[go: up one dir, main page]

TW202343937A - 用於光學元件之承載裝置 - Google Patents

用於光學元件之承載裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202343937A
TW202343937A TW112107718A TW112107718A TW202343937A TW 202343937 A TW202343937 A TW 202343937A TW 112107718 A TW112107718 A TW 112107718A TW 112107718 A TW112107718 A TW 112107718A TW 202343937 A TW202343937 A TW 202343937A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
coil
magnet
platform
plane
carrying device
Prior art date
Application number
TW112107718A
Other languages
English (en)
Inventor
斯蒂芬 斯摩卡
曼紐爾 阿什萬登
沃爾夫岡 澤施
Original Assignee
瑞士商奧普托度瑞士公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 瑞士商奧普托度瑞士公司 filed Critical 瑞士商奧普托度瑞士公司
Publication of TW202343937A publication Critical patent/TW202343937A/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/035—DC motors; Unipolar motors
    • H02K41/0352—Unipolar motors
    • H02K41/0354—Lorentz force motors, e.g. voice coil motors
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
    • G09G3/007—Use of pixel shift techniques, e.g. by mechanical shift of the physical pixels or by optical shift of the perceived pixels
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/085—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by electromagnetic means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0875—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/64—Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2340/00—Aspects of display data processing
    • G09G2340/04—Changes in size, position or resolution of an image
    • G09G2340/0407—Resolution change, inclusive of the use of different resolutions for different screen areas

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Buffer Packaging (AREA)

Abstract

本發明係關於一種用於承載一光學元件(2)之承載裝置(1)，其包括：一平台(P)，其界定一平面(P1)；一基座(S)；一彈簧結構(3)，其將該平台連接至該基座以便允許該平台相對於該基座圍繞平行於該平面延伸之至少一第一軸線(A)傾斜；一第一磁鐵(M1)及一第一線圈(C1)，其中該第一磁鐵係連接至該平台且該第一線圈(C1)係連接至該基座，或其中該第一磁鐵係連接至該基座且該第一線圈(C1)係連接至該平台(P)，且其中該第一磁鐵(M1)係平行於該平面(P1)被磁化，其中該第一線圈(C1)包括與該第一磁鐵(M1)相對的一第一線圈區段(10)，使得流動穿過該第一線圈區段(10)的一電流沿相對於該平面(P1)以自88°至92°之範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台(P)之一傾斜，並且其中該平台(P)、該基座(S)、該第一磁鐵(M1)及該第一線圈區段(10)係配置在平行於該平面(P1)伸展的一共同延伸平面中。

Description

用於光學元件之承載裝置
本發明係關於一種用於承載一光學元件的承載裝置。
此種裝置特定而言用以在至少兩個位置之間承載及傾斜一光學元件(例如具有兩個相對的平行光學表面之一扁平透明板)。此一裝置之一個重要的應用係一所謂的像素移位器(通常縮寫為XPR)，其可用以增加透過像素移位器之傾斜的玻璃板而投射之一影像之解析度。
特定而言，可藉由在影像擷取之間移動影像(例如，一半像素)並將影像組合成一所得影像而增強一影像之解析度。該移位可藉由使用以將影像投射在一影像感測器上的光通過該板且使該板圍繞一經定義軸線傾斜一經定義角度(例如對應於一半像素移位)來實現。
能夠實現此像素移位之現有裝置通常使不同的組件垂直地堆疊或者需要支撐結構或場引導結構，該等結構需要正交於該板之相當大的安裝空間。此外，現有XPR (諸如在WO2015/086166A1及WO2016/124782 A1中所揭露之基於磁阻致動器之設計)依靠必須儘可能小以提供充足致動力的一氣隙。然而，如此小的氣隙通常需要低公差零件及程序，此大大增加零件成本且/或導致生產上的高良率損失。
此外，對於幾個應用，XPR (像素移位器)需要係非常小的。具體而言，高度(亦即，平行於光學路徑(正交於玻璃平面)之延伸)係至關重要的。
基於上文，本發明欲解決之問題係提供一種用於承載、特定而言傾斜包括一經改良設計的一光學元件以減小平行於光學路徑之總高度的承載裝置。
此問題係藉由一種具有技術方案1之特徵的承載裝置來解決。
本發明之此態樣之較佳實施例係在附屬技術方案中述明且在下文闡述。
根據技術方案1，揭露了一種用於承載一光學元件、特定而言用於傾斜該光學元件以增加透過該光學元件(其可形成一所謂的XPR或像素移位器)投射的一影像之解析度的承載裝置，該承載裝置包括： -  一平台，其界定一平面； -  一基座； -  一彈簧結構，其將該光學元件連接至該基座以便允許該光學元件相對於該基座圍繞平行於該平面延伸之至少一第一軸線傾斜； -  一第一磁鐵及一第一線圈，其中該第一磁鐵係配置在該平台上且該第一線圈係配置在該基座上，或其中該第一磁鐵係配置在該基座上且該第一線圈係配置在該平台上，且其中該第一磁鐵係平行於該平面被磁化(亦即包括平行於該平面伸展之一磁化)， -  其中該第一線圈包括與該第一磁鐵相對的一第一線圈區段，使得流動穿過該第一線圈區段的一電流沿基本上正交於該平面(例如以自88°至92°之範圍內的一角度)延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜，從而使該光學元件圍繞該至少一個第一軸線傾斜，並且其中 -  該平台、該基座、該第一磁鐵及該第一線圈係嵌套在平行於該平面伸展的一層結構中。
特定而言，本發明旨在側向地配置裝置之主要組件(例如平台(光學元件)、磁鐵及線圈)，此可藉由為各別磁鐵提供在具有該等主要組件的平面中(亦即，平行於該平面延伸)之一磁化來達成。
特定而言，該第一線圈包括繞組圍繞其延伸的一虛擬線圈軸線(亦即繞組軸線) W。該虛擬線圈軸線相對於該第一軸線垂直地延伸及/或垂直於基座之一主要延伸方向延伸。
有利地，本發明降低對零件公差的要求，且因此降低零件成本。此外，所需零件減少亦降低了總零件成本。此外，垂直公差(零件扁平度及零件厚度)之重要性減小。作為根據本發明之設計的一結果，可達成低於2 mm的承載裝置之一高度，其中1 mm或甚至0.8 mm之一高度似乎係可行的，使得對承載裝置之新型、先進的應用成為可能。
如將在下文進一步闡述，平台可包括或形成光學元件。此外，一光學元件可係配置在平台上，亦即由平台固持。在後一種情形下，平台對該平面進行界定，因為當光學元件連接至平台時，平台判定/界定光學元件之一平面(諸如光學元件之一光學表面)的空間位置。
根據本發明之一較佳實施例，該承載裝置包括小於或等於3 mm、特定而言小於或等於2 mm、特定而言小於或等於1.5 mm之一高度。
此外，根據本發明之一實施例，該第一線圈係連接至該基座且環繞該平台。特定而言，該平台可係配置在該基座之一貫穿開口中。在此處基座可形成一框架結構。
特定而言，該基座包括或形成為一印刷電路板，其中該第一線圈較佳地係整合至該印刷電路板中。此亦可適用於所有其他實施例，其中由承載裝置包括之其他線圈亦可整合至印刷電路板中。
此外，根據本發明之一實施例，該第一磁鐵係配置在該平台之一邊緣處，特定而言使得該第一磁鐵配置在該平台與該基座面向該平台之一部分之間，其中較佳地該承載裝置包括配置在該平台之一邊緣處的一第二磁鐵，該第二磁鐵與第一磁鐵相對，特定而言使得該第二磁鐵配置在該平台與該基座面向該平台之一部分之間。特定而言，該第一磁鐵與該第二磁鐵係配置在該平台之相對側。特定而言，在一實施例中，第一磁鐵(亦特定而言第二磁鐵至第四磁鐵，參見下文)係一永久磁鐵。
此外，特定而言，在一實施例中，該第一線圈包括與該第二磁鐵相對的另一第一線圈區段，使得流動穿過該另一第一線圈區段之一電流沿正交於該平面延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致/促成平台之一傾斜，從而使平台圍繞該至少一個(或僅一個)第一軸線傾斜。
此外，特定而言，在一實施例中，該第二磁鐵亦係平行於該平面被磁化。特定而言，第一磁鐵及第二磁鐵之磁化經定向使得對於流動穿過第一線圈的一給定電流，在第一線圈區段處產生之勞倫茲力沿同一傾斜方向起作用。
在上文所闡述之實施例中，第一線圈可係一單個線圈。在此方面，在一實施例中，彈簧結構包括兩個彈簧臂，該兩個彈簧臂將該平台連接至該基座以允許該光學元件相對於該基座圍繞該至少一個第一軸線(特定而言僅圍繞該第一軸線)之該傾斜。特定而言，每一彈簧臂可連接至平台之一角隅區，該等角隅區係相對於彼此對角地配置。因此，在此處，特定而言圍繞平行於該平面伸展的一單個軸線來進行傾斜，其中致動器僅需要一單個(第一)線圈及該兩個磁鐵。
然而，亦可能調適承載裝置以允許平台/光學元件亦在兩個維度上傾斜。
特定而言，根據本發明之一實施例，彈簧結構包括複數個彈簧臂(特定而言四個彈簧臂)，該複數個彈簧臂允許平台圍繞平行於該平面延伸的任何軸線之一傾斜。
此外，根據本發明之一實施例，承載裝置包括複數個線圈(其中例如該第一線圈)，該複數個線圈經構形以沿平台之不同傾斜方向產生力矩。
此外，根據本發明之一實施例，各別線圈(亦特定而言第一線圈)包括一第二線圈區段，該第二線圈區段特定而言用於促成閉合各別線圈之線圈繞組(使得當一電流通過導體時，各別線圈之線圈繞組形成能夠產生一磁場的一連續導體)。特定而言，由於環繞平台之第一線圈可包括多個第一線圈區段，第一線圈可包括多個此等第二線圈區段，其中每一第二線圈區段然後連接兩個鄰近的第一線圈區段。
此外，根據本發明之一實施例，相比於該複數個線圈中之該各別線圈之一第一線圈區段，該各別線圈之該第二線圈區段對藉助各別線圈產生的一勞倫茲力無貢獻或貢獻較小。為此，根據一實施例，該承載裝置可包括配置在該第一線圈區段與該第二線圈區段之間的一磁軛。另一選擇係，或除此之外，相比於該第一線圈區段，該第二線圈區段亦可配置在具有一較低磁場的一區域中。此外，根據一實施例，該第二線圈區段亦可配置在具有一相反磁場(亦即抵消作用於各別第一線圈區段附近的一磁場之一場)的一區域中，其中特定而言該承載裝置經構形以藉由配置在該平台上之一磁鐵部分來產生該相反磁場。
此外，根據本發明之一實施例，該承載裝置進一步包括連接至該平台之一第二磁鐵，其中該第二磁鐵係平行於該平面被磁化(亦即包括平行於該平面伸展之一磁化)，且其中該第一線圈包括與該第二磁鐵相對的另一第一線圈區段，使得流動穿過該另一第一線圈區段的一電流沿基本上正交於該平面(亦即以自88°至92°之範圍內的一角度)延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜。特定而言，對於一給定電流，兩個第一電流區段產生作用於同一傾斜方向上的勞倫茲力。特定而言，該第二磁鐵係配置在該平面中該平台與該第一磁鐵相對的一側上。特定而言，該第二磁鐵係沿與第一磁鐵相同的方向被磁化。
此外，根據一實施例，該承載裝置可進一步包括分別連接至該平台的一第三磁鐵及一第四磁鐵，其中該第三磁鐵係配置在相對於該第一磁鐵的一角度處，且其中該第四磁鐵係配置在相對於該第二磁鐵的一角度處，其中該第三磁鐵及該第四磁鐵係各自平行於該平面被磁化。特定而言，該第一線圈可包括與該第三磁鐵相對的一第二線圈區段，較佳地使得流動穿過該第二線圈區段的一電流沿相對於該平面以自88°至92°之範圍內的一角度延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜。此外，該第一線圈可包括與該第四磁鐵相對的另一第二線圈區段，較佳地使得流動穿過該另一第二線圈區段的一電流沿相對於該平面以自88°至92°之範圍內的一角度延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜。此外，在一較佳實施例中，該第一磁鐵與該第三磁鐵係毗鄰於該平台之一第一角隅配置且該第二磁鐵與該第四磁鐵係毗鄰於該平台之一第二角隅配置(例如以90°角度)，其中該第一角隅與該第二角隅係相對於彼此對角地配置。此外，根據一實施例，該第一磁鐵與該第三磁鐵可彼此整體地連接以便形成一成角度第一磁鐵(包圍例如該90°角度)。同樣地，該第二磁鐵與該第四磁鐵可彼此整體地連接，亦即，以便形成承載裝置之一成角度第二磁鐵(包圍例如該90°角度)。
此外，根據根據本發明之承載裝置之另一較佳實施例，該平台具有如在垂直於該平面之一俯視圖中所見的一矩形輪廓，且/或該基座包括一開口，其中該開口沿垂直於該平面之一方向完全地延伸穿過該基座且該開口之一內輪廓具有如在垂直於該平面之一俯視圖中所見的一矩形輪廓。特定而言，該開口之該輪廓係類似於該平台之該輪廓。
在此處及下文中，「類似」係指在歐幾裡得幾何意義上兩個幾何形狀的一關係。在歐幾裡得幾何中，若兩個物件具有相同形狀，或一個物件與另一物件之鏡像影像具有相同形狀，則兩個物件係類似的。更精確而言，一個物件可藉由均勻地按比例縮放(放大或縮小)、可能利用額外的平移、旋轉及反射自另一物件獲得。此意味著任一物件可被重新按比例縮放、重新定位及反射，以便與另一物件精確地重合。若兩個物件係類似的，則每一物件與對另一物件之一特定均勻按比例縮放的結果一致。
此外，在手邊的實施例中，該平台係至少部分地配置在該開口中，且該第一軸線相對於該輪廓之主軸線斜向地延伸(較佳地，該第一軸線相對於如一俯視圖中所見的矩形形狀的平台之主軸線以45°之一角度延伸)。
此外，在手邊的實施例中，該承載裝置包括一第三磁鐵及一第四磁鐵，其中該第三磁鐵及該第一磁鐵係配置在該輪廓之一共同第一邊緣處且在該輪廓之毗鄰側處，並且該第四磁鐵及該第二磁鐵係配置在該輪廓之一共同第二邊緣處且在該輪廓之毗鄰側處，其中該第一邊緣係與該第二邊緣相對，其中該第一邊緣與該第二邊緣之間之一假想連接線斜向地、較佳地垂直於該第一軸線延伸，其中該第三磁鐵及該第四磁鐵係各自平行於該平面被磁化，其中該第一線圈包括與該第四磁鐵相對的一第二線圈區段，特定而言使得流動穿過該第二線圈區段的一電流沿相對於該平面以自88°至92°之範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜，並且該第一線圈包括與該第三磁鐵相對的另一第二線圈區段，特定而言使得流動穿過該另一第二線圈區段的一電流沿相對於該平面以自88°至92°之範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜。
因此，在前文闡述的實施例中，平台之光學作用區具有基本上矩形之一形狀，因為大多數影像格式具有一矩形形狀。為了提高解析度(像素移位)，該板必須相對於矩形形狀之主軸線對角地傾斜。因此，磁鐵係配置在該矩形形狀之相對邊緣處，以最大限度地利用勞倫茲力。
此外，在本發明之一實施例中，該承載裝置包括經配置於該基座上之一第二線圈，其中該第一線圈環繞該第二線圈。特定而言該第一線圈環繞該平台。
此外，根據本發明之一實施例，該承載裝置進一步包括經連接至該平台之一第三磁鐵，其中該第三磁鐵係平行於該平面被磁化(亦即包括平行於該平面伸展之一磁化)，且其中該第二線圈包括與該第三磁鐵相對之一第一線圈區段，使得流動穿過該第二線圈之該第一線圈區段的一電流沿基本上正交於該平面(例如以88°與92°之間之一角度)延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜，並且其中該第二線圈包括與該第二線圈之該第一線圈區段相對的一第二線圈區段，其中該第二線圈之該第一線圈區段係配置在該第二線圈之該第二線圈區段與該第三磁鐵之間。特定而言，根據本發明之一實施例，該第三磁鐵係沿相對於該第一磁鐵及該第二磁鐵之磁化方向斜向或垂直的一方向被磁化。
此外，在本發明之一實施例中，一磁軛係配置在該第二線圈之該第一線圈區段與該第二線圈區段之間。
此外，根據本發明之一實施例，該承載裝置進一步包括一第三線圈，其中該第三線圈係相對於該第二線圈配置在基座上，且其中該第一線圈亦環繞該第三線圈。
此外，根據本發明之一實施例，該承載裝置進一步包括經連接至該平台的一第四磁鐵，其中該第四磁鐵係平行於該平面被磁化(亦即包括平行於該平面伸展之一磁化)。特定而言，該第四磁鐵係配置在該平面中該平台與該第三磁鐵相對的一側上。特定而言，該第四磁鐵係沿平行於該第三磁鐵之磁化之一方向被磁化。
此外，根據本發明之一實施例，該第三線圈包括與該第四磁鐵相對的一第一線圈區段，使得流動穿過該第三線圈之該第一線圈區段的一電流沿正交於該平面延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台之一傾斜，且其中該第三線圈包括與該第三線圈之該第一線圈區段相對的一第二線圈區段，其中該第三線圈之該第一線圈區段係配置在該第三線圈之該第二線圈區段與該第四磁鐵之間，其中較佳地在該第三線圈之該第一線圈區段與該第二線圈區段之間配置一磁軛。
總之，上文所闡述的實施例提供一種用於在兩個維度上傾斜平台的對稱設計，例如使得可藉助如上所述之一個環繞的第一線圈及相對於彼此配置的兩個局部線圈(第二線圈及第三線圈)而實現平台之四個不同的空間位置。
此外，根據本發明之一替代實施例，該承載裝置包括一樞軸接頭，該樞軸接頭在該基座與該第二線圈相對的一側上將該平台可樞轉地連接至該基座。用於使平台在兩個維度上傾斜之此尤其非對稱的設計允許藉助一個環繞的第一線圈、一個局部線圈(第二線圈)及與該第二線圈相對的一樞軸接頭(例如板片彈簧)來產生例如平台之四個不同的空間位置。此外，在此處，該第一線圈較佳地環繞該平台及該第二線圈。特定而言，亦在此處可在一第一線圈區段與一第二線圈區段之間配置一磁軛以減小該第二線圈區段對力產生之影響。
根據一實施例，將平台連接至基座(除樞軸接頭之外)的彈簧結構(特定而言彈簧臂)經構形以防止平台在平面中進行一旋轉且特定而言沿各別傾斜方向產生一特定剛性。
此外，根據本發明之一實施例，該平台包括磁軛，每一軛到達一相關聯的第一線圈區段周圍。
此外，根據本發明之一實施例，該平台包括或形成一光學元件。
此外，根據本發明之一實施例，該平台承載一單獨的光學元件。
此外，根據本發明之一實施例，該光學元件係以下各項中之一者：一透明板、一玻璃板、一鏡、一稜鏡、一漫射體。
特定而言，根據本發明之一較佳實施例，該光學元件係沿著該延伸平面延伸的一扁平透明板，該板部件包括正交於該延伸平面的一厚度，該厚度小於板部件平行於該延伸平面之延伸。特定而言，該厚度小於2 mm。此外，該扁平透明板包括彼此平行以及平行於該平面之兩平坦相對的表面。
此外，根據本發明之一實施例，各別線圈(例如第一線圈至第三線圈)平行於該平面延伸，其中該各別線圈包括該各別線圈之繞組圍繞其延伸的一虛擬線圈軸線，其中該線圈軸線正交於由該基座界定之該平面延伸。
在上文中，主要闡述了本發明之實施例，其中磁鐵係連接至平台且因此與平台一起移動。因此，此等設計亦被稱作移動式磁鐵設計。在本文中所闡述之所有實施例中，原則上可以交換磁鐵與線圈之位置，亦即將線圈配置在平台上且將磁鐵配置在基座上，使得繼而磁鐵與一相關聯的線圈之各別第一線圈區段相對。現在線圈與平台一起移動。因此，此等設計亦被稱作移動式線圈設計。
圖1展示用於承載一光學元件2之一承載裝置1之一實施例，其中裝置1包括界定一平面P1之一平台P，其中在此處平台P包括光學元件2及固持光學元件2之一框架部件300。光學元件2較佳地係設計為具有兩個相對的平坦及平行的表面2a、2b之一透明板2 (例如玻璃板)。平面P1對應於光學元件2之頂部表面2a。
該裝置進一步包括一基座S，及將平台P連接至基座S以便允許平台P相對於基座S圍繞一單個軸線A傾斜的一彈簧結構3，軸線A在圖1中利用一虛線指示，軸線A平行於該平面P1延伸。彈簧結構3包括該框架300及將框架300連接至墊40、41之兩個彈簧臂30、31，彈簧結構3經由該等墊連接至基座S。墊40、41可相對於彼此對角地配置。特定而言，每一彈簧臂30、31可連接至平台P之一角隅區，該等角隅區係相對於彼此對角地配置。如圖2中所指示，照射在頂部表面2a上之光L取決於板2圍繞軸線A之一傾斜角度而移位。
該裝置進一步包括一第一磁鐵M1及一第一線圈C1，其中第一磁鐵M1連接至平台P且第一線圈C1連接至基座S。第一磁鐵M1係平行於該平面P1被磁化，對應的磁場B在圖1中用一箭頭指示。較佳地，裝置1進一步包括與第一磁鐵M1相對的一第二磁鐵M2，第二磁鐵M2亦係在該平面P1中被磁化。如自圖2之剖面中可以看出，磁鐵M1、M2兩者配置在板2之相對邊緣處，使得各別磁鐵M1、M2分別配置在平台P (特定而言板P)與基座S面向板2之一部分之間，如圖2中所指示。因此，平台P、基座S、第一磁鐵M1及第二磁鐵M2係配置在平行於該平面P1伸展之一共同延伸平面中，使得裝置1形成一類扁平層結構，該結構沿光軸之方向僅包括一小高度h，根據一實例，該高度係大約0.9 mm (作為一實例，基座S可係0.8 mm厚且板係0.7 mm厚)。在該平面P1中，裝置/基座S之佔用面積可係大約8 x 13.5 mm 2。
為了使平台P/板2圍繞軸線A傾斜，裝置1進一步包括具有與第一磁鐵M1相對的一第一線圈區段10之至少一個第一線圈C1，使得流動穿過第一線圈C1且因此穿過第一線圈區段10的一電流沿正交於該平面P1延伸之一方向產生一勞倫茲力，使得導致平台P之一傾斜。
此外，特定而言，第一線圈C1可包括與第二磁鐵M2相對的另一第一線圈區段11，使得流動穿過第一線圈C1 (且因此穿過另一第一線圈區段11)的一電流沿正交於該平面P1延伸之一方向亦產生一勞倫茲力。特定而言，第一磁鐵M1與第二磁鐵M2之磁化沿同一方向延伸且經定向使得對於流動穿過第一線圈C1的一給定電流，在第一線圈區段10、11處產生之勞倫茲力沿同一傾斜方向起作用。
較佳地，基座S形成為一印刷電路板，其中第一線圈C1係整合至該印刷電路板(PCB)中。第一線圈C1環繞一開口4，該開口形成至其中配置有光學元件2的基座S中。因此，第一線圈C1亦環繞板2且沿著類框架PCB基座S之一內邊緣延伸。
較佳地，在圖1及圖2中所展示之實施例中，平台P包括如在垂直於平面P1之一俯視圖中所見的一矩形輪廓，且/或開口4沿垂直於平面P1之一方向完全地延伸穿過基座S且開口4之一內輪廓具有如在垂直於平面P1之一俯視圖中所見的一矩形輪廓，其中進一步平台P係至少部分地配置在開口4中，第一軸線A相對於該輪廓之主軸線斜向地延伸，並且承載裝置進一步包括一第三磁鐵M3及一第四磁鐵M4，其中第三磁鐵M3及第一磁鐵M1係配置在輪廓之一共同第一邊緣處且在輪廓之毗鄰側處，並且第四磁鐵M4及第二磁鐵M2係配置在輪廓之一共同第二邊緣處且在輪廓之毗鄰側處，其中第一邊緣與第二邊緣相對，且第一邊緣與第二邊緣之間的一假想連接線斜向地、較佳地垂直於第一軸線A延伸。最後，第三磁鐵M3及第四磁鐵M4較佳地係各自平行於該平面P1被磁化，其中第一線圈C1包括與第四磁鐵M4相對的一第二線圈區段20，且第一線圈C1包括與第三磁鐵M3相對的另一第二線圈區段21。
圖3及圖4展示根據本發明之一承載裝置1之替代實施例。
在此處，可如上文所闡述而設計之透明板2 (例如玻璃板)可在四個不同的位置中(亦即，在兩個維度上)傾斜。
被整合至基座S中之第一線圈C1繼而環繞整個光學元件2 (例如透明板2)，其中第一線圈C1之兩個相對的第一線圈區段10、11 (在圖3及圖4中之左端及右端)係分別毗鄰於一磁鐵M1、M2，磁鐵M1、M2係附接至板2。第二線圈區段20、21 (在圖3及圖4中之環繞的線圈之頂部側及底部側)與各別第三磁鐵M3及第四磁鐵M4相距一較大距離，以最小化在此等磁鐵上之一勞倫茲力。因此，環繞的第一線圈C1僅導致圍繞對應於第一軸線A之虛線傾斜。
裝置1進一步包括一第二(頂部)線圈C2及一第三(底部)線圈C3，該等線圈係毗鄰於各別第三磁鐵M3或第四磁鐵M4配置。第二線圈C2及第三線圈C3與各別磁鐵M3、M4相互作用以導致圍繞對應於圖3及圖4中之虛線的一第二軸線A’之一傾斜。第二線圈C2及第三線圈C3可各自包括一磁軛7。在線圈C2、C3之中心，磁軛7將線圈C2、C3之所需部分(亦即第一線圈區段12、13)與將自各別磁鐵M3、M4絕緣之部分(亦即第二線圈部分22、23)分隔開。磁軛7可係一金屬片，其減少線圈C2、C3之不與磁鐵M3、M4毗鄰之該等部分與磁鐵M3、M4之間的相互作用。磁軛7可與PCB整體地形成(參見圖3)。另一選擇係，磁軛7可與彈簧結構整體地形成(參見圖4)，其中磁軛7特定而言係彎曲90°且插入至基座/PCB S中之專用狹縫中。因此，磁軛7提供與基座S之一外形配合機械連接。然而，在一實施例中，圖3及圖4之實施例中之軛7亦可省略或者以本文中所闡述之其他構件替代或補充。
此外，圖5展示相對於基座S配置線圈C1、C2、C3的一替代實施例，其中在此處線圈C1、C2、C3具有繞組圍繞其延伸的一虛擬線圈軸線(亦即繞組軸線) W，虛擬線圈軸線W沿著PCB之平面延伸。特定而言，在圖5中，僅使用各別線圈C1、C2、C3之上部分來產生用於傾斜板2之勞倫茲力。另一選擇係，可使用各別線圈C1、C2、C3之下部分。各別線圈C1、C2、C3可係由基座/PCB S中之導電軌道構建。
此外，圖6展示一替代實施例，其中在此處線圈C1、C2、C3、C4係構形為局部線圈。每一線圈被整合至基座(例如PCB) S中且毗鄰於一相關聯的磁鐵M1、M2、M3、M4配置，該等磁鐵在由平台/光學元件2界定之平面P1中被磁化，該平台/光學元件可係如本文中所闡述之一透明板2。
板2係經由兩個L形彈簧臂30、31連接至基座，其中兩個磁鐵M1、M2係連接至板2之側向側，而剩餘的兩個磁鐵M3、M4係各自連接至彈簧臂30、31中之一者。板2可因此圍繞兩個獨立的軸線A、A’傾斜。
此外，圖7展示一替代實施例，其中在此處線圈C1、C2、C3、C4亦係構形為局部線圈，每一線圈被整合至基座(例如PCB) S之一角隅區中。在此處，彈簧結構3經形成為一環架，其中磁鐵M1、M2、M3、M4係各自配置在光學元件2之一角隅處，且因此面向一相關聯的線圈C1、C2、C3、C4。平台P對應於環架3之一內框架，光學元件2 (例如如本文中所闡述之一透明板)係連接至該內框架。
磁鐵M1、M2、M3、M4在由平台P/光學元件2界定之平面P1中被磁化。
圖6及圖7提供根據本發明之不需要環繞整個板2之一線圈之一承載裝置1的實例。
最後，圖8展示一實施例，其中裝置1包括一第一環繞的線圈C1及一局部第二線圈C2，以及在基座S與第二線圈C2相對之一側上的一樞軸接頭8。此構形導致可能使平台P/光學元件2 (例如如本文中所闡述之一透明板)圍繞一第一軸線A及另一軸線A’傾斜，該第一軸線穿過板2自第二線圈C2延伸至樞軸接頭8，且該另一軸線穿過板2正交於第一軸線A延伸。
如聯合圖3及圖4所闡述，承載裝置1包括該第一線圈C1，其被整合至基座S中且環繞由光學元件2形成之平台P。板2係配置在基座S之一開口4中。
第一線圈C1包括彼此相對之兩個第一線圈區段10、11，其中一磁鐵M1、M2係與各別第一線圈區段10、11相關聯且毗鄰於各別第一線圈區段10、11配置。磁鐵M1、M2係平行於該平面P1被磁化，使得若一電流流動穿過第一線圈C1，則(取決於第一線圈中之電流的方向)產生使板2圍繞第一軸線A傾斜的一勞倫茲力。
除了將板2連接至基座S的樞軸接頭8之外，裝置1亦包括一彈簧結構3，其由將板2之角隅區連接至與樞軸接頭8相對之基座S的兩個彈簧臂30、31構成。
此外，特定而言，第二線圈C2被整合至與樞軸接頭8相對之基座S中且係由第一線圈C1環繞。經連接至板2之一第三磁鐵M3係平行於該平面P1被磁化且係毗鄰於第二線圈C2配置。第二線圈C2包括與第三磁鐵M3相對的一第一線圈區段12，使得流動穿過第二線圈C2之第一線圈區段12的一電流沿正交於該平面P1延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致平台P圍繞第二軸線A’之一傾斜。此外，第二線圈C2包括與第二線圈C2之第一線圈區段12相對的一第二線圈區段22，其中第二線圈C2之第一線圈區段12係配置在第二線圈C2之第二線圈區段22與第三磁鐵M3之間。因此，第二線圈區段22對勞倫茲力的影響係弱得多，且該勞倫茲力受來自第一線圈區段12的貢獻支配。
特定而言，上文所闡述之磁軛7可係根據圖9至圖11中所展示之實施例形成。
圖9展示一磁軛7之一剖面圖，該磁軛係固定至基座S且可例如在線圈C2之一第一線圈區段12與線圈C2之一相關聯的第二線圈區段22之間延伸，如例如在圖3中所展示。特定而言，軛7包括基本上相對於基座S/平面P1垂直延伸的一筆直剖面輪廓。
圖10展示圖9中所展示之軛7之一變化形式，其中在此處軛7在剖面中具有一彎曲形狀，使得軛7自外部圍繞第一線圈區段12彎曲。
最後，圖11展示一磁軛7之一剖面圖，其中在此處，與圖9及圖10相比而言，軛7係連接至平台P且因此當平台P被傾斜時與平台P一起移動(亦參見圖4)，其中軛7自平台P之一邊緣延伸越過磁鐵M3及線圈C2之第一線圈區段12且到達該第一線圈區段12後面，以便在線圈C2之第一線圈區段12與相對的第二線圈區段22之間的一狹槽中延伸。該狹槽可經構形以便允許軛7在無機械摩擦之情況下在狹槽中自由移動。
1:承載裝置/裝置 2:光學元件/透明板/板 2a:表面/頂部表面 3:彈簧結構/環架 4:開口 5:邊緣 7:磁軛/軛 8:樞軸接頭 10:第一線圈區段 11:第一線圈區段 12:第一線圈區段 13:第一線圈區段 20:第二線圈區段 21:第二線圈區段 22:第二線圈區段 23:第二線圈區段 30:彈簧臂/L形彈簧臂 31:彈簧臂/L形彈簧臂 32:彈簧臂 33:彈簧臂 40:墊 41:墊 300:框架部件/框架 A:第一軸線/軸線/傾斜軸線 A’:第二軸線/軸線/傾斜軸線 B:磁場 C1:第一線圈/線圈/第一環繞的線圈 C2:第二(頂部)線圈/線圈/局部第二線圈 C3:第三(底部)線圈/線圈 C4:線圈 h:小高度/高度 L:光 M1:第一磁鐵/磁鐵 M2:第二磁鐵/磁鐵 M3:第三磁鐵/磁鐵 M4:第四磁鐵/磁鐵 P:平台/板 P1:平面 S:基座/裝置/類框架印刷電路板基座/印刷電路板 W:虛擬線圈軸線/繞組軸線/線圈軸線
將在下文參考各圖闡述本發明之其他特徵及優點以及本發明之實施例，其中 圖1   展示根據本發明之一承載裝置之一實施例的一透視圖，該承載裝置用於使特定而言呈一扁平透明板形式的一光學元件圍繞一單個軸線傾斜； 圖2   展示圖1中所展示之承載裝置之一剖面圖； 圖3   (A)展示根據本發明之一承載裝置之一實施例的一示意俯視圖，該承載裝置用於使特定而言呈一扁平透明板形式的一光學元件圍繞至少兩個不同的軸線傾斜；(B)展示該承載裝置之一剖面圖； 圖4   (A)展示根據本發明之一承載裝置之另一實施例的一示意俯視圖，該承載裝置用於使特定而言呈一扁平透明板形式的一光學元件圍繞至少兩個不同的軸線傾斜；(B)展示該承載裝置之一剖面圖； 圖5   展示根據本發明之一承載裝置之配置線圈的一替代變化形式，且 圖6   展示根據本發明之一承載裝置之另一實施例的一示意俯視圖，該承載裝置用於使特定而言呈一扁平透明板形式的一光學元件圍繞至少兩個不同的軸線傾斜； 圖7   展示根據本發明之一承載裝置之另一實施例的一示意俯視圖，該承載裝置用於使特定而言呈一扁平透明板形式的一光學元件圍繞至少兩個不同的軸線傾斜； 圖8   展示根據本發明之一承載裝置之另一實施例的一示意俯視圖，該承載裝置用於藉由使用平台之一側上的一樞軸接頭來使特定而言呈一扁平透明板形式的一光學元件圍繞至少兩個不同的軸線傾斜； 圖9   展示一磁軛之一剖面圖，該磁軛可用於根據本發明之承載裝置中以屏蔽一特定線圈區段免受一磁鐵影響以便最小化該磁鐵對該線圈區段的一影響，其中在此處磁軛係固定至基座且包括一筆直剖面； 圖10 展示一磁軛之一剖面圖，該磁軛可用於根據本發明之承載裝置中以屏蔽一特定線圈區段免受一磁鐵影響以便最小化該磁鐵對該線圈區段的一影響，其中在此處磁軛係固定至基座且包括一彎曲剖面；且 圖11 展示一磁軛之一剖面圖，該磁軛可用於根據本發明之承載裝置中以屏蔽一特定線圈區段免受一磁鐵影響以便最小化該磁鐵對該線圈區段的一影響，其中在此處磁軛係固定至平台。
1:承載裝置/裝置
2:光學元件/透明板/板
2a:表面/頂部表面
3:彈簧結構/環架
4:開口
10:第一線圈區段
11:第一線圈區段
20:第二線圈區段
21:第二線圈區段
30:彈簧臂/L形彈簧臂
31:彈簧臂/L形彈簧臂
40:墊
41:墊
300:框架部件/框架
A:第一軸線/軸線/傾斜軸線
B:磁場
C1:第一線圈/線圈/第一環繞的線圈
M1:第一磁鐵/磁鐵
M2:第二磁鐵/磁鐵
M3:第三磁鐵/磁鐵
M4:第四磁鐵/磁鐵
P:平台/板
S:基座/裝置/類框架印刷電路板基座

Claims (23)

  1. 一種用於承載一光學元件(2)之承載裝置(1)，其包括： 一平台(P)，其界定一平面(P1)， 一基座(S)， 一彈簧結構(3)，其將該平台連接至該基座以便允許該平台相對於該基座圍繞平行於該平面延伸之至少一第一軸線(A)傾斜， 一第一磁鐵(M1)及一第一線圈(C1)，其中該第一磁鐵係連接至該平台且該第一線圈(C1)係連接至該基座，或其中該第一磁鐵係連接至該基座且該第一線圈(C1)係連接至該平台(P)，且其中該第一磁鐵(M1)係平行於該平面(P1)被磁化， 其中該第一線圈(C1)包括與該第一磁鐵(M1)相對的一第一線圈區段(10)，使得流動穿過該第一線圈區段(10)的一電流沿相對於該平面(P1)以自88°至92°之範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台(P)之一傾斜，並且其中 該平台(P)、該基座(S)、該第一磁鐵(M1)及該第一線圈區段(10)係配置在平行於該平面(P1)伸展的一共同延伸平面中。
  2. 如請求項1之承載裝置，其中該承載裝置(1)之一高度(h)係小於或等於3 mm，較佳地小於或等於2 mm，較佳地小於或等於1.5 mm。
  3. 如前述請求項中任一項之承載裝置(1)，其中該第一線圈(C1)係連接至該基座(S)且環繞該平台(P)。
  4. 如前述請求項中任一項之承載裝置(1)，其中該第一磁鐵(M1)係配置在該平台(P)之一邊緣(5)處，特定而言使得該第一磁鐵(M1)配置在該平台(P)與該基座(S)面向該平台(P)的一部分之間。
  5. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該彈簧結構(3)包括兩個彈簧臂(30、31)，該兩個彈簧臂(30、31)將該平台(P)連接至該基座(S)以允許該平台之該傾斜。
  6. 如請求項1至3中任一項之承載裝置，其中該彈簧結構(3)包括複數個彈簧臂(30、31、32、33)、特定而言四個彈簧臂，該複數個彈簧臂(30、31、32、33)允許該平台(P)亦圍繞一第二軸線(A’)之一傾斜，其中該第二軸線(A’)平行於該平面(P1)延伸，且其中該第二軸線(A’)相對於該第一軸線(A)斜向地或垂直地延伸。
  7. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該承載裝置(1)包括具有一第一線圈區段(12)之一第二線圈(C2)，其中該第一線圈(C1)及該第二線圈(C2)經構形以產生力，從而圍繞不同的傾斜軸線(A、A’)沿不同的傾斜方向產生力矩。
  8. 如請求項7之承載裝置，其中該各別線圈(C1、C2)包括特定而言用於閉合該各別線圈(C1、C2)之線圈繞組的一第二線圈區段(20、22)。
  9. 如請求項8之承載裝置，其中相比於該各別線圈(C1、C2)之該第一線圈區段(10、12)，該各別線圈之該第二線圈區段(20、22)對藉助該各別線圈(C1、C2)產生的一勞倫茲力無貢獻或貢獻較小，此特定而言由於以下各項中之一者： 一磁軛(7)係配置在該第一線圈區段(12、13)與該第二線圈區段(22、23)之間， 相比於該第一線圈區段(10、11、12、13)，該第二線圈區段(20、21、22、23)係配置在具有一較低磁場的一區域中， 該第二線圈區段係配置在具有一相反磁場的一區域中，其中特定而言該承載裝置(1)經構形以藉由經配置在該平台(P)上之一磁鐵部分來產生該相反磁場。
  10. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該承載裝置(1)進一步包括經連接至該平台之一第二磁鐵(M2)，其中該第二磁鐵(M2)係平行於該平面(P1)被磁化，且其中該第一線圈(C1)包括與該第二磁鐵(M2)相對的另一第一線圈區段(11)，使得流動穿過該另一第一線圈區段(11)的一電流沿相對於該平面(P1)以自88°至92°之該範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台(P)之一傾斜。
  11. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中 該平台(P)具有如在垂直於該平面(P1)之一俯視圖中所見的一矩形輪廓，且/或該基座(S)包括一開口，其中該開口沿垂直於該平面(P1)之一方向完全地延伸穿過該基座(S)，且該開口之一內輪廓具有如在垂直於該平面(P1)之一俯視圖中所見的一矩形輪廓， 該平台(P)係至少部分地配置在該開口中， 該第一軸線(A)相對於該輪廓之主軸線斜向地延伸， 該承載裝置進一步包括一第三磁鐵(M3)及一第四磁鐵(M4)，其中該第三磁鐵(M3)及該第一磁鐵(M1)係配置在該輪廓之一共同第一邊緣處且在該輪廓之毗鄰側處，並且該第四磁鐵(M4)及該第二磁鐵(M2)係配置在該輪廓之一共同第二邊緣處且在該輪廓之毗鄰側處， 該第一邊緣係與該第二邊緣相對， 該第一邊緣與該第二邊緣之間的一假想連接線斜向地、較佳地垂直於該第一軸線(A)延伸， 該第三磁鐵(M3)及該第四磁鐵(M4)係各自平行於該平面(P1)被磁化，其中該第一線圈(C1)包括與該第四磁鐵(M4)相對的一第二線圈區段(20)，且該第一線圈(C1)包括與該第三磁鐵(M3)相對的另一第二線圈區段(21)。
  12. 如請求項1至10中任一項之承載裝置，其中該承載裝置(1)進一步包括一第二線圈(C2)，其中該第二線圈(C2)係配置在該基座(S)上，且其中該第一線圈(C1)環繞該第二線圈(C2)。
  13. 如請求項12之承載裝置，其中該承載裝置(1)進一步包括經連接至該平台(P)的一第三磁鐵(M3)，其中該第三磁鐵(M3)係平行於該平面(P1)被磁化，且其中該第二線圈(C2)包括與該第三磁鐵(M3)相對的一第一線圈區段(12)，使得流動穿過該第二線圈(C2)之該第一線圈區段(12)的一電流沿相對於該平面(P1)以自88°至92°之該範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台(P)之一傾斜，並且其中該第二線圈(C2)包括與該第二線圈(C2)之該第一線圈區段(12)相對的一第二線圈區段(22)，其中該第二線圈(C2)之該第一線圈區段(12)係配置在該第二線圈(C2)之該第二線圈區段(22)與該第三磁鐵(M3)之間，其中較佳地在該第二線圈(C2)之該第一線圈區段(12)與該第二線圈區段(22)之間配置一磁軛(7)。
  14. 如請求項1至10、12、13中任一項之承載裝置，其中該承載裝置(1)進一步包括一第三線圈(C3)，其中該第三線圈(C3)係相對於該第二線圈(C2)配置在該基座(S)上，且其中該第一線圈(C1)環繞該第三線圈(C3)。
  15. 如請求項14之承載裝置，其中該承載裝置(1)進一步包括經連接至該平台(P)的一第四磁鐵(M4)，其中該第四磁鐵(M4)係平行於該平面(P1)被磁化，且其中該第三線圈(C3)包括與該第四磁鐵(M4)相對的一第一線圈區段(13)，使得流動穿過該第三線圈(C3)之該第一線圈區段(13)的一電流沿相對於該平面(P1)以自88°至92°之該範圍內之一角度延伸的一方向產生一勞倫茲力，使得導致該平台(P)之一傾斜，並且其中該第三線圈(C3)包括與該第三線圈(C3)之該第一線圈區段(13)相對的一第二線圈區段(23)，其中該第三線圈(C3)之該第一線圈區段(13)係配置在該第三線圈(C3)之該第二線圈區段(23)與該第四磁鐵(M4)之間，其中較佳地在該第三線圈(C3)之該第一線圈區段(13)與該第二線圈區段(23)之間配置一磁軛(7)。
  16. 如請求項12或13之承載裝置，其中該承載裝置(1)包括一樞軸接頭(8)，該樞軸接頭(8)在該基座(S)與該第二線圈(C2)相對的一側上將該平台(P)可樞轉地連接至該基座(S)。
  17. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該平台(P)包括磁軛，每一軛到達一相關聯的第一線圈區段(10、11、12、13)周圍。
  18. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該平台(P)包括或形成一光學元件(2)。
  19. 如請求項1至17中任一項之承載裝置，其中該平台承載一光學元件(2)。
  20. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該光學元件(2)係以下各項中之一者：一透明板、一玻璃板、一鏡、一稜鏡、一漫射體。
  21. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該各別線圈(C1、C2、C3)正交於該平面(P1)延伸，其中該各別線圈(C1、C2、C3)包括該各別線圈之繞組圍繞其延伸的一虛擬線圈軸線(W)，其中該線圈軸線(W)平行於該平面(P1)延伸。
  22. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該各別線圈(C1、C2、C3)係該基座(S)的一組成部分。
  23. 如前述請求項中任一項之承載裝置，其中該基座(S)經形成為或包括一印刷電路板。
TW112107718A 2022-03-04 2023-03-03 用於光學元件之承載裝置 TW202343937A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102022105139.0 2022-03-04
DE102022105139 2022-03-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202343937A true TW202343937A (zh) 2023-11-01

Family

ID=87517082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW112107718A TW202343937A (zh) 2022-03-04 2023-03-03 用於光學元件之承載裝置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20230282143A1 (zh)
EP (1) EP4239392A1 (zh)
CN (1) CN116699780A (zh)
TW (1) TW202343937A (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025031832A1 (en) * 2023-08-09 2025-02-13 Optotune Switzerland Ag Optical device for carrying an optical element, particularly for pixel shifting

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5764398A (en) * 1992-05-27 1998-06-09 Opticon, Inc Optical reader with vibrating mirror
US6897990B2 (en) * 2001-12-28 2005-05-24 Canon Kabushiki Kaisha Rocking member apparatus
TWM327045U (en) * 2007-06-05 2008-02-11 Young Optics Inc Imaging displacement module
EP2884637A1 (en) 2013-12-10 2015-06-17 Optotune AG Optical device for reducing speckle noise
WO2016124253A1 (en) 2015-02-06 2016-08-11 Optotune Ag Optical device for enhancing resolution of an image
CN112867960A (zh) * 2018-08-20 2021-05-28 奥普托图尼股份公司 用于增强图像分辨率或减少散斑噪声的光学设备
JP7052784B2 (ja) * 2019-09-30 2022-04-12 セイコーエプソン株式会社 光学デバイス、プロジェクター、及び光学デバイスの制御方法
CN210781137U (zh) * 2019-12-31 2020-06-16 中强光电股份有限公司 光学模块以及投影机
CN215769307U (zh) * 2021-06-23 2022-02-08 深圳光峰科技股份有限公司 致动器驱动装置、扩展像素分辨率致动器系统和投影系统

Also Published As

Publication number Publication date
EP4239392A1 (en) 2023-09-06
US20230282143A1 (en) 2023-09-07
CN116699780A (zh) 2023-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10845570B2 (en) Optical device for enhancing resolution of an image
CN216718780U (zh) 光学元件驱动机构
CN116990930A (zh) 光学元件驱动机构
TWI877276B (zh) 光學系統
JP7506056B2 (ja) イメージの解像度を向上させるための、または、スペックル・ノイズを低減させるための光学デバイス
CN102193189A (zh) 光学多环扫描元件
TW202343937A (zh) 用於光學元件之承載裝置
JPH08334723A (ja) 光偏向素子
JP2009109778A (ja) ミラーデバイス
JP2004326885A (ja) 光ヘッドの対物レンズ駆動装置
JP2025113475A (ja) 光学部材駆動装置およびそれを備えた投射型映像表示装置
JPS6292757A (ja) ボイスコイルモ−タ
JP2005181395A (ja) 光偏向器
CN116156293A (zh) 摄像模组和电子设备
JP2004023969A (ja) ボイスコイルモータおよびそれを用いた磁気ディスク装置
CN113189735B (zh) 光学器件驱动机构及摄像模组
KR102803406B1 (ko) 분할 코일 구조의 흔들림 보정 액츄에이터
JP5250134B2 (ja) アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ
JP5305776B2 (ja) プレーナ型電磁アクチュエータ
JP2011048229A (ja) 光スキャナおよび画像形成装置
JP6177636B2 (ja) プレーナ型アクチュエータ
WO2025031832A1 (en) Optical device for carrying an optical element, particularly for pixel shifting
JP3879976B2 (ja) プレーナ型電磁アクチュエータ
JP5266411B2 (ja) アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ
JP5266410B2 (ja) アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ