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TW202006401A - 光學多層膜、及包含其之光學組件及顯示裝置(一) - Google Patents

光學多層膜、及包含其之光學組件及顯示裝置(一) Download PDF

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南韓商Ｓｋｃ股份有限公司
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Abstract

光學多層膜，其包含一層合物，其中，一基底層、一底漆層、一硬塗層、一第一折射層，及一第二折射層係依序層合，藉由調整基底層之平面延遲及個別層之折射率而具有一極低反射率及增強之光學特徵。因此，包含此光學多層膜之光學組件及顯示裝置具有一低反射率及優異之其它光學特徵。

Description

光學多層膜、及包含其之光學組件及顯示裝置(一)
技術領域 實施例係有關於具有超低反射特徵之一光學多層膜，及包含其之一光學組件及一顯示裝置。
背景技藝 近年來，因為對於液晶顯示器(LCD)之需求快速增加，為其必要組件之一的一偏光板之利益亦增加。一偏光板係用以使以各種方向振動之入射自然光偏光成以一方向振動之光。其係用以提供一固定透射光及改變透射光的色調之一必要組件。
一偏光板具有其中一保護膜係層合於一偏光片之一側或二側上之一結構。於此情況，一聚乙烯醇(PVA)膜主要作為此偏光片。此外，一三乙醯基纖維素(TAC)膜主要作為此保護膜。
一TAC膜係具控制式延屬之光學等向性，且具有一高透光率及一無缺陷表面之優點。但是，一TAC膜因為於長期用於高溫及高濕度之一環境中時其偏光度惡化而係不利，因為其易受熱及濕度影響，且由於，例如，一漏光現象(其係由於因濕氣而劣化造成於端緣處過度漏光)發生，其耐久性低。
同時，因為液晶顯示器(LCD)的功能及用途變多樣化，需要其等即使於嚴苛環境中亦可正常操作。最近，如日本早期公開第2011-532061及2010-118509號案中所建議，已嚐試以一聚酯膜取代一TAC膜。特別地，於機械性質、耐化學性、水障壁性等係優異之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜能符合此需求。
此外，近年來，已發展出各種表面處理技術，以使與一顯示裝置之前側附接之光學膜的反射率達最小，以便避免可見度因為外部光線從顯示裝置之前側反射而降低。
發明揭露 技術問題 已知一種於一光學多層膜的表面上形成各種功能層之方法，以便降低用於一顯示裝置之光學膜的反射率。但是，新形成之此等功能層造成與現存膜層之光學干擾，使其難以控制反射率或使光學特徵惡化。
此外，由，例如，聚對苯二甲酸乙二酯製成之一聚酯膜具有一極大雙折射性。因此，偏光態於偏光片與液晶間被扭曲， 造成彩虹斑紋等，此明顯損及可見度。
因此，意圖經由下列實施例提供具有一極低反射率且於其它光學特徵係優異之一光學多層膜，包含其之一光學組件，及設有此之一顯示裝置。 問題之解答
依據一實施例，提供一種光學多層膜，其包含一層合物，其中，一基底層、一底漆層、一硬塗層、一第一折射層，及一第二折射層係依序層合，其中，基底層包含一聚酯樹脂且具有0至500nm之一平面延遲(Ro)，且當基底層、底漆層、硬塗層、第一折射層，及第二折射層之折射率係n1、n2、n3、n4，及n5時，其等滿足下列方程式(1)至(4)： 1.61 ≤ n1 ≤ 1.69 (1) n5 > n3 > n2 > n1 > n4 (2) 0.05 ≤ n1 – n3 ≤ 0.20 (3) 0.30 ≤ n4 – n5 ≤ 0.60 (4)。
依據另一實施例，提供一種光學組件，其包含一偏光片，及置於此偏光片之至少一側上的此光學多層膜。
依據另一實施例，提供一種顯示裝置，其包含包含一顯示面板，及置於此顯示面板之上側及下側的至少一者上之此光學組件。 發明有利功效
依據實施例之光學多層膜具有一極低反射率，使得可見度不因外部光線而受損。此外，於光學多層膜，基底層具有一極低平面延遲,，且其折射率可與其它構成層之折射率結合，以增強光學特徵。因此，設有依據實施例之光學多層膜的光學組件及顯示裝置可具有一低反射率、優異光學性質，及增強的物理性質。
實行本發明之最佳模式 於所有實施例說明，在每一膜、面板，或層被提及係形成於另一膜、面板，或層之“上”或“下”的情況，其意指不僅一元件係直接形成於另一元件之上或之下，而且一元件係間接形成於另一元件之上或之下，且其它元件係介於此等之間。
此外，為了說明，所附圖式中之個別元件的尺寸可被誇大描繪且並非指實際尺寸。
此外，除另有指示外，有關於用於此處之一組件的物理性質、尺寸等之所有數值範圍需瞭解係以術語“約”作修飾。 光學多層膜
圖1顯示依據一實施例之一光學多層膜的一截面圖。
參考圖1，依據一實施例之光學多層膜(12)包含一層合物，其中，一基底層(12a)、一底漆層(12b)、一硬塗層(12c)、一第一折射層(12d)，及一第二折射層(12e)係依序層合，其中，基底層包含一聚酯樹脂且具有0至500nm之一平面延遲(Ro)，且當基底層、底漆層、硬塗層、第一折射層，及第二折射層之折射率係n1、n2、n3、n4，及n5，其等係滿足下列方程式(1)至(4)。
1.61 ≤ n1 ≤ 1.69 (1) n5 > n3 > n2 > n1 > n4 (2) 0.05 ≤ n1 – n3 ≤ 0.20 (3) 0.30 ≤ n4 – n5 ≤ 0.60 (4)。 反射率
光學多層膜對於可見光係具有一極低反射率。
例如，光學多層膜對於具有550nm波長之光線係具有6.5%或更少之一反射率。特別地，光學多層膜對於具有550nm波長之光線係具有6%或更少，5.5%或更少，或5%或更少之一反射率。更特別地，其可具有於1%至6.5%之範圍，於3%至6.5%之範圍，或於5%至6.5%之範圍的一反射率。因此，光學多層膜具有小的外部光線反射，因此，可見度可被增強。 基底層之延遲
基底層具有0至500nm之一平面延遲(Ro)。特別地，基底層之平面延遲可為0至400nm，0至300nm，或0至200nm。特別地，基底層可具有150nm或更少，120nm或更少，100nm或更少，85nm或更少，75 nm或更少，或65nm或更少之一最小平面延遲(Ro最小 )。於上述範圍內，彩虹斑紋的發生可達最小。
同時，平面延遲之下限可為10nm或更多，30nm或更多，或50nm或更多，以便平衡光學特徵與機械性質。
此外，基底層可具有5,000nm或更多，或5,500nm或更多之一厚度方向延遲(Rth)。特別地，基底層可具有6,000nm或更多，例如，6,500nm或更多，例如，7,500nm或更多，例如，8,000nm或更多，例如，8,500nm或更多之一最大厚度方向延遲(Rth最大 )。
厚度方向延遲可為以40µm至50µm之一厚度為基準而測量之一數值。於上述範圍內，分子定向度高，其促進結晶化，且由機械性質觀點係較佳。此外，當厚度方向延遲(Rth)愈大，厚度方向延遲(Rth)對平面延遲(Ro)之比率(Rth/Ro)變得更大，因此，有效抑制彩虹斑紋。
同時，考慮到厚度限制及用以除去光學多層膜彩螺斑紋的成本，厚度方向延遲(Rth)的上限可為16,000nm或更少，15,000nm或更少，或14,000nm或更少。
平面延遲(Ro)係以一膜的平面之二相互垂直軸(見圖2)的折射率之異向性(ΔNxy=| Nx–Ny|)與膜厚度d(nm)之一乘積(△Nxy×d)而定義之一參數，其係光學等向性及異向性之程度的一測量值。此外，最小平面延遲(Ro最小 )係指當平面延遲(Ro)於一膜之平面的多數點測量時之最低值。
此外，厚度方向延遲(Rth)係以於膜厚度方向之一截面上觀察到之二雙折射性ΔNxz(=|Nx–Nz|)及ΔNyz(=|Ny–Nz|)之一平均值及膜厚度d(nm)之一乘積定義之一參數。此外，最小厚度方向延遲(Rth最大 )係指當厚度方向延遲(Rth)於一膜之平面的多數個點測量時之最高值。
依據一依據一實施例之用以製備一膜之方法，最小平面延遲及最大厚度方向延遲可於一膜之寬度中心處顯示。因此，一膜之最小平面延遲及最大厚度方向延遲可為於此膜之寬度中心處測得之一數值。“寬度中心”於此處使用時可定義為一膜於圖2所示般之橫向(TD)及縱向(MD)拉伸後，此膜的寬度之中點(A，B)。此膜不限於僅具有一個寬度中心，其依據測量點可具有不受限之寬度中心。同時，一膜於其製備後最後切成各種形狀之寬度中心可與原始膜(即，切割前之膜)的寬度中心不相吻合。於此情況，最小平面延遲及最大厚度方向延遲可能並非顯現於此膜之寬度中心。
此外，當一膜施用於供大螢幕應用之光學組件時，較佳係於有效寬度內之平面延遲的偏差(即，最大值與最小值間之差)小。此處，有效寬度係指如圖2所示從寬度中心(A)沿著橫向(即，x-軸)向著二端位移一特定距離之二點(A'及A")間之距離。例如，可定義為從寬度中心±1,500mm，即，約3,000mm。同時，如上所述，一膜於其製備後最後切成各種形狀之寬度中心可與原始膜(即，切割前之膜)的寬度中心不相吻合。於此情況，有效寬度可定義為從最小平面延遲於一膜上顯現之點沿著橫向向著二端位移一特定距離之點間的距離。
基底層在有效寬度內於平面延遲具有一小偏差。例如，基底層於相對於橫向位移之平面延遲可具有一改變(|ΔRo|/|Δx|)，其係少於550nm/3m，例如，少於450nm/3m，例如，少於350nm/3m，例如，少於300nm/3m。此處，橫向位移(Δx)係指於橫向(即，x-軸)上特定點間之距離(x2 –x1 )。於平面延遲之改變(ΔRo)係指於個別特定點處於平面延遲之差(Ro2 –Ro1 )。於上述範圍內，平面延遲(Ro)未明顯增加，即使於膜寬度變寬時。因此，可有效避免彩虹斑紋。
此外，基底層在有效寬度內於厚度方向延遲具有一小偏差。特別地，基底層於相對於橫向依移之厚度方向延遲可具有少於1,000nm/3m，少於700nm/3m，或少於500nm/3m之一變化(|ΔRth|/|Δx|)。此處，橫向位移(Δx)係指於橫向(即，x-軸)上特定點間之距離(x2 –x1 )。於厚度方向延遲之改變(ΔRth)係指在個別特定點處於厚度方向延遲之差(Rth2 –Rth1 )。
此外，基底層可具有10或更多，15或更多，或20或更多之厚度方向延遲(Rth)對平面延遲(Ro)之一比率(Rth/Ro)。平面延遲(Ro)愈小及厚度方向延遲(Rth)愈大，對於避免彩虹斑紋愈有利。因此，較佳係使此二值之比率(Rth/Ro)維持於愈大。
特別地，基底層可具有30或更多，40或更多，50或更多，或60或更多之最大厚度方向延遲(Rth最大 )對最小平面延遲(Ro最小 )之一比率(Rth最大 /Ro最小 )。 光學多層膜之延遲
同時，於其中基底層、底漆層、硬塗層、第一折射層，及第二折射層係層合之光學多層膜可具有與基底層相同之延遲。
特別地，光學多層膜之平面延遲(Ro)、厚度方向延遲(Rth)、最小平面延遲(Ro最小 )及最大厚度方向延遲(Rth最大 )、此等間之比率、相對於橫向位移之於平面延遲的改變(|ΔRo|/|Δx|)，及相對於橫向位移之於厚度方向延遲之改變(|ΔRth|/|Δx|)可個別與基底層之此等者相同。
特別地，光學多層膜之延遲可藉由設計如上所述般之基底層、底漆層、硬塗層、第一折射層，及第二折射層之折射率與厚度間之相關性而進一步增強。依據上述，光學多層膜可施用於一顯示裝置以實行優異光學性質。 個別層之延遲及厚度
依據上述實施例，當基底層、底漆層、硬塗層、第一折射層，及第二折射層之折射率係n1、n2、n3、n4，及n5時，其等滿足上述方程式(1)至(4)。
於此情況，基底層之折射率(n1)可於1.61至1.69之一範圍。另外基底層之折射率(n1)可於1.63至1.68之一範圍，或於1.63至1.67之一範圍。
底漆層之折射率(n2)可於1.50至1.70之一範圍。另外，底漆層之折射率(n2)可於1.53至1.63之一範圍，於1.53至1.58之一範圍，於1.54至1.62之一範圍，於1.55至1.61之一範圍，或於1.58至1.63之一範圍。
此外，硬塗層之折射率(n3)可於1.40至1.70之一範圍。另外，硬塗層之折射率(n3)可於1.45至1.60之一範圍，或於1.50至1.53之一範圍。
此外，第一折射層之折射率(n4)可於1.70至1.80之一範圍，或於1.70至1.75之一範圍。
此外，第二折射層之折射率(n5)可於1.10至1.40之一範圍，或於1.25至1.35之一範圍。
作為一特別範例，基底層可具有1.63至1.68之一折射率(n1)，且底漆層可具有1.54至1.62之一折射率(n2)。
作為另一特別範例，基底層可具有1.63至1.68之一折射率(n1)，且底漆層可具有1.55至1.61之一折射率(n2)。
作為另一特別範例，基底層可具有1.63至1.68之一折射率(n1)，底漆層可具有1.54至1.62之一折射率(n2)，且第一折射層可具有1.70至1.75之一折射率(n4)。
作為另一特別範例，基底層可具有1.63至1.68之一折射率(n1)，底漆層可具有1.54至1.62之一折射率(n2)，且第二折射層可具有1.25至1.35之一折射率(n5)。
作為另一特別範例，基底層可具有1.63至1.68之一折射率(n1)，底漆層可具有1.55至1.61之一折射率(n2)，硬塗層可具有1.50至1.53之一折射率(n3)，第一折射層可具有 1.70至1.75之一折射率(n4)，且第二折射層可具有1.25至1.35之一折射率(n5)。
此外，基底層與硬塗層間於折射率的差(n1–n3)可於0.05至0.20之一範圍，於0.09至0.16之一範圍，於0.05至0.15之一範圍，或於0.10至0.20之一範圍。
此外，第一折射層與第二折射層間於折射率之差(n4–n5)可於0.03至0.60之一範圍，於0.40至0.50之一範圍，於0.30至0.50之一範圍，或於0.40至0.60之一範圍。
基底層可具有10µm至100µm之一厚度。另外，基底層之厚度可為20µm至60µm，或40µm至60µm。
底漆層可具有50nm至120nm之一厚度。另外，底漆層之厚度可為80nm至95nm，80nm至90nm，或80nm至85nm。
硬塗層可具有0.5µm至100µm之一厚度。另外，硬塗層之厚度可為1µm至10µm，1µm至8µm，1µm至5µm，或1.5µm至3.5µm。
第一折射層可具有5nm至150nm之一厚度。另外，第一折射層之厚度可為10nm至130nm，或20nm至100nm。
第二折射層可具有10nm至1µm之一厚度。另外，第二折射層之厚度可為80nm至120nm，80nm至100nm，90nm至110nm，或100nm至120nm。
依據一特別範例，硬塗層可具有1µm至5µm之一厚度，第一折射層可具有 5nm至150nm之一厚度，且第二折射層可具有80nm至120nm之一厚度。
依據另一特別範例，底漆層可具有80nm至95nm之一厚度，且第二折射層可具有80nm至120nm之一厚度。
依據另一特別範例，底漆層可具有80nm至95nm之一厚度，且基底層可具有20µm至60µm之一厚度。
依據一更特別範例，基底層可具有1.63至1.68之一折射率(n1)及20µm至60µm之一厚度，底漆層可具有1.54至1.62之一折射率(n2)及80nm至95nm之一厚度，硬塗層可具有1.50至1.53之一折射率(n3)及1µm至5µm之一厚度，第一折射層可具有1.70至1.75之一折射率(n4)及5nm至150nm之一厚度，且第二折射層可具有 1.25至1.35之一折射率(n5)及80nm至120nm之一厚度。
於上述範圍內，當施用於一用於一顯示裝置等之光學組件時，反射可為低且其它光學特徵可被增強。
以下，每一層將作更詳細說明。 基底層
基底層包含一聚酯樹脂。
聚酯樹脂可為其中一二羧酸及一二醇被聚縮合之一均聚物樹脂或一共聚物樹脂。此外，聚酯樹脂可為其中均聚物樹脂或共聚物樹脂被混合之一摻合樹脂。
二羧酸的例子包括對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、2,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、二苯基羧酸、二苯氧基乙烷二羧酸、二苯基碸二羧酸、蒽二羧酸、1,3-環戊烷二羧酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸、六氫對苯二甲酸、六氫間苯二甲酸、丙二酸、二甲基丙二酸、丁二酸、3,3-二乙基丁二酸、戊二酸、2,2-二甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三甲基己二酸、庚二酸、壬二酸、癸二酸、辛二酸、十二烷二羧酸等。
此外，二醇的例子包括乙二醇、丙二醇、六伸甲基二醇、新戊二醇、1,2-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、十伸甲基二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)碸等。
較佳地，聚酯樹脂可為具有優異結晶度之一芳香族聚酯樹脂。例如，其可具有一聚對苯二甲酸乙二醇(PET)樹脂作為一主要組份。
作為一範例，基底層可包含至少約85重量%，更特別係至少90重量%，至少95重量%，或至少99重量%之一含量的一PET樹脂。作為另一範例，基底層可進一步包含PET樹脂以外之一聚酯樹脂。特別地，基底層可進一步包含最高達約15重量%之一聚萘二甲酸乙二酯(PEN)樹脂。更特別地，基底層可進一步包含約0.1重量%至10重量%或約0.1重量%至5重量%之一含量的一PEN樹脂。
基底層較佳係一經拉伸之膜，因為其高結晶度及優異機械性質。特別地，基底層可為一經雙軸拉伸之聚酯膜。例如，其可為於縱向(MD)及橫向(TD)個別以2.0至5.0之一拉伸率拉伸之一膜。
此外，基底層於經由加熱、拉伸等將其製備之方法中可具有增加之結晶度及以抗拉強度等而言之增強機械性質，因為其包含聚酯作為一主要組份。
例如，基底層可具有35%至55%之一結晶度。於上述範圍內，過度結晶化可被避免，同時以抗拉強度等而言之優異機械性質可被確保。此外，基底層較佳具有5B或更高之一鉛筆硬度。於上述範圍內，可提供偏光片對來自外再者之防護。
此外，基底層於一高溫(例如 85°C)較佳具有3.0GPa或更多，或3.5GPa或更多之一抗拉模數。於上述範圍內，一旦包含基底層之光學多層膜被用於一光學組件時，可有利避免此光學組件於高溫熱處理時捲曲。更詳細地，作為一偏光片之聚乙烯醇(PVA)具有一高收縮度，因此於熱處理步驟期間易捲曲。因此，若不受抑制，基底層會變皺，產生一波紋圖案，且可見度因閃光現像而明顯惡化。因此，基底層於一高溫具有一高抗拉模數，有利地避免一偏光片捲曲，可避免一波紋圖案、閃光現像、基底層與偏光片間剝離、破裂等。 底漆層
一底漆層係形成於基底層上。
底漆層用以增強基底層與硬塗層間之黏著。
底漆層可包含一熱固性樹脂。
例如，底漆層可包含一聚胺甲酸酯系樹脂、一聚酯系樹脂，或其等之一混合物，但其不限於此等。
特別地，底漆層可包含至少50重量%之一聚胺甲酸酯系樹脂及一聚酯系樹脂之至少一者。 硬塗層
一硬塗層係形成於底漆層上。硬塗層用以增強光學多層膜之表面硬度。硬塗層可包含一光可固化樹脂。
光可固化樹脂的例子包括具有一個或二個或更多個不飽和鍵之化合物，諸如，具有一丙烯酸酯系官能基團之化合物。具有一個不飽和鍵之化合物的例子包括(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。具有二個不飽和鍵之化合物的例子包括聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、藉由以環氧乙烷(EO)改質上述多官能性化合物而獲得之化合物、上述多官能性化合物與一(甲基)丙烯酸酯之反應產物(諸如，多羥基醇之聚(甲基)丙烯酸酯)等。於此處使用時，“(甲基)丙烯酸酯”係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。
此外，作為光可固化樹脂，可使用一聚酯樹脂、一聚醚樹脂、一丙烯酸系樹脂、一環氧樹脂、一胺酯樹脂、一醇酸樹脂、一螺旋縮醛樹脂、一聚丁二烯樹脂、一聚硫醇聚烯樹脂等，其具有一不飽和雙鍵且具有一相對較低分子量(例如， 300克/莫耳至80,000克/莫耳之一數平均分子量，較佳係400克/莫耳至5,000克/莫耳)。
較佳地，具有三個或更多個不飽和鍵之一化合物可作為光可固化樹脂。使用此等化合物可增強因而形成之硬塗層的交聯密度及硬度。特別地，季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、一聚酯多官能性丙烯酸酯寡聚物(3至15個官性)、一胺酯多官能性丙烯酸酯寡聚物(3至15個官能性)等較佳地以一適合組合作為光可固化樹脂。
光可固化樹脂可與一溶劑乾燥型樹脂組合使用。組合使用溶劑乾燥型樹脂可有效避免經塗覆之表面上的塗覆缺陷。溶劑乾燥型樹脂係指僅藉由乾燥於施用時用以調整固體含量而添加之溶劑變成一塗層的一樹脂。
一熱塑性樹脂一般係作為溶劑乾燥型樹脂。熱塑性樹脂的例子包括一苯乙烯系樹脂、一(甲基)丙烯酸系樹脂、一乙酸乙烯酯系樹脂、一乙烯醚系樹脂、一含鹵素之樹脂、一脂環狀烯烴系樹脂、一聚碳酸酯系樹脂、一聚酯系樹脂、一聚醯胺系樹脂,、一纖維素衍生物、一聚矽氧系樹脂、一橡膠、一彈性體等。熱塑性樹脂較佳係非結晶性且可溶於一有機溶劑。特別地，一苯乙烯系樹脂、一(甲基)丙烯酸系樹脂、一脂環族烯烴系樹脂、一聚酯系樹脂、一纖維素衍生物等由成膜性質、透明性，及耐候性而言係較佳。
此外，用於硬塗層之組成物可包含一熱固性樹脂。熱固性樹脂的例子包括一酚樹脂、一尿素樹脂、一鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、一三聚氰胺樹脂、一胍胺樹脂、一不飽和聚酯樹脂、一聚胺甲酸酯樹脂、一環氧樹脂、一胺基醇酸樹脂、一三聚氰胺-尿素共縮合樹脂、一聚矽氧烷樹脂等。 第一折射層(或高折射率層)
一第一折射層係形成於硬塗層上。
第一折射層可包含含有，例如，具有1.70至2.80之一折射率的金屬氧化物細微顆粒之一樹脂。
金屬氧化物細微顆粒可為選自，例如，氧化鈦(TiO2 )、氧化鋯(ZrO2 )、氧化鈰(CeO2 )、氧化錫(SnO2 )、氧化銻(Sb2 O5 )、銻酸鋅(ZnSb2 O6 )、氧化銻錫(ATO)、氧化銦錫(ITO)、氧化磷錫(PTO)、氧化鋁鋅(AZO)、氧化鎵鋅(GZO)，及此等的組合之一者。 第二折射層(或低折射率層)
一第二折射層係形成於硬塗層上。
第二折射層可包含從，例如，(i) 含有具一低折射率之無機細微顆粒，諸如，二氧化矽或氟化鎂，之一樹脂，(ii)作為一低折射率樹脂之一氟系樹脂，(iii)含有具一低折射率之無機細微顆粒，諸如，二氧化矽或氟化鎂，之一氟系樹脂，及(iv)具有一低折射率之無機材料，諸如，二氧化矽或氟化鎂，之任一者。二氧化矽較佳係中空二氧化矽細微顆粒。
氟系樹脂可為至少於其分子或自其形成之一聚合物中含有一氟原子之一可聚合化合物。於此情況，可聚合化合物不受特別限制，但其較佳具有一可固化反應性基團，諸如，一光可固化官能基團、一熱固性極性基團等。
具有一乙烯不飽和鍵之一含氟單體可作為具有一光可固化官能性基團之可聚合化合物。更特別地，氟烯烴(例如，氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二氧雜環戊烯等)可作為例子。作為具有一(甲基)丙烯醯氧基基團者，於分子中具有一氟原子之一(甲基)丙烯酸酯化合物，諸如，2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯；具有一具1至14個碳原子及至少3個氟原子之氟烷基基團，一氟環烷基基團或一氟烯基基團，及至少二個(甲基)丙烯醯氧基基團之一含氟多官能性(甲基)丙烯酸酯化合物等可被使用。
熱固性極性基團的例子包括形成氫鍵之基團，諸如，一羥基基團、一羧基基團、一胺基基團、一環氧基團等。其等不僅於和一塗層之黏著性係優異，而且於與諸如二氧化矽之無機超細微顆粒的親和性亦優異。具有一熱固性極性基團之可聚合化合物的例子包括一4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；一氟乙烯-烴系乙烯醚共聚物；諸如環氧、聚胺甲酸酯、纖維素、酚、醯亞胺等之各種樹脂的經氟改質之產物。
具有一光可固化官能性基團及一熱固性極性基團之可聚合化合物的例子包括經部份或完全氟化之丙烯酸或甲基丙烯酸、經部份或完全氟化之乙烯醚、經部份或完全氟化之乙烯酯，或經部份或完全氟化之乙烯酮等之烷酯、烯酯，及芳酯。
作為一特別例子，基底層可包含一聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂，底漆層可包含一熱固性聚胺甲酸酯系樹脂，硬塗層可包含一光可固化丙烯酸酯系樹脂，第一折射層可包含氧化鈦(TiO2 )或氧化鋯(ZrO2 )，且第二折射層可包含二氧化矽細微顆粒。 用於製備一光學多層膜之方法
用於製備一光學多層膜之方法包含(1)擠壓一聚酯樹脂獲得一未經拉伸之片材；(2)將此未經拉伸之片材於70°C至90°C之一溫度預熱，然後將此片材以2.0至5.0之一縱向拉伸率(R1)及2.0至5.0之橫向拉伸率(R2)拉伸；(3)將此經拉伸之片材於150°C至250°C熱固化製備一基底層；及(4)將一底漆層、一硬塗層、一第一折射層，及一第二折射層依序層合在基底層上。 一基底層之製備
於上述製備方法，基底層係藉由將一原料樹脂擠壓及使其接受預熱、拉伸，及熱固化而製備。於此情況，作為基底層之一原料的聚酯樹脂的組成係如上所述。
此外，擠壓可於230°C至300°C或250°C至280°C之一溫度實行。
基底層於其拉伸前係於一特定溫度預熱。以 聚酯樹脂之玻璃轉化溫度(Tg)為基準，預熱溫度滿足Tg+5°C至Tg+50°C之範圍，且判定係同時滿足70°C至90°C之範圍。於上述範圍內，基底層可足夠軟而輕易拉伸，且亦可於其拉伸期間有效避免破裂現象。
拉伸係藉由雙軸拉伸而實行。例如，其可經由一同時雙軸拉伸方法或一依序雙軸拉伸方法，於橫向(或拉幅機方向，TD)及縱向(或機器方向，MD)實行。較佳地，其可藉由依序雙軸拉伸方法實行，其中，拉伸係先於一方向實施，然後拉伸於與此一方向垂直之方向實行。
縱向拉伸率(R1)可為於2.0至5.0，更特別係2.8至3.5之一範圍。此外，橫向拉伸率(R2)可為於2.0至5.0，更特別係2.9至3.7之一範圍。較佳地，縱向拉伸率(R1)及橫向拉伸率(R2)係彼此相似。特別地，縱向拉伸率對橫向拉伸率之比率(R1/R2)可為0.9至1.1或0.9至1.0。
拉伸率(R1及R2)係指表示拉伸後長度相對於為1.0之拉伸前長度的比率。
此外，拉伸速度可為6.5公尺/分鐘至8.5公尺/分鐘，但其不特別限於此。
經拉伸之片材於150°C至250°C，更特別地於160°C至230°C熱固化。熱固化可實行5秒至1分鐘，更特別地係10秒至45分鐘。
於熱固化起始後 片材可於縱向及/或橫向鬆弛，且其溫度範圍可為150°C至250°C。 一底漆層之形成
一底漆層係形成於基底層上。
底漆層可自包含一熱固性樹脂之一塗覆組成物形成。例如，塗覆組成物可包含一聚酯系樹脂、一聚胺甲酸酯系樹脂，或其等之一混合物。特別地，塗覆組成物可包含至少50重量%之一含量的一聚酯系樹脂及一聚胺甲酸酯系樹脂之任一者。此外，塗覆組成物可為包含此等樹脂之一水溶液或一水性分散液。
底漆層可自藉由使一原料樹脂及依所需之一光起始劑及其它添加劑混合及分散於一溶劑中而獲得之一組成物形成。
諸如一油漆攪拌器、一珠磨機，或一捏合機之一已知裝置可用於此混合及分散。
水可較佳地作為溶劑。因此，用於底漆層之組成物可以一水性塗覆液體的型式製備，諸如，一水溶液、一水性分散液，或一乳化液。此外，一有機溶劑可以一小量使用。
有機溶劑的例子包括醇類(諸如，甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苯甲醇、丙二醇甲醚，及乙二醇)、酮類(諸如，丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁酮，及二乙酮)、脂族烴類(諸如，己烷及環己烷)、經鹵化之烴類(諸如，二氯甲烷、氯仿，及四氯化碳)、芳香族烴類(諸如，苯、甲苯，及二甲苯)、醯胺類(諸諸如，二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺，及n-甲基吡咯烷酮)、醚類(諸如，乙醚、二
Figure 108123964-A0304-12-01
烷，及四氫呋喃)、醚醇類(諸如，1-甲氧基-2-丙醇)、酯類(諸如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯，及乙酸異丙酯)等。
添加劑不受特別限制。其例子包括一均化劑、一有機或無機細微顆粒、一光起始劑、一熱聚合反應起始劑、一交聯劑、一固化劑、一聚合反應加速劑、一黏度調整劑、一抗靜電劑、一抗氧化劑、一防污劑、一滑動劑、一折射率調整劑、分散劑等。
用於底漆層之組成物較佳係具有3重量%至20重量%或4重量%至10重量%之一固體含量。於上述範圍內，可降低殘餘溶劑或白化的問題，及避免黏度增加，藉此，確保優異塗覆加工性及輕易控制厚度，此避免表面上形成污漬或條紋。
將用於底漆層之組成物施用於基底層的時機不受特別限制。較佳地，其可於製備基底層期間施用；更特別地，其可於藉由使基底層中之聚酯樹脂定向化而結晶化完成之前施用。
一旦用於底漆層之組成物已被施用，較佳係實行拉伸及熱固化。
當用於底漆層之組成物施用至基底層，基底層的表面接受諸如電暈表面處理、火焰處理、電漿處理等之物理處理，作為一初步處理以增強塗覆性，或一化學惰性界面活性劑可與用於底漆層之組成物組合使用。
作為用於底漆層之組成物的塗覆方法，任何已知塗覆方法可被使用。例如，一輥塗法、一凹版塗覆法、一滾刷法、一噴塗法、一氣刀塗覆法、一浸漬法，及一幕塗法可單獨或組合使用。底漆層可依需要僅形成於聚酯基底層之一側上或其二側上。
於不會不利地影響光學多層膜的物理性質之範圍內，底漆層可接受一表面處理，諸如，皂化處理、電漿處理、電暈處理、紫外線處理等。 一硬塗層之形成
其次，一硬塗層係形成於底漆層上。
硬塗層可自藉由將一原料樹脂及依需要之一光起始劑及其它添加劑於一溶劑中混合及分散而獲得之一組成物形成。
用於形成硬塗層之原料樹脂係一光可固化樹脂、一熱固性樹脂等。其特別例子係如上所例示。
光起始劑不受特別限制，且已知之光起始劑可被使用。其例子包括苯乙酮類、二苯酮類、甲基苯甲醯基苯甲酸酯類、α-戊基肟酯類、
Figure 108123964-A0304-12-02
Figure 108123964-A0304-12-03
類、苯丙酮類、苄類、安息香類，及醯基膦氧化物類。特別地，於光可固化樹脂具有一基可聚合不飽和基團之情況，苯乙酮類、二苯酮類、
Figure 108123964-A0304-12-02
Figure 108123964-A0304-12-03
類、安息安、安息香甲醚等可作為光起始劑。此外，於光可固化樹脂具有一陽離子性可聚合官能性基團之情況，一芳香族重氮鹽、一芳香族鋶鹽、一芳香族碘鹽、一茂金屬化合物、一安息香磺酸酯等可作為光起始劑。以100重量份之光可固化樹脂為基準，用於硬塗層之組成物中的光起始劑含量較佳係1至10重量份，或2至8重量份。於上述範圍內，有利地係光學多層膜具有一優異表面硬度且確保於光照射時之有效內部固化。
用於硬塗層之組成物可含有一溶劑。溶劑可依原料樹脂組份之型式及溶解度作選擇。其例子包括酮類(諸如，丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、環己酮，及二丙酮醇)、醚類(諸如，二
Figure 108123964-A0304-12-01
烷、四氫呋喃、丙二醇單甲醚，及丙二醇單甲醚乙酸酯)、脂族烴類(諸如，己烷)、脂環狀烴類(諸如，環己烷)、芳香族烴類(諸如，甲苯及二甲苯)、經鹵化之烴類(諸如，二氯甲烷及二氯乙烷)、酯類(諸如，乙酸甲酯、乙酸乙酯，及乙酸丁酯)、水、醇類(諸如，乙醇、異丙醇、丁醇，及環己醇)、賽路蘇(甲基賽路蘇及乙基賽路蘇)、賽路蘇乙酸酯、亞碸類(諸如，二甲基亞碸)、醯胺類(諸如，二甲基甲醯胺及二甲基乙醯胺)，及此等的組合。上述中，諸如甲乙酮、甲基異丁酮，及環己酮之酮系溶劑以與樹脂之相容性及增強塗覆加工性而言係較佳。
硬塗層組成物之固體含量不受特別限制，但其較佳係5重量%至70重量%，或25重量%至60重量%。
此外，用於硬塗層之組成物於25°C時可具有約5mPa.s至30mPa.s之一黏度。於上述範圍內，於塗覆於底漆層上期間缺陷可達最小，且塗覆可以一均勻厚度輕易實行。
用於硬塗層之組成物可進一步含有已知之有機或無機細微顆粒、一分散劑、一界面活性劑、一抗靜電劑、一矽烷偶合劑、一增稠劑、一上色抑制劑、一著色劑(色料、染料)、一消泡劑、一均化劑、一阻燃劑、一紫外線吸附劑、一黏著性賦予劑、一聚合反應抑制劑、一抗氧化劑、一表面改質劑等，其係依所欲功能而定。上述上作為抗靜電劑，可使用諸如四級銨鹽等之一陽離子性抗靜電劑、諸如氧化銦錫(ITO)之細微顆粒、導性聚合物等。以用於硬塗層之組成物的固體含量之重量為基準，抗靜電劑可以1至30重量%之一含量使用。
諸如一油漆攪拌器、一珠磨機、一捏合機，或一混合器之一已知裝置可用於混合用於硬塗層之組成物的個別組份。
此外，一凹版塗覆法、一旋塗法、一浸漬法、一噴射法、一模具塗覆法、一棒式塗覆法、一輥式塗覆機法、一彎曲式塗覆機法、一柔版印刷法、一網版印刷法、一供料塗覆機等可用於塗覆用於硬塗層之組成物。
一旦用於硬塗層之組成物已被塗覆，其可依需要接受加熱及/或乾燥，其後以用於使其固化之活性能射線等照射。
以活性能射線照射的例子包括以紫外線或電子束照射。紫外線照射可藉由一超高壓汞燈、一高壓汞燈、一低壓汞燈、一碳弧燈、一黑光螢光燈、一金屬鹵化物燈等實行。紫外射線的波長可於190nm至380nm之範圍；紫外輻射的量可為80mJ/cm2 或更多，100mJ/cm2 或更多，或130mJ/cm2 或更多。此外，電子束照射可以各種電子束加速器實行，諸如，一Cockcroft-Walton型式、一Van der Graaff型式、一共振變壓器型式、一絕緣芯變壓器型式、一線性型式、一高頻高壓型式、一高頻型式等。 一第一折射層及一第二折射層之形成
其次，一第一折射層及一第二折射層形成於硬塗層上。
第一折射層及第二折射層可自藉由使一原料樹脂及所需之一固化劑及其它添加劑於一溶劑中混合及分散而獲得之一組成物形成。
用於形成第一折射層及第二折射層之原料樹脂的特別例子係如上所例示。
用於第一折射層之組成物及用於第二折射層之組成物可適合地含有用於使反應性基團等固化之一固化劑、用於增強塗覆加工性或賦予防污性質之各種添加劑，及一溶劑。
此外，用於第一折射層之組成物及用於第二折射層之組成物的黏度較佳係調整至0.5mPa.s至5mPa.s(25°C)或0.7mPa.s至3mPa.s(25°C)之一範圍。於上述範圍內，對於形成一優異之可見光抗反射層，均勻且不具有塗覆污漬，及增強黏著劑係更有利。
原料樹脂的固化可以相似於硬塗覆層者之一方式實行。此外，當一加熱裝置用於固化處理時，較佳係使一熱聚合反應起始劑添加至原料樹脂，此熱聚合反應起始劑藉由加熱產生起始可聚合化合物之聚合反應的基團。 光學組件
依據實施例之光學多層膜可用於一光學組件。
包含依據實施例之光學多層膜的光學組件可具有一低反射率及增強之光學特徵。
例如，光學組件相對於具有550nm波長之光線可具有1.5%或更少之一反射率。特別地，光學組件相對於具有550nm波長之光線可具有1%或更少，0.5%或更少，或0.2%或更少之一反射率；更佳地係於0.1%型1.5%之一範圍，於0.1%至1.0%之一範圍，於0.1%至0.5%之一範圍，或於0.1%至0.2%之一範圍。因此，光學組件幾乎不受外部光線反射，因此，可增強可見度。
光學組件可特別地為一偏光板。
圖5係依據一實施例之一偏光板的一截面圖。
參考圖5，依據一實施例之偏光板(10)包含一偏光片(11)，及一光學多層膜(12)，其係置於偏光片之至少一側上。
偏光片用用以使以各種方向振動之入射自然光線偏光成以一方向振動之光線。偏光片可為以碘等染色之一聚乙烯醇(PVA)層。於此情況，PVA層中所含之PVA分子可以一方向對齊。 顯示裝置
依據實施例之光學組件可用於一顯示裝置。
顯示裝置包含一顯示面板，及一光學組件，其係置於顯示面板之上側及下側的至少一者上。
於此情況，具有如上所述之結構的一光學組件係作為光學組件。
依顯示面板之型式而定，顯示裝置可被提供作為一液晶顯示裝置、一有機電致發光顯示裝置等。 液晶顯示裝置
圖6係依據一實施例之一液晶顯示器(LCD)的一示意截面圖。參考圖6，依據一實施例之液晶顯示器包含一液晶面板(70)，及一背光單元(80)。
背光單元將光線發射至液晶面板。液晶面板使用來自背光單元之光線顯示一影像。
同時，依據發射波長，各種光源可用於背光單元。
圖8例示施用一LCD裝置之一背光單元的各種光源之光譜。參考圖8，於其中使用一傳統光學膜之一液晶顯示裝置的情況，僅可應用於某些顏色被混合之一光源，如光源1。
但是，於近年來，為了實施鮮艷顏色，係使用發射個別顏色之光線且具有一最小之其中紅(R)、綠(G)，及藍(B)彼此重疊的區域之光源。傳統光學膜當應用於此等光源時於實現所欲光學性質係具限制。
相反地，其中個別層係如上所述般設計的依據實施例之光學多層膜可實施鮮艷顏色，而無諸如彩虹斑紋的缺陷，即使當被應用於諸如具有一最小之紅(R)、綠(G)，及藍(R)彼此重疊之區域的光源2或3之光源，及諸如其中某些顏色混合之光源1的光源時。
例如，設有依據實施例之光學多層膜的液晶顯示裝置能使表明二或更多個於400nm至800nm之範圍具有50nm或更少，例如，45nm或更少，例如，40nm或更少，之一半峰全寬(FWHM)的波峰之一光源用於背光單元。
液晶面板(70)包含一上偏光板(10)、一彩色濾光片基材(71)、一液晶層(72)、一薄膜電晶體(TFT)基材(73)，及一下偏光板(10')。
TFT基材及彩色濾光片基材係彼此相對。TFT基材可包含複數個相對應於每一像素之像素電極，與像素電極連接之薄膜電晶體，複數條用以將驅動訊號施用於薄膜電晶體之閘極線，及複數條用以將一數據訊號施用於像素電極之數據線。
彩色濾光片基材包含複數個相對應於個別像素之彩色濾光片。彩色濾光片可過濾透射光線而實施個別之紅色、綠色，及 藍色。此外，彩色濾光片基材可包含相對於像素電極之一共用電極。
液晶層係夾置於TFT基材與彩色濾光片基材之間。液晶層可藉由TFT基材驅動。更特別地，液晶層可藉由於像素電極與共同電極間施用之一電場驅動。液晶層可調整通過下偏光板的光線之偏向方向。即，TFT基材可調整像素單元中施用於像素電極與共同電極間之電勢差。因此，液晶層可被驅動而於像素單元具有不同光學特徵。
上偏光板及下偏光板之至少一者可具有與如上所述之依據實施例的偏光板實質上相同之結構。
下偏光板係置於TFT基材下面。下偏光板可附接於TFT基材的下側。
上偏光板係置於彩色濾光片基材上。上偏光板可附接於彩色濾光片基材之上側。
上偏光板及下偏光板的偏向方向可彼此相同或垂直。
如上所述，上偏光板及/或下偏光板包含具有增強性能之一光學多層膜。因此，依據一實施例之液晶顯示裝置可具有增強之亮度、影像品質，及耐久性。 有機電致發光顯示裝置
圖7係依據一實施例之一有機電致發光顯示裝置的一示意截面圖。
參考圖7，依據一實施例之有機電致發光顯示裝置包含一前偏光板(10)及一有機電致發光面板(90)。
前偏光板可置於有機電致發光面板之前側上。更特別地，前偏光板可附接於有機電致發光面板中顯示一影像之側。前偏光板可具有與如上所述之依據一實施例的偏光板實質上相同之結構。
有機電致發光面板(90)係藉由一像素單元自行發射而顯示一影像。有機電致發光面板 (90)包含一有機電致發光基材(91)及一驅動基材(92)。
有機電致發光基材包含複數個有機電致發光單元，其每一者係相對應於一像素。有機電致發光單元之每一者包含一陰極、一電子傳輸層、一發光層、一電洞傳輸層，及一陽極。
驅動基材係可驅動地與有機電致發光基材耦合。即，驅動基材可與有機電致發光基材耦合，以便施用諸如一驅動電流之一驅動訊號。更特別地，驅動基材可藉由對有機電致發光單元之每一者施用一電流而驅動有機電致發光基材。
因為前偏光板具有一低反射率及增強的光學特徵，依據一實施例之有機電致發光顯示器可具有一低反射率、增強之亮度，及增強之影像品質。 本發明之模式
以下，本發明將參考範例作更明確說明。但本發明之範圍並不僅限於此。 範例1：製備一光學多層膜 步驟(1)：製備一基底層
一聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂(SKC)係於約280°C藉由一擠壓機擠壓，且於約30°C鑄製於一鑄製輥上，製備一未經拉伸之片材。此未經拉伸之片材於表1中所示之溫度預熱，其後於125°C之溫度，以表1中所示之拉伸率，於機器方向(MD)及拉幅機方向(TD)將其拉伸。其後，經拉伸之片材於表1中所示之溫度熱固化約30秒，製備一基底層。 步驟(2)製備一底漆層
於上述製備基底層之步驟，一底漆層係於基底層在機器方向(MD)拉伸之後及於拉幅機方向(TD)拉伸之前於基底層上形成。在那時，一熱固性聚胺甲酸酯樹脂組成物使用一Meyer棒塗覆於基底層上，及乾燥而形成一底漆層。 步驟(3)形成一硬塗層
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)以30重量%之一濃度溶於一甲基異丁酮(MIBK)溶劑，其後，以固體含量為基準，對其添加5重量%之一濃度的一光起始劑(Irg184，BASF)，藉此製備用於一硬塗層之一組成物。用於一硬塗層之此組成物藉由一棒式塗覆器塗覆於底漆層上形成一塗覆層，使得乾燥後之層厚度係5µm。因而形成之塗覆膜於80°C乾燥1分鐘而移除溶劑，且藉由以約300mJ/cm2 之紫外線照射固化，形成具有於以下表2中所示之折射率的一硬塗層。 步驟(4)形成一第一折射層
一第一折射層係自含有一多官能性丙烯酸酯樹脂及氧化鈦(TiO2 )之一組成物形成於硬塗層上。一旦組成物已塗覆於硬塗層上，其於80°C乾燥1分鐘，且於氮氣沖洗條件下，以約650 mJ/cm2 之紫外線照射而形成一第一折射層。於那時，組成物含有約40重量%之固體，且於25°C具有約6.5mPa.s之一黏度。 步驟(5)形成一第二折射層
一第二折射層係自含有二氧化矽細微顆粒之一樹脂形成於第一折射層上。
範例1之光學多層膜的每一層之折射率及厚度係綜述於以下表中。 [表1]
Figure 108123964-A0304-0001
 測試例1：測量反射率
測量範例1製備之光學多層膜的反射率。
一黑色膠帶附接於具有極少光吸收之一玻璃上，且光學多層膜樣本附接於其上。反射率係使用 一分光光度計(U-4100，Hitachi, Ltd.)於400nm至800nm之一波長帶測量。
再者，重複與範例1相同之程序，除了光學多層膜係藉由如下般改變此等層之任一者的厚度而製造外。
特別地，各種光學多層膜係於以下之條件(a)至(d)下製備，且測量每一者之反射率，其係個別顯示於圖3a至3d。 (a)底漆層之厚度係由45nm改變成105nm (b)硬塗層之厚度係由0.5µm改變成3.5µm (c)第一折射層之厚度係由10nm改變成100nm (d)第二折射層之厚度係由60nm改變成140nm
如圖3a至3d所示，光學多層膜之反射率於可見光區域一般係於一低程度。同時，發現反射率係受每一層的厚度改變影響。特別地，反射率係相對於底漆層的厚度及第二折射層的厚度改變而作重大改變。 測試例2：基底層評估
重複範例1之步驟(1)的程序，除了一聚酯型基底層係依據下列特別製備方法條件獲得外。 [表2]
Figure 108123964-A0304-0002
六個基底層樣本係如下般作測試。 (1)折射率及平面延遲
對此等樣品測量有效寬度內之折射率((Nx+Ny)/2)、平面延遲(Ro)、厚度方向延遲(Rth)，及平面延遲(|ΔRo|/|Δx|)。
首先，樣品之定向軸方向係以二偏光板獲得。樣品切成4公分x2公分之一矩形，使得定向軸方向係呈正交。平面延遲(Ro)及厚度方向延遲(Rth)係使用一相位差計(Axoscan，Axometrics，測量波長：550nm)於寬度中心測量。此外，作為延遲計之一基本數據的折射率係藉由Abbe折射計(NAR-4T，Atago Co., Ltd.，測量波長：589.3nm)測量；且厚度d(µm)係以一電子測微計(Millitron 1245D，FeinprufGmbH)測量。結果顯示於以下表3中。 [表3]
Figure 108123964-A0304-0003
如上表中所示，基底層1至3具有極小平面延遲，而基底層5及6具有大的平面延遲。 (2)測量基底層之整個有效寬度內之延遲
測量基底層1之整個有效寬度內之平面延遲(Ro)及厚度方向延遲(Rth)。
圖4a係基底層1之整個有效寬度中之平面延遲(Ro)的測量結果。如圖4a所示，基底層1具有下列物理性質。
-寬度中心之平面延遲(Ro)係100nm或更少。
-於橫向離寬度中心±500mm之一距離內的平面延遲(Ro)係100nm或更少。
-於橫向離寬度中心±1,000mm之一距離內的平面延遲(Ro)係200nm或更少。
-於有效寬度內相對於橫向位移之平面延遲改變(|ΔRo|/|Δx|)係少於300nm/3m。
圖4b係測量基底層1於整個有效寬度內之厚度方向延遲(Rth)的結果。如圖4b所示，基底層1具有下列物理性質。
-寬度中心之厚度方向延遲(Rth)係8,600nm或更多。
-於有效寬度內相對於橫方向位移之厚度方向延遲改變(|ΔRth|/|Δx|)係少於1,500nm/3m。 (3)測量物理性質
測量基底層1至6之各種物理性質。
-結晶度係依據下列方程式計算。 Xc[%]=dc(d-da)/d(dc-da)*100 (Xc：結晶度，dc：結晶部份之密度(g/cm3 )，da：非結晶部份之密度(g/cm3 )，及d：測量點之密度:(g/cm3 )，其中，dc=1.455(g/cm3 )，且da=1.335(g/cm3 ))
-鉛筆硬度係使用一鉛筆硬度測試計(Kipae E & T，KP-M5000M)以一Mitsubishi 'UNI'等級鉛筆測量。
-抗拉模數係藉由一萬用測試機(4485 TIC960203-97B1A，Instron)測量。
-可見度係依波圖案及閃光現象發生而定，依據下列標準評估。 ○：可見度無惡化，△：可見度些微惡化，×：可見度明顯惡化
結果顯示於下表。 [表4]
Figure 108123964-A0304-0004
如上表中所示，基底層1至3具有優異光學性質及優異機械性質。
10‧‧‧(上)偏光板 10'‧‧‧(下)偏光板 11‧‧‧偏光片 12‧‧‧光學多層膜 12a‧‧‧基底層 12b‧‧‧底漆層 12c‧‧‧硬塗層 12d‧‧‧第一折射層 12e‧‧‧第二折射層 70‧‧‧液晶面板 71‧‧‧彩色濾光片基材 72‧‧‧液晶層 73‧‧‧TFT基材 80‧‧‧背光單元 90‧‧‧有機電致發光面板 91‧‧‧有機電致發光基材 92‧‧‧驅動基材 A、B‧‧‧寬度中心 d‧‧‧厚度 A'、A''、B'、B''‧‧‧從寬度中心之位移
圖式簡要說明 圖1顯示依據一實施例之一光學多層膜的一截面圖。 圖2係用於解釋於一膜的一橫向位移及其寬度中心之一示意圖。 圖3a至3d個別係於一底漆層、一硬塗層、一第一折射層，及一第二折射層之厚度改變時，測量相對於寬長(nm)之反射率(%)的結果。 圖4a及4b個別係對於不同基底層於整體有效寬度測量平面延遲(Ro)及厚度方向延遲(Rth)的結果。 圖5係依據一實施例之一偏光板的一截面圖。 圖6係依據一實施例之一液晶顯示裝置的一截面圖。 圖7係依據一實施例之一有機電致發光顯示裝置的一截面圖。 圖8例示施用於一液晶顯示裝置的一背光單元之不同光源的光譜。
12a‧‧‧基底層
12b‧‧‧底漆層
12c‧‧‧硬塗層
12d‧‧‧第一折射層
12e‧‧‧第二折射層

Claims (15)

  1. 一種光學多層膜，其包含一層合物，其中，一基底層、一底漆層、一硬塗層、一第一折射層，及一第二折射層係依序層合， 其中，該基底層包含一聚酯樹脂且具有0至500nm之一平面延遲(Ro)，且 當該基底層、該底漆層、該硬塗層、該第一折射層，及該第二折射層之折射率係n1、n2、n3、n4，及n5時，其等滿足下列方程式(1)至(4)： 1.61 ≤ n1 ≤ 1.69 (1) n5 > n3 > n2 > n1 > n4 (2) 0.05 ≤ n1 – n3 ≤ 0.20 (3) 0.30 ≤ n4 – n5 ≤ 0.60 (4)。
  2. 如請求項1之光學多層膜，其對於具有550nm波長之光線係具有6.5%或更少之一反射率。
  3. 如請求項1之光學多層膜，其中，該基底層具有1.63至1.68之一折射率(n1)，且 該底漆層具有1.54至1.62之一折射率(n2)。
  4. 如請求項3之光學多層膜，其中，該底漆層具有1.55至1.61之一折射率(n2)。
  5. 如請求項3之光學多層膜，其中，該第一折射層具有1.70至1.75之一折射率(n4)。
  6. 如請求項3之光學多層膜，該第二折射層具有1.25至1.35之一折射率(n5)。
  7. 如請求項3之光學多層膜，其中，該底漆層具有1.55至1.61之一折射率(n2)， 該硬塗層具有1.50至1.53之一折射率(n3)， 該第一折射層具有1.70至1.75之一折射率(n4)，且 該第二折射層具有1.25至1.35之一折射率(n5)。
  8. 如請求項1之光學多層膜，其中，該底漆層具有80nm至95nm之一厚度。
  9. 如請求項8之光學多層膜，其中，該第二折射層具有80nm至120nm之一厚度。
  10. 如請求項8之光學多層膜，其中，該基底層具有20µm至60µm之一厚度。
  11. 如請求項10之光學多層膜，其中，該硬塗層具有1µm至5µm之一厚度， 該第一折射層具有 5nm至150nm之一厚度，且 該第二折射層具有 80nm至120nm之一厚度。
  12. 如請求項1之光學多層膜，其中，該基底層具有1.63至1.68之一折射率(n1)及20µm至60µm之一厚度，該底漆層具有1.54至1.62之一折射率(n2)及80nm至95nm之一厚度，該硬塗層可具有1.50至1.53之一折射率(n3)及 1µm至5µm之一厚度，該第一折射層可具有1.70至1.75之一折射率(n4)及5nm至150nm之一厚度，且該第二折射層可具有1.25至1.35之一折射率(n5)及80nm至120nm之一厚度。
  13. 如請求項1之光學多層膜，其中，該基底層包含一聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂， 該底漆層包含一熱固性聚胺甲酸酯系樹脂， 該硬塗層包含一光可固化丙烯酸酯系樹脂， 該第一折射層包含氧化鈦(TiO2 )或氧化鋯(ZrO2 )，且 該第二折射層包含二氧化矽細微顆粒。
  14. 一種光學組件，其包含一偏光片；及如請求項1之光學多層膜，其係置於該偏光片之至少一側上。
  15. 一種顯示裝置，其包含一顯示面板；及如請求項14之光學組件，其係置於該顯示面板之上側及下側之至少一者上。
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