氨酯系黏著劑、有機砍系黏著劑 爲佳。該黏著劑層之厚度通常爲5〜100 μ m、而以10〜60// m 之範圍爲佳。 再者，於該黏著劑層上，可設置離型膜。該離型膜方面 ，舉例有於玻璃紙、塗布紙、層壓紙等之紙或各種塑膠膜 上，塗布有機矽樹脂等之離型劑者等。關於該離型膜之厚 度雖然無特別之限制，通常爲20〜150// m左右。 【實例】 其次’雖然以實例來更詳細地說明本發明，但本發明係 不受該等實例任何限制者。 還有，於各實例中所得之光學用膜之物性係依照示於以 下之方法測定。 (1 )最低反射率 以分光光度劑[(株）島津製作所製「UV-3 101 PC」測定 ，以於反射率最低之波長中之反射率作爲最低反射率。 (2 )耐擦傷性 於使用鋼絲棉#0000，以9 · 8 X 10·3N/mm2荷重來回摩擦 後目視觀察，以下述之判定基準來評估。 〇：無刮傷 X :有刮傷 -18- 1248870 五、發明說明（17) 【實例1】 (1)於188// m厚度之聚對苯二甲酸乙二酯（PET)薄 膜[東洋紡績（株）製、商品名「A4 100」]之易接著被覆 面上，以邁耶閥No . 1 2塗布紫外線硬化型丙烯酸系硬塗布 劑[JSR (株）製、商品名「迪索來特KZ7224」、46重量 %之固體部分濃度]而形成完全硬化後之厚度爲5 . 8 # m之 ，於80 °C乾燥1分鐘之後，於其上以光量80IT1〗/cm2照射 ，硬化成半固化狀態，形成硬被覆層。 (2 )以甲基異丁基酮與異丙醇之1 : 1重量比之混合溶 劑稀釋含有T : 02之丙烯酸系硬被覆劑Π SR (株）製、商品 名「迪索來特Z7252」、45重量％之固體部分濃度，Ti02 :丙烯酸樹脂=7 5 : 25 (重量比）」成爲固體部分濃度爲 3重量％ ，來調製塗布劑。其次，以邁耶閥No . 4，於上述 (1 )之步驟中所形成之半固化狀態之硬化層上，塗布該 塗布劑成爲完全硬化後之厚度爲90nm，於80°C乾燥1分 鐘之後，於其上以光量8 0 m〗/ c m2照射，硬化成半固化狀態 ，形成高折射率層I。 (3 )相對於1 0 0重量份銻摻雜氧化錫之分散劑[石原技 術（株）製、商品名「SN-100P異丁醇分散體」、30重量 %之固體部分濃度]，添加6 . 6重量份紫外線硬化型丙嫌 酸系樹脂「世界畢姆EXF-01L ( SN)」[大日精化工業（株 )製、商品名]’再者’以甲基異丁基酮與異丙醇之 重量比之混合溶劑稀釋成爲全體之固體部分濃度爲1重量 -19- 1248870 五、發明說明（18) %來調製塗布液。其次，以邁耶閥No . 4，於上述（2 )之 步驟中所形成之半固化狀態之高折射率層I上，塗布該塗 布劑成爲完全硬化後之厚度爲40nm，於80°C乾燥1分鐘 之後，於其上以光量700nJ/cm2照射來硬化，形成高折射 率層I I。 如此一來，於PET薄膜上，依次形成1 . 5 1折射率之硬 被覆層、1 . 72折射率之高折射率層I及1 . 66折射率之高 折射率層I I。 (4 )於上述（3 )之步驟中所形成之高折射率層I I上 ’以邁耶閥N 〇 . 4塗步含有氟之矽氧烷系塗布劑[信越化學 工業（株）製、商品名「X-12-2138H」、3重量％之固體 部分濃度]成爲加熱處理後之厚度爲140nm，於150°C加熱 處理2分鐘，形成1 · 4 0折射率之低折射率層。 將如此所製作之光學用膜之物性示於表1。 還有，各塗布層之厚度係以大塚電子（株）製「MCPD-2 000」測定，折射率係以（株）阿達哥製阿貝折射計測定 。（以下、相同） 【實例2】 於實例1之（2 )步驟中，除了如以下來改變塗布劑之 調製之外，進行與實例1相同之操作，來製作光學用膜。 將該光學用膜之物性示於表1。高折射率層I之膜厚： 1 0 0 n m、折射率：1 . 7 1。 <塗布劑之調製> -20- 1248870 五、發明說明（19) 相對於100重量份「世界畢姆EXF_01L ( SN)」（前述 )，加入2000重量份ίT0分散體[大日本油墨化學工業（ 株）製、1 5重量％之固體部分濃度]，進一步以異丁醇溶 劑稀釋成固體重量部分濃度爲3重量％來調製塗布液。 【實例3】 於實例1之（4 )步驟中，除了將塗布劑變成矽氧烷系 帶電防止劑「克爾克特P」[克爾克特（株）製、商品名、 2重量％之固體重量部分濃度]，以邁耶閥No . 6來製膜之 外，係與實例1相同地來製作光學用膜。將該光學用膜之 物性示於表1。該光學用膜之表面電阻値爲3xi〇9n/cm2 〇 低折射率層之膜厚··丨3 〇nm、折射率：1 .45。 【實例4】 於實例1之（4 )步驟中所形成之低折射率層上，除了 進一步以專用稀釋劑「迪姆那姆索爾平特」[大油墨工業 (株）製、商品名]稀釋氟系樹脂「歐普資爾DSX」[大油 墨工業（株）製、商品名、20重量％之固體部分濃度]成 爲0 . 1 2重量％濃度，以邁耶閥No . 4來塗布所調製之防污 塗布劑成爲乾燥後之厚度爲5nm，乾燥處理來形成防污被 覆層之外，與實例1相同地製作光學用膜。將該光學用膜 之物性示於表1。 【比較例1】 除了於實例1中，使（2 )步驟中之塗布劑濃度成爲4 -21 - 1248870

五、發明說明（20) 重量％ ’並且未形成（3 )步驟之高折射率層I I地實施（ 4 )步驟，來形成低折射率層之外，與實例1相同地製作 光學用膜。將該光學用膜之特性示於表1。高折射率層I 之膜厚：1 1 5 n m。 【比較例2】 除了於實例1中，未實施（2 )步驟，並且改變（3 )步 驟中之塗布劑濃度爲4 . 5重量％之外，與實例1相同地製 作光學用膜。將該光學用膜之特性示於表1。高折射率層 I之膜厚：1 1 〇 n m。 【比較例3】 除了於實例2之（2 )步驟中，於塗布劑之調製中，取 代1 00重量份之紫外線硬化型丙烯酸系樹脂「世界畢姆 EXF-01L ( SN)」地使用3 30重量份之聚酯樹脂溶液[東洋 紡績（株）製、商品名「拜龍20SS」、30重量％之固體 部分濃度]並且改變稀釋溶劑成爲甲苯與甲基異丁基酮之1 :1重量比之混合溶劑，同時爲照射紫外線地於1 00°C加 熱處理1分鐘來形成高折射率層I之外，與實例2相同地 實施來製作光學用膜。將該光學用膜之特性示於表1。 高折射率層I之膜厚：90nm、折射率：1 . 73。 -22- 1248870 五、發明說明（21) 【表1】第1表

最低反射率’（％ ) /波長（nm) 耐擦傷性 實例1 0.90/580 〇 實例2 0.95/600 〇 實例3 1 .05/ 560 〇 實例4 〇.90/580 〇 比較例1 0.65/550 X 比較例2 1.40/590 〇 比較例3 0.70/610 X 【發明之效果】 本發明之光學用膜係以濕式處理法所製作者，除了抗反 射性能及耐擦傷性優異之外，製造成本低，適合使用作爲 例如PDP、CRT、LCD等之影像顯示元件之抗反射薄膜。 -23- 94.10. 曰修（ 1248870 - 申請曰期 2002.03.20 案 號 91105292 類 別 /! (以上各欄由本局填註） 0217354 (2005年10月3日修正） 集4專利說明書 中 文 光學用抗反射膜 發明 新型 名稱 英 文

ANTIREFLECTION FILM FOR OPTICAL APPLICATIONS 姓 名 1. 所司悟（Satoru SH0SHI) 2. 小野澤豐（小野澤豊）（Yutaka 0N0ZAWA) 3. 九岡重信（Shigenobu MARU0KA) 發明 創作 人 申請人 國 籍 住、居所 姓 名 (名稱） 國 籍 住、居所 (事務所） 代表人 姓 名 1.〜3.曰本 1. 埼玉縣越谷市袋山1459-1-405 2. 埼玉縣川越市的場2180-10 3. 埼玉縣$ Wc去市（埼玉市）岸町5-10-5

.琳得科股份有限公司（y v夕株式会社） LINTEC CORPORATION 日本 東京都板橋區本町23番23號 田中鄕平（Kyohei TANAKA)

Claims (1)

1. I2488700,, 年月日修(更)正替換頁 六、申請專利範圍 第9 1 1 0 5 2 9 2號「光學用抗反射膜」專利案 (2005年10月3日修正） 六、申請專利範圍： 1 · 一種光學用抗反射膜，其特徵爲於基材薄膜之至少一側 之表面上，依次積層（A )含電離放射線硬化樹脂之 2〜20// m厚度之硬被覆層；（B)含電離放射線硬化樹脂 與金屬氧化物且折射率在1.70〜1.95範圍之30〜120nm 厚的高折射率層I ;( C )含電離放射線硬化樹脂與金屬 氧化物且折射率在1·60〜1.70範圍之5〜70nm厚的高折 射率層II;及（D)含矽氧烷系聚合物且折射率在 1·37〜1.47範圍之60〜180nm厚的低折射率層。 2 ·如申請專利範圍第1項之光學用抗反射膜，其中（A ) 層之硬被覆層爲防眩性硬被覆層。 3 ·如申請專利範圍第1項之光學用抗反射膜，其中（B ) 層之高折射率層I中之金屬氧化物爲氧化鈦及/或錫摻 雜氧化銦。 4 .如申請專利範圍第1或3項之光學用抗反射膜，其中（ C)層之高折射率層II中之金屬氧化物爲銻摻雜氧化錫 〇 5.如申請專利範圍第1項之光學用抗反射膜，其中（D) 層之低折射率層具有帶電防止性能。 6 ·如申請專利範圔第1項光學用抗反射膜，其係進一步於 (D )層上，設置（E )防污被覆層所形成。