TW202003222A - 積層體及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種積層體，係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、第2功能層及第2基材層，其中，在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[c]與前述第2功能層之端部的位置相同、或位於較前述第2功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
Description
本發明係關於積層體及其製造方法。
在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置係使用有含有偏光層或相位差層等的構件。專利文獻1及2記載有使用液晶材料作為圓偏光板等所使用之光學膜之相位差層。專利文獻1及2記載有由依序積層有支持體基材、配向層、相位差層、接著層、相位差層、配向層、及支持體基材之積層體剝離支持體基材之內容。
專利文獻1：日本特開2015-21976號公報。
專利文獻2：日本特開2015-22248號公報。
本發明目的在於提供適合作為光學製品材料之積層體及其製造方法。
本發明提供以下所示積層體及其製造方法。
〔1〕一種積層體，係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、第2功能層、及第2基材層，其中，在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係，[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[c]與前述第2功能層之端部的位置相同、或位於較前述第2功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
(以下將該積層體稱為「積層體(1)」。)
〔2〕如〔1〕所記載之積層體，其中在前述積層體之寬度方向的兩端中，前述接著層之端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所記載之積層體，其中前述第1功能層及前述第2功能層分別為液晶層。
〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所記載之積層體，其中前述第1功能層及前述第2功能層中至少一者為相位差層。
〔5〕一種積層體，係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、及第2'功能層， 在前述積層體寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]、[b]及[d]之所有關係，[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[d]與前述第2'功能層端部的位置相同。
(以下將該積層體稱為「積層體(2)」。)
〔6〕如〔5〕所記載之積層體，其中在前述積層體之寬度方向的兩端中，前述接著層之端部的位置滿足上述[a]、[b]及[d]之所有關係。
〔7〕如〔5〕或〔6〕所記載之積層體，其中前述第1功能層及前述第2'功能層分別為液晶層。
〔8〕如〔5〕至〔7〕中任一項所記載之積層體，其中前述第1功能層及前述第2'功能層中至少一者為相位差層。
〔9〕如〔5〕至〔8〕中任一項所記載之積層體，更含有樹脂膜，在前述第2'功能層側係隔著樹脂膜用接著層而積層前述樹脂膜。
(以下將該積層體稱為「積層體(3)」。)
〔10〕如〔9〕所記載之積層體，其中在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述樹脂膜用接著層之端部的位置與前述第1功能層之端部的位置相同、或位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
〔11〕如〔9〕或〔10〕所記載之積層體，其中前述樹脂膜為光學膜。
〔12〕一種積層體之製造方法，前述積層體係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、第2功能層、及第2基材層積層體， 前述積層體之製造方法係具備下列步驟：準備第1積層部之步驟，前述第1積層部係含有前述第1基材層及前述第1功能層；準備第2積層部之步驟，前述第2積層部係含有前述第2基材層及前述第2功能層；以及隔著前述接著層而以使前述第1功能層與前述第2功能層相向之方式積層前述第1積層部與前述第2積層部之步驟；在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[c]與前述第2功能層之端部的位置相同、或位於較前述第2功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
〔13〕一種積層體之製造方法，前述積層體係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、及第2'功能層，前述積層體之製造方法係具備下列步驟：準備如〔1〕至〔4〕中任一項所記載之積層體之步驟；以及由前述積層體剝離前述第2基材層之步驟。
〔14〕一種積層體之製造方法，係具備下列步驟：準備如〔5〕至〔8〕中任一項所記載之積層體之步驟；以及 在前述積層體的前述第2'功能層側隔著樹脂膜用接著層而積層前述樹脂膜之步驟。
〔15〕一種積層體之製造方法，係具備下列步驟：準備如〔9〕至〔11〕中任一項所記載之積層體之步驟；以及由前述積層體剝離前述第1基材層之步驟。
根據本發明可提供適合作為光學製品材料之積層體及其製造方法。
10‧‧‧第1積層部
11‧‧‧第1基材層
12‧‧‧第1功能層(第1液晶層)
12'‧‧‧第1'功能層(第1'液晶層)
20‧‧‧第2積層部
21‧‧‧第2基材層
22‧‧‧第2功能層(第2液晶層)
22x‧‧‧接著層形成區域
22y‧‧‧接著層未形成區域
22'‧‧‧第2'功能層(第2'液晶層)
22"‧‧‧第2"功能層(第2"液晶層)
30、30'‧‧‧接著層
36‧‧‧光學膜用接著層
41‧‧‧積層體(1)
42‧‧‧積層體(2)
45‧‧‧中間層
51‧‧‧積層體(3)
52‧‧‧光學積層體
60‧‧‧光學膜(樹脂膜)
第1圖係示意表示積層體(1)一例之概略剖面圖。
第2圖(a)及(b)係示意表示積層體(1)之製造步驟一例之概略剖面圖。
第3圖係示意表示積層體(2)一例之概略剖面圖。
第4圖(a)及(b)係示意表示積層體(2)之製造步驟一例之概略剖面圖。
第5圖係示意表示積層體(3)一例之概略剖面圖。
第6圖(a)及(b)係示意表示光學積層體(3)之製造步驟一例之概略剖面圖。
第7圖係示意表示用以與積層體(1)對比之光學積層體一例之概略剖面圖。
以下參照圖面說明積層體(1)、積層體(2)、及積層體(3)、以及該等積層體(1)至(3)及光學積層體之製造方法之較佳實施形態。以下所示各實施形態及其變形例可任意組合。各實施形態及其變形例中，與其先前實施形態或其變形例所說明構件相同的構件係附以相同符號，並省略其說明。
[實施形態1(積層體(1)及其製造方法)]
(積層體(1))
第1圖係示意表示積層體(1)一例之概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。如第1圖所示，積層體(1)41係依序含有第1基材層11、第1功能層12、接著層30、第2功能層22、及第2基材層21，在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中，接著層30端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係，[a]與第1基材層11端部的位置相同、或位於較第1基材層11端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側處；以及[c]與第2功能層22端部的位置相同、或位於較第2功能層22端部的位置靠寬度方向內側處。
又，上述[a]至[c]之必要條件所記載各端部的位置為在積層體(1)41寬度方向剖面中的位置，以下規定各層端部的位置關係時，亦為在積層體(1)41寬度方向剖面中的位置。
積層體(1)41可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
第1基材層11係具有作為支持層或保護層的功能，其中，該支持層係支持於第1基材層11上所形成之第1功能層12，該保護層係 保護第1功能層12。第1基材層及第2基材層分別可為積層複數膜之層。第1基材層11可具有顯示偏光功能的膜。
第2基材層21係具有作為支持層或保護層的功能，其中，該支持層係支持於第2基材層21上所形成之第2功能層22，該保護層係保護第1功能層12。
本實施形態中，第1基材層11可為顯示脫模性的膜，顯示脫模性時係可相對於第1功能層12而剝離。第2基材層21可為顯示脫模性的膜，顯示脫模性時係可相對於第2功能層22而剝離。
第1功能層12可舉出顯示偏光特性或光學補償功能等光學特性之光學膜或液晶層、或構成觸碰感測器之層等，可為樹脂膜，也可為液晶層。
第1功能層12較佳為含有液晶化合物的液晶層(以下將液晶層之第1功能層12稱為「第1液晶層」)。第1液晶層例如可為將聚合性液晶化合物聚合所形成之硬化膜。第1功能層12較佳為相位差層、觸碰感測器層、偏光層，更佳為相位差層。
第2功能層22可舉出顯示偏光特性或光學補償功能等光學特性之薄膜層、或構成觸碰感測器之層，可為樹脂膜，也可為液晶層。第2功能層22較佳為含有液晶化合物的液晶層(以下將液晶層之第2功能層22稱為「第2液晶層」)。與第1液晶層同樣地，第2液晶層例如可為將聚合性液晶化合物聚合而形成之硬化膜。第2功能層22較佳為相位差層、觸碰感測器層及偏光層，更佳為相位差層。
接著層30係接著第2功能層22與第1基材層11及第1功能層12。在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中，接著層30端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係。
具體而言，在積層體(1)41寬度方向剖面中，接著層30端部的位置為：與第1基材層11端部相同、或位於較其靠寬度方向內側處；位於較第1功能層12端部靠寬度方向外側處；且與第2功能層22端部相同、或位於較其靠寬度方向內側處。
在第1圖所示之積層體(1)41的寬度方向之至少一端部中，第1基材層11端部的位置位於較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側處，第2基材層21端部的位置位於較第2功能層22端部的位置靠寬度方向外側處。在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中，第1基材層11端部的位置與第2基材層21端部的位置相同，第1功能層12端部的位置位於較第2功能層22端部的位置靠寬度方向內側處。第1基材層11端部的位置與第2基材層21端部的位置可互相不同。
第2基材層21可相對於第2功能層22而剝離，如後述，可藉由從積層體(1)41剝離第2基材層21而得到積層體(2)42(第3圖)。
藉由在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中，使接著層30端部的位置與第2功能層22端部的位置相同、或位於較其靠寬度方向內側處(滿足上述[c]之關係)，可形成接著層30未接著於第2基材層21之狀態。因此可從積層體(1)41剝離第2基材層21。又，在接著層30寬度方向之至少一端部中，接著層30端部的位置係與第1基材層11端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，且位於較第1功能層12端部靠寬度方向外側處(滿足上 述[a]及[b]之關係)，藉此可形成以下狀態：第2功能層22之含有至少一端部之區域係隔著接著層30而接著於第1基材層11。因此，將積層體(1)41在接著層30與第1基材層11間分離的剝離力係大於在第2功能層22與第2基材層21間分離的剝離力。藉由該剝離力的不同，要從積層體(1)41剝離第2基材層21時，在接著層30與第1基材層11間分離變得較困難，藉此，相對於第1基材層11與第1功能層12間分離變得較困難，第2基材層21與第2功能層22間的分離較容易。因此，可適宜地從積層體(1)41剝離第2基材層21。
另一方面，例如第7圖所示積層體41p，接著層30p之寬度方向端部的位置係與第1功能層12p及第2功能層22p之個別寬度方向端部的位置相同、或位於較其靠內側處時(未滿足上述[b]時)，在欲剝離第2基材層21p時，積層體41p在第2基材層21p與第2功能層22p間不會分離，而會在第1基材層11p與第1功能層12p間分離，會產生無法由積層體41剝離第2基材層21的不良。
在積層體(1)41中，如上述，接著層30端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係，藉此容易剝離第2基材層21，容易將積層體(1)41在第2基材層21與第2功能層22p間分離，故容易獲得後述積層體(2)42(第3圖)。
第1圖所示積層體(1)41可用以下方式設定剝離力，該剝離力為在特定層間分離時所需的力。剝離力(i)可為剝離力(ii)以上，也可為剝離力(ii)以下，該剝離力(i)為將積層體(1)41在第1基材層11與第1功能層12間分離時所需的力，該剝離力(ii)為將積層體(1)41在第2基材層21與 第2功能層22間分離時所需的力。剝離力(iii)較佳為大於剝離力(i)及剝離力(ii)，該剝離力(iii)為將積層體(1)41在接著層30與第1基材層11間分離時所需的力。剝離力例如可使用精密萬能試驗機AGS系列(島津製作所製)而測定。
(積層體(1)之製造方法)
第2圖(a)及(b)之概略剖面圖係示意表示積層體(1)41之製造步驟一例。圖中，W表示寬度方向。積層體(1)之製造方法係具備以下步驟：準備含有第1基材層11及第1功能層12之第1積層部10之步驟(第2圖(a))；準備含有第2基材層21及第2功能層22之第2積層部20之步驟(第2圖(b))；以及隔著接著層30而以使第1功能層12與第2功能層22相向之方式積層第1積層部10與第2積層部20之步驟(第1圖)。
如第2圖(a)所示，第1積層部10只要在第1基材層11上具有第1功能層12即可。
第1功能層12為樹脂膜時，可使用接著劑或黏著劑以可剝離之方式貼合第1基材層11與第1功能層12，藉以準備第1積層部10。
第1功能層12為第1液晶層時，可將含有聚合性液晶化合物的液晶層形成用組成物塗佈於第1基材層11上，並在第1基材層11上將聚合性液晶化合物聚合，而形成第1功能層12，藉以準備第1積層部10。
如JP2017-083843A1所例示，可藉由以含有二色性色素之液晶層形成用組成物而形成第1功能層12，而將第1功能層作為偏光層。
又，如韓國專利10-1586736所例示，可形成觸碰感測器層作為第2功能層。
如第2圖(b)所示，第2積層部20只要在第2基材層21上具有第2功能層22即可。
第2功能層22為樹脂膜時，可，亦即，使用接著劑或黏著劑而以可剝離之方式貼合第2基材層21與第2功能層22，藉以準備第2積層部20。
第2功能層22為第1液晶層時，可將含有聚合性液晶化合物的液晶層形成用組成物塗佈於第2基材層21上，並在第2基材層21上將聚合性液晶化合物聚合，而形成第2功能層22，藉以準備第1積層部10。
如JP2017-083843所例示，可藉由以含有二色性色素之液晶層形成用組成物形成第2功能層22，而將第2功能層作為偏光層。
又，如韓國專利10-1586736所例示，可形成觸碰感測器層作為第2功能層。
積層第1積層部10與第2積層部20之步驟可具備以下步驟：在第1積層部10之第1功能層12側及第2積層部20之第2功能層22側中至少一者形成接著組成物層，該接著組成物層係用以形成接著層30。積層第1積層部10與第2積層部20之步驟可具備以下步驟：隔著接著組成物層而以第1功能層12與第2功能層22相向之方式積層第1積層部10與第2積層部20，並由接著組成物層形成接著層30。由接著組成物層形成接著層30之步驟可因應接著組成物層所含有成分而適宜進行，例如需要硬化接著組成物層時，可進行實施硬化處理之步驟，不需硬化處理時，可將接著組成物層直接作為接著層。
具有於第1積層部10形成接著組成物層之步驟時，接著組成物層較佳為用以下方式而形成：接著組成物層寬度方向之至少一端部的位置係較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側，且與第1基材層11端部的位置相同、或較其靠寬度方向內側。具有於第2積層部20形成接著組成物層之步驟時，積層第1積層部10與第2積層部20時，接著組成物層較佳為用以下方式而形成：接著組成物層寬度方向之至少一端部的位置係與第2功能層22端部的位置相同、或較其靠寬度方向內側。
積層體(1)41之製造方法所使用第1積層部10及第2積層部20可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
積層體(1)及其製造方法可變更為以下所示變形例。又，可任意組合上述實施形態及下述所示變形例。
(實施形態1之變形例1)
可為在積層體(1)寬度方向之一端部中的接著層30寬度方向端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係，也可為在積層體(1)寬度方向之兩端中的接著層30寬度方向端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係。
(實施形態1之變形例2)
積層體(1)41除了第1基材層11、第1功能層12、接著層30、第2功能層22、及第2基材層21以外，可進一步含有其他層。例如積層體(1)41可在與第1基材層之第1功能層相反側的面依序進一步具有接著層及剝離膜。
例如第1功能層12為第1液晶層時，可在第1基材層11與第1功能層12間進一步具有第1配向層。第2功能層22為第2液晶層時， 可在第2基材層21與第2功能層22間進一步具有第2配向層。第1功能層12為第1液晶層且第2功能層22為第2液晶層時，在積層體(1)之製造方法中，第1積層部亦可在第1基材層11與第1功能層12間具有第1配向層，第2積層部亦可在第2基材層21與第2功能層22間具有第2配向層。
在第1基材層11與第1功能層12間具有第1配向層時，在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中，第1配向層端部的位置可與第1基材層11端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，也可為與第1功能層12端部相同的位置，也可位於較其靠寬度方向內側處或寬度方向外側處。
在第2基材層21與第2功能層22間具有第2配向層時，在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中，第2配向層端部的位置可與第2基材層21端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，也可為與第2功能層22端部相同位置，也可位於較其靠寬度方向內側處或寬度方向外側處。
[實施形態2(積層體(2)及其製造方法)]
(積層體(2))
第3圖之概略剖面圖係示意表示積層體(2)一例。圖中，W表示寬度方向。如第3圖所示，積層體(2)42係依序含有第1基材層11、第1功能層12、接著層30、及第2'功能層22'，在積層體(2)42寬度方向之至少一端部中，接著層30端部的位置滿足下述[a]、[b]及[d]之所有關係，[a]與第1基材層11端部的位置相同、或位於較其靠寬度方向內側處；[b]位於較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側處， [d]與第2'功能層22'端部的位置相同。
又，上述[a]、[b]及[d]之必要條件所記載各端部的位置為在積層體(2)42寬度方向剖面中的位置，以下規定各層端部的位置之關係時，亦為在積層體(2)42寬度方向剖面中的位置。
積層體(2)42可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
第1基材層11及第1功能層12係與先前實施形態所說明者相同。
第2'功能層22'可舉出顯示偏光特性或光學補償功能等光學特性之光學膜、或液晶層、構成觸碰感測器之層等，可為樹脂膜，也可為液晶層。
第2'功能層22'較佳為含有液晶化合物的液晶層(以下將屬於液晶層之第2'功能層22'稱為「第2'液晶層」)。第2'功能層22'例如可為將聚合性液晶化合物聚合而形成之硬化膜。如後述，第2'功能層22'也可為源自於第2功能層22的層。第2'功能層22'更佳為相位差層。
與先前實施形態同樣地，第1基材層11可為相對於第1功能層12可剝離的膜，也可具有顯示偏光功能的膜。
接著層30係接著第2'功能層22'與第1基材層11及第1功能層12。在積層體(2)42寬度方向之至少一端部中，接著層30端部的位置滿足上述[a]、[b]及[d]之所有關係。具體而言，在積層體(2)42寬度方向剖面中，接著層30端部的位置係與第1基材層11端部的位置相同或位於較其靠寬度方向內側處，較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側處，且位於第2'功能層22'端部的位置。
在第3圖所示積層體(2)42寬度方向之至少一端部中，第1基材層11端部的位置係較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側，且較第2'功能層22'端部的位置靠寬度方向外側。又，在積層體(2)42寬度方向之至少一端部中，第1功能層12端部的位置較第2'功能層22'端部的位置靠寬度方向內側。
如後述，可藉由從積層體(1)41剝離第2基材層21而得積層體(2)42。積層體(2)42可用於製造後述積層體(3)。
(積層體(2)之製造方法)
第4圖(a)及(b)為示意表示積層體(2)之製造步驟一例之概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。第4圖(a)所示積層體(1)41係具有與第1圖所示積層體(1)41相同之構造，第4圖(b)所示積層體(2)42係具有與第3圖所示積層體(2)42相同之構造。積層體(2)之製造方法具備以下步驟：準備積層體(1)41之步驟(第4圖(a))；以及從積層體(1)41剝離第2基材層21之步驟(第4圖(b))。
可以先前實施形態所說明方法準備積層體(1)。積層體(1)係如先前實施形態所說明。
在積層體(1)41中，第2基材層21相對於第2功能層22可剝離，在積層體(1)41寬度方向之至少一端部中的接著層30端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係。因此，藉由從積層體(1)41剝離第2基材層21而可得第3圖及第4圖(b)所示積層體(2)42。
在第4圖(a)所示積層體(1)41寬度方向剖面中，第2功能層22係具有：設置有接著層30之區域之接著層形成區域22x、及未設置有接 著層30之區域之接著層未形成區域22y(第4圖(a)中，右上斜線所示部分)。接著層形成區域22x為設置於接著層30上之區域，因此即使將第2基材層21剝離，亦會被固定於接著層30，不容易與第2基材層21一起被剝離。另一方面，接著層未形成區域22y並未被固定於接著層30而容易與第2基材層21一起被剝離。因此，若從積層體(1)41剝離第2基材層21，則如第4圖(b)所示，會以接著層形成區域22x存在於接著層30上且接著層未形成區域22y存在於第2基材層21上之方式分割第2功能層22，而存在於接著層30上之接著層形成區域22x成為第2'功能層22'。因此，可藉由從積層體(1)41剝離第2基材層21而得積層體(2)42。
積層體(2)42之製造方法所使用積層體(1)41可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
積層體(2)及其製造方法可變更為以下所示之變形例。上述實施形態及下述所示變形例可任意組合。
(實施形態2之變形例1)
接著層30端部的位置可為在積層體(2)42寬度方向一端部中滿足上述[a]、[b]及[d]之所有關係，也可為在積層體(2)42寬度方向的兩端中滿足上述[a]、[b]及[d]之所有關係。
(實施形態2之變形例2)
積層體(2)42除了第1基材層11、第1功能層12、接著層30、及第2'功能層22'以外，可進一步含有其他層。積層體(2)42在與第1基材層11之第1功能層12相反側可進一步具有接著層及隔離膜。
第1功能層12為第1液晶層時，在第1基材層11與第1功能層12間可進一步具有第1配向層。第2'功能層22'為第2'液晶層時，在與第2'功能層22'之接著層30相反側可進一步具有第2配向層。
積層體(2)42在第1基材層與第1功能層間具有第1配向層時，在積層體(2)42寬度方向之至少一端部中，第1配向層之端部的位置可與第1基材層端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，也可與第1功能層之寬度端部相同，也可位於較其靠寬度方向內側處或寬度方向外側處。
積層體(2)42具有第2配向層時，在積層體(2)42寬度方向之至少一端部中，第2配向層之端部的位置可與第2'功能層端部相同，也可位於較其靠寬度方向內側處。
藉由從積層體(1)剝離第2基材層而得積層體(2)為時，積層體(1)可具有第1配向層或第2配向層。積層體(1)在第2基材層與第2功能層間具有第2配向層時，可藉由與第2基材層一起剝離第2配向層而得積層體(2)，也可以使第2配向層存在於第2'功能層上之方式剝離第2基材層。此時，與第2功能層同樣地，積層體(1)中的第2配向層在剝離第2基材層時可分割為存在於第2基材層上之區域、及存在於第2'功能層上之區域。
可藉由第2基材層、第2配向層、及第2功能層中各層間之剝離力，調整是由含有第2配向層之積層體(1)一起剝離第2基材層與第2配向層，或是僅剝離第2基材層。剝離力例如可藉由各層所含有成分、或對各層表面所進行之表面處理而調整。例如可藉由第2配向層或第2功能層所含有添加劑的種類或量、或是對第2基材層之第2配向層側表面或設 置於第2基材層上之第2配向層表面進行電暈處理、電漿處理、火炎處理等表面處理，而調整第2配向層與第2基材層或第2功能層間之剝離力。
[實施形態3(積層體(3)及其製造方法)]
(積層體(3))
第5圖為表示積層體(3)一例之概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。如第5圖所示，本實施形態之積層體(3)51含有積層體(2)42(亦即第1基材層11、第1功能層12、接著層30、及第2'功能層22')、及光學膜60(樹脂膜)，並在積層體(2)42之第2'功能層22'側隔著光學膜用接著層36(樹脂膜用接著層)積層有光學膜60。
積層體(3)51可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
如第5圖所示，積層體(3)51依序含有第1基材層11、第1功能層12、接著層30、第2'功能層22'、光學膜用接著層36、及光學膜60。如先前實施形態所說明，積層體(2)42依序含有第1基材層11、第1功能層12、接著層30、及第2'功能層22'。
光學膜60可具有偏光層，也可為相位差層。在積層體(3)51寬度方向之至少一端部中，光學膜60之端部的位置可與第2'功能層22'端部的位置或接著層30端部的位置相同，也可與位置或第1功能層端部的位置相同，也可與第1基材層11端部的位置相同，也可皆不同。
又，形成積層體(3)51之各層之各端部的位置為在積層體(3)51寬度方向剖面中的位置。
光學膜用接著層36係接著光學膜60與第2'功能層22'。在第5圖所示積層體(3)51寬度方向之至少一端部中，光學膜用接著層36之 端部的位置只要與第1基材層11相同或位於較其靠寬度方向內側處即可。尤其，上述光學膜用接著層36之端部的位置與光學膜60之端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，且與積層體(2)42之寬度方向最外側層端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，藉此，光學膜用接著層36可抑制光學膜用接著層36由積層體(3)滲出而汙染搬送路徑等，故較佳。
在第5圖所示積層體(3)51寬度方向之至少一端部中，光學膜用接著層36之端部的位置係與第1功能層12端部相同、或位於較其靠寬度方向內側處。
積層體(3)51可用於獲得如後述光學積層體52(第6圖(b))。例如可由積層體(3)51剝離第1基材層11，藉此可得光學積層體52。
雖然詳細如後述，但藉由剝離第1基材層11，第1基材層11與光學膜用接著層36間之中間層45(含有第2'功能層22'、接著層30、及第1功能層12之層)可分割為較光學膜用接著層36端部靠寬度方向外側之區域(以下稱為「外側區域」)、及靠寬度方向內側之區域(以下稱為「內側區域」)(第6圖(a)、(b))。
如上述，積層體(3)51中，光學膜用接著層36端部的位置與第1功能層12端部的位置相同、或位於較其靠寬度方向內側處時，藉由剝離第1基材層11而分割之中間層45中，外側區域係具有接著層30接著於第1基材層11之區域，內側區域則成為在第1基材層11上存在第1功能層12或其一部分之區域(第6圖(a)、(b))。
如先前實施形態所說明，第1基材層11可相對於第1功能層12而剝離，故在外側區域中，第1基材層11與接著層30間不易產生分離，在內 側區域中，第1基材層11與第1功能層12間容易產生分離。因此，若由積層體(3)51剝離第1基材層11，則以在第1基材層11上存在外側區域且在光學膜用接著層36上存在內側區域之方式分割中間層45，可在內側區域中分離第1基材層與第1功能層。因此，可藉由從積層體(3)51剝離第1基材層11而得光學積層體52(第6圖(b))。
(積層體(3)之製造方法)
積層體(3)51(第5圖)之製造方法係具備以下步驟：準備積層體(2)42之步驟(第3圖或第4圖(b))；以及在積層體(2)42之第2'功能層22'側隔著光學膜用接著層36(樹脂膜用接著層)積層光學膜60(樹脂膜)之步驟(第5圖)。
如第3圖或第4圖(b)所示，可藉由先前實施形態所說明製造方法準備積層體(2)。積層體(2)42係如先前實施形態所說明。又，光學膜60及光學膜用接著層36係如上述所說明。
例如在積層體(2)42之第2'功能層22'側及光學膜60上的至少一者形成光學膜用接著組成物層，並貼合光學膜60與第2'功能層22'，藉此可積層光學膜60，該光學膜用接著組成物層係用以形成光學膜用接著層36。由光學膜用接著組成物層形成光學膜用接著層36之方法可因應光學膜用接著組成物層所含有成分而適宜進行，例如光學膜用接著組成物層需要硬化時，可進行實行硬化處理之步驟，不需硬化處理時，可將光學膜用接著組成物層直接作為光學膜用接著層。
第5圖所示積層體(3)51中，光學膜用接著層36端部的位置與第1功能層12端部的位置相同、或位於較其靠寬度方向內側處時，較 佳為以光學膜用接著組成物層端部的位置與第1功能層12寬度方向端部的位置相同、或較其靠寬度方向內側之方式設置。例如具有在積層體(2)42之第2'功能層22'側形成光學膜用接著組成物層之步驟時，可以使光學膜用接著組成物層端部的位置與第1功能層12寬度方向端部的位置相同、或較其靠寬度方向內側之方式形成。又，具有在光學膜60上形成光學膜用接著組成物層之步驟時，隔著光學膜用接著組成物層而積層光學膜60與積層體(2)42時，較佳為以使光學膜用接著組成物層寬度方向端部的位置與第1功能層12寬度方向端部的位置相同、或較其靠寬度方向內側之方式形成。
積層體(3)51之製造方法所使用積層體(2)42可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。又，光學膜亦可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
積層體(3)及其製造方法可變更為以下所示變形例。又，上述實施形態及下述所示變形例可任意組合。
又，積層體(3)可在與光學膜60之光學膜用接著組成物層相反側進一步具有層，例如可在與光學膜60之光學膜用接著組成物層相反側依序具有接著劑層及剝離膜。
(實施形態3之變形例1)
在積層體(3)51寬度方向之至少一端部中，光學膜用接著層寬度方向端部的位置可位於較第1功能層寬度方向端部的位置靠寬度方向外側處。此時，即使從積層體(3)51剝離第1基材層，在中間層45之內側區域(在積層體(3)51寬度方向剖面中，較光學膜用接著層端部的位置靠內側之區域)中亦含有於第1基材層接著有接著層之區域，故第1基材層與第1功能層間 不易分離。光學膜用接著層寬度方向端部的位置位於較第1功能層寬度方向端部的位置靠寬度方向外側處時，可在第1功能層12寬度方向端部的位置或較其靠寬度方向內側的位置中，去除積層體(3)51的端部，藉此從積層體(3)51剝離第1基材層11。
(實施形態3之變形例2)
積層體(3)51中，例如可使用剝離膜(樹脂膜)取代光學膜，也可使用積層體用接著層(樹脂膜用接著層)取代光學膜用接著層36，亦可使用偏光板等光學膜取代形成積層體(3)51之第1基材層11。
積層體用接著層係例如可藉由在適宜時機將剝離模剝離而用於在光學顯示元件貼合積層體(3)。
(實施形態3之變形例3)
積層體(3)51中，第1功能層12為第1液晶層，第2'功能層22'為第2'液晶層時，例如在第1基材層11與第1功能層間可進一步具有第1配向層，在第2'功能層22'與光學膜用接著層36間可進一步具有第2配向層。
積層體(3)51具有第1配向層時，在積層體(3)寬度方向之至少一端部中，第1配向層之端部的位置可與第1基材層端部相同或位於較其靠寬度方向內側處，也可與第1功能層端部相同，也可較其靠寬度方向內側或寬度方向外側。積層體(3)51具有第2配向層時，第2配向層端部的位置可與第2'功能層22'與端部的位置相同，也可位於較其靠寬度方向內側處。
積層體(3)具有第2配向層時，係準備具有第2配向層之積層體(2)及光學膜，並於積層體(2)之第2配向層側隔著光學膜用接著層36積層光學膜即可。
[實施形態4(光學積層體之製造方法)]
第6圖係示意表示光學積層體之製造步驟一例之概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。
第6圖(a)所示積層體(3)51係具有與第5圖所示積層體(3)51相同之構造。光學積層體52之製造方法具備以下步驟：準備積層體(3)51之步驟(第6圖(a))；以及從積層體(3)51剝離第1基材層11之步驟(第6圖(b))。
如第6圖(b)所示，光學積層體52係依序含有第1'功能層12'、接著層30'、第2"功能層22"、光學膜用接著層36、及光學膜60。如先前實施形態所說明，積層體(3)51係依序含有第1功能層12、接著層30、第2'功能層22'、光學膜用接著層36、及光學膜60。
光學積層體52係在其寬度方向之至少一端部中，例如第6圖(b)所示，第1'功能層12'、接著層30'、第2"功能層22"、及光學膜用接著層36個別端部的位置相同。第6圖(b)所示光學積層體52表示光學膜60端部的位置較光學膜用接著層36端部的位置靠寬度方向外側的情形，但可為寬度方向內側，也可與光學膜用接著層36端部的位置相同。
又，形成光學積層體52之各層之各端部的位置為在光學積層體52寬度方向剖面中的位置。
光學積層體52所含有第1'功能層12'、接著層30'、及第2"功能層22"分別為源自於積層體(3)51所含有第1功能層12、接著層30、及第2'功能層22'的層。
光學積層體52之製造方法中，積層體(3)51係如先前實施形態所說明。
如先前實施形態所說明，在積層體(3)51寬度方向之至少一端部中，光學膜用接著層36之端部的位置係與第1功能層12端部相同、或位於較其靠寬度方向內側處。
第6圖(a)所示積層體(3)51中，第1基材層11可相對於第1功能層12而剝離，但接著層30端部的位置位於較第1功能層12端部的位置靠寬度方向外側處。因此，第6圖(a)所示積層體(3)51中，第1功能層12端部外側之接著層30存在區域中，第1基材層11與接著層30間不易產生分離，但在較第1功能層端部靠內側中，第1基材層11與第1功能層12間容易產生分離。
如上述，第6圖(a)所示積層體(3)51中，光學膜用接著層36端部的位置係與第1功能層12端部的位置相同、或位於較其靠寬度方向內側處。因此，若要從積層體(3)51剝離第1基材層11，則如第6圖(a)及(b)所示，第2'功能層22'會在光學膜用接著層36設置區域與未設置區域間被分割，在積層體(3)51寬度方向剖面中，第2'功能層22'之第1基材層11側之接著層30亦會被分割為較光學膜用接著層36端部的位置靠外側之部分及靠內側之部分。又，第1功能層12在積層體(3)51寬度方向剖面中，第1功能層12端部的位置較光學膜用接著層36端部的位置靠寬度方向內側 時，會被分割為較光學膜用接著層36端部的位置靠外側之部分及靠內側之部分，在積層體(3)51寬度方向剖面中，第1功能層12端部的位置與光學膜用接著層36端部的位置相同時，會在第1功能層12與接著層30之寬度方向中的邊界部分被分割。
如上述，若從第6圖(a)所示積層體(3)51剝離第1基材層11，中間層45會被分割為較光學膜用接著層36之端部靠寬度方向外側之外側區域(第6圖(a)及(b)中，右下斜線所示部分)、及靠寬度方向內側之內側區域，該中間層45係含有位於第1基材層11與光學膜用接著層36間之第2'功能層22'、接著層30、及第1功能層12。外側區域具有於第1基材層11接著有接著層30之區域，內側區域為於第1基材層11上存在第1功能層12或其一部分之區域，故外側區域中，第1基材層11與接著層30間不易產生分離，但內側區域中，第1基材層11可相對於第1功能層12而剝離，故第1基材層11與第1功能層12間容易分離。因此，若從積層體(3)51剝離第1基材層11，如第6圖(b)所示，以在第1基材層11存在外側區域並在光學膜用接著層36上存在內側區域之方式分割中間層45，在內側區域中可分離第1基材層與第1功能層。其結果可得第1'功能層12'、接著層30'、第2"功能層22"、及光學膜用接著層36個別端部的位置相同之光學積層體52。
光學積層體52之製造方法可進一步具有以下步驟：於與光學積層體52之第1'功能層12'之接著層30'相反側設置積層體用接著層之步驟。積層體用接著層可用於將光學積層體貼合於光學顯示元件。
光學積層體52之製造方法所使用積層體(3)51可為單片膜狀物，也可為長條膜狀物。
光學積層體52中，以光學膜60作為線性偏光板，以第2"功能層22"作為1/2波長板，以第1'功能層12'作為1/4波長板，藉此可使光學積層體52成為圓偏光板。以光學膜60作為線性偏光板，以第2"功能層22"作為逆波長色散性之1/4波長板，以第1'功能層12'作為正-C板，藉此可使光學積層體52成為圓偏光板。
光學積層體52及其製造方法可變更為以下所示變形例。上述實施形態及下述所示變形例可任意組合。
(實施形態4之變形例1)
光學積層體52除了第1'功能層12'、接著層30'、第2"功能層22"、光學膜用接著層36、及光學膜60以外，可進一步含有其他層。光學積層體52中，第1'功能層12'為第1'液晶層，第2"功能層22"為第2"液晶層時，例如可在第1'功能層12'之與接著層30'相反側具有第1配向層，也可在第2"功能層22"與光學膜用接著層36間具有第2配向層。
光學積層體具有第1配向層時，在光學積層體寬度方向之至少一端部中，第1配向層之端部的位置可與第1'功能層12'之端部相同，也可位於較其靠寬度方向內側。光學積層體具有第1配向層時，用以製造該光學積層體之積層體(3)係具有第1配向層。
積層體(3)在第1基材層與第1功能層間具有第1配向層時，可與第1基材層一起剝離第1配向層，而得第6圖(b)所示光學積層體52，也可以使第1配向層存在於第1'功能層12'上之方式剝離第1基材層。此時，與中間 層45同樣地，剝離第1基材層時，積層體(3)中的第1配向層係可分割為較光學膜用接著層36寬度方向端部靠寬度方向外側之區域、及靠寬度方向內側之區域。
光學積層體具有第2配向層時，在光學積層體寬度方向之至少一端部中，第2配向層之端部的位置可與第2"功能層12"端部相同，也可位於較其靠寬度方向內側處。光學積層體具有第2配向層時，用以製造該光學積層體之積層體(3)係具有第2配向層。
(實施形態4之變形例2)
在光學積層體52之製造方法中，可取代光學膜及光學膜用接著層而使用剝離膜及積層體用接著層，藉此製造含有剝離膜之積層體。光學積層體之製造方法可具備以下步驟：在與第2'功能層之接著層相反側隔著光學膜用接著層而設置光學膜之步驟。
以上說明本發明之實施形態及其變形例，但本發明不限定於該等實施形態及其變形例，例如可組合上述各實施形態及其變形例之各構造及各步驟而實施。以下說明詳細所有實施形態及其變形例的共通各事項。
(第1基材層及第2基材層)
第1基材層及第2基材層(以下將兩者合稱為「基材層」)較佳為樹脂材料所形成膜。樹脂材料例如使用透明性、機械性強度、熱穩定性、延伸性等優異之樹脂材料。具體而言可舉出，聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及乙酸丙酸纖維素等纖維素酯系樹 脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚苯醚系樹脂、及該等之混合物、共聚物等。該等樹脂中較佳為使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂之任一者或該等之混合物。又，上述「(甲基)丙烯酸」是指「丙烯酸及甲基丙烯酸之至少1種」。
基材層可為顯示脫模性的膜，也可為具有顯示偏光功能的膜。基材層也可為可使用作為可彎曲前面板之樹脂膜。
<前面板>
前面板的角色為抑制液晶單元等影像顯示元件的翹曲、及保護影像顯示元件，例如為透光性(較佳為光學性透明)板狀體。前面板可為單層構造，也可為多層構造。
前面板係配置於含有本發明之偏光板之最終製品的最外面，故被要求在戶外或半戶外使用時亦顯示充分耐久性。以如此觀點來看，前面板較佳為由玻璃或強化玻璃等無機材料、楊氏模數為2GPa以上之高分子膜所構成。可為玻璃或強化玻璃等無機材料，尤其在可撓性顯示器用途中，較佳為樹脂膜，其中更佳為聚醯胺膜、聚醯胺醯亞胺膜或聚醯亞胺膜、聚酯系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、纖維素系膜。高分子膜中較佳為分散二氧化矽等無機粒子、有機微粒子、橡膠粒子等。
樹脂膜所構成可彎曲前面板可在至少單面具有硬塗層。硬塗層可以公知方法設置於樹脂膜表面。
基材層可為樹脂1種類或混合2種以上之單層，也可為2層以上多層構造。具有多層構造時，形成各層之樹脂可互相相同或相異。基材層為由樹脂材料所形成的膜時，可在基材層添加任意添加劑。添加劑可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗染色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、及著色劑等。
基材層之厚度並無特別限定，但一般而言以強度或操作性等操作性之觀點來看，較佳為1至300μm，更佳為10至200μm，又更佳為30至120μm。
(第1配向層及第2配向層)
積層體(1)至(3)及光學積層體可含有之第1配向層及第2配向層(以下將兩者合稱為「配向層」)係具有配向規制力，該配向規制力係使於其上所形成液晶層所含有聚合性液晶化合物在所求方向進行液晶配向。配向層可舉出以配向性聚合物所形成之配向性聚合物層、以光配向聚合物所形成之光配向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或複數溝(groove)的溝配向層。配向層之厚度通常為10至500nm，較佳為10至200nm。
配向性聚合物層可將於溶劑中溶解有配向性聚合物之組成物塗佈於基材層，並去除溶劑，視需要進行刷磨處理而形成。此時，在配向性聚合物所形成之配向性聚合物層中，可藉由配向性聚合物表面狀態或刷磨條件，而任意調整配向規制力。
光配向性聚合物層可藉由將含有具有光反應性基之聚合物或單體及溶劑之組成物塗佈於基材層，照射偏光而形成。此時，在光配向 性聚合物層中，可藉由對於光配向性聚合物之偏光照射條件等，而任意調整配向規制力。
溝配向層例如可藉由以下方法而形成：在感光性聚醯亞胺膜表面，隔著具有圖案形狀狹縫之曝光用遮罩而進行曝光、顯影等並形成凹凸圖案之方法；在於表面具有溝之板狀原盤形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化層，將該層轉印於基材層並硬化之方法；於基材層形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化層，於該層藉由壓接具有凹凸之輥狀原盤等而形成凹凸並硬化之方法等。
(第1功能層及第2功能層)
第1功能層及第2功能層(以下將兩者合稱為「功能層」)可舉出顯示偏光特性或光學補償功能等光學特性之光學膜、或液晶層、構成觸碰感測器之層等，可為樹脂膜，也可為液晶層。
上述功能層中的光學膜可舉出後述光學膜等。樹脂膜較佳為位相差膜、偏光層及構成觸碰感測器之層，更佳為位相差膜。
樹脂膜之厚度通常為5μm以上100μm以下。
功能層較佳為含有液晶化合物的液晶層。該液晶層可使用公知的聚合性液晶化合物而形成。聚合性液晶化合物之種類無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及該等之混合物。使用聚合性液晶化合物時，可將聚合性液晶化合物、溶劑、及視需要之含有各種添加劑之液晶層形成用組成物塗佈於配向層上，並形成塗膜，藉由硬化該塗膜而形成液晶硬化層之液晶層。或者可於基材層上塗佈液晶層形成用組成物 並形成塗膜，將該塗膜與基材層一起延伸，藉此形成液晶層。液晶層可為相位差層。
液晶層形成用組成物除了上述聚合性液晶化合物及溶劑以外可含有聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、阻聚劑等。聚合性液晶化合物、溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、阻聚劑等可適宜使用公知者。
液晶層之厚度通常為0.1μm以上10μm以下。
(光學膜)
光學膜可為偏光層、在偏光層至少單面形成保護層之偏光板、在偏光板至少單面積層保護膜之附保護膜偏光板、反射膜、半透過型反射膜、輝度提高膜、光學補償膜、附防眩功能的膜、相位差膜等，可為具有該等中的1種，也可為具有2個以上之多層構造。又，光學膜可含有液晶層，該液晶層可為相位差層。本說明書中，「偏光層」是指具有在入射無偏光的光時，使具有與吸收軸正交之振動面之線性偏光透射之性質之層。
光學膜可含有之偏光層可為在單層聚乙烯醇樹脂膜吸附配向有二色性色素者，也可為在基材膜上設置吸附配向有二色性色素之聚乙烯醇樹脂層之二層以上積層膜。又，偏光層可為於聚合性液晶化合物配向有二色性色素並將聚合性液晶化合物聚合之硬化膜。此時，偏光層可為液晶層。
光學膜可含有之液晶層為將聚合性液晶化合物聚合而形成者。在基材層上或於基材層上設置之配向層上，可塗佈含有聚合性液晶化 合物的液晶層形成用組成物並乾燥，藉由照射紫外線等活性能量線而將聚合性液晶化合物聚合並硬化，而形成液晶層。
<相位差膜>
相位差膜係在與入射光進行方向正交的方向(膜的面內方向)賦予相位差的膜。前述相位差膜可為藉由延伸纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜而製造之延伸型相位差膜。前述延伸型相位差膜之厚度可為200μm以下，較佳為1μm至100μm。若厚度超過200μm，則柔軟性會降低。
又，作為前述相位差膜之其他一例，可為在高分子膜上塗佈液晶組成物而形成之液晶塗佈型相位差膜。前述液晶組成物係包括液晶性化合物，該液晶性化合物係具有顯示向列型、膽固醇狀型、矩列型等液晶狀態之性質。液晶組成物中，含有液晶性化合物之任一化合物係具有聚合性官能基。與前述液晶偏光層的記載同樣地，在配向膜上塗佈液晶組成物並硬化而形成液晶相位差層，藉此可製造前述液晶塗佈型相位差膜。
又，前述相位差膜可為單層，也可為多層，也可為積層延伸型相位差與液晶型相位差者。
<偏光層>
偏光層可為線性偏光板或圓偏光板。
[線性偏光板]
線性偏光片可為藉由將聚乙烯醇(PVA)系膜染色、延伸而製造之膜型偏光片。可於藉由延伸配向之PVA系膜吸附碘等二色性色素、或藉由在吸附PVA狀態下延伸而配向二色性色素，而發揮偏光性能。製造前述膜型偏 光片時，另外可具有膨潤、藉由硼酸之交聯、藉由水溶液之洗淨、及乾燥等步驟。延伸或染色步驟可單獨以PVA系膜進行，也可在與聚對苯二甲酸乙二酯之類之其他膜積層的狀態下進行。所使用的PVA系膜較佳為10至100μm，延伸倍率為2至10倍。
前述膜型偏光片可至少在單面具有後述的保護膜。與其他基材積層並延伸時，可在於偏光片面貼合保護膜後剝離基材，也可將延伸時的基材直接使用作為保護膜。
又，作為前述偏光片之其他一例，可為塗佈液晶偏光組成物而形成之液晶塗佈型偏光片。前述液晶偏光組成物可含有液晶性化合物及二色性色素化合物。於配向膜上塗佈液晶偏光組成物並形成液晶偏光層，藉此可製造前述液晶偏光層。相較於膜型偏光片，液晶偏光層的厚度可形成為較薄。前述液晶偏光層之厚度可為0.5至10μm，較佳為1至5μm。
例如可藉由於基材上塗佈配向膜形成組成物，並藉由刷磨、偏光照射等而賦予配向性，藉此可製造前述配向膜。前述液晶偏光層可由基材剝離並轉印而積層，也可直接積層前述基材。基材可使用後述保護膜所例示高分子膜。
前述保護膜只要為透明高分子膜即可，可使用前述透明基材所使用之材料、添加劑。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組成物或丙烯酸酯等自由基硬化組成物並硬化而得之塗層型保護膜。視需要可含有塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光 穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、滑劑、溶劑等。前述保護膜之厚度可為200μm以下，較佳為1μm至100μm。厚度若超過200μm，則柔軟性降低。
[圓偏光板]
圓偏光板係藉由於線性偏光板積層λ/4相位差板，而具有僅使右或左圓偏光成分透射之功能的功能層。例如用於將外界光轉換為右圓偏光，並阻斷在有機EL面板反射成為左圓偏光之外界光，藉由僅透過有機EL之發光成分，而抑制反射光的影響，可使影像更清楚。為了達成圓偏光功能，線性偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之慢軸理論上要為45°，但實用為45±10°。線性偏光板與λ/4相位差板不需一定要鄰接並積層，只要吸收軸與慢軸之關係滿足前述範圍即可。較佳為在全波長中達成完全圓偏光，但實用上並無此必要，故本發明中的圓偏光板亦包括楕圓偏光板。在線性偏光板之視覺確認側進一步積層λ/4相位差膜，並使射出光成為圓偏光，藉此可提高戴上偏光太陽眼鏡狀態下的視覺確認性，此亦較佳。相位差膜的材料一般多為越為短波長雙折射越大、越為長波長越顯示低雙折射者。此時無法在全可見光區域達成λ/4之相位差，故多以下述方式設計：對於視感度高之560nm附近，以成為λ/4之方式使面內相位差成為100至180nm，較佳為成為130至150nm。通常，使用具有逆雙折射率波長色散特性之材料的逆分散λ/4相位差板可增加視覺確認性，故較佳。如此材料為延伸型相位差板時，較佳為使用日本特開2007-232873號公報等所記載者，為液晶塗佈型相位差板時，較佳為使用日本特開2010-30979號公報所記載者。
又，其他方法已知藉由組合λ/2相位差板而獲得寬帶域λ/4相位差板之技術(日本特開平10-90521號公報)。亦可以與λ/4相位差板相同之材料、 方法，而製造λ/2相位差板。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板的組合為任意，但兩者皆使用液晶塗佈型相位差板則可使膜厚更薄，故較佳。
在前述圓偏光板中，為了提高斜方向視覺確認性，故已知積層正-C板之方法(日本特開2014-224837號公報)。正-C板可為液晶塗佈型相位差板，也可為延伸型相位差板。厚度方向之相位差為-200至-20nm，較佳為-140至-40nm。
[觸碰感測器]
觸碰感測器係使用作為輸入手段。觸碰感測器已提出有電阻膜方式、表面聲波方式、紅外線方式、電磁感應方式、電容方式等各種樣式，可為任一方式。其中較佳為電容方式。電容方式觸碰感測器係區分為活性區域、及位於前述活性區域外圍部之非活性區域。活性區域係對應在顯示面板顯示畫面之區域(顯示部)之區域，為感應使用者觸碰之區域，非活性區域係對應在顯示裝置不顯示畫面之區域(非顯示部)之區域。觸碰感測器可包括：具有可撓性特性之基板、於前述基板之活性區域形成之感知圖案、及各感測線，該各感測線係形成於前述基板之非活性區域，並透過前述感知圖案與墊部而用以與外部驅動電路連接。具有可撓性特性之基板可使用與前述前面板之高分子膜基材相同之材料。又，基材為可剝離，藉此可僅將觸碰感測器部分轉印於積層體並使用。
(剝離膜)
剝離膜係支持黏著劑層，並具有作為可相對於黏著劑層而剝離之分隔片的功能。剝離膜可舉出在支持基材膜之黏著劑層側表面實施聚矽氧處理等脫模處理的膜。形成基材膜之樹脂材料可舉出與上述第1基材層及第2 基材層形成樹脂材料相同者。樹脂膜可為1層構造，也可為2層以上之多層構造的多層樹脂膜。
(接著層)
接著層係可藉由接著劑、黏著劑及該等組合而形成，通常為1層，但亦可為2層以上。接著層為2層以上的層所構成時，各層可互相以相同之材料形成，也可以相異之材料形成。
接著劑可組合水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑等中的1種或2種以上而形成。水系接著劑可舉出例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺甲酸乙酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑可舉出藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑、含有聚合性化合物及光聚合性起始劑之接著劑、含有光反應性樹脂之接著劑、及含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑之接著劑等。上述聚合性化合物可舉出光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸乙酯系單體等光聚合性單體、或源自於該等單體之寡聚物等。上述光聚合起始劑可舉出含有照射紫外線等活性能量線而產生活性種之物質者，該活性種例如為中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基。
黏著劑可舉出以(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等為基礎聚合物，並添加異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶(Aziridine)化合物等交聯劑之組成物。
接著層較佳為使用活性能量線硬化型接著劑而形成，更佳為使用含有紫外線硬化性之環氧系單體及光陽離子聚合起始劑之接著劑而形成。
對於形成有接著層之層表面視需要可進行電暈處理、電漿處理、火炎處理等表面處理。
(光學膜用接著層)
光學膜用接著層可藉由上述接著劑、黏著劑及該等組合而形成，通常為1層，但亦可為2層以上。光學膜用接著層為2層以上之層所構成時，各層可互相以相同之材料形成，也可以相異之材料形成。用以形成光學膜用接著層之接著劑及黏著劑可舉出與上述接著層所使用接著劑及黏著劑相同者。相對於形成有光學膜用接著層之層表面可視需要進行電暈處理、電漿處理、火炎處理等表面處理。
(積層體用接著層)
積層體用接著層可藉由上述接著劑、黏著劑及該等組合而形成，通常為1層，但亦可為2層以上。積層體用接著層為2層以上之層所構成時，各層可互相以相同之材料形成，也可以相異之材料形成。用以形成積層體用接著劑之接著劑及黏著劑可舉出與上述接著層所使用接著劑及黏著劑相同者。相對於形成有積層體用接著層之層表面可視需要進行電暈處理、電漿處理、火炎處理等表面處理。
Claims (15)
- 一種積層體，係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、第2功能層、及第2基材層，其中，在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係，[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[c]與前述第2功能層之端部的位置相同、或位於較前述第2功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
- 如申請專利範圍第1項所述之積層體，其中在前述積層體之寬度方向的兩端中，前述接著層之端部的位置滿足上述[a]至[c]之所有關係。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之積層體，其中前述第1功能層及前述第2功能層分別為液晶層。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之積層體，其中前述第1功能層及前述第2功能層中至少一者為相位差層。
- 一種積層體，係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、及第2'功能層，其中，在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]、[b]及[d]之所有關係， [a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[d]與前述第2'功能層端部的位置相同。
- 如申請專利範圍第5項所述之積層體，其中在前述積層體之寬度方向的兩端中，前述接著層之端部的位置滿足上述[a]、[b]及[d]之所有關係。
- 如申請專利範圍第5或6項所述之積層體，其中前述第1功能層及前述第2'功能層分別為液晶層。
- 如申請專利範圍第5至7項中任一項所述之積層體，其中前述第1功能層及前述第2'功能層中至少一者為相位差層。
- 如申請專利範圍第5至8項中任一項所述之積層體，更含有樹脂膜，在前述第2'功能層側隔著樹脂膜用接著層而積層有前述樹脂膜。
- 如申請專利範圍第9項所述之積層體，其中在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述樹脂膜用接著層之端部的位置與前述第1功能層之端部的位置相同、或位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
- 如申請專利範圍第9或10項所述之積層體，其中前述樹脂膜為光學膜。
- 一種積層體之製造方法，其中前述積層體係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、第2功能層、及第2基材層， 前述積層體之製造方法具備下列步驟：準備第1積層部之步驟，前述第1積層部係含有前述第1基材層及前述第1功能層；準備第2積層部之步驟，前述第2積層部係含有前述第2基材層及前述第2功能層；以及隔著前述接著層而以使前述第1功能層與前述第2功能層相向之方式積層前述第1積層部與前述第2積層部之步驟；在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係，[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；[c]與前述第2功能層之端部的位置相同、或位於較前述第2功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
- 一種積層體之製造方法，前述積層體係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、及第2'功能層，前述積層體之製造方法係具備下列步驟：準備如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之積層體之步驟；以及由前述積層體剝離前述第2基材層之步驟。
- 一種積層體之製造方法，係具備下列步驟：準備如申請專利範圍第5至8項中任一項所述之積層體之步驟；以及 在前述積層體的前述第2'功能層側隔著樹脂膜用接著層而積層前述樹脂膜之步驟。
- 一種積層體之製造方法，係具備下列步驟：準備如申請專利範圍第9至11項中任一項所述之積層體之步驟；以及由前述積層體剝離前述第1基材層之步驟。
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