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TW202500258A - 溶液供給裝置及半導體設備 - Google Patents

溶液供給裝置及半導體設備 Download PDF

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TW202500258A
TW202500258A TW113120546A TW113120546A TW202500258A TW 202500258 A TW202500258 A TW 202500258A TW 113120546 A TW113120546 A TW 113120546A TW 113120546 A TW113120546 A TW 113120546A TW 202500258 A TW202500258 A TW 202500258A
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TW
Taiwan
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TW113120546A
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王子豪
陳建
暉 王
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大陸商盛美半導體設備(上海)股份有限公司
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Abstract

本發明公開了溶液供給裝置及半導體設備,該溶液供給裝置用於為處理裝置提供混合溶液,包括:第一溶液輸入端、第二溶液輸入端、第一輸送管線、第二輸送管線、設於第一和第二輸送管線匯合處的混合槽、與混合槽連接的主輸送管線、連接於混合槽和處理裝置之間的主輸送管線的主排放管線,以及與主排放管線和主輸送管線通信連接的控制部件,該控制部件用於使主輸送管線為處理裝置提供混合溶液之前,經主排放管線排放具有不穩定流量的溶液。本發明實現了提升混液中各化學組分的體積比例精度的效果。

Description

溶液供給裝置及半導體設備
本發明涉及半導體設備領域,進一步地涉及一種溶液供給裝置及半導體設備。
在半導體濕法清洗和蝕刻設備中,需將不同溶液按比例混合使用,為保證產品蝕刻薄膜量穩定在一定範圍,對混合溶液濃度穩定性有較高要求,常見混合溶液包括例如:DHF溶液(水和49%氫氟酸的混合液)、SC1溶液(體積比例為1:2:50的氨水、雙氧水以及水的混合液)、HF/HNO 3溶液(氫氟酸和硝酸的混合液)。現有設備端通過調節不同輸入管線中化學溶液的注入流量,從而控制各組分化學溶液的配比體積,以達到配置目標濃度溶液的目的。
但是由於管路設計和閥件回應調控需要一定時間等限制,溶液在混合過程中濃度波動較大,而且隨著線上即時補液次數的增加,濃度漂移會出現累計效應,進而將造成溶液對於產品薄膜的蝕刻量不穩定,甚至導致產品報廢。
例如,在申請號為200510075183.4的中國發明專利中,公開了一種化學品混合和供給裝置及方法,如圖1所示,該化學品混合和供給裝置包括:第一化學品來源部分112、第二化學品來源部分122、第一輸送管線114、第二輸送管線124、主輸送管線140、位於主輸送管線140的混合器142、第一流量計116和第四流量計126、排出管線150以及用於比較基於由第一流量計116和第四流量計126提供的流速資料而計算出的化學品混合比與預設的化學品混合比以控制化學品的流速的控制部件130。排出管線150分別連接於第一輸送管線114和第二輸送管線124上,可分別與第一化學品來源部分112和第二化學品來源部分122連接,因為最初輸送的化學品的流速非常不穩定,最初輸送的化學品由排出管線150排放3-5秒鐘,此後維持穩定的流速,即在流速調整的過程中排放化學品。
儘管上述排出管線150可用於排放第一輸送管線114和第二輸送管線124中不穩定流動的化學品,防止具有不穩定流量的化學品流向主輸送管線140及混合器142的作用。但當停止輸送化學品至排出管線150,並開始將其輸送至主輸送管線140時,第一輸送管線114和第二輸送管線124所輸送的化學品將在主輸送管線140混合,由於在開關閥前後管路內部的管阻和壓力發生變化,導致第一輸送管線114和第二輸送管線124內的化學品流量急劇變化,從而導致由第一輸送管線114和第二輸送管線124混合輸入到主輸送管線140的化學品流量不穩定,進而導致主輸送管線140輸入混合器142內的化學品混合比出現偏差,以及由混合器142提供至處理裝置10的化學品溶液濃度出現偏差。
因此,本專利旨在提升混液中各化學組分的體積比例精度。
針對上述技術問題,本發明的目的在於提升混液中各化學組分的體積比例精度,為了實現上述目的,本發明提供了一種溶液供給裝置及半導體設備。
在一些實施方式中,本發明提供了一種溶液供給裝置用於為處理裝置提供混合溶液,包括:第一溶液輸入端,用於接收注入的第一溶液;第二溶液輸入端,用於接收注入的第二溶液;第一輸送管線,與所述第一溶液輸入端連接;第二輸送管線,與所述第二溶液輸入端連接;混合槽,連接於所述第一輸送管線遠離所述第一溶液輸入端的一端,及所述第二輸送管線遠離所述第二溶液輸入端的一端,用於混合所述第一溶液和所述第二溶液並形成混合溶液;主輸送管線,連接於所述混合槽與所述處理裝置之間,用於為所述處理裝置提供混合溶液;主排放管線,連接於所述主輸送管線;控制部件,與所述主排放管線和所述主輸送管線通信連接,用於在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液之前,經所述主排放管線排放具有不穩定流量的混合溶液。
在一些實施方式中,本發明提供了一種半導體設備,包括半導體處理裝置和上述溶液供給裝置。
與現有技術相比,本發明具有以下有益效果:本發明通過在藥液混合完成後增設主排放管線,將混液初期因為流量不穩定所導致濃度異常的溶液通過主排放管線排放掉,待穩定配液流量後再輸送進入處理裝置,從而提升混合溶液中各組份體積比例精度。本發明還通過在管線中設置穩壓器,穩定所輸送的液壓,從而將具有穩定流量的液體輸送進入處理裝置,提升混合溶液中各組份體積比例精度。
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對照圖式說明本發明的具體實施方式。顯而易見地,下面描述中的圖式僅僅是本發明的一些實施例,對於本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些圖式獲得其他的圖式,並獲得其他的實施方式。
為使圖面簡潔,各圖中只示意性地表示出了與發明相關的部分,它們並不代表其作為產品的實際結構。另外,以使圖面簡潔便於理解,在有些圖中具有相同結構或功能的部件,僅示意性地繪示了其中的一個,或僅標出了其中的一個。在本文中,“一個”不僅表示“僅此一個”,也可以表示“多於一個”的情形。
在本文中,需要說明的是,除非另有明確的規定和限定,術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內部的連通。對於本領域的普通技術人員而言,可以根據具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
另外,在本申請的描述中,術語“第一”、“第二”等僅用於區分描述,而不能理解為指示或暗示相對重要性。
[實施例一]
如圖2所示,本實施例公開了一種溶液供給裝置200,該溶液供給裝置200包括第一溶液輸入端211、第二溶液輸入端221、第一輸送管線210、第二輸送管線220、主輸送管線230、主排放管線240、混合槽250和控制部件270。
其中,第一溶液輸入端211用於接收注入的第一溶液,第二溶液輸入端221用於接收注入的第二溶液,上述第一溶液不同於第二溶液。第一輸送管線210與第一溶液輸入端211連接,第二輸送管線220與第二溶液輸入端221連接,混合槽250連接於第一輸送管線210遠離第一溶液輸入端211的一端,及第二輸送管線220遠離第二溶液輸入端221的一端,即混合槽250設於第一輸送管線210和第二輸送管線220的匯合處,或第一輸送管線210和第二輸送管線220分別與混合槽250連接,用於混合分別由第一輸送管線210和第二輸送管線220輸送的溶液。主輸送管線230連接於混合槽250與處理裝置300之間,用於為處理裝置300提供混合溶液。
此外,主排放管線240連接於主輸送管線230,相當於主輸送管線230的一個支路。控制部件270與主輸送管線230和主排放管線240分別保持通信連接,用於在主輸送管線230為處理裝置300提供混合溶液之前,經由主排放管線240按圖2所示的方向DR排放具有不穩定流量的溶液。該實施方式可使混合槽250內的混合溶液穩定地向處理裝置300輸送,從而提升混合溶液中各組份體積比例精度,使每次供應給處理裝置300的混合溶液都有精確的濃度。
本申請對如何排放溶液不做限制。在一些實施例中,主排放管線240上設有第二調節閥241,主輸送管線230上在主排放管線240和處理裝置300之間設有第一調節閥231,第一調節閥231位於主排放管線240和處理裝置300之間,且上述第一調節閥231和第二調節閥241分別與控制部件270通信連接。主輸送管線230為處理裝置300提供混合溶液之前,控制部件270關閉第一調節閥231,開啟第二調節閥241,以通過主排放管線240排放具有不穩定流量的溶液。而在主輸送管線230為處理裝置300提供混合溶液時,控制部件270先開啟第一調節閥231,此時,主輸送管線230中的溶液分為兩部分,一部分繼續由主排放管線240排放,另一部分供應給處理裝置300。第一調節閥231和第二調節閥241同時處於開啟狀態預設時間後,主輸送管線230內的溶液流量將趨於穩定,此時再關閉第二調節閥241,此時,主輸送管線230中的溶液全部供應給處理裝置300。
優選地,主排放管線240上設有第二流量計242,主輸送管線230在主排放管線240和處理裝置300之間設有第一流量計232,且上述第一流量計232和第二流量計242分別與控制部件270通信連接。其中,在主輸送管線230為處理裝置300提供混合溶液之前,第二流量計242檢測得主排放管線240內的溶液流量穩定時的流量值為第一檢測值。主輸送管線230為處理裝置300提供混合溶液時,由於第一調節閥231的開啟,主輸送管線230內溶液的流量將發生變化,此時將第一流量計232檢測得主輸送管線230向處理裝置300輸送的溶液流量(即主輸送管線230的分支233內的溶液流量)的即時值定義為第二檢測值,第二流量計242檢測得主排放管線240內的溶液流量即時值定義為第三檢測值。控制部件270通過調節第一調節閥231的開啟速率和第二調節閥241的關閉速率,以保持第二檢測值和第三檢測值之和等於第一檢測值,進而維持主輸送管線230內的流量穩定。最終,第一調節閥231完全開啟,第二調節閥241完全關閉,此時第二檢測值等於第一檢測值,第三檢測值等於零。
優選地,如圖3所示,主輸送管線上230上還可設置進料槽234(日用槽),進料槽234位於主排放管線240和處理裝置300之間,用於緩存來自混合槽250的混合溶液,並供應至處理裝置300。且在該實施例附圖中,進料槽234設置於第一調節閥231和第二流量計242之後及處理裝置300之前,以提高進入進料槽234內的混合溶液中各組份體積比例精度,進而使進料槽234每次供應給處理裝置300的混合溶液都有精確的濃度。
在一些實施例中,第一輸送管線210上設有第三調節閥212和第三流量計213,第三調節閥212位於第一溶液輸入端211與第三流量計213之間,第二輸送管線220上設有第四調節閥222和第四流量計223,第四調節閥222位於第二溶液輸入端221與第四流量計223之間,即沿第一輸送管線210或第二輸送管線220內溶液流動方向,第三流量計213在第三調節閥212的下游,第四流量計223在第四調節閥222的下游,以檢測第一輸送管線210或第二輸送管線220內可能由於第三調節閥212或第四調節閥222的動作發生波動的實際流量。且上述第三調節閥212和第四調節閥222,第三流量計213和第四流量計223分別與控制部件270通信連接,控制部件270可接收第三流量計213和四流量計223發送的流量資訊信號,且控制第三調節閥212和第四調節閥222的開度以對各管線的流量進行調節。需要說明的是,上述第一調節閥231、第二調節閥241、第三調節閥212和第四調節閥222優選為流量控制閥(FCV,Flow Control Valve),也可以為普通閘閥。
當第三調節閥212和第四調節閥222選用流量控制閥時,控制部件270可通過流量控制閥分別控制第一輸送管線210和第二輸送管線220內的溶液流量比來控制濃度配比,即控制部件270通過第三流量計213和第四流量計223分別檢測第一輸送管線210和第二輸送管線220內的流量資料,計算注入第一溶液輸入端211和第二溶液輸入端221不同化學溶液的流量比值,比較計算出的流量比值與預設的溶液體積混合比,以輸出用於控制第三調節閥212和第四調節閥222的開啟率的控制信號,進而控制混合溶液的濃度,以使第一溶液和第二溶液混合形成具有上述預設的溶液體積混合比的混合溶液,進而達到預設的濃度配比。
在實際應用中,以第一溶液輸入端211注入HF(氟化氫)溶液,第二溶液輸入端221注入DIW(去離子水)為例:
首先,僅開啟第二調節閥241、第三調節閥212和第四調節閥222,關閉第一調節閥231,控制部件270通過第三調節閥212和第四調節閥222分別控制第一輸送管線210和第二輸送管線220內HF或DIW的溶液流量比,以調節混合槽250內的混合溶液的濃度,且由主排放管線240排放出由於壓力或管阻變化而產生的流量波動較大的HF/DIW混合溶液。其次,待第二流量計242檢測到主排放管線240中的溶液流量穩定後,控制部件270開啟第一調節閥231向進料槽234內注入流量穩定的HF/DIW混合溶液,且上述過程中由控制部件270按前文中的調控方式調節第一調節閥231的開啟速率和第二調節閥241的關閉速率,以維持主輸送管線230內的流量穩定。
[實施例二]
如圖4所示,本實施例公開了一種溶液供給裝置200,與實施例一類似,包括第一溶液輸入端211、第二溶液輸入端221、第一輸送管線210、第二輸送管線220、主輸送管線230、主排放管線240、混合槽250、進料槽234和控制部件270。上述各部件和管線的連接方式與實施例一相同,在此不再贅述,本實施例與實施例一的區別在於第一輸送管線210上增加了緩衝槽214及迴圈管線215,第二輸送管線220上增加了次排放管線224。
其中,緩衝槽214位於第一溶液輸入端211和第三調節閥212之間,迴圈管線215的一端連接在緩衝槽214和第一溶液輸入端211之間的第一輸送管線210上,另一端連接在緩衝槽214和第三調節閥212之間的第一輸送管線210上,且迴圈管線215裝設有第五調節閥216和第五流量計217。次排放管線224的一端接入於第二溶液輸入端221和第四調節閥222之間的第一輸送管線210,且次排放管線224裝設有第六調節閥225和第六流量計226。上述第五調節閥216、第六調節閥225、第五流量計217和第六流量計226也分別與控制部件270通信連接。
在實際應用中,以第一溶液輸入端211注入HF(氟化氫)溶液,第二溶液輸入端221注入DIW(去離子水)為例:
首先,僅開啟第五調節閥216和第六調節閥225,關閉第一調節閥231、第二調節閥241、第三調節閥212和第四調節閥222,HF溶液將按設定流量在緩衝槽214及迴圈管線215進行內迴圈,DIW將開始通過次排放管線224進行流量穩定調節。其次,當HF溶液和DIW的流量都達到設定值並穩定一段時間後,關閉第五調節閥216和第六調節閥225,並同步開啟第二調節閥241、第三調節閥212和第四調節閥222,第一調節閥231仍處於關閉狀態。HF溶液停止進入迴圈管線215,DIW停止由次排放管線224排放,HF溶液和DIW將彙聚於混合槽250,且經過混合槽250後的HF/DIW混合溶液流向主排放管線240,並由主排放管線240排放出由於壓力或管阻變化而產生的流量波動較大的HF/DIW混合溶液。最後,待第二流量計242檢測出流量穩定後,再開啟第一調節閥231向進料槽234內注入流量穩定的HF/DIW混合溶液。
[實施例三]
如圖5所示,本實施例公開了一種溶液供給裝置200,與實施例一類似,包括第一溶液輸入端211、第二溶液輸入端221、第一輸送管線210、第二輸送管線220、主輸送管線230、混合槽250、進料槽234和控制部件270。且上述各部件和管線的連接方式與實施例一相同,在此不再贅述,本實施例與實施例一的區別在於第一輸送管線210和第二輸送管線220分別增加了穩壓器260。
此外,由於第一輸送管線210和第二輸送管線220分別通過穩壓器260維持管內恒定的壓力,溶液進入主輸送管線230壓力不變,從而保證流量動態穩定的效果,即穩壓器260可起到與實施例一中的主排放管線240相同的技術效果,因此在本實施例中主輸送管線230可以不接入主排放管線240。其中,穩壓器260可選用液壓平衡閥,也可以由控制器、壓力感測器和流量調節閥組成,壓力感測器與管內接通並將壓力信號傳輸給控制器,控制器根據接收的壓力信號控制流量調節閥的開度,使得管內的壓力維持在恒定狀態,控制器可獨立於控制部件270,或屬於控制部件270的一部分。
在實際應用中,以第一溶液輸入端211注入HF(氟化氫)溶液,第二溶液輸入端221注入DIW(去離子水)為例:
若主輸送管線230接有主排放管線240:先開啟第二調節閥241、第三調節閥212和第四調節閥222,關閉第一調節閥231,HF溶液和DIW分別經過各自管線的穩壓器260在混合槽250內匯合,並經由主排放管線240排放指定時間的HF/DIW混合溶液。再在進料槽234需要補液時,關閉第二調節閥241、開啟第一調節閥231向進料槽234內注入流量穩定的HF/DIW混合溶液。
若主輸送管線230未連接主排放管線240,則直接開啟第一調節閥231、第二調節閥241、第三調節閥212和第四調節閥222,使HF溶液和DIW分別經過各自管線的穩壓器260在混合槽250內匯合,並向進料槽234內注入的HF/DIW混合溶液,利用第一輸送管線210和第二輸送管線220上的穩壓器260,維持主輸送管線230內液壓的動態平衡,為進料槽234提供穩定的流量,以保證HF/DIW混合溶液濃度的準確性。
[實施例四]
本實施例公開了一種半導體設備,該半導體設備包括處理裝置300和上述任一實施例中的溶液供給裝置200。上述處理裝置300包括但不限於晶圓清洗槽或晶圓蝕刻槽,且溶液供給裝置200可通過主輸送管線230為一個或多個上述晶圓清洗槽和晶圓蝕刻槽提供混合溶液,從而對晶圓實施蝕刻和清洗製程。本實施例通過在半導體設備中設置上述溶液供給裝置200,可以提高蝕刻製程中蝕刻薄膜量的穩定性,改善清洗製程中基板表面的潔淨度。
應當說明的是,上述實施例均可根據需要自由組合。以上僅是本發明的優選實施方式,對於本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應視為本發明的保護範圍。
10:處理裝置 112:第一化學品來源部分 114:第一輸送管線 116:第一流量計 122:第二化學品來源部分 124:第二輸送管線 126:第四流量計 130:控制部件 140:主輸送管線 142:混合器 150:排出管線 200:溶液供給裝置 210:第一輸送管線 211:第一溶液輸入端 212:第三調節閥 213:第三流量計 214:緩衝槽 215:迴圈管線 216:第五調節閥 217:第五流量計 220:第二輸送管線 221:第二溶液輸入端 222:第四調節閥 223:第四流量計 224:次排放管線 225:第六調節閥 226:第六流量計 230:主輸送管線 231:第一調節閥 232:第一流量計 233:分支 234:進料槽 240:主排放管線 241:第二調節閥 242:第二流量計 250:混合槽 260:穩壓器 270:控制部件 300:處理裝置 DR:方向
下面將以明確易懂的方式,結合圖式說明優選實施方式,對本發明的上述特性、技術特徵、優點及其實現方式予以進一步說明。 圖1是本發明背景技術的化學品混合和供給裝置的構造圖。 圖2是本發明溶液供給裝置的一種實施方式示意圖。 圖3是本發明溶液供給裝置的另一種實施方式示意圖。 圖4是本發明溶液供給裝置的另一種實施方式示意圖。 圖5是本發明溶液供給裝置的另一種實施方式示意圖。
200:溶液供給裝置
210:第一輸送管線
211:第一溶液輸入端
220:第二輸送管線
221:第二溶液輸入端
230:主輸送管線
231:第一調節閥
232:第一流量計
233:分支
240:主排放管線
241:第二調節閥
242:第二流量計
250:混合槽
270:控制部件
300:處理裝置
DR:方向

Claims (10)

  1. 一種溶液供給裝置,用於為處理裝置提供混合溶液,包括: 第一溶液輸入端,用於接收注入的第一溶液; 第二溶液輸入端,用於接收注入的第二溶液; 第一輸送管線,與所述第一溶液輸入端連接; 第二輸送管線,與所述第二溶液輸入端連接; 混合槽,連接於所述第一輸送管線遠離所述第一溶液輸入端的一端,及所述第二輸送管線遠離所述第二溶液輸入端的一端,用於混合所述第一溶液和所述第二溶液並形成混合溶液; 主輸送管線,連接於所述混合槽與所述處理裝置之間,用於為所述處理裝置提供混合溶液; 主排放管線,連接於所述主輸送管線; 控制部件,與所述主排放管線和所述主輸送管線通信連接,用於在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液之前,經所述主排放管線排放具有不穩定流量的混合溶液。
  2. 如請求項1所述之溶液供給裝置,其中: 所述主輸送管線上設有第一調節閥,所述第一調節閥位於所述主排放管線和所述處理裝置之間; 所述主排放管線上設有第二調節閥; 所述控制部件分別與所述第一調節閥和第二調節閥通信連接,並被配置為:在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液之前,所述控制部件關閉所述第一調節閥,並開啟所述第二調節閥,以通過所述主排放管線排放具有不穩定流量的混合溶液;以及 在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液時,所述控制部件控制所述第一調節閥開啟,並控制所述第一調節閥和所述第二調節閥均處於開啟狀態預設時間後,再關閉所述第二調節閥。
  3. 如請求項1所述之溶液供給裝置,其中: 所述主輸送管線上依次設有第一調節閥和第一流量計,所述第一調節閥和第一流量計位於所述主排放管線和所述處理裝置之間; 所述主排放管線上依次設有第二調節閥和第二流量計; 所述控制部件分別與所述第一調節閥、所述第一流量計、所述第二調節閥和所述第二流量計通信連接,並被配置為: 在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液之前,所述控制部件關閉所述第一調節閥,並開啟所述第二調節閥,所述第二流量計檢測得所述主排放管線內的溶液流量穩定時的流量值為第一檢測值; 在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液時,所述第一流量計檢測得所述主輸送管線向所述處理裝置輸送的溶液流量即時值為第二檢測值,所述第二流量計檢測得所述主排放管線內的溶液流量即時值為第三檢測值,所述控制部件調節所述第一調節閥的開啟速率和所述第二調節閥的關閉速率,以使所述第二檢測值和所述第三檢測值之和等於所述第一檢測值。
  4. 如請求項1所述之溶液供給裝置,其中: 所述主輸送管線上設有進料槽,所述進料槽位於所述主排放管線和所述處理裝置之間,用於緩存來自所述混合槽的混合溶液,並供應至所述處理裝置。
  5. 如請求項1所述之溶液供給裝置,其中: 所述第一輸送管線上設有第三調節閥和第三流量計; 所述第二輸送管線上設有第四調節閥和第四流量計; 所述控制部件還被配置為:接收由所述第三流量計和所述第四流量計檢測到的流量資料,計算所述第一溶液和所述第二溶液的流量比值,比較所述流量比值與預設的混合比,以輸出用於控制所述第三調節閥和第四調節閥開啟率的控制信號,以使所述第一溶液和所述第二溶液混合形成具有所述預設的混合比的混合溶液。
  6. 如請求項1所述之溶液供給裝置,其中: 所述第一輸送管線和所述第二輸送管線上分別設有穩壓器,用於穩定所述第一輸送管線和所述第二輸送管線內的液壓。
  7. 如請求項1所述之溶液供給裝置,進一步包括: 緩衝槽,設於所述第一輸送管線; 迴圈管線,連接於所述第一輸送管線的所述緩衝槽前後,用於在所述第一輸送管線為所述混合槽提供第一溶液之前,經由所述迴圈管線回收具有不穩定流量的第一溶液。
  8. 如請求項7所述之溶液供給裝置,進一步包括: 次排放管線,連接於所述第二輸送管線,用於在所述第二輸送管線為所述混合槽提供第二溶液之前,經所述次排放管線排放具有不穩定流量的第二溶液。
  9. 一種溶液供給裝置,用於為處理裝置提供混合溶液,包括: 第一溶液輸入端,用於接收注入的第一溶液; 第二溶液輸入端,用於接收注入的第二溶液; 第一輸送管線,與所述第一溶液輸入端連接; 第二輸送管線,與所述第二溶液輸入端連接; 混合槽,連接於所述第一輸送管線遠離所述第一溶液輸入端的一端,及所述第二輸送管線遠離所述第二溶液輸入端的一端,用於混合所述第一溶液和所述第二溶液並形成混合溶液; 主輸送管線,連接於所述混合槽與所述處理裝置之間,用於為所述處理裝置提供混合溶液;其中, 所述第一輸送管線和所述第二輸送管線上分別設有穩壓器,用於穩定所述第一輸送管線和所述第二輸送管線內的液壓。
  10. 一種半導體設備,包括用於處理半導體的處理裝置和如請求項1至9任一項所述之溶液供給裝置。
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