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TW202525566A - 積層光學薄膜 - Google Patents

積層光學薄膜 Download PDF

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TW202525566A
TW202525566A TW113132913A TW113132913A TW202525566A TW 202525566 A TW202525566 A TW 202525566A TW 113132913 A TW113132913 A TW 113132913A TW 113132913 A TW113132913 A TW 113132913A TW 202525566 A TW202525566 A TW 202525566A
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acrylate
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film
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TW113132913A
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笹川泰介
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
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Abstract

一種積層光學薄膜，係依序積層有光學薄膜1、接著劑層及光學薄膜2者；前述光學薄膜1及2中之至少一者為聚碳酸酯系樹脂薄膜；前述聚碳酸酯系樹脂薄膜含有源自式(1)所示二羥基化合物之結構單元；且，前述聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP與形成前述接著劑層之接著劑組成物之HSP之間的HSP距離為4.0以下。該積層光學薄膜中，含有源自異山梨醇之結構單元的聚碳酸酯系樹脂之接著性優異。

Description

積層光學薄膜
本發明涉及一種積層光學薄膜。
以往，作為用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置之偏光件，出於兼具高透射率與高偏光度而使用經染色處理之(含有碘或二色性染料等二色性物質之)聚乙烯醇系薄膜。該偏光件係於浴(處理浴)中對聚乙烯醇系薄膜施行例如染色、交聯、延伸等各處理後進行乾燥來製造。又，偏光件通常係以於其單面或兩面使用接著劑貼合有三醋酸纖維素等光學薄膜而成之偏光薄膜(偏光板)之形式來使用。
關於如上述之光學薄膜，已知在專利文獻1中，由耐濕熱性、尺寸穩定性及機械性強度優異之觀點來看，係使用含有源自異山梨醇之結構單元的聚碳酸酯系樹脂。又，專利文獻2中揭示了一種光學積層體，其具體上係使用以上述聚碳酸酯系樹脂薄膜構成之相位差層，並以活性能量線硬化型接著劑組成物來貼合。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2016-90921號公報 專利文獻2：日本專利特開2021-173831號公報
發明欲解決之課題 然而，如上述之光學積層體中，使用含有源自異山梨醇之結構單元的聚碳酸酯系樹脂之光學薄膜時，在該薄膜與活性能量線硬化型接著劑組成物之接著性上尚有改善之餘地。
本發明鑑於以上所述情事，目的在於提供一種含有源自異山梨醇之結構單元的聚碳酸酯系樹脂之接著性優異的積層光學薄膜。
用以解決課題之手段 即，本發明涉及一種積層光學薄膜，係依序積層有光學薄膜1、接著劑層及光學薄膜2者；前述光學薄膜1及2中之至少一者為聚碳酸酯系樹脂薄膜；前述聚碳酸酯系樹脂薄膜含有源自式(1)所示二羥基化合物之結構單元；且，前述聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP與形成前述接著劑層之接著劑組成物之HSP之間的HSP距離為4.0以下； [化學式1] 。
又，本發明積層光學薄膜中，前述接著劑組成物宜含有自由基聚合性化合物，且該自由基聚合性化合物包含單官能自由基聚合性化合物及二官能以上之多官能自由基聚合性化合物；前述自由基聚合性化合物中，前述單官能自由基聚合性化合物之比率宜為65質量%以上，且前述二官能以上之多官能自由基聚合性化合物之比率宜為35質量%以下。
又，本發明積層光學薄膜中，前述單官能自由基聚合性化合物宜為含環狀醚基之(甲基)丙烯醯胺衍生物。
又，本發明積層光學薄膜中，前述二官能以上之多官能自由基聚合性化合物宜為具有脂環結構之二官能自由基聚合性化合物。
發明效果 本發明積層光學薄膜中，含有源自異山梨醇(包含該光學異構物)之結構單元的聚碳酸酯系樹脂之光學薄膜之HSP與接著劑組成物之HSP之間的HSP距離為特定值以下，因此推測源自上述聚碳酸酯系樹脂之成分可侵蝕至接著劑層，故接著性優異。
本發明積層光學薄膜依序積層有光學薄膜1、接著劑層及光學薄膜2，且前述光學薄膜1及2中之至少一者為聚碳酸酯系樹脂薄膜。
＜聚碳酸酯系樹脂薄膜＞ 前述聚碳酸酯系樹脂薄膜含有源自式(1)所示二羥基化合物之結構單元： [化學式2] 。 這種二羥基化合物可舉例如處於立體異構物關係的異山梨醇、去水甘露糖醇、異艾杜糖醇。該等可單獨使用，亦可組合2種以上來使用。
前述聚碳酸酯系樹脂亦可更包含有源自前述式(1)所示二羥基化合物以外之二羥基化合物(以下亦僅稱為「其他二羥基化合物」)的結構單元。藉由更包含源自前述式(1)所示二羥基化合物以外之二羥基化合物的結構單元，可改良易加工性、耐熱性及耐衝擊性等。
其他二羥基化合物可舉例如脂環式二羥基化合物、脂肪族二羥基化合物、氧伸烷基二醇類、芳香族二羥基化合物、具有環狀醚結構之二醇類。
前述脂環式二羥基化合物無特別限定，宜為包含5員環結構或6員環結構之化合物。又，6員環結構可藉由共價鍵固定成椅子形或船形。脂環式二羥基化合物為5員環或6員環結構，藉此可提高所得聚碳酸酯之耐熱性。前述脂環式二羥基化合物可舉例如環己烷二甲醇類、三環癸烷二甲醇類、金剛烷二醇類、五環十五烷二甲醇類；由易取得性、易操作性之觀點來看，宜為1,4-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,2-環己烷二甲醇、三環癸烷二甲醇。
前述脂肪族二羥基化合物可舉例如乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、1,4-丁二醇、1,3-丁二醇、1,2-丁二醇、1,5-庚二醇、1,6-己二醇。前述氧伸烷基二醇類可舉例如二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇等。前述芳香族二羥基化合物可舉例如2,2-雙(4-羥苯基)丙烷[=雙酚A]、2,2-雙(4-羥-3,5-二甲基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥-3,5-二乙基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥-(3,5-二苯基)苯基)丙烷等。前述具有環狀醚結構的二醇類可舉例如螺甘油類、二㗁烷二醇類。
相對於構成前述聚碳酸酯系樹脂之所有二羥基化合物，前述式(1)所示二羥基化合物之比率無特別限定，惟宜為10莫耳%以上，較宜為40莫耳%以上，更宜為60莫耳%以上，且宜為90莫耳%以下，較宜為80莫耳%以下，更宜為70莫耳%以下。源自其他二羥基化合物之結構單元的含有比率若太多，有降低光學特性等性能之情形。
在上述其他二羥基化合物中，使用脂環式二羥基化合物時，相對於構成聚碳酸酯之所有二羥基化合物，前述式(1)所示二羥基化合物與脂環式二羥基化合物之合計比率無特別限定，宜為80莫耳%以上，較宜為90莫耳%以上，更宜為95莫耳%以上。
前述積層光學薄膜中，前述聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP與形成前述接著劑層之接著劑組成物之HSP之間的HSP距離為4.0以下。由接著性之觀點來看，前述聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP與形成前述接著劑層之接著劑組成物之HSP之間的HSP距離(後述Ra-1)宜為0.5以上，較宜為1以上，且由接著性之觀點來看，宜為10以下，較宜為5以下。此外，關於上述聚碳酸酯系樹脂薄膜及接著劑組成物之HSP之測定方法將於後述。
＜接著劑組成物＞ 前述接著劑組成物可大致分類成電子束硬化性、紫外線硬化性及可見光線硬化性。並且，硬化形態可區分為自由基聚合性硬化型接著劑組成物與陽離子聚合性接著劑組成物。本發明中係將波長範圍在10nm~小於380nm之活性能量線標記為紫外線，且將波長範圍在380nm~800nm之活性能量線標記為可見光線。
＜自由基聚合性化合物＞ 前述接著劑組成物所使用之自由基聚合性化合物可舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物及雙官能以上之多官能自由基聚合性化合物中之任一者。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種，或可組合2種以上來使用。該等自由基聚合性化合物例如宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。此外，本發明中，所謂(甲基)丙烯醯係指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，以下「(甲基)」同義。
＜單官能自由基聚合性化合物＞ 前述單官能自由基聚合性化合物可舉例如式(2)所示之化合物： [化學式3] (式(2)中，R 1為氫原子或甲基，R 2及R 3各自獨立為氫原子、烷基、羥烷基、烷氧基烷基或環狀醚基，且R 2及R 3亦可形成環狀雜環)。烷基、羥烷基及/或烷氧基烷基之烷基部分的碳數無特別限定，可舉例如1~4個者。又，R 2及R 3亦可形成之環狀雜環可舉例如N-丙烯醯基嗎福林等。
上述式(2)所示化合物之具體例可列舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基的(甲基)丙烯醯胺衍生物等。又，含環狀醚基的(甲基)丙烯醯胺衍生物可舉(甲基)丙烯醯胺基的氮原子形成有雜環之含雜環的(甲基)丙烯醯胺衍生物，可舉例如N-丙烯醯基嗎福林、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等。由反應性優異之方面、可獲得高彈性模數之硬化物之方面、及對偏光件之接著性優異之方面來看，該等中又宜為含環狀醚基之(甲基)丙烯醯胺衍生物，特別宜為N-羥乙基丙烯醯胺、N-丙烯醯基嗎福林。
又，前述接著劑組成物除了上述化合物外，由可使接著劑組成物展現各種功能之觀點來看，亦可含有其他單官能自由基聚合性化合物作為硬化性成分。其他單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體上可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲-2-硝丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、4-甲-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正十八酯等之(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可列舉例如：(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳烷基酯；(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降𦯉烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等之含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯等。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯；或丙烯酸[4-(羥甲基)環己基]甲酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯環氧丙基醚等含環氧基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯等含鹵素的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己-氧雜環丁烷基甲酯等含氧雜環丁烷基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丁內酯等具有雜環的(甲基)丙烯酸酯；或羥基三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、(甲基)丙烯酸對苯基苯酚酯等等。
又，其他單官能自由基聚合性化合物可列舉：(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基單體。
又，其他單官能自由基聚合性化合物可列舉例如：N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎福林等具有含氮雜環之乙烯基系單體等等。
又，其他單官能自由基聚合性化合物可使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物係一在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基且具有活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可舉乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基或氰基乙醯基等。前述活性亞甲基宜為乙醯乙醯基。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之具體例可列舉例如：2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。
由兼顧與光學薄膜之接著性、以及在嚴酷環境下之光學耐久性之觀點來看，前述自由基聚合性化合物宜併用單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物。此外，單官能自由基聚合性化合物之液體黏度相對較低，故藉由使之含有於接著劑組成物中，可降低接著劑組成物的液體黏度。又，多官能自由基聚合性化合物可使接著劑組成物之硬化物產生3維交聯，故宜使之含有於接著劑組成物中。
＜二官能以上之多官能自由基聚合性化合物＞ 前述二官能以上之多官能自由基聚合性化合物可列舉例如：屬多官能(甲基)丙烯醯胺衍生物之N,N’-亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A氧化乙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A氧化丙烯加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯、二羥甲基二環戊烷二丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷縮甲醛(甲基)丙烯酸酯、二㗁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀。市售物可列舉：ARONIX M-220(東亞合成公司製)、LIGHT-ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。又，視需要，可舉各種環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。由與被黏著體之親和性之觀點來看，該等中又宜為二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯、二羥甲基二環戊烷二丙烯酸酯等具有脂環結構之二官能自由基聚合性化合物。
併用前述單官能自由基聚合性化合物與前述多官能自由基聚合性化合物時，前述自由基聚合性化合物中，前述單官能自由基聚合性化合物之比率宜為65質量%以上，較宜為70質量%以上，更宜為75質量%以上，且由接著強度之觀點來看，宜為95質量%以下，較宜為90質量%以下，更宜為85質量%以下。又，此時，前述自由基聚合性化合物中，由接著強度之觀點來看，前述多官能自由基聚合性化合物之比率宜為5質量%以上，較宜為10質量%以上，更宜為15質量%以上，且宜為35質量%以下，較宜為30質量%以下，更宜為25質量%以下。
又，使用上述式(2)所示化合物作為前述單官能自由基聚合性化合物時，前述自由基聚合性化合物中，上述式(2)之比率宜為65質量%以上，較宜為70質量%以上，更宜為75質量%以上，且宜為95質量%以下，較宜為90質量%以上，更宜為85質量%以下。
使用上述其他單官能自由基聚合性化合物作為前述單官能自由基聚合性化合物時，前述自由基聚合性化合物中，其他單官能自由基聚合性化合物之比率通常為30質量%以下左右。
前述接著劑組成物於活性能量線使用紫外線或可見光線時，宜含有光聚合引發劑。
＜光聚合引發劑＞ 前述光聚合引發劑可依活性能量線適當選擇。藉由紫外線或可見光線使其硬化時，係使用紫外線或可見光線開裂之光聚合引發劑。前述光聚合引發劑可列舉例如：二苯乙二酮(benzil)、二苯基酮、苯甲醯苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥-2-丙基)酮、α-羥-α, α’-二甲基苯乙酮、2-甲-2-羥基苯丙酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎福林基丙-1-酮等的苯乙酮系化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻丁基醚、苯甲偶姻甲基醚等的苯偶姻烷基醚系化合物；苯甲基二甲基縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等的光活性肟系化合物；9-氧硫𠮿、2-氯9-氧硫𠮿、2-甲基9-氧硫𠮿、2,4-二甲基9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿、2,4-二氯9-氧硫𠮿、2,4-二乙基9-氧硫𠮿、2,4-二異丙基9-氧硫𠮿、十二基9-氧硫𠮿等的9-氧硫𠮿系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
又，貼合前述接著劑組成物所用之光學薄膜1或2不易透射380nm以下之光時，前述接著劑組成物宜以可見光線硬化性作使用，此時前述光聚合引發劑宜包含式(3)所示化合物及/或式(4)： [化學式4] (式(3)中，R 4及R 5獨立表示-H、-CH 2CH 3、-iPr或Cl)； [化學式5] (式(4)中，R 6、R 7及R 8獨立表示-H、-CH 3、-CH 2CH 3、-iPr或Cl)。前述式(3)所示化合物當中，又以R 4及R 5為-CH 2CH 3之二乙基9-氧硫𠮿為佳。關於前述式(4)所示化合物，市售物宜為例如2-甲-1-(4-甲基苯硫基)-2-嗎福林基丙-1-酮(商品名：Omnirad907 製造商：IGM Resins)。又，由感度之觀點來看，宜為2-苄-2-二甲胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-丁-1-酮(商品名：Omnirad369 製造商：IGM Resins)、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮(商品名：Omnirad379 製造商：IGM Resins)。
上述對380nm以上之光有高感度之光聚合引發劑可列舉例如：2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦。
又，前述光聚合引發劑可舉例如日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2001-233842號公報、日本專利特表2010-527339、日本專利特表2010-527338、日本專利特開2013-041153號公報、國際公開第2015/036910號等中記載之化合物等肟酯系光聚合引發劑。具體之化合物可舉例如1,2-辛二酮、1-4-(苯硫基)-2-(O-苯甲醯基肟)、乙醇,1-[9-乙-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)等。又，市售物方面，具有咔唑骨架之化合物可舉Irgacure OXE-02(BASF製)、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKA公司製)、N-1919(ADEKA公司製)、TR-PBG-304(常州強力電子新材料公司製)；具有二苯硫醚骨架之化合物可舉Irgacure OXE-01(BASF製)、ADEKA ARKLS NCI-930(ADEKA公司製)、TR-PBG-345(常州強力電子新材料公司製)、TR-PBG-3057(常州強力電子新材料公司製)；具有茀骨架之化合物可舉TR-PBG-365(常州強力電子新材料公司製)等。
前述光聚合引發劑之摻混量適當設定即可，例如相對於自由基聚合性化合物100質量份，通常為20質量份以下。相對於自由基聚合性化合物100質量份，光聚合引發劑之摻混量宜為1~15質量份，較宜為3~10質量份。
又，亦可視需要添加聚合引發助劑。聚合引發助劑可列舉：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲胺苯甲酸、4-二甲胺苯甲酸甲酯、4-二甲胺苯甲酸乙酯、4-二甲胺苯甲酸異戊酯等。使用聚合引發助劑時，其添加量相對於接著劑組成物100質量份，通常為5質量份以下左右。
又，當使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物作為自由基聚合性化合物時，宜與具有奪氫作用之自由基聚合引發劑組合使用。藉由所述構成，即便特別在剛從高濕度環境或水中取出後(非乾燥狀態)，偏光薄膜所具有之接著劑層的接著性仍會明顯提升。上述具有奪氫作用之自由基聚合引發劑可舉例如9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑、二苯基酮系自由基聚合引發劑等。前述自由基聚合引發劑宜為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑。9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑可舉例如上述式(3)所示化合物。
前述接著劑組成物可在不損及本發明目的、效果之範圍內，摻混各種添加劑作為其他任意成分。所述添加劑可列舉例如：聚氯化烯烴、環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺甲酸酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂等聚合物；丙烯酸系寡聚物、氟系寡聚物、聚矽氧系寡聚物、多硫化物系寡聚物等寡聚物；敏化劑、光酸產生劑、光鹼產生劑、矽烷耦合劑、聚輪烷、有機金屬化合物、聚合抑制劑、氣泡抑制劑、界面活性劑、塑化劑、紫外線吸收劑、無機充填劑、顏料、染料等。
＜積層光學薄膜＞ 本發明積層光學薄膜依序積層有光學薄膜1、由前述接著劑組成物形成之接著劑層及光學薄膜2，且前述光學薄膜1及2中之至少一者為前述聚碳酸酯系樹脂薄膜。光學薄膜1及2可為相同者，亦可不同。此外，以下將光學薄膜1及2統合僅稱為「光學薄膜」。
前述光學薄膜在將前述積層光學薄膜組入各種影像顯示裝置時，由可保護偏光件或液晶等免受紫外線損害之觀點來看，亦可為具有紫外線吸收能之光學薄膜。此時，對380nm之光的透射率宜為20%以下，較宜為10%以下。為了對光學薄膜賦予紫外線吸收能，例如構成光學薄膜之材料可具有紫外線吸收能，可於構成光學薄膜之材料中添加紫外線吸收劑等，亦可於光學薄膜表面積層含有紫外線吸收劑等之表面處理層。
前述紫外線吸收劑可舉例如以往公知之氧二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物、三𠯤系化合物等。市售物可舉例如ADK STAB LA-46(ADEKA公司製)、ADK STAB LA-F70(ADEKA公司製)、KEMISORB102(CHEMIPRO KASEI公司製)、Chiguard5405(Chitec technology公司製)、Tinuvin405(BASF公司製)、Tinuvin460(BASF公司製)、Tinuvin479(BASF公司製)、Tinuvin1600(BASF公司製)等。
非為前述聚碳酸酯系樹脂薄膜之光學薄膜1或2無特別限制，例如可使用可用於各種影像顯示裝置之各種透明保護薄膜。構成前述透明保護薄膜之材料可使用例如透明性、機械性強度、熱穩定性、水分阻斷性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。前述熱塑性樹脂可列舉例如：三醋酸纖維素等纖維素酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、如聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物之聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、具有環系或降𦯉烯結構之環狀聚烯烴系樹脂(降𦯉烯系樹脂)、聚芳酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂及該等之混合物。又，前述透明保護薄膜可使用由(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂形成之硬化層。該等中又宜為纖維素酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂。前述透明保護薄膜中亦可包含有紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等任意適當之添加劑。
前述光學薄膜之厚度可適當決定，惟一般由強度或處置性等作業性、薄層性等觀點來看，宜為1~500μm左右，較宜為1~300μm左右，更宜為5~100μm左右。
將前述積層光學薄膜作為偏光薄膜使用時，前述光學薄膜1宜為上述聚碳酸酯系樹脂薄膜，且前述光學薄膜2宜為偏光件。偏光件可應用碘或二色性染料等二色性物質吸附定向於聚乙烯醇系薄膜而形成之公知的偏光件。
前述透明保護薄膜可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差板作為前述透明保護薄膜時，該相位差板亦可作為透明保護薄膜發揮功能，故可謀求薄型化。
關於前述相位差板，可舉例如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者等。相位差板之厚度無特別限制，一般為20~150μm左右。此外，亦可於不具相位差之透明保護薄膜上貼合前述相位板來使用。
前述偏光薄膜中，於前述透明保護薄膜之不貼合偏光件的面上可設置硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等機能層。此外，上述硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等機能層除了可設置在保護薄膜其本身以外，還可另外設置成與保護薄膜分開的個體。
前述積層光學薄膜中，係直接對光學薄膜1及/或光學薄膜2塗敷前述接著劑組成物，且貼合光學薄膜1與光學薄膜2後，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)，使接著劑組成物硬化而形成接著劑層。活性能量線之照射方向可從任意適當之方向照射，但前述接著劑組成物即便在用於貼合具有紫外線吸收能之光學薄膜時接著性仍優異，因此亦可從具有紫外線吸收能之光學薄膜側照射。此外，對於偏光薄膜(光學薄膜1為前述聚碳酸酯系樹脂薄膜、且光學薄膜2為偏光件之態樣)，若從偏光件側照射，有偏光件因活性能量線而劣化之虞，因此前述接著劑組成物可從具有紫外線吸收能之光學薄膜側照射，而很有用。
塗敷前述接著劑組成物之方法係視組成物之黏度或所欲厚度來適當選擇，可舉例如逆向塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或間接)、棒式逆向塗佈機、輥塗機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。
關於前述積層光學薄膜，活性能量線之照射條件若為可將前述接著劑組成物硬化之條件，則採用任意適當之條件即可，例如在將紫外線或可見光線用於活性能量線時，在395~445nm之波長區域下之照度為200~2000mW/cm 2，累積光量為100~1500mJ/cm 2左右。
由生產性或接著性之觀點來看，前述接著劑層之厚度宜為0.1~100µm左右，較宜為0.3~10µm左右，更宜為0.5~5µm左右。
前述積層光學薄膜中，光學薄膜1與光學薄膜2之間亦可隔著表面改質處理層、易接著劑層、阻隔層、折射率調整層等中介層而積層。
形成前述表面改質層之表面改質處理可舉例如電暈處理、電漿處理、底塗處理、皂化處理等。
形成前述易接著層之易接著劑可舉例如包含具有以下骨架之各種樹脂的形成材：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。
前述阻隔層係具有用以防止從光學薄膜等溶出之寡聚物或離子等不純物移動(侵入)至偏光件等光學薄膜中之功能的層。前述阻隔層若為具有透明性且可防止從光學薄膜等溶出之不純物的層即可，形成阻隔層之材料可舉例如胺甲酸酯預聚物系形成材、氰基丙烯酸酯系形成材、環氧系形成材等。
前述折射率調整層係為了抑制透射率隨在前述光學薄膜間之在折射率不同之層間的反射而降低所設置之層。形成前述折射率調整層之折射率調整材可舉例如包含具有二氧化矽系、丙烯酸系、丙烯酸-苯乙烯系、三聚氰胺系等之各種樹脂及添加劑的形成劑。
於前述積層光學薄膜之一面或兩面上亦可附設用以貼合其他構件之接著劑層。該接著劑層宜為黏著劑層。形成前述黏著劑層之黏著劑無特別限制，可適當選擇例如以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者來使用。尤其可適宜使用如包含丙烯酸系聚合物之黏著劑這般具優異光學透明性並展現適度潤濕性、凝集性與接著性且具有優異耐候性或耐熱性等之物。
將黏著劑層附設於前述積層光學薄膜之單面或兩面可透過適當方式進行。附設黏著劑層可舉例如以下方式等：調製黏著劑溶液，並以流延方式或塗佈方式等適當之展開方式將其直接附設於前述積層光學薄膜上的方式；或者，於分離件上形成黏著劑層，並將其轉黏至前述積層光學薄膜上的方式。前述黏著劑層之厚度可視使用目的或接著力等來適當決定，一般為1~500µm，宜為5~200µm，較宜為10~100µm。依上述，亦將於前述積層光學薄膜之至少一面設有黏著劑層者稱為附黏著劑層之積層光學薄膜。
對於前述黏著劑層之露出面為防止其受污染，宜在供實際使用前之期間暫時黏附分離件來覆蓋。藉此可防止黏著劑層在通例之處置狀態下受汙染等。作為前述分離件，可使用例如經將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔、其等之層合體等適當的單片體視需求以聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑進行塗覆處理者等。
前述積層光學薄膜可用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置。
實施例 以下列舉實施例來更詳細說明本發明，惟本發明並非僅受該等實施例所限。
＜實施例1-6、比較例1＞ ＜接著劑組成物之調製＞ 各實施例及比較例中，係將下述成分按表1所示摻混量在25℃下混合1小時，調製出接著劑組成物(表1所示摻混量之單位為相對之"質量份")。 ACMO：N-丙烯醯基嗎福林，KJ Chemicals Corporation製 DCP-A：「LIGHT ACRYLATE DCP-A」，二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯，共榮社化學公司製 DPHA：二新戊四醇六丙烯酸酯，東京化成工業公司製 M220：「ARONIX M220」，三丙二醇二丙烯酸酯，東亞合成公司製 9EGA：「LIGHT ACRYLATE 9EG-A」，PEG#400二丙烯酸酯，共榮社化學製 Omnirad 907：2-甲-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎福林基丙-1-酮，IGM Resins公司製 DETX-S：「KAYACURE DETX-S」，2,4-二乙基9-氧硫𠮿，日本化藥公司製
＜聚碳酸酯系樹脂薄膜之準備＞ 相對於異山梨醇81.98質量份，將三環癸烷二甲醇47.19質量份、碳酸二苯酯175.1質量份、及作為觸媒之碳酸銫0.2質量%水溶液0.979質量份投入反應容器中，在氮氣環境下，作為反應第1階段之步驟將加熱槽溫度加熱至150℃，並視需求一邊攪拌一邊使原料溶解(約15分鐘)。接著，將壓力從常壓變更至13.3kPa，以1小時使加熱槽溫度上升至190℃，同時將產生之酚排出反應容器外。將反應容器整體在190℃下保持15分鐘後，作為第2階段之步驟將反應容器內之壓力設成6.67kPa，以15分鐘使加熱槽溫度上升至230℃，並將產生之酚排出反應容器外。由於攪拌機之攪拌轉矩會越來越上升，故為了以8分鐘升溫至250℃並去除產生之酚，使反應容器內之壓力達至0.200kPa以下。到達預定之攪拌轉矩後，結束反應，將所生成之反應物擠出至水中，而獲得聚碳酸酯系樹脂之丸粒。接著，捏合作為紫外線吸收劑之ADK STAB LA-F70，而獲得已賦予紫外線吸收能之聚碳酸酯系樹脂之丸粒。將所得已賦予紫外線吸收能之聚碳酸酯系樹脂在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬300mm，設定溫度：250℃)、冷卻滾筒(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作由聚碳酸酯系樹脂構成之光學薄膜。所得光學薄膜之厚度為20µm。
＜積層光學薄膜之作成＞ 於上述所得之由聚碳酸酯系樹脂構成之2片光學薄膜上，以使硬化後之膜厚合計達1.0µm之方式塗敷接著劑組成物。塗敷係使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(凹槽形狀：蜂巢狀，凹版輥筒線數1000條/inch，旋轉速度140%/對線速)。接著，透過塗敷有接著劑之面，貼合上述所得光學薄膜彼此。接著，對所得積層體照射紫外線，使薄膜間之接著劑組成物硬化而獲得積層光學薄膜。紫外線照射時係使用鎵燈，且調整成在395~445nm之波長區域下之照度達1000mW/cm 2、累積光量達600mJ/cm 2。
＜接著性之評估＞ 從積層光學薄膜裁切出第1邊200mm×第2邊15mm之尺寸的試樣薄膜。第1邊係沿與光學薄膜製膜時之輸送方向平行延伸的邊。第2邊係沿與前述輸送方向正交之方向延伸的邊。接著，將試樣薄膜之紫外線照射面的光學薄膜透過強黏著劑貼合於玻璃板上。接著，藉由TENSILON萬能試驗機(品名「RTC」，A&D Company, Limited製)，測定光學薄膜從積層光學薄膜剝離之90°剝離強度(N/15mm)。本測定中，將測定溫度設為25℃，剝離角度設為90°，剝離速度設為1000mm/分鐘。將各實施例及比較例之結果列示於表1。剝離強度以1.0(N/15mm)以上為合格基準，宜為1.5(N/15mm)以上。
＜接著劑組成物之HSP之算出方法＞ 接著劑組成物之HSP係針對組成物之構成材料分別利用Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)之Y-MB法計算出漢森溶解度參數(HSP)，並對應組成物中之莫耳比取平均值而求得。
＜聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP之算出方法＞ 將聚碳酸酯系樹脂薄膜浸漬於以下溶解度不同之9種溶劑中24小時：丙酮、乙酸乙酯、三氯苯、碳酸伸丙酯、γ-丁內酯、甲乙酮、二丙酮、己烷、甲醇其等之混合溶劑。將浸漬24小時後之透明保護薄膜之狀態分類成(1)溶解、(2)膨潤、(3)不溶解之3階段。根據由此而得之對各種溶劑之溶解度資料，以Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)ver.5.4.04(http://www. hansen-solubility.com/index.php)計算出漢森溶解度參數(HSP)。
＜HSP距離之算出方法＞ 將聚碳酸酯系樹脂薄膜之漢森溶解度參數的分散項設為σd、極性項設為σp、氫鍵項設為σh，且將接著劑組成物之漢森溶解度參數的分散項設為σAd、極性項設為σAp、氫鍵項設為σAh時，將下述數學式：Ra-1=[4×(σd-σAd) 2+2×(σp-σAp) 2+2×(σh-σAh) 2] 1/2定義為「聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP與接著劑組成物之HSP之間的HSP距離」(=Ra-1)。用經前述方法算出之聚碳酸酯系樹脂薄膜及接著劑組成物之漢森溶解度參數來計算。將各實施例及比較例之值列示於表1。
[表1]
(無)

Claims (4)

  1. 一種積層光學薄膜，特徵在於：其係依序積層有光學薄膜1、接著劑層及光學薄膜2者； 前述光學薄膜1及2中之至少一者為聚碳酸酯系樹脂薄膜； 前述聚碳酸酯系樹脂薄膜含有源自式(1)所示二羥基化合物之結構單元： [化學式1] ； 且，前述聚碳酸酯系樹脂薄膜之HSP與形成前述接著劑層之接著劑組成物之HSP之間的HSP距離為4.0以下。
  2. 如請求項1之積層光學薄膜，其中前述接著劑組成物含有自由基聚合性化合物，且該自由基聚合性化合物包含單官能自由基聚合性化合物及二官能以上之多官能自由基聚合性化合物； 前述自由基聚合性化合物中，前述單官能自由基聚合性化合物之比率為65質量%以上，且前述二官能以上之多官能自由基聚合性化合物之比率為35質量%以下。
  3. 如請求項2之積層光學薄膜，其中前述單官能自由基聚合性化合物係含環狀醚基之(甲基)丙烯醯胺衍生物。
  4. 如請求項2或3之積層光學薄膜，其中前述二官能以上之多官能自由基聚合性化合物係具有脂環結構之二官能自由基聚合性化合物。
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