TWI246695B - Laminated ceramic capacitor and manufacturing method thereof - Google Patents
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- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 87
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 172
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 75
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 44
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 8
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 230000032798 delamination Effects 0.000 abstract description 18
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 abstract 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 12
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 11
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 2
- 241000218691 Cupressaceae Species 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000002496 gastric effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003921 particle size analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
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Description
J246695 玫"發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種疊層陶瓷電容器及其製造方法,具體 涉及具有薄層化的電介質陶瓷層和内部電極層交替疊層構 成的有效電介質部及重疊在其上下面、保護上述有效電介 5 質部的外部防護電介質層的疊層陶瓷電容器及其製造方 法0 【先前技術】 近年來,隨著電子部件的小型化、多功能化,疊層陶 10 瓷電容器進一步小型高容量化。即,疊層陶瓷電容器的電 介質陶瓷層的厚度(内部電極間距離)薄層化到l〇//m以 下,此外,電介質陶瓷層及内部電極層的疊層數多達100 層以上。隨著電介質陶瓷層的如此薄層化,構成電介質陶 瓷層的主結晶相的平均粒徑也達到左右,也促進了其 15 所用電介質粉末及玻璃粉末的微粒化。作為相關的專利文 獻,有特開平10 — 241987號公報及特開平9—97733號公報。 但是,在採用如此微粒的電介質粉末及玻璃粉末,形 成的疊層陶瓷電容器中,由於電介質粉末的高燒結收縮 率,如第3圖所示,保護層即外部防護電介質層(107)與含有 20 電介質陶瓷層(101)和内部電極層(103)的有效電介質部 (105)相比,燒結收縮率高,結果,形成外部防護電介質層 (107)的尺寸變小的形狀(外部防護電介質層(107)的收縮前 的尺寸用(L1)表示,收縮後的尺寸用(L2)表示)。另外,在 如此的疊層陶瓷電容器中,由於因燒結收縮差造A的费 Ϋ1續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁)> -4- 1246695 發明說明續頁 形’在外部防護電介質層和有效電介質部之間或有效電介 質部相互之間產生裂紋或脫層。 【發明内容】 5 本發明的目的是提供一種疊層陶瓷電容器及其製造方 法’即使對採用的電介質粉末進行微細化,也能夠在外部 防護電介質層和有效電介質部之間或有效電介質部相互之 間’抑制因燒結收縮差而產生的裂紋或脫層。 本發明的疊層陶瓷電容器,由陶瓷(ceramics)構成, 10其中構成包括:有效電介質部,至少交替疊層含有以BaTi03 作為主成分的主結晶相和以形成晶界及3重點晶界的si〇2 為主成分的2次相的電介質陶瓷層和内部電極層;外部防護 電介質層,重疊在該有效電介質部的疊層方向上下面,含 有至少與上述電介質陶瓷層相同成分的主結晶相及2次 15相,外部電極,與在含有該外部防護電介質層的上述電介 質部的兩端面導出的内部電極層電連接;上述外部防護電 介質層具有比上述有效電介質部的電介質陶瓷層低的燒結 性。 。 具體是,在本發明的疊層陶瓷電容器中,使上述外部 20防護電介質層中的上述主結晶相的平均粒徑,大於上述電 介質陶瓷層中的上述主結晶相的平均粒徑,並且,上述外 防邊電介質層中的上述2次相量,比上述電介質陶曼層中 的上述2次相量多。由此,能夠減小外部防護電介質層和有 效電介質部的最終的燒結收縮差,同時,即使增大所用電 -5- .1246695 發明說明$賣胃 介質粉末的平均粒徑,收縮開始溫度向高溫側的偏移也減 小^夠降低發生在外部防護電介質層和有效電介質部之 間的内部應力(變形),能夠抑制發生在如此薄層、高疊 層化的疊層陶瓷電容器的裂紋或脫層。 5 或者,在本發明的疊層陶瓷電容器中,相對於上述外
部防護電介質層中的主結晶相的2次相的體積分率,也可以 小於相對於上述電介質陶瓷層的主結晶相的2次栢的體積 分率。由此,即使在構成電介質陶瓷層的主結晶相中採用 微粒子時,也能夠得到無脫層的疊層陶瓷電容器。 10 本發明的疊層陶瓷電容器的製造方法,包括:形成由
有效疊層體和外部防護層構成的疊層體的工序,所述有效 疊層體,在含有電介質粉末和玻璃粉末的疊層的多層第1 電介質生片之間,夾裝内部電極圖形,所述外部防護層, 重疊在該有效疊層體的疊層方向的上下面,由含有與上述 15 第1電介質生片相同的電介質粉末和玻璃粉末的第2電介質 生片構成;以及切斷後燒結該疊層體的工序,上述各生片 所含的電介質粉末和玻璃粉末的比例是使上述第2電介質 生片的燒結性低於上述第1電介質生片的燒結性的比例。 具體是,使上述第2電介質生片中的上述電介質粉末的 20 平均粒徑,大於上述第1電介質生片中的上述電介質粉末的 平均粒徑,並且,上述第2電介質生片中的上述玻璃粉末 量,大於上述第1電介質生片中的上述玻璃粉末量。 如果採用這種製造方法,外部防護電介質層的主結晶 相的平均粒徑能夠大於有效電介質部的主結晶相的平均粒 •6- 發明說明 1246695 徑,並且,在2次相量方面,外部防護電介質層側也能夠多 於有效電介質部側,如此,能夠容易形成減小外部防護電 介質層和有效電介質部的最終燒結收縮差的疊層陶瓷電容 器。即,即使增大所用電介質粉末的平均粒徑,也減小收 5 縮開始溫度向高溫側的偏移,能夠降低發生在外部防護電 介質層和有效電介質部之間的變形,可以製作即使薄層、 高疊層化也能夠抑制裂紋或脫層發生的疊層陶瓷電容器。 或者,上述第2電介質生片中的玻璃成分量,也可以低 於上述第1電介質生片中的玻璃成分量。 10 由此,例如,即使是薄層高疊層化的且採用微粒化的 原料粉末形成的疊層陶瓷電容器,形成外部防護電介質層 的陶曼組織中的晶界及3重點晶界的2次相的體積分率’也 能夠小於上述有效電介質部的2次相的體積分率。具體是, 通過將該外部防護電介質層的2次相的體積分率設定為構 15 成有效電介質部的電介質陶瓷層的60%〜95%,延遲外部防 護電介質層的收縮開始溫度,能夠靠近相對於有效電介質 部的燒結溫度的收縮曲線。如此能夠抑制因燒結收縮開始 溫度的差異產生在有效電介質部和外部防護電介質層之間 界面的應力,能夠防止界面的剝離及在其附近發生的内部 20 電極層和電介質陶瓷層之間的脫層。 【實施方式】 實施方式1 本實施方式的疊層陶瓷電容器,如第一圖所示,具有 1246695 發明說明續頁 有助於產生電容的有效電介質部卜配置在該有效電介質 部(1)的上下面的無助於產生電容的外部防護電介質層 (3)、形成在上述有效電介質部(1)及外部防護電介質層 的端部的外部電極5。有效電介質部⑴由電介質陶竞層⑺ 5和内部電極層(9)交替疊層構成。 有效電介質部(1)的厚度(tl)和外部防護電介質層(3) 的厚度02),優選滿st2/tl 〇·〇5的關係。特別是其比 率(t2/tl)在〇·1以上,在相對於有效電介質部(1),外部 防護電介質層(3)的影響增大時,優選採用本發明。 10 第二圖是有效電介質部(1)和外部防護電介質層(7)間 的放大剖面圖。即,電介質陶瓷層(7)由陶瓷粒子構成的主 結晶相(11)、形成在該主結晶相(11)的晶界(13)及3重點晶 界(15)構成。主結晶相(11)至少將BaTi〇3作為主成分。 另外,晶界(13)及3重點晶界(15),由以si〇2為主成 15分的2次相(16)構成。外部防護電介質層(3)也由與構成有 效電介質部(1)的電介質陶瓷層(7)相同的成分構成的主結 晶相(11)和由晶界(13)及3重點晶界(15)構成的2次相(6)構 此外,在本發明中,重要的是,外部防護電介質層(3) 20中的主結晶相(11)的平均粒徑(D2)大於上述電介質陶竟 層(7)的主結晶相(π)的平均粒徑(di),以及上述外部防 濩電介質層(3)中的2次相量M2大於上述電介質陶瓷層(7) 中的2次相量Ml。具體是,優選外部防護電介質層中 的主結晶相(Π)的平均粒徑(D2)是上述電介質陶瓷層(7) -8- 1246695 發明說明續頁 的主結晶相(U)的平均粒徑(D1)的1.1〜1·5倍,更優選 是1.2〜1.4倍。 此外,優選外部防護電介質層(3)中的2次相量(Μ2) 是上述電介質陶瓷層(7)中的2次相量(Ml)的l〇1〜L5 倍’更優選是1.05〜ι·4倍。 10 即’在本發明中,關於燒結前的電介質粉末的平均粒 徑,通過使外部防護電介質層(3)側的平均粒徑(DG2)大 於電介質陶竞層⑺側的平均粒徑(DG1),在燒結前的密 度變大,燒結收縮量變小同時,外部防護電介質層(3)的燒 結開始溫度向高溫侧移動。另外,通過增大外部防護電介 質層(3)側的電介質粉末的平均粒徑(DG2),使成為以氧 化石夕作為主成分的2次相量(M2)的玻璃粉末量⑺) 15 20 :於成為電介質陶兗層⑺侧的2次相量(M1)的玻璃粉末 量(MG1),能夠使收縮開始溫度低溫化,能夠接近相對 於有效電介質部⑴的燒結溫度的收縮曲線,因此,能夠抑 制因燒結收縮開始溫度的差異發生在有效電介質部⑴和外 部防護電介質層(3)之間界面的變形,能夠高成品率製造在 界面無剝離及在其附近發生的内部電極層⑼和電介質陶瓷 層(7)之間無裂紋或脫層的疊層陶瓷電容器。 通過在用電子顯微鏡觀察陶竟斷面後,能夠用遮取法 (nnercept)求出主結晶相⑴)的平均粒徑㈤、叫。且 =照二的—區域中的對角線方 除 以對角線上存在的粒子數。 此外,電介質陶究層⑺的厚度為7_以下,優選5 -9- 1246695 Π-— 發明說明f賈胃 //m以下,更優選3/zm以下。此外,疊層數在100層以 上,優選150層以上,更優選200層。這樣,通過使電介 質陶瓷層(7)的厚度薄層化並且增加疊層數,能夠提高疊層 陶瓷電容器的靜電電容量。 5 此外,構成電介質陶瓷層(7)及外部防護電介質層(3) 的主結晶相(11)的平均粒徑(D2、D1)為0.5//m以下,優 選0.3//m以下,結果,本發明正好合適如此構成電介質陶 瓷層(7)或外部防護電介質層(3)的主結晶相(11)的平均粒徑 (D2、D1)變小的疊層陶瓷電容器。 10 另外,内部電極層(9)的厚度,基於降低對於有效電介 質部(1)的内部電極層(9)的變形應力影響的理由,在5//m 以下,優選3/zm以下,更優選2//m以下。 内部電極層(9),從謀求小型高容量的疊層陶瓷電容器 的低成本化方面考慮,優選Ni、Cu、Ag、Ag—Pd等金屬 15 中的任何一種或它們的合金,從能夠與主成分BaTi03同時 燒結角度考慮,更優選Ni。 下面,詳細說明本發明的疊層陶瓷電容器的製造方法。 首先,在含有粘合劑的分散劑中分散,例如BaTi03系 的電介質粉末、至少含有規定量的Si02的玻璃粉末及各種 20 微量的添加劑,得到陶瓷粘合液。然後,採用已知的塗料 器如刮板等,塗佈得到的粘合液,進行片材成形,在燒結 後,得到成為電介質陶瓷層(7)的第1電介質生片。 此外,形成構成燒結前的疊層體的外部防護層,即, 也按與上述第1電介質生片相同的順序製作,在燒結後成 1246695 _ 發明說明續頁 為外部防護電介質層(3)的第2電介質生片。 此時,重要的是,第2電介質生片中的電介質粉末的平 均粒徑大於第1電介質生片的電介質粉末的平均粒徑,以及 第2電;|質生片中的玻璃粉末量(mg2)大於第1電介質生 5片中的玻璃粉末量(MG1)。具體是,優選第2電介質生片 中的電介質粉末的平均粒徑(DG2)是第1電介質生片中的
電介質粉末的平均粒徑(DG1)的1·1〜1.5倍,更優選是L2 〜1.4倍。 此外,優選第2電介質生片中的玻璃粉末量(Mg2)是 10第1電介質生片中的玻璃粉末量(MG1)的1.01〜1.5倍,更 優選是1.05〜1.4倍。
由此,通過增加玻璃粉末量,抵消採用平均粒徑大的 電介質粉末的第2電介質生片的收縮開始溫度的高溫化,能 夠接近相對於成為有效電介質部的第丨電介質生片的燒 15結溫度的收縮曲線,如此能夠抑制因燒結收縮開始溫度的 差異發生在有效電介質部和外部防護電介質層之間 的界面的變形,能夠防止界面的剝離及在其附近發生的内 部電極層9和電介質陶瓷層7之間的脫層。 此外,在本發明的製造方法中,構成上述第丨電介質 20生片和第2電介質生片的電介質粉末的平均粒徑(DG1、 DG2 )為0·5 // m以下,優選〇·4 " m以下。 另外’玻璃粉末的平均粒徑為〇 3〜1.2/zm,優選0·4 〜0.8"m的範圍。此外,本發明中的電介質粉末的平均粒 徑,指的是料漿調整後的平均粒徑。此外,本發明的電介 -11- 1246695 - 發明說明#賣胃 質粉末的平均粒徑是粒度分析中的50%累積值(D50)。 此外,本發明中的前期第1電介質生片的厚度在8//m 以下,優選6//m以下,更優選4/zm以下。此外,疊層數 為100層以上,優選150層以上,更優選200層以上。 5 下面,在上述第1電介質生片上面,印刷含有從Ni、
Cu、Ag、Ag—Pd等金屬中選擇的至少一種金屬粉末的導 電糊,通過乾燥,製作形成内部電極圖形的第1電介質生 片。内部電極圖形的厚度為5/zm以下,優選3/zm以下。 如此,使内部電極圖形薄層化的金屬粉末的平均粒徑優選 10 在 0.2〜0.5 a m。 此外,在疊層型電子部件的高疊層化中,沒有附設内 部電極圖形的部分,作為内部電極圖形的厚度形成的階梯 差,由於對疊層型電子部件有大的結構缺陷的影響,為避 免此影響,優選在去除上述第1電介質生片的内部電極圖 15 形的部分,印刷與該第1電介質生片相同組成的電介質陶 瓷糊,形成陶瓷圖形。 下面,疊層多片附設上述内部電極圖形的第1電介質 生片,燒結後形成發現靜電電容量的有效電介質體,然後, 在該有效電介質體的上下兩面,疊層多片成為外部防護層 20 的第2電介質生片,熱壓形成疊層體。之後,按要求的尺 寸對該疊層體進行切斷,得到各種未燒結的電容器主體用 成形體。其後,在規定的條件下,燒結上述未燒結的電容 器主體用成形體,得到電容器主體。 下面,如第一圖所示,在導出該電容器主體的内部電 -12- 1246695 ---- 發明說明$賣胃 極層(9)的端面,附著外部電極糊,燒結,得到附設外部電 極的疊層陶瓷電子部件。 實施方式2 本實施方式的疊層陶瓷電容器,基本上具有與第一 5 圖、第二圖所示的實施方式1相同的結構,但在本實施方 式中,重要的是,相對於外部防護電介質層(3)中的主結晶 相(主相)的2次相的體積分率,小於相對於上述電介質 陶瓷層(7)的主結晶相(主相)的2次相的體積分率。 具體是,優選上述相對於外部防護電介質層(3)中的主 10 結晶相(主相)的2次相的體積分率是相對於上述電介質 陶瓷層(7)的主結晶相(主相)的2次相的體積分率的60% 〜95%,更優選是70%〜90%。如此,能夠進一步抑制夾裝 在電介質陶瓷層(7)之間的内部電極層(9)的燒結收縮產生 的變形應力,能夠抑制脫層。 15 通過例如用電子顯微鏡觀察求出主結晶相及2次相的 各截面面積,能夠從以下公式求出上述體積分率。 體積分率(%) ={ (2次相的截面積)/ (主結晶相的 截面積)}x 100 本實施方式的疊層陶瓷電容器,基本上可以通過與第 20 一圖、第二圖所示的實施方式1的疊層陶瓷電容器相同的 工序進行製造,但在本實施方式中,重要的是,以第2電 介質生片中所含的以Si02為主成分的玻璃成分量小於第1 電介質生片中的玻璃成分量。具體是,優選第2電介質生 片中的玻璃成分量是第1電介質生片中的玻璃成分量的 -13- 1246695 [―— - 發明說明 60%〜95質量%,更優選在70%〜90質量%的範圍。由此, 延遲成為外部防護電介質層(3)的第2電介質生片的收縮開 始溫度,能夠靠近相對於成為有效電介質部(1)的第1電介 質生片的燒結溫度的收縮曲線,因此,能夠抑制因燒結收 5 縮開始溫度的差異發生在有效電介質部(1)和外部防護電介 質層(3)之間界面的應力,能夠抑制界面剝離及在其附近發 生的内部電極層(9)和電介質陶瓷層(7)之間的脫層。其他方 面與實施方式1相同。 另外,本發明可以在要求保護的範圍内進行種種改進 10 或修正。 以下,以實施例詳細說明本發明。
實施例I 首先,作為用於第1電介質生片用的陶瓷料漿的陶瓷 粉末,採用平均粒徑0.3/zm的BaTi〇3粉末,作為燒結助 15 劑,採用以平均粒徑0.6 μ m的Si〇2作為主成分的玻璃粉 末。作為陶瓷料漿的溶劑,按1 1的重量比,混合甲苯和 乙醇,在形成的混合溶劑中溶解聚乙烯醇縮丁醛及可塑 劑,得到粘合劑溶液,在該粘合劑溶液中,按規定的混合 比添加BaTi03粉末和玻璃粉末,利用球磨機分散,調製成 20 陶瓷料漿。採用刮刀法,在聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET) 等載體薄膜上塗佈該陶瓷料漿,製作厚3//m、6/zm、8/zm 的第1電介質生片。 另外,作為第2電介質生片用的陶瓷料漿,如表1所 示,除使用平均粒徑比上述第1電介質生片用的陶瓷料漿 -14- 1246695 發明說明 中的電介質粉末大的電介質粉末且增加玻璃粉末量外,其 餘的與上述製作方法相同地製作陶瓷料漿。然後,採用刮 刀法,將製作的陶瓷料漿塗佈在上述載體薄膜上,製作成 厚10/zm外部防護電介質層用的第2電介質生片。另外, 5 關於粉碎混合的料漿的調製條件,兩生片相同。調製的料 漿的内容見表1。 下面,在各厚度的第1電介質生片上,塗佈含有Ni的 導電糊,形成内部電極圖形,從載體薄膜上剝離形成有内 部電極圖形的第1電介質生片,如此疊層300層,在其上 10 下,在上下面各疊層20層各玻璃含量的外部防護薄膜,製 作本發明的疊層體。内部導體的厚度調整到為各生片厚度 的0.5倍的厚度。 然後,切斷該疊層體,製作電容器主體用成形體,在 脫脂處理後,在還原氣氛下進行燒結,得到電容器主體。 15 各第1電介質生片及第2電介質生片的組合如表1所示。 下面,在該電容器主體的兩端面,塗佈外部電極糊, 經過燒結,形成外部電極,製成長3.2mmx寬2.5mm尺寸 的疊層陶瓷電容器。 作為構成電介質陶瓷層及外部防護電介質層的陶瓷組 20 成的評價,進行陶瓷組成的電子顯微鏡觀察,求出含有主 結晶相即BaTi〇3的結晶相的平均粒徑和由晶界及3重點晶 界構成的2次量。在本發明中,即使在燒結後,也反映出 在採用的第1及第2電介質生片中各自所用的各電介質粉 末比和玻璃量比。 .1246695 發明說明續頁 此外’作為結構缺陷的評價,求出了在1〇〇個疊層陶 瓷電容器中的脫層發生率。此外,作為疊層陶瓷電容器的 可靠性的評價,進行了溫度差280°C的軟焊料耐熱衝擊試 驗’求出了 100個試樣中的裂紋發生率。 另外,作為比較例,採用在第1電介質生片及第2電 介質生片中所含的玻璃成分含量分別相等的電介質生片, 製作相同的疊層陶瓷電容器,進行了相同的評價,以上結 果見表1。 表1
均粒徑:質層/電介質陶竟層的關係中的主結晶相的平 率。外4防4電”質層/電介質陶竟層的關係中的2次相量的比 -16- 1246695 - 發明說明 由表1的結果可以看出,在構成外部防護電介質層的主 結晶相的平均粒徑大於構成有效電介質部的電介質陶瓷層 的、且2次相量大的試樣No I — 2〜14中,起因於發生在外 5 部防護電介質層和有效電介質部之間的燒結開始溫度的差 的變形造成的剝離或發生在有效電介質部之間的裂紋或脫 層,在燒結後為10%以下,在軟焊料耐熱衝擊試驗後為3% 以下。 特別是,在外部防護電介質層的主結晶相的平均粒徑 10 為電介質陶瓷層的主結晶相的平均粒徑的Μ〜1.5倍的,且 2次相量為1.01〜1.5倍的試樣No I— 3〜14中,燒結後的裂 紋、脫層的發生率在5%以下,軟焊料耐熱衝擊試驗後在1% 以下。 另外,作為比較例,在外部防護電介質層及電介質陶 15 瓷層的平均粒徑和玻璃量相同的,或外部防護電介質層或 電介質陶瓷層的任何一層的平均粒徑或玻璃量相同的試樣 No I— 1及15中,在燒結後,在全部的疊層陶瓷電容器的外 部防護電介質層和電介質陶瓷層的界面,都發生脫層。
實施例II 20 與實施例I同樣,在載體薄膜上製作厚3/zm、6//m、 8//m的第1電介質生片。 另外,厚10#m的外部防護層用第2電介質生片,如 表1所示,相對於上述第1電介質生片用的陶瓷料漿的玻 璃成分添加量,採用按60質量%〜95質量%的範圍調整的 -17-
,1246695 第2電介質生片用的陶瓷料漿,其他通過與上述製作方法 相同的方式製作。 下面,在各厚度的第1電介質生片上,塗佈含有Ni的 導電糊,形成内部電極圖形,從載體薄膜上剝離形成有内 5 部電極圖形的第1電介質生片,如此疊層300層,在其上 下,在上下面各疊層20層各玻璃含量的外部防護薄膜,製 作本發明的疊層體 然後,切斷該疊層體,製作電容器主體用成形體,在 脫脂處理後,在還原氣氛下進行燒結,得到電容器主體。 10 各第1電介質生片及第2電介質生片的組合如表1所示。 下面,在該電容器主體的兩端面,塗佈外部電極糊, 經過燒結,形成外部電極,製成長3.2mmx寬2.5mm尺寸 的疊層陶瓷電容器。 作為構成電介質陶瓷層及外部防護電介質層的陶瓷組 15 成的評價,進行陶瓷組成的電子顯微鏡觀察,求出主結晶 相即含BaTi03的粒子和2次相(晶界及3重點晶界)的體 積分率的差。此時,構成電介質陶瓷層及外部防護電介質 層的主結晶相的平均粒徑為0.5 // m。 此外,作為結構缺陷的評價,求出了在100個疊層陶 20 瓷電容器中產生脫層的發生率。此外,作為疊層陶瓷電容 器的可靠性的評價,進行了溫度差280°C的軟焊料耐熱衝 擊試驗,求出了 100個試樣中的裂紋發生率及85°C、64V 時的300個試樣的48小時後的故障率。 另外,作為比較例,採用在第1電介質生片及第2電 -18- 1246695 r---- 發明說明_胃 介質生片中所含的玻璃成分含量分別相等的電介質生片, 製作相同的疊層陶瓷電容器,進行了相同的評價,以上結 果與本發明的結果一同示於表2。 表2 試樣 No. 第1電介質 生片厚度 (//m) 2次相體積 分率(*4) (體積%) 脫層發生率 高溫負荷試驗 故障率(%) 燒結後 (%) 軟焊料耐熱衝 擊試驗後(%) II 一 1 3 70 0 0 0 II-2 3 80 0 0 0 II—3 3 90 0 0 0 II-4 5 60 1 2 0 II一 5 5 70 0 0 0 II一6 5 80 0 0 0 II 一 7 5 90 0 0 0 II-8 5 95 1 2 卜0 *11-9 5 100 100 6 0.3 II 一 10 * 8 70 0 0 0 表示本發明範圍以外的試樣。 *4:表示電介質陶瓷層中的2次相體積分率/外部防護電介質層 中的2次相體積分率。 由表2的結果可以看出,在試樣No Η— 、10中,以 10構成外部防護電介質層的陶瓷組成中的si〇2作為主成分的 2次相的體積分率,小於構成有效電介質部的電介質陶瓷層 的2次相的體積分率,因起因於發生在外部防護電介質層和 有效電介質部之間的燒結開始溫度的差的應力的剝離或發 生在有效電介質部之間的脫層,在燒結後為1%以下,在軟 15焊料耐熱衝擊試驗後為2%以下,高溫負荷試驗故障率為 -19- .1246695 -—— 發明說明_囊 0%。特別是在上述比率為60%〜90%的試樣No II -1〜3、5 〜7及10中,在燒結後及軟焊料耐熱衝擊試驗後的各階段均 未發生脫層。 另外,在用相同陶瓷組成製作外部防護電介質層及電 5 介質陶瓷層的試樣No II-9中,在燒結後,在全部疊層陶瓷 電容器的外部防護電介質層和電介質陶瓷層的界面,都發 生脫層,高溫負荷試驗故障率也為0.3%。 -20- 發明說明_胃 1246695 【圖式簡單說明】 第一圖是表示本發明的疊層陶瓷電容器的一實施方式 的概略剖面圖。 第二圖是有效電介質部和外部防護電介質層之間的放 5 大剖面圖。 第三圖是表示外部防護電介質層與有效電介質部相比 收縮後的疊層陶瓷電容器的概略剖面圖。 【圖式符號說明】 10 1有效電介質部 3外部防護電介質層 5外部電極 7電介質陶瓷層 9内部電極層 tl有效電介質部的厚度 t2外部防護電介質層的厚度 15 11主結晶相 13晶界 15重點晶界 16 2次相 D1電介質陶瓷層的主結晶相的平均粒徑 D2主結晶相11的平均粒徑 20 101電介質陶瓷層 103内部電極層 105有效電介質部 107外部防護電介質層 L1外部防護電介質層收縮前的尺寸 L2外部防護電介質層收縮後的尺寸 -21-
Claims (1)
1246695 拾、申請專利範圍 1·一種疊層陶瓷電容器,由陶瓷構成,其中構成包括; 有效電介質部,至少交替疊層含有以BaTi〇3作為主成 分的主結晶相和以形成晶界及3重點晶界的Si〇2為主成分 的2次相的電介質陶瓷層和内部電極層; 5 外部防護電介質層,重疊在該有效電介質部的疊層方 向上下面,含有至少與上述電介質陶瓷層相同成分的主結 晶相及2次相; 外部電極,與在含有該外部防護電介質層的上述電介 質部的兩端面導出的内部電極層電連接, 10 上述外部防護電介質層具有比上述有效電介質部的電 介質陶瓷層低的燒結性。 2·如申請專利範圍第1項所述的疊層陶瓷電容器,其 中,使上述外部防護電介質層中的上述主結晶相的平均粒 徑,大於上述電介質陶瓷層中的上述主結晶相的平均粒 15徑,並且,上述外部防護電介質層中的上述2次相量,比上 述電介質陶瓷層中的上述2次相量多。 3·如申請專利範圍第2項所述的疊層陶瓷電容器,其 中,外部防護電介質層t的主結晶相的平均粒徑(D2)和 電介質陶兗層中的主結晶相的平均粒徑(D1)的比即D2/ 20 D1在丨.1〜1.5的範圍。 4·如申凊專利範圍第2項所述的疊層陶瓷電容器,外部 防護電介質層巾的2次相量和電介質陶竞層中的2次相量的 比即在1·〇1〜1·5的範圍。 5·如申請專利範圍第1項所述的疊層陶瓷電容器,其 0續次頁(申諝專利範圍頁不敷使卿,請註記並使用續頁) -22- 1246695
中’相對於上述外部防護電介質層中的主結晶相的2次相的 體積分率,小於相對於上述電介質陶瓷層的主結晶相的2 次相的體積分率。 6·如申請專利範圍第5項所述的疊層陶瓷電容器,其 5中’相對於上述外部防護電介質層中的主結晶相的2次相的 體積分率’是相對於上述電介質陶瓷層中的主結晶相的2 次相的體積分率的60%〜95%。
7·如申請專利範圍第1項所述的疊層陶瓷電容器,其特 徵在於:有效電介質部的厚度(tl )和外部防護電介質層 10的厚度〇2)滿足t2/tl 0·05的關係。 8·如申請專利範圍第1項所述的疊層陶瓷電容器,電介 質陶竟層的厚度在7//m以下,且疊層數在1〇〇以上。 9. 如申請專利範圍第1項所述的疊層陶瓷電容器,其 中’構成電介質陶瓷層及外部防護電介質層的主結晶相的 15平均粒程在〇.5/zm以下。 10. —種疊層陶瓷電容器的製造方法,包括:
形成由有效疊層體和外部防護層構成的疊層體的工 序,所述有效疊層體,在含有電介質粉末和玻璃粉末的疊 層的多層第1電介質生片之間,夾裝内部電極圖形,所述外 2〇部防護層,重疊在該有效疊層體的疊層方向的上下面,由 含有與上述第1電介質生片相同的電介質粉末和玻璃粉末 的第2電介質生片構成; 對該疊層體切斷後進行燒結的工序, 上述各生片所含的電介質粉末和玻璃粉末的比例是使 -23- 1246695
上述第2電介質生片的燒結性低於上述第丨電介質生片的燒 結性的比例。 u·如申請專利範圍第10項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法,其中,使上述第2電介質生片中的上述電介質粉 5末的平均粒徑,大於上述第1電介質生片中的上述電介質粉 末的平均粒徑,並且,上述第2電介質生片中的上述玻璃粉 末量,大於上述第1電介質生片中的上述玻璃粉末量。 12·如申請專利範圍第丨丨項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法,其中,第2電介質生片中的上述電介質粉末的平 10均粒徑和第1電介質生片中的上述電介質粉末的平均粒徑 的比在1.1〜1·5的範圍内。 13·如申請專利範圍第U項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法,其中,第2電介質生片中的玻璃粉末量和第1電 介質生片中的玻璃粉末量的比在1.01〜1.5範圍内。 15 Μ·如申請專利範圍第10項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法’其中,上述第2電介質生片中的玻璃成分量低於 上述第1電介質生片中的玻璃成分量。 15·如申請專利範圍第14項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法’其中’上述第2電介質生片中的玻璃成分含量, 20相對於上述第1電介質生片中的玻璃成分含量,以質量比計 為 60%〜95%。 16·如申請專利範圍第10項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法’其中,構成上述第1電介質生片及上述第2電介 質生片的電介質粉末的平均粒徑在0.5 # m以下。 -24- 1246695
17.如申請專利範圍第10項所述的疊層陶瓷電容器的 製造方法,其中,上述第1電介質生片的厚度在8/zm以下, 且疊層數在100以上。 -25-
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003048234A JP4129406B2 (ja) | 2003-02-25 | 2003-02-25 | 積層セラミックコンデンサの製法 |
| JP2003151139A JP4349843B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | 積層セラミックコンデンサおよびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200421363A TW200421363A (en) | 2004-10-16 |
| TWI246695B true TWI246695B (en) | 2006-01-01 |
Family
ID=33455402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW093104843A TWI246695B (en) | 2003-02-25 | 2004-02-25 | Laminated ceramic capacitor and manufacturing method thereof |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6839221B2 (zh) |
| KR (1) | KR101108958B1 (zh) |
| CN (1) | CN100437848C (zh) |
| TW (1) | TWI246695B (zh) |
Families Citing this family (48)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005159224A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Tdk Corp | 積層セラミックコンデンサ |
| JP4182007B2 (ja) | 2004-01-30 | 2008-11-19 | Tdk株式会社 | 積層セラミックコンデンサ |
| JP4073416B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-04-09 | Tdk株式会社 | 積層セラミックコンデンサ |
| US7365958B2 (en) * | 2004-10-27 | 2008-04-29 | Kyocera Corporation | Dielectric ceramics, multilayer ceramic capacitor and method for manufacturing the same |
| JP4789449B2 (ja) * | 2004-10-27 | 2011-10-12 | 京セラ株式会社 | 誘電体磁器およびそれを用いた積層セラミックコンデンサ |
| WO2006103954A1 (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Kyocera Corporation | 積層セラミックコンデンサおよびその製法 |
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| JP2009200168A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Tdk Corp | セラミック電子部品、セラミック電子部品の製造方法、及びセラミック電子部品の梱包方法 |
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| KR101101612B1 (ko) * | 2009-12-15 | 2012-01-02 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 커패시터 |
| KR101141369B1 (ko) * | 2010-12-13 | 2012-05-03 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 콘덴서 및 그 제조방법 |
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| CN103125006B (zh) * | 2011-02-23 | 2016-04-20 | 株式会社村田制作所 | 层叠陶瓷电容器 |
| JP5313289B2 (ja) * | 2011-04-15 | 2013-10-09 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサ |
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| KR101548773B1 (ko) * | 2011-08-22 | 2015-08-31 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조 |
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| GB2502971B (en) * | 2012-06-11 | 2017-10-04 | Knowles (Uk) Ltd | A capacitive structure |
| KR101771728B1 (ko) * | 2012-07-20 | 2017-08-25 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 전자부품 및 이의 제조방법 |
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| KR101681358B1 (ko) | 2013-04-08 | 2016-11-30 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조방법 |
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| JP7535005B2 (ja) * | 2021-03-31 | 2024-08-15 | Tdk株式会社 | 積層電子部品 |
| JP7681485B2 (ja) | 2021-09-28 | 2025-05-22 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
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| JP2023129774A (ja) * | 2022-03-07 | 2023-09-20 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミック電子部品 |
| KR20240133138A (ko) | 2023-02-28 | 2024-09-04 | 삼성전기주식회사 | 적층형 전자 부품 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0739019B1 (en) * | 1994-10-19 | 2003-12-03 | TDK Corporation | Multilayer ceramic chip capacitor |
| JPH0997733A (ja) | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層セラミック部品の製造方法 |
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-
2004
- 2004-02-16 KR KR1020040010034A patent/KR101108958B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-25 TW TW093104843A patent/TWI246695B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-02-25 CN CNB2004100066946A patent/CN100437848C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-25 US US10/786,526 patent/US6839221B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20040233612A1 (en) | 2004-11-25 |
| US6839221B2 (en) | 2005-01-04 |
| CN1525503A (zh) | 2004-09-01 |
| CN100437848C (zh) | 2008-11-26 |
| KR20040076596A (ko) | 2004-09-01 |
| TW200421363A (en) | 2004-10-16 |
| KR101108958B1 (ko) | 2012-01-31 |
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|---|---|---|---|
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