TW202200642A

TW202200642A - 具有提升熱穩定性的光學級別模制組成物

Info

Publication number: TW202200642A
Application number: TW110121027A
Authority: TW
Inventors: 瑞迪捷爾可爾洛夫
Original assignee: 德商羅姆有限公司
Priority date: 2020-06-26
Filing date: 2021-06-09
Publication date: 2022-01-01
Also published as: HUE061367T2; JP2023536219A; PL4041785T3; CA3184075A1; KR20230029861A; CN115734974A; BR112022026438A2; MY206459A; SI4041785T1; ES2941702T3; SA522441819B1; CN115734974B; JP7788410B2; US20230303740A1; WO2021259965A1; EP4041785A1; EP4041785B1; MX2022015882A

Abstract

本發明係關於一種具有提升耐熱性、高透明度及低濁度值之共聚物。本發明進一步係關於包含此共聚物之模制組成物及製造此共聚物之方法。本發明之模制組成物非常適合於製造用於各種光學裝置中之光學元件，該等光學裝置包括一級光學器件、二級光學器件、三級光學器件以及光導。

Description

具有提升熱穩定性的光學級別模制組成物

本發明係關於一種具有提升耐熱性、高透明度及低濁度值之共聚物。本發明進一步係關於包含此共聚物之模制組成物及一種用於製造此共聚物之方法。

本發明之模制組成物非常適合於製造用於各種光學裝置中之光學元件，該等光學裝置包括一級光學器件、二級光學器件、三級光學器件以及光導。

為簡單起見，包含來源於甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate；下文中MMA）之重複單元的共聚物通常稱為聚甲基丙烯酸甲酯（polymethyl methacrylate；下文中PMMA），其通常為具有高耐候性、尤其對太陽UV輻射具有高耐受性之透明材料。視需要，PMMA之耐候性甚至可藉由添加UV吸收劑、穩定劑及抑制劑進一步提升。因此，PMMA常用於需要高透明度、低濁度及高耐候性之應用中。

對於光學應用而言，對於具有尤其高耐熱性之聚合物亦存在不斷增長的需求。此等應用包括例如室內及戶外使用之光源，包含高功率LED，其中此類聚合物用作光導、光學透鏡等。為了增加LED之光輸出，將光學元件置放成非常接近於LED。LED表面，尤其所謂的白光高功率LED之操作溫度通常超過100℃或有時甚至130℃。因此，重要的是用於此等應用之材料具有較高透明度且尤其較低濁度值以及較高熱穩定性。另外，材料應具有高風化穩定性且在長期暴露於太陽輻射之後實質上不展示黃化跡象。

專利申請案EP 0113105 A1描述順丁烯二酸酐（maleic acid anhydride；下文MAH）、α-甲基苯乙烯及MMA之共聚物。儘管此材料具有極佳光學特性及良好熱穩定性，但其由於α-甲基苯乙烯中之芳族基僅具有中等風化穩定性且在長期暴露於太陽輻射時變得易脆。

此等缺點部分藉由EP 1 742 997中描述之模制組成物解決，該組成物包含PMMA及MAH、苯乙烯及MMA之三元共聚物。然而，對於採用較強高功率LED之應用，此模制組成物之熱穩定性及玻璃轉移溫度仍不夠高。此外，由於存在來源於苯乙烯之重複單元，此模制組成物之耐候性低於常用PMMA之耐候性。此外，具有包含來源於MAH之重複單元以及乙烯基芳族物之構建塊的共聚物通常與PMMA具有有限相容性。因此，可發生不合需要之相分離，伴隨發生顯著濁度增加。

US 2014/000801 A1描述一種共聚物，其可藉由使用連續本體聚合方法使(甲基)丙烯酸烷酯類單體、甲基丙烯酸苯甲酯及(甲基)丙烯酸單體反應獲得。亦已報告共聚物具有高熱穩定性。然而，若來源於共聚物中之(甲基)丙烯酸之重複單元的含量過高，則共聚物往往會遭受不合需要的高度吸水性且其藉助於注射模制之熱塑性處理由於對注射模具之較高黏著性而變得困難。此外，由於存在來源於甲基丙烯酸苯甲脂之重複單元，該材料尤其在升高的操作溫度下具有有限耐候性。

專利申請案JP H4-63810 A描述可藉由使MMA、MAH及2-降

烯（下文中2-NB）之混合物聚合獲得的共聚物。該文獻陳述此等共聚物之玻璃轉移溫度高於常用PMMA。在安瓿中分批製備JP H4-63810 A之共聚物，且在僅部分聚合之後，分離共聚物且藉由在甲醇中沈澱來分析。除簡要指示所獲得之共聚物為透明的之外，未提供關於其光學特性（諸如黃度係數、濁度或熔體體積速率（melt volume rate，MVR））之資訊。JP H4-63810 A之實施例1-3之共聚物中MAH之報告含量在沈澱聚合物中為21莫耳%及更高。

文獻FR 2 699 540 A1描述乙烯基單體a）（例如苯乙烯、氯乙烯或(甲基)丙烯酸甲酯）、降

烯單體b）及順丁烯二醯亞胺單體c）之透明共聚物，以及其產生之模制品。舉例而言，描述一種共聚物，其係藉由混合物之自由基溶液聚合獲得，該混合物包含79莫耳%甲基丙烯酸甲酯（MMA）、5莫耳%降

烯（norbornene，NB）及16莫耳% N-環己基順丁烯二醯亞胺（N-cyclohexyl maleimide，NCHMI）。一般言之，先前技術中熟知，2-NB無法藉由自由基聚合與MMA共聚（參見例如「Palladium(II)-catalysed polymerization of 5-norbornene-2- carboxylic acid esters and norbornene」, 由B. Heinz論述, Marburg 1998）。此外，已知MAH可藉由具有低活性之自由基聚合與MMA共聚（參見例如B.C. Trivedi, B.M. Culbertson Maleic anhydride, Plenum Press, 1982）。亦已報告，2-NB可與MAH自由基共聚（參見例如「Fundamental Aspects of Norbornene-Maleic-Anhydride Co and Terpolymers for 193 nm Lithography: Polymerization Chemistry and Polymer Properties」, Hiroshi Ito等人, Journal of Photopolymer Science and Technology, 2000, 第559-589頁）。然而，迄今尚未詳細研究及研發出製備包含MMA、2-NB及MAH之共聚物的方法。本發明之目標

在考慮上文所描述之缺點時，本發明之目標為提供一種具有極佳光學特性，尤其低濁度以及高熱穩定性之共聚物。此等特性將允許在光源（例如高功率白光LED）表面上具有較操作溫度之情況下使用聚合物。此外，聚合物在暴露於UV光及/或升高之溫度下時需要適合於長期使用，且需要具有低吸水性及極佳耐候性，特定言之，針對太陽輻射之高穩定性。

本發明之另一目標為提供一種以高效方式以工業規模制造該共聚物之方法。

本發明係基於以下出人意料之發現：一種共聚物，其包含 47.0至99.8莫耳%來源於甲基丙烯酸甲酯之重複單元 0.1至20.0莫耳%來源於由式（I）表示之化合物的重複單元

其中X由氧原子或N-R¹ 表示，該取代基R¹ 為氫原子或具有1至12個碳原子之烴基； 0.1至18.0莫耳%來源於由式（II）表示之化合物的重複單元

其中取代基R² 、R³ 及R⁴ 可獨立地由氫原子、具有1至12個碳原子之烴基、羧基、-C(O)-C1-12-烷基、-C(O)-C1-12-環烷基、-C(O)-O-C1-12-烷基或-C(O)-O-C1-12-環烷基表示；且其中R³ 及R⁴ 可獨立地由羥基表示或共同構建環狀部分；及 0.0至15.0莫耳%來源於視情況選用之共聚單體的重複單元，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚，該視情況選用之共聚單體較佳為(甲基)丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯腈或芳族乙烯基單體，使具有有利特性之所需組合。即使在熱穩定劑不存在下，此共聚物亦具有低濁度及出人意料地較高熱穩定性，且可因此在升高之溫度下用於光學應用。另外，共聚物具有極佳的長期戶外穩定性且即使在長時間戶外使用之後亦不展示實質上黃化跡象。

此等結果為出人意料的，因為來源於式（II）化合物之重複單元（諸如2-NB）的極性顯著不同於來源於式（I）化合物之重複單元（諸如MAH）的極性。來源於式（II）化合物之重複單元為實質上非極性的，而來源於式（I）化合物之重複單元由於存在酸酐基團或醯亞胺基團而為極性的。此外，預期在式（I）化合物與式（II）化合物之共聚期間，形成具有增加之硬度的結構域。因此，基於其公共常識，所屬技術領域中具有通常知識者通常期望例如MMA、MAH及2-NB之共聚物具有不透明外觀，亦即較高光學濁度。如本文所用之術語「光學濁度（optical haze）」係指在3.0 mm厚的試樣上根據標準ASTM D1003 - 13量測之值。

根據本發明，共聚物之質量平均分子量Mw為約40000至300000 g/mol、更佳50000至200000 g/mol。共聚物之數目平均分子量Mn較佳為20000至150000 g/mol，更佳25000至100000 g/mol。Mw及Mn之測定可例如藉助於凝膠滲透層析法（GPC）進行，例如使用PMMA作為校準標準物，及四氫呋喃（THF）與0.2體積%三氟乙酸（TFA）作為溶離劑。作為使用校準標準物之替代方案，散射偵測器亦可用於Mw超過100000 g/mol之共聚物（參見H. F. Mark等人, Encyclopaedia of Polymer Science and Engineering, 第2版, 第10卷, 第1頁及以下, J. Wiley, 1989）。適當GPC管柱可由所屬技術領域中具有通常知識者容易地選擇，例如HPS管柱。此類管柱例如可購自PSS Standards Service GmbH（Mainz, Germany）作為PSS SDV系列之管柱。如將易於瞭解，亦可採用若干GPC管柱之組合。

出人意料地，本發明者發現，若共聚物較佳包含以下，則本發明之共聚物之濁度值可進一步降低： 55.0至98.7莫耳%，較佳59至98.7莫耳%來源於甲基丙烯酸甲酯之重複單元； 1.0至18.0莫耳%來源於由式（I）表示之化合物的重複單元 0.3至15.0莫耳%來源於由式（II）表示之化合物的重複單元；及 0.0莫耳%至12.0莫耳%，較佳為0.0莫耳%至8.0莫耳%來源於視情況選用之共聚單體的重複單元。

此外，展示在光學特性方面選擇包含以下之共聚物甚至更為有利： 65.0至93.0莫耳%，較佳67.0至93.0莫耳%來源於甲基丙烯酸甲酯之重複單元； 5.0至16.0莫耳%來源於由式（I）表示之化合物之重複單元 2.0至12.0莫耳%來源於由式（II）表示之化合物之重複單元；及 0.0至7.0莫耳%，較佳地0.0至5.0莫耳%來源於視情況選用之共聚單體的重複單元。

本發明之共聚物之光學濁度亦可藉由小心調整來源於由式（I）表示之化合物的重複單元之含量與來源於由式（II）表示之化合物的重複單元之含量的比率而降低。特定言之，在一個較佳具體實例中，調整此等內容物以遵從以下關係：

其中p_I 為該共聚物中來源於由式（I）表示之化合物的重複單元之含量，以莫耳%為單位；且 p_II 為共聚物中來源於由式（II）表示之化合物的重複單元之含量，以莫耳%為單位。

此外，具有尤其低濁度值之共聚物可藉由將p_I 及p_II 調整至以下範圍來獲得：

較佳地為

在此上下文中，本發明者發現由於由式（II）表示之化合物（諸如2-NB）通常可與由式（I）表示之化合物（諸如MAH）進行自由基共聚，故大於0.9之莫耳比p_II /p_I 產生相對較長區段，該等區段由來源於由式（I）表示之化合物的交替重複單元及來源於由式（II）表示之化合物的重複單元組成。若共聚物之分子量Mw大於300000 g/mol或來源於由式（I）表示之化合物的重複單元之含量大於20.0莫耳%，則預期此等長鏈結構域與共聚物之丙烯酸組分的互溶性減小。此現象似乎造成在p_II /p_I 之莫耳比大於0.9下，尤其在來源於由式（II）表示之化合物的重複單元之含量高於18.0莫耳%的情況下之濁度值增加。

本發明之另一態樣係關於一種模制組成物，其包含本發明之共聚物及視情況至少一種選自以下之添加劑：UV吸收劑、UV穩定劑、抗氧化劑、著色劑、流動改良劑、抗靜電劑、潤滑劑及脫模助劑、散射顆粒、刮擦改良助劑等。

本發明之模制組成物具有極佳透明度及透明、實質上非混濁的外觀。特定言之，根據標準ASTM D1003（2013）在23℃下對厚度為3.0 mm之注射模制試樣量測的模制組成物之濁度通常低於5%，較佳低於3%，更佳低於2%，尤其較佳低於1%。此外，根據DIN 5033 - 7（2014），在23℃下在厚度為3.0 mm之注射模制試樣上量測，不具有顏色添加劑或著色顏料之模制組成物較佳展示85%至93%範圍內，更佳87%至92%範圍內之透光率T_D65 。

不具有顏色添加劑或著色顏料之模制組成物的黃度係數可根據DIN 6167（1980）（照明體D₆₅ ，在3.0 mm層厚度上10°）測定，其在不存在添加著色劑或顏料之情況下，在23℃下在厚度為3.0 mm之注射模制試樣上量測較佳應小於7，較佳小於5。

根據ISO 306-B50（2014）之模制組成物之維卡軟化溫度（Vicat softening temperature）有利地為至少90℃，較佳至少100℃，更佳至少110℃。

根據ISO 527（2012）之不具有抗衝擊改質劑之模制組成物之標稱斷裂伸長率較佳應為至少2.0%，尤其較佳為3.0%或更高。

若不存在抗衝擊改質劑，則根據ISO 527（2012）之模制組成物之彈性模數有利地大於3000 MPa，較佳大於3500 MPa。

由於本發明之模制組成物的有利流變特性，該模制組成物極適合於藉助於注射模制來製造光學元件。通常，本發明之組成物之熔體體積流動速率MVR在230℃及3.8 kg下根據ISO 1133（2012）量測為大於0.2 cm³ /10 min，較佳大於0.4 cm³ /10 min，最佳在0.6 cm³ /10 min至15.0 cm³ /10 min之範圍內。

形成本發明之共聚物之重複單元的單體將在下文中更詳細地描述：式（I）化合物

本發明之共聚物包含0.1至20.0莫耳%、較佳1.0至18.0莫耳%、更佳5.0至16.0莫耳%來源於由式（I）表示之化合物的重複單元

式（I）中之X可為氧原子或N-R¹ ，取代基R¹ 為氫原子或具有1至12個碳原子之烴基。

如本申請案中所用之術語「烴基（hydrocarbon group）」涵蓋烷基、環烷基、芳基、芳烷基、烷芳基。此等基團可為分支鏈或未分支鏈的。另外，此等基團可具有一或若干個取代基。取代基為例如具有1至6個碳原子之直鏈及分支鏈烷基，例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、2-甲基丁基或己基；環烷基，例如環戊基及環己基；芳族基，諸如苯基或萘基。使用為烷基或環烷基之取代基R¹ 展示就所得共聚物之風化穩定性而言尤其有利。

較佳烷基包括甲基、乙基、丙基、異丙基、1-丁基、2-丁基、2-甲基丙基、三級丁基、戊基、2-甲基丁基、1,1-二甲基丙基、己基、庚基、辛基、1,1,3,3-四甲基丁基、壬基、1-癸基、2-癸基、十一烷基及十二烷基。較佳環烷基包括環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基及環辛基，其中之每一者可視情況經一或若干個分支鏈或未分支鏈烷基取代。根據本發明較佳之芳族基可來源於苯基、萘基及聯苯，其中之每一者亦可視情況經一或若干個分支鏈或未分支鏈烷基取代。

儘管式（I）化合物之選擇不受特別限制，但選自MAH、順丁烯二醯亞胺、甲基順丁烯二醯亞胺、W-苯基順丁烯二醯亞胺及W-環己基順丁烯二醯亞胺之化合物產生具有尤其有利特性的共聚物。特定言之，最佳使用MAH及W-環己基順丁烯二醯亞胺作為式（I）化合物。式（II）化合物

本發明之共聚物包含0.1至18.0莫耳%，較佳0.3至15.0莫耳%，更佳2.0至12.0莫耳%來源於由式（II）表示之化合物的重複單元：

取代基R² 、R³ 及R⁴ 可獨立地由氫原子、具有1至12個碳原子之烴基、羧基、-C(O)-C1-12-烷基、-C(O)-C1-12-環烷基、-C(O)-O-C1-12-烷基或-C(O)-O-C1-12-環烷基表示。此外，R³ 及R⁴ 可獨立地由羥基表示或共同構建環狀部分。

術語「烴基」、「烷基（alkyl）」及「環烷基（cycloalkyl）」之含義與上文針對取代基R¹ 所定義的相同。取代基R³ 及R⁴ 中之每一者可獨立地外組態或外組態。取代基R³ 及R⁴ 亦可相對於彼此呈順式或反式組態。

式（II）化合物之選擇不受特別限制，只要其可經歷與MMA及/或式（I）化合物之自由基聚合即可。舉例而言，式（II）化合物可選自甲基-5-降

烯-2,3-二羧酸酐、2-降

烯（2-NB）、5-降

烯-2,3-二羧酸酐、5-降

烯-2-甲酸、5-降

烯-2,3-二甲酸、(2-羥基乙基)-5-降

烯-2-甲酸酯、三級丁基-5-降

烯-2-甲酸酯、2-乙醯基-5-降

烯、5-降

烯-2-羧基甲酯、乙基-5-降

烯-2-甲酸酯、N-(2-乙基己基)-5-降

烯-2,3-二甲醯亞胺、5-降

烯-2-醇、N-羥基-5-降

烯-2,3-二羧基醯亞胺、5-降

烯-2-甲醯胺及二甲基-5-降

烯-2,3-二甲酸酯。特定言之，使用2-NB展示提供具有極佳光學特性及高熱穩定性之共聚物。視情況選用之共聚單體

除來源於MMA、式（I）化合物及式（II）化合物之重複單元以外，本發明之共聚物可包含0.0莫耳%至15.0莫耳%、較佳0.0莫耳%至12.0莫耳%、更佳0.0莫耳%至7.0莫耳%來源於視情況選用之可與MMA及/或式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚的共聚單體的重複單元。視情況選用之共聚單體之性質不受特別限制，且展示諸如(甲基)丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯腈或芳族乙烯基單體之單體最適用於此目的。

如本文所用之術語「(甲基)丙烯酸烷酯（alkyl(meth)acrylates）」可表示單一(甲基)丙烯酸烷酯或不同(甲基)丙烯酸烷酯之混合物。如本文所用之術語「(甲基)丙烯酸酯（(meth)acrylate）」不僅指甲基丙烯酸酯，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯等，且亦指丙烯酸酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等，且亦指其混合物。

出於本發明之目的，較佳係(甲基)丙烯酸C₁ -C₁₈ 烷酯，有利地為(甲基)丙烯酸C₁ -C₁₀ 烷酯，尤其(甲基)丙烯酸C₁ -C₄ 烷酯。最佳甲基丙烯酸烷酯涵蓋甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸三級丁酯、甲基丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸正庚酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸異辛酯及甲基丙烯酸正乙基己酯、甲基丙烯酸正壬酯、甲基丙烯酸正癸酯以及甲基丙烯酸環烷酯，例如甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸異

酯或甲基丙烯酸乙基環己酯。較佳的丙烯酸烷酯涵蓋丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸三級丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸異辛酯、丙烯正壬酯、丙烯酸正癸酯及丙烯酸正乙基己酯以及丙烯酸環烷酯，例如丙烯酸環己基、丙烯酸異

酯或丙烯酸乙基環己酯。

適合的芳族乙烯基單體之實例包括苯乙烯；單烷基苯乙烯或多烷基苯乙烯，諸如鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰對二甲基苯乙烯、鄰乙基苯乙烯、甲基苯乙烯及對乙基苯乙烯；含有官能基之苯乙烯衍生物，諸如甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、乙烯基苯甲酸、乙烯基苯甲酸甲酯、乙酸乙烯基苯甲酯、羥基苯乙烯、鄰氯苯乙烯、對氯苯乙烯及二乙烯基苯；3-苯基伸丙基、4-苯基丁烯及α-甲基苯乙烯。其中，苯乙烯為最佳的。

選自丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸異

酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸乙烯酯之丙烯酸烷酯及丙烯酸用作為視情況選用之共聚單體使得甚至進一步增加共聚物之熱穩定性。此外，甲基丙烯酸、甲基丙烯酸異

酯、甲基丙烯酸降

酯、甲基丙烯酸三級丁酯以及α甲基苯乙烯亦可用作視情況選用之共聚單體。就光學特性及高熱穩定性之最佳平衡而言，視情況選用之共聚單體較佳選自諸如丙烯酸甲酯或丙烯酸乙酯之單體。

若需要額外改善本發明共聚物之流動性及/或尤其低吸水性，則苯乙烯或甲基丙烯酸酯，諸如甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸乙基己酯或脂肪酸酯之脂族甲基丙烯酸酯，諸如甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸十二烷酯、甲基丙烯酸十八烷酯、甲基丙烯酸十六酯及其他脂族C12-C24甲基丙烯酸酯亦可用作視情況選用之共聚單體。共聚物之製備

本發明之另一態樣係關於一種用於製造如上文所描述之共聚物之方法，該方法包含（a）聚合步驟，其中包含MMA、式（I）化合物、式（II）化合物及視情況，視情況選用之共聚單體之單體混合物經歷自由基共聚。聚合步驟

包含MMA之單體混合物之自由基共聚本身在先前技術中熟知。聚合步驟（a）可採用一種方法，其中聚合在含有該單體混合物、聚合引發劑及視情況鏈轉移劑且實質上不含有溶劑之狀態下進行（本體聚合方法）。替代地，在聚合（溶液聚合方法）期間可存在或添加能夠溶解共聚物之溶劑。聚合亦可在分散介質中進行，其中單體分散於水或水性混合物中。

若採用溶液聚合法，則用於步驟（a）之溶劑不受特別限制，只要其能夠在如先前所述之聚合溫度下溶解共聚物且不干擾聚合製程，但其中存在一些微鏈轉移。可使用選自芳族烴、酮、醚、酯、醯胺及醇之一或多種溶劑。可使用之溶劑之實例包括但不限於公開已知之有機溶劑，諸如丙酮、甲基乙基酮、甲基正丁基酮、甲基異丁基酮、乙基異丁基酮、四氫呋喃、二

烷、二甲基甲醯胺、二乙基甲醯胺、二甲基乙醯胺、二乙基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、甲醇、乙醇、異丙醇、乙二醇、丙二醇、2-甲氧基-2-丙醇及四乙二醇二甲醚。特定言之，選自甲苯、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲苯、二甲基呋喃或其混合物之溶劑較佳。出人意料地，在步驟（a）中使用甲苯或乙酸丁酯作為溶劑展示提供具有尤其高光學透射率及低濁度之共聚物。

若步驟（a）在溶劑中進行，則以反應混合物之總重量計，反應混合物中之溶劑含量通常在3.0重量%與60重量%之間、更佳在5.0重量%與45重量%之間的範圍內。

更佳地，將聚合步驟（a）中之反應混合物之溶解分子空氣氧氣（O₂ ）濃度控制為70 ppm或更低，使得所得共聚物具有尤其低的濁度及黃度係數。為了進一步抑制著色，溶解氧濃度較佳小於10 ppm。溶解氧濃度可使用溶氧計（例如由Iijima Denshi Kogyo K.K.生產之DO Meter B-505作為電氧感測器）量測。

在分批製備期間，保持溶解氧濃度低於10 ppm之方法包括使諸如氮氣、氬氣或氦氣之惰性氣體通過反應器聚合容器之單體及溶劑饋料，將惰性氣體直接鼓泡於反應混合物中，在開始聚合之前進行用惰性氣體壓力填充聚合容器之操作一或兩次，且隨後釋放壓力，在供應單體饋料之前使密封聚合容器之內部脫氣且隨後用惰性氣體填充，且使惰性氣體通過聚合容器。

在連續操作之反應器中，饋料中之單體以及溶劑應具有低於10 ppm之溶解分子氧濃度。此可藉由使諸如氮氣、氬氣或氦氣之惰性氣體通過反應器之單體及溶劑饋料來達成。

用於聚合步驟（a）之反應器的選擇不受特別限制。單體可以混合物形式或以單獨饋料形式添加至反應器中。已發現，當聚合步驟（a）中之總單體饋料通常具有以下組成物時，以可聚合組分之總量計，可獲得具有尤其低濁度之共聚物： 28.0至99.7莫耳%甲基丙烯酸甲酯 0.1至22.0莫耳%由式（I）表示之化合物 0.2至35.0莫耳%由式（II）表示之化合物；及 0.0至15.0莫耳%視情況存在之共聚單體，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚。

如本文所用，術語「總單體饋料（total monomer feed）」係指在聚合步驟（a）期間所添加單體之總量。

更佳地，聚合步驟（a）中之總單體饋料具有以下組成： 36.0至98.0莫耳%甲基丙烯酸甲酯 1.0至21.0莫耳%由式（I）表示之化合物 1.0至33.0莫耳%由式（II）表示之化合物；及 0.0至10.0莫耳%視情況存在之共聚單體，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚，其中在聚合步驟（a）中使用以下總單體饋料尤其有利： 42.0至95.0莫耳%甲基丙烯酸甲酯 3.0至19.0莫耳%由式（I）表示之化合物 2.0至31.0莫耳%由式（II）表示之化合物；及 0.0至8.0莫耳%視情況存在之共聚單體，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚。出人意料地，已進一步發現本發明之共聚物之光學濁度可甚至進一步藉由小心調整在聚合步驟（a）期間在總單體饋料中由式（I）表示之化合物與由式（II）表示之化合物之比率而降低。在此類具體實例中，調整此等內容物以遵從以下關係：

其中m_I 為單體饋料中式（I）表示之化合物的含量，其以可聚合組分之總量計，以莫耳%為單位；及 m_II 為由式（II）表示之化合物的含量，其以單體饋料中可聚合組分之總量計，以莫耳%為單位。此外，具有尤其低濁度值之共聚物可藉由將單體饋料中由式（I）及式（II）表示之化合物的含量m_I 及m_II 調整至以下範圍來獲得：

較佳地為

一般而言，所得共聚物之吸水性往往會隨著反應混合物中之式（II）化合物，諸如2-NB之含量增加而降低，因為此使得來源於式（II）化合物之重複單元併入共聚物中增加。

聚合步驟（a）可在非連續反應器（分批）或半分批反應器類型中進行，其中引發劑（若存在）、溶劑、單體或任何彼等之組合視情況在聚合步驟（a）期間饋入。替代地，聚合步驟（a）可以連續聚合方法進行，如在攪拌槽反應器（CSTR）中、在管狀反應器中或其組合中、在捏合機中或在圓盤環反應器中。

在一些具體實例中，來自第一CSTR之出口之聚合物反應混合物可連續地供應至第二及/或第三反應裝置，例如另一CSTR或管狀反應器，以便增加轉化率。如本申請案中所使用之術語「轉化率（conversion）」係指聚合步驟（a）中所形成之共聚物與總單體饋料之平均重量比。

非連續反應器（分批）、半分批反應器及CSTR可裝備有任何種類之混合元件以在反應器中均質化反應混合物。此等反應器在文獻中亦稱為反混合（back-mixed）（Octave Levenspiel, Chemical Reaction Engineering 第3版 Wiley 1998）。在另一具體實例中，非連續反應器（批次）不含有混合元件。

聚合步驟可進一步在澆鑄薄片中進行。在聚合在水性分散液或懸浮液中進行的情況下，若由式I表示之單體為N-取代之順丁烯二醯亞胺，亦即式I中之X為N-R¹ 基團，則尤其有利。

非連續反應器（分批）、半分批反應器及CSTR之設計不受特別限制。其典型實例為安裝有攪拌器之容器，其中該攪拌器軸攜載混合元件，如槳葉、刀片、錨或螺旋狀混合元件。聚合容器視情況含有經加熱或冷卻之護套，其具有循環熱油、水或水蒸氣，以在聚合期間加熱或冷卻反應混合物。熱移除之另一有效方式為藉由饋入溫度比聚合溫度低之單體及或溶劑使反應混合物冷卻。替代地，可藉由使反應混合物沸騰冷卻來進行聚合熱移除。

聚合步驟（a）亦可在連續管狀反應器中進行。連續管狀反應器含有用於單體或預聚合物反應混合物之至少一個入口端及用於聚合物反應混合物之至少一個出口端。管狀反應器亦可為管狀集束反應器，其中聚合例如在一或多個平行佈置之管中進行。替代管狀反應器亦可為板式熱交換器。相比於CSTR，管狀反應器在整個反應體積上不含有充分混合或均質化之反應混合物。典型管狀反應器，如在文獻（Octave Levenspiel, Chemical Reaction Engineering 3^rd ed Wiley 1998）中所定義，含有入口端區域與出口端區域之間的大規模濃度梯度。管狀反應器可視情況含有靜態混合元件或攪拌器以使反應混合物在徑向方向上均勻化。靜態混合元件之實例包括SMX型及SMR型Sulzer管狀混合器、Kenics靜態混合器、Toray管狀混合器等。替代地，管狀反應器可不含有任何混合元件。管狀反應器之聚合熱移除可視情況藉由填充有水或熱油之護套來進行。替代地，可藉由使反應混合物沸騰冷卻來完成聚合熱移除。

藉由採用反應器中反應混合物之平均滯留時間、聚合溫度、所使用引發劑之反應性及反應器饋料中引發劑之量及單體濃度，轉化率可由所屬技術領域中具有通常知識者容易地調整。舉例而言，若使用CSTR，則平均滯留時間較佳選擇在10分鐘至7小時範圍內，更佳20分鐘至6小時，例如30分鐘至4小時。若平均滯留時間短於10分鐘，則變得必需增加自由基聚合引發劑之量，使得難以控制聚合反應。高於7小時之平均滯留時間在生產率及成本效率方面通常為不利的。

在步驟（a）中用作CSTR之聚合容器不受特別限制，只要在聚合步驟（a）期間反應混合物充分混合即可。為了另外使由來源於由式（I）表示之化合物的交替重複單元及來源於由式（II）表示之化合物的重複單元組成的相對較長區段的形成減至最少，其似乎造成所得共聚物中之濁度形成，較佳地，調整式（I）化合物及式（II）化合物之MMA之饋料比，使得以MMA、由式（I）表示之化合物、由式（II）表示之化合物及視情況存在之共聚單體的總量計在任何時間聚合容器中之反應混合物具有以下組成： 28.0至99.7莫耳%甲基丙烯酸甲酯 0.1至22.0莫耳%由式（I）表示之化合物 0.2至35.0莫耳%由式（II）表示之化合物；及 0.0至15.0莫耳%視情況存在之共聚單體，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚。

更佳地，可以一定方式調整MMA、式（I）化合物及式（II）化合物之饋料比，使得以MMA、由式（I）表示之化合物、由式（II）表示之化合物及視情況選用之共聚單體之總量計，在任何時間聚合容器中之反應混合物遵從以下關係（以莫耳%為單位）：

較佳地為

更佳地為

一般而言，可在步驟（a）中使用一個單一聚合容器（反應器），或可組合使用兩個或更多個反應器。若使用若干反應器，則其可並聯或串聯操作。

聚合步驟（a）期間之聚合溫度有利地保持在60℃至200℃、更佳70℃至180℃、尤其較佳80℃至160℃範圍內，以避免增加反應器中反應混合物之過度黏度。

在另一具體實例中，聚合步驟（a）可在管狀反應器中進行。本體聚合及溶液聚合兩者均可在具有或不具有混合元件之管狀反應器中連續進行。較佳地，以添加至反應混合物之單體的總重量計，管狀反應器之出口處之轉化率保持在50至98重量%範圍內。在低於50重量%之轉化率下，自經濟視角看該方法變得不利。另一方面，因為轉化率不必要地增加管狀反應器中之平均滯留時間，其不應超過98重量%。甚至更佳範圍為55至96重量%，且更佳範圍為60至94重量%，尤其在管狀反應器與另一反應器組合操作且為聚合步驟（a）中所用之最終聚合反應器的情況下。

有利地，反應混合物在管狀反應器中之平均滯留時間保持在0.5至8小時範圍內。若平均滯留時間短於0.5小時，則轉化率保持較低。另一方面，出於生產率原因，管狀反應器中之平均滯留時間不應超過9小時。

作為添加用於管狀反應器中之自由基聚合引發劑之方法，其較佳為將自由基聚合引發劑與單體及/或溶劑之饋料一起添加至管狀反應器中之方法。同樣較佳的為在與管狀反應器之入口串聯安置的靜態混合器中初步混合自由基聚合引發劑且使混合物通過該管狀反應器之方法。此外，有可能且有利的為沿管狀反應器下游添加至少一些單體及/或溶劑及/或相同或不同類型之引發劑以確保更好地控制聚合步驟（a）期間的轉化率及所形成共聚物之組成。

此外，為改進調整反應混合物之溫度上升，較佳在緊鄰管狀反應器之反應混合物入口前的位置及反應器內部之一或多個其他位置處添加自由基聚合引發劑。此允許聚合更有效地進行。

管狀反應器中反應混合物中之聚合物含量通常可保持在50至98重量%、更佳60至96重量%、甚至更佳60至94重量%範圍內以確保高效聚合。

在另一具體實例中，聚合步驟（a）可在管狀環流反應器中進行。反應混合物在管之環流中循環，由用於冷卻或加熱之護套包圍，且存在起始材料進及產物出之連續流。管狀環流反應器中反應混合物中之聚合物含量通常可保持在30至80重量%、更佳40至70重量%範圍內。反應混合物在管狀環流反應器中之平均滯留時間通常保持在0.15至3小時範圍內。當管狀反應器用於進行進一步聚合時，較佳地，管狀反應器之反應混合物溫度為60℃至250℃。

在另一具體實例中，聚合步驟（a）可在具有視情況存在之單體及/或溶劑及/或引發劑及/或鏈轉移劑饋料之半分批反應器中進行。聚合時間不受限制且必須基於單體反應性選擇。聚合時間之較佳範圍為1小時至24小時。引發劑之衰變半衰期時間之較佳範圍為10秒至20小時。

在批料中或在CSTR中在聚合溫度下使用衰變之半衰期時間為0.1至90分鐘之自由基聚合引發劑係有利的。更佳範圍為1至60分鐘，且最佳範圍為2至40分鐘。若衰變之半衰期時間短於0.1分鐘，則因為自由基聚合引發劑在均勻分散於聚合反應器中之前分解，自由基聚合引發劑之效率（起始效率）降低。若自由基聚合引發劑之量增加，則所得共聚物之熱穩定性降低。另一方面，若CSTR中衰變之半衰期時間長於90分鐘，則聚合物結塊（按比例增減）可在聚合反應容器中形成，使得難以穩定地操作聚合反應。另外，當衰減之半衰期時間較高時，CSTR中之引發劑濃度積聚，其有時可導致不安全情形，因為聚合及所產生之聚合熱量幾乎不可控制。其可引起CSTR中之聚合溫度失控。

在其中在管狀反應器中進行聚合之具體實例中，有利的是使用在聚合溫度下衰變之半衰期時間為1.0分鐘至10小時之自由基聚合反應器。有利的是，用來自另一管狀反應器或CSTR之單體聚合物混合物供應管狀反應器且僅在那裏進行最終聚合。在此具體實例中，相較於CSTR，較長起始劑衰變之半衰期時間較不關鍵，因為管狀反應器中之單體濃度通常低於CSTR中之單體濃度。

可使用一種自由基聚合引發劑，或亦可使用兩種或更多種自由基聚合引發劑作為混合物。在將兩種或更多種自由基聚合引發劑用於管狀反應器中之情況下，較佳使用在5℃或更高不同溫度下在10小時衰變之半衰期中不同的自由基聚合引發劑。此允許聚合步驟（a）更有效地進行。

自由基聚合引發劑可選自例如有機過氧化物，諸如過氧基-3,5,5-三甲基己酸三級丁酯、過氧基月桂酸三級丁酯、過氧基異丙基單碳酸三級丁酯、過氧基異丙基單碳酸三級己酯、過氧基乙酸三級丁酯、1,1-雙(三級丁基過氧基)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(三級丁基過氧基)環己烷、過氧基2-乙基己酸三級丁酯、過氧基異丁酸三級丁酯、過氧基2-乙基己酸三級己酯、過氧化二三級丁酯、2,5-二甲基-2,5-雙(三級丁基過氧基)己烷、過氧化月桂醯、過氧化苯甲醯、過氧基新癸酸三級丁酯、過氧基特戊酸三級丁酯、過氧基-2-乙基己酸三級丁酯、過氧基苯甲酸三級丁酯及過氧化二異丙苯，偶氮化合物，諸如2-(胺甲醯基偶氮)-異丁腈、1,1'-偶氮雙(1-環己烷甲腈)、2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2'-偶氮雙異丁酸二甲酯、2,2'-偶氮雙(2,4,4-三甲基戊烷)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙烷)、2,2'-偶氮雙-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈及2,2'-偶氮雙-2,4-二甲基戊腈，及其類似者。

視聚合溫度、聚合時間（平均滯留時間）及預期轉化率而定，調整用於聚合步驟（a）中之自由基聚合引發劑之量。較佳地，以聚合步驟（a）中之反應混合物之總重量計，量為0.001至2.0重量%。更佳範圍為0.01至2.0重量%，且甚至更佳範圍為0.01至1.0重量%。

出於控制共聚物之分子量之目的，以鏈轉移劑之聚合步驟（a）中之反應混合物之總重量計，添加0.001至2.0重量%，更佳0.005至2.0重量%，且甚至更佳0.01至1.0重量%通常為有利的。適合的此類鏈轉移劑本身為先前技術中熟知的且可選自例如烷基硫醇、四氯化碳、四溴化碳、二甲基乙醯胺等。聚合步驟（a）中所用之烷基硫醇之實例尤其包括正辛基硫醇、三級十二烷基硫醇、正十二烷基硫醇、正十四烷基硫醇、正十八烷基硫醇等。其中，宜使用正辛基硫醇、正十二烷基硫醇及巰基丙酸正甲酯。

若聚合反應在不連續分批反應器中，以懸浮聚合形式或在澆鑄薄片中進行，則所獲得之共聚物的分散液之分子量分佈（重量平均分子量Mw除以數目平均分子量Mn）可以為1.5至6.0。在一更佳具體實例中，所獲得之共聚物之分子量分佈可在1.5至4.5範圍內。若聚合步驟（a）在添加引發劑及/或鏈轉移劑及/或單體及/或溶劑之不連續半分批反應器中或CSTR及/或管狀反應器中進行，則所得共聚物之分散液之分子量分佈（重量平均分子量Mw/數目平均分子量Mn）可為1.5至5.0。在一更佳具體實例中，所獲得之共聚物之分子量分佈可在1.5至4範圍內。為獲得具有改良流動性之共聚物，所獲得之共聚物可由兩個或更多個單獨或合併之GPC中的分子量峰組成。在此情況下，分散液之分子量分佈（重量平均分子量Mw/數目平均分子量Mn）係2.0至8。

在本發明之一個具體實例中，聚合步驟（a）在連續攪拌槽反應器（CSTR）中進行，且反應混合物之組成及溫度可藉助於安裝於聚合容器中之適合攪拌器保持實質上均勻。通常使用裝備有攪拌器之CSTR型反應器，其中該攪拌器具有能夠使容器中之溶液保持實質上完全混合之攪拌刀片。

攪拌刀片之形狀可為公開已知攪拌刀片之形狀。舉例而言，雙螺旋刀片、漿式刀片、渦輪機刀片、螺旋槳刀片、布氏刀片（Brumagin blade）、多階段刀片、錨刀片、最大摻合刀片、覆液刀片、MIG刀片、全區域刀片及由Kobelco Eco-Solutions公司生產的洛氏刀片（Logborn blade）及其類似者可用於此目的。尤其，雙螺旋帶狀刀片由於其高攪拌效率而尤其較佳。此外，為了增強攪拌效果，較佳在聚合容器中安置擋板。

此外，由於聚合反應及攪拌產生熱量，因此通常藉由熱移除或加熱控制聚合溫度。該溫度可藉由諸如以下方法來控制：使用護套或使加熱介質循環以用於熱傳遞、熱移除或加熱，或供應經冷卻或經加熱之單體混合物等。

在一個較佳具體實例中，CSTR中獲得之共聚物溶液連續供應至管狀反應器中以進行進一步聚合。此減少在下游步驟中需要移除之揮發性組分的量，由此使整個方法甚至更高效。另外，且甚至更重要地，因為共聚物之較佳組成及轉化控制，兩個反應器之此組合允許甚至進一步改善所得共聚物之光學特性，特定言之，額外降低濁度及黃度指數。最後，由於CSTR中之轉化率可保持相對較低，CSTR中之聚合溫度可保持較低。此另外使得所得共聚物之熱穩定性溫度及維卡溫度增加。

用於將CSTR中獲得之共聚物溶液供應至第二反應器（例如第二CSTR、管狀反應器或管狀環流反應器）中之方法不受特別限制。舉例而言，自第一CSTR抽取反應混合物至第二反應器之操作可使用泵執行。作為液體饋料泵，可適當地使用公開已知的齒輪泵。若反應混合物由泵抽取，則反應混合物可穩定地饋入至第二反應器中，且視情況使靜態混合結構部分依次安裝之第二反應器中之壓力可升高至高於反應混合物之蒸氣壓。作為另一可能，可藉助於反應器之間的壓力差來將反應混合物自CSTR轉移至第二反應器中。

有必要使管狀反應器中之壓降足夠低，此係因為若產生高於管狀反應器出口處之反應混合物之蒸氣壓的值，則管狀反應器入口壓力減去壓降。

此外，有可能由於反應混合物之溫度藉由聚合反應之熱量產生而升高，故將內壁溫度自反應混合物之入口依序升高設定於管狀反應器中之一或多個溫度區域中。此使得轉化率有效地升高，同時抑制自由基聚合引發劑之突然分解。替代地，反應混合物溫度可在整個管狀反應器中保持實質上恆定。

此外，當在管狀反應器中進一步進行聚合時，較佳在管狀反應器之反應溫度下添加具有0.1至8小時之衰變半衰期的一或多種自由基聚合引發劑。更佳範圍為1至7小時。自由基聚合引發劑之衰變半衰期不較佳超過8小時，因為在去揮發步驟期間存在的未反應引發劑殘餘物可能會成問題。另一方面，非較佳的是衰變半衰期太短，因為自由基聚合引發劑將快速分解，而不允許轉化率充分升高。因此，將產生具有不良熱穩定性之共聚物。因此，較佳使用衰變半衰期為0.1小時或更長之自由基聚合引發劑。

在一個具體實例中，視情況具有混合元件之管狀反應器安置於CSTR下游。在CSTR中，以饋入至CSTR中之總單體計，連續聚合在單體轉化率保持在20至70重量%下進行，以連續產生共聚物溶液（第一聚合子步驟），且依次地，所獲得之反應混合物由泵連續地抽取（溶液饋入子步驟），或替代地在加壓下饋入至管狀反應器中。另外依次地，在管狀反應器中，在反應混合物通過時添加自由基聚合引發劑、額外單體或溶劑，以用於確保在饋入至本發明之CSTR及管狀反應器中共聚物溶液中的所有單體之共聚物轉化率在管狀反應器之出口處變為50至98重量%（第二聚合子步驟）。在此產生方法中，較佳地，在第一聚合子步驟中獲得的反應混合物之共聚物轉化率通常控制在20至70重量%、更佳30至65重量%範圍內。

聚合步驟（a）中之總轉化率通常為至少40%，更佳至少45%。出於經濟原因，低於40%之轉化率為不利的。另一方面，由於聚合時間出於經濟原因而變得太長，故最終轉化率高於98%並非較佳的。較佳範圍為40%至96%，且更佳範圍為45%至94%。如本文所用，術語「轉化率（conversion）」係指聚合步驟（a）中所形成之共聚物與總單體饋料之平均重量比。去揮發步驟

根據本發明，在聚合步驟（a）中獲得之共聚物溶液可視情況連續供應至將共聚物溶液加熱至100℃至300℃之溫度的步驟（加熱步驟（b））。

隨後，材料可在後續去揮發步驟中供應至去揮發設備，以分離及移除未反應單體或由未反應單體及（若存在）溶劑組成之混合物（去揮發步驟（c））。

去揮發步驟中共聚物溶液之溫度或共聚物之熔融溫度通常低於300℃，更佳150℃至300℃，甚至更佳170℃至280℃。去揮發步驟之最後一個去揮發區中之較佳壓力為絕對壓力，通常低於500 mbar，更佳低於200 mbar。去揮發步驟中絕對壓力之下限不受限制，而是出於技術原因其通常為至少10 mbar或更高。若去揮發步驟中之壓力高於500 mbar，則即使去揮發在該溫度範圍內進行，未反應單體或由未反應單體及聚合溶劑組成之混合物無法有效分離或移除。就所得共聚物之熱穩定性、機械及光學特性而言，此為不利的。

作為用於執行此類去揮發之設備，可使用單螺桿或雙螺桿擠出機、閃蒸室、脫氣捏合機或其組合。一個具體實例為一種設備，其具有圓柱形容器及具有附接至旋轉軸之多個攪拌元件之攪拌器，且在圓柱形部分之頂部具有至少一或多個排氣孔，用於在圓柱形部分之一端處供應共聚物溶液之供應端及用於在另一端處去揮發完成後取出共聚物之排出端。旋轉軸之數目不受限制但通常為1至5個，較佳1或2個，且具有兩個旋轉軸之設備更佳。特定言之，排氣連續單螺桿或雙螺桿擠出機（捏合設備及分批型熔融捏合設備）為較佳的，且在此可提及分別具有「均熔融（Unimelt）」型螺桿之單螺桿擠出機、雙螺桿擠出機、雙螺桿/單螺桿組合連續捏合擠出機及三螺桿擠出機，以及連續或分批型捏合機器。特別是，尤其可較佳使用具有多個凸透鏡類型及/或橢圓形板槳葉之排氣單螺桿或雙螺桿擠出機或連續雙螺桿反應器。

此外，本發明之生產製程中之去揮發步驟可採用使用兩個或更多個串聯安置之去揮發設備進行去揮發之方法，且此為有利的，因為在去揮發後獲得之共聚物中之其餘的揮發性組分可甚至進一步降低。模制組成物

本發明之另一態樣係關於一種包含如上文所描述之共聚物的模制組成物。模制組成物可含有至少一種常見聚合物添加劑，只要稍後不會不利地影響本發明之共聚物之光學特性即可。各種聚合物添加劑為所屬技術領域中具有通常知識者所熟知且尤其包括UV吸收劑、UV穩定劑、光穩定劑、抗氧化劑、著色劑、流動改良劑、阻燃劑、潤滑劑及脫模助劑、散射顆粒等。所得模制組成物之熱穩定性不應由此等添加劑過度減弱。

用於本發明之UV吸收劑及UV穩定劑及光穩定劑為已熟知的且藉助於實例詳細地描述於Hans Zweifel, Plastics Additives Handbook, Hanser Verlag, 第5版, 2001, 第141頁及以下中。應將光穩定劑理解為包括UV吸收劑、UV穩定劑及自由基清除劑。自由基清除劑為例如位阻酚類（不限制）十八烷基-3-[3,5-二三級丁基-4-羥苯基]丙酸酯]、新戊四醇肆[3-[3,5-二三級丁基-4-羥苯基]丙酸酯。UV吸收劑可例如來源於以下之群：經取代之二苯甲酮、水楊酸酯、肉桂酸酯、草醯替苯胺、苯并

酮、羥基苯基苯并三唑、苯并三唑、三

或丙二酸亞苄酯。模制組成物中UV吸收劑之總含量以模制組成物之重量計通常在0.01重量%至1.0重量%、尤其0.01重量%至0.5重量%、尤其0.02重量%至0.2重量%範圍內。

UV吸收劑可作為低分子量化合物存在於模制組成物中。然而，基質聚合物分子中之UV吸收基團亦可在與可聚合UV吸收化合物共聚之後共價鍵結，該等可聚合UV吸收化合物諸如二苯甲酮衍生物或苯并三唑衍生物之丙烯酸、甲基丙烯酸或烯丙基衍生物。如所屬技術領域中具有通常知識者將易於瞭解，亦可採用化學上不同UV吸收劑之混合物，例如苯并三唑以及三

。

UV穩定劑/自由基清除劑之最佳已知代表係由羥苯基苯并三唑或位阻胺（受阻胺光穩定劑（hindered amine light stabilizer），HALS）之群組提供。適合的自由基清除劑/UV穩定劑之實例尤其包括位阻酚及位阻胺，其由名稱受阻胺光穩定劑（HALS）已知。HALS化合物中存在之四甲基哌啶基引起其穩定化作用。此類別之化合物可未經取代或經哌啶氮上之烷基或醯基取代。位阻胺不在UV範圍內吸收。羥苯基苯并三唑之實例為2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚，作為Tinuvin® P或甲酚曲唑（Drometrizole）出售。其截留所形成之自由基，其同樣為UV吸收劑不能進行的。自由基清除劑/UV穩定劑以模制組成物之重量計以0.01重量%至1.5重量%之量，尤其以0.02重量%至1.0重量%之量，尤其以0.02重量%至0.5重量%之量用於根據本發明之組成物中。UV穩定劑/吸收劑、光穩定劑及抗氧化劑之組合亦為可能的。

可降低或完全防止模制組成物與注射模具之可能的黏著之潤滑劑及脫模劑對於注射模制方法為重要的且亦可被採用。舉例而言，選自由以下組成之群的潤滑劑可作為助劑存在：飽和脂肪酸、具有小於C₂₀ 、較佳C₁₆ 至C₁₈ 之酯或無機鹽、碳原子，或具有小於C₂₀ 、較佳C₁₆ 至C₁₈ 之飽和脂肪醇、碳原子。舉例而言，硬脂酸、十八烷醇、棕櫚酸、棕櫚醇、月桂酸、乳酸、甘油單硬脂酸酯、季戊四醇（pentaerythrol）及硬脂酸及棕櫚酸之工業混合物。正十六烷醇、正十八烷醇及正十六烷醇與正十八烷醇以及甘油單硬脂酸酯之工業混合物亦為適合的。尤其較佳之潤滑劑或脫模劑為十八烷醇。潤滑劑通常以模制組成物之重量計不超過1.0重量%，例如0.05重量%至0.25重量%之量使用。

本發明之模制組成物可藉由諸如注射模制之常用方法進行熱塑性加工及在通常加工條件下擠出成模制品。組成物之注射模制可以已知方式在220℃至280℃範圍內之溫度（熔融溫度）及較佳60℃至120℃之模具溫度下進行。擠出較佳在220℃至280℃之溫度下進行。

因為其高熱穩定性及低濁度，所以模制組成物及其製得之模制品非常適合於諸如照明及鑲嵌玻璃之光學應用。此類應用包括光導、透鏡及鑲嵌玻璃（例如，用於機動車輛燈之玻璃蓋，亦即，前照燈或後照燈；用於汽車燈之蓋罩；用於建築內部及/或外部照明之必須滿足尤其在惡意破壞、熱穩定性及良好可加工性方面之較高需求的其他不同照明應用）。

本發明之模制組成物可進一步有利地用於通信裝置之顯示器中，尤其PDA、行動電話，較佳智慧型電話；平板PC；TV裝置；廚房電器及其他電子裝置。

以下實施例更詳細地說明本發明。然而，本發明無意限於此等實施例。實施例分析 GPC量測條件溶離劑：THF（HPLC-級） + 0.2體積% TFA 流動速率：1 ml/min 注射體積：100 μl 檢測：RI HPS 樣品溶液之濃度：2 g/l 標準：PMMA 產物特性

藉由在250℃下注射模制來製備3.0 mm厚試樣，且隨後在量測之前在23℃及50%相對濕度下儲存72 h。

濁度使用濁度計BYK Gardner Hazegard-plus根據ASTM D 1003（1997）測定。

光學透射率使用Varian Cary 5000分光光度計根據ISO 13468-2（2006）量測。

使用在量測之前在105℃下儲存16小時之3.0 mm厚試樣量測維卡軟化溫度VST ISO 306-B50（2014）。

根據ISO 1133（2011）在230℃下在3.8 kg負載下測定熔體流動速率（melt flow rate，MVR）。產物組成

共聚物之組成物使用¹ H-NMR光譜測定，記錄在來自Bruker之400 MHz NMR光譜儀上。藉由滴定測定共聚物中來源於順丁烯二酸酐（MAH）之重複單元的含量。

MMA及2-降

烯之殘餘單體含量經由頂空氣相層析（gas chromatography，GC）測定。為了測定MAH之殘餘單體含量，將共聚物顆粒溶解於THF中，用MeOH沈澱聚合物且隨後使用HPLC分析經過濾之THF溶液。起始材料

使用以下起始材料：甲基丙烯酸甲酯（MMA），＞99.6%純度，來自Rohm GmbH, Darmstadt, Germany 丙烯酸甲酯（MA），純度＞99%，來自Sigma Aldrich, St. Louis, United States 順丁烯二酸酐（MAH），純度＞99%，來自Sigma Aldrich, St. Louis, United States 2-降

烯（2-NB），純度＞99.9%，來自Topas Advanced Polymers GmbH, Frankfurt, Germany 正十二烷基硫醇（DDM），純度98%，來自Dr. Spiess Chemische Fabrik GmbH, Kleinkarlbach, Germany 過氧基-2-乙基己酸三級丁酯（TBPEH）、過新癸酸三級丁酯（TBPND）及過3,5,5-三甲基己酸三級丁酯（TBPIN），純度＞98%，來自Pergan Hilfsstoffe fur industrielle Prozesse GmbH, Bocholt, Germany 甲苯，純度99,8 %，來自Brenntag AG, Essen, Germany 實施例1-4（本發明）

實施例1-4在CSTR中進行。CSTR為反應體積為2.4公升之攪拌式不鏽鋼容器。CSTR通常允許獲得具有相對狹窄分佈之聚合鏈長的產物。此簡化了聚合物組成物與光學特性之間關係之研究。

使用熱電偶連續監測聚合溫度且藉由用循環油加熱反應器護套而在聚合期間保持恆定。聚合溫度為140℃。

正十二烷基硫醇（DDM）用作鏈轉移劑且過氧基-2-乙基己酸三級丁酯（TBPEH）用作自由基引發劑。表1中規定反應器饋料之組成。

反應器饋料	實施例 1	實施例 2	實施例 3	實施例 4
重量%	莫耳%	重量%	莫耳%	重量%	莫耳%	重量%	莫耳%
甲基丙烯酸甲酯	55.2	58.4	61.8	66.2	55.5	58.8	50.2	52.7
順丁烯二酸酐	14.5	17.2	14.3	17.2	14.3	17.0	14.3	16.8
2-降艸伯烯	18.9	23.4	12.5	15.6	18.8	23.3	24.1	29.6
丙烯酸甲酯	0.7	0.9	0.7	1.0	0.7	0.9	0.7	0.9
甲苯	10.7		10.7		10.7		10.7
DDM	0.042		0.042		0.042		0.042
TBPEH	0.054		0.0275		0.051		0.078

表1.實施例1-4中之反應器饋料組成

為了確保穩態操作，在獲取材料樣品之前，操作反應器約6小時。

CSTR之連續共聚物溶液排出液在反應器下游之熱交換器中被加熱至210℃且接著在具有15 mm螺桿直徑之單螺桿擠出機中在100 mbar之絕對壓力下去揮發及粒化。

實施例1-4中之操作條件概述於表2中。

反應條件	實施例 1	實施例 2	實施例 3	實施例 4
反應器滯留時間，min	60	50	60	50
反應器溫度，℃	140	140	140	140
轉化率，%	50.7	45.9	51.1	48.6
擠出機饋料中之共聚物溶液溫度，℃	230	210	210	210
去揮發擠出機溫度，℃	260	260	260	260
去揮發壓力，mbar	100	100	100	100

表2.實施例1-4中之操作條件

根據ISO 306，在250℃下將所得糰粒注射模制成3 mm厚的小板以用於研究光學特性及維卡軟化溫度B50，℃。對於所有其他測試，直接使用糰粒。所得共聚物之特性及組成概述於表3中。

	實施例 1	實施例 2	實施例 3	實施例 4
共聚物組成
甲基丙烯酸甲酯單元，莫耳%	77.0	81.7	76.6	75.2
順丁烯二酸酐單元，莫耳%	13.6	10.6	12.8	13.9
2-降艸伯烯單元，莫耳%	9.1	7.3	10.2	10.6
丙烯酸甲酯，莫耳%	0.4	0.4	0.4	0.4
2-NB / MAH莫耳比	0.67	0.68	0.80	0.77
殘餘甲基丙烯酸甲酯，重量%	0.03	0.01	0.02	0.01
殘餘順丁烯二酸酐，重量%	0.34	0.9	0.31	0.33

共聚物特性
濁度%，ASTM D1003	0.58	0.79	0.8	0.83
Mw，g / mol	74700	125000	75400	58400
Mn，g / mol	40500	63900	42100	30900
維卡B50，℃，ISO 306	127.5	125	128.6	132
在3.8 kg時MVR，ml / 10 min，ISO 1133	6.4	1.3	5.9	11.7
透射率，D₆₅ ，ISO 13468-2	89.5	90.0	89.0	87.7

表3.實施例1-4中所獲得之共聚物之組成及特性

實施例1-4中所獲得之共聚物為透明材料且具有低至0.58%至0.83%之光學濁度。然而，如自表3可注意到，光學濁度往往會隨著2-NB與MAH之莫耳比增加且亦隨著共聚物之分子量增加而增加。

實施例1-4之共聚物均具有較低濁度及較高維卡溫度且因此高度適用於可在高溫下操作之光學元件。實施例5-7（本發明）及實施例8（比較）

在實施例5-8中，在裝備有單體及引發劑饋料之分批反應器中進行聚合。分批反應器為容量為5公升之攪動式玻璃反應器。使用熱電偶連續監測聚合溫度且藉由用循環油加熱反應器護套而在聚合期間保持恆定。

十二烷基硫醇（DDM）用作鏈轉移劑且過氧基-2-乙基己酸三級丁酯（TBPEH）用作自由基引發劑。

在反應開始時，將單體及溶劑置放於反應器中，且藉由添加少量引發劑開始聚合。為了防止隨著轉化率提供，反應混合物之黏度變得過高，在聚合期間連續給予甲苯。由於引發劑之衰變半衰期在95℃之反應溫度下為約40分鐘，進一步將TBPEH連續地供應至甲苯饋料中之反應混合物。此外，在實施例5-7中，亦向具有甲苯饋料之反應混合物中連續供應MMA。表5提供在反應開始時及在饋料中所採用之起始物質之全面清單，且表4概述操作條件。

反應條件	實施例5	實施例6	實施例7	實施例8（比較）
反應溫度，℃	95	95	95	95
饋入時間，h	15	10	15	15
總反應時間，h	15	10	15	15
單體轉化率，%	91.9	84.5	95.4	85.0
去揮發擠出機溫度，℃	250	250	250	250
去揮發壓力，mbar	100	100	100	100

表4.實施例5-8中之操作條件

隨後，所得共聚物溶液在100 mbar之絕對壓力下在具有15 mm螺桿直徑之單螺桿擠出機中去揮發及粒化，如實施例1-4中所描述。

	實施例5	實施例6	實施例7	實施例8（比較）
開始	饋入	總	開始	饋入	總	開始	饋入	總	開始		饋入	總
g	g	g	g	g	g	g	g	g	g		g	g
甲基丙烯酸甲酯	339.2	724.8	1064.0	425.6	638.4	1064.0	339.2	724.8	1064.0	740		740
順丁烯二酸酐	135		140	140		140	135		140	323		323
2-降艸伯烯	182		182	182		182	182		182	323		323
丙烯酸甲酯	14		14	14		14	14		14	14		14
甲苯	100	1000	1100	100	1000	1100	100	1000	1100	89	1100	1189
DDM	0.27	0.30	0.57	0.34	0.23	0.57	0.27	0.30	0.57	0.15	0.14	0.29
TBPEH	0.35	3.75	4.10	0.28	3.22	3.5	0.3	4.35	4.65	0.21	4	4.21

表5.開始反應及實施例5-8中之饋入中所採用之起始材料

	實施例5	實施例6	實施例7	實施例8（比較）
重量%	莫耳%	重量%	莫耳%	重量%	莫耳%	重量%	莫耳%
甲基丙烯酸甲酯	42.56	75.24	42.49	75.09	42.56	75.27	28.53	51.81
順丁烯二酸酐	5.40	9.75	5.60	10.10	5.40	9.75	12.45	23.09
2-降艸伯烯	7.28	13,69	7.27	13.66	7.28	13.69	12.45	24.05
丙烯酸甲酯	0.56	1.15	0.56	1.14	0.56	1.15	0.54	1.14
甲苯	44.01		43.9		44.01		45.8
DDM	0.023		0.023		0.023		0.011
TBPEH	0.164		0.140		0.186		0.162

表6.實施例5-8中所採用之起始材料之總量

使所得糰粒在250℃下注射模制成3 mm厚的小板以用於研究光學特性及維卡溫度。對於所有其他測試，直接使用糰粒。所得共聚物之特性及組成概述於表7中。

	實施例5	實施例6	實施例7	實施例8（比較）
共聚物組成
甲基丙烯酸甲酯單元，莫耳%	81.9	82.6	82.0	59.6
順丁烯二酸酐單元，莫耳%	10.5	10.3	10.0	22.0
2-降艸伯烯單元，莫耳%	6.7	6.2	7.0	17.5
丙烯酸甲酯	0.9	0.9	1.0	0.9
2-NB / MAH比	0.64	0.60	0.70	0.80
殘餘甲基丙烯酸甲酯，重量%	0.05	0.06	0.04	8.14
殘餘順丁烯二酸酐，重量%	0.06	0.04	0.01	0.16

共聚物特性
濁度%，ASTM D1003	0.46	0.49	0.8	3.0
Mw，g / mol	84100	112000	86700	142000
Mn，g / mol	32900	48300	37300	31000
維卡B50，℃，ISO 306	125	124	126	139
在3.8 kg時MVR，ml / 10 min，ISO 1133	6.0	2.15	5.7	0.6
透射率，D₆₅ ，ISO 13468-2	91.5	90.7	90.9	83.6

表7.實施例5-8中所獲得之共聚物之組成及特性

實施例5-7中獲得之共聚物為透明材料且實施例8（比較）之共聚物由於較高MAH含量（20莫耳%）而具有略微不透明外觀。具有此類高濁度之材料可僅用於相對薄的光學部件。在諸如透鏡之較厚部分中使用其之嘗試將引起歸因於光散射之顯著損失。此非所需光散射可例如藉由用高功率LED光照射組件而觀測到。

相比於實施例8（比較）之共聚物，實施例5-7之共聚物具有低濁度及高維卡溫度，且因此高度適用於可在高溫下操作之光學元件。實施例9

在與管狀反應器串聯之CSTR反應器中進行實施例9。CSTR為反應體積為7.3公升之攪拌式不鏽鋼容器。後續管狀反應器為具有32.8 mm內徑及15 m長度之不鏽鋼管，其中外部熱油護套用於冷卻及加熱反應混合物。管狀反應器配備有來自Sulzer Ltd. Winterthur Switzerland之SMXL®型的靜態混合元件。

反應混合物部分饋入CSTR中且部分在管狀反應器開始處，其中CSTR之排出物同樣饋入至管狀反應器中。

將管狀反應器之共聚物溶液排出液在後加熱器中加熱至200℃且饋入至15 mm雙螺桿擠出機，其中共聚物溶液在100 mbar下液化且粒化以移除未轉化單體及甲苯。

CSTR之反應器溫度為115℃且管狀反應器中之共聚物溶液溫度為120℃。

如上文所描述研究所得聚合物。

對於製程控制之CSTR樣品獲自CSTR共聚物溶液排出液，其在120℃下在20 mbar下充分乾燥16小時以獲得純聚合物。CSTR中之單體轉化率為63%，定義為CSTR樣品中之乾燥聚合物相對於總單體至CSTR樣品中之饋料的量。假定甲苯不明顯參與聚合，使得CSTR樣品中之甲苯之重量分率與總CSTR饋料中之重量分率相同。管狀反應器中之單體轉化率為81.4%。

十二烷基硫醇（DDM）用作鏈轉移劑且過新癸酸三級丁酯（TBPND）及過3,5,5-三甲基己酸三級丁酯（TBPIN）用作自由基引發劑。表8中規定反應器饋料之組成。

起始材料	CSTR饋料	管狀反應器饋料	平均總饋料
g/h	重量%	莫耳%	g/h	重量%	莫耳%	重量%	莫耳%
甲基丙烯酸甲酯	1322	54.95	60.35	980	53.55	93.14	54.35	70.99
順丁烯二酸酐	373.4	15.52	17.40	0	0.00	0.00	8.2	11.76
2-降艸伯烯	454	18.87	22.04	58	3.17	5.86	12.09	16.79
丙烯酸甲酯	3.8	0.6	0.20	9	0.49	1.00	0.30	0.46
甲苯	250	10.39		780	42.62		24.32
DDM	0.95	0.04		0	0.00		0.02
TBPND	1.5	0.06		0	0.00		0.04
TBPIN	0	0.00		3	0.16		0.07

表8：反應器饋料組成

使所得糰粒在250℃下注射模制成3 mm厚的板以用於研究光學特性及維卡溫度。對於所有其他測試，直接使用糰粒。

	實施例9
共聚物組成
甲基丙烯酸甲酯單元，莫耳%	80.4
順丁烯二酸酐單元，莫耳%	11.2
2-降艸伯烯單元，莫耳%	7.6
丙烯酸甲酯	0.8
2-NB / MAH比	0.68
殘餘甲基丙烯酸甲酯，重量%	0.06
殘餘順丁烯二酸酐，重量%	0.12

共聚物特性
濁度%，ASTM D1003	0.51
Mw，g / mol	112000
Mn，g / mol	48000
維卡B50，℃，ISO 306	128
在3.8 kg時MVR，ml / 10 min，ISO 1133	1.95
透射率，D₆₅ ，ISO 13468-2	91.3

表9.實施例9中所獲得之共聚物之組成及特性

實施例9之共聚物具有較低濁度及較高維卡溫度且因此高度適用於可在高溫下操作之光學元件。實施例10-13（比較）

專利申請案JP H4-63810A之實施例1-4根據JP H4-63810A中所描述之程序複製。

在實施例10-13中獲得之所有聚合物溶液均為不透明及白色的。共聚物之下游加工為非必要的，因為安瓿中之共聚物已經自共聚物溶液沈澱。此等共聚物之不可溶性在大規模生產中一般係成問題的。

由於2-NB與MMA不進行自由基共聚，因此提高的2-NB與MAH比率產生由來源於2-NB之重複單元及來源於MAH之重複單元的交替順序組成之較長結構域。此似乎係實施例10-13中之共聚物之乳白色外觀的原因。

此外，在PMMA共聚物中高分子量之聚合物或高比例之順丁烯二酸酐下，預期此等長鏈剛性結構域將在PMMA共聚物中具有降低之溶解度。此似乎為實施例13中之情況。儘管共聚物具有僅8莫耳%較低順丁烯二酸含量，但其分子量高至729000 g/mol。因此，不透明共聚物自反應混合物沈澱出來。

無

Claims

一種共聚物，其包含 47.0至99.8莫耳%來源於甲基丙烯酸甲酯之重複單元； 0.1至20.0莫耳%來源於由式（I）表示之化合物的重複單元
其中X由氧原子或N-R¹ 表示，該取代基R¹ 為氫原子或具有1至12個碳原子之烴基； 0.1至18.0莫耳%來源於由式（II）表示之化合物的重複單元
其中該等取代基R² 、R³ 及R⁴ 可獨立地由氫原子、具有1至12個碳原子之烴基、羧基、-C(O)-C1-12-烷基、-C(O)-C1-12-環烷基、-C(O)-O-C1-12-烷基或-C(O)-O-C1-12-環烷基表示；且其中R³ 及R⁴ 可獨立地由羥基表示或共同構建環狀部分；及 0.0至15.0莫耳%來源於視情況選用之共聚單體的重複單元，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由該式（I）及/或該式（II）表示之化合物自由基共聚，該視情況選用之共聚單體較佳為(甲基)丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯腈或芳族乙烯基單體；其中藉由GPC測定之該共聚物之重量平均分子量Mw為40000至300000 g/mol。
如請求項1之共聚物，其中該共聚物中來源於由式（II）表示之化合物的重複單元之含量p_II 以莫耳%為單位藉由以下關係描述：
其中p_I 為該共聚物中來源於由式（I）表示之化合物的重複單元之含量，以莫耳%為單位。
如請求項1或2之共聚物，其中由式（I）表示之化合物為順丁烯二酸酐且由式（II）表示之化合物為2-降
烯。
如請求項1至3中任一項之共聚物，其中該視情況選用之共聚單體為丙烯酸甲酯或丙烯酸乙酯。
如請求項1至4中任一項之共聚物，其中根據ISO 306-B50（2014）之維卡軟化溫度（Vicat softening temperature）有利地為至少90℃，較佳至少100℃，更佳至少110℃。
一種用於製造如請求項1至5中任一項之共聚物的方法，其包含（a）聚合步驟，其中包含MMA、式（I）化合物、式（II）化合物及視情況，視情況選用之共聚單體的單體混合物經歷自由基共聚以形成共聚物溶液、共聚物分散液或共聚物懸浮液。
如請求項6之方法，其中該共聚步驟（a）在較佳選自以下之溶劑存在下進行：甲苯、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲苯、二甲基呋喃、甲基乙基酮或任何彼等之混合物。
如請求項6或7之方法，其中以可聚合組分之總量計，該聚合步驟（a）中之總單體饋料具有以下組成： 28.0至99.7莫耳%甲基丙烯酸甲酯 0.1至22.0莫耳%由式（I）表示之化合物 0.2至35.0莫耳%由式（II）表示之化合物；及 0.0至15.0莫耳%視情況存在之共聚單體，其可與甲基丙烯酸甲酯及/或由式（I）及/或式（II）表示之化合物自由基共聚。
如請求項6至8中任一項之方法，其中在該聚合步驟（a）中之該總單體饋料中，由式（II）表示之化合物之含量m_II 以莫耳%為單位藉由以下關係描述：
其中m_I 為該單體混合物中由式（I）表示之化合物之含量，以莫耳%為單位。
如請求項6至9中任一項之方法，其中該聚合步驟（a）係在不連續或連續操作之攪拌槽反應器、連續操作之管狀反應器、不連續或連續操作之環流反應器或任何彼等反應器之組合中進行，且其中若採用若干反應器，則該等反應器並聯或串聯。
如請求項6至10中任一項之方法，其中該聚合步驟（a）係在與管狀反應器串聯之至少一個連續操作之攪拌槽反應器中進行，其中該管狀反應器位於該攪拌槽反應器下游。
如請求項6至11中任一項之方法，其中該聚合步驟（a）中之轉化率為至少40%，較佳至少45%。
如請求項6至12中任一項之方法，其中該聚合步驟（a）之後為（b）將在該聚合步驟（a）中獲得之該共聚物溶液加熱至100℃至300℃之溫度的步驟，及（c）在除氣設備中移除揮發性組分的步驟。
一種模制組成物，其包含如請求項1至5中任一項之共聚物及至少一種選自以下的添加劑：UV吸收劑、UV穩定劑、抗氧化劑、著色劑、流動改良劑、散射助劑、潤滑劑、脫模助劑或任何彼等物質之組合。
一種模制品，其可藉由選自注射模制及擠出之方法自如請求項14之模制組成物獲得。
一種如請求項15之模制品之用途，其用作光學元件、燈罩，較佳用於室內照明系統或汽車照明設備、著黑色之立柱裝飾板（pillar trim）、電子組件。