TWI244979B - Film for optical applications - Google Patents

Description

1244979 五、發明說明（1) 發明領域 本發明關於一種光學用薄膜，更詳而言之，關於一種具 有防止電漿顯示器（PDP)、布勞恩管（CRT)、液晶顯示器 (LCD)等的影像顯示元件之表面的光反射之效果而且耐擦 傷性優良、製造成本低的光學用薄膜。 先前技術 就PDP、CRT、LCD等的顯示器而言，當外來光線射入畫 面時，由於該光的反射會難以見到所顯示的影像。特別地 ，近年來由於隨著平面板顯示器的大型化，而使得上述問 題的解決係愈來愈重要的。 爲了解決該問題，至目前爲止對於各種顯示器已有提出 各式各樣的抗反射處理或防眩處理。其中之一爲使用抗反 射膜於各種顯示器。 該抗反射膜的製作以往係藉由蒸鍍或濺鍍等的乾製程， 在基材上將低折射率物質（MgF2)薄膜化之方法，或將高折 射率物質[ITO(經錫摻雜的氧化銦、Ti02等）]和低折射率 物質（MgF2、Si 02等）交互積層的方法等而製作得。然而， 該乾製程法所製作的抗反射膜僅難以避免製造成本高的問 題。 因此近年來，嘗試以濕製程法，即塗覆法，來製作抗反 射膜。然而，與上述乾製程法所製作的抗反射膜比較下， 濕製程法所製作的抗反射膜有表面耐擦傷性差的問題。 發明所欲解決的問題 1244979 五、 發明說明 ( 2) 本 發 明 以 上 述情 況爲基礎’目的爲提供一種光學用薄膜 J 其 具 有 防 止 PDP 、CRT、LCD等的影像顯示元件之表面的 光 反 射 之 效 果 ，而 且耐擦傷性優良、製造成本低。 解 決 問 題 的 手 段 本 案 發 明 人 經由 精心銳意的重複硏究抗反射性及耐擦傷 性 優 良 而 且 價 廉的 抗反射膜，結果發現在基材薄膜上，藉 由 濕 製 程 依序 積層 具有特定性狀和厚度的硬塗層、高折射 率 層 及 低 折射 率層 ，及視情況地設有防污塗層，則所得到 的 抗 反 射 膜 係 爲適 合上述目的之光學用薄膜。以該知識爲 基 礎 而 兀 成本發 明。 即 5 本 發 明 爲提 供： (1) -- 種 光 學用 薄膜，其包括在基材薄膜的至少一面上 依 序 積 層 的 (A) — -厚度2〜20μπι的硬塗層，其含有電離放 射 線 所 硬 化的 樹脂 ;(Β)—厚度60〜160nm的高折射率層， 其 含 有 電 離 放射線 所硬化的樹脂及至少兩種金屬氧化物（ 包含 一 經 銻 摻 雜的 氧化錫）且具有折射率在1.65〜1.80的 範 圍 內 9 及 (C) 一厚度80〜180nm的低折射率層，其含有矽 氧 院 系 聚 合 物 且具 有折射率在1 . 37〜1 . 47的範圍內， (2) 如 第 1 項所記載的光學用薄膜，其中（A )硬塗層係 防 眩 性 硬 塗 層 1 (3 ) 如 第 1 或 2項所記載的光學用薄膜，其中在（B)高 折 射 率 層 中 ， 全部 金屬氧化物中之經銻摻雜的氧化錫的含 量 係 25 〜90 重 量％， -4- 1244979 五、 發明說明 (3) (4) 如第 1、2或3項所記載的光學用薄膜，其中在（Β) 筒 折射 率層 中的至少兩種金屬氧化物係經銻 摻雜的氧化 鈦 及 /或經錫摻雜的氧化銦之混合金屬氧化物， (5) 如第 1至4項中任一項所記載之光學 用薄膜，其 中 (C)低折射率層係具有抗靜電性，及 (6) 如申 請專利範圍第1至5項中任一項 所記載之光 學 用 薄膜 ，其 中在（C )低折射率層上更設有（D ) _ 一防污塗層 〇 發 明的 實施 形態 本發 明的 光學用薄膜爲一種抗反射膜，其 爲藉由濕製 程 法 ，在 基材 薄膜的至少一面上依序積層（Α)硬塗層、（Β) 高 折射率 層及 (C)低折射率層，以及視需要在該（C)低折射 率 層 上更 設有 (D)防污塗層而成的構造。 未特別限 制本發明的光學用薄膜之基材薄 膜，可從以 往 作 爲光 學用 抗反射膜基材之已知塑膠薄膜中 適當地選擇 使 用 。該 塑膠 薄膜例如爲聚對酞酸乙二酯、聚 對酞酸丁二 酯 Λ 聚萘 二甲 酸乙二酯等的聚酯薄膜、聚乙烯 薄膜、聚丙 烯 薄 膜、 玻璃 紙、二乙醯基纖維素薄膜、三乙 醯基纖維素 薄 膜 、乙 醯丁 酸纖維素薄膜、聚氯乙烯薄膜、 聚偏二氯乙 烯 薄 膜、 聚乙 烯醇薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共 聚物薄膜、 聚 苯 乙烯 薄膜 、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄 膜、聚碾薄 膜 Λ 聚醚 醚酮 薄膜、聚醚楓薄膜、聚醚醯亞胺 薄膜、聚醯 亞 胺 薄膜 、氟 樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸: 樹脂薄膜等 0 該基 材薄 膜可爲透明或半透明，又可爲被 -5- 著色或沒有 著 1244979 五、發明說明（4) 色之物，視用途而適當地選擇。例如在作爲液晶顯示體之 保護用的情況中，較佳爲無色透明的薄膜。 未特別限制該基材薄膜的厚度，而可適當地選擇，然而 一般在15〜250 μπι的範圍內，較佳30〜200 μπι。又，爲了提 高該基材薄膜與其表面上所設置的層之密著性，可在所欲 的單面或兩面上施予氧化法或凹凸化法等的表面處理。作 爲該氧化法，例如有電暈放電處理、鉻酸處理（濕式）、火 炎處理、熱風處理、臭氧·紫外線照射處理等。又，作爲 該凹凸化法，例如有噴砂法、溶劑處理法等。可視基材薄 膜的種類來選擇該表面處理法，但是一般由效果和操作性 看，較宜使用電暈放電處理法。又，可以對單面或兩面施 予電漿處理。 本發明的光學用薄膜中，首先在上述基材薄膜的至少一 面設置（A )含有電離放射線所硬化的樹脂之硬塗層。該硬 塗層較佳爲具有防眩性，因此在該硬塗層中，連同上述電 離放射線所硬化的樹脂，可含有賦予防眩性的各種塡充劑 〇 該硬塗層例如可由電離放射線硬化性樹脂與，視需要地 ，含有賦予防眩性之塡充劑或光聚合引發劑等的硬塗層形 成塗佈液，在基材薄膜上塗覆以形成塗膜，經電離放射線 照射，使該塗膜硬化而形成者。 作爲上述電離放射線硬化性樹脂，例如有光聚合性預聚 物及/或光聚合性單體。上述光聚合性預聚物係爲自由基 1244979 五、發明說明（5 ) 聚合型或陽離子聚合型，自由基聚合型的光聚合性預聚物 例如爲聚酯丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、胺甲酸酯丙烯 酸酯系、多醇丙烯酸酯系等。聚酯丙烯酸酯系預聚物例如 可爲由多元羧酸與多元醇之縮合所得到的兩末端具有羥基 的聚酯寡聚物之羥基經（甲基）丙烯酸酯所酯化，或多元羧 酸經環氧烷類所加成而得到的寡聚物之末端的羥基經（甲 基）丙烯酸酯所酯化而得到者。環氧丙烯酸酯系預聚物例 如可爲由比較低分子量的雙酚型環氧樹脂或酚醛淸漆型環 氧樹脂的環氧乙烷與（甲基）丙烯酸酯反應酯化而獲得者。 胺甲酸酯丙烯酸酯系預聚物例如可爲由聚醚多醇或聚酯多 醇與聚異氰酸酯的反應而得到的聚胺甲酸酯寡聚物經（甲 基）丙烯酸酯所酯化而得到者。再者，多醇丙烯酸酯系預 聚物可爲由聚醚多醇之羥基經（甲基）丙烯酸酯所酯化而得 到者。可以使用一種或組合兩種以上來使用該光聚合性預 聚物。 另一方面，作爲陽離子聚合型的光聚合性預聚物，通常 使用環氧系樹脂。該環氧系樹脂例如爲雙酚樹脂或酚醛淸 漆樹脂等的多價酚類經環氧氯丙烷等所環氧化的化合物、 直鏈狀烯烴化合物或環狀烯烴化合物經過氧化物等所氧化 而得到的化合物等。 又，光聚合性單體例如可爲1，4 - 丁二醇二（甲基）丙烯酸 酯、1，6 -己二醇二（曱基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙 烯酸酯、聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯 1244979 五、發明說明（6) 二（甲基）丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二（甲基）丙 烯酸酯、二環戊基二（甲基）丙烯酸酯、己內酯改質的二環 戊烯基二（甲基）丙烯酸酯、環氧乙烷改質的磷酸二（甲基） 丙烯酸酯、烯丙基化環己基二（甲基）丙烯酸酯、異三聚氰 酸二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、 二異戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、丙酸改質的二異戊四醇三 (甲基）丙烯酸酯、異戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、環氧丙烷 改質的三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、參（丙烯醯氧基） 異三聚氰酸酯、丙酸改質的二異戊四醇五（甲基）丙烯酸酯 、二異戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、己內酯改質的二異戊四 醇六（甲基）丙烯酸酯等之多官能丙烯酸酯。可以使用一種 或組合兩種以上來使用該光聚合性單體，又可以倂用上述 光聚合性預聚物。 另一方面，作爲視需要的光聚合引發劑，對於自由基聚 合型的光聚合性預聚物或光聚合性單體而言，例如可爲苯 偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻 正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯乙酮、二甲基胺基苯乙酮、 2, 2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙 酮、2 -羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己基苯基 酮、2 -甲基-1-[4-(羥甲基）苯基]-2 -嗎啉基-丙-1-酮、4-(2 -羥乙氧基）苯基-2(羥基-2-丙基）酮、二苯基酮、對苯 基二苯基酮、4，4’-二乙胺基二苯基酮、二氯二苯基酮、 2 -甲基蒽醌、2 -乙基蒽醌、2 -第三丁基蒽醌、2 -胺基蒽醌 1244979 五、 發明說明（ 、 ) 2-甲 基 噻噸 酮 、2- 乙基噻 噸酮、2 -氯噻 噸 酮 、 2, 4- 二 甲 基 噻噸 酮 、2, 4- 二乙 基噻噸 酮、苄基二甲 基 縮 酮 、 對 二 甲 基 胺基 苯 甲酸 酯 等。 又，對 於陽離子聚合 型 的 光 聚 合性 預 聚 物而 言 ，光 聚 合引 發劑例 如可爲芳香族 銳 離 子 、 芳 香 族 酮 基毓 離 子、 芳 香族 碘鐵等 的鏺、四氟硼 酸 鹽 、 卞‘ 氟 磷 酸 鹽 、六 氟 銻酸 鹽 、六 氟砷酸 鹽等的陰離子 所形成 的 化 合 物 0 可以使 用一 種 或組 合兩種 以上來使用它 們 〇 又 其 配 合 量 就相 對 於100 重量份上述光聚合性預聚物及/ 或 光 聚 合 性 単體 而 言， 通 常在 2〜10重量份的範圍內 丨。 另一 方 面， 作 爲視 需要的 賦予防眩性之 塡 充 劑 ， 可 由 以 往 已知 之 能賦 予 防眩 性的塡 充劑中適當地 ^已巳 擇 使 用 〇 該 塡 充 劑例 如 可爲 平均粒 徑 1 . 5- 、7μΐΙ1程度的矽 石 粒 子 膠 體 狀 矽石粒 子 的胺 基 化合 物之凝 集物，平均粒 徑 0 .5 〜1 0 μπι 程 度 ,或 平 :均粒徑0 . 5 〜5μιη 程度之矽石粒子與: 均 粒 徑 1 〜60nm 程 [度之金 :屬氧 ，化物微 粒子的混合物 等 〇 該 塡 充 劑 在 硬 塗層 中 的含 量 係以 所得到 的光學用薄膜 之 防 眩 性 能 或 耐 擦 傷性 等 作考 量 而適 當地選 擇。 本發 明 中所 用 的硬 塗層形 成用塗佈液視 情 況 地 可在 適 當 的 溶劑 中 ，將 上 述電 離放射 線硬化性化合 物 及 視 需 要 的 上 述 塡充性 或光 聚 合引 發劑以 及各種添加劑 5 例 如 抗 氧 化 劑 、 紫外 線 吸收 劑 、光 安定劑 、均平劑、消泡 劑 等 分 別依 所定的 比 例， 溶 解或分散而 調製得。 期間 所 使用 的 溶劑 例如可 爲己烷、環己 -9- 院 等 的 脂 肪 族 烴 1244979 五、發明說明（8) ，甲苯、二甲苯等的芳香族烴，二氯甲烷、二氯乙烷等的 鹵化烴，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇類，丙酮、甲乙 酮、2 -戊酮、異佛爾酮等的酮類，醋乙酯、醋酸丁酯等的 酯類，乙基溶纖劑等的溶纖劑系溶劑等。 如此所調製的塗佈液之濃度、黏度只要爲可能塗覆的濃 度、黏度，而沒有特別的限制，可視情況作適當的選擇。 其次，在基材薄膜的一面上，依照習知的方法，例如使 用桿塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗法、口模塗法、凹槽 輥塗法等，藉由塗覆來形成塗膜，乾燥後，用電離放射線 照射使該塗膜硬化，而形成硬塗層。 電離放射線例如可爲紫外線或電子線等。上述紫外線可 由高壓水銀燈、熔融Η燈、氙燈等而獲得。另一方面，可 由電子加速器等獲得電子線。該電離放射線中，紫外線係 特別適合者。再者，在使用電子線的情況中，不添加聚合 引發劑，而可得到硬化膜。 如此所形成的硬塗層之厚度係在2〜2Ομπι的範圍內。若 厚度低於2μπι，則所得到光學用薄膜之耐擦傷性恐未充分 發揮，而若厚度超過20μπι，則硬塗層會發生龜裂。該硬塗 層的較佳厚度爲3〜15μπι，特佳5〜ΙΟμηι。 本發明的光學用薄膜中，該（A )硬塗層的折射率通常爲 1.47〜1.60，較佳 1.49〜1.55。 本發明的光學用薄膜中，在上述硬塗層上形成（B)高折 射率層。 -1 0 - 1244979 五、發明說明（9) 上述（B)高折射率層包含電離放射線所硬化的樹脂及少 兩種金屬氧化物（含一經銻摻雜的氧化錫（ΑΤΟ ))，且折射 率在1.65〜1.80的範圍內，厚度在60〜160nm的範圍內。 該折射率若低於1 . 65，則難以得到抗反射性能優良的光學 用薄膜，而不能達成本發明之目的。又，折射率超過1.80 的層，由於含有ΑΤΟ爲必要成分，故難以形成的。較佳的 折射率係在1.7 0〜1.75的範圍內。 上述ΑΤΟ係用於提高該（Β)高折射率層上所設的（C)含矽 氧烷系聚合物之低折射率層與該（Β)層之密著性。在該（Β) 層中，全部金屬氧化物中的該ΑΤΟ之含量通常係25〜90重 量％，較佳40〜8 0重量％。若該含量低於2 5重量％，則恐怕 (Β)層與（C)層的密著性不充分，若超過90重量％，則難以 得到具有所欲折射率的（Β)層。 作爲與上ΑΤΟ倂用的其它金屬氧化物，只要能得到膜厚 60〜160nm且折射率1.65〜1.80的層即可，而沒有特別的限 制，例如可爲氧化鈦、錫摻雜的氧化銦（IT0)、氧化鉅、 氧化錫等。可以使用一種或組合兩種以上來使用該些金屬 氧化物，但是較佳爲折射率比ΑΤΟ高的金屬氧化物，特別 適合者爲鈦及/或ΑΤΟ。 在該（Β)層中，並沒有特別限制含有上述ΑΤΟ的金屬氧 化物之含量，而可對應於該（Β )層所希望的膜厚及折射率 等作適當的選擇，但是通常相對於1 00重量份硬化樹脂而 言，爲200〜600重量份的程度。 -11- 1244979 五、發明說明（1〇) 在該（B)層可如下形成。首先，視情況地，在適當的溶 劑中，將電離放射線硬化性化合物、上述含ΑΤΟ的金屬氧 化物及視需要使用的光聚合引發劑或各種添加劑，例如抗 氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、均平劑、消泡劑等， 分別依所定的比例，溶解或分散而調製成塗佈液。其次， 將該塗佈液，藉由塗覆而在（A )硬塗層上形成塗膜，經電 離放射線照射，使該塗膜硬化，而形成（B )高折射率層。 此處，電離放射線硬化性化合物、光聚合引發劑、塗佈 液之調製中所使用的溶劑、塗佈液的塗覆方法以及電離放 射線等係如上述（A )硬塗層之說明所示者。 本發明中，有利上以下示方法來形成上述（A )硬塗層和 (B )高折射率層。 首先，在基材薄膜的一面上，塗覆硬塗層形成用塗佈液 以形成塗膜，照射電離放射線以使成半硬化狀態。期間， 若以紫外線照射時，則光量通常爲50〜ISOmJ/cm2程度。其 次，在如此所形成的半硬化狀態之硬化層上，塗覆（B)層 形成用塗佈液以形成塗膜，充分照射電離放射線，使上述 (A )層同時完全硬化。若以紫外線照射時，則光量通常爲 400〜1000mJ/cm2 程度。 如此，在基材薄膜上依序形成（A)硬塗層和（B)高折射率 層，該（A )層與（B )層間有優良的密著性。 在本發明的光學用薄膜中，如此所形成的（B)高折射率 層上，形成有（C )低折射率層。該低折射率層係爲含有矽 -12- 1244979 五、發明說明（彳1) 氧烷系聚合物者，折射率在1.3 7〜1.47的範圍內，且厚度 在8 0〜18Onm的範圍內。若該折射率和厚度偏離上述範圍 ，則難以獲得具有優良抗反射性能和耐擦傷性的光學用薄 膜。 該含有矽氧烷系聚合物的層例如可爲含有無機矽石化合 物（亦含有聚矽酸）、聚有機矽氧烷系化合物、或其混合系 統。形成該層用的無機矽石化合物或聚有機矽氧烷系化合 物係可由習知的方法製造得。 例如，較佳爲使用鹽酸或硫酸等的無機酸、草酸或醋酸 等的有機酸將通式Π ]所示的烷氧基矽烷化合物部分或完 全水解、聚縮合之方法， R、Si (〇R2)4.n …[1 ] 式中，R1係非水解性基，即烷基、經取代的烷基（取代 基：鹵素原子、羥基、硫醇基、環氧基、（甲基）丙烯醯氧 基）、烯基、芳基或芳院基，R2係低級院基，n係〇或1〜3 之整數。R1和OR2各爲數個的情況中，數個ri可爲相同或 不同，或數個OR2可爲相同或不同。 在該情況中，η爲0的化合物，即四烷氧基矽烷若被完 全水解則可得到無機矽石系化合物，若被部分水解，則可 得到聚有機矽氧烷系化合物或無機矽石化合物與聚有機矽 氧烷系化合物的混合系統。另一方面，η爲1〜3的化合物 由於具有非可水解性’故在部分或完全水解後，可得到聚 有核5夕氧丨兀系化口物。期間，爲了均勻地進行水解，可使 1 1244979 五、發明說明（12) 用適當的有機溶劑。 上述通式[1 ]所示的烷氧基矽烷化合物例如可爲四甲氧 基矽烷、四乙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四異丙氧基矽 烷、四正丁氧基矽烷、四第二丁氧基矽烷、四第三丁氧基 矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙基矽烷、甲基三丙氧 基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基 三乙氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、 苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、γ _縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷 、甲基苯基二甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基 三乙氧基矽烷、二乙烯基三甲氧基矽烷、二乙烯基三乙氧 基矽烷、三乙烯基甲氧基矽烷、三乙烯基乙氧基矽烷等。 可單獨使用或以兩種以上之組合來使用它們。 又，期間若需要時，可適量添加鋁化合物，例如氯化鋁 或三烷氧基鋁等。 再者，其它方法可爲在原料的矽化合物中使用偏矽酸鈉 、原矽酸鈉或水玻璃（矽酸鈉混合物），與鹽酸、硫酸、硝 酸等的酸或氯化鎂、硫酸鈣等的金屬化合物作用，而水解 處理之方法。藉由該水解處理可生成遊離的矽酸，其係易 於聚合的，隨著原料種類的不同，可爲鏈狀、環狀、網目 狀之物的混合物。由水玻璃所得到的聚矽酸係具有通式[2 ] 所示的鏈狀構造之物爲主體， -14- 1244979 五、發明說明（13) OR I R — 0-^S i — 0)mR OR …[2] 式中表示聚合度，R爲氫原子、矽或鎂或鋁等的金 屬。 如此作’得到完全的無機砂石系化合物。再者，可使用 矽凝膠（Si〇x . ηΗ20)當作無機矽石系化合物。 可藉由習知的方法，例如使用桿塗法、刀塗法、輥塗法 、刮板塗法、口模塗法、凹槽輥塗法等，將含有上述矽氧 烷系聚合物或其前驅體的塗佈液塗覆在（B)高折射率層上 ’以形成塗膜，藉由加熱處理，而形成（C )低折射率層。 於如此所形成的含有砂氧院系聚合物之低折射率層中， 該矽氧烷系聚合物具有矽烷醇基或其它親水性基時，則具 有抗靜電性能，而使得所得到的光學用薄膜難以被灰塵等 所附著，因此較宜的。 在本發明的光學用薄膜中，視需要可在上述（C)低折射 率層上設置（D)防污塗層。可藉由習知的方法，例如使用 桿塗法、刀塗法、輥塗法、刮板塗法、口模塗法、凹槽輥 塗法等，將一般含有氟系樹脂的塗佈液塗覆在（C)低折射 率層上，以形成塗膜，藉由加熱處理，而以形成該（D)防 污塗層。 該防污塗層的厚度範圍一般是1〜10nm，較佳3〜8nm。經 由該防污塗層的設置，所得到的光學用薄膜之表面的滑性 -15- 1244979 五、發明說明（14) 變優良，同時難以被污染。 在本發明的光學用薄膜中，基材薄膜的硬塗層與其反面 上，爲了黏貼液晶顯示體等的黏附體，可形成一黏著劑層 。作爲構成該黏著劑層的黏著劑，較佳爲使用例如丙烯酸 系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑。該黏著 劑層的厚度通常爲5〜ΙΟΟμπι，10〜60μηι。 再者，該黏著劑層上可設有剝離膜。該剝離膜例如可爲 玻璃紙、塗料紙、積層紙等的紙以及各種塑膠膜經聚矽氧 樹脂等的剝離劑所塗佈者等。該剝離膜的厚度並沒有特別 限制，通常爲20〜150μηι程度。 實施例 其次，藉由實施例來更詳細說明本發明，惟本發明不受 該些實施例所限制。 再者，各例中所得到的光學用薄膜之物性係由以下方法 來測定。 (1 )底部反射率 藉由分光光度計[(株）島津製作所製「UV-3101PC」測定 ，以反射率最低的波長之反射率當作底部反射率。 (2 )耐擦傷性 使用鋼絲棉#0000，在荷重9 · 8x1 〇_3N/mm2下，5次來回 擦後，目視觀察，依照以下基準作評估。 〇：沒有傷痕 X :具有傷痕 -16- 1244979 五、發明說明（15) 實施例] (1)於厚度188μηι的聚對酞酸乙二酯（PET)薄膜[東洋糸方 糸貝（株）製，商品名「A4100」的易黏著塗面上，藉由麥亞 巴第12號，以完全硬化後之厚度爲6μπι的狀態，來塗佈 紫外線硬化型丙烯酸系硬塗劑[幾也尹也司阿魯（株）製， 商品名「德索拉尹特ΚΖ7224」，固體成分濃度46重量％] ’在8 0 °C 1分鐘乾燥後，照射光量8 0 m J / c m2的紫外線，硬 化成半硬化狀態，形成硬塗層。 (2 )於1 0 0重量份作爲金屬氧化物的氧化欽之分散液[大 曰本油墨化學工業（株）製，商品名「TF-14D」，固體成分 濃度1 0重量％ ]和1 0 0重量份銻摻雜的氧化錫之分散液[大 曰本油墨化學工業（株）製，商品名「TA-01D」（銻摻雜的 氧化錫之含量50重量％)中，添加6.7重量份紫外線硬化 型丙烯酸系樹脂[大日精化工業（株）製，商品名「西卡必 目EXF-OIL(NS)」，固體成分濃度100%]，然後以異丁醇 稀釋，使全體之固體成分濃度爲3重量％，而調整塗覆劑 。其次，藉由麥亞巴第4號，將該塗覆劑以完全硬化後之 厚度爲90ηπι的狀態塗佈於上述（1)之工程所形成的半硬化 狀態硬塗層上，於 80 °C 1分鐘乾燥後，照射光量 680m〗/cm2的紫外線，使硬化，而形成高折射率層，於PET 薄膜上，依序形成折射率1 . 5 1的硬塗層及折射率1 . 7 1的 高折射率層。 (3)以藉由麥亞巴第6號加熱處理後之厚度爲120nm的 -17- 1244979 五、發明說明（16) 狀態，將矽氧烷系抗靜電劑[克魯可特（株）製，商品名「 克魯可特P」，固體成分濃度2重量％ ]塗佈於上述（2)之 工程所形成的高折射率層上，於130°C加熱處理2分鐘， 而形成折射率爲1 · 45的低折射率層。 如此所製作的光學用薄膜之物性係示於表1中。 而且，藉由大塚電子（株）製「MCPD- 2000」來測量各塗 覆層的厚度，藉由（株）阿它哥製阿貝（abbe)折射計來測量 折射率。（以下，同樣） 實施例2 於實施例1 ( 2 )的工程中，改爲如下來調製塗覆劑，以外 則與實施例1同樣地操作進行，而製作光學用薄膜。該光 學用薄膜之物性係示於表1中。高折射率層之膜厚： lOOnm，折射率：1.68。 <塗覆劑的調製> 於100重量份作爲錫氧化物的一經錫摻雜之氧化銦的分 散液[大日本油墨化學工業（株）製，固體成分濃度1 5重量 % ]和40重量份銻摻雜的氧化錫之分散液[石原特庫若（株） 製，商品名「SN-1 OOP異丁醇分散體」，固體成分濃度30 重量％ ](銻摻雜的氧化錫之含量4 4重量％ )中，添加9重量 份紫外線硬化型丙烯酸系樹脂[「西卡必目EXF-OIL(NS)」 (如先前出現者），然後以異丁醇稀釋，使固體成分濃度爲 3重量％而調製得塗覆劑。 實施例3 •18- 1244979 五、發明說明（17) 於實施例1 ( 3 )的工程中，將塗覆劑改爲含有氟的矽氧烷 系塗覆劑[信越化學工業（株）製，商品名「X-12-2138H」， 固體成分濃度3重量％]，藉由麥亞巴第4號來塗佈，以外 則與實施例1同樣地製作光學用薄膜。該光學用薄膜之物 性係不於表1中。低折射率層之膜厚：1 1 0 n m，折射率： 1.40° 實施例4 於實施例1(3)之工程所形成的低折射率層上，更以專用 稀釋劑[大尹金工業（株）製，商品名「德目那目索貝得」 稀釋氟系樹脂[大尹金工業（株）製，商品名「奧卜茲魯 DSX」，固體成分濃度20重量％]成濃度0.12重量％而調製 的防污塗覆劑，藉由麥亞巴第4號塗佈成乾燥厚度約5nm 之狀態，乾燥處理以形成防污塗覆層，以外則與實施例1 同樣地製作光學用薄膜。該光學用薄膜之物性係示於表1 中〇 實施例5 於實施例1(1)的工程中，改爲如下來調製塗覆劑，以外 則與實施例1同樣地操作進行，而製作硬塗層爲防眩性的 光學用薄膜。該光學用薄膜之物性係示於表1中。 <塗覆劑的調製> 於1 00重量份紫外線硬化型硬塗劑[大日精化工業（株） 製，商品名「西卡必目exf-oil(ns)」，固體成分濃度 100%]中’添加35重量份含有矽凝膠的紫外線硬化型硬塗 -19- 1244979 五、發明說明（18) 劑[大日精化工業（株）製，商品名「西卡必目exf-oil(bs) 」，固體成分濃度1 00%]，然後添加作爲稀釋溶劑的丙二 醇單甲醚，使固體成分濃度爲50重量％。 硬塗層的折射率：1 . 5 1。 比較例1 於實施例1 ( 2 )的工程中，改爲如下來調製塗覆劑，以外 則與實施例1同樣地操作進行，而製作光學用薄膜。該光 學用薄膜之物性係示於表1中。高折射率層之膜厚：85nm ，折射率：1 . 74。 <塗覆劑的調製> 於1 00重量份氧化錫的分散液[大日本油墨化學工業（株） 製，（先前出現者）]中，添加3 . 3重量份紫外線硬化型丙 烯酸系樹脂[「西卡必目EXF-OIL(NS)」（先前出現者），然 後以異丁醇稀釋，使全體的固體成分濃度爲3重量％而調 製得塗覆劑。 比較例2 於實施例1(2)的工程中，改爲如下來調製塗覆劑，以外 則與實施例1同樣地操作進行，而製作光學用薄膜。該光 學用薄膜之物性係示於表1中。高折射率層之膜厚：95nm ，折射率：1 . 67。 <塗覆劑的調製> 於1 00重量份一經銻摻雜的氧化錫之分散液[大日本油 墨化學工業（株）製，（如先前出現者）]中，添加3.3重量 -20- 1244979 五、發明說明（η) 份紫外線硬化型丙烯酸系樹脂[「西卡必目EXF - 0 1 L ( NS )」 (先前出現者），然後以異丁醇稀釋，使全體的固體成分濃 度爲3重量％而調製得塗覆劑。 ΆΜΜλ. 於實施例2 ( 2 )的工程中，就塗覆劑的調整而言，使用 330重量份聚酯樹脂溶液[東洋紡績（株）製，商品名[白尹 若恩20SS]，固體成分濃度30重量％]代替1〇〇重量份紫 外線硬化型丙烯酸系樹脂[「西卡必目EXF - 0 1 L ( NS )」（先 前出現者），而且將稀釋溶劑改爲重量比1 : 1的甲苯和甲 基異丁基酮之混合溶劑，不照射紫外線，而在1 〇〇°C加熱 處理1分鐘以形成高折射率層，以外則與實施例1同樣地 實施以製作光學用薄膜。該光學用薄膜之物性係示於表1 中。高折射率層之膜厚：9 0nm，折射率：1 . 73。 表1

底部反射率（％)/波長（nm) 耐擦傷性 實施例1 1.05/580 〇 實施例2 1.20/600 〇 實施例3 0.95/560 〇 實施例4 1.05/580 〇 實施例5 1.30/570 〇 比較例1 0.75/550 X 比較例2 1 .60/590 〇 比較例3 1.00/610 X >21 - 1244979 五、發明說明（2〇) 發明的效果 本發明的光學用薄膜，由於以濕製程法製作，故具有優 良的抗反射性能及耐擦傷性，製造成本低，例如適用爲 PDP、CRT、LCD等的影像顯示元件之抗反射膜。 -22-

Claims (1)

1244979 孙 ΉΓ 六、争請專利範圍 第9 1 1 1 0 2 1 9號「光學用薄膜」專利案 (93年8月13日修正本） Λ申請專利範圍： 1. 一種光學用薄膜，其包括在基材薄膜的至少一面上依序 積層的：（Α)—厚度2〜20μηι的硬塗層，其含有電離放射 線所硬化的樹脂；（Β)—厚度60〜160nm的高折射率層， 其含有1 00重量份之電離放射線所硬化的樹脂及 20 0〜600重量份之至少兩種金屬氧化物（包含一經銻摻雜 的氧化錫）且具有折射率在1 . 65〜1 . 80的範圍內；及（C) 一厚度80〜180nm的低折射率層，其含有矽氧烷系聚合 物且具有折射率在1 · 37〜1 .47的範圍內。 2 ·如申請專利範圍第1項之光學用薄膜，其中在（B)高折 射率層中，全部金屬氧化物中之經銻摻雜的氧化錫的含 有率係25〜90重量％。

3 ·如申請專利範圍第丨項之光學用薄膜，其中在（B )高折 射率層中的至少兩種金屬氧化物係經銻摻雜的氧化錫和 氧化鈦及/或經錫摻雜的氧化銦之混合金屬氧化物。 4·如申請專利範圍第2項之光學用薄膜，其中在（B)高折 射率層中的至少兩種金屬氧化物係經銻摻雜的氧化錫和 氧化鈦及/或經錫摻雜的氧化銦之混合金屬氧化物。 5.如申請專利範圍第1項之光學用薄膜，其中（A)硬塗層 含有由平均粒徑1 · 5〜7μπι的矽石粒子、平均粒徑 0 · 5〜1 Ομπι的膠體狀矽石粒子的胺基化合物之凝集物及平 1244979 六、申請專利範圍 均粒徑0.5〜5μιη的矽石粒子與平均粒徑1〜6〇nm的金屬 氧化物微粒子之混合物所選出的塡充材。 6 .如申請專利範圍第4項之光學用薄膜，其中（A )硬塗層 含有由平均粒徑1 . 5〜7 μπι的矽石粒子、平均粒徑 0 . 5〜1 0μιη的膠體狀矽石粒子的胺基化合物之凝集物及平 均粒徑0.5〜5μιη的矽石粒子與平均粒徑1〜60nm的金屬 氧化物微粒子之混合物所選出的塡充材。 7 .如申請專利範圍第1項之光學用薄膜，其中（C )低折射 率層係具有抗靜電性。 8 ·如申請專利範圍第1至7項中任一項之光學用薄膜， 其中在（C)低折射率層上更設有（D)—防污塗層。