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TW202227378A - 具有半矽氧烷基抗反射塗層的玻璃、玻璃陶瓷及陶瓷製品以及製造其的方法 - Google Patents

具有半矽氧烷基抗反射塗層的玻璃、玻璃陶瓷及陶瓷製品以及製造其的方法 Download PDF

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TW202227378A
TW202227378A TW110136422A TW110136422A TW202227378A TW 202227378 A TW202227378 A TW 202227378A TW 110136422 A TW110136422 A TW 110136422A TW 110136422 A TW110136422 A TW 110136422A TW 202227378 A TW202227378 A TW 202227378A
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尚登笛 哈特
塔德派瑞許 聖克萊爾
瑩 魏
詹姆斯安德魯 韋斯特
袁述
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美商康寧公司
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Abstract

茲提供製品和製造製品的方法。製品包括具主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板，且抗反射塗層設置在主表面上面。抗反射塗層包括至少一層，此至少一層含有具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或有機基元。抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *）。

Description

具有半矽氧烷基抗反射塗層的玻璃、玻璃陶瓷及陶瓷製品以及製造其的方法
本申請案根據專利法法規主張西元2020年10月2日申請的美國臨時專利申請案第63/086,775號的優先權權益，本申請案依賴該臨時申請案全文內容且該臨時申請案全文內容以引用方式併入本文中。
本揭示內容大體係關於包括半矽氧烷基抗反射塗層的玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷製品及製造其的方法。
玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷材料在許多消費性電子產品的各種顯示器和顯示裝置中十分普遍。例如，化學強化玻璃受到許多觸控螢幕產品青睞，包括手機、音樂播放器、電子書閱讀器、筆記型電腦、平板電腦、膝上型電腦、自動櫃員機和其他類似裝置。許多玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷材料亦用於不具觸控螢幕能力、但經常遭人直接觸碰的消費性電子產品的顯示器和顯示裝置，包括桌上型電腦、膝上型電腦、電梯螢幕、設備顯示器等。
玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷材料通常基於材料的最終用途應用處理以提供期望美觀和功能特性。例如，抗反射、防眩光和抗指紋處理為用於觸控螢幕產品用材料的常見處理。例如，抗反射塗層可用於減低顯示器反射光對顯示器的清晰度及/或可見度的影響。習知抗反射塗層可由單層抗反射塗層或具不同折射率的多層抗反射塗層組成，以產生破壞性干涉而減少顯示器反射光。通常，單層抗反射塗層在單一波長下為最佳，通常是在電磁光譜的可見區中間（約550奈米（nm））。多層抗反射塗層在一定波長範圍可更有效，例如電磁光譜的可見區（約400 nm 至700 nm）。
多層抗反射塗層一般利用多個真空塗佈、退火及/或燒結步驟製造，此可能將多層抗反射塗層的用途限定在小面積應用，例如小面積雷射、電子和光學應用。大面積真空塗佈系統相關成本可能使多層抗反射塗層的用途限制在期製造更大面積塗層的應用。相比之下，單層抗反射塗層可使用低成本的液體沉積技術沉積，例如噴塗和浸塗。例如，MgF 2、SiO 2和CaF 2係習知單層抗反射塗層材料，可利用噴塗或浸塗技術沉積。然使用非真空液體基礎沉積技術形成具此類材料的塗層時一般得到的材料性質和孔隙率往往造成抗反射塗層不具期望耐久度。
鑑於以上考量，需要可形成具期望耐久度的單層抗反射塗層或多層抗反射塗層堆疊的抗反射塗層。另需此類抗反射塗層可以利用液體基礎非真空沉積技術形成。
根據本揭示內容的一實施例，製品包括具主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板和設置在主表面上面的抗反射塗層，抗反射塗層包括至少一層，此至少一層包含具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷（SSQ），其中R係氫或有機基元。抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中反射色移（Δ C j *）係依據式(I)測定：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本揭示內容的另一實施例，製品包括包含主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板、設置在主表面上面的抗反射塗層，抗反射塗層包括至少一層，此至少一層包含具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷（SSQ），其中R係氫或有機基元，及設置在抗反射塗層上面的易潔（ETC）塗層，ETC塗層包含氟化材料和約1 nm至約20 nm的物理厚度。抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中反射色移（Δ C j *）係依據式(I)測定：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本揭示內容的又一實施例，提供製造製品的方法。方法包括沉積溶液至玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板的主表面，溶液包含具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷（SSQ），其中R係氫或有機基元，及使在玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板的主表面的溶液固化，以於主表面形成抗反射塗層。抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中反射色移（Δ C j *）係依據式(I)測定：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
熟諳此技術者在研讀以下說明書、申請專利範圍和附圖後將能理解及領會本揭示內容的上述和其他態樣、目的與特徵。
在以下詳細敘述中，出於解釋、而非限制目的，提出揭示特定細節的示例性實施例，以提供對本揭示內容的各種原理的徹底理解。然受惠本揭示內容的一般技術人士將明白本揭示內容可以背離所述特定細節的其他實施例實踐。再者，熟知的裝置、方法和材料敘述可省略，以免混淆本揭示內容的各種原理描述。最後，盡可能以相同的元件符號指代相似的元件。
除非明確指出，否則本文提及的任何方法不擬解釋成需按特定順序進行方法步驟。是以當方法請求項未實際敘述步驟依循順序，或申請專利範圍或實施方式未具體指出步驟限於特定順序時，不擬在任何方面推斷順序。此適用任何可能的非明示解釋基礎，包括：步驟安排或操作流程相關邏輯事態；從語法組織或標點衍生的顯然意義；及說明書所述實施例數量或類型。
本文所用術語「及/或」用於列舉二或更多項目時意指可單獨使用所列任一項目，或可採用所列二或更多項目的任何組合物。例如，若組成物描述為含有組分A、B及/或C，則組成物可只含A、只含B、只含C，含有A與B組合物、A與C組合物、B與C組合物、或A、B與C組合物。
熟諳此技術者和製造或使用本揭示內容的人士當可修改本揭示內容。故應理解圖示及上述實施例僅為說明之用且無意限定本發明範圍，此根據專利法原則釋義，包括均等論，以後附申請專利範圍所界定者為準。
在本文中，諸如第一和第二、頂部和底部等關係術語僅用於區別某一實體或動作與另一實體或動作，而非必然要求或暗示實體或動作間的任何實際關係或順序。術語「包含」或任何其他變體字擬涵蓋非排他內含物，是以包含列舉元件的製程、方法、製品或設備不只包括列舉元件，還可包括未明確列出或製程、方法、製品或設備固有的其他元件。以「包含」開頭的元件在無更多限制下不排除包含該元件的製程、方法、製品或設備存有附加相同元件。
本文所用術語「約」意指用量、尺寸、配方、參數和其他數量與特性並非且未必精確，而是近似值及/或視反映容差、轉換因子、四捨五入、測量誤差等和熟諳此技術者已知其他因子要求為更大或更小。術語「約」用於描述數值或範圍端點時，應理解此描述包括指稱特定值或端點。無論說明書的數值或範圍端點是否陳述「約」，該數值或範圍端點擬包括兩個實施例：一個用「約」修飾，另一個未用「約」修飾。更應理解各範圍的端點相對另一端點係有意義的，並且獨立於另一終點。
術語「由…形成」可指「包含」、「本質由…組成」或「由…組成」中的一或更多者。例如，由特定材料形成的部件可包含特定材料、本質由特定材料組成或由特定材料組成。
本文所用術語「製品」、「玻璃製品」、「陶瓷製品」、「玻璃陶瓷」、「玻璃元件」、「一玻璃陶瓷製品」和「多個玻璃陶瓷製品」可互換使用，並就最廣義來說包括整體或部分由玻璃及/或玻璃陶瓷材料製成的任何物件。
本文所用術語「設置」係指層或子層經塗覆、沉積、形成或以其他方式提供至表面上。術語「設置」可包括將層/子層提供以直接接觸相鄰層/子層，或使層/子層由中間材料隔開，中間材料可以或可不形成層。
除非另行指出，否則本文所述樣品係使用PerkinElmer, Inc. Lambda 950 UV/Vis/NIR分光光度計系統進行光學特性化。系統依據ASTM推薦程序，使用絕對物理標準或可追溯到美國國家標準與技術研究院（NIST）的標準定期校正。除非另行指明，否則本文記述的全反射率、鏡面反射率和平均反射率值為第一表面反射率值，即測量樣品包括的基板僅於基板一側具有塗層。
在此，樣品的第一表面反射色移Δ Cj*係依據式(I)，就各入射角（AOI） j計算：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。除非另行指出，否則色移係使用D65照明器測量及計算。第一表面反射率和反射顏色係藉由使用折射率匹配油將樣品的背面耦合到黑色玻璃吸收體來消除背面反射率影響而測量。除非另有說明，否則測量反射率和反射顏色值包括玻璃基板、SSQ層和ETC層。
本文所用「鋼絲絨磨損測試」係用於測定沉積在關注基板上的易潔（ETC）塗層的耐久性測試。除非另行指出，否則本文記述鋼絲絨磨損測試資料測定如下。先將鋼絲絨（Bonstar #0000）切成條狀（25毫米（mm）×12 mm），然後放到一片鋁箔上，在烤箱中以100℃烘烤2小時。使用束帶把鋼絲絨條套合到磨損試驗機（5750, Taber Industries）的附件（10 mm×10 mm）。將總計720克的重量加至塔柏（Taber）臂上，以產生1公斤（kg）的總施加負載。划幅長度設定為25 mm，速度設定為每分鐘40次循環。待磨損區域標記在樣品背面以供追蹤。通常，每一樣品配合兩個軌跡，某一個軌跡運行2000次循環，第二個軌跡運行3000次循環。磨損測試完成後，便利用靜態水接觸角來特性化樣品。不受理論約束，平均接觸角隨時間變化較小表示測量塗層的耐久性提高。高接觸角（例如大於80度、大於90度或甚至100度）表示存有ETC層。接觸角減至70度以下據證與ETC層損失有關。
本揭示內容的實施例係關於製品和製造製品的方法，製品包括具主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板和包括含半矽氧烷材料層的抗反射塗層，例如具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或有機基元，並設置在主表面上面。抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *）。依沉積至半矽氧烷基抗反射塗層上面的易潔（ETC）層的耐磨性特徵，本揭示內容的半矽氧烷基抗反射塗層具有適合耐磨性。在一些實施例中，ETC層可含有疏水性及/或水角（water angle）大於90度的矽烷或氟矽烷材料。
本文所述製品可併入裝置製品，例如具顯示器的裝置製品（或顯示裝置製品），非限定實例包括消費性電子產品（包括行動電話、平板電腦、電腦、導航系統、穿戴式裝置，例如手錶等）、建築裝置製品、運輸裝置製品（例如汽車、火車、飛機、船舶等）和電器裝置製品。
參照第1圖，其圖示根據本揭示內容的一態樣的製品10。製品10可包括基板12，基板包括玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷組成物。製品10可包括一對相對主表面：第一主表面14和第二主表面16。光學膜20設置在第一主表面14和第二主表面16的至少一者上。雖然光學膜20圖示為僅設置在第一主表面14，但本揭示內容的態樣包括將光學膜20設置在第二主表面16、或第一主表面14與第二主表面16二者上。光學膜20包括含有具式(RSiO 3/2) n的半矽氧烷的至少一抗反射塗層22，其中R係氫或有機基元。至少一抗反射塗層22可定義光學膜20的外表面24。易潔（ETC）塗層40可直接設置在抗反射塗層22的外表面24。ETC塗層40包括外表面42，此可定義製品10的塗覆表面。不受理論約束，咸信半矽氧烷層與ETC層間優先鍵結形成可促成ETC層和整個塗層結構的高耐久性，此如依據摩擦磨耗測試測量，例如本文所述鋼絲絨測試。
光學膜20包括至少一抗反射塗層22，在一些實施例中可包括形成抗反射堆疊的多個抗反射塗層。選擇性地，光學膜20可包括適於提供製品10期望光學性質的一或更多附加層/子層及/或塗層。光學膜20的附加非限定組分實例包括防眩光塗層、耐刮塗層、阻抗匹配層及上述組合物。在一些實施例中，光學膜20可包括一或更多附加層/子層及/或塗層並設置在至少一抗反射塗層22與基板12的第一主表面14之間。在一些實施例中，抗反射塗層22可為包括高折射率（n）材料層（n＞1.6）和低折射率材料層（n＜1.55）的抗反射堆疊。適合的高折射率材料實例可含有TiO 2、Nb 2O 5、Ta 2O 5、HfO 2、Al 2O 3、Si 3N 4、SiN x、SiO xN y、AlN、AlO xN y、SiAluO xN y及上述混合物。適合的低折射率材料實例可含有SiO 2、MgF 2、SiO xN y、矽氧烷、半矽氧烷及上述混合物。在此類堆疊中，最外層通常為本文別處所述ETC層，鄰接最外面ETC層的第二層通常為根據本揭示內容實施例的含半矽氧烷層。各層的厚度一般在約10 nm至約150 nm的範圍內。在一些實施例中，較佳為較少層數，例如少於10、少於6或少於5層，例如基於實用及/或成本考量。雖然基於成本考量，較佳為簡易2層系統（僅SSQ和ETC），但具3或更多層的多層系統可思忖用於需特定光學性能等級的應用，例如在寬波長帶的較低反射率。例如，當光學性能要求在450 nm至650 nm的平均或450 nm至650 nm內所有波長的反射率小於1.0%時，可採用具3或更多層的多層系統。故除了本揭示內容的SSQ和ETC層，還可依需求選擇光學膜20的確切本性，即存有材料及/或層數，以提供具期望光學性質的光學膜20。
在一些實施例中，基板12包括玻璃組成物。基板12例如可包括硼矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、化學強化硼矽酸鹽玻璃、化學強化鋁矽酸鹽玻璃或化學強化鈉鈣玻璃。基板可具有選定長度和寬度或直徑，以定義基板表面積。基板在基板12的第一主表面14與第二主表面16間可具有由基板長度和寬度或直徑定義的至少一邊緣。
在一些實施例中，基板12包括兼具玻璃相與陶瓷相的玻璃陶瓷材料。說明性玻璃陶瓷包括玻璃相由矽酸鹽、硼矽酸鹽、鋁矽酸鹽或硼鋁矽酸鹽形成且陶瓷相由β-鋰輝石、β-石英、霞石、六方鉀霞石或三斜霞石形成的材料。「玻璃陶瓷」包括經由控制玻璃結晶製造的材料。適合的玻璃陶瓷實例可包括Li 2O-Al 2O 3-SiO 2系統（即LAS系統）玻璃陶瓷、MgO-Al 2O 3-SiO 2系統（即MAS系統）玻璃陶瓷、ZnO×Al 2O 3×nSiO 2（即ZAS系統）及/或包括主要晶相包括β-石英固溶體、β-鋰輝石、堇青石和二矽酸鋰的玻璃陶瓷。玻璃陶瓷基板可利用化學強化製程強化。
在一些實施例中，基板12包括陶瓷材料，例如無機結晶氧化物、氮化物、碳化物、氮氧化物、碳氮化物及/或類似物。說明性陶瓷包括具氧化鋁、鈦酸鋁、莫來石、堇青石、鋯石、尖晶石、鈣鈦礦、氧化鋯、氧化鈰、碳化矽、氮化矽、氮氧化矽鋁或沸石相的材料。
至少部分基於製品10的擬定應用，基板12可具有任何適合厚度。在一些實施例中，基板12的厚度可為約10微米（μm）至約5毫米（mm）和其間任何範圍或子範圍。例如，基板12的厚度可為約10 µm至約5 mm、約10 µm至約4 mm、約10 µm至約3 mm、約10 µm至約2 mm、約10 µm至約1 mm、約10 µm至約500 µm、約10 µm至約250 µm、約10 µm至約100 µm、約100 µm至約5 mm、約100 µm至約4 mm、約100 µm至約3 mm、約100 µm至約2 mm、約100 µm至約1 mm、約100 µm至約500 µm、約100 µm至約250 µm、約250 µm至約5 mm、約250 µm至約4 mm、約250 µm至約3 mm、約250 µm至約2 mm、約250 µm至約1 mm、約250 µm至約500 µm、約500 µm至約5 mm、約500 µm至約4 mm、約500 µm至約3 mm、約500 µm至約2 mm、約500 µm至約1 mm、約1mm至約5 mm、約1 mm至約4 mm、約1 mm至約3 mm或約2 mm至約5 mm。
根據本揭示內容的一實施例，抗反射塗層22含有包括半矽氧烷材料的層。在一些實施例中，抗反射塗層22由含有半矽氧烷材料的溶液形成，溶液經旋塗至預定基板上、然後固化。抗反射塗層22的半矽氧烷材料以式[RSiO 3/2] n表示，其中R係H或有機基元，例如烷基、芳基或烷氧基。在一些實施例中，半矽氧烷材料係多面體寡聚半矽氧烷材料（亦稱作POSS）。在一些實例中，半矽氧烷材料可具有具Si-O-Si鏈結和四面體Si頂點的籠狀或聚合結構。在一些實例中，半矽氧烷可形成6、8、10或12個矽頂點，其中每一矽中心鍵接三個側氧基，側氧基又連接至其他矽中心。一示例性半矽氧烷材料為氫半矽氧烷(HSQ)，其中R係氫。
至少部分基於擬定應用及/或製品的其他部件，例如ETC塗層40，抗反射塗層22可具有約3 nm至高達數百奈米的物理厚度。例如，抗反射塗層22的物理厚度可為至少10 nm、至少15nm、至少50 nm、至少100 nm、至少500 nm或至少1 μm。在一些實施例中，抗反射塗層22可具有約10 nm至約150 nm的物理厚度。例如，抗反射塗層22的物理厚度可為約10 nm至約150 nm、約20 nm至約150 nm、約50 nm至約150 nm、約75 nm至約150 nm、約100 nm至約150 nm、約125 nm至約150 nm、約10 nm至約125 nm、約20 nm至約125 nm、約50 nm至約125 nm、約75 nm至約125 nm、約100 nm至約125 nm、約10 nm至約100 nm、約20 nm至約100 nm、約50 nm至約100 nm、約75 nm至約100 nm、約10 nm至約75 nm、約20 nm至約75 nm、約50 nm至約75 nm、約10 nm至約50 nm或約20 nm至約50 nm。在一些實施例中，抗反射塗層22的厚度可為材料中的可見光波長的約1/4，此一般對應約75 nm至約125 nm的物理厚度。
在一些實施例中，抗反射塗層22的特徵在於依550 nm處測量的折射率為約1.2至約1.6。例如，抗反射塗層22依550 nm處測量的折射率可為約1.2至約1.6、約1.25至約1.6、約1.3至約1.6、約1.35至約1.6、約1.4至約1.6、約1.45至約1.6、約1.5至約1.6、約1.55至約1.6、約1.2至約1.55、約1.25至約1.55、約1.3至約1.55、約1.35至約1.55、約1.37至約1.52、約1.4至約1.55、約1.45至約1.55、約1.2至約1.5、約1.25至約1.5、約1.3至約1.5、約1.35至約1.5、約1.4至約1.5、約1.45至約1.5、約1.2至約1.45、約1.25至約1.45、約1.3至約1.45、約1.35至約1.45、約1.4至約1.45、約1.2至約1.4、約1.25至約1.4、約1.3至約1.4、約1.35至約1.4、約1.2至約1.35、約1.25至約1.35或約1.3至約1.35。在一些實例中，抗反射塗層依550 nm處測量的折射率可為約1.2、約1.25、約1.3、約1.325、約1.363、約1.368、約1.383、約1.35、約1.37、約1.4、約1.45、約1.5、約1.52、約1.55、約1.6或上述值間的任一折射率。
在一些實施例中，抗反射塗層22的特徵可在於對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長的第一表面反射率為小於約2%。本文所用第一表面反射率包括鏡面和全反射率。例如，抗反射塗層22的特徵可在於對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長的第一表面反射率為小於約2%、小於約1.8%、小於約1.6%、小於約1.5%或小於約1.0%。
在一些實施例中，抗反射塗層22的特徵可在於依450 nm至650 nm處測量的平均反射率為小於約2%。例如，抗反射塗層22依450 nm至650 nm處測量的平均反射率可為小於約2%、小於約1.8%、小於約1.6%或小於約1.5%。除非另行指出，否則本文記述平均反射率值係如上所述測量。
在本揭示內容的一些態樣中，當從一定角度範圍觀看時，抗反射塗層22反射的光顏色呈現很少或無顏色變化，即當從不同角度觀看時，反射光的顏色展現穩定性。在一定角度範圍內觀察時，抗反射塗層22反射的光顏色穩定性可藉由依據式(I)測定於一定角度範圍內的各入射角（AOI） j的第一表面色移（Δ C j *）來表示，即CIE LAB顏色變化Δ C*。在一些實施例中，抗反射塗層22的特徵可在於依據式(I)，於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j的第一表面反射色移（Δ C j *）為15或以下。例如，抗反射塗層22的特徵可在於依據式(I)，於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j的第一表面反射色移（Δ C j *）為15或以下、12或以下、10或以下、8或以下、6或以下、5或以下、4或以下、或3或以下。在一些實施例中，抗反射塗層22的特徵可在於依據式(I)，於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j的第一表面反射色移（Δ C j *）為15或以下。例如，抗反射塗層22的特徵可在於依據式(I)，於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j的第一表面反射色移（Δ C j *）為15或以下、12或以下、10或以下、8或以下、6或以下、5或以下、4或以下、或3或以下。
在一些實施例中，抗反射塗層22的特徵可在於孔隙率為約15%至約30%。例如，抗反射塗層22的孔隙率可為約15%至約30%、約17%至約30%、約19%至約30%、約20%至約30%、約21%至約30%、約22%至約30%、約23%至約30%、約15%至約25%、約17%至約25%、約19%至約25%、約20%至約25%、約21%至約25%、約22%至約25%、約23%至約25%、約15%至約23%、約17%至約23%、約19%至約23%、約20%至約23%、約21%至約23%、約15%至約22%、約17%至約22%、約19%至約22%、約20%至約22%、約15%至約21%、約17%至約21%、約19%至約21%、約15%至約20%、約17%至約20%、約19%至約20%、約15%至約19%、約17%至約19%。在一些實例中，抗反射塗層22的孔隙率為約15%、約17%、約17.1%、約19%、約20%、約20.2%、約21%、約21.3%、約22%、約23%、約24%、約25%、約26%、約27%、約28%、約29%、約29.2%、約30%或上述值間的任一孔隙率。
根據本揭示內容的實施例，光學塗層20可包括含固化半矽氧烷材料的單一抗反射塗層22或多層抗反射塗層22。在一些實例中，光學塗層20可包括多個抗反射塗層22，且可具有相同或不同的厚度、半矽氧烷材料、孔隙率及/或折射率。在一些實例中，光學塗層20可包括多個抗反射塗層22，其中每一抗反射塗層22係利用相同或不同處理條件形成，實例包括半矽氧烷材料濃度、沉積溶劑、固化條件（例如固化溫度及/或時間）及/或添加劑的類型和濃度（例如成孔劑）。材料和處理條件可選擇以提供具期望光學性質的一或更多抗反射塗層，例如具期望最小反射率值、以期望波長為中心的最小反射率值及/或在預定波長範圍內的期望平均反射率值的期望折射率及/或反射率分佈。
易潔（ETC）塗層40可直接設置在抗反射塗層22的外表面24。在一些實施例中，ETC塗層40可包括任何適合聚合物材料及/或氟化材料，實例包括具矽烷基元的氟化材料、氟醚矽烷、全氟聚醚（PFPE）矽烷、全氟烷基醚和PFPE油。根據一態樣，ETC塗層40的物理厚度為約1 nm至約20 nm。在其他態樣中，ETC塗層40的物理厚度為約1 nm至約20 nm、約2 nm至約10 nm、約3 nm至約10 nm、約4 nm至約10 nm、約5 nm至約10 nm、約1 nm至約200 nm、約1 nm至約100 nm、約1 nm至約50 nm、約2 nm至約200 nm、約2 nm至約100 nm、約2 nm至約50 nm、約5 nm至約200 nm、約5 nm至約100 nm、約5 nm至約50 nm、約1 nm至約2nm、約1 nm至約3 nm、約1 nm至約4 nm、約1 nm至約5 nm、約2 nm至約3 nm、約2 nm至約4 nm或約2 nm至約5 nm。例如，ETC塗層40的物理厚度可為約1 nm、約2 nm、約3 nm、約4 nm、約5 nm、約10 nm、約15 nm、約20 nm、約50 nm、約100 nm、約200 nm或上述值間的任一物理厚度。在一些實例中，ETC塗層40可為垂直或水平安置在抗反射塗層22的外表面24的單層。
根據一些實施例，ETC塗層40可以依上述鋼絲絨磨損測試測定的耐久性特性化。根據本揭示內容的一態樣，ETC塗層40在1 kg負載下經2000次往復循環後與水的平均接觸角可為至少約80度、至少約90度、至少約100度、至少約105度或至少約110度。在一些態樣中，ETC塗層40依據鋼絲絨磨損測試在1 kg負載下經3000次往復循環後與水的平均接觸角為至少約100度、至少約105度或至少約110度。
參照第2圖，其圖示根據本揭示內容的一實施例，用於形成製品的方法100。方法100可用於形成製品，例如上述第1圖相關製品10，製品包括根據本揭示內容的抗反射塗層22。方法100可用於提供含半矽氧烷材料並具期望厚度與光學性質的抗反射塗層22，實例包括所述期望折射率、第一表面反射率、平均反射率及/或第一表面色移（Δ C 0 *）。
方法100可包括沉積含半矽氧烷材料的溶液至樣品上的步驟102。至於第1圖的示例性實施例，溶液可直接沉積至基板12上或已沉積於基板12上的光學膜20的組分上。在步驟102中沉積的溶液組分，例如半矽氧烷材料類型、半矽氧烷材料濃度、溶劑和選擇性添加劑，可選擇以提供固化後具有期望厚度與光學性質的抗反射塗層22。例如，在一些實施例中，在步驟102中沉積的溶液可包括按重量計約0.2%至約2%（重量%）的半矽氧烷材料。在一些實例中，溶液包括約0.2重量%至約2重量%、約0.5重量%至約2重量%、約0.75重量%至約2重量%、約1重量%至約2重量%、約1.25重量%至約2重量%、約1.5重量%至約2重量%、約1.75重量%至約2重量%、約0.2重量%至約1.75重量%、約0.5重量%至約1.75重量%、約0.75重量%至約1.75重量%、約1重量%至約1.75重量%、約1.25重量%至約1.75重量%、約1.5重量%至約1.75重量%、約0.2重量%至約1.5重量%、約0.5重量%至約1.5重量%、約0.75重量%至約1.5重量%、約1重量%至約1.5重量%、約1.25重量%至約1.5重量%、約0.2重量%至約1.25重量%、約0.5重量%至約1.25重量%、約0.75重量%至約1.25重量%、約1重量%至約1.25重量%、約0.2重量%至約1重量%、約0.5重量%至約1重量%、約0.75重量%至約1重量%、約0.2重量%至約0.75重量%或約0.5重量%至約0.75重量%的半矽氧烷材料。
至於上述製品10的基板12，基板12可為玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料。本文所述光學膜20的選擇性組分可根據用於沉積此類材料的任何習知方法提供至基板12上，實例包括物理氣相沉積（「PVD」）、電子束沉積（「e-beam」或「EB」）、離子輔助沉積-EB（「IAD-EB」）、雷射剝蝕、真空電弧沉積、濺射、電漿加強化學氣相沉積（PECVD）。
含半矽氧烷材料的溶液可以任何適合方式沉積，以提供具期望厚度的材料層。根據一實施例，半矽氧烷材料可利用液體基非真空技術沉積，例如噴塗和旋塗。在示例性實施例中，將溶液旋塗至樣品上。溶液量、旋塗速度和旋塗時間可選擇以提供具期望厚度的材料層。
在一些實施例中，在步驟102中沉積的溶液可包括成孔劑。成孔劑可存於溶液中做為添加劑及/或攙入半矽氧烷材料內。例如，成孔劑可為存於溶液的小有機分子及/或構成至少部分半矽氧烷材料的有機官能基。在另一實例中，成孔劑可為大分子，例如環糊精或聚氧化乙烯，此可在固化後賦予塗層孔隙。不期受任何理論限制，咸信有機材料在固化期間可能燒盡，此會影響固化塗層的孔隙率，還會影響固化塗層的折射率。例如，HSQ係根據本揭示內容具式(RSiO 3/2) n的半矽氧烷材料一例，其中R係氫。相較於HSQ，具有有機基元做為R基團的POSS可賦予固化塗層不同的孔隙率，此可提供具不同光學性質的抗反射塗層22。成孔劑的附加實例可包括陽離子或陰離子界面活性劑（例如進一步描述於Huo、Qisheng等人之「”Generalized synthesis of periodic surfactant/inorganic composite materials”; Nature 368.6469 (1994): 317-321」）或嵌段共聚物（例如進一步描述於Yang、Peidong等人之「”Generalized syntheses of large-pore mesoporous metal oxides with semicrystalline frameworks”; Nature 396.6707 (1998): 152-155」和Zhao、Dongyuan等人之「”Triblock copolymer syntheses of mesoporous silica with periodic 50 to 300 angstrom pores”; Science 279.5350 (1998): 548-552)」）。
在步驟104中，可使在步驟102中沉積的溶液固化，以形成抗反射塗層22。固化製程可包括熱固化或其他固化處理技術，實例包括電子束固化。在一些實施例中，在步驟104中的固化條件可包括以適合固化溶液而形成具期望光學性質的抗反射塗層22的時間和溫度加熱沉積溶液。例如，在步驟104中的固化可包括藉由加熱溶液達約400℃至約800℃的溫度來熱固化沉積溶液。例如，固化步驟104可包括加熱溶液達約400℃至約800℃、約500℃至約800℃、約600℃至約800℃、約700℃至約800℃、約400℃至約700℃、約500℃至約700℃、約600℃至約700℃、約400℃至約600℃、約500℃至約600℃或約400℃至約500℃的溫度。
在一些實施例中，步驟104期間的固化條件可選擇以提供具期望折射率的固化抗反射塗層22。例如，本揭示內容的一些半矽氧烷材料的特徵在於隨固化溫度變化的折射率。第3圖圖示示例性HSQ膜的作圖，並顯示在三個不同膜厚（300 nm、500 nm和800 nm）下折射率（依550 nm處測量）與固化溫度間的關係。從第3圖可知，大體而言，隨著固化溫度升高，固化HSQ膜的折射率亦隨之提高。在一些實例中，可測定根據本揭示內容的特定半矽氧烷材料的折射率、固化溫度與固化膜厚間的關係，此資訊可用於選擇在步驟104中的固化條件，以提供具期望厚度與光學性質的固化抗反射塗層22。
選擇性地，方法100可包括步驟106，其中適合形成ETC塗層40的聚合及/或氟化材料可形成在抗反射塗層22上。聚合及/或氟化材料可為上述用於形成ETC塗層40的任何材料。聚合及/或氟化材料可以任何適合方式沉積，實例包括旋塗、噴塗等。聚合及/或氟化材料可在步驟106中沉積，且可加熱製品使聚合及/或氟化材料固化而形成ETC塗層40。選擇性地，在施用聚合及/或氟化材料前，可電漿處理在步驟104中形成抗反射塗層22的外表面。在步驟106中的固化可包括以適合固化沉積聚合及/或氟化材料而形成ETC塗層40的時間和溫度加熱製品。例如，可將全氟聚醚（PFPE）溶液噴塗至抗反射塗層22上及以約150℃固化而形成ETC塗層40。
本揭示內容的實施例提供使用半矽氧烷材料以形成抗反射塗層的材料和方法。本文所述半矽氧烷材料可形成具光學性質的抗反射塗層，例如折射率和反射性質，此適用許多應用，包括用於顯示器和紅外攝影機應用。本文所述半矽氧烷材料可利用非真空液體基處理技術來形成抗反射塗層，此可替製造提供成本優勢，且可能擴展抗反射塗層用於其他應用。本文所述半矽氧烷材料亦提供基於諸如固化溫度、厚度、半矽氧烷材料類型（例如基於R基團單位）等固化條件及/或透過使用成孔劑（例如做為添加劑及/或做為半矽氧烷材料的組分）來調整抗反射塗層的折射率的能力。如利用上述鋼絲絨磨損測試測量，當結合ETC塗層使用時，本揭示內容的抗反射塗層亦展現足以用於許多應用的耐久性，例如顯示器。
實例
以下實例描述本揭示內容提供的各種特性和優點，且不擬限定本發明和後附申請專利範圍。
實例1
下表1列出使用HSQ形成示例性塗層的折射率和孔隙率（實例1A~1D）。實例1A~1D係藉由用溶劑連續稀釋按體積計25%（體積%）的HSQ溶液，以當旋塗於基板上時形成不同厚度的塗層而製備。HSQ採用FOx® 25（可取自Dow Corning）並使用Novec™ HFE 7200（可取自3M™）稀釋。將各稀釋液以表1所示濃度旋塗至玻璃基板上，接著在400℃下固化30分鐘。如表1所示，即使在不同塗層厚度下，實例1A~1D依550 nm處測量的折射率為約1.3（範圍從1.325到1.383）。 表1：HSQ塗層實例1A~1D
樣品 濃度 （體積%） 厚度 （nm） 折射率 （550 nm處） 孔隙率 （%）
實例1A 25 936.86 1.363 21.3
實例1B 2.5 111.89 1.368 20.2
實例1C 1 46.85 1.383 17.1
實例1D 0.25 15.81 1.325 29.2
實例2
第4~7圖圖示形成在兩個不同玻璃基板上的示例性抗反射塗層的反射率和色移資料。實例2A的樣品（標為「實例2A」）由含有HSQ且按不同厚度形成在折射率1.51（依550 nm處測量）的玻璃基板一側的抗反射塗層組成。實例2B的樣品（標為「實例2B」）由含有HSQ且按不同厚度形成在折射率1.7（依550 nm處測量）的玻璃基板一側的抗反射塗層組成。旋塗於基板上的HSQ濃度，以重量百分比（重量%）表示，代表固化後形成的塗層厚度。HSQ、稀釋溶劑與固化條件和上述實例1一樣。
第4圖圖示具有由含HSQ、濃度為0.33重量%、0.66重量%、0.77重量%、0.88重量%和1.0重量%的溶液形成抗反射塗層的實例2A的第一表面反射率。第5圖圖示具有由含HSQ、濃度為1.11重量%、1.22重量%、1.34重量%、1.52重量%和1.70重量%的溶液形成抗反射塗層的實例2B的第一表面反射率。從第4~5圖可知，實例2A與2B的抗反射塗層產生以不同波長為中心的單面反射曲線。各樣品的HSQ層的物理厚度可利用單層四分之一波長抗反射塗層的原理、測量反射波長最小值和1重量% HSQ層的已知折射率（依550 nm處測量）估計。為達本實例目的，可假定ETC層對厚度計算的影響為可忽略（例如，ETC層很薄，ETC層的折射率類似HSQ層）。故對於實例2A，HSQ層的物理厚度估計為約95 nm（厚度=(525 nm/4)/1.38）。實例2B的物理厚度估計約為103 nm（厚度=(571 nm/4)/1.38）。實例2A的抗反射塗層使玻璃基板的第一表面反射從約4降至約1.3的最小值（實例2A中的0.88重量%）。實例2B的抗反射塗層使玻璃基板的第一表面反射從約4降至約0.6的最小值（實例2B中的1.11重量%）。不期受任何理論限制，實例2B的玻璃基板的折射率高於實例2A，此可能有助於實例2B展現較低最小反射率。第4~5圖亦顯示實例2A與2B的抗反射塗層能降低高達約1000 nm波長處的寬帶反射率。降低寬帶反射率可用於採用紅外線攝影機的應用。在一些應用中，例如車輛和行動裝置的使用者追蹤，紅外線攝影機和光源通常設置在具抗反射塗層的基板後面。本揭示內容的抗反射塗層的寬帶反射率降低意味著本發明抗反射塗層可用於此類應用及其他。
第6及7圖分別圖示實例2A（0.88重量%）和實例2B（1.11重量%）的CIE LAB單面反射顏色資料。單面反射光顏色可使用CIE LAB色彩座標特性化。色彩空間中的 a*軸代表綠-紅顏色成分，其中負 a*值對應綠色，正 a*值對應紅色。色彩空間中的 b*軸代表藍-黃成分，其中負 b*值對應藍色，正 b*值對應黃色。 a*和 b*值離原點越近，觀者看到的反射光顏色越中性。CIE LAB a*和 b*值係藉由以8度至60度間的指定入射角（8°、15°、30°、45°和60°）照射樣品而測量。對於0至60度的入射角，樣品係用D65系列照明器（代表自然日光）在380 nm至770 nm的工作光學範圍內、以2 nm間隔照射。實例2A（0.88重量%）對於8至60度的所有入射角展現小於約3的色移（相距原點0.0的半徑3以內）。實例2B（1.11重量%）對於8至60度的所有入射角展現小於約12的色移（相距原點0.0的半徑12以內）。色移係基於上述測量的第一表面反射率值測定。
從第6及7圖可知，實例2A與2B的樣品均展現隨8度至60度視角變化的低單面反射色移。不期受任何理論約束，咸信實例2A（0.88重量%）的較高反射率可能與較實例2B（1.11重量%）低的角度色移有關。資料表示反射率與色移的最佳組合可基於擬定應用選擇，其中一些應用比起低角度色移可能更偏好低反射率，反之亦然。
以下非限定實施例為本揭示內容所涵蓋。至於尚未描述的範圍，下面實施例的任一特徵可部分或全部與本揭示內容的任一或更多其他實施例的特徵結合而形成附加實施例，即使此結合並未明確敘述。
根據本揭示內容的第一實施例，製品包含：包含主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板；及設置在主表面上面的抗反射塗層，抗反射塗層包括至少一層，此至少一層包含具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或有機基元，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中反射色移（Δ C j *）係依據式(I)測定：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第二實施例，如實施例1的製品，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現10或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中 a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第三實施例，如實施例1或實施例2的製品，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中 a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第四實施例，如實施例1~3中任一者之製品，其中抗反射塗層依550 nm處測量具有約1.2至約1.6的折射率。
根據本申請案的第五實施例，如實施例1~4中任一者之製品，其中抗反射塗層對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長具有小於約2%的第一表面反射率。
根據本申請案的第六實施例，如實施例1~5中任一者之製品，其中抗反射塗層依450 nm至650 nm處測量具有小於約2%的平均反射率。
根據本申請案的第七實施例，如實施例1~6中任一者之製品，其中抗反射塗層具有約15%至約30%的孔隙率。
根據本申請案的第八實施例，如實施例1~7中任一者之製品，其中抗反射塗層包含複數個層，其中每一層包含多面體寡聚半矽氧烷。
根據本申請案的第九實施例，製品包含：包含主表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板；設置在主表面上面的抗反射塗層，抗反射塗層包括至少一層，此至少一層包含具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或有機基元；及設置在抗反射塗層上面的易潔（ETC）塗層，ETC塗層包含氟化材料和約1 nm至約20 nm的物理厚度，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中反射色移（Δ C j *）係依據式(I)測定：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第十實施例，如實施例9的製品，其中依據鋼絲絨測試，ETC塗層包含在1 kg負載下經2000次往復循環後與水的平均接觸角為至少約100度。
根據本申請案的第十一實施例，如實施例9或實施例10的製品，其中抗反射塗層具有約10 nm至約150 nm的物理厚度。
根據本申請案的第十二實施例，如實施例9~11中任一者之製品，其中抗反射塗層依550 nm處測量具有約1.2至約1.6的折射率。
根據本申請案的第十三實施例，如實施例9~12中任一者之製品，其中抗反射塗層對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長具有小於約2%的第一表面反射率。
根據本申請案的第十四實施例，如實施例9~13中任一者之製品，其中抗反射塗層依450 nm至650 nm處測量具有小於約2%的平均反射率。
根據本申請案的第十五實施例，如實施例9~14中任一者之製品，其中抗反射塗層具有約15%至約30%的孔隙率。
根據本申請案的第十六實施例，如實施例9~15中任一者之製品，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中 a j *和 b j *為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第十七實施例，製造製品的方法包含：沉積溶液至玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板的主表面，溶液包含具式(RSiO 3/2) n的多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或有機基元；及使在玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板的主表面的溶液固化，以於主表面形成抗反射塗層，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ C j *），其中反射色移（Δ C j *）係依據式(I)測定：
Figure 02_image001
其中 a 0 *和 b 0 *分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和 b*值， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第十八實施例，如實施例17的方法，其中固化步驟包含熱固化或電子束固化之一。
根據本申請案的第十九實施例，如實施例18的方法，其中固化步驟包含以400℃至800℃的溫度熱固化溶液。
根據本申請案的第二十實施例，如實施例17~19中任一者之方法，其中溶液包含按重量計約0.2%至約2%的多面體寡聚半矽氧烷。
根據本申請案的第二十一實施例，如實施例17~20中任一者之方法，其中溶液進一步包含至少一成孔劑。
根據本申請案的第二十二實施例，如實施例17~21中任一者之方法，其中抗反射塗層於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI）j展現15或以下的第一表面反射色移（Δ Cj*），其中， a j *和 b j *為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
根據本申請案的第二十三實施例，如實施例17~22中任一者之方法，其中抗反射塗層依550 nm處測量具有約1.2至約1.6的折射率。
根據本申請案的第二十四實施例，如實施例17~23中任一者之方法，其中抗反射塗層對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長具有小於約2%的第一表面反射率。
根據本申請案的第二十五實施例，如實施例17~24中任一者之方法，其中抗反射塗層依450 nm至650 nm處測量具有小於約2%的平均反射率。
根據本申請案的第二十六實施例，如實施例17~25中任一者之方法，進一步包含：沉積易潔（ETC）塗層至抗反射塗層上面，ETC塗層包含氟化材料和約1 nm至約20 nm的物理厚度。
根據本申請案的第二十七實施例，如實施例26的方法，其中依據鋼絲絨測試，ETC塗層包含在1 kg負載下經2000次往復循環後與水的平均接觸角為至少約100度。
根據本申請案的第二十八實施例，如實施例17~27中任一者之方法，其中抗反射塗層具有約10 nm至約150 nm的厚度。
在不實質脫離本發明的精神和各種原理下，當可對本揭示內容的上述實施例作許多更動及潤飾。所有潤飾及更動擬包括在本發明範圍內並受到後附申請專利範圍保護。
至於尚未描述的範圍，本揭示內容的各種態樣的不同特徵可依需求彼此結合使用。特定特徵未明確圖示或描述於本發明的各個態樣並非意味著其不可行，只是便於簡潔扼要描述而已。故不同態樣的各種特徵可依需求混合及匹配而形成新態樣，無論新態樣是否明確揭示。
10:製品 12:基板 14,16:主表面 20:光學膜 22:抗反射塗層 24,42:外表面 40:ETC塗層 100:方法 102,104,106:步驟
在圖中：
第1圖係根據本揭示內容的實施例，製品的截面示意圖，製品包含具抗反射塗層和ETC塗層的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板；
第2圖係說明根據本揭示內容的實施例，在玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板上形成抗反射塗層的方法流程圖；
第3圖係根據本揭示內容的實施例，用於形成抗反射塗層的含氫半矽氧烷（HSQ）膜在不同膜厚下的折射率隨固化溫度變化圖（依550 nm處測量）；
第4圖係根據本揭示內容的實施例，含HSQ的抗反射塗層在不同濃度下於玻璃基板單側的第一表面反射光譜圖，玻璃基板的折射率為1.51（依550 nm處測量）；
第5圖係根據本揭示內容的實施例，含HSQ的抗反射塗層在不同濃度下於玻璃基板單側的第一表面反射光譜圖，玻璃基板的折射率為1.7（依550 nm處測量）；
第6圖係根據本揭示內容的實施例，第4圖含0.88重量% HSQ的抗反射塗層的CIE LAB色彩空間色值 a*與 b*隨入射角（AOI）變化圖；及
第7圖係根據本揭示內容的實施例，第5圖含1.11重量% HSQ的抗反射塗層的CIE LAB色彩空間色值 a*與 b*隨入射角（AOI）變化圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

Claims (28)

  1. 一種製品，包含： 一玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板，包含一主表面；及 一抗反射塗層，設置在該主表面上面，該抗反射塗層包含至少一層，該至少一層包含具式(RSiO 3/2) n的一多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或一有機基元，及 其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的一第一表面反射色移（ΔCj*），其中該反射色移（ΔCj*）係依據式(I)測定：
    Figure 03_image001
    其中a0*和b0*分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和b*值，aj*和bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
  2. 如請求項1所述之製品，其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現10或以下的一第一表面反射色移（Δ C j *），其中 a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
  3. 如請求項1所述之製品，其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的一第一表面反射色移（Δ C j *），其中 a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
  4. 如請求項1所述之製品，其中該抗反射塗層依550 nm處測量具有約1.2至約1.6的一折射率。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長具有小於約2%的一第一表面反射率。
  6. 如請求項1至4中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層依450 nm至650 nm處測量具有小於約2%的一平均反射率。
  7. 如請求項1至4中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層具有約15%至約30%的一孔隙率。
  8. 如請求項1至4中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層包含複數個層，其中每一層包含該多面體寡聚半矽氧烷。
  9. 一種製品，包含： 一玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板，包含一主表面； 一抗反射塗層，設置在該主表面上面，該抗反射塗層包含至少一層，該至少一層包含具式(RSiO 3/2) n的一多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或一有機基元；及 一易潔（ETC）塗層，設置在該抗反射塗層上面，該ETC塗層包含一氟化材料和約1 nm至約20 nm的一物理厚度，及 其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的一第一表面反射色移（ΔCj*），其中該反射色移（ΔCj*）係依據式(I)測定：
    Figure 03_image001
    其中a0*和b0*分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和b*值，aj*和bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和b*值。
  10. 如請求項9所述之製品，其中依據鋼絲絨測試，該ETC塗層包含在1 kg負載下經2000次往復循環後與水的一平均接觸角為至少約100度。
  11. 如請求項9或請求項10所述之製品，其中該抗反射塗層具有約10 nm至約150 nm的一物理厚度。
  12. 如請求項9所述之製品，其中該抗反射塗層依550 nm處測量具有約1.2至約1.6的一折射率。
  13. 如請求項9至12中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長具有小於約2%的一第一表面反射率。
  14. 如請求項9至12中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層依450 nm至650 nm處測量具有小於約2%的一平均反射率。
  15. 如請求項9至12中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層具有約15%至約30%的一孔隙率。
  16. 如請求項9至12中任一項所述之製品，其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的一第一表面反射色移（Δ C j *），其中 a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
  17. 一種製造製品的方法，包含： 沉積一溶液至一玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板的一主表面，該溶液包含具式(RSiO 3/2) n的一多面體寡聚半矽氧烷，其中R係氫或一有機基元；及 使在該玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基板的該主表面的該溶液固化，以於該主表面形成一抗反射塗層， 其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈8至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的一第一表面反射色移（ΔCj*），其中該反射色移（ΔCj*）係依據式(I)測定：
    Figure 03_image001
    其中a0*和b0*分別為AOI 0度時的CIE LAB a*和b*值，aj*和bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
  18. 如請求項17所述之方法，其中該固化步驟包含熱固化或電子束固化之一。
  19. 如請求項18所述之方法，其中該固化步驟包含以400℃至800℃的一溫度熱固化該溶液。
  20. 如請求項17所述之方法，其中該溶液包含按重量計約0.2%至約2%的一多面體寡聚半矽氧烷。
  21. 如請求項17所述之方法，其中該溶液進一步包含至少一成孔劑。
  22. 如請求項17至21中任一項所述之方法，其中該抗反射塗層於相對0度法線入射呈0至60度的各入射角（AOI） j展現15或以下的一第一表面反射色移（Δ C j *），其中， a j *和 bj*為AOI j度時的CIE LAB a*和 b*值。
  23. 如請求項17至21中任一項所述之方法，其中該抗反射塗層依550 nm處測量具有約1.2至約1.6的一折射率。
  24. 如請求項17至21中任一項所述之方法，其中該抗反射塗層對於400 nm至1000 nm範圍內的至少一波長具有小於約2%的一第一表面反射率。
  25. 如請求項17至21中任一項所述之方法，其中該抗反射塗層依450 nm至650 nm處測量具有小於約2%的一平均反射率。
  26. 如請求項17至21中任一項所述之方法，進一步包含： 沉積一易潔（ETC）塗層至該抗反射塗層上面，該ETC塗層包含一氟化材料和約1 nm至約20 nm的一物理厚度。
  27. 如請求項26所述之方法，其中依據鋼絲絨測試，該ETC塗層包含在1 kg負載下經2000次往復循環後與水的一平均接觸角為至少約100度。
  28. 如請求項17至21中任一項所述之方法，其中該抗反射塗層具有約10 nm至約150 nm的一厚度。
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