TW202105001A

TW202105001A - 可撓式裝置

Info

Publication number: TW202105001A
Application number: TW109106704A
Authority: TW
Inventors: 徐明樟; 黃子碩; 林志杰
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2019-07-24
Filing date: 2020-03-02
Publication date: 2021-02-01
Also published as: TWI729752B; TW202104992A; TW202103910A; TWI717244B; TW202234361A; TW202106127A; TWI737243B; TWI724807B; TWI775720B; TWI715473B; TW202119376A; TWI737211B; TW202105839A; TWI764131B; TW202105339A; TWI733366B; TW202105003A

Abstract

一種可撓式裝置包括可撓基底、畫素結構、周邊走線及膠材。可撓基底具有顯示區、第一連接區、可彎摺區、第二連接區和周邊區。第一連接區、可彎摺區及第二連接區依序設置於顯示區與周邊區之間。畫素結構設置於顯示區。周邊走線電性連接至畫素結構，且由顯示區延伸至第一連接區、可彎摺區和第二連接區。膠材設置於可彎摺區，且未設置於第一連接區和第二連接區。參考軸設置於可彎摺區。可撓基底適於沿參考軸彎摺。膠材的厚度由參考軸向參考軸的第一側及第二側減少。

Description

可撓式裝置

本發明是有關於一種可撓式裝置。

隨著顯示科技的發展，顯示面板應用範圍日益廣泛。舉例而言，在早期，顯示面板多用做電子裝置（例如：電視、電腦、手機等）的螢幕，而應用在電子裝置上的顯示面板多為硬質顯示面板；在近期，則有人將顯示面板應用在穿戴裝置（例如：手錶、衣服等），而應用在穿戴裝置上的顯示面板多為可撓式顯示面板。

可撓式顯示面板需具備相當的可彎曲程度。換言之，當可撓式顯示面板彎曲時，可撓基板上的構件（例如：周邊走線等）需隨之彎曲並維持正常功能。然而，當可撓式顯示面板彎曲時，應力會集中在彎摺中心線，造成周邊走線非常容易在彎摺中心線上斷裂，影響可撓式顯示面板的良率及信賴性。

本發明提供一種可撓式裝置，性能佳。

本發明的可撓式裝置包括可撓基底、畫素結構、周邊走線以及膠材。可撓基底具有顯示區、第一連接區、可彎摺區、第二連接區和周邊區，其中第一連接區、可彎摺區及第二連接區依序設置於顯示區與周邊區之間。畫素結構設置於顯示區，且具有主動元件和電性連接至主動元件的畫素電極。周邊走線電性連接至畫素結構，且由顯示區延伸至第一連接區、可彎摺區和第二連接區。膠材設置於可彎摺區，且未設置於第一連接區和第二連接區。參考軸設置於可彎摺區，可撓基底適於沿參考軸彎摺，且膠材的厚度由參考軸向參考軸之相對的第一側及第二側減少。

在本發明的一實施例中，上述的可撓基底的可彎摺區具有相對的第一邊緣及第二邊緣，第一邊緣及第二邊緣與參考軸交錯，膠材在與參考軸交錯的一方向上具有一寬度，且膠材的寬度由可彎摺區的內部向第一邊緣及第二邊緣增加。

在本發明的一實施例中，上述的可撓基底的可彎摺區具有相對的第一邊緣及第二邊緣，第一邊緣及第二邊緣與參考軸交錯，膠材具有主要部、第一輔助部及第二輔助部，膠材的主要部設置於可彎摺區的內部，第一輔助部設置於主要部與第一邊緣之間，第二輔助部設置於主要部與第二邊緣之間，主要部的寬度實質上一致，第一輔助部的寬度大於主要部的寬度且隨著靠近第一邊緣而增加，第二輔助部的寬度大於主要部的寬度且隨著靠近第二邊緣而增加。

在本發明的一實施例中，上述的膠材在參考軸的延伸方向上具有總長度L，膠材的第一輔助部在參考軸的延伸方向上具有長度L1，且0.1∙L≤L1≤0.25∙L。

在本發明的一實施例中，上述的第二輔助部在參考軸的延伸方向上具有長度L2，且0.1∙L≤L2≤0.25∙L。

在本發明的一實施例中，上述的膠材的主要部在與參考軸交錯的方向上具有寬度W0，第一輔助部在與參考軸交錯的方向上具有最大寬度W1，且0.3≤（W0/W1）≤1。

在本發明的一實施例中，上述的第二輔助部在與參考軸交錯的方向上具有最大寬度W2，且0.3≤（W0/W2）≤1。

在本發明的一實施例中，上述的可撓式裝置更包括材料層，至少設置於可彎摺區。周邊走線位於材料層與可撓基底之間。材料層具有位於參考軸之第一側及第二側的多個凹槽，膠材設置於材料層上，且部分的膠材填入凹槽。

在本發明的一實施例中，位於上述可彎摺區的材料層具有凸起的表面，第一切平面與所述表面相切且通過參考軸，第二切平面與所述表面相切且通過多個凹槽的一者，第一切平面的法線與第二切平面的法線具有一交點，交點與參考軸具有距離r，且膠材在與參考軸交錯的方向上的寬度介於0.3πr至πr。

在本發明的一實施例中，位於上述可彎摺區的材料層具有凸起的表面，第一切平面與所述表面相切且通過參考軸，第二切平面與所述表面相切且通過多個凹槽的一者，第一切平面的法線與第二切平面的法線具有夾角θ，且30^o ≤θ≤85^o 。

在本發明的一實施例中，上述的多個凹槽包括設置於參考軸之第一側的多個第一凹槽，且第一凹槽的深度隨著遠離參考軸而增加。

在本發明的一實施例中，上述的多個凹槽更包括設置於參考軸之第二側的多個第二凹槽，且第二凹槽的深度隨著遠離參考軸而增加。

現將詳細地參考本發明的示範性實施例，示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。

應當理解，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件“上”或“連接到”另一元件時，其可以直接在另一元件上或與另一元件連接，或者中間元件可以也存在。相反，當元件被稱為“直接在另一元件上”或“直接連接到”另一元件時，不存在中間元件。如本文所使用的，“連接”可以指物理及/或電性連接。再者，“電性連接”或“耦合”可以是二元件間存在其它元件。

本文使用的“約”、“近似”、或“實質上”包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值，考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量（即，測量系統的限制）。例如，“約”可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內，或±30％、±20％、±10％、±5％內。再者，本文使用的“約”、“近似”或“實質上”可依光學性質、蝕刻性質或其它性質，來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差，而可不用一個標準偏差適用全部性質。

除非另有定義，本文使用的所有術語（包括技術和科學術語）具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義，並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。

圖1為本發明一實施例之可撓式裝置10的側視示意圖。

圖2為本發明一實施例之可撓式裝置10的正視示意圖。

圖3為本發明一實施例之可撓式裝置10的剖面示意圖。特別是，圖3對應圖2的線段Ι-Ι’及圖1的區域K1。

為清楚表達起見，圖1、圖2及圖3繪有互相垂直的方向x、方向y及方向z。

圖4為本發明一實施例之可撓式裝置10的畫素陣列基板100的剖面示意圖。須說明的是，圖1、圖2及圖3示出可撓式裝置10已被彎摺的狀態，而圖4是示出可撓式裝置10未被彎摺的狀態。以下透過圖1、圖2、圖3及圖4的搭配說明可撓式裝置10的構造。

請參照圖1及圖4，可撓式裝置10包括畫素陣列基板100。畫素陣列基板100包括可撓基底110。可撓基底110具有顯示區111、第一連接區112、可彎摺區113、第二連接區114及周邊區115，其中第一連接區112、可彎摺區113及第二連接區114依序設置於顯示區111與周邊區115之間。

顯示區111是指設有畫素結構PX的區域。周邊區115是指設有接墊180的區域，其中接墊180與周邊走線153電性連接且用以與驅動元件400接合，以使驅動元件400能透過周邊走線153驅動畫素結構PX。可彎摺區113是指設有周邊走線153且呈彎曲狀態的區域。第一連接區112是指連接於顯示區111與可彎摺區113之間的區域。在本實施例中，第一連接區112實質上不彎曲，第一連接區112與顯示區111實質上連成一平板，但本發明不以此為限。第二連接區114是指連接於可彎摺區113與周邊區115之間的區域。在本實施例中，第二連接區114實質上不彎曲，且第二連接區114與周邊區115實質上連成一平板，但本發明不以此為限。

在本實施例中，可撓式裝置10還可進一步包括保護膜300，設置於畫素陣列基板100的背面110a。保護膜300覆蓋顯示區111與周邊區115，而不覆蓋第一連接區112、可彎摺區113及第二連接區114。在本實施例中，可撓式裝置10還可選擇性地包括偏光片500，設置於畫素陣列基板100的正面170a。偏光片500覆蓋顯示區111，而不覆蓋第一連接區112、可彎摺區113、第二連接區114及周邊區115。

舉例而言，在本實施例中，可撓基底110的材質可選用有機聚合物，例如：聚醯亞胺（polyimide，PI）、聚萘二甲酸乙醇酯（polyethylene naphthalate，PEN）、聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate，PET）、聚碳酸酯（polycarbonates，PC）、聚醚碸（polyether sulfone，PES）或聚芳基酸酯（polyarylate）、其它合適的材料、或前述至少二種材料的組合。

請參照圖4，畫素陣列基板100還包括畫素結構PX，設置於可撓基底110的顯示區111，且具有主動元件T和電性連接至主動元件T的畫素電極160。舉例而言，本實施例中，主動元件T包括薄膜電晶體，薄膜電晶體具有閘極140、半導體圖案120、閘絕緣層130、源極151和汲極152，其中閘絕緣層130設置於閘極140與半導體圖案120之間，源極151和汲極152分別與半導體圖案120的兩區電性連接，而畫素電極160電性連接至薄膜電晶體的汲極152。

畫素陣列基板100還包括周邊走線153，電性連接至畫素結構PX，且由顯示區111延伸至第一連接區112、可彎摺區113及第二連接區114。周邊走線153也可稱扇出走線（fan-out trace）。在本實施例中，周邊走線153可使用金屬材料、合金、金屬材料的氮化物、金屬材料的氧化物、金屬材料的氮氧化物、其它導電材料、或上述至少二者的堆疊層。

請參照圖1、圖2、圖3及圖4，可撓式裝置10還包括已固化的膠材200，設置於畫素陣列基板100的可彎摺區113，且未設置於第一連接區112和第二連接區114，其中參考軸X設置於可彎摺區113，可撓基底110適於沿參考軸X彎摺，且膠材200的厚度H由參考軸X向參考軸X之相對的第一側S1及第二側S2減少。也就是說，膠材200在參考軸X上具有最大的厚度H；越靠近第一連接區112和第二連接區114，膠材200的厚度H越薄。

值得一提的是，透過在可彎摺區113的彎摺中心線（即參考軸X）上設置膠材200，且令膠材200的厚度H自彎摺中心線上向彎摺中心線的兩側減少，可使彎摺之部份畫素陣列基板100的表面170b近似於圓柱體的部分表面。藉此，周邊走線153於對應彎摺中心線（即參考軸X）所在處受到的應力會減少，而不易斷裂（crack）。

第一比較例的可撓式裝置（未繪示）與本實施例的可撓式裝置10類似，第一比較例的可撓式裝置與本實施例的可撓式裝置10的差異僅在於，第一比較例的可撓式裝置不包括本實施例之可撓式裝置10的膠材200。

第二比較例的可撓式裝置（未繪示）與本實施例的可撓式裝置10類似。第二比較例的可撓式裝置也具有膠材，設置於可彎摺區而未設置於第一連接區及第二連接區。第二比較例的可撓式裝置與本實施例的可撓式裝置10的差異僅在於，第二比較例之可撓式裝置的膠材之整體的厚度一致。

根據一模擬結果，第一比較例的可撓式裝置的周邊走線於彎摺中心線所在處受到應力為288MPa，第二比較例的可撓式裝置的周邊走線於彎摺中心線所在處所到的應力為286MPa，本實施例的可撓式裝置的周邊走線於彎摺中心線所在處受到的應力為260MPa。相較於第一比較例，第二比較例之周邊走線於彎摺中心線所在處受到的應力僅降低0.7%，但本實施例之周邊走線153於彎摺中心線所在處受到的應力顯著得降低10%。

由此可證，透過在可彎摺區113的彎摺中心線（即參考軸X）上設置膠材200，且令膠材200的厚度H自彎摺中心線上向彎摺中心線的兩側減少，可使周邊走線153於彎摺中心線所在處受到的應力減小，不易斷裂（crack），從而提升可撓式裝置10的良率及其信賴性。

在本實施例中，膠材200的硬度高，且膠材200的選用以具有高楊氏模數為佳。舉例而言，在本實施例中，膠材200的楊氏模數（Young's modulus）可介於0.5GPa～2.5GPa，例如但不限於1.75GPa。下表一示出本發明一實施例之膠材200的各種最大的厚度H與其周邊走線153於參考軸X所在處受到的應力。請參照下表一，膠材200之最大的厚度H增為100µm時，周邊走線153於參考軸X所在處受到的應力會明顯上升為361MPa。因此，在本實施例中，膠材200之最大的厚度H以大於或等於10µm且小於100µm為佳。然而，本發明不以此為限，膠材200之最大的厚度H的適當範圍與膠材200本身的楊氏模數相關，本發明並不加以限定。

	最大的厚度
10µm	50µm	75µm	100µm
應力	253MPa	260MPa	271MPa	361MPa

[表一]

在本實施例中，膠材200的材料可包括壓克力系列、環氧樹脂或其它適當材料。

請參照圖1及圖2，可撓基底110的可彎摺區113具有相對的第一邊緣113a及第二邊緣113b，其中第一邊緣113a及第二邊緣113b與參考軸X交錯。在本實施例中，膠材200具有主要部210、第一輔助部220及第二輔助部230，膠材200的主要部210設置於可彎摺區113的內部，第一輔助部220設置於主要部210與第一邊緣113a之間，第二輔助部230設置於主要部210與第二邊緣113b之間，主要部210的寬度W0實質上一致，第一輔助部220的寬度W1大於主要部210的寬度W0且隨著靠近第一邊緣113a而增加，第二輔助部230的寬度W2大於主要部210的寬度W0且隨著靠近第二邊緣113b而增加。簡言之，在本實施例中，膠材200於可撓基底110上的垂直投影可以是其窄部相連且互為鏡射的兩個喇叭的垂直投影。

舉例而言，在本實施例中，膠材200在參考軸X的延伸方向x上具有一總長度L，膠材200的第一輔助部220在參考軸X的延伸方向x上具有一長度L1，且0.1∙L≤L1≤0.25∙L；膠材200的第二輔助部230在參考軸X的延伸方向x上具有一長度L2，且0.1∙L≤L2≤0.25∙L。

舉例而言，在本實施例中，膠材200的主要部210在與參考軸X交錯的一方向d上具有寬度W0，第一輔助部220在與參考軸X交錯的方向d上具有一最大的寬度W1，且0.3 ≤（W0/W1）≤ 1。第二輔助部230在與參考軸X交錯的方向d上具有一最大的寬度W2，且0.3 ≤（W0/W2）≤ 1。

請參照圖1、圖2、圖3及圖4，在本實施例中，可撓式裝置10更包括材料層170，至少設置於可彎摺區113。周邊走線153位於材料層170與可撓基底110之間。特別是，材料層170具有位於參考軸X之第一側S1及第二側S2的多個凹槽172、174，膠材200設置於材料層170上，且部分的膠材200填入多個凹槽172、174。

凹槽172、174用以在膠材200形成的過程中限制膠材200分佈範圍，以使膠材200形成在指定區域。此外，透過凹槽172、174的設置，在遠離參考軸X處，部份的膠材200會陷入凹槽172、174，而較容易形成厚度H由參考軸X向參考軸X之相對的第一側S1及第二側S2減少的膠材200。

在本實施例中，材料層170例如是設置於畫素結構PX之畫素電極160上的一介電層，例如畫素定義層。在本實施例中，材料層170可以是一有機絕緣層。然而，本發明不限於此，凡舉位於周邊走線153上且具有足夠厚度的膜層均可做為材料層170使用。舉例而言，在未繪示的另一實施例中，畫素陣列基板100上可設有觸控基板（未繪示），觸控基板的基底也可做為材料層170使用；亦即，觸控基板之基底的背面上可具有凹槽172、174，而膠材200也可設置於觸控基板之基底的背面上。

請參照圖3及圖4，在本實施例中，位於可彎摺區113的材料層170具有凸起的表面170b。請參照圖3，第一切平面P1與表面170b相切且通過參考軸X，第二切平面P2與表面170b相切且通過一凹槽174，第一切平面P1的法線N1與第二切平面P2的法線N2具有交點O，交點O與參考軸X具有一距離r，且膠材200在與參考軸X交錯的一方向d上的寬度W0、W1、W2介於0.3πr至πr。從另一角度而言，在本實施例中，第一切平面P1的法線N1與第二切平面P2的法線N2具有一夾角θ，且30^o ≤θ≤85^o 。

在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重述。

圖5為本發明一實施例之可撓式裝置10A的側視示意圖。

圖6為本發明一實施例之可撓式裝置10A的正視示意圖。

圖7為本發明一實施例之可撓式裝置10A的剖面示意圖。特別是，圖7對應圖6的線段II-II’及圖5的區域K2。

為清楚表達起見，圖5、圖6及圖7繪有互相垂直的方向x、方向y及方向z。

圖8為本發明一實施例之可撓式裝置10A的畫素陣列基板100的剖面示意圖。須說明的是，圖5、圖6及圖7示出可撓式裝置10已被彎摺的狀態，而圖8是示出可撓式裝置10未被彎摺的狀態。以下透過圖5、圖6、圖7及圖8的搭配說明可撓式裝置10A的構造。

請參照圖5、圖6、圖7及圖8，本實施例的可撓式裝置10A與上述前述的可撓式裝置10類似，兩者的差異在於:在本實施例中，多個凹槽172、174包括分別設置於參考軸X之第一側S1與第二側S2的多個第一凹槽172-1、172-2、172-3及多個第二凹槽174-1、174-2、174-3；特別是，多個第一凹槽172-1、172-2、172-3的深度C隨著遠離參考軸X而增加，多個第二凹槽174-1、174-2、174-3的深度C隨著遠離參考軸X而增加。

上述深度C漸變的多個第一凹槽172-1、172-2、172-3及多個第二凹槽174-1、174-2、174-3有助於形成其厚度H由參考軸X向參考軸X之相對的第一側S1及第二側S2減少的膠材200。

舉例而言，在本實施例中，第一凹槽172-1、172-2、172-3的深度C及第二凹槽174-1、174-2、174-3的深度C可介於1µm～10µm；第一凹槽172-1、172-2、172-3及第二凹槽174-1、174-2、174-3之在方向d上的寬度A可介於10µm～100µm；多個第一凹槽172-1、172-2、172-3之在方向d上的的間距B及第二凹槽174-1、174-2、174-3之在方向d上的的間距B可介於10µm～100µm；但本發明不以此為限。

10、10A:可撓式裝置 100:畫素陣列基板 110:可撓基底 110a:背面 111:顯示區 112:第一連接區 113:可彎摺區 113a:第一邊緣 113b:第二邊緣 114:第二連接區 115:周邊區 120:半導體圖案 130:閘絕緣層 140:閘極 151:源極 152:汲極 153:周邊走線 160:畫素電極 170:材料層 170a:正面 170b:表面 172、174:凹槽 172-1、172-2、172-3:第一凹槽 174-1、174-2、174-3:第二凹槽 180:接墊 200:膠材 210:主要部 220:第一輔助部 230:第二輔助部 300:保護膜 400:驅動元件 500:偏光片 A:寬度 B:間距 C:深度 H:厚度 K1、K2:區域 L:總長度 L1、L2:長度 N1、N2:法線 O:交點 PX:畫素結構 P1:第一切平面 P2:第二切平面 r:距離 S1:第一側 S2:第二側 T:主動元件 W0、W1、W2:寬度 X:參考軸 x、y、z、d:方向 Ι-Ι’、II-II’:線段 θ:夾角

圖1為本發明一實施例之可撓式裝置10的側視示意圖。圖2為本發明一實施例之可撓式裝置10的正視示意圖。圖3為本發明一實施例之可撓式裝置10的剖面示意圖。圖4為本發明一實施例之可撓式裝置10的畫素陣列基板100的剖面示意圖。圖5為本發明一實施例之可撓式裝置10A的側視示意圖。圖6為本發明一實施例之可撓式裝置10A的正視示意圖。圖7為本發明一實施例之可撓式裝置10A的剖面示意圖。圖8為本發明一實施例之可撓式裝置10A的畫素陣列基板100的剖面示意圖。

10:可撓式裝置

100:畫素陣列基板

110a:背面

111:顯示區

112:第一連接區

113:可彎摺區

114:第二連接區

115:周邊區

170a:正面

200:膠材

300:保護膜

400:驅動元件

500:偏光片

H:厚度

K1:區域

x、y、z:方向

Claims

一種可撓式裝置，包括：一可撓基底，具有一顯示區、一第一連接區、一可彎摺區、一第二連接區和一周邊區，其中該第一連接區、該可彎摺區及該第二連接區依序設置於該顯示區與該周邊區之間；一畫素結構，設置於該顯示區，且具有一主動元件和電性連接至該主動元件的一畫素電極；一周邊走線，電性連接至該畫素結構，且由該顯示區延伸至該第一連接區、該可彎摺區和該第二連接區；以及一膠材，設置於該可彎摺區，且未設置於該第一連接區和該第二連接區，其中一參考軸設置於該可彎摺區，該可撓基底適於沿該參考軸彎摺，且該膠材的厚度由該參考軸向該參考軸之相對的一第一側及一第二側減少。
如請求項1所述的可撓式裝置，其中該可撓基底的該可彎摺區具有相對的一第一邊緣及一第二邊緣，該第一邊緣及該第二邊緣與該參考軸交錯，該膠材在與該參考軸交錯的一方向上具有一寬度，且該膠材的該寬度由該可彎摺區的內部向該第一邊緣及該第二邊緣增加。
如請求項1所述的可撓式裝置，其中該可撓基底的該可彎摺區具有相對的一第一邊緣及一第二邊緣，該第一邊緣及該第二邊緣與該參考軸交錯，該膠材具有一主要部、一第一輔助部及一第二輔助部，該膠材的該主要部設置於該可彎摺區的內部，該第一輔助部設置於該主要部與該第一邊緣之間，該第二輔助部設置於該主要部與該第二邊緣之間，該主要部的一寬度實質上一致，該第一輔助部的寬度大於該主要部的該寬度且隨著靠近該第一邊緣而增加，該第二輔助部的寬度大於該主要部的該寬度且隨著靠近該第二邊緣而增加。
如請求項3所述的可撓式裝置，其中該膠材在該參考軸的一延伸方向上具有一總長度L，該膠材的該第一輔助部在該參考軸的該延伸方向上具有一長度L1，且0.1∙L≤L1≤0.25∙L。
如請求項4所述的可撓式裝置，其中該第二輔助部在該參考軸的該延伸方向上具有一長度L2，且0.1∙L≤L2≤0.25∙L。
如請求項3所述的可撓式裝置，其中該膠材的該主要部在與該參考軸交錯的一方向上具有該寬度W0，該第一輔助部在與該參考軸交錯的該方向上具有一最大寬度W1，且0.3≤（W0/W1）≤1。
如請求項6所述的可撓式裝置，其中該第二輔助部在與該參考軸交錯的該方向上具有一最大寬度W2，且0.3≤（W0/W2）≤1。
如請求項1所述的可撓式裝置，更包括：一材料層，至少設置於該可彎摺區，其中該周邊走線位於該材料層與該可撓基底之間，該材料層具有位於該參考軸之該第一側及該第二側的多個凹槽，該膠材設置於該材料層上，且部分的該膠材填入該些凹槽。
如請求項8所述的可撓式裝置，其中位於該可彎摺區的該材料層具有凸起的一表面，一第一切平面與該表面相切且通過該參考軸，一第二切平面與該表面相切且通過該些凹槽的一者，該第一切平面的一法線與該第二切平面的一法線具有一交點，該交點與參考軸具有一距離r，且該膠材在與該參考軸交錯的一方向上的寬度介於0.3πr至πr。
如請求項8所述的可撓式裝置，其中位於該可彎摺區的該材料層具有凸起的一表面，一第一切平面與該表面相切且通過該參考軸，一第二切平面與該表面相切且通過該些凹槽的一者，該第一切平面的一法線與該第二切平面的一法線具有一夾角θ，且30^o ≤θ≤85^o 。
如請求項8所述的可撓式裝置，其中該些凹槽包括設置於該參考軸之該第一側的多個第一凹槽，且該些第一凹槽的深度隨著遠離該參考軸而增加。
如請求項11所述的可撓式裝置，其中該些凹槽更包括設置於該參考軸之該第二側的多個第二凹槽，且該些第二凹槽的深度隨著遠離該參考軸而增加。