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TW202036060A - 包括圖案化反射器之背光、擴散板及製造背光之方法 - Google Patents

包括圖案化反射器之背光、擴散板及製造背光之方法 Download PDF

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TW202036060A
TW202036060A TW108139851A TW108139851A TW202036060A TW 202036060 A TW202036060 A TW 202036060A TW 108139851 A TW108139851 A TW 108139851A TW 108139851 A TW108139851 A TW 108139851A TW 202036060 A TW202036060 A TW 202036060A
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TW
Taiwan
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light
light guide
layer
backlight
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Application number
TW108139851A
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English (en)
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克爾克理察 艾倫
費德爾狄米崔維奇 奇塞雷弗
狄米崔費拉迪斯拉佛維奇 庫克森寇夫
克里斯多夫麥可 林恩
帕梅拉阿琳 莫瑞
向東 米
史考特克里斯多夫 寶拉德
尼科類堤摩費耶維奇 提摩費
安德里 法蘭尼西亞
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美商康寧公司
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Publication date
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Priority claimed from PCT/RU2019/000250 external-priority patent/WO2020214047A1/en
Priority claimed from PCT/RU2019/000722 external-priority patent/WO2021071378A1/en
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Abstract

一種背光包括：一基板、複數個光源、一反射層、一導光板、光提取器之一圖案、複數個圖案化反射器及一擴散層。該複數個光源靠近該基板。該反射層係在該基板上。該導光板靠近該複數個光源。光提取器之該圖案係在該導光板上。該複數個圖案化反射器係在該導光板上。每一圖案化反射器與一對應光源對準。該擴散層係在該導光板上。

Description

包括圖案化反射器之背光、擴散板及製造背光之方法
本申請案依據專利法主張2019年10月9日申請之國際專利申請案第PCT/RU2019/000722號、2019年4月15日申請之國際專利申請案第PCT/RU2019/000250號及2018年11月12日申請之國際專利申請案第PCT/RU2018/000738號的優先權之權益，前述各案之內容為本發明之基礎且全文以引用方式倂入本文中。
本發明大體上係關於用於顯示器之背光。更特定而言，本發明係關於包括圖案化反射器之背光。
液晶顯示器(Liquid crystal displays；LCD)常用於各種電子件中，諸如用於手機、膝上型電腦、電子平板電腦、電視機及電腦監視器中。LCD為顯示器面板包括個別可定址光閥之陣列的光閥類顯示器。LCD可包括用於產生光之背光，光可接著經波長轉換、濾光及/或偏光以自LCD產生影像。背光可為側光式或直接照明式。側光式背光可包括邊緣耦接至導光板之發光二極體(light emitting diode；LED)陣列，該導光板自其表面發射光。直接照明式背光可包括直接在LCD面板後方的LED之二維(two-dimensional；2D)陣列。
直接照明式背光相較於側光式背光可具有改良之動態對比度的優勢。舉例而言，具有直接照明式背光之顯示器可獨立地調整每一LED之亮度以設定影像上之亮度的動態範圍。此通常被稱為局部調光。然而，為了在直接照明式背光中達成所要光均一性及/或為了避免熱點，擴散板或膜可定位於距LED的一距離處，因此使得總顯示器厚度大於側光式背光的厚度。定位於LED上方之透鏡已用以改良直接照明式背光中光的側向散佈。此類配置中LED與擴散板或膜之間的光學距離(optical distance；OD)(例如，自至少10毫米至通常約20至30毫米)仍導致非所要之高的總顯示器厚度，及/或此等配置隨著背光厚度減低而可產生非所要光學損耗。雖然側光式背光可更薄，但來自每一LED之光可散佈在導光板之大的區上，使得關斷個別LED或LED或群組可僅僅對動態對比度具有最小影響。
本發明概念之一些實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一反射層、一導光板、光提取器之一圖案、複數個圖案化反射器及一擴散層。該複數個光源靠近該基板。該反射層係在該基板上。該導光板靠近該複數個光源。光提取器之該圖案係在該導光板上。該複數個圖案化反射器係在該導光板上。每一圖案化反射器與一對應光源對準。該擴散層係在該導光板上。
本發明之其他實施例係關於一種擴散板。該擴散板包括一玻璃基板及一第一散射層。該玻璃基板包括一第一表面及與該第一表面相對之一第二表面。該第一散射層係在該玻璃基板之該第一表面上。該擴散板包括大於90%之一濁度，及小於1的針對法向入射之沿著法向方向之一經餘弦校正雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。
本發明之又其他實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一第一反射層、一導光板、光提取器之一圖案、複數個圖案化反射器及一第二反射層。該複數個光源靠近該基板。該第一反射層係在該基板上。該導光板靠近該複數個光源。光提取器之該圖案係在該導光板上。該複數個圖案化反射器係在該導光板上。每一圖案化反射器與一對應光源對準。該第二反射層係在該導光板與該第一反射層之間。
本發明之又其他實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一反射層、一導光板、光提取器之一圖案、複數個圖案化反射器及一囊封層。該複數個光源靠近該基板。該反射層係在該基板上。該導光板靠近該複數個光源。光提取器之該圖案係在該導光板上。該複數個圖案化反射器係在該導光板上。每一圖案化反射器與一對應光源對準。該囊封層係在該反射層上且囊封該複數個光源。
本發明之又其他實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一第一反射層、一導光板、光提取器之一圖案及複數個圖案化反射器。該複數個光源靠近該基板。該第一反射層係在該基板上。該導光板靠近該複數個光源，且包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面。光提取器之該圖案係在該導光板之該第一表面上。該複數個圖案化反射器係在該導光板之該第一表面上。每一圖案化反射器與一對應光源對準且包括一變化之厚度。每一圖案化反射器與光提取器之該圖案之間的一間隙係在自d2至3*d2之一範圍內，其中d2係該導光板在該第一表面與該第二表面之間的一厚度。
本發明之又其他實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一第一反射層、一導光板，以及複數個光提取器及複數個圖案化反射器。該複數個光源靠近該基板。該第一反射層係在該基板上。該導光板靠近該複數個光源，且包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面。該複數個光提取器及該複數個圖案化反射器包括相同材料，且在該導光板之該第一表面上配置成一網格圖案。每一圖案化反射器與一對應光源對準。
本發明之又其他實施例係關於一種用於製造一背光之方法。該方法包括將一反射層施加於一基板上之步驟。該方法包括將複數個光源配置於該基板上之步驟。該方法包括將光提取器之一圖案及複數個圖案化反射器施加於一導光板之一第一表面上的步驟。該方法包括在該複數個光源上方配置該導光板使得每一圖案化反射器與一對應光源對準的步驟。
本發明之又其他實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一反射層、一囊封層、光提取器之一圖案，及複數個圖案化反射器。該複數個光源靠近該基板。該反射層係在該基板上。該囊封層係在該反射層上且囊封該複數個光源。光提取器之該圖案係在該囊封層上。該複數個圖案化反射器係在該囊封層上，且每一圖案化反射器與一對應光源對準。
本發明之又其他實施例係關於一種背光。該背光包括：一基板、複數個光源、一第一反射層、一第二反射層及至少一個囊封層。該複數個光源靠近該基板。該第一反射層係在該基板上。該第二反射層係在該第一反射層上，且包括複數個開口。每一開口與一對應光源對準。該至少一個囊封層係在該第一反射層上，且囊封該複數個光源。
本文中所揭示之背光為具有改良之光效率的薄的直接照明式背光。該等背光具有用以隱藏光源從而產生一種較薄之背光的改良之能力。用以隱藏光源的改良之能力允許直接在背光之光源上方的所謂「熱」點之移除，因此在顯示器上產生均一亮度。
額外特徵及優勢將在以下詳細描述中闡述，且部分而言對於熟習此項技術者自該描述內容顯而易見，或藉由實踐如本文中所描述之實施例，包括以下詳細描述、申請專利範圍以及隨附圖式而認識到。
應理解，前述一般描述及以下詳細描述兩者僅為例示性的，且意欲提供概述或框架以理解申請專利範圍之本質及特性。包括隨附圖式以提供進一步理解，且附圖倂入於此說明書中且構成該說明書的部分。圖式說明一或多個實施例，且與描述內容一起解釋各種實施例的原理及操作。
現將詳細參看本發明之實施例，其實施例說明於隨附圖式中。只要有可能，貫穿圖式，相同元件符號指相同或類似零件。然而，本發明可以許多不同形式具體化，且不應解譯為限於本文中闡述的實施例。
範圍在本文中可表達為自「約」一個特定值及/或至「約」另一特定值。當表達此範圍時，另一實施例包括自一個特定值及/或至另一特定值。類似地，當值藉由使用先行詞「約」表達為近似值時，應理解特定值形成另一實施例。應進一步理解，範圍中之每一者的端點關於另一端點且獨立於另一端點皆為有效的。
如本文中所使用之方向術語，例如上、下、右、左、前、後、頂部、底部、垂直、水平，僅參看如所繪製之諸圖作出，且並不意欲暗示絕對定向。
除非以其他方式明確陳述，否則絕不意欲本文中闡述之任何方法解譯為需要其步驟以特定次序執行，亦不意欲在任何設備情況下需要特定定向。因此，其中方法項並不實際上敘述待由其步驟遵循的次序，或任何設備項並不實際上敘述次序或對個別組件的定向，或其不以其他方式在申請專利範圍或描述內容中具體陳述步驟不限於特定次序，或者特定次序或對設備之組件的定向並不經敘述，絕不意欲在任何方面推斷次序或定向。此情形適用於任何可能的不明顯解釋，包括：關於步驟配置之邏輯的事件、操作流程、組件次序或組件之定向；自語法組織或標點符號導出的普通含義，及；說明書中描述之實施例的數目或類型。
如本文中所使用，單數形式「一」及「該」包括複數引用，除非上下文以其他方式清楚地指明。因此，例如，對「一」組件之引用包括具有兩個或兩個以上此類組件的態樣，除非上下文清楚地指示並非如此。
現參看第1A圖至第1D圖，描繪例示性背光100的各種視圖。第1A圖為背光100之橫截面圖。背光100可包括基板102、反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112。複數個光源106配置於基板102上，且與基板102電連通。反射層104係在基板102上且包圍每一光源106。在某些例示性實施例中，基板102可為反射性的，使得可排除反射層104。導光板108係在複數個光源106上方，且以光學方式耦接至每一光源106。在某些例示性實施例中，光學黏著劑109可用以將複數個光源106耦接至導光板108。光學黏著劑(例如，苯基聚矽氧)可具有大於或等於導光板108之折射率的折射率。複數個圖案化反射器112配置於導光板108之上表面上。每一圖案化反射器112與對應光源106對準。
第1B圖為基板102上複數個光源106及反射層104的俯視圖。光源106配置成包括複數個列及複數個行的2D陣列。雖然九個光源106在第1B圖中說明為三個列及三個行，但在其他實施例中，背光100可包括以任何合適數目個列及任何合適數目個行配置的任何合適數目個光源106。光源106亦可以其他週期性圖案配置，例如，以六邊形或三角形格子或準週期性或非嚴格之週期性圖案配置。舉例而言，光源106之間的間隔可在背光之邊緣及/或轉角處較小。基板102可為印刷電路板(printed circuit board；PCB)、玻璃或塑膠基板或用於將電信號傳遞至每一光源光源106從而個別地控制每一光源的另一合適基板。基板102可為剛性基板或可撓性基板。舉例而言，基板102可包括平坦玻璃或曲面玻璃。舉例而言，曲面玻璃可具有小於約2000毫米，諸如約1500、1000、500、200或100毫米的曲率半徑。舉例而言，反射層104可包括金屬箔，諸如銀、鉑、金、銅及類似者；介電材料(例如，聚合物，諸如聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene；PTFE))；多孔聚合物材料，諸如聚對酞酸乙二酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methyl methacrylate)；PMMA)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate；PEN)、聚醚碸(polyethersulfone；PES)等；多層介電干涉塗層，或反射墨水，包括白色無機微粒(諸如二氧化鈦、硫酸鋇等)，或適合於反射光及調諧所反射光及透射光之色彩的其他材料，諸如著色顏料。
舉例而言，複數個光源106中之每一者可為LED (例如大於約0.5毫米之大小)、迷你LED (例如介於約0.1毫米與約0.5毫米之間的大小)、微型LED (例如，小於約0.1毫米的大小)、有機LED (organic LED；OLED)，或具有範圍介於約100奈米至約750奈米之間的波長之另一合適光源。來自每一光源106之光以光學方式耦合至導光板108。如本文中所使用，術語「以光學方式耦合」意欲指明，光源定位於導光板108之表面處，且直接或經由光學清透黏著劑109與導光板108光學連通，以便將光引入至導光板中，光至少部分歸因於全內反射而傳播。來自每一光源106之光以光學方式耦合至導光板108，使得光之第一部分歸因於全內反射在導光板108中側向行進且藉由光提取器110之圖案自導光板提取，且光之第二部分歸因於反射層104及圖案化反射器112的反射表面處或光學膜堆疊(展示於第3圖中)與反射層104之間的多次反射而在反射層104與圖案化反射器112之間側向行進。
根據各種實施例，導光板108可包括用於照明及顯示應用的任何合適透明材料。如本文中所使用，術語「透明」意欲指明，導光板在光譜之可見範圍(約420至750奈米)內之500毫米長度上具有大於約70%的光學透射率。在某些實施例中，例示性透明材料在500毫米之長度上在紫外線(ultraviolet；UV)區(約100至400奈米)上具有大於約50%的光學透射率。根據各種實施例，導光板針對範圍為約450奈米至約650奈米之波長在50毫米之路徑長度上可包括至少95%的光學透射率。
導光板之光學性質可受透明材料之折射率影響。根據各種實施例，導光板108可具有範圍為約1.3至約1.8的折射率。在其他實施例中，導光板108可具有相對低位準之光衰減(例如，歸因於吸收及/或散射)。舉例而言，導光板108之光衰減(α)對於範圍為約420至750奈米之波長每公尺小於約5分貝。導光板108可包括聚合物材料，諸如塑膠(例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、甲基丙烯酸甲酯苯乙烯(methylmethacrylate styrene；MS)、聚二甲基矽氧烷(polydimethylsiloxane；PDMS))、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)，或其他類似材料。導光板108亦可包括玻璃材料，諸如鋁矽酸鹽玻璃、鹼性鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃、鹼性硼矽酸鹽玻璃、鋁硼矽酸鹽玻璃、鹼性鋁硼矽酸鹽玻璃、鹼石灰玻璃，或其他合適玻璃。適合於用作玻璃導光板108之市售玻璃的非限制性實例包括EAGLE XG®、LotusTM 、Willow®、IrisTM 及來自Corning Incorporated的Gorilla®玻璃。在基板102包括曲面玻璃之實例中，導光板108亦可包括曲面玻璃以形成曲面背光。
第1C圖為導光板108之光提取器110之圖案的俯視圖。光提取器110之圖案包括複數個間隙111。每一間隙111與對應光源106及對應圖案化反射器112對準。導光板108包括導光板之下表面上的光提取器110之圖案。在某些例示性實施例中，替代導光板之下表面上光提取器110之圖案或除前述圖案外，導光板108可包括導光板之上表面上的光提取器之圖案(例如，參見第3圖至第4圖)。如本文中使用，術語「圖案」意欲指明，光提取器以任何給定圖案或設計存在於導光板之表面上或下，該給定圖案或設計可例如為隨機的，或配置為重複或非重複、均一或非均一的。在其他實施例中，光提取器可定位於鄰近於表面(例如，表面下方)之導光板的矩陣內。舉例而言，光提取器可分佈在表面上(例如，作為構成粗糙或凸起表面的紋理結構)，或可分佈在導光板內或其數個部分內或貫穿導光板或其數個部分分佈(例如，作為雷射損害位點或特徵)。
用於產生此類光提取器之合適方法可包括：印刷，諸如噴墨印刷、絲網印刷、微型印刷及類似者；壓印或微型複製，諸如導光板材料或者塗佈於導光板之表面上之額外材料中之UV或熱壓印；紋理化、機械粗化、蝕刻、射出成型、塗佈、雷射損傷或其任何組合。此類方法之非限制性實例包括例如對表面進行酸式蝕刻，用TiO2 、填充有微粒之墨水或油漆對表面進行塗佈，用含有微型聚合物或具有變化之大小之玻璃珠的透明墨水對表面進行塗佈，及藉由將雷射聚焦於基板基質之表面上或內來對基板進行雷射損害。每一間隙111可為正方形、圓形，或任何其他合適形狀。在一個態樣中，每一間隙111允許對應光源106以光學方式耦合至導光板108。在另一態樣中，每一間隙111之大小控制光提取器110之圖案對每一光源106周圍之照度的影響。舉例而言，較大間隙111意謂光提取器110之圖案與每一光源106之間的較大距離，從而導致每一光源附近的較低照度。比較而言，較小間隙111意謂光提取器之圖案與光源106之間的較小距離，從而導致光源附近的較高照度。
第1D圖為導光板108上複數個圖案化反射器112的俯視圖。每一圖案化反射器112可包括第一區域113及第二區域114。第一區域113相較於第二區域114可更具反射性，且第二區域114相較於第一區域113可更具透射性。圖案化反射器112可另外具有具不同性質的第三區域、第四區域等，或其性質可隨距中心之距離以連續且平滑方式改變。雖然在第1D圖中圖示之實施例中，每一圖案化反射器112形狀為圓形，但在其他實施例中，每一圖案化反射器112可具有另一合適形狀(例如，矩形、六邊形等)。在圖案化反射器112直接製造於導光板108之上表面上情況下，圖案化反射器112增大隱藏光源106的能力。將圖案化反射器112直接製造於導光板108之上表面上亦節省空間。在某些例示性實施例中，每一圖案化反射器112為擴散反射器，使得每一圖案化反射器112藉由如下操作來進一步增強背光100的效能：以足夠高之角度散射某些光線，使得該等光線可藉由全內反射在導光板108中傳播。此等射線接著將不經歷圖案化反射器112與反射層104之間或光學膜堆疊與反射層104之間的多次彈跳，且因此避免光學功率之損耗，藉此增大背光效率。在某些例示性實施例中，每一圖案化反射器112為鏡面反射器。在其他實施例中，每一圖案化反射器112之一些區域關於反射率更具擴散性質，且一些區域關於反射率更具鏡面性質。
第2A圖為例示性圖案化反射器112a之橫截面圖。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112a可用於第1A圖及第1D圖之每一圖案化反射器112。圖案化反射器112a配置於導光板108之上表面上，且與光源106對準。圖案化反射器112a包括具有恆定厚度的單一層。圖案化反射器112a可例如藉由運用白色墨水、黑色墨水、金粉墨水或其他合適墨水對圖案進行印刷(例如，噴墨印刷、絲網印刷、微型印刷等)來形成。圖案化反射器112a亦可藉由以下操作來形成：首先例如藉由物理氣相沉積(physical vapor deposition；PVD)或者諸如狹縫模具式塗佈或噴塗的任何數目種技術沉積白色或金屬材料的連續層，及接著藉由光微影或區域選擇性材料移除之其他已知方法來使層圖案化。圖案化反射器112a可具有變化之光學密度。舉例而言，變化之光學密度可藉由印刷可變比例之清透且反射墨水於導光板108上或藉由印刷具有可變厚度之墨水來達成。變化之光學密度亦可藉由以下操作來達成：使得圖案化反射器112a為不連續的，從而意謂反射材料根據預定圖案存在於一些地方且並不存在於一些其他地方。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112a在小間隙情況下可為連續層，在該等小間隙處不存在反射材料。在其他實施例中，圖案化反射器112a可由反射材料的藉由相對大之空的空間分離之相對小的隔離斑塊來組成。圖案化反射器內之經覆蓋空間與空的空間之比例可在0與100%之間發生變化。
第2B圖為例示性圖案化反射器112b的橫截面圖。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112b可用於第1A圖及第1D圖之每一圖案化反射器112。圖案化反射器112b配置於導光板108之上表面上，且與光源106對準。圖案化反射器112b包括導光板108之上表面上的第一層120，及第一層120之上表面上的第二層122。在某些例示性實施例中，第一層120及第二層122中之每一者可具有恆定厚度。然而，第一層120及第二層122之恆定厚度可彼此不同。在其他實施例中，第一層120及第二層122中之每一者可具有可變厚度。
第一層120及第二層122中之每一者可具有變化之光學密度。第二層122在反射率、吸收率及/或透射率上自第一層120發生變化。第一層120及第二層122中之每一者例如藉由含有黑色材料而為吸收性的。第一層120及第二層122中之每一者可例如藉由含有白色或金屬材料而為反射性的。第一層120及第二層122中之每一者亦可藉由含有一種以上類型之材料，諸如墨水與所添加金屬微粒(例如，銀、鋁等)而既為吸收性而且為反射性的。在此狀況下，吸收及/或反射性質可在圖案化反射器區域上發生變化。
第2C圖為例示性圖案化反射器112c的橫截面圖。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112c可用於第1A圖及第1D圖之每一圖案化反射器112。圖案化反射器112c配置於導光板108之上表面上，且與光源106對準。圖案化反射器112c包括：導光板108之上表面上的第一層124、第一層124之上表面上的第二層126及第二層126之上表面上的第三層128。在某些例示性實施例中，第一層124、第二層126及第三層128中之每一者可具有恆定厚度。然而，第一層124、第二層126及第三層128之恆定厚度對於每一層可不同。
第一層124、第二層126及第三層128中之每一者可具有變化之光學密度。第一層124、第二層126及第三層128中之每一者在反射率、吸收率及/或透射率上可彼此發生變化。第一層124、第二層126及第三層128中之每一者例如藉由含有黑色材料可為吸收性的。第一層124、第二層126及第三層128中之每一者例如藉由含有白色或金屬材料可為反射性的。第一層124、第二層126及第三層128中之每一者亦可藉由含有一種以上類型之材料，諸如墨水與所添加金屬微粒(例如，銀、鋁等)而既為吸收性且為反射性的。在此狀況下，吸收及/或反射性質可在圖案化反射器區域上發生變化。在某些例示性實施例中，第一層124及第三層128相較於第二層126更具反射性，且第二層126相較於第一層124及第三層128為更具吸收性的。在此狀況下，圖案化反射器112c反射自光源106之頂表面發射之光以及自導光板108上方之擴散板或另一光學膜重新導向之光的大部分，同時有效地阻斷直接行進通過圖案化反射器112c之光的大部分。層124、126及128中之每一者可為不連續的，反射性或吸收性材料存在之層面積與反射性或吸收性材料不存在之層面積的比率介於0%與100%之間。儘管所有三個層124、126及128在第2C圖中展示為具有相同大小(亦即，寬度)，但在各種實施例中，該等層可具有不同大小。舉例而言，層126之大小可小於層124及128，在該狀況下，層124及128在圖案化反射器112c的周邊處將直接在彼此頂部上。在其他實施例中，層126之大小可大於層124及128，在該狀況下，層126之周邊將直接在導光板頂面上。參看第1D圖，圖案化反射器112之不同區域113、114可具有不同數目個層及/或在層內具有不同圖案。
第2D圖為例示性圖案化反射器112d的橫截面圖。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112d可用於第1A圖及第1D圖之每一圖案化反射器112。圖案化反射器112d配置於導光板108之上表面上，且與光源106對準。圖案化反射器112d包括：導光板108之上表面上的第一層130、第一層130之上表面上及導光板108之上表面上的第二層132，及第二層132之上表面上及導光板108之上表面上的第三層134。在某些例示性實施例中，第一層130、第二層132及第三層134中之每一者可具有變化之厚度，使得圖案化反射器112d可具有變化之厚度。第一層130、第二層132及第三層134中每一者的變化之厚度可例如藉由印刷每一各別層以對於每一個別層之位置包括不同量的墨水來形成。第一層130、第二層132及第三層134中每一者的最大厚度可以光源106為中心。
第一層130、第二層132及第三層134中之每一者可具有變化之光學密度。第一層130、第二層132及第三層136中之每一者在反射率、吸收率及/或透射率上可彼此發生變化。第一層130、第二層132及第三層134中之每一者例如藉由含有黑色材料可為吸收性的。第一層130、第二層132及第三層134中之每一者例如藉由含有白色或金屬材料可為反射性的。第一層130、第二層132及第三層134中之每一者亦可藉由含有一種以上類型之材料，諸如墨水與所添加金屬微粒(例如，銀、鋁等)而既為吸收性且為反射性的。在此狀況下，吸收及/或反射性質可在圖案化反射器區域上發生變化。在某些例示性實施例中，第一層130及第三層134相較於第二層132更具反射性，且第二層132相較於第一層130及第三層134更具吸收性。在此狀況下，圖案化反射器112d反射自光源106之頂表面發射之光以及自導光板108上方之擴散板或另一光學膜重新導向之光的大部分，同時有效地阻斷直接行進通過圖案化反射器112d之光的大部分。
在使用白色光源106之某些例示性實施例中，不同反射性及吸收性材料以變化之密度在圖案化反射器112a至112d中的存在可有益於使越過背光之調光區中每一者的色移最小化。光線在圖案化反射器與反射層104(第1A圖)之間的多次彈跳相較於藍色可引起光譜之紅色部分中光的更多損耗，或反之亦然。在此狀況下，例如藉由使用輕微著色之反射/吸收性材料或具有相反色散標誌之材料(在此狀況下，色散意謂反射率及/或吸收率之光譜相依性)來使反射率設計為色彩中性的可使色移最小化。
第3圖為例示性液晶顯示器(LCD) 140的橫截面圖。LCD 140包括背光100，該背光包括第一圖案化反射器112，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。此外，LCD 140包括背光100上之層142、視需要層142上之擴散板146、視需要擴散板146上之量子點膜148、視需要量子點膜148上之稜鏡膜150、視需要稜鏡膜150上方的反射偏光器152及反射偏光器152上方的顯示器面板154。層142包括複數個第二圖案化反射器144。第二圖案化反射器144中之每一者與對應的第一圖案化反射器112對準。
層142可包括玻璃或透明塑膠材料，圖案化反射器144形成於該玻璃或透明塑膠材料上。在某些例示性實施例中，層142可包括與導光板108相同或類似之材料。每一圖案化反射器144可包括與圖案化反射器112相同或類似的材料，且可使用與用以製造圖案化反射器112之製程相同或類似的製程來製造。使用兩個分離之圖案化反射器(亦即，第一圖案化反射器112及第二圖案化反射器144)可添加厚度及成本至背光，然而，使用兩個分離之圖案化反射器可允許將減小數目個反射層及/或減小之層厚度用於第一圖案化反射器112及第二圖案化反射器144兩者。因此，第一圖案化反射器112及第二圖案化反射器144中的兩者可更易於製造。另外，第一圖案化反射器112及第二圖案化反射器144中的兩者在總厚度較小時歸因於更好黏著強度為更耐久的。
第4圖為例示性LCD 160的橫截面圖。LCD 160類似於先前參看第3圖描述並圖示之LCD 140，不同之處在於在LCD 160中，第二圖案化反射器144形成於擴散板146上而非分離層142上外。在此實例中，每一圖案化反射器144可包括相同或類似於圖案化反射器112的材料，且可使用類似或相同於用以製造圖案化反射器112之製程的製程來製造。雖然第二圖案化反射器144於第4圖中形成於擴散板146的下表面上，但在其他實施例中，第二圖案化反射器144可形成於擴散板146的上表面上。在其他實施例中，第二圖案化反射器144可形成於LCD 160之另一鄰接光學組件的上表面或下表面上。相較於第3圖之LCD 140，LCD 160可具有較小總厚度。
第二圖案化反射器144製造於上面之光學組件(例如，擴散板)應與第一反射器112及第二反射器144的導光板108更準確地對準以一起正常操作。由於在上面可製造第二反射器144之擴散板或其他光學組件的材料相較於導光板108可具有不同熱膨脹係數，因此，光源106、導光板108上之第一圖案化反射器112及第二圖案化反射器144之間的小的失配可因為環境改變而發生。然而，當背光之大小為小時或當光源106之間距為大時，此小的失配不應為顯著問題。
為了維持光源106與導光板108上之圖案化反射器112之間的對準從而使背光100正常工作，有利的是導光板108及基板102由相同或類似類型之材料使得導光板108上之圖案化反射器112及基板102上之光源106在大範圍之操作溫度上彼此良好地對準。類似地，當包括第二圖案化反射器144時，有利的是第二圖案化反射器144由與導光板108相同或類似類型之材料製成，使得導光板108上之第二圖案化反射器144及第一圖案化反射器112在大範圍之操作範圍上彼此良好地予以對準。在某些例示性實施例中，導光板108及基板102由相同塑膠材料製成。在其他實施例中，導光板108及基板102由相同類型之玻璃製成。在又其他實施例中，導光板108、基板102及層142(第3圖)皆由相同類型之玻璃製成。
用以使導光板108與基板102上之光源106對準的替代性解決方案為使用高度可撓基板。高度可撓基板可由聚醯亞胺或其他耐高溫聚合物膜來製成以允許組件焊接。高度可撓基板亦可由諸如FR4或纖維玻璃之材料製成，但相較於通常使用之材料具有顯著較低的厚度。在某些例示性實施例中，具有0.4毫米厚度之FR4材料可用於基板102，該基板可足夠可撓以吸收由改變操作溫度產生的尺寸改變。
第5A圖至第5C圖為例示性背光200的各種視圖。第5A圖為背光200之橫截面圖。背光200可包括基板102、反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。此外，背光200包括複數個吸收性元件202。每一吸收性元件202側向包圍對應光源106。反射層104係在基板102上，且包圍每一吸收性元件202。每一吸收性元件202相較於反射層104具有較低反射率。在某些例示性實施例中，每一吸收性元件202可具有低於4%或者在約1%與約85%之間的範圍內之反射率。在其他實施例中，每一吸收性元件202可能具有反射率，該反射率依據至光源106之中心的徑向距離發生變化，例如，愈靠近光源愈小且愈遠離光源106愈大。每一吸收性元件202亦可具有環形狀，從而意謂吸收性元件可能開始於距光源106的某距離處，且結束於較大距離處。
第5B圖為基板102上複數個光源106、反射層104及吸收性元件202的俯視圖。雖然在說明於第5B圖中之實施例中，每一吸收性元件202形狀為圓形，但在其他實施例中，每一吸收性元件202可具有另一合適形狀(例如，矩形、六邊形等)。第5C圖為光提取器110之圖案及吸收性元件202的俯視圖。光提取器110之圖案包括複數個間隙111。每一間隙111與對應光源106、對應吸收性元件202及對應圖案化反射器112對準。
吸收性元件202可為黑色紙、黑色塑膠、黑色油漆、黑色墨水、化學變更(例如，陽極化)金屬，或另一合適光學吸收性材料。吸收性元件202可定位於基板102與導光板108之下表面之間的任何地方。舉例而言，吸收性元件202可經噴塗或直接層壓於基板102之表面上或包覆每一光源106。
第6圖為包括圖案化反射器112及吸收性元件202之例示性背光200的簡化橫截面圖。光線210指示自背光200逃逸之光。光線212指示如下光：藉由圖案化反射器112反射且接著藉由吸收性元件202吸收，且因此並不逃逸開背光200。光線214指示如下光：藉由圖案化反射器112反射，且接著藉由反射層104反射回至光可逃逸開背光200的導光板108。
吸收性元件202之功能為增大背光200之照度均一性。更具體而言，已觀測到，直接在光源106上方將高反射率反射器(亦即，圖案化反射器112)置放於導光板108之上表面上可使得明亮環或光暈鄰近於反射器的外邊緣顯現。此係歸因於以小角度(亦即幾乎垂直)發射自光源106的光線，光線一命中導光板108之並不藉由圖案化反射器112覆蓋導光板之頂面，該等光線便在光源與圖案化反射器112及/或反射層104與圖案化反射器112之間多次彈跳之後向上逃逸。吸收性元件可消除或減小此類射線之數目，且藉此可移除或減小光暈。
在圖案化反射器112之大小增大同時使得圖案化反射器自中心朝向邊緣愈來愈不密集情況下，相同效應被達成。然而，增大圖案化反射器112之大小以抑制光暈可導致減低背光效率。在包括吸收性元件202時，可減小圖案化反射器112之大小，且可提高背光效率。在某些例示性實施例中，每一吸收性元件202之大小係在光源106之所有側上導光板108之厚度的約0.5倍至5倍之範圍內。舉例而言，若光源106為1毫米乘以1毫米之LED晶片且導光板厚度為1毫米，則吸收性元件之大小可係介於2毫米乘以2毫米與11毫米乘以11毫米之間。吸收性元件亦可係具有圓角之矩形，或具有介於2與11毫米之間的直徑之圓。
第7A圖為例示性背光300a的橫截面圖。背光300a可包括基板102、反射層104、複數個光源106，及導光板108，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。此外，背光300a可包括導光板108之上表面上的低折射率材料之單一連續層302a。圖案化反射器112係在低折射率材料302a之層的上表面上，且與光源106對準。在說明於第7A圖中之實例中，每一圖案化反射器112具有變化之厚度。
由於低折射率材料302a的層存在於導光板108之上表面上且圖案化反射器112置放於低折射率材料302a的層上方，諸如射線304之低角度射線(即，幾乎沿著導光板108之法向方向)可藉由圖案化反射器112之較厚部分經反射回至導光板108中。諸如射線306之高角度射線可歸因於導光板108與低折射率材料302a的層之界面處的全內反射被反射回至導光板108中，而不管圖案化反射器112在射線306與導光板108之上表面相交之方位上方為薄的事實。低角度射線及高角度射線兩者可接著隨後以變化之密度藉由光提取器110自導光板108提取出，以達成改良之照度均一性。在無低折射率材料302a的層情況下，高角度射線可藉由圖案化反射器112之較薄部分自背光不當地提取出，此情形可減小照度均一性。
低折射率材料302a相較於導光板材料具有較低折射率。在某些例示性實施例中，低折射率材料302a具有等於約1.25之折射率(例如，對於填充有中空二氧化矽微粒的聚合物)、約1.3之折射率(例如，對於氟化聚合物)或約1.37的折射率(例如，對於氟化鎂)。因此，來自光源106之某高角度光可在不進入低折射率材料302a中情況下捕獲於導光板108內部，但可仍藉由導光板108之下表面上的光提取器110提取出。
第7B圖為例示性背光300b的橫截面圖。背光300b類似於先前參看第7A圖描述並圖示的背光300a，不同之處在於在背光300b中，低折射率材料302a的層用複數個低折射率材料層302b替換。每一圖案化反射器112與對應的低折射率材料層302b對準。複數個低折射率材料層302b提供與第7A圖之低折射率材料302a的層相同之功能。
第8圖為第7B圖之例示性背光300b的簡化橫截面圖。參看第8圖，導光板108具有以324指示之厚度T1及所關注波長下的折射率n1，而低折射率材料302b具有以326指示之厚度T2及在所關注波長下的折射率n2。舉例而言，所關注波長對於藍色光源可為450±30奈米，對於綠色或白色光源為550±30奈米，或對於紅色光源為650±30奈米。光源106之大小S0(亦即，寬度或直徑)以320指示。低折射率材料302b之大小S2(亦即，寬度或直徑)以322指示。
在某些例示性實施例中，低折射率材料之最小大小S2藉由下式給出：
Figure 02_image001
其中θc為在低折射率材料302b上自導光板108入射之射線的全內反射臨界角，且藉由下式判定：
Figure 02_image002
或
Figure 02_image003
表 1 ： 各種實例展示低折射率材料之最小S2與關於光源大小S0之臨界角θc、導光板厚度T1、導光板折射率n1及低折射率材料折射率n2的相依性。
S0 (mm) 2 2 2 2 2 2 2 2 2
T1 (mm) 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1
n1 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49
n2 1 1.1 1.15 1.2 1.25 1.3 1.35 1.4 1.45
θC (度) 42.2 47.6 50.5 53.6 57.0 60.7 65.0 70.0 76.7
S2 (mm) 3.99 4.41 4.67 4.99 5.39 5.93 6.71 8.04 11.30
 
S0 (mm) 2 2 2 2 2 2 2 2 2
T1 (mm) 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1
n1 1.59 1.59 1.59 1.59 1.59 1.59 1.59 1.59 1.59
n2 1 1.1 1.15 1.2 1.25 1.3 1.35 1.4 1.45
θC (度) 39.0 43.8 46.3 49.0 51.8 54.8 58.1 61.7 65.8
S2 (mm) 3.78 4.11 4.30 4.53 4.80 5.12 5.54 6.09 6.89
 
S0 (mm) 2 2 2 2 2 2 2 2 2
T1 (mm) 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1
n1 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8
n2 1 1.1 1.15 1.2 1.25 1.3 1.35 1.4 1.45
θC (度) 33.7 37.7 39.7 41.8 44.0 46.2 48.6 51.1 53.7
S2 (mm) 3.47 3.70 3.83 3.97 4.12 4.30 4.49 4.72 4.99
 
S0 (mm) 2 2 2 2 2 2 2 2 2
T1 (mm) 0.7 0.7 0.7 0.7 0.7 0.7 0.7 0.7 0.7
n1 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49 1.49
n2 1 1.1 1.15 1.2 1.25 1.3 1.35 1.4 1.45
θC (度) 42.2 47.6 50.5 53.6 57.0 60.7 65.0 70.0 76.7
S2 (mm) 3.27 3.53 3.70 3.90 4.16 4.50 5.00 5.84 7.92
表1在各種實例中展示低折射率材料之最小大小S2與關於光源大小S0之臨界角θc、導光板厚度T1、導光板折射率n1及低折射率材料折射率n2之相依性。一般而言，S2隨著導光板厚度T1及比率n2/n1而增大。低折射率材料之折射率可稍微小於導光板之折射率達諸如達約0.01、0.04、0.1、0.2、0.3或0.4的差。低折射率材料之折射率可稍微大於1，諸如達約0.005、0.1、0.2、0.3、0.3或0.4的差。
第9A圖至第9C圖為說明用於製造背光之例示性方法400的流程圖。方法400可例如用以製造先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示之背光100、先前參看第5A圖至第5C圖描述之背光200或者先前參看第7A圖至第8圖描述並圖示的背光300a或300b。如第9A圖中所說明，在402處，方法400包括將複數個光源配置於基板上。舉例而言，複數個光源106可配置於基板102上且電連接至該基板，如在第1A圖中所說明。在404處，方法400包括將反射層施加於基板上。舉例而言，反射層104可施加至基板102，如第1A圖中所說明。反射層可經由印刷製程、沉積製程、膜施加製程或另一合適製程施加至基板。
在406處，方法400包括將光提取器之圖案施加至導光板。舉例而言，光提取器110之圖案可施加至導光板108，如第1A圖中所說明。在408處，方法400包括將複數個第一圖案化反射器施加於導光板上。舉例而言，複數個第一圖案化反射器112可經施加至導光板108，如第1A圖中所說明且如參看第2A圖至第2D中進一步所描述。在410處，方法400包括將導光板配置於複數個光源上方，使得每一圖案化反射器與對應光源對準。導光板可配置於光源上方，使得光提取器之圖案中的間隙(例如，在第1C圖中所說明之光提取器110之圖案的間隙111)與對應光源對準。在某些例示性實施例中，光學黏著劑(例如，苯基聚矽氧)可用以將複數個光源耦接至導光板。
在某些例示性實施例中，施加複數個第一圖案化反射器包括將複數個第一圖案化反射器印刷於導光板上。印刷複數個第一圖案化反射器可包括例如針對每一圖案化反射器印刷白色墨水層、黑色墨水層或金屬墨水層。在其他實例中，印刷複數個第一圖案化反射器可包括針對每一第一圖案化反射器的位置印刷包括不同量之墨水的層。在其他實例中，印刷複數個第一圖案化反射器包括針對每一第一圖案化反射器印刷一層，該層包括可變比例的清透及反射墨水。
如第9B圖中所說明，在412處，方法400可進一步包括將複數個第二圖案化反射器施加於複數個第一圖案化反射器上方並與該等複數個第一圖案化反射器對準。舉例而言，作為分離層142之部分或作為擴散板146之部分的複數個圖案化反射器144可施加於複數個圖案化反射器112上方並與該複數個圖案化反射器對準，如分別在第3圖及第4圖中所說明。如第9C圖中所說明，在414，方法400可進一步包括施加複數個吸收性元件，使得每一吸收性元件側向包圍對應光源。舉例而言，可施加複數個吸收性元件202，使得每一吸收性元件側向包圍對應光源106，如第5A圖至第5C圖中所說明。吸收性元件可例如藉由以下操作來施加：施加黑色紙、黑色橡膠、黑色墨水、化學變更(陽極化)金屬或另一合適光學吸收性材料至基板的數個部分從而側向包圍每一光源，至每一光源自身，或至導光板之下表面的數個部分從而側向包圍每一光源。可在將導光板配置於複數個光源上方之前施加吸收性元件。
第10A圖至第10D圖為在導光板之同一側上包括圖案化反射器及光提取器之例示性背光的各種視圖。第10A圖為背光500a之橫截面圖。背光500a可包括如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示的基板102、反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112。然而，在此實施例中，導光板108與複數個光源106隔開。導光板108與複數個光源106之間的此間隔使得光源106至導光板108之間的結合為不必要的，且消除與光源106至導光板108之結合相關聯的問題及成本。此間隔在光源106之大小收縮時變得日益重要。當諸如具有大於1毫米之大小之習知LED的光源被具有小於1毫米之大小的迷你LED替換或被具有小於約0.1毫米之大小的微型LED替換時，複數個光源至導光板之可靠結合可為明顯有挑戰性的。根據本發明之背光消除此挑戰。
此外，導光板108包括導光板之第一表面502上的光提取器110之圖案。複數個圖案化反射器112亦係在導光板108之第一表面502上。藉由在導光板108之同一表面上具有光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112，可相對於在導光板108之相對表面上具有光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112的導光板達成顯著成本節省。每一圖案化反射器112與對應光源106對準。如針對背光500a在第10A圖中所說明，導光板108之第一表面502可遠離複數個光源106。如針對背光500b在第10B中所說明，導光板108之第一表面502可面向複數個光源106。
第10C圖為針對背光500a或500b(統稱為背光500)之基板102上複數個光源106及反射層104的俯視圖。光源106配置成包括複數個列及複數個行的2D陣列。雖然在第10C圖中說明呈三個列及三個行的九個光源106，但在其他實施例中，背光500可包括配置成任何合適數目個列及任何合適數目個行的任何合適數目個光源106。光源106亦可以其他週期性圖案配置，例如，以六邊形或三角形格子或準週期性或非嚴格之週期性圖案配置。舉例而言，光源106之間的間隔可在背光之邊緣及/或轉角處較小。此外，儘管光源106展示為正方形形狀，但應理解，光源可具有其他合適形狀，諸如在自頂部檢視時為矩形或圓形。
第10D圖為導光板108上複數個圖案化反射器112及光提取器110之圖案的俯視圖。光提取器110之圖案包圍複數個圖案化反射器112。光提取器110之圖案係先前參看第1C圖所描述。每一圖案化反射器112可包括第一區域113及第二區域114。第一區域113相較於第二區域114可更具反射性，且第二區域114相較於第一區域113可更具透射性。圖案化反射器112可另外具有具不同性質的第三區域、第四區域等，或其性質可隨距中心之距離以連續且平滑方式改變。圖案化反射器112可包括在最接近於複數個光源106之方位處最低的變化之透射率。雖然在第10D圖中說明之實施例中，每一圖案化反射器112形狀為圓形，但在其他實施例中，每一圖案化反射器112可具有另一合適形狀(例如，矩形、六邊形等)。在圖案化反射器112直接製造於導光板108之第一表面502上的情況下，圖案化反射器112增大隱藏光源106的能力。將圖案化反射器112直接製造於導光板108之第一表面502上亦節省空間。在某些例示性實施例中，每一圖案化反射器112為擴散反射器，使得每一圖案化反射器112藉由以足夠高之角度重新導向某些光線使得該等光線可藉由全內反射在導光板108中傳播來進一步增強背光500的效能。此等射線接著將不經歷圖案化反射器112與反射層104之間或光學膜堆疊與反射層104之間的多次彈跳，且因此避免光學功率之損耗，藉此增大背光效率。
第11圖為第10A圖之例示性背光500a的更詳細簡化橫截面圖。第11圖亦包括量子點膜(或適合於將藍色光轉換為綠色或紅色光之等效磷光體膜或色彩轉換膜)、擴散片，或擴散板146作為導光板108上方的光學膜堆疊(圖中未示)的第一層。光源106之大小S0(亦即，寬度或直徑)以320指示。鄰接於所說明光源106之光源106(圖中未示)之間的間距P以512指示。舉例而言，間距P可為約90、45、30、10、5、2、1或0.5毫米，大於約90毫米，或小於約0.5毫米。間距P之方向可係在垂直、水平或其他方向上。反射層104之頂部與光源106之頂部之間的距離h0以514指示。光源106之頂部與導光板108之底部之間的距離d1以516指示。導光板108之厚度d2以518指示。光源106之頂部與量子點膜、擴散片或擴散板146之底部之間的光學距離OD以520指示。圖案化反射器112之大小S(亦即，寬度、長度或直徑)以522指示。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112之大小S藉由下式給出： S≤S0+2{d1tan(θ)+d2tan[sin-1 (sin(θ)/n)]} 其中n為導光板108之折射率，且θ為射線在導光板108上之入射角且等於約 60°或約85°。
每一圖案化反射器112與光提取器110之圖案之間的間隙以523指示。在某些例示性實施例中，每一圖案化反射器112與光提取器110之圖案之間的間隙523係在d2至3*d2之範圍內。在此實例中，每一圖案化反射器112可包括變化之厚度，諸如參看第2D圖、第7A圖、第7B圖或第8圖所描述。
光學距離520相較於光源106結合至導光板108之實施例中可較大。然而，光學距離520小於無導光板108的背光中的距離。在某些例示性實施例中，光學距離520除以間距P小於或等於0.2，其中間距P在光源之間距在不同方向上發生變化的情況下為光源106的最大間距。光提取器110之圖案可包括變化之密度，該密度在距複數個光源106最遠的位置處最大，如第11圖中所說明。
光源106發射沿著發射表面之法線集中的光。圖案化反射器112與光源106對準。在圖案化反射器112之大小S係如上文所界定且其中θ等於約60°情況下，圖案化反射器112捕獲藉由光源106在θ等於60°之圓錐內發射的所有光。以下表2展示圖案化反射器112之大小S隨著n、d1、d2、S0及目標θ發生變化。圖案化反射器112之大小S典型地在自約光源106之大小S0至約10毫米的範圍內發生變化。圖案化反射器112之大小S可為約2.5毫米以捕獲θ等於60°之圓錐內自光源106發射之所有光(如針對表2中第13號所展示)，且為約4.5毫米以捕獲在θ等於85°之圓錐形內自光源106發射之所有光(如針對表2中第15號所展示)。表 2 ：在n、d1、d2、S0及θ發生變化之數個實例中，導光板之頂部上之圖案化反射器的大小S。
編號 類別 n d1 (mm) d2 (mm) S0 (mm) θ S (mm)
1 使d2變化 1.5 0.1 0.1 2 60 2.49
2 1.5 0.1 0.5 2 60 3.05
3 1.5 0.1 0.7 2 60 3.34
4 1.5 0.1 1.1 2 60 3.90
5 1.5 0.1 2 2 60 5.17
6 使n變化 1 0.1 1 2 60 5.81
7 1.25 0.1 1 2 60 4.27
8 1.5 0.1 1 2 60 3.76
9 1.75 0.1 1 2 60 3.49
10 2 0.1 1 2 60 3.31
11 使θ變化 1.5 0.1 0.1 2 0 2.00
12 1.5 0.1 0.1 2 30 2.19
13 1.5 0.1 0.1 2 60 2.49
14 1.5 0.1 0.1 2 80 3.31
15 1.5 0.1 0.1 2 85 4.46
16 使d1變化 1.5 0.1 0.1 2 60 2.49
17 1.5 0.5 0.1 2 60 3.87
18 1.5 0.7 0.1 2 60 4.57
19 1.5 1.1 0.1 2 60 5.95
20 1.5 2 0.1 2 60 9.07
圖案化反射器112反射自光源106發射之光的至少一部分至導光板108中。圖案化反射器112具有鏡面反射率及擴散反射率。鏡面反射之光自導光板108的底表面脫離。雖然此光主要歸因於反射層104與導光板108之間的反射或歸因於反射層104與量子點膜、擴散片或擴散板146之間的反射而側向行進，但光之一些損耗可歸因於自反射層104之不完美反射而發生。
擴散反射之光具有自導光板108之法線量測的在0°與90°之間的角形分佈。約50%之擴散反射之光具有超出全內反射之臨界角(θTIR ) 的角度。因此，此光可歸因於全內反射而在無任何損耗情況下側向行進，直至光隨後藉由定位於導光板108之頂表面上的光提取器110之圖案而自導光板108提取出。
射線530自光源106發射出，且在空氣中具有60°之入射角。射線530變成在導光板108中具有約35°之入射角的射線532(對於n=1.5)。射線532經反射至導光板108中，其中鏡面反射之射線被稱作射線534，且擴散反射之射線被稱作射線536及射線538，其中擴散反射之射線536具有小於θTIR 的入射角，且擴散反射之射線538具有大於θTIR 的入射角。鏡面反射之射線534接著自導光板108之底表面脫離，且藉由反射層104作為射線534a反射，該射線可為鏡面或擴散反射的。具有小於θTIR 之入射角的擴散發射射線536亦自導光板108之底表面脫離，且藉由反射層104作為射線536a反射，該射線可為鏡面或擴散反射的。然而，具有大於θTIR 之入射角的擴散反射射線538歸因於全內反射在導光板108之內部側向行進，直至光線藉由導光板108之頂表面上的光提取器110作為射線538a提取出。諸如射線538或射線538a之射線改良自光源106發射之光的側向散佈，而不引起光損失。
第12圖為第10B圖之例示性背光500b的更詳細簡化橫截面圖。第12圖亦說明量子點膜、擴散片或擴散板146作為導光板108上方光學膜堆疊(圖中未示)的第一層。尺寸510、512、514、516、518、520及522係先前參看第11圖界定。光源106發射沿著發射表面之法線集中的光。圖案化反射器112與光源106對準。在某些例示性實施例中，圖案化反射器112之大小S藉由下式給出： S ≤ S0+2d1tan(θ) 其中θ為導光板108上射線的入射角且等於約60°。
在如上文所界定的圖案化反射器112之大小S情況下，圖案化反射器112捕獲藉由光源106在θ等於60°之圓錐內發射的所有光。以下表3展示圖案化反射器112的大小S隨著d1、S0及目標θ發生變化。圖案化反射器112之大小S典型地在自約光源106之大小S0至約10毫米的範圍內發生變化。圖案化反射器112之大小S可為約2.35毫米以捕獲在θ等於60°之圓錐內自光源106發射之所有光(如針對表3中第23號所展示)，且為約4.3毫米以捕獲在θ等於85°之圓錐內自光源106發射之所有光(如針對表3中第28號所展示)。表 3 ： d1、S0及θ發生變化之數個實例中導光板之底部上圖案化反射器的尺寸S。
編號 類別 d1 (mm) S0 (mm) θ S (mm)
21 使S0變化 0.1 1 60 1.35
22 0.1 1.5 60 1.85
23 0.1 2 60 2.35
24 使θ變化 0.1 2 0 2.00
25 0.1 2 30 2.12
26 0.1 2 60 2.35
27 0.1 2 80 3.13
28 0.1 2 85 4.29
29 使S0變化 1 1 60 4.46
30 1 1.5 60 4.96
31 1 2 60 5.46
32 使θ變化 0.5 2 0 2.00
33 0.5 2 30 2.58
34 0.5 2 60 3.73
35 0.5 2 80 7.67
36 0.5 2 85 13.43
37 使d1變化 0.1 2 60 2.35
38 0.5 2 60 3.73
39 0.7 2 60 4.42
40 1.1 2 60 5.81
41 2 2 60 8.93
圖案化反射器112將發射自光源106之光的至少一部分透射至導光板108中。圖案化反射器112具有鏡面透射率及擴散透射率。鏡面透射之光自導光板108之頂表面發射。雖然此光主要歸因於反射層104與量子點膜、擴散片或擴散板146之間的反射側向行進，但某光損耗可歸因於來自反射層104之不完美反射而發生。
擴散透射之光具有自導光板108之法線量測的在0°與90°之間的角度分佈。擴散透射之光的約50%具有超出全內反射之臨界角的角度。因此，此光可歸因於全內反射在無任何損耗情況下側向行進，直至光隨後藉由定位於導光板108之底表面上的光提取器110之圖案自導光板108提取。
射線540自光源106發射，且在空氣中具有60°的入射角。射線540在該射線首先藉由圖案化反射器112反射且接著隨後由反射層104反射時變成射線542。射線542可藉由圖案化反射器112或藉由反射層104鏡面或擴散反射。射線544為射線540的鏡面透射射線，且在導光板108(n=1.5)中具有約35°的入射角。射線544作為射線544a透射穿過導光板。射線546為射線540之擴散透射的射線，且具有小於θTIR 的入射角。射線546作為射線546a透射穿過導光板。射線548為射線540之擴散透射的射線，且具有大於θTIR 之入射角。射線548在導光板108內經歷全內反射，直至光線藉由定位於導光板108之底表面上的光提取器110作為射線548a提取出。諸如射線548或射線548a之射線改良自光源106發射之光的側向散佈，而不引起光損失。
第13圖為界定導光板108之複數個區550的網格。在此實施例中，導光板108劃分成呈五個列及五個行的25個區。在其他實施例中，導光板108可劃分成呈任何合適數目個列及行的另一合適數目個區550。在某些例示性實施例中，每一區550可具有約15毫米之長度及約15毫米的寬度。如第14中所圖示，每一區550包括圖案化反射器112e及光提取器110的圖案。圖案化反射器112e可在區550內居中。
第15圖為第14圖之圖案化反射器112e的放大視圖。圖案化反射器112e包括反射材料之同心圓圖案以產生可變擴散反射器。反射材料可包括例如金屬箔，諸如銀、鉑、金、銅及類似者的箔；介電材料(例如，諸如PTFE之聚合物)；多孔聚合物材料，諸如PET、PMMA、PEN、PES等，多層介電干涉塗層或反射墨水，包括白色無機微粒(諸如二氧化鈦、硫酸鋇等)，或適合於反射光的其他材料。圖案化反射器112可包括任何合適數目個同心圓。同心圓中每一者之間的間隔5601 至560N 可發生變化，且每一同心圓之反射材料的寬度5620 至562N 亦可發生變化。圖案化反射器112可具有小於或等於5毫米的半徑。在某些例示性實施例中，每一間距5601 至560N 可相等，且每一寬度5620 至562N 可相等。舉例而言，每一間隔5601 至560N 可係在約0.001毫米至約0.1毫米的範圍內。舉例而言，每一寬度5620 至562N 可係在約0.1毫米至約0.03毫米的範圍內。
第16圖為包括凹入微型結構之例示性圖案化反射器112f的橫截面圖。在某些例示性實施例中，第16圖之圖案化反射器112f可用於第10A圖及第10B圖之每一圖案化反射器112，且可與第15圖之圖案化反射器112f的特徵組合。樹脂層570(例如，光學透明材料)可施加於導光板108之表面上。凹入微型結構572可形成於樹脂層570中以產生擴散反射表面。如以574指示的每一微型結構572之大小(例如，寬度或直徑)可例如係在約1毫米至約5毫米的範圍內。反射材料576施加於凹入微型結構572上方。在其他實施例中，回看第11圖，凹入微型結構可經選擇以增大藉由射線538指示的高角度光之一部分，且減小由射線536指示的低角度光之一部分。在其他實施例中，凹入微型結構572可直接形成於導光板108中，且可不包括樹脂層570。舉例而言，凹入微型結構可運用遮蔽及蝕刻製程來製造。
第17圖為包括凸起微型結構之例示性圖案化反射器112g的橫截面圖。在某些例示性實施例中，第17圖之圖案化反射器112g可用於第10A圖及第10B圖之每一圖案化反射器112，且可與第15圖之圖案化反射器112f的特徵組合。樹脂層570(例如，光學透明材料)可施加於導光板108之表面上。凸起微型結構582可形成於樹脂層570中以產生擴散反射表面。如以584指示的每一微型結構582之大小(例如，寬度或直徑)可例如係在約1毫米至約5毫米的範圍內。反射材料576施加於凸起微型結構582上方。在其他實施例中，回看第11圖，凸起微型結構可經選擇以增大藉由射線538指示的高角度光之一部分，且減小藉由射線536指示的低角度光之一部分。在其他實施例中，凸起微型結構582可直接形成於導光板108上方，且可不包括樹脂層570。
第18圖為包括散射珠之例示性圖案化反射器112h的橫截面圖。在某些例示性實施例中，第18圖之圖案化反射器112h可用於第10A圖及第10B圖之每一圖案化反射器112，且可與第15圖之圖案化反射器112f的特徵組合。樹脂層570(例如，光學透明材料)可施加於導光板108之表面上。散射珠592可形成於樹脂層570中以產生擴散反射表面。反射材料576施加於散射珠592上方。在其他實施例中，散射珠592可直接形成於導光板108中，且可不包括樹脂層570。
第19圖為包括散射珠592之例示性圖案化反射器112h的仰視圖。以594所指示的每一珠之大小(例如，寬度或直徑)可例如係在約1微米至約5微米的範圍內。以596指示的散射珠592之間的中心距離可例如等於因數乘以散射珠的大小594，其中因數大於或等於約1.05且小於或等於約2。散射珠592可在具有一半徑之一圓內延伸，該半徑約等於反射材料之外部同心圓的半徑。在該圓內，散射珠592可配置成正方形陣列或另一合適配置。
第20圖為例示性背光600a之簡化橫截面圖。背光600a類似於先前參看第11圖描述並圖示的背光500a。背光600a可包括基板102、反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。背光600a亦包括導光板108之第一表面502上的光提取器110之圖案，如先前參看第11圖所描述並圖示。此外，背光600a可包括擴散層602a。第20圖在導光板108上方亦包括量子點膜、擴散片或擴散板146作為光學膜堆疊的第一層(圖中未示)。
擴散層602a係在導光板108之與第一表面502相對的第二表面503上。擴散層602a面向複數個光源106。擴散層602a改良自光源106發射之光的側向散佈，藉此改良光均一性。擴散層602a可具有鏡面及擴散反射率以及鏡面及擴散透射率。鏡面反射率或透射率為依據量測設定在0或8度情況下沿著鏡面方向經反射或透射之光的百分數，而擴散反射率或透射率為排除鏡面反射率或透射率的經反射或透射光之百分數。擴散層602a可具有濁度及透射率。擴散層602a可具有例如約10、20、30、40、50、60、70、80、90或95%或者以上的濁度，及約60、70、80、90或95%或者以上的透射率。在某些例示性實施例中，擴散層602a具有約70%之濁度及約90%的總透射率。在其他實施例中，擴散層602a具有約88%之濁度及約96%的總透射率。按美國材料試驗學會(American Society for Testing and Materials；ASTM) D1003之「針對透明塑膠之濁度及發光透射率的標準試驗方法(Standard Test Method for Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics)」，濁度界定為經散射使得其方向自入射光束之方向偏離超出2.5度的經透射光之百分數，且透射率界定為透射光之百分數。濁度及透射率可藉由各種濁度計來量測。
如先前參看第11圖所描述及圖示，射線530、534、536、538等之至少一部分藉由擴散層602a擴散，如藉由射線604所指示。擴散層602a使來自光源106的射線530擴散。結果，背光600a之圖案化反射器112可比不包括擴散層602a之背光的圖案化反射器薄，同時仍有效地隱藏光源106。擴散層602a亦使將原本經歷全內反射的射線538擴散。此外，擴散層602a使藉由量子點膜、擴散片或擴散板146反射回的任何射線擴散。因此，擴散層602a增大藉由量子點膜、擴散片或擴散板146或者擴散板或擴散片上方之任何稜鏡膜(圖中未示)，諸如一或兩個亮度增強膜引起的光循環效應。雖然在第20圖中，射線604展示為在導光板108內部，但應理解，射線之一部分可在擴散層602a之面向複數個光源106之表面處反射或透射。
雖然第20圖說明導光板108之面向複數個光源106的第二表面503，但在其他實施例中，導光板108之第一表面502可面向複數個光源106，使得擴散層602a遠離複數個光源106，且光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112面向複數個光源106(例如，如第12圖中一般)。
在某些例示性實施例中，擴散層602a包括均一或連續散射微粒層。擴散層602a被視為包括均一散射微粒層，其中相鄰散射微粒之間的距離小於光源之大小的五分之一。即，無關於擴散層602a相對於光源之定位，擴散層602a顯現類似擴散性質。舉例而言，散射微粒可係在清透或白色墨水內，該墨水包括微米大小或奈米大小散射微粒，諸如氧化鋁微粒、TiO2 微粒、PMMA微粒或其他合適微粒的。舉例而言，微粒大小可係在自約0.1微米與約10.0微米之範圍內發生變化。在其他實施例中，擴散層602a可包括防眩目圖案。防眩目圖案可由聚合物珠的層形成，或可經蝕刻。舉例而言，擴散層602a可為約1、3、7、14、21、28或50微米的厚度，或另一合適厚度。
在某些例示性實施例中，擴散層602a可包括可經由絲網印刷施加於導光板108的圖案。擴散層602a可經絲網印刷於施加至導光板108的底漆層(例如，黏著劑層)。在其他實施例中，擴散層602a可藉由經由黏著劑層將擴散層層壓至導光板來施加至導光板108。在又其他實施例中，擴撒層602a可藉由壓印(例如，熱或機械壓印)擴散層施加至導光板中、衝壓(例如，滾壓)擴散層至導光板中或射出成型擴散層來施加至導光板108。在又其他實施例中，擴散層602a可藉由蝕刻(例如，化學蝕刻)導光板而施加至導光板108。在一些實施例中，擴散層602a可運用雷射(例如，雷射損害)施加至導光板108。
第21圖為例示性背光600b的簡化橫截面圖。背光600b類似於先前參看第20圖描述及圖示的背光600a，不同之處在於背光600b包括擴散層602b而非擴散層602a。擴散層602b包括複數個第一部分606a及第二部分606b。每一第一部分606a在對應光源之大小內與對應光源106對準。即，每一第一部分606a與對應光源106之間的平面內距離應實際上盡可能地小，且不應大於光源的大小。每一光源106之大小可基於所欲應用而發生變化。舉例而言，每一光源106之大小可為幾毫米、幾十毫米，或小於0.1毫米。每一第一部分606a之以608指示的大小(亦即，直徑之寬度)可大於每一光源106的如以510指示的大小。第二部分606b包圍複數個第一部分606a中的每一者。複數個第一部分606a中之每一者包括第一擴散圖案，且第二部分606b包括第二擴散圖案。第二擴散圖案包括小於第一擴散圖案之透射率的透射率。因此，來自光源106之更多光可擴散透射至導光板108中，且較少光可透射穿過導光板108且反射回至導光板108中。因此，擴散層602b可進一步改良自光源106發射之光的側向散佈，藉此改良光均一性。圖案化擴散層602b可使用如針對第20圖之擴散層602a描述之類似製程施加至導光板108。
雖然第21圖圖示導光板108之面向複數個光源106的第二表面503，但在其他實施例中，導光板108之第一表面502可面向複數個光源106，使得擴散層602b背離複數個光源106，且光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112面向複數個光源106(例如，如第12圖中一般)。
第22圖為另一例示性背光620a的簡化橫截面圖。背光620a類似於先前參看第20圖描述並圖示的背光600a，不同之處在於於背光620a而言，擴散層602a係在導光板108之第一表面502上而非導光板108的第二表面503上。在此實施例中，光提取器110之圖案、複數個圖案化反射器112及擴散層602a係在導光板108之同一側上。在某些例示性實施例中，背光620a亦可包括導光板之第二表面503上的另一擴散層602a(圖中未示)，如第20圖中所圖示。
在某些例示性實施例中，擴散層602a可均一地絲網印刷於導光板108上。光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112可接著噴墨印刷於擴散層602a上方。在其他實施例中，黏著劑層可在施加擴散層602a之前施加於導光板108之表面上以改良擴散層602a至導光板108的黏著。在其他實施例中，黏著層可在施加光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112之前印刷於擴散層602a上，以改良光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112至擴散層602a的黏著。
雖然第22圖圖示導光板108背離複數個光源106的第一表面502，但在其他實施例中，導光板108之第一表面502可面向複數個光源106，使得光提取器110之圖案、複數個圖案化反射器112及擴散層602a面向複數個光源106。
第23圖為另一例示性背光620b的簡化橫截面圖。背光620b類似於先前參看第21圖描述並圖示的背光600b，不同之處在於背光620b之擴散層602b係在導光板108之第一表面502上而非導光板108的第二表面503上。在此實施例中，光提取器110之圖案、複數個圖案化反射器112及擴散層602b係在導光板108之同一側上。在某些例示性實施例中，背光620b亦可包括導光板之第二表面503上的另一擴散層602b(圖中未示)，如第21圖中所圖示。擴散層602b、光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112可使用如針對第22圖之擴散層602a所描述的類似製程施加至導光板108。
雖然第23圖圖示導光板108之背離複數個光源106的第一表面502，但在其他實施例中，導光板108之第一表面502可面向複數個光源106，使得光提取器110之圖案、複數個圖案化反射器112及擴散層602b面向複數個光源106。
第24圖為例示性背光640的簡化橫截面圖。背光640類似於先前參看第11圖描述並圖示的背光500a。背光640可包括基板102、第一反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112，如先前參看第1A圖至第1D圖所描述並圖示。背光640亦包括導光板108之第一表面502上的光提取器110之圖案，如先前參看第11圖所描述並圖示。此外，背光640可包括第二反射層642外加第一反射層104。第24圖亦在導光板108上方包括量子點膜、擴散片或擴散板146作為光學膜堆疊的第一層(圖中未示)。背光640亦可包括擴散層(圖中未示)，諸如導光板108之第一表面502及/或第二表面503上的擴散層602a或擴散層602b，如先前參看第20圖至第23圖所描述並圖示。
第二反射層642係在導光板108與第一反射層104之間。在此實施例中，第二反射層642接觸第一反射層104之上表面與導光板108的第二表面503。第二反射層642可經由光學黏著劑(例如，苯基聚矽氧)耦接至導光板108的第二表面503。在其他實施例中，在第二反射層642與導光板108之第二表面503之間可存在氣隙。
第一反射層104及第二反射層642可包括不同材料或相同材料。在某些例示性實施例中，第二反射層642之反射率大於第一反射層104的反射率。舉例而言，第二反射層642之反射率可例如大於約90%、95%或99%。如第24圖中所說明，第二反射層642之面向導光板108的表面相較於每一光源106之面向導光板108的表面更靠近於導光板108。第二反射層642包括複數個開口644。每一開口644與對應光源106對準。在某些例示性實施例中，對應光源106係在每一開口644之中心處，或係在圍繞開口644之中心達光源之大小的兩倍處。第二反射層642之每一開口644的大小D0(亦即，寬度或直徑)以646指示。在某些例示性實施例中，以522指示的每一圖案化反射器112之大小S(亦即，寬度或直徑)係在下式的約80%至約120%的範圍內： 2*d2*tan(sin-1(1/n)) + D0 其中n為導光板108之折射率，且d2為導光板108之如以518指示的厚度。
每一光源106可實質上位於每一開口644的中心中。每一開口644在自頂部檢視時形狀可為圓形、正方形、六邊形或多邊形。每一開口644形狀亦可為橢圓形、矩形或其他較不對稱形狀。如第24圖中所展示，每一開口644的壁可為直的(亦即，垂直的)。在其他實施例中，每一開口644之壁可傾斜，使得每一開口644在導光板108附近較大，且在第一反射層104附近較小。每一光源106亦可遠離開口644的中心定位。每一圖案化反射器112的透射率與對應光源106的位置緊密匹配。每一圖案化反射器112相較於遠離光源106就在對應光源106上方具有較低透射率。每一圖案化反射器112可具有類似於開口644的形狀。
第25圖為例示性背光660的簡化橫截面圖。背光660類似於先前參看第11圖描述並圖示的背光500a。背光660可包括基板102、反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。背光660亦包括導光板108之第一表面502上的光提取器110之圖案，如先前參看第11圖所描述並圖示。此外，背光660可包括囊封層662。第25圖亦在導光板108上方包括量子點膜、擴散片或擴散板146作為光學膜堆疊的第一層(圖中未示)。背光660亦可包括擴散層(圖中未示)，諸如導光板108之第一表面502及/或第二表面503上的擴散層602a或擴散層602b，如先前參看第20圖至第23圖所描述並圖示。
囊封層662係在導光板108與反射層104之間。在此實施例中，囊封層662接觸反射層104之上表面及導光板108的第二表面503。囊封層662可經由光學黏著劑(例如，苯基聚矽氧)耦接至導光板108的第二表面503。在其他實施例中，在囊封層662與導光板108之第二表面503之間可存在氣隙。囊封層662可包括清透樹脂材料、聚矽氧或另一合適材料。清透樹脂材料、聚矽氧或另一合適材料應具有高於約60%且較佳高於約90%的透射率。囊封層662可包括奈米大小或微米大小的散射微粒。如第25圖中所圖示，囊封層662囊封複數個光源106中的每一者。
第26A圖為例示性背光680之簡化橫截面圖，且第26B圖為該背光的俯視圖。背光680類似於先前參看第11圖描述並圖示的背光500a。背光680可包括基板102、反射層104、複數個光源106、導光板108及複數個圖案化反射器112，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。背光680亦包括導光板108之第一表面502上的光提取器110之圖案，如先前參看第11圖所描述並圖示。然而，對於背光680，複數個光提取器110及複數個圖案化反射器112包括相同材料，且複數個圖案化反射器112中的每一者包括變化之厚度。第26A圖亦包括導光板108上方之量子點膜、擴散片或擴散板146作為光學膜堆疊的第一層(圖中未示)。
背光680亦可包括擴散層(圖中未示)，諸如導光板108之第一表面502及/或第二表面503任一者上之擴散層602a或擴散層602b，如先前參看第20圖至第23圖所描述並圖示。在某些例示性實施例中，背光680亦可包括第二反射層(圖中未示)，諸如先前參看第24圖所描述並圖示的第二反射層642。在其他實施例中，背光680亦可包括囊封層(圖中未示)，諸如先前參看第25圖所描述並圖示的囊封層662。
如第26B圖中所說明，複數個光提取器110及複數個圖案化反射器112在導光板108之第一表面502上配置成網格圖案。第26B圖之較黑區域指示導光板108之第一表面502經暴露的網格中之開口，且第26B圖之較淺區域指示用以形成複數個光提取器110及複數個圖案化反射器112的材料。複數個光提取器110及複數個圖案化反射器112可經由印刷(例如，絲網印刷及/或噴墨印刷)施加至導光板108。
第27A圖為例示性擴散板700a之橫截面圖。擴散板700a可用於第3圖、第4圖、第11圖、第12圖及第20圖至第26A圖的擴散片或擴散板146。擴散板700a包括玻璃基板702及散射層706。玻璃基板702包括第一表面704及與該第一表面704相對的第二表面705。散射層706為玻璃基板702的第一表面704。擴散板700a包括大於約90%的濁度，且包括對於法向入射小於約1、0.5或0.3的沿著法向方向之餘弦校正雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。雙向透射分佈函數(Bi-directional Transmittance Distribution Function；BTDF)依據自表面法線透射之光的角度(入射角θT )且依據照射散射表面之入射角(θi )描述透射光的輻射。BTDF界定為：BTDF(θi, θT )=dPT /ΩT /(Pi cosθT )，其中PT 為所透射之光通量，ΩT 為透射光被重新導向至的立體角，Pi 為入射光通量，且θT 為透射角。餘弦校正之BTDF(θi, θT )等於BTDF(θi, θT )*cos(θT )。
擴散板700a可包括大於約40%的總積體散射(Total Integrated Scatter；TIS)。玻璃基板702可包括第一表面704與第二表面705之間的散射元件。在某些例示性實施例中，散射層706可包括圖案，該圖案蝕刻至玻璃基板702中或蝕刻至施加至玻璃基板702之另一合適材料中。在其他實施例中，散射層706可包括墨水或另一合適材料。散射層706可包括擴散反射偏光器。
第27B圖為例示性擴散板700b的橫截面圖。擴散板700b可用於第3圖、第4圖、第11圖、第12圖及第20圖至第26A圖的擴散片或擴散板146。擴散板700b包括玻璃基板702及散射層708。玻璃基板702包括第一表面704及與該第一表面704相對的第二表面705。散射層708係在玻璃基板702的第二表面705上。擴散板700b包括大於約90%的濁度，且對於法向入射包括小於約1、0.5或0.3的沿著法向入射的經餘弦校正之雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。擴散板700b可包括大於約40%的總積體散射(TIS)。依據角度及TIS之ccBTDF可藉由任何合適器具，諸如針對散射及外觀的輻射成像之成像球體來量測。玻璃基板702可包括第一表面704與第二表面705之間的散射元件。在某些例示性實施例中，散射層708可包括圖案，該圖案蝕刻至玻璃基板702中或蝕刻至施加至玻璃基板702之另一合適材料中。在其他實施例中，散射層708可包括墨水或另一合適材料。散射層708可包括擴散反射偏光器。
第27C圖為例示性擴散板700c的橫截面圖。擴散板700c可用於第3圖、第4圖、第11圖、第12圖及第20圖至第26A圖的擴散片或擴散板146。擴散板700c包括玻璃基板702、如先前參看第27A圖描述並圖示的第一散射層706及如先前參看第27B圖描述並圖示的第二散射層708。玻璃基板702包括第一表面704及與該第一表面704相對的第二表面705。第一散射層706係在玻璃基板702之第一表面704上，且第二散射層708係在玻璃基板702的第二表面705上。擴散板700c包括大於約90%的濁度，且包括小於約1、0.5或0.3的針對法向入射之沿著法向方向之經餘弦校正的雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。擴散板700c可包括大於約40%的總積體散射(TIS)。玻璃基板702可包括第一表面704與第二表面705之間的散射元件。
玻璃基板在第一表面704與第二表面705之間的如以710所指示的厚度T0可係在約0.1毫米至約1.5毫米的範圍內。在某些例示性實施例中，第一散射層706之如以712指示的厚度T1不同於第二散射層708的如以714所指示的厚度T2。在其他實施例中，第一散射層706之如以712所指示的厚度約等於第二散射層708的厚度。以下表4列舉實例擴散板，其中第二散射層之厚度T2的空白條目指示，實例擴散板包括第一散射層而非第二散射層。表 4 ： 擴散板實例
實例 編號 T0 (μm) T1 (μm) T2 (μm) 濁度 TIS ccBTDF (0,0)
1 700 24 25 >90% 0.061 0.019
2 700 11 40 >90% 0.062 0.020
3 700 48   >90% 0.063 0.021
4 700 12 27 >90% 0.086 0.027
5 700 33   >90% 0.089 0.030
6 700 25 7 >90% 0.104 0.033
7 700 10 11 >90% 0.133 0.042
8 700 12   >90% 0.136 0.045
9 700 14 7.5 >90% 0.170 0.053
10 700 12   >90% 0.222 0.074
11 700 12   >90% 0.236 0.075
12 500 12   >90% 0.256 0.081
13 700 6.8   >90% 0.345 0.109
14 500 6.8   >90% 0.368 0.116
15 500 5.5   >90% 0.391 0.123
表4中之實例擴散板中的每一者具有等於500微米或700微米的玻璃基板厚度T0，且第一散射層厚度T1自約5.5微米至約48微米發生變化。諸如實例1、2、4、7及9的實例擴散板中之一些亦具有自約7微米至約40微米發生變化的第二散射層厚度T2。 所有實例具有大於90%的濁度。實例具有不同總積體散射(TIS)及在運用具有550奈米之波長的法向入射光量測時針對法向入射之經餘弦校正的雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。
第一散射層706之厚度或第二散射層708的厚度可比上文提供之範圍薄或厚。舉例而言，TIS可高於約40、50、60或70%。舉例而言，玻璃基板厚度可為約100、200、300、400、900、1000、1500、2500或5000微米。以上實例擴散板中之一或多者可置放於導光板108與量子點膜、擴散片或擴散板146之間，或替換擴散片或擴散板146。以上實例擴散板中之一或多者亦可替換用於任何其他背光中的擴散板或擴散片。實例玻璃擴散板給予變化之光學性質，諸如TIS及ccBTDF(0,0)，同時相較於聚合物類擴散板或擴散片具有約10倍的熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion；CTE)。
第28A圖及第28B圖為說明用於製造背光之另一例示性方法800的流程圖。舉例而言，方法800可用以製造先前分別參看第20圖至第26A圖/第26B圖描述並圖示的背光600a、600b、620a、620b、640、660或680。如第28A圖中所說明，在802處，方法800包括將反射層施加於基板上。舉例而言，反射層104可施加至基板102，如第20圖中所說明。在804處，方法800包括將複數個光源施加於基板上。舉例而言，複數個光源106可配置於基板102上且電連接至該基板，如在第20圖中所說明。在806處，方法800包括施加光提取器之圖案及複數個圖案化反射器於導光板之第一表面上。舉例而言，光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112可施加於導光板108之第一表面502上，如第20圖中所說明。在808處，方法800包括將導光板配置於複數個光源上方，使得每一圖案化反射器與對應光源對準。在某些例示性實施例中，每一圖案化反射器之中心與對應光源之中心之間的平面內距離應在實際可行情況下盡可能地小，且並不超出圖案化反射器之大小的一半。
施加光提取器之圖案及複數個圖案化反射器可包括將光提取器之圖案及複數個圖案化反射器印刷於導光板之第一及/或第二表面上。在某些例示性實施例中，印刷光提取器之圖案及複數個圖案化反射器可包括使用單一墨水印刷光提取器之圖案及複數個圖案化反射器。在其他實施例中，印刷光提取器之圖案及複數個圖案化反射器可包括使用第一墨水印刷光提取器之圖案及使用不同於第一墨水之第二墨水印刷複數個圖案化反射器。在一些實施例中，印刷可包括噴墨印刷。在其他實施例中，印刷可包括絲網印刷。在又其他實施例中，印刷光提取器之圖案及複數個圖案化反射器可包括絲網印刷光提取器之圖案及噴墨印刷複數個圖案化反射器。
在其他實施例中，施加光提取器之圖案可包括如下各者中之至少一者：在導光板之第一表面上射出成型光提取器之圖案、壓印光提取器之圖案、化學蝕刻光提取器之圖案，及壓印光提取器的圖案。在此狀況下，施加複數個圖案化反射器可包括將複數個圖案化反射器印刷於導光板的第一表面上。在一些實施例中，施加光提取器之圖案可包括在導光板之第一表面上經由黏著層將光提取器之層層壓至導光板。在其他實施例中，施加光提取器之圖案及複數個圖案化反射器可包括在導光板之第一表面上經由黏著層層壓光提取器層及複數個圖案化反射器至導光板。在又其他實施例中，施加複數個圖案化反射器可包括以下各者中之至少一者：在導光板之第一表面上印刷複數個圖案化反射器、沉積金屬膜層，及沉積介電層堆疊。
如第28B圖中所圖示，在810處，方法800可進一步包括塗施加擴散層於導光板上。舉例而言，擴散層602a或602b可施加於導光板108上，如分別在第20圖及第21圖中所圖示。在某些例示性實施例中，施加擴散層可包括施加擴散層於導光板之第一表面上。在其他實施例中，施加擴散層可包括施加擴散層於導光板之與第一表面相對的第二表面上。在一些實施例中，施加擴散層可包括絲網印刷擴散層。絲網印刷擴散層可包括絲網印刷擴散層於底漆層上。在其他實施例中，施加擴散層可包括經由黏著層將擴散層層壓於導光板上。在又其他實施例中，施加擴散層可包括將擴散層壓印至導光板上，射出成型擴散層，蝕刻導光板，或運用雷射施加擴散層。
第29A圖為例示性背光900a的簡化橫截面圖。背光900a可包括基板102、第一反射層104及複數個光源106，如先前參看第1A圖至第1D圖描述並圖示。背光900a亦包括第二反射層902及複數個囊封層906a。此外，背光900a可包括量子點膜、擴散片或擴散板146作為第二反射層902上方的光學膜堆疊(圖中未示)的第一層。在某些例示性實施例中，光學膜堆疊自底部至頂部之次序包括擴散板、量子點膜、擴散片、稜鏡膜及反射偏光器。在其他實施例中，光學膜堆疊以自底部至頂部之次序可包括量子點膜、擴散板、擴散片、稜鏡膜及反射偏光器。在又其他實施例中，光學膜堆疊以自底部至頂部之次序可包括量子點膜、擴散片、稜鏡膜及反射偏光器。
第二反射層902係在量子點膜、擴散片或擴散板146與第一反射層104之間。在此實施例中，第二反射層902接觸第一反射層104之上表面及量子點膜、擴散片或擴散板146的下表面。第二反射層902可經由光學黏著劑(例如，苯基聚矽氧)耦接至量子點膜、擴散片或擴散板146的下表面。在其他實施例中，在第二反射層902與量子點膜、擴散片或擴散板146的下表面之間可存在氣隙。
第一反射層104及第二反射層902可包括不同材料或相同材料。在某些例示性實施例中，第二反射層902之反射率大於第一反射層104的反射率。舉例而言，第二反射層902之反射率可例如大於約90、95或99%。如第29A圖中所說明，第二反射層902之面向量子點膜、擴散片或擴散板146的表面相較於每一光源106之面向量子點膜、擴散片或擴散板146的表面可更靠近於量子點膜、擴散片或擴散板146。第二反射層902包括複數個開口904。每一開口904與對應光源106對準。
每一光源106可實質上位於每一開口904的中心中。每一開口904在自頂部檢視時形狀可為圓形、正方形、六邊形或多邊形。每一開口904形狀亦可為橢圓形、矩形或其他較不對稱形狀。如第29A圖中所展示，每一開口904的壁可為直的(亦即，垂直的)。在其他實施例中，每一開口904之壁可傾斜，使得每一開口904在量子點膜、擴散片或擴散板146附近較大，且在第一反射層104附近較小。每一光源106亦可遠離開口904的中心定位。
每一囊封層906a在量子點膜、擴散片或擴散板146與第一反射層104之間係在對應開口904內。在此實施例中，每一囊封層906a接觸每一反射層104之上表面且部分填充對應開口904。每一囊封層906a可包括清透樹脂層、聚矽氧或另一合適材料。如第29A圖中所圖示，每一囊封層906a囊封對應光源106。
第29B圖為例示性背光900b的簡化橫截面圖。背光900b類似於先前參看第29A圖描述並圖示的背光900a，不同之處在於背光900b包括複數個囊封層906b取代囊封層906a。如第29B圖中所圖示，每一囊封層906b充分填充每一對應開口904，使得每一囊封層906b之上表面接觸量子點膜、擴散片或擴散板146的下表面。
第29C圖為例示性背光900c的簡化橫截面圖。背光900c類似於先前參看第29B圖描述並圖示的背光900b，不同之處在於背光900c包括囊封層906c取代複數個囊封層906b。如第29C圖中所圖示，囊封層906c係在第二反射層902之上表面與量子點膜、擴散片或擴散板146之間，且充分填充每一開口904。因此，囊封層906c在第二反射層902上方延伸。
在某些例示性實施例中，上文參看第29A圖及第29C圖描述的第二反射層902及囊封層906a、906b或906c可替代先前參看第24圖描述並圖示的背光640之第二反射層642來使用。
第30圖為例示性背光920的簡化橫截面圖。背光920類似於先前參看第29C圖描述並圖示的背光900c，不同之處在於背光920亦包括光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112。第30圖亦包括量子點膜、擴散片或擴散板146作為光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112上方的光學膜堆疊(圖中未示)之第一層。在此實施例中，光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112接觸囊封層906c的上表面。在其他實施例中，擴散層，諸如如先前參看第22圖及第23圖描述並圖示的擴散層602a或602b可係在光提取器110之圖案與複數個圖案化反射器112與囊封層906c之間。
第31圖為例示性背光940的簡化橫截面圖。背光940類似於先前參看第25圖描述並圖示的背光660，唯背光940並不包括導光板108外。在此實施例中，光提取器110之圖案及複數個圖案化反射器112接觸囊封層662的上表面。在其他實施例中，擴散層，諸如參看第22圖及第23圖描述並圖示的擴散層602a或602b，可係在光提取器110之圖案與複數個圖案化反射器112與囊封層662之間。
對於熟習此項技術者將顯而易見的是，可對本發明之實施例進行各種修改及變化而不偏離本發明的精神及範疇。因此，意欲本發明涵蓋所提供的係在附加申請專利範圍及其等效物之範疇內的此類修改及變化。
100:例示性背光 102:基板 104:反射層 106:光源 108:導光板 109:光學黏著劑 110:光提取器 111:間隙 112:圖案化反射器 112a:例示性圖案化反射器 112b:例示性圖案化反射器 112c:例示性圖案化反射器 112d:例示性圖案化反射器 112e:圖案化反射器 112f:例示性圖案化反射器 112g:例示性圖案化反射器 112h:例示性圖案化反射器 113:第一區域 114:第二區域 120:第一層 122:第二層 124:第一層 126:第二層 128:第三層 130:第一層 132:第二層 134:第三層 140:例示性液晶顯示器(LCD) 142:層 144:第二圖案化反射器 146:擴散板 148:量子點膜 150:稜鏡膜 152:反射偏光器 154:顯示器面板 160:例示性液晶顯示器(LCD) 200:例示性背光 202:吸收性元件 210:光線 212:光線 214:光線 300a:例示性背光 300b:例示性背光 302a:低折射率材料 302b:低折射率材料層,低折射率材料 304:射線 306:射線 320:大小S0,寬度,直徑 322:大小S2,寬度,直徑 324:厚度T1 326:厚度T2 400:用於製造背光之例示性方法 500:背光 500a:背光 500b:背光 502:第一表面 503:第二表面 510:尺寸 512:間距P,尺寸 514:距離h0,尺寸 516:距離d1,尺寸 518:厚度d2,尺寸 520:光學距離OD,尺寸 522:大小S,尺寸,寬度,長度,直徑 523:間隙 530:射線 532:射線 534:射線 534a:射線 536:射線 536a:射線 538:射線 538a:射線 540:射線 542:射線 544:射線 544a:射線 546:射線 546a:射線 548:射線 548a:射線 550:區 5601:間隔 5602:間隔 560N:間隔 5620:寬度 5621:寬度 562N:寬度 570:樹脂層 572:凹入微型結構 574:微型結構之大小,寬度,直徑 576:反射材料 582:凸起微型結構 584:微型結構之大小,寬度,直徑 592:散射珠 594:珠之大小,寬度,直徑 596:散射珠之間的中心距離 600a:例示性背光 600b:例示性背光 602a:擴散層 602b:擴散層 604:射線 606a:第一部分 606b:第二部分 608:第一部分之大小,直徑,寬度 620a:例示性背光 620b:例示性背光 640:例示性背光 642:第二反射層 644:開口 646:大小D0,寬度,直徑 660:例示性背光 662:囊封層 680:例示性背光 700a:例示性擴散板 700b:例示性擴散板 700c:例示性擴散板 702:玻璃基板 704:第一表面 705:第二表面 706:散射層 708:散射層 710:厚度T0 712:厚度T1 714:厚度T2 800:用於製造背光之例示性方法 900a:例示性背光 900b:例示性背光 900c:例示性背光 902:第二反射層 904:開口 906a:囊封層 906b:囊封層 906c:囊封層 920:例示性背光 940:例示性背光
第1A圖至第1D圖為包括圖案化反射器之例示性背光的各種視圖；
第2A圖至第2D圖為導光板上之例示性圖案化反射器的橫截面圖；
第3圖為包括分離層之例示性液晶顯示器(LCD)的橫截面圖，該分離層包括圖案化反射器；
第4圖為包括具有圖案化反射器之擴散板的例示性LCD之橫截面圖；
第5A圖至第5C圖為包括圖案化反射器及吸收性元件之例示性背光的各種視圖；
第6圖為包括圖案化反射器及吸收性元件之例示性背光的簡化橫截面圖；
第7A圖及第7B圖為包括圖案化反射器及低折射率材料之例示性背光的橫截面圖；
第8圖為包括頂部發射光源、圖案化反射器及低折射率材料之例示性背光的簡化橫截面圖；
第9A圖至第9C圖為說明用於製造背光之例示性方法的流程圖；
第10A圖至第10D圖為在導光板之同一側上包括圖案化反射器及光提取器之例示性背光的各種視圖；
第11圖為第10A圖之例示性背光的更詳細簡化橫截面圖；
第12圖為第10B圖之例示性背光的更詳細簡化橫截面圖；
第13圖為用於界定導光板之複數個區的網格；
第14圖圖示針對第13圖之網格之一個區的例示性圖案化反射器及光提取器；
第15圖為第14圖之圖案化反射器的放大視圖；
第16圖為包括凹入微型結構之例示性圖案化反射器的橫截面圖；
第17圖為包括凸起微型結構之例示性圖案化反射器的橫截面圖；
第18圖為包括散射珠之例示性圖案化反射器的橫截面圖；
第19圖為包括散射珠之例示性圖案化反射器的仰視圖；
第20圖為包括擴散層之例示性背光的簡化橫截面圖；
第21圖為包括擴散層之例示性背光的簡化橫截面圖，該擴散層包括兩個圖案；
第22圖為包括擴散層之另一例示性背光的簡化橫截面圖；
第23圖為包括擴散層之另一例示性背光的簡化橫截面圖，該擴散層包括兩個圖案；
第24圖為包括第二反射層之例示性背光的簡化橫截面圖；
第25圖為包括囊封層之例示性背光的簡化橫截面圖；
第26A圖及第26B圖為包括光提取器及圖案化反射器之例示性背光的各種視圖，該等光提取器及圖案化反射器包括相同材料；
第27A圖至第27C圖為例示性擴散板的橫截面圖；
第28A圖及第28B圖為圖示用於製造背光之另一例示性方法的流程圖；
第29A圖至第29C圖為包括第二反射層及囊封層之例示性背光的簡化橫截面圖；
第30圖為包括囊封層之例示性背光的簡化橫截面圖；且
第31圖為包括囊封層之例示性背光的簡化橫截面圖。
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國外寄存資訊 (請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
100:例示性背光
102:基板
104:反射層
106:光源
108:導光板
109:光學黏著劑
110:光提取器
112:圖案化反射器

Claims (21)

  1. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一反射層； 靠近該複數個光源之一導光板； 該導光板上之光提取器的一圖案； 該導光板上之複數個圖案化反射器，每一圖案化反射器與一對應光源對準；及 該導光板上之一擴散層。
  2. 如請求項1所述之背光，其中該擴散層包含複數個第一部分，該複數個第一部分包含一第一擴散圖案，每一第一部分與一對應光源對準，及 包圍該複數個第一部分中每一者的一第二部分，該第二部分包含一第二擴散圖案，該第二擴散圖案包含小於該第一擴散圖案之一透射率的一透射率。
  3. 如請求項1所述之背光，進一步包含： 該導光板上方之一擴散板，該擴散板包含一玻璃基板，該玻璃基板包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面以及該第一表面上的一第一散射層， 其中該擴散板包含大於90%之一濁度，及小於1的針對法向入射之沿著法向方向之一經餘弦校正雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。
  4. 一種擴散板，包含： 一玻璃基板，該玻璃基板包含一第一表面及與該第一表面相對之一第二表面；及 該玻璃基板之該第一表面上的一第一散射層， 其中該擴散板包含大於90%之一濁度，及小於1的針對法向入射之沿著法向方向之一經餘弦校正雙向透射分佈函數(ccBTDF(0,0))。
  5. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一第一反射層； 靠近該複數個光源之一導光板； 該導光板上之光提取器的一圖案； 該導光板上之複數個圖案化反射器，每一圖案化反射器與一對應光源對準；及 該導光板與該第一反射層之間的一第二反射層。
  6. 如請求項5所述之背光，其中該第二反射層包含複數個開口，每一開口與一對應光源對準。
  7. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一反射層； 靠近該複數個光源之一導光板； 該導光板上之光提取器的一圖案； 該導光板上之複數個圖案化反射器，每一圖案化反射器與一對應光源對準；及 一囊封層，其係在該反射層上且囊封該複數個光源。
  8. 如請求項7所述之背光，進一步包含： 該導光板上之一擴散層。
  9. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一第一反射層； 靠近該複數個光源之一導光板，該導光板包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面； 該導光板之該第一表面上的光提取器之一圖案；及 該導光板之該第一表面上的複數個圖案化反射器，每一圖案化反射器與一對應光源對準且包含一可變之厚度， 其中每一圖案化反射器與光提取器之該圖案之間的一間隙係在d2至3*d2之一範圍內，其中d2係該導光板在該第一表面與該第二表面之間的一厚度。
  10. 如請求項9所述之背光，進一步包含： 該導光板與該第一反射層之間的一第二反射層，該第二反射層包含複數個開口，每一開口與一對應光源對準。
  11. 如請求項10所述之背光，其中每一圖案化反射器之一直徑係在2*d2*tan(sin-1 (1/n))+D0之80%至120%的一範圍內，其中n為該導光板之一折射率，且D0為該第二反射層之每一開口的一直徑。
  12. 如請求項9所述之背光，進一步包含： 該導光板上之一擴散層。
  13. 如請求項9所述之背光，進一步包含： 一囊封層，其係在該第一反射層上且囊封該複數個光源。
  14. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一第一反射層； 靠近該複數個光源之一導光板，該導光板包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；及 複數個光提取器及複數個圖案化反射器，其包含相同材料且在該導光板之該第一表面上配置成一網格圖案，每一圖案化反射器與一對應光源對準。
  15. 如請求項14所述之背光，進一步包含： 該導光板與該第一反射層之間的一第二反射層，該第二反射層包含複數個開口，每一開口與一對應光源對準。
  16. 如請求項14所述之背光，進一步包含： 該導光板上之一擴散層。
  17. 一種用於製造一背光之方法，該方法包含如下步驟： 將一反射層施加於一基板上； 將複數個光源配置於該基板上； 將光提取器之一圖案及複數個圖案化反射器施加於一導光板之一第一表面上；及 在該複數個光源上方配置該導光板，使得每一圖案化反射器與一對應光源對準。
  18. 如請求項17所述之方法，進一步包含將一擴散層施加於該導光板上的步驟。
  19. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一反射層； 一囊封層，其係在該反射層上且囊封該複數個光源； 該囊封層上的光提取器之一圖案；及 該囊封層上之複數個圖案化反射器，每一圖案化反射器與一對應光源對準。
  20. 如請求項19所述之背光，進一步包含： 一擴散層，其係在該囊封層與光提取器之該圖案與該複數個圖案化反射器之間。
  21. 一種背光，包含： 一基板； 靠近該基板之複數個光源； 該基板上之一第一反射層； 該第一反射層上之一第二反射層，該第二反射層包含複數個開口，每一開口與一對應光源對準；及 至少一個囊封層，其係在該第一反射層上且囊封該複數個光源。
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