TW202346236A - 玻璃板及玻璃板之製造方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 156
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 100
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 44
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims description 29
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 26
- 230000004313 glare Effects 0.000 claims description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 11
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- 206010052128 Glare Diseases 0.000 description 104
- 230000008569 process Effects 0.000 description 29
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 5
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 4
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100072790 Mus musculus Irf4 gene Proteins 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000004697 chelate complex Chemical class 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- -1 hydroxyethylidene Chemical group 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005360 phosphosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/04—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/06—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for producing matt surfaces, e.g. on plastic materials, on glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
- C03C2204/08—Glass having a rough surface
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
本揭示之玻璃板具有第1主表面及與上述第1主表面相反側之第2主表面，且上述第1主表面包含防眩光面。上述防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面。於以雷射顯微鏡測量上述防眩光面之表面形狀，並基於該測量出之結果，藉由分水嶺演算法將上述防眩光面分解為複數個上述凹曲面時，上述防眩光面滿足下述(A)～(D)。(A)俯視時之上述凹曲面之面積S之標準偏差S
σ為32.5 μm
2以下。(B)俯視時每規定面積之上述凹曲面之數量N為250個/10000 μm
2以上。(C)上述凹曲面之深度H之平均值H
AVE為0.10 μm以上。(D)上述深度H之標準偏差H
σ為0.220 μm以下，上述深度H之上述平均值H
AVE與上述標準偏差H
σ之積H
AVE×H
σ為0.085 μm
2以下。
Description
本揭示係關於一種玻璃板及玻璃板之製造方法。
於圖像顯示裝置之顯示圖像之表面，設置蓋玻片。當周圍之物體(包含照明)映射於蓋玻片時，圖像之視認性降低。因此，研究對構成蓋玻片之玻璃板實施防眩光處理。
防眩光處理係對玻璃板之主表面賦予微細之凹凸之處理。可藉由凹凸擴散反射光，且可抑制映射。防眩光處理例如包含由結霜處理、蝕刻處理、及噴砂處理中選擇之至少1者。
專利文獻1之防眩光處理具有使用弦長為0.5 μm～2 μm之砂粒與水之混合物對玻璃板之主表面進行噴砂處理之步驟、及於其後，對玻璃板之主表面進行蝕刻處理之步驟。
專利文獻2之防眩光處理具有對玻璃板之主表面進行結霜處理之步驟、及於其後對玻璃板之主表面進行蝕刻處理之步驟。於結霜處理中，例如使用氟化銨或氟化鉀、與氟化氫之混合水溶液。
專利文獻3之防眩光處理具有對玻璃板之主表面進行噴砂處理之步驟、及於其後對玻璃板之主表面進行蝕刻處理之步驟。作為噴砂處理用之粒子，使用號數為#2000號以上之粒子。
專利文獻4之防眩光處理具有對玻璃板之主表面進行噴砂處理之步驟、及於其後對玻璃板之主表面進行蝕刻處理之步驟。作為噴砂處理用之粒子，使用號數為#3000號以上之粒子。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2021-532056號公報
專利文獻2：國際公開第2018/235808號
專利文獻3：國際公開第2018/230079號
專利文獻4：國際公開第2018/074494號
[發明所欲解決之問題]
防眩光處理抑制周圍之物體之映射，另一方面產生被稱為閃爍(Sparkle)之眩光。眩光因凹凸作為微小之透鏡發揮作用而產生。
本揭示之一態様提供一種抑制周圍之物體之映射，且抑制眩光之產生之技術。
[解決問題之技術手段]
本揭示之一態様之玻璃板具有第1主表面及與上述第1主表面相反側之第2主表面，且上述第1主表面包含防眩光面。上述防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面。於以雷射顯微鏡測量上述防眩光面之表面形狀，並基於該測量出之結果，藉由分水嶺演算法將上述防眩光面分解為複數個上述凹曲面時，上述防眩光面滿足下述(A)～(D)。(A)俯視時之上述凹曲面之面積S之標準偏差S
σ為32.5 μm
2以下。(B)俯視時每規定面積之上述凹曲面之數量N為250個/10000 μm
2以上。(C)上述凹曲面之深度H之平均值H
AVE為0.10 μm以上。(D)上述深度H之標準偏差H
σ為0.220 μm以下，上述深度H之上述平均值H
AVE與上述標準偏差H
σ之積H
AVE×H
σ為0.085 μm
2以下。
[發明之效果]
根據本揭示之一態様，可抑制周圍之物體之映射，且抑制眩光之產生。
以下，參考圖式對用以實施本揭示之形態進行說明。各圖式中有時對相同或對應之構成標註相同之符號，並省略說明。說明書中，表示數值範圍之「～」意指包含其前後所記載之數值作為下限值及上限值。
參考圖1，對一實施形態之玻璃板1進行說明。玻璃板1具有第1主表面11、及與第1主表面11相反側之第2主表面12。第1主表面11包含防眩光面。防眩光面係抑制周圍之物體(包含照明)之映射之面。可為第1主表面11全體為防眩光面，亦可為第1主表面11之一部分為防眩光面。
玻璃板1作為圖像顯示裝置之蓋玻片使用。圖像顯示裝置裝入於攜帶用或固定用之電子機器。攜帶用之電子機器例如為行動電話、智慧型手機、電子書籍閱讀器或筆記型個人電腦等。固定用之電子機器例如為桌上型個人電腦、數位看板、車載顯示器、電腦或電子黑板(IFP)等。
防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面111。防眩光面之表面形狀例如以基恩士公司(KEYENCE)製造之雷射顯微鏡VK-X260使用150倍物鏡以高精細模式測定。例如以Image Metrology公司製造之影像解析軟體SPIP(註冊商標)version5.1.11解析測定出之表面形狀之資料。以下，於表面形狀之資料解析之說明中，以「」括起來之用語係於SPIP中使用之用語。
首先，為去除整體之斜率，而於「斜率修正(Plane Correction)對話」中，對「整體面修正法(Global Correction)」選擇「平均輪廓擬合(Average Profile Fit)」，對「Z偏移法(Z Offset Method)」選擇「將軸承高度設為零(Bearing Height To Zero)」，來實施斜率修正。
接著，於「粒子、孔解析(Particle ＆ Pore Analysis)」中如以下般設定「檢測(Detection)」標籤之參數。使用「分支線-分散之形狀(Watershed-Dispersed Features)」將「孔檢測(Detect Pores)」設為接通，將「平台範圍(Plateau Range)」設為0，將「詳細級別之數量(Number of Detail Levels)」設為2，將「相鄰形狀之結合(Merge Adjoining Shapes)」設為斷開，根據另外測定出之算術平均高度Sa，如下設定「濾光器尺寸之校平(Smoothing Filter Size)」及「最小濾光器尺寸(Finest Filter Size)」。於算術平均高度Sa為0.17 μm以上之情形時，將「濾光器尺寸之校平」設定為23像素(2.13 μm)，將「最小濾光器尺寸」設定為11像素(1.02 μm)。於算術平均高度Sa未達0.17 μm之情形時，將「濾光器尺寸之校平」設定為17像素(1.58 μm)，將「最小濾光器尺寸」設定為7像素(0.65 μm)。將「雜訊減少之斜率(Slope Noise Reduction)」設定為10%，將「斜率影像閾值之百分比(Slope Image Threshold Percentile)」設定為0%。
接著，於「粒子、孔解析」中如以下般設定「後處理(Post Processing)」標籤。將「包含影像端之形狀(Include Shapes on Border)」設為接通，將「Z範圍(Z Range)」之「最小(Min)」設定為0.03 μm，將「直徑(Diameter)」之「最小(Min)」設定為0.80 μm。
藉由以上述設定執行表面形狀之資料解析，而獲得「面積值(Area)」及「Z範圍輸出(Z Range Output)」。將「面積值」作為俯視時之凹曲面111之面積S使用。俯視意指自與第1主表面11及第2主表面12正交之方向觀察。將「Z範圍輸出」作為凹曲面111之深度H使用。對於每個凹曲面111求出面積S與深度H。
於如上所述以雷射顯微鏡測量防眩光面之表面形狀，並基於該測量出之結果，藉由分水嶺演算法將防眩光面分解為複數個凹曲面111時，防眩光面較佳為滿足下述(A)～(D)。
(A)俯視時之凹曲面111之面積S之標準偏差S
σ為32.5 μm
2以下。於本說明書中，「μm
2」意指平方微米。凹曲面111之大小之偏差越小，防眩光面之外觀越均質化。若S
σ為32.5 μm
2以下，則可使防眩光面之外觀充分地均質化，而可抑制眩光。S
σ更佳為23.5 μm
2以下。S
σ進而較佳為14.5 μm
2以下。S
σ為0.0 μm
2以上。S
σ更佳為3.0 μm
2以上。S
σ進而較佳為5.0 μm
2以上。
(B)俯視時每規定面積之凹曲面111之數量N為250個/10000 μm
2以上。N於俯視下一邊之長度為100 μm之正方形之區域中檢測。N越大，凹曲面111之中心間距離越小，凹曲面111之大小越小，防眩光面之外觀越均質化。若N為250個/10000 μm
2以上，則可使防眩光面之外觀充分地均質化，而可抑制眩光。N更佳為350個/10000 μm
2以上。N進而較佳為450個/10000 μm
2以上。又，N較佳為1000個/10000 μm
2以下。N更佳為950個/10000 μm
2以下。N進而較佳為900個/10000 μm
2以下。
(C)凹曲面111之深度H之平均值H
AVE為0.10 μm以上。凹曲面111之深度H係距凹曲面111之緣(邊緣)之深度。凹曲面111之緣(邊緣)使用分水嶺演算法求出。H
AVE越大，越容易將反射光擴散。若H
AVE為0.10 μm以上，則可抑制周圍之物體之映射。H
AVE更佳為0.17 μm以上。H
AVE進而較佳為0.24 μm以上。又，H
AVE較佳為0.50 μm以下，更佳為0.47 μm以下，進而較佳為0.44 μm以下。
(D)深度H之標準偏差H
σ為0.220 μm以下，深度H之平均值H
AVE與標準偏差H
σ之積H
AVE×H
σ為0.085 μm
2以下。深度H之偏差越小，防眩光面之外觀越均質化。若H
σ為0.220 μm以下且H
AVE×H
σ為0.085 μm
2以下，則可使防眩光面之外觀充分地均質化，而可抑制眩光。H
σ更佳為0.200 μm以下。H
σ進而較佳為0.180 μm以下。H
σ為0.000 μm以上。H
σ更佳為0.025 μm以上。H
σ進而較佳為0.050 μm以上。H
AVE×H
σ更佳為0.080 μm
2以下。H
AVE×H
σ進而較佳為0.070 μm
2以下。H
AVE×H
σ為0.000 μm
2以上。H
AVE×H
σ更佳為0.003 μm
2以上。H
AVE×H
σ進而較佳為0.005 μm
2以上。
防眩光面較佳為進而滿足下述(E)。(E)俯視時之凹曲面111之面積S之平均值S
AVE為6 μm
2以上且33 μm
2以下。若S
AVE為33 μm
2以下，則可使防眩光面之外觀進一步均質化，而可進一步抑制眩光。又，若S
AVE為6 μm
2以上，則可將反射光進一步擴散，而可進一步抑制周圍之物體之映射。S
AVE更佳為6.5 μm
2以上且23 μm
2以下。S
AVE進而較佳為7 μm
2以上且17 μm
2以下。
防眩光面之混濁值較佳為50%以下。混濁值由市售之測定裝置測定。測定裝置及測定條件例如下述。測定裝置：sugatest濁度計HZ-V3測定條件：依據日本工業規格(JIS K 7136：2000)，使用C光源測定。
混濁值較佳為0%以上且50%以下。若混濁值為50%以下，則透過像之鮮明性良好。混濁值更佳為40%以下，進而較佳為35%以下，尤其較佳為30%以下，進而尤其較佳為25%以下。
防眩光面之眩光指標值Sp較佳為4.6%以下。眩光指標值Sp之測定方法具體而言如下所述。於背光源之發光面上，以其圖案面朝上之方式設置附屬於DM＆S公司製造之SMS-1000之像素圖案(Pixel Pattern)，作為光罩。再者，於光罩之圖案面上，以其第1主表面11朝上之方式設置玻璃板1。藉由在發光顏色為綠色之背光源之發光面上設置上述光罩，而於模擬由RGB(0,255,0)構成之綠色單色之圖像顯示之狀態下，利用DM＆S公司製造之測定裝置SMS-1000之相機，透過玻璃板1拍攝光罩之圖案面之190 dpi之區域。藉由測定裝置之圖像解析而求出之閃爍值為眩光指標值Sp。此處，於DIM(Difference Image Method：差影法)模式下進行測定。於調整為像素比(Pixel Ratio)為9.25之高度，使焦點盡可能對準像素面之狀態下進行測定。此時，安裝於相機之遮光板與玻璃板1之間之距離為262 mm左右。相機之透鏡以5.6之光圈使用焦距為50 mm之23FM50SP透鏡。
眩光指標值Sp較佳為0.0%以上且4.6%以下。若眩光指標值Sp為4.6%以下，則可抑制眩光之產生。眩光指標值Sp更佳為4.3%以下。眩光指標值Sp進而較佳為4.0%以下。
防眩光面之防眩性指標值D較佳為0.10以上。參考圖2對防眩性指標值D之測定方法進行說明。如圖2所示，測定裝置70具有線狀光源裝置71及面亮度測定器75。線狀光源裝置71包含光源711及黑色平板712。黑色平板712配置為水平，於鉛直方向觀察時具有矩形(101 mm×1 mm)之狹縫。於該狹縫設置有光源711。光源711係冷陰極管(CCFL：Cold Cathode Fluorescent Lamp)之白色光源。玻璃板1於線狀光源裝置71及面亮度測定器75之下方，將其第1主表面11朝上而配置為水平。面亮度測定器75於線狀光源裝置71之長度方向中央，配置於與線狀光源裝置71垂直相交之平面上。面亮度測定器75之焦點對準於由玻璃板1反射之線狀光源裝置71之像。即，使像之聚焦之面與黑色平板712一致。若著眼於自線狀光源裝置71入射並由玻璃板1反射，而入射至面亮度測定器75之光線中之入射角θi與反射角θr相等之光線731、732，則θi=θr=5.7°。
另，使黑色平板抵接於玻璃板1之第2主表面12。因此，面亮度測定器75檢測之光係由玻璃板1反射之反射光。
玻璃板1之散射由反射角θr與入射角θi之差Δθ(Δθ=θr-θi)表示。例如，若著眼於Δθ=0.5°之光線733、734，則光線734於玻璃板1中朝偏離正反射0.5°之方向散射。該光線734於面亮度測定器75中，作為黑色平板712與假想之光線733-2相交之部分之像被觀測。假想之光線733-2之入射角與光線734之反射角相等。
於以面亮度測定器75取得面亮度時，由玻璃板1正反射之光線732所照射之部位之亮度變得最高，於該部位出現亮線。獲得以該亮線為中心越向左右兩側離開亮度越低之圖像。自亮線離開之位置之亮度成為與由玻璃板1散射之光線之強度相應之亮度。因此，擷取與亮線垂直之方向上之亮度剖面輪廓。另，亦可為了提高測定精度而於與亮線平行之方向上累計資料。
若著眼於光線731、732，則入射角θi與反射角θr相等，且Δθ=0.0°。由於在亮度之測定資料中包含誤差，故將Δθ=0.0°±0.1°之範圍內之亮度之平均值設為D1。
又，若著眼於光線733、734，則反射角θr大於入射角θi，且Δθ=0.5°。由於在亮度之測定資料中包含誤差，故將Δθ=0.5°±0.1°之範圍內之亮度之平均值設為D2。
同樣，若著眼於光線735、736，則反射角θr小於入射角θi，且Δθ=-0.5°。由於在亮度之測定資料中包含誤差，故將Δθ=-0.5°±0.1°之範圍內之亮度之平均值設為D3。
將獲得之D1、D2、D3代入下述式(1)，算出防眩性指標值D。
D=(D2+D3)/(2×D1)……(1)。
防眩性指標值D被確認顯示出與觀察者利用目視對防眩性之判斷結果良好之相關關係。例如，防眩性指標值D越小(越接近零)，防眩性越差，反之防眩性指標值D越大(越接近1)，防眩性越佳。
D1、D2、D3之測定例如可藉由使用DM＆S公司製造之裝置SMS-1000而實施。於使用該裝置之情形時，以5.6之光圈使用相機透鏡之焦距為16 mm之C1614A透鏡。又，自玻璃板1之第1主表面11至相機透鏡之距離為約300 mm，成像比例(Imaging Scale)設定於0.0276～0.0278之範圍內。
防眩性指標值D較佳為0.10以上且未達1.00。若防眩性指標值D為0.10以上，則可抑制周圍之物體之映射。防眩性指標值D更佳為0.12以上。防眩性指標值D進而較佳為0.15以上。
玻璃板1可為平板，亦可為彎曲板。玻璃板1之厚度較佳為5 mm以下，更佳為3 mm以下。又，玻璃板1之厚度較佳為0.2 mm以上，更佳為0.3 mm以上。
玻璃板1之玻璃例如為鋁矽酸鹽玻璃、鹼鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸鹽玻璃、磷矽酸鹽玻璃、鹼鋁硼矽酸鹽玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃或鋁硼矽酸鹽玻璃。具體而言，列舉下述(i)～(v)之玻璃。
(i)以氧化物基準之mol%顯示，分別含有50%～80%之SiO
2、0%～26%之Al
2O
3、1%～25%之Na
2O、0%～10%之B
2O
3、0%～20%之K
2O、0%～20%之MgO、0%～15%之CaO之玻璃。
(ii)以氧化物基準之mol%顯示，分別含有50%～80%之SiO
2、2%～25%之Al
2O
3、0%～10%之Li
2O、0%～18%之Na
2O、0%～10%之K
2O、0%～15%之MgO、0%～5%之CaO、0%～5%之ZrO
2之玻璃。
(iii)以氧化物基準之mol%顯示，分別含有50%～74%之SiO
2、1%～10%之Al
2O
3、6%～14%之Na
2O、3%～11%之K
2O、2%～15%之MgO、0%～6%之CaO、0%～5%之ZrO
2，且SiO
2及Al
2O
3之含有量之合計為75%以下，Na
2O及K
2O之含有量之合計為12%～25%，MgO及CaO之含有量之合計為7%～15%之玻璃。
(iv)以氧化物基準之mol%顯示，分別含有68%～80%之SiO
2、4%～10%之Al
2O
3、5%～15%之Na
2O、0%～1%之K
2O、4%～15%之MgO、0%～1%之ZrO
2之玻璃。
(v)以氧化物基準之mol%顯示，分別含有67%～75%之SiO
2、0%～4%之Al
2O
3、7%～15%之Na
2O、1%～9%之K
2O、6%～14%之MgO、0%～1.5%之ZrO
2，且SiO
2及Al
2O
3之含有量之合計為71%～75%，Na
2O及K
2O之含有量之合計為12%～20%，於含有CaO時其含有量未達1%之玻璃。
參考圖3，對一實施形態之玻璃板1之製造方法進行說明。玻璃板1之製造方法包含藉由對玻璃板1之第1主表面11之至少一部分，依序實施濕式噴砂處理(步驟S101)及濕式蝕刻處理(步驟S102)，而獲得防眩光面。
另，玻璃板1之製造方法亦可包含步驟S101～S102以外之處理。例如，於步驟S102之後，亦可包含對玻璃板1進行化學強化處理之情況。化學強化處理係於玻璃轉變點以下之溫度下，藉由離子交換於玻璃表面形成壓縮應力層之處理。壓縮應力層藉由將玻璃中包含之離子半徑較小之鹼金屬離子更換為離子半徑更大之鹼離子而形成。
步驟S101包含對玻璃板1之第1主表面11之至少一部分進行濕式噴砂處理之情況。濕式噴砂處理係藉由利用氣體之壓力使包含粒子之漿料自噴嘴噴射並碰撞對象物，而於對象物形成微小之裂紋(微裂紋)之處理。
漿料包含後述之粒子、及分散媒。作為分散媒，列舉水、可溶於水之有機溶媒、或水與可溶於水之有機溶媒之混合物。作為可溶於水之有機溶媒，例如，列舉低級醇或酮。作為低級醇之具體例，例如，列舉甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇或叔丁醇。作為酮之具體例，例如列舉丙酮。
又，漿料亦可包含分散助劑。作為分散助劑，列舉羧甲基纖維素、聚丙烯酸衍生物或其鹽、聚羧酸衍生物或其鹽、或聚胺酯等。作為聚丙烯酸衍生物或其鹽之具體例，列舉聚丙烯酸、聚丙烯酸銨鹽、聚丙烯酸鈉鹽、聚丙烯醯胺、丙烯酸酯、丙烯酸鹽共聚物、丙烯醯胺、丙烯酸鹽共聚物、或丙烯酸酯、丙烯醯胺、丙烯酸鹽之共聚物。作為聚羧酸衍生物或其鹽之具體例，列舉聚羧酸銨鹽、或聚羧酸鈉鹽。漿料中之分散助劑之比例較佳為0.03質量%以上且2.0質量%以下。
根據加工性之觀點，漿料中包含之粒子較佳為具有較玻璃高之莫氏硬度之粒子，且較佳為球狀以外之無機粒子。無機粒子之材質可為金屬(包含合金)，亦可為無機化合物。無機化合物可為金屬化合物，亦可為非金屬化合物。作為金屬，列舉不鏽鋼、鋅或銅等。作為無機化合物，列舉矽石、玻璃、石榴石、氧化鋯、氧化鋁、碳化矽、碳化硼或CO
2(乾冰)等。其等中，較佳為氧化鋁。漿料中包含之粒子可使用市售品。作為市售品，例如，列舉Fujimi Incorporated公司製造礬土白。
漿料中之粒子之濃度根據生產性之觀點，較佳為0.05質量%以上，更佳為0.1質量%以上。另一方面，漿料中之粒子之濃度根據漿料之流動性之觀點，較佳為30質量%以下，更佳為10質量%以下。
濕式噴砂處理與乾噴砂處理相比，可使用粒徑d較小之粒子，且可形成多個微小之裂紋(微裂紋)。其後，於後述之步驟S102中，如圖4所示，可藉由以微裂紋112為起點各向同性地蝕刻玻璃，而形成凹曲面111。圖4中，複數根虛線表示玻璃之表面形狀之時效變化。於各向同性地蝕刻玻璃之情形時，凹曲面111之深度H成為與微裂紋112之深度相同程度。
微裂紋112之深度根據粒子之粒徑d等而變化。粒子之粒徑d越小，粒子之衝擊越小，微裂紋112之深度越小。微裂紋112之深度越小，俯視時之凹曲面111之面積S越小。又，微裂紋112之深度越小，凹曲面111之深度H越小。
漿料中包含之粒子之粒徑d之平均值d
AVE(以下，亦稱為平均粒徑d
AVE)較佳為2.00 μm以上。若平均粒徑d
AVE為2.00 μm以上，則獲得(C)凹曲面111之深度H之平均值H
AVE為0.10 μm以上之防眩光面。又，若平均粒徑d
AVE為2.00 μm以上，則可縮短微裂紋112之加工時間，且可提高微裂紋112之加工性。平均粒徑d
AVE更佳為2.05 μm以上。平均粒徑d
AVE進而較佳為2.10 μm以上。
漿料中包含之粒子之平均粒徑d
AVE較佳為4.50 μm以下。若平均粒徑d
AVE為4.50 μm以下，則微裂痕112之平均深度較小，獲得(E)面積S之平均值S
AVE為6 μm
2以上且33 μm
2以下之防眩光面。平均粒徑d
AVE更佳為4.00 μm以下。平均粒徑d
AVE進而較佳為3.50 μm以下。平均粒徑d
AVE進而更佳為3.00 μm以下。
漿料中包含之粒子之粒徑d之變動係數d
CV(變動係數d
CV=標準偏差d
σ/平均值d
AVE)較佳為0.400以下。若變動係數d
CV為0.400以下，則可使微裂紋112之深度均一化。因此，獲得(D)深度H之標準偏差H
σ為0.220 μm以下，且深度H之平均值H
AVE與標準偏差H
σ之積H
AVE×H
σ為0.085 μm
2以下之防眩光面。又，藉由使微裂紋112之深度均一化，俯視時之凹曲面111之面積S亦均一化，獲得(A)俯視時之凹曲面111之面積S之標準偏差S
σ為32.5 μm
2以下之防眩光面。又，深度未達到規定值之微裂紋112之比例減少，深度為規定值以上之微裂紋112之比例增加，獲得(C)凹曲面111之深度H之平均值H
AVE為0.10 μm以上之防眩光面。變動係數d
CV更佳為0.360以下，進而較佳為0.320以下，尤其較佳為0.250以下。變動係數d
CV根據分級作業之作業性觀點，較佳為0.030以上，更佳為0.060以上。
若變動係數d
CV為0.250以下，則可使微裂紋112之深度均一化。因此，獲得(Da)深度H之標準偏差H
σ為0.180 μm以下，且深度H之平均值H
AVE與標準偏差H
σ之積H
AVE×H
σ為0.070 μm
2以下之防眩光面。又，藉由使微裂紋112之深度均一化，俯視時之凹曲面111之面積S亦均一化，獲得(Aa)俯視時之凹曲面111之面積S之標準偏差S
σ為14.5 μm
2以下之防眩光面。又，深度未達到規定值之微裂紋112之比例減少，深度為規定值以上之微裂紋112之比例增加，獲得(C)凹曲面111之深度H之平均值H
AVE為0.10 μm以上之防眩光面。
以變動係數d
CV成為0.400以下，尤其較佳為成為0.250以下之方式，將粒子預先分級。分級之方法無特別限定，例如，列舉利用篩之分級、重力分級(水平流、垂直上升流)、慣性力場分級(直線型、曲線型、傾斜型)、離心力場分級(自由渦型渦狀流、強制渦型渦狀流)等。
漿料中包含之粒子之粒度分佈例如使用Beckman Coulter公司製造之電阻式之粒度分佈測定裝置Multisizer4e而測定。使用上述粒度分佈測定裝置獲得之粒度分佈係基於所謂之「庫爾特原理」，直接檢測因電解質溶液中之各個粒子通過測定部位引起之阻抗變化，並逐個測定各個粒子之粒徑作為球換算粒徑後，將其個數分佈以粒徑為橫軸且以個數(頻率)為縱軸而整理為累計柱狀圖(或累計頻率曲線)者。平均粒徑d
AVE根據個數分佈，作為所謂之算術平均徑算出。
每單位面積之微裂紋112之數量可以噴嘴之掃描速度或掃描次數等進行調整。掃描次數係指噴嘴之射線通過玻璃表面之相同部位之次數。調整每單位面積之微裂紋112之數量，以獲得(B)俯視時每規定面積之凹曲面111之數量N為250個/10000 μm
2以上之防眩光面。
微裂紋112之深度除粒子之材質與粒子之粒徑d外，還可以噴射壓力或投射距離等進行調整。噴射壓力(氣壓)較佳為0.10 MPa～2.00 MPa，更佳為0.15 MPa～0.50 MPa。投射距離(噴嘴與玻璃板之距離)較佳為10 mm～50 mm，更佳為20 mm～40 mm。
步驟S102包含對玻璃板1之第1主表面11之至少一部分進行濕式蝕刻處理。濕式蝕刻處理係藉由將包含酸或鹼之蝕刻液供給至玻璃板1之第1主表面11，而以微裂紋112為起點形成凹曲面111之處理。蝕刻液之供給方法可為使玻璃板浸漬於蝕刻液之浸漬法，亦可為將蝕刻液塗佈於玻璃板之噴霧法。濕式蝕刻處理與乾蝕刻處理相比，可各向同性地蝕刻玻璃。
蝕刻液例如為包含酸之溶液。蝕刻液中之酸濃度較佳為1質量～15質量%，尤其較佳為3質量～10質量%。作為酸，例如使用氟化氫。亦可使用氟化氫與氯化氫之組合。
於蝕刻液為包含酸之溶液之情形時，較佳為於10℃以上且40℃以下且較佳15℃以上且35℃以下之溫度下，蝕刻2分鐘～20分鐘。
於蝕刻液為包含酸之溶液之情形時，蝕刻速度根據充分確保防眩光效果之觀點，較佳為0.5 μm/分鐘以上，更佳為1.0 μm/分鐘以上，進而較佳為2.0 μm/分鐘以上。蝕刻速度較佳為20 μm/分鐘以下。
蝕刻液亦可為包含鹼之溶液。蝕刻液中之鹼濃度較佳為1質量%～50質量%，且較佳為3質量%～50質量%。作為鹼，例如使用選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鉀及碳酸鈉之至少1種鹼。該等鹼可單獨使用，亦可組合複數個使用。
蝕刻液較佳為除鹼外，還包含螯合劑。螯合劑藉由與溶解於蝕刻液中之玻璃之金屬離子形成螯合錯合物，而抑制玻璃之再結晶化。蝕刻液中之螯合劑之含有量較佳為0.1 mol/L以上且0.5 mol/L以下。作為螯合劑，例如，使用乙二胺4乙酸(EDTA：Ethylene Diamine Tetraacetic Acid)、檸檬酸、葡萄糖酸、琥珀酸、草酸、酒石酸或羥基亞乙基二膦酸(HEDP：hydroxyethylidene diephospho)。
於蝕刻液為包含鹼之溶液之情形時，較佳為於65℃以上且150℃以下且較佳80℃以上且150℃以下之溫度下，蝕刻20分鐘～40小時。
於蝕刻液為包含鹼之溶液之情形時，蝕刻速度根據充分確保防眩光效果之觀點，較佳為0.05 μm/分鐘以上，更佳為0.10 μm/分鐘以上，進而較佳為0.15 μm/分鐘以上。蝕刻速度較佳為1.50 μm/分鐘以下。
[實施例]
以下，對實驗資料進行說明。下述例1～例10係實施例，例11～例13係比較例。
[例1]
於例1中，藉由對玻璃板之第1主表面依序實施濕式噴砂處理、濕式蝕刻處理及化學強化處理，而製作防眩光玻璃。作為玻璃板，準備AGC股份有限公司製造，商品名：Dragontrail(註冊商標)。玻璃板之尺寸為100 mm×100 mm，厚度1.0 mm。
於濕式噴砂處理中，使用濕式噴砂裝置(macoho股份有限公司製造，裝置名：Jr.TypeII)。漿料藉由將陶瓷粒子、分散助劑、及作為分散媒之水混合而調製。漿料整體中之陶瓷粒子之含有量(漿料濃度)為1.1重量%。陶瓷粒子係將Fujimi Incorporated公司製造礬土白(粒度＃4000)分級而成者。陶瓷粒子之粒徑d之平均粒徑d
AVE為2.64 μm，變動係數d
CV為0.148。漿料之噴射壓力(氣壓)為0.25 MPa，投射距離(噴嘴與玻璃板之距離)為30 mm，噴嘴之掃描速度為200 mm/sec，噴嘴之掃描次數為20次。漿料與壓縮空氣一起噴射。於例1中，氣壓係指壓縮空氣之壓力。於濕式噴砂處理之後，濕式蝕刻處理之前，進行純水洗淨與乾燥。
於濕式蝕刻處理中，將玻璃板於25℃之蝕刻液中浸漬286秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻15.9 μm。玻璃板之第2主表面由預先貼合之耐酸性之保護膜保護。蝕刻液係包含5質量%之氟化氫，且包含5質量%之氯化氫之水溶液。於濕式蝕刻處理之後，化學強化處理之前，將保護膜剝離。
於化學強化處理中，將玻璃板於加熱至450℃之硝酸鉀之熔鹽中浸漬1小時。其後，將玻璃板自熔鹽中提起，以1小時緩冷至室溫。藉此，於玻璃板之第1主表面與第2主表面之兩者形成壓縮應力層。
[例2]
於例2中，除於濕式噴砂處理中使用平均粒徑d
AVE為2.22 μm且變動係數d
CV為0.119之陶瓷粒子(將Fujimi Incorporated公司製造礬土白(粒度＃6000)分級而成者)、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬240秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻13.6 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例3]
於例3中，除於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬436秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻23.4 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例4]
於例4中，除於濕式噴砂處理中使用平均粒徑d
AVE為2.22 μm且變動係數d
CV為0.119之陶瓷粒子(將Fujimi Incorporated公司製造礬土白(粒度＃6000)分級而成者)、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬360秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻20.6 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例5]
於例5中，除於濕式噴砂處理中使用平均粒徑d
AVE為3.04 μm且變動係數d
CV為0.107之陶瓷粒子(將Fujimi Incorporated公司製造礬土白(粒度＃4000)以與例1不同之方法分級而成者)、漿料濃度為0.2重量%、噴嘴之掃描次數為25次、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬360秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻20.8 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例6]
於例6中，除於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬480秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻27.2 μm以外，以與例5相同之條件製作防眩光玻璃。
[例7]
於例7中，除漿料濃度為1.1重量%、噴嘴之掃描次數為20次、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬360秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻19.7 μm以外，以與例5相同之條件製作防眩光玻璃。
[例8]
於例8中，除於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬480秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻25.3 μm以外，以與例7相同之條件製作防眩光玻璃。
[例9]
於例9中，除於濕式噴砂處理中使用平均粒徑d
AVE為3.01 μm且變動係數d
CV為0.262之陶瓷粒子(未將Fujimi Incorporated公司製造礬土白(粒度＃4000)分級者)、漿料濃度為0.2重量%、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬480秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻26.3 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例10]
於例10中，除於濕式噴砂處理中使用平均粒徑d
AVE為2.06 μm且變動係數d
CV為0.315之陶瓷粒子(未將Fujimi Incorporated公司製造礬土白(粒度＃6000)分級者)、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬480秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻24.9 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例11]
於例11中，藉由對玻璃板之第1主表面依序實施結霜處理、濕式蝕刻處理及化學強化處理，而製作防眩光玻璃。作為玻璃板，準備AGC股份有限公司製造，商品名：Dragontrail(註冊商標)。玻璃板之尺寸為100 mm×100 mm，厚度1.0 mm。
於結霜處理中，將玻璃板於25℃之藥液中浸漬3分鐘。玻璃板之第2主表面由預先貼合之耐酸性之保護膜保護。藥液係包含8重量%之氟化氫，且包含8重量%之氟化鉀之水溶液。於結霜處理之後，濕式蝕刻處理之前，進行純水洗淨與乾燥。
於濕式蝕刻處理中，將玻璃板於25℃之蝕刻液中浸漬3分鐘。玻璃板之第2主表面繼續由耐酸性之保護膜保護。蝕刻液係包含10重量%之氟化氫之水溶液。於濕式蝕刻處理之後，化學強化處理之前，將保護膜剝離。
於化學強化處理中，將玻璃板於加熱至450℃之硝酸鉀之熔鹽中浸漬1小時。其後，將玻璃板自熔鹽中提起，以1小時緩冷至室溫。藉此，於玻璃板之第1主表面與第2主表面之兩者形成壓縮應力層。
[例12]
於例12中，除於濕式噴砂處理中使用平均粒徑d
AVE為4.74 μm且變動係數d
CV為0.483之陶瓷粒子(macoho公司製造macoho beads(產品編號：AX-3-15))、及於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬360秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻20.3 μm以外，以與例1相同之條件製作防眩光玻璃。
[例13]
於例13中，除於濕式蝕刻處理中將玻璃板於25℃之蝕刻溶液中浸漬480秒而將玻璃板之第1主表面蝕刻27.2 μm以外，以與例12相同之條件製作防眩光玻璃。
[總結]
於表1顯示例1～例13之處理條件與處理結果。又，於圖5顯示例1～例10及例12～例13之濕式噴砂處理中使用之氧化鋁粒子之粒度分佈。再者，於圖6～圖9顯示以基恩士公司製造之雷射顯微鏡VK-X260測定例1～例13之防眩光面之表面形狀，並以Image Metrology公司製造之影像解析軟體SPIP(註冊商標)version5.1.11進行解析之結果。圖6～圖9所示之圖像係拍攝長方形(長邊長度：94.9 μm，短邊長度：71.2 μm)之區域而得之圖像。於圖6～圖9中，以灰度表示防眩光面之表面形狀(高低差)。於圖6～圖9中，亮度越低，高度越低。
[表1]
如表1所示，於例1～例10中，與例12～例13不同，依序進行使用包含平均粒徑d
AVE為2.00 μm以上且變動係數d
CV為0.400以下之粒子之漿料之濕式噴砂處理、及濕式蝕刻處理。如圖5所示，於例1～例10中，與例12～例13相比，氧化鋁粒子之粒徑之偏差較小。另，於例11中不進行濕式噴砂處理。
其結果，例1～例10之防眩光面與例11～例13之防眩光面不同，(A)S
σ為32.5 μm
2以下，(B)N為250個/10000 μm
2以上，(C)H
AVE為0.10 μm以上，且(D)H
σ為0.220 μm以下且H
AVE×H
σ為0.085 μm
2以下。因此，例1～例10之防眩光面與例11～例13之防眩光面不同，眩光指標值Sp為4.6%以下，防眩性指標值D為0.10以上。
又，如表1所示，於例1～例8中，與例9～例10不同，依序進行使用包含平均粒徑d
AVE為2.00 μm以上且變動係數d
CV為0.250以下之粒子之漿料之濕式噴砂處理、及濕式蝕刻處理。如圖5所示，於例1～例8中，與例9及例10相比，氧化鋁粒子之粒徑之偏差較小。
其結果，例1～例8之防眩光面與例9～例10之防眩光面不同，(Aa)S
σ為14.5 μm
2以下，(Ba)N為450個/10000 μm
2以上，(C)H
AVE為0.10 μm以上，且(Da)H
σ為0.180 μm以下且H
AVE×H
σ為0.070 μm
2以下。因此，例1～例8之防眩光面與例9～例10之防眩光面不同，眩光指標值Sp為4.0%以下，防眩性指標值D為0.10以上。
以上，已對本揭示之玻璃板及玻璃板之製造方法進行說明，但本揭示不限定於上述實施形態等。於申請專利範圍所記載之範疇內，可進行各種變更、修正、置換、附加、刪除及組合。關於該等亦當然屬於本揭示之技術性範圍內。
本申請案係主張基於2022年4月28日向日本專利廳提交申請之日本專利特願2022-075351號之優先權者，將日本專利特願2022-075351號之所有內容援引於本申請案中。
1:玻璃板
11:第1主表面
12:第2主表面
70:測定裝置
71:線狀光源裝置
75:面亮度測定器
111:凹曲面
112:微裂紋
711:光源
712:黑色平板
731~736, 733-2:光線
H:深度
S:面積
S101,S102:步驟
θi:入射角
θr:反射角
圖1(A)係顯示一實施形態之玻璃板之一部分之剖視圖，圖1(B)係放大圖1(A)之一部分之剖視圖。
圖2係顯示測定防眩性指標值D之測定裝置之一例之圖。
圖3係顯示一實施形態之玻璃板之製造方法之流程圖。
圖4係顯示以微裂紋為起點形成之凹曲面之一例之剖視圖。
圖5係顯示於表1之例1～例10及例12～例13中使用之粒子之粒度分佈之圖。
圖6(A)～(D)係藉由分水嶺演算法將於表1之例1～例4中獲得之防眩光面分解為複數個凹曲面之圖像。
圖7(A)～(D)係藉由分水嶺演算法將於表1之例5～例8中獲得之防眩光面分解為複數個凹曲面之圖像。
圖8(A)～(C)係藉由分水嶺演算法將於表1之例9～例11中獲得之防眩光面分解為複數個凹曲面之圖像。
圖9(A)、(B)係藉由分水嶺演算法將於表1之例12～例13中獲得之防眩光面分解為複數個凹曲面之圖像。
1:玻璃板
11:第1主表面
12:第2主表面
111:凹曲面
H:深度
S:面積
Claims (12)
- 一種玻璃板，其係具有第1主表面及與上述第1主表面相反側之第2主表面，且上述第1主表面包含防眩光面，上述防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面者；且 於以雷射顯微鏡測量上述防眩光面之表面形狀，並基於該測量出之結果，藉由分水嶺演算法將上述防眩光面分解為複數個上述凹曲面時，上述防眩光面係 俯視時之上述凹曲面之面積S之標準偏差S σ為32.5 μm 2以下； 俯視時每規定面積之上述凹曲面之數量N為250個/10000 μm 2以上； 上述凹曲面之深度H之平均值H AVE為0.10 μm以上； 上述深度H之標準偏差H σ為0.220 μm以下，上述深度H之平均值H AVE與上述標準偏差H σ之積H AVE×H σ為0.085 μm 2以下。
- 如請求項1之玻璃板，其中上述防眩光面之上述面積S之平均值S AVE為6 μm 2以上且33 μm 2以下。
- 如請求項1或2之玻璃板，其中上述防眩光面之下述眩光指標值Sp為4.6%以下，下述防眩性指標值D為0.10以上； 眩光指標值Sp：於背光源之發光面上，以其圖案面朝上之方式設置附屬於DM＆S公司製造之SMS-1000之像素圖案，作為光罩；再者，於上述光罩之上述圖案面上，以上述第1主表面朝上之方式設置上述玻璃板；藉由於發光顏色為綠色之上述背光源之發光面上設置上述光罩，而於模擬由RGB(0,255,0)構成之綠色單色之圖像顯示之狀態下，利用DM＆S公司製造之測定裝置SMS-1000之相機，透過上述玻璃板拍攝上述光罩之上述圖案面之190 dpi之區域；藉由上述測定裝置之圖像解析而求出之閃爍值為Sp；安裝於上述相機之遮光板與上述玻璃板之間之距離為262 mm；上述相機之透鏡以5.6之光圈使用焦距為50 mm之23FM50SP透鏡； 防眩性指標值D：使用與上述玻璃板之上述第1主表面對向配置之上述測定裝置，自配置於黑色平板之長度101 mm、寬度1 mm之矩形之狹縫中之冷陰極管之白色光源以入射角5.7°對上述玻璃板照射光，測定其反射光之亮度；上述測定裝置之上述相機之透鏡以5.6之光圈使用焦距為16 mm之C1614A透鏡；自上述玻璃板之上述第1主表面至上述相機之上述透鏡之距離為300 mm；成像比例設定於0.0276～0.0278之範圍內；於將反射角θr與入射角θi之差Δθ(Δθ=θr-θi)為0.0°±0.1°之範圍內之反射光之亮度之平均值設為D1，將Δθ為0.5°±0.1°之範圍內之反射光之亮度之平均值設為D2，將Δθ為-0.5°±0.1°之範圍內之反射光之亮度之平均值設為D3之情形時，藉由「D=(D2+D3)/(2×D1)」之式而算出D。
- 一種玻璃板之製造方法，上述玻璃板係具有第1主表面及與上述第1主表面相反側之第2主表面，且上述第1主表面包含防眩光面，上述防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面者；且上述玻璃板之製造方法具有以下步驟： 使用包含粒徑d之平均值d AVE為2.00 μm以上且粒徑d之變動係數d CV(變動係數=標準偏差/平均值)為0.400以下之粒子之漿料，對上述第1主表面之至少一部分進行濕式噴砂處理；及 於進行上述濕式噴砂處理後，以包含酸或鹼之蝕刻液對上述第1主表面之至少一部分進行濕式蝕刻處理。
- 如請求項4之玻璃板之製造方法，其中上述粒子之粒徑d之平均值d AVE為2.00 μm以上且4.50 μm以下。
- 如請求項4或5之玻璃板之製造方法，其中上述粒子之莫氏硬度較上述玻璃板之莫氏硬度高。
- 一種玻璃板，其係具有第1主表面及與上述第1主表面相反側之第2主表面，且上述第1主表面包含防眩光面，上述防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面者；且 於以雷射顯微鏡測量上述防眩光面之表面形狀，並基於該測量出之結果，藉由分水嶺演算法將上述防眩光面分解為複數個上述凹曲面時，上述防眩光面係 俯視時之上述凹曲面之面積S之標準偏差S σ為14.5 μm 2以下； 俯視時每規定面積之上述凹曲面之數量N為450個/10000 μm 2以上； 上述凹曲面之深度H之平均值H AVE為0.10 μm以上； 上述深度H之標準偏差H σ為0.180 μm以下，上述深度H之平均值H AVE與上述標準偏差H σ之積H AVE×H σ為0.070 μm 2以下。
- 如請求項7之玻璃板，其中上述防眩光面之上述面積S之平均值S AVE為6 μm 2以上且17 μm 2以下。
- 如請求項7或8之玻璃板，其中上述防眩光面之下述眩光指標值Sp為4.0%以下，下述防眩性指標值D為0.10以上； 眩光指標值Sp：於背光源之發光面上，以其圖案面朝上之方式設置附屬於DM＆S公司製造之SMS-1000之像素圖案，作為光罩；再者，於上述光罩之上述圖案面上，以上述第1主表面朝上之方式設置上述玻璃板；藉由於發光顏色為綠色之上述背光源之發光面上設置上述光罩，而於模擬由RGB(0,255,0)構成之綠色單色之圖像顯示之狀態下，利用DM＆S公司製造之測定裝置SMS-1000之相機，透過上述玻璃板拍攝上述光罩之上述圖案面之190 dpi之區域；藉由上述測定裝置之圖像解析而求出之閃爍值為Sp；安裝於上述相機之遮光板與上述玻璃板之間之距離為262 mm；上述相機之透鏡以5.6之光圈使用焦距為50 mm之23FM50SP透鏡； 防眩性指標值D：使用與上述玻璃板之上述第1主表面對向配置之上述測定裝置，自配置於黑色平板之長度101 mm、寬度1 mm之矩形之狹縫中之冷陰極管之白色光源以入射角5.7°對上述玻璃板照射光，測定其反射光之亮度；上述測定裝置之上述相機之透鏡以5.6之光圈使用焦距為16 mm之C1614A透鏡；自上述玻璃板之上述第1主表面至上述相機之上述透鏡之距離為300 mm；成像比例設定於0.0276～0.0278之範圍內；於將反射角θr與入射角θi之差Δθ(Δθ=θr-θi)為0.0°±0.1°之範圍內之反射光之亮度之平均值設為D1，將Δθ為0.5°±0.1°之範圍內之反射光之亮度之平均值設為D2，將Δθ為-0.5°±0.1°之範圍內之反射光之亮度之平均值設為D3之情形時，藉由「D=(D2+D3)/(2×D1)」之式而算出D。
- 一種玻璃板之製造方法，上述玻璃板係具有第1主表面及與上述第1主表面相反側之第2主表面，且上述第1主表面包含防眩光面，上述防眩光面具有複數個湯匙切割形狀之凹曲面者；且上述玻璃板之製造方法具有以下步驟： 使用包含粒徑d之平均值d AVE為2.00 μm以上且粒徑d之變動係數d CV(變動係數=標準偏差/平均值)為0.250以下之粒子之漿料，對上述第1主表面之至少一部分進行濕式噴砂處理；及 於進行上述濕式噴砂處理後，以包含酸或鹼之蝕刻液對上述第1主表面之至少一部分進行濕式蝕刻處理。
- 如請求項10之玻璃板之製造方法，其中上述粒子之粒徑d之平均值d AVE為2.00 μm以上且4.50 μm以下。
- 如請求項10或11之玻璃板之製造方法，其中上述粒子之莫氏硬度較上述玻璃板之莫氏硬度高。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-075351 | 2022-04-28 | ||
| JP2022075351 | 2022-04-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202346236A true TW202346236A (zh) | 2023-12-01 |
Family
ID=88518646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW112114991A TW202346236A (zh) | 2022-04-28 | 2023-04-21 | 玻璃板及玻璃板之製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20250042808A1 (zh) |
| EP (1) | EP4516754A1 (zh) |
| JP (1) | JPWO2023210463A1 (zh) |
| CN (1) | CN118973976A (zh) |
| TW (1) | TW202346236A (zh) |
| WO (1) | WO2023210463A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN121399078A (zh) * | 2023-06-28 | 2026-01-23 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃板及其制造方法、车载用显示装置、以及选择玻璃板的方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9446979B2 (en) * | 2011-11-02 | 2016-09-20 | Corning Incorporated | Method for sparkle control and articles thereof |
| JP2016040211A (ja) * | 2014-08-12 | 2016-03-24 | 武蔵野ファインガラス株式会社 | アンチグレアガラスの製造方法 |
| JP2019218217A (ja) | 2016-10-20 | 2019-12-26 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス板 |
| JPWO2018230079A1 (ja) | 2017-06-15 | 2020-04-16 | Ａｇｃ株式会社 | 透明基体 |
| CN110770186B (zh) | 2017-06-20 | 2022-07-12 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃板 |
| JP7067077B2 (ja) * | 2018-01-18 | 2022-05-16 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス板及び表示装置 |
| JP7293662B2 (ja) * | 2018-01-25 | 2023-06-20 | 日本電気硝子株式会社 | 表示装置のカバー部材 |
| DE112019004800T5 (de) * | 2018-09-25 | 2021-06-10 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Durchsichtiger gegenstand |
| CN111333340B (zh) | 2018-12-18 | 2024-04-05 | 欧浦登（顺昌）光学有限公司 | 一种高清晰度无闪烁蚀刻玻璃及其制造工艺和应用 |
| JP7641554B2 (ja) | 2020-11-06 | 2025-03-07 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 充電管理システム、電力管理システム、充電管理方法、及びプログラム |
-
2023
- 2023-04-19 WO PCT/JP2023/015636 patent/WO2023210463A1/ja not_active Ceased
- 2023-04-19 JP JP2024517237A patent/JPWO2023210463A1/ja active Pending
- 2023-04-19 CN CN202380034592.6A patent/CN118973976A/zh active Pending
- 2023-04-19 EP EP23796205.5A patent/EP4516754A1/en active Pending
- 2023-04-21 TW TW112114991A patent/TW202346236A/zh unknown
-
2024
- 2024-10-18 US US18/919,565 patent/US20250042808A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2023210463A1 (zh) | 2023-11-02 |
| WO2023210463A1 (ja) | 2023-11-02 |
| US20250042808A1 (en) | 2025-02-06 |
| CN118973976A (zh) | 2024-11-15 |
| EP4516754A1 (en) | 2025-03-05 |
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