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TW202303201A - 偏光板及有機el顯示裝置 - Google Patents

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TW202303201A
TW202303201A TW111119452A TW111119452A TW202303201A TW 202303201 A TW202303201 A TW 202303201A TW 111119452 A TW111119452 A TW 111119452A TW 111119452 A TW111119452 A TW 111119452A TW 202303201 A TW202303201 A TW 202303201A
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TW
Taiwan
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organic
polarizing plate
retardation layer
retardation
display device
Prior art date
Application number
TW111119452A
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English (en)
Inventor
有賀草平
中原歩夢
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之偏光板(10)具備具有第一主面及第二主面之偏光元件(11)、及積層於偏光元件之第一主面側之相位差層(13)，且以偏光元件之第一主面側與有機EL單元(70)對向之方式配置而使用。相位差層(13)包含厚度大於5 μm、波長380 nm下之透光率為60%以下之第一相位差層。該偏光板具有紫外線遮蔽性，抑制紫外線吸收劑之滲出或結晶化，能夠良好地用作有機EL顯示裝置用偏光板。

Description

偏光板及有機EL顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及有機EL顯示裝置。
於行動電話、智慧型手機、汽車導航裝置、電腦用顯示器、電視等顯示裝置中，搭載有機EL元件之有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置正被實用化。於有機EL顯示裝置中，為了抑制外界光由金屬電極(陰極)反射而如鏡面般被視認，而於有機EL單元(有機EL元件)之視認側表面配置圓偏光板。
若外界光所含之紫外線入射至有機EL元件，則可能成為有機EL元件之劣化之原因。為了抑制由紫外線所導致之有機EL元件之劣化，提出於有機EL單元之視認側表面配置含有紫外線吸收劑之層。例如，於專利文獻1中提出藉由於用以貼合圓偏光板與有機EL單元之黏著劑層、或於用以在圓偏光板之視認側表面貼合覆蓋窗之黏著劑層中包含紫外線吸收劑，而賦予紫外線吸收性。於專利文獻2中提出於構成圓偏光板之λ/4板之配向液晶層中包含紫外線吸收劑。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2020-139108號公報 [專利文獻2]日本專利特開2017-120431號公報
[發明所欲解決之問題]
如上所述，為了抑制由紫外線所導致之有機EL元件之劣化，而必須使配置於有機EL元件之視認側之光學構件具有紫外線遮蔽性。但是，若如專利文獻1中所提出般於黏著劑層中包含紫外線吸收劑，則顧慮有由紫外線吸收劑之滲出或結晶化等所致之透明性之降低或接著性降低等物性變化。又，於如專利文獻2中所提出般於配向液晶層中添加紫外線吸收劑之情形時，由於配向液晶層之厚度小，故為了提高紫外線遮蔽性(充分降低到達有機EL元件之紫外線之量)而必須提高紫外線吸收劑之濃度，從而顧慮有液晶分子之配向不良或紫外線吸收劑之滲出。 [解決問題之技術手段]
本發明係關於一種於偏光元件之一個面(第一主面)具備相位差層之有機EL顯示裝置用偏光板。於有機EL顯示裝置中，以偏光板之配置有相位差層之面(偏光元件之第一主面側)與有機EL單元對向之方式配置。
貼合於偏光元件之一個面之相位差層包含1層或2層以上，至少1層相位差層(第一相位差層)之厚度大於5 μm，且波長380 nm下之透光率為60%以下。
於配置於偏光元件之一個面之相位差層為複數個相位差層之積層構成，除上述第一相位差層以外還包含第二相位差層的情形時，第二相位差層可配置於第一相位差層與偏光元件之間，亦可配置於第一相位差層之與偏光元件相反側之面。相位差層亦可為3層以上之積層構成。
第一相位差層可包含紫外線吸收劑，第一相位差層所含之紫外線吸收劑之濃度亦可為0.01～1.5重量%。
於有機EL顯示裝置用偏光板中，第一相位差層之慢軸方向與偏光元件之吸收軸方向可以既不平行亦不正交之角度配置。第一相位差層之慢軸方向與偏光元件之吸收軸方向所成之角度例如為10°～80°，亦可為40°～50°。
於一實施方式中，第一相位差層係波長550 nm下之正面相位延遲R(550)為100～180 nm之1/4波長板(λ/4板)。於配置於偏光元件之一個面之相位差層為複數個相位差層之積層構成的情形時，除第一相位差層以外之相位差層亦可為λ/4板。
於一實施方式中，第一相位差層於波長450 nm下之正面相位延遲R(450)小於波長550 nm下之正面相位延遲R(550)。於配置於偏光元件之一個面之相位差層為複數個相位差層之積層構成的情形時，除第一相位差層以外之相位差層可滿足R(450)＜R(550)。
有機EL顯示裝置用偏光板亦可為於偏光元件之一個面積層有上述相位差層，於偏光元件之另一個面積層有作為偏光元件保護膜之透明膜者。作為偏光元件保護膜之透明膜於波長380 nm下之透光率可為15～30%。作為偏光元件保護膜之透明膜可為三乙醯纖維素等纖維素系樹脂膜。
偏光元件與透明膜之積層體於波長380 nm下之透光率亦可為5～9%。偏光板於波長380 nm下之透光率較佳為4%以下。
於一實施方式中，於構成偏光板之光學層之中，第一相位差層之厚度最大。 [發明之效果]
藉由使厚度大之相位差層具有紫外線遮蔽性，從而降低入射至有機EL元件之紫外線，因此可抑制有機EL元件之劣化。厚度大之相位差層可以低濃度之紫外線吸收劑充分減小紫外線之透過率，因此可抑制紫外線吸收劑之結晶化或滲出，且實現抑制有機EL元件之劣化所需之紫外線遮蔽性。
圖1係表示一實施方式之有機EL顯示裝置之積層構成之剖視圖。有機EL顯示裝置901於有機EL單元70之光出射面具備偏光板10。於偏光板10之視認側表面視需要可配置有覆蓋窗80。
有機EL單元70可為頂部發光型，亦可為底部發光型。頂部發光型之有機EL單元係於基板上依序具備金屬電極、有機發光層及透明電極，且自與基板相反側之面提取光之構成。底部發光型之有機EL單元係於基板上依序具備透明電極、有機發光層及金屬電極，且自基板側之面提取光之構成。
作為有機EL單元之基板，可使用玻璃基板或塑膠基板。於頂部發光型之有機EL單元中，基板無需透明，亦可將聚醯亞胺膜等高耐熱性膜用作基板。有機發光層除具備其自身作為發光層而發揮功能之有機層以外，亦可具備電子傳輸層、電洞傳輸層等。透明電極為金屬氧化物層或金屬薄膜，使來自有機發光層之光透過。
有機EL單元之金屬電極係光反射性。因此，若外界光入射至有機EL單元之內部，則光於金屬電極上反射，反射光自外部如鏡面般被視認。藉由於有機EL單元之視認側表面配置圓偏光板，可防止金屬電極上之反射光向外部之再出射，從而提昇畫面之視認性及設計性。
[有機EL顯示裝置用偏光板之構成] 圓偏光板10(有機EL顯示裝置用偏光板)具備積層於偏光元件11之一個面(第一主面)之相位差層13，且以相位差層13側之面與有機EL單元70對向之方式配置。偏光元件11與相位差層13較佳為經由適宜之接著劑或黏著劑而貼合。偏光元件11與相位差層13之間亦可配置有適宜之透明保護膜。
＜偏光元件＞ 作為偏光元件11，例如可例舉：使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜吸附碘或二色性染料等二色性物質並進行單軸延伸而成者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。
作為偏光元件11，亦可使用厚度為10 μm以下之薄型偏光元件。作為薄型偏光元件，例如可例舉日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號、日本專利第4691205號、日本專利第4751481號中記載之偏光元件。薄型偏光元件例如可藉由包括如下步驟之製法而獲得：將聚乙烯醇系樹脂層及延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟、及利用碘等二色性材料進行染色之步驟。
＜相位差層＞ 於相位差層13具有λ/4之正面相位延遲，且相位差層13之慢軸方向與偏光元件11之吸收軸方向所成之角度為45°之情形時，偏光元件11與相位差層13之積層體即偏光板作為用以抑制有機EL單元70之金屬電極上之反射光之再出射的圓偏光板而發揮功能。
相位差層13可為單層，亦可為包含複數層者。例如，藉由將偏光元件11、λ/2板及λ/4板以各自之光軸成為特定角度之方式積層，可獲得於可見光之寬頻帶之範圍內作為圓偏光板而發揮功能之寬頻帶圓偏光板。又，藉由除λ/4板以外還積層具有nx＞nz＞ny或nz＞nx≧ny之折射率各向異性之相位差層，可降低顯示裝置之斜方向(自法線方向傾斜之方向)之反射光。
於本發明中，積層於偏光元件11之第一主面側之相位差層13之至少1層(以下記載為「第一相位差層」)具有大於5 μm之厚度，且具有紫外線遮蔽性。例如藉由使第一相位差層含有紫外線吸收劑，可賦予紫外線遮蔽性。於相位差層13包含複數層之情形時，較佳為厚度最大之層具有紫外線遮蔽性。
第一相位差層於波長380 nm下之透光率較佳為60%以下，更佳為55%以下，亦可為50%以下、45%以下、40%以下、35%以下或30%以下。第一相位差層於波長380 nm下之透光率可為0%，亦可為0.1%以上、0.5%以上或1%以上。
第一相位差層較佳為可見光之吸收少且透明，第一相位差層之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。第一相位差層於波長440 nm下之透光率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。
第一相位差層之厚度較佳為10 μm以上，更佳為15 μm以上，進而較佳為20 μm以上，亦可為25 μm以上或30 μm以上。第一相位差層之厚度越大，即便為低濃度之紫外線吸收劑，亦能夠實現越高之紫外線遮蔽性(小紫外線透過率)。第一相位差層之厚度之上限並無特別限定，就相位差層之形成性或圖像顯示裝置之薄型化之觀點而言，較佳為250 μm以下，亦可為200 μm以下、150 μm以下或100 μm以下。
第一相位差層較佳為具有自我支持性之膜。第一相位差層之拉伸彈性模數(楊氏模數)亦可為1～4 GPa左右。
作為第一相位差層之材料，較佳為非液晶性之樹脂材料(聚合物)。藉由使用非液晶性材料，可使第一相位差層之厚度為上述範圍並以低濃度之紫外線吸收劑之添加而賦予高紫外線遮蔽性。作為非液晶性之樹脂材料，可例舉：聚碳酸酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸、聚醚碸等碸系樹脂、聚苯硫醚等硫化物系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、環狀聚烯烴系(聚降𦯉烯系)樹脂、聚醯胺樹脂、聚乙烯或聚丙烯等聚烯烴系樹脂、纖維素酯類、丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、馬來醯亞胺系樹脂、富馬酸酯系樹脂等。
(紫外線吸收劑) 藉由使第一相位差層含有紫外線吸收劑，可維持可見光之透明性，且賦予紫外線吸收性。作為紫外線吸收劑，可例舉：苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑 、三𠯤紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等。就紫外線吸收性高且與各種聚合物之相容性優異之方面而言，較佳為三𠯤系紫外線吸收劑及苯并三唑系紫外線吸收劑，其中較佳為含有羥基之三𠯤系紫外線吸收劑、及於1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑。
作為紫外線吸收劑，亦可使用市售品。作為三𠯤系紫外線吸收劑之市售品，可例舉：2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-羥基苯基與[(烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(BASF公司製造之「TINUVIN 400」)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤與縮水甘油酸(2-乙基己基)酯之反應產物(BASF公司製造之「TINUVIN 405」)、(2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(BASF公司製造之「TINUVIN 460」)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-(己氧基)-苯酚(BASF公司製造之「TINUVIN 577」)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三𠯤(BASF公司製造之「TINUVIN 479」)、2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(BASF製造之「Tinosorb S」)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-苯酚(ADEKA製造之「ADK STAB LA-46」)、2,4,6-三(2-羥基-4-己氧基-3-甲基苯基)-1,3,5-三𠯤(ADEKA製造之「ADK STAB LA-F70」等。
作為苯并三唑系紫外線吸收劑之市售品，可例舉：2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(BASF製造之「TINUVIN 928」)、2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(BASF製造之「TINUVIN PS」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(BASF製造之「TINUVIN 900」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(BASF製造之「TINUVIN 571」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)對甲酚(BASF製造之「TINUVIN P」、ADEKA製造之「ADK STAB LA-36G」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(BASF製造之「TINUVIN 234」)、2-[5-氯(2H)-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(BASF製造之「TINUVIN 326」、ADEKA製造之「ADK STAB LA-36G」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二第三戊基苯酚(BASF製造之「TINUVIN 328」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(BASF製造之「TINUVIN 329」)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(ADEKA製造之「ADK STAB LA-29」)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚](ADEKA製造之「ADK STAB LA-31G」)、苯丙酸與3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(BASF製造之「TINUVIN 384-2」)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇之反應產物(BASF製造之「TINUVIN 1130」)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應產物(BASF製造之「TINUVIN 213」)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺基-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(住友化學製造之「Sumisorb 250」)等。
第一相位差層之紫外線吸收劑之含量(濃度)較佳為1.5重量%以下，更佳為1.0重量%以下，亦可為0.7重量%以下或0.5重量%以下。由於第一相位差層之厚度大於5 μm，故即便於紫外線吸收劑之濃度小之情形時，亦能夠具有抑制有機EL元件之劣化所需之紫外線遮蔽性。由於無需提高紫外線吸收劑之濃度，故紫外線吸收劑之析出或結晶化等所致之表面性之變化或透明性之降低等得到抑制。就提高紫外線遮蔽性之觀點而言，第一相位差層之紫外線吸收劑之濃度較佳為0.01重量%以上，更佳為0.03重量%以上，亦可為0.05重量%以上、0.07重量%以上或0.1重量%以上。
＜偏光元件保護膜＞ 偏光板10亦可為於偏光元件11之視認側之面(第二主面)，經由適宜之接著劑或黏著劑積層有作為偏光元件保護膜之透明膜12者。配置於偏光元件11之視認側之透明膜12較佳為可見光之吸收少且透明。透明膜12之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。透明膜12於波長440 nm下之透光率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。
作為透明膜12之材料，較佳為非液晶性之樹脂材料，作為其具體例，可例舉上文中作為第一相位差層之樹脂材料所述者。其中，就機械強度及透明性優異且與偏光元件之接著性亦優異之方面而言，較佳為三乙醯纖維素等纖維素系樹脂。
透明膜12之厚度並無特別限定，就處理性及表面保護性等觀點而言，較佳為5～250 μm，亦可為10～100 μm或15～50 μm。於透明膜12之與偏光元件11相反側之面(視認側之面)亦可設置有硬塗層、抗反射層、抗沾黏層等。
配置於偏光元件11之視認側之透明膜12可具有紫外線遮蔽性，亦可包含紫外線吸收劑。但另一方面，難以僅藉由透明膜12而具有用以防止有機EL元件之劣化之紫外線遮蔽性，若為了提高紫外線遮蔽性(紫外線吸收性)而增大紫外線吸收劑之添加量，則存在產生紫外線吸收劑之滲出或結晶化等問題的情況。透明膜12於波長380 nm下之透光率亦可為15～30%。
如上所述，偏光板10之配置於偏光元件11之有機EL單元70側之相位差層13具有紫外線遮蔽性。因此，即便於透明膜12之紫外線遮蔽性並不足夠之情形時，亦能夠使偏光板10具有能夠抑制有機EL元件之劣化之紫外線遮蔽性(例如波長380 nm下之透光率為4%以下)。
偏光板10於波長380 nm下之透光率較佳為4%以下，更佳為3.5%以下，進而較佳為3%以下，亦可為2.5%以下或2%以下。貼合相位差層13之前之偏光元件11與透明膜12之積層體(於偏光元件11之單面積層有透明膜12之單保護偏光板)於波長380 nm下之透光率亦可為5～9%。
＜黏接著劑層＞ 如上所述，偏光元件11與相位差層13、及偏光元件11與透明膜12分別經由適宜之接著劑或黏著劑而貼合。黏接著劑層之厚度例如為0.01～30 μm左右。
作為接著劑，可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、熱熔接著劑系、活性能量線硬化型接著劑等各種形態者。該等之中，就可減小接著劑層之厚度之方面而言，較佳為水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。於使用藉由塗佈後之硬化反應而顯示接著性之接著劑之情形時，接著劑層之厚度較佳為0.01～5 μm，更佳為0.03～3 μm。
作為水系接著劑之聚合物成分，可例示：乙烯系聚合物、明膠、乙烯系乳膠、聚胺基甲酸酯、聚酯系、環氧等。該等之中，就易接著膜與偏光元件之接著性優異之方面而言，較佳為乙烯系聚合物，尤佳為聚乙烯醇系樹脂。於聚乙烯醇系樹脂之中，較佳為含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇。
活性能量線硬化型接著劑係藉由電子束或紫外線等活性能量線之照射，而可自由基聚合、陽離子聚合或陰離子聚合之接著劑。其中，就可以低能量而硬化之方面而言，較佳為藉由紫外線照射而開始聚合之光自由基聚合性接著劑、光陽離子聚合性接著劑或併用光陽離子聚合與光自由基聚合之混合型接著劑。
作為自由基聚合性接著劑之單體，可例舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物或具有乙烯基之化合物。其中，適宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。作為陽離子聚合性接著劑之硬化性成分，可例舉具有環氧基或氧雜環丁基之化合物。具有環氧基之化合物只要為於分子內具有至少2個環氧基者，則並無特別限定，可使用通常已知之各種硬化性環氧化合物。
作為黏著劑，可適當選擇以丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基礎聚合物者使用。尤其就光學透明性優異、顯示適度之濡濕性及凝集性且耐候性或耐熱性等優異之方面而言，較佳為丙烯酸系黏著劑。
黏著劑層之厚度較佳為1～30 μm，更佳為2～25 μm。如上所述，由於構成相位差層13之第一相位差膜具有紫外線吸收性，故用以貼合偏光元件11與相位差層13或偏光元件11與透明膜12之黏著劑層無需具有紫外線吸收性。因此，無需以提高紫外線遮蔽性為目的而增大黏著劑層之厚度，從而能夠實現黏著劑層之薄型化。用以貼合偏光元件11與相位差層13或偏光元件11與透明膜12之黏著劑層之厚度亦可為15 μm以下、10 μm以下或7 μm以下。
於構成偏光板10之光學層之中，上述第一相位差層亦可為厚度最大之層。構成偏光板10之光學層包含偏光元件11、透明膜12、構成相位差層13之1層或2層以上之光學層(其中包含第一相位差層)、及用以貼合該等各層之黏接著劑層。該等之中，藉由使厚度最大之第一相位差層含有紫外線吸收劑，可以低濃度之紫外線吸收劑而賦予高紫外線遮蔽性，因此可抑制紫外線吸收劑之滲出或結晶化等，且使偏光板10具有抑制有機EL元件之劣化所需之紫外線遮蔽性。
於偏光板10之視認側之面亦可設置有用以與覆蓋窗80等透明構件貼合之黏著劑層21。於偏光板10之有機EL單元70側之面亦可設置有用以與有機EL單元貼合之黏著劑層22。該等黏著劑層之厚度通常為5～300 μm左右。
於黏著劑層21、22之表面，亦可以黏著劑層之污染防止等為目的而暫時黏有隔離膜。作為隔離膜，可良好地使用塑膠膜之表面經矽酮系離型劑、長鏈烷基系離型劑、氟系離型劑等剝離劑塗佈者。
[相位差層之構成之具體例] 如上所述，有機EL顯示裝置用偏光板10藉由於偏光元件11之一個面具備相位差層13，而作為圓偏光板發揮功能，抑制有機EL單元70之金屬電極等所導致之反射光之再出射。又，相位差層13包含1層或2層以上之光學層，其中之至少1層(第一相位差層)具有紫外線遮蔽性，因此亦有助於抑制有機EL元件之劣化。以下，對偏光板10之相位差層13之構成之具體例進行說明。
圖2所示之偏光板102係相位差層13包含1層相位差層131之構成。相位差層131為λ/4板，波長550 nm下之正面相位延遲R(550)較佳為100～180 nm，更佳為110～170 nm，進而較佳為120～150 nm，亦可為125～145 nm。
相位差層131之慢軸方向與偏光元件11之吸收軸方向所成之角為10～90°，較佳為40～50°，亦可為43～47°或44～46°。相位差層131為λ/4板，若相位差層131之慢軸方向與偏光元件11之吸收軸方向所成之角為45°附近，則偏光板102作為圓偏光板而發揮作用。
作為λ/4板之相位差層131亦可為波長450 nm下之正面相位延遲R(450)小於波長550 nm下之正面相位延遲R(550)者。λ/4板亦可除R(450)＜R(550)以外，波長650 nm下之正面相位延遲R(650)大於R(550)，滿足R(550)＜R(650)。藉由使用具有長波長程度之大相位延遲之λ/4板，圓偏光板10於可見光之寬波長區域內作為圓偏光板而發揮功能，因此可降低反射光之著色。
相位差層131之R(450)/R(550)亦可為0.70～0.95、0.75～0.90或0.80～0.87。相位差層131之R(650)/R(550)亦可為1.05～1.30、1.10～1.25或1.13～1.20。
相位差層131較佳為延伸膜。藉由將樹脂膜於特定方向進行延伸，賦予正面相位延遲R(550)處於上述範圍之光學各向異性，可獲得作為延伸膜之相位差層131。延伸方法並無特別限定，可為使用輥延伸機之自由端單軸延伸。亦可於樹脂膜之一面或兩面貼合熱縮膜，與延伸同時地利用熱縮膜之收縮作用，使膜於與延伸方向正交之方向(寬度方向)上過度收縮，而以增大厚度之方式進行延伸。作為延伸方法，亦可採用使用拉幅延伸機之橫延伸、縱橫雙軸延伸或斜向延伸。
於構成樹脂膜之樹脂材料為具有正固有雙折射之材料之情形時，藉由自由端單軸延伸，可獲得具有nx＞ny≒nz之折射率各向異性之相位差層(正A板)。nx為面內之慢軸方向之折射率，ny為面內之快軸方向之折射率，nz為厚度方向之折射率。
若一面利用熱縮膜之收縮力等而於寬度方向進行過度收縮一面實施延伸，則厚度方向之折射率nz變得大於寬度方向(快軸方向)之折射率ny，因此可獲得具有nx＞nz＞ny之折射率各向異性之相位差層。由於具有nx＞nz＞ny之折射率各向異性之相位差層由視認角度所引起之相位延遲之變化小，故若使用具有nx＞nz＞ny之折射率各向異性之λ/4板作為相位差層131，則不僅可降低顯示裝置之正面(法線方向)之反射光，亦可降低斜方向之反射光。
如上所述，於偏光板102中，偏光元件11與相位差層131係以兩者之光軸成為既不平行亦不正交之方向(例如吸收軸方向與慢軸方向所成之角為45°)的方式積層。為了將偏光元件與相位差層以卷對卷式積層而獲得圓偏光板，較佳為使用斜向延伸膜作為相位差層13。例如，藉由將以相對於長度方向(搬送方向)為45°之方向成為慢軸方向之方式進行延伸所得之斜向延伸膜、及於長度方向具有吸收軸之偏光元件以卷對卷式積層，可製作長條之圓偏光板，因此可大幅提昇生產效率及良率。斜向延伸膜通常具有nx＞ny＞nz之折射率各向異性。
圖3係有機EL顯示裝置用偏光板之構成之另一例，偏光板103之相位差層13包含相位差層131與相位差層133之2層。相位差層131係與圖2之偏光板102中之相位差層同樣之λ/4板。相位差層133具有nz＞nx≧ny之折射率各向異性。
例如於相位差層131具有nx＞ny≧nz之折射率各向異性，且相位差層133係具有nz＞nx≒ny之折射率各向異性之正C板的情形時，由於藉由相位差層133而抵消相位差層131之斜方向之相位差，故作為相位差層131與相位差層133之積層體之相位差層13具有nx＞nz＞ny之折射率各向異性，由視認角度所引起之相位延遲之變化小，因此不僅可降低顯示裝置之正面之反射光，亦可降低斜方向之反射光。
作為具有nz＞nx≒ny之折射率各向異性之正C板，可例舉：使液晶分子於相位差層之法線方向(厚度方向)配向之垂直配向液晶層、使具有負固有雙折射之聚合物藉由塗佈而於面內配向之塗佈膜、將具有負固有雙折射之聚合物之膜以正面相位延遲成為大致0之方式進行雙軸延伸所得之延伸膜等。nx≒ny並不限定於nx與ny完全一致之情形，正面相位延遲R(550)為10 nm以下即可。正C板之正面相位延遲R(550)較佳為5 nm以下，亦可為3 nm以下或1 nm以下。
於相位差層13係具有nx＞ny≧nz之折射率各向異性之相位差層(λ/4板)131與具有nz＞nx≒ny之折射率各向異性之相位差層(正C板)133的積層構成之情形時，只要相位差層131及相位差層133之任一者為具有紫外線遮蔽性之第一相位差層即可。於藉由包含紫外線吸收劑而賦予紫外線遮蔽性之情形時，較佳為厚度相對較大之相位差層包含紫外線吸收劑，且波長380 nm下之透光率為60%以下。
例如於相位差層131為延伸膜，且相位差層133為包含配向液晶層之正C板之情形時，通常延伸膜之厚度大於液晶層之厚度，因此較佳為厚度相對較大之相位差層131為第一相位差層，且波長380 nm下之透光率為60%以下，nz＞nx≒ny之相位差層133(第二相位差層)亦可不具有紫外線遮蔽性。
於相位差層131及相位差層133之兩者為包含非液晶性樹脂材料之聚合物膜之情形時，只要相位差層131及相位差層133之任一者具有紫外線遮蔽性即可，較佳為厚度相對較大之相位差層具有紫外線遮蔽性，且波長380 nm下之透光率為60%以下。例如於相位差層131之厚度小於相位差層133之厚度之情形時，較佳為作為λ/4板之相位差層131為具有紫外線遮蔽性之第一相位差層，作為正C板之第二相位差層133亦可不具有紫外線遮蔽性。亦可相位差層131及相位差層133之兩者均具有紫外線遮蔽性。
於圖3中，圖示出於作為λ/4板之相位差層131之與偏光元件11相反側之面配置有作為正C板之相位差層133的形態，但亦可於偏光元件11與相位差層131之間配置有相位差層133。
圖4係有機EL顯示裝置用偏光板之構成之又一例，偏光板104之相位差層13包含相位差層131與相位差層135之2層。相位差層131係與圖2之偏光板102中之相位差層同樣之λ/4板。相位差層135具有nx＞nz＞ny之折射率各向異性。
具有nx＞nz＞ny之折射率各向異性之相位差層135與上述偏光板103中之相位差層133同樣地，可具有抵消相位差層131之斜方向之相位差之作用。又，藉由將相位差層135以其慢軸方向與偏光元件11之吸收軸方向平行或正交之方式配置，而使相位差層135具有補償自斜方向視認時之偏光元件11表觀上之光軸方向之偏移的作用。
相位差層135之慢軸方向與偏光元件11之吸收軸方向所成之角較佳為0°～5°或85°～90°，更佳為0°～3°或87°～90°，進而較佳為0°～1°或89°～90°。
相位差層135以NZ＝(nx－nz)/(nx－ny)所定義之NZ係數大於0且未達1。相位差層135之NZ係數較佳為0.1～0.9，更佳為0.2～0.8，進而較佳為0.3～0.7，亦可為0.4～0.6或0.45～0.55。
相位差層135於波長550 nm下之正面相位延遲R(550)例如為100～400 nm。相位差層135之R(550)亦可為200～350 nm、220～330 nm、240～310 nm、250～300 nm或260～290 nm。
於相位差層13為具有nx＞ny≧nz之折射率各向異性之相位差層(λ/4板)131與具有nx＞ny＞nz之折射率各向異性之相位差層135的積層構成之情形時，只要相位差層131及相位差層135之任一者為具有紫外線遮蔽性之第一相位差層即可，亦可相位差層131及相位差層135之兩者均具有紫外線遮蔽性。
本發明之有機EL顯示裝置用偏光板中之相位差層13之構成並不限定於圖2～4所示之實施方式，只要構成相位差層之至少1層具有大於5 μm之厚度且波長380 nm下之透光率為60%以下即可。相位差層13亦可為3層以上之相位差層之積層構成。
[有機EL顯示裝置] 藉由於有機EL單元70之光出射面貼合上述有機EL顯示裝置用偏光板10，從而形成有機EL顯示裝置。亦可於有機EL單元70與偏光板10之間配置有觸控面板(未圖示)。
於偏光板10上亦可以防止由來自外表面之衝擊所導致之有機EL單元7之破損等為目的而配置覆蓋窗80。作為覆蓋窗80，可使用具有適宜之機械強度及厚度之透明板。作為此種透明板，可使用丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、透明聚醯亞胺樹脂等透明樹脂板或玻璃板等。覆蓋窗80之厚度例如為20～2000 μm左右。覆蓋窗80亦可為與觸控面板感測器一體化者。於覆蓋窗80之視認側表面亦可設置有抗反射層或硬塗層等。
如上所述，較佳為將黏著劑層21、22用於偏光板10與有機EL單元70之貼合、及偏光板10與覆蓋窗80之貼合。於本發明中，由於偏光板10具有紫外線遮蔽性，故即便於黏著劑層21、22不含有紫外線吸收劑之情形時，亦降低外界光中所含之紫外線向有機EL單元70之入射量，因此可抑制有機EL元件之劣化。 [實施例]
以下，示出實施例及比較例更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於該等例。
[黏著片材之製造例] ＜黏著片材A＞ 將作為單體之丙烯酸丁酯：92重量份、N-丙烯醯基𠰌啉(ACMO)：5重量份、丙烯酸：2.9重量份、及丙烯酸2-羥基乙酯：0.1重量份、以及作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈：0.1重量份與乙酸乙酯一併添加至反應容器中，於氮氣氣流下、55℃下反應8小時。其後，於反應液中加入乙酸乙酯，而獲得重量平均分子量178萬之丙烯酸系聚合物之溶液。於該溶液中相對於聚合物100重量份，調配作為交聯劑之過氧化二苯甲醯(日本油脂製造之「Nyper BMT」)：0.15重量份、及三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯加成物(Tosoh製造之「Coronate L」)：0.6重量份，而獲得黏著劑組合物。
將上述黏著劑組合物塗佈於離型膜(經矽酮離型處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜)之離型處理面，於150℃下進行乾燥及交聯處理，而製作厚度為5 μm之黏著片材。
＜黏著片材B＞ 於黏著劑組合物之製備中，於聚合物溶液中除交聯劑以外還調配紫外線吸收劑(5,5'-雙(2-乙基己氧基)-2,2'-[6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤-2,4-二基]二苯酚，BASF製造之「Tinosorb S」)：6重量份。除此以外，以與黏著片材A之製作同樣之方式獲得厚度5 μm之黏著片材。
＜黏著片材C＞ 於黏著劑組合物之製備中，將紫外線吸收劑之調配量變更為0.8重量份，黏著片材之厚度變更為40 μm。除此以外，以與黏著片材B之製作同樣之方式獲得厚度40 μm之黏著片材。
[相位差膜之製造例] ＜相位差膜A＞ (聚碳酸酯(PC)樹脂之製備) 於反應容器中投入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷：38.06重量份、異山梨酯(Roquette Freres製造之「POLYSORB」)：53.73重量份、1,4-環己烷二甲醇(順反混合物，SK Chemical製造)：9.64重量份、及碳酸二苯酯(Mitsubishi Chemical製造)：81.28重量份、以及作為觸媒之乙酸鈣一水合物，於減壓氮氣置換後於氮氣氣流下、150℃下攪拌約10分鐘，而使原料溶解。升溫至220℃後，於常壓下進行60分鐘反應。其後，自常壓減壓至13.3 kPa並保持30分鐘，將產生之苯酚泄出至反應體系外。繼而，一面升溫至240℃一面將壓力減壓至0.10 kPa以下，將產生之苯酚泄出至反應體系外。到達至特定之攪拌轉矩後以氮氣複壓至常壓並停止反應。將生成之聚碳酸酯擠出至水中，切割線料而獲得聚碳酸酯(PC)樹脂顆粒。
(延伸膜之製作) 使用上述聚碳酸酯樹脂顆粒，並藉由熔融擠出法而製作厚度100 μm之未延伸膜。藉由能夠獨立控制左右夾具之行進速度之拉幅式延伸機而將該膜於溫度137℃、延伸倍率約2.5倍下進行斜向延伸，從而獲得慢軸方向相對於膜之長度方向為45°之延伸相位差膜。
＜相位差膜B＞ 於聚碳酸酯樹脂之製備中，於反應停止後之聚碳酸酯熔融液100重量份中調配三𠯤系紫外線吸收劑(2,4,6-三(2-羥基-4-己氧基-3-甲基苯基)-1,3,5-三𠯤，ADEKA製造之「Adekastab LA-F70」)：0.2重量份，而獲得包含紫外線吸收劑之聚碳酸酯樹脂顆粒。除使用該顆粒以外，以與相位差膜A之製作同樣之方式製作延伸相位差膜。
＜相位差膜C、D＞ 於聚碳酸酯樹脂之製備中，將紫外線吸收劑(Adekastab LA-F70)之調配量變更為0.3重量份(相位差膜C)、1.0重量份(相位差膜D)。除此以外，以與相位差膜B之製作同樣之方式製作延伸相位差膜。
＜相位差膜E、F＞ 於聚碳酸酯樹脂之製備中，將紫外線吸收劑之種類變更為2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚]，將調配量設為0.7重量份(相位差膜E)、0.9重量份(相位差膜F)。除此以外，以與相位差膜B之製作同樣之方式製作延伸相位差膜。
＜相位差膜G＞ 於聚碳酸酯樹脂之製備中，將紫外線吸收劑(Adekastab LA-F70)之調配量變更為0.05重量份，而製作聚碳酸酯樹脂顆粒，並藉由熔融擠出法而製作厚度235 μm之未延伸膜。於該膜之兩面貼合積層有黏著片材之雙軸延伸聚丙烯膜(東麗製造之「Torayfan」)。藉由輥延伸機而將該積層體於溫度145℃下於長度方向上自由端單軸延伸約1.5倍。其後，剝離去除兩面之雙軸延伸丙烯膜，而獲得厚度方向之折射率nz大於寬度方向(快軸方向)之折射率ny的延伸相位差膜。
＜延伸膜H＞ 將環狀烯烴聚合物(COP)之樹脂顆粒(JSR製造之「ARTON R5000」)：100重量份、及紫外線吸收劑(Adekastab LA-F70)：0.05重量份溶解於二氯甲烷中，藉由溶液成膜法而製作厚度130 μm之未延伸膜。於該膜之兩面貼合積層有黏著片材之雙軸延伸聚丙烯膜(東麗製造之「Torayfan」)，藉由輥延伸機而於溫度140℃下於長度方向上自由端單軸延伸約1.3倍後，剝離去除兩面之雙軸延伸丙烯膜，而獲得厚度方向之折射率nz大於寬度方向之折射率ny的延伸相位差膜。
＜相位差膜I＞ (富馬酸酯(FAE)系樹脂之製備) 於高壓釜中投入羥丙基甲基纖維素(信越化學工業製造之「Metolose 60SH-50」)：48重量份、蒸餾水：15600重量份、富馬酸二異丙酯：8161重量份、丙烯酸3-乙基-3-氧雜環丁基甲酯：240重量份、及作為聚合起始劑之過氧化特戊酸第三丁酯，通入氮氣1小時後，一面攪拌一面於49℃下保持24小時，而進行自由基懸濁聚合。繼而，冷卻至室溫，將包含生成之聚合物粒子之懸濁液進行離心分離。將所獲得之聚合物粒子利用蒸餾水及甲醇來洗淨後，於80℃下進行減壓乾燥而獲得富馬酸酯系樹脂。
(膜之製作) 將上述富馬酸酯系樹脂溶解於甲苯/甲基乙基酮混合溶劑中而製備樹脂溶液，藉由溶液製膜法而製作厚度6 μm之未延伸膜(塗佈相位差膜)。
＜相位差膜J＞ 於膜之製作中，相對於富馬酸酯系樹脂100重量份添加紫外線吸收劑(Adekastab LA-F70)：0.9重量份而製備溶液。除此以外，以與相位差膜J之製作同樣之方式製作塗佈相位差膜。
[黏著片材及相位差膜之評估] ＜紫外線吸收劑之析出、結晶化＞ 將試樣切出200 mm×300 mm之尺寸，於溫度20℃、相對濕度98%之恆溫恆濕槽內保持500小時後取出，藉由顯微鏡進行觀察，從而確認有無紫外線吸收劑之析出、結晶化。
＜透過率＞ 藉由紫外-可見分光光度計(Hitachi High-Tech製造之「U-4100」)而測定透射光譜，根據所獲得之光譜讀取波長380 nm下之透光率。
＜相位延遲＞ 將相位差膜A～J切出50 mm×50 mm之尺寸，藉由偏光-相位差測定系統(Axometrics製造之「AxoScan」)而於測定波長550 nm下測定正面相位延遲、及以慢軸方向為旋轉中心將試樣傾斜40°之狀態下之相位延遲。根據該等測定值算出波長550 nm下之正面相位延遲Re＝(nx－ny)×d及厚度方向相位延遲Rth＝(nx－nz)×d。nx為面內之慢軸方向之折射率，ny為面內之快軸方向之折射率，nz為厚度方向之折射率，d為相位差膜之厚度。厚度方向相位延遲之計算時係使用藉由Atago公司製造之阿貝折射計而測定之平均折射率。
將黏著片材A～C、及相位差膜A～J之材料(樹脂種類)、紫外線吸收劑(UVA)之種類及添加量、厚度、以及評估結果示於表1中。
[表1]
   樹脂 UVA 厚度 (μm) 380 nm透光率 (%) 析出結晶化 相位延遲
種類 添加量 (重量份) Re (nm) Rth (nm)
黏著片材 A 丙烯酸系樹脂 - 5 96 - -
B 丙烯酸系樹脂 Tinosorb S 6.0 5 45 有 -
C 丙烯酸系樹脂 Tinosorb S 0.8 40 45 有 -
相位差膜 A PC - 37 95 - 120 155
B PC LA-F70 0.2 37 39 無 133 164
C PC LA-F70 0.3 37 25 無 134 165
D PC LA-F70 1.0 37 2 無 135 170
E PC LA-31G 0.7 37 51 無 122 152
F PC LA-31G 0.9 37 42 無 125 157
G COP LA-F70 0.05 250 21 無 130 65
H COP LA-F70 0.05 135 20 無 270 135
I FAE - 6 94 - 0 -110
J FAE LA-F70 0.9 6 51 無 0 -110
[圓偏光板之製作] ＜單保護偏光板之製作＞ (偏光元件之製作) 對厚度100 μm之非晶質聚酯膜(聚乙烯-對苯二甲酸酯/間苯二甲酸酯，玻璃轉移溫度75℃)之單面實施電暈處理，於電暈處理面將以9：1之重量比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性聚乙烯醇(日本合成化學工業之「GOHSEFIMER Z200」，聚合度1200，乙醯乙醯基改性度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上)的水溶液於25℃下進行塗佈及乾燥，而製作於非晶質聚酯膜基材上設置有厚度11 μm之PVA(Polyvinyl Alcohol，聚乙烯醇)系樹脂層之積層體。
於120℃之烘箱內將該積層體於長度方向上自由端單軸延伸2.0倍。將延伸後之積層體於30℃之4%硼酸水溶液中浸漬30秒後，於30℃之染色液(0.2%碘、1.0%碘化鉀水溶液)中浸漬60秒。繼而，於30℃之交聯液(碘化鉀3%、硼酸3%水溶液)中浸漬30秒而進行交聯處理。其後，一面將積層體浸漬於70℃之硼酸4%、碘化鉀5%水溶液中，一面於長度方向進行自由端單軸延伸以使總延伸倍率成為5.5倍。其後，將積層體浸漬於30℃之洗淨液(4%碘化鉀水溶液)中，而獲得於非晶質聚酯膜基材上設置有厚度5 μm之PVA系偏光元件之積層體。
(偏光元件保護膜之貼合) 將N-羥基乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份及丙烯醯𠰌啉(ACMO)60重量份、與光聚合起始劑(BASF製造之「Irgacure 819」)3重量份加以混合，而製備紫外線硬化型接著劑。將該接著劑以約1 μm之厚度塗佈於上述積層體之偏光元件之表面，於其上貼合厚度25 μm之三乙醯纖維素(TAC)膜作為偏光元件保護膜，照射累計照射量1000/mJ/cm 2之紫外線而使接著劑硬化。其後，剝離非晶質聚酯膜基材，而獲得於厚度約5 μm之薄型偏光元件之單面經由接著劑貼合有TAC膜之單保護偏光板。該單保護偏光板於波長380 nm下之透光率為6.6%。
＜比較例1＞ 使用滾筒貼合機，於單保護偏光板之偏光元件側之面經由黏著片材A貼合相位差膜A，從而製作圓偏光板。偏光元件之吸收軸與相位差膜之慢軸(延伸方向)所成之角為45°。
＜實施例1～5，比較例2、3＞ 除將黏著片材及相位差膜之種類如表1所示般進行變更以外，以與比較例1同樣之方式製作圓偏光板。
＜實施例6＞ 將單保護偏光板及相位差膜G切出矩形，於單保護偏光板之偏光元件側之面經由黏著片材A貼合相位差膜G而製作圓偏光板。偏光元件之吸收軸與相位差膜之慢軸(延伸方向)所成之角為45°。
＜實施例7＞ 使用滾筒貼合機，於單保護偏光板之偏光元件側之面經由黏著片材A貼合相位差膜H，於相位差膜H上經由黏著片材A貼合相位差膜A，從而製作圓偏光板。偏光元件之吸收軸與相位差膜H之慢軸(延伸方向)平行，偏光元件之吸收軸與相位差膜A之慢軸所成之角為45°。
＜實施例8＞ 使用滾筒貼合機，於單保護偏光板之偏光元件側之面經由黏著片材A貼合相位差膜H，於相位差膜H上經由黏著片材A貼合相位差膜A，從而製作圓偏光板。偏光元件之吸收軸與相位差膜H之慢軸(延伸方向)平行，偏光元件之吸收軸與相位差膜A之慢軸所成之角為45°。
＜實施例9、10＞ 除將相位差膜之種類如表2所示般進行變更以外，以與實施例8同樣之方式製作於偏光元件之一個面具備2層相位差膜之圓偏光板。
將實施例及比較例之圓偏光板之積層構成、及圓偏光板於波長380 nm下之透光率示於表2中。
[表2]
   積層構成 偏光板380 nm透光率 (%)
黏著片材 相位差膜1 相位差膜2
種類 厚度 (μm) 380 nm透過率 (%) 種類 厚度 (μm) 380 nm透過率 (%) 種類 厚度 (μm) 380 nm透過率 (%)
比較例1 A 5 96 A 37 95 - 6.0
實施例1 A 5 96 B 37 39 - 2.5
實施例2 A 5 96 C 37 25 - 1.6
實施例3 A 5 96 D 37 2 - 0.1
實施例4 A 5 96 E 37 51 - 3.2
實施例5 A 5 96 F 37 42 - 2.6
比較例2 B 5 45 A 37 95 - 2.8
比較例3 C 40 45 A 37 95 - 2.8
實施例6 A 5 96 G 250 21 - 1.3
實施例7 A 5 96 H 135 20 A 37 95 1.2
實施例8 A 5 96 A 37 95 J 6 51 3.2
實施例9 A 5 96 B 37 39 J 6 51 1.3
實施例10 A 5 96 B 37 39 I 6 94 2.4
如表1所示，於在構成黏著片材之黏著劑中調配紫外線吸收劑之情形時，於高濕度環境下產生紫外線吸收劑之析出、結晶化，相對於此，於對相位差膜調配紫外線吸收劑之情形時，未觀察到紫外線吸收劑之析出、結晶化，具有良好之外觀。
藉由於相位差膜中包含紫外線吸收劑，可不產生紫外線吸收劑之結晶化或析出而賦予與於黏著片材中包含紫外線吸收劑之情形(比較例2、3)同等以上之紫外線遮蔽性。可知由於相位差膜之厚度大，故即便以1%以下之低濃度之紫外線吸收劑亦顯示優異之紫外線遮蔽性。
10:偏光板(圓偏光板) 11:偏光元件 12:透明膜(偏光元件保護膜) 13:相位差層 21:黏著劑層 22:黏著劑層 70:有機EL單元 80:覆蓋窗 102:偏光板(圓偏光板) 103:偏光板(圓偏光板) 104:偏光板(圓偏光板) 131:相位差層(λ/4板) 133:相位差層 135:相位差層 901:有機EL顯示裝置
圖1係表示一實施方式之有機EL顯示裝置之積層構成之剖視圖。 圖2係表示一實施方式之偏光板之積層構成之剖視圖。 圖3係表示一實施方式之偏光板之積層構成之剖視圖。 圖4係表示一實施方式之偏光板之積層構成之剖視圖。
10:偏光板(圓偏光板)
11:偏光元件
12:透明膜(偏光元件保護膜)
13:相位差層
21:黏著劑層
22:黏著劑層
70:有機EL單元
80:覆蓋窗
901:有機EL顯示裝置

Claims (18)

  1. 一種有機EL顯示裝置用偏光板，其具備具有第一主面及第二主面之偏光元件、及積層於上述偏光元件之第一主面側之第一相位差層，且以上述偏光元件之第一主面側與有機EL單元對向之方式配置， 上述第一相位差層之厚度大於5 μm，波長380 nm下之透光率為60%以下。
  2. 如請求項1之有機EL顯示裝置用偏光板，其波長380 nm下之透光率為4%以下。
  3. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層包含紫外線吸收劑。
  4. 如請求項3之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層所含之紫外線吸收劑之濃度為0.01～1.5重量%。
  5. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層之慢軸方向與上述偏光元件之吸收軸方向所成之角為10°～80°。
  6. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層之慢軸方向與上述偏光元件之吸收軸方向所成之角為40°～50°。
  7. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層於波長550 nm下之正面相位延遲R(550)為100～180 nm。
  8. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層於波長450 nm下之正面相位延遲R(450)小於波長550 nm下之正面相位延遲R(550)。
  9. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層為延伸膜。
  10. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第一相位差層為斜向延伸膜。
  11. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其於上述偏光元件與上述第一相位差層之間、或於上述第一相位差層之與上述偏光元件相反側之面具備第二相位差層。
  12. 如請求項11之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述第二相位差層之面內之慢軸方向之折射率nx、面內之快軸方向之折射率ny、及厚度方向之折射率nz滿足nz＞nx≧ny。
  13. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其進而具備積層於上述偏光元件之第二主面側之透明膜。
  14. 如請求項13之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述透明膜於波長380 nm下之透光率為15～30%。
  15. 如請求項13之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述透明膜為纖維素系樹脂膜。
  16. 如請求項13之有機EL顯示裝置用偏光板，其中上述偏光元件與上述透明膜之積層體於波長380 nm下之透光率為5～9%。
  17. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置用偏光板，其中於構成偏光板之光學層之中，上述第一相位差層之厚度最大。
  18. 一種有機EL顯示裝置，其具備有機EL單元及配置於上述有機EL單元之光出射面側之偏光板，且上述偏光板係如請求項1至17中任一項之偏光板。
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