TW201943566A

TW201943566A - 光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、光學機器用光圈構件、光學機器用快門構件、透鏡單元及攝影機模組

Info

Publication number: TW201943566A
Application number: TW108112294A
Authority: TW
Inventors: 山本拡輝; 長濱豪士; 富澤秀造; 豊島靖麿
Original assignee: 日商木本股份有限公司
Priority date: 2018-04-11
Filing date: 2019-04-09
Publication date: 2019-11-16
Also published as: CN112041706A; TWI898249B; TW202348443A; KR20200143411A; JP7685468B2; EP3779524A1; JP2019184848A; JP2022166194A; EP3779524A4; JP7128569B2; WO2019198511A1; KR102708161B1; CN117348313A

Abstract

提供在光學機器用途具有作為必要的遮光性及低反射性，再來，降低近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙的遮光薄膜等。遮光薄膜(100)，具有：具備基材薄膜(11)、設於基材薄膜(11)的一主面(11a)側的遮光層(21)及設於另一主面(11b)側的遮光層(31)的層積構造；遮光層(21、31)至少含有黏結劑樹脂及分散於黏結劑中的顏料，且合計具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度；遮光薄膜以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1以上1500cm^-1以下的近紅外光區域中的分光反射率為20%以上。又，基材薄膜(11)、遮光層(21)及/或遮光層(31)具有使薄膜寬度從遮光層(21)朝向遮光層(31)擴展開的傾斜端面(12、22、32)較佳。

Description

光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、光學機器用光圈構件、光學機器用快門構件、透鏡單元及攝影機模組

本發明係關於光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、光學機器用光圈構件、光學機器用快門構件、透鏡單元及攝影機模組。

在例如行動電話、智慧手機等資訊通信終端、小型攝影機、數位攝影機、數位影像攝影機、投影機、車載攝影機等電子機器中，內藏有用以攝影被攝物體並變換成影像信號的攝影機模組。該攝影機模組通常具備攝像被攝物體的攝像元件、及用以在該攝像元件上成像被攝物體的影像的透鏡單元。又，透鏡單元通常組合複數透鏡而構成。

在這種光學機器中，要求除去不要的入射光及反射光等，防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，使攝像影像的畫質提升。因此，在用來限制受光範圍或防止構件間的漏光的遮蔽板及環狀構件等固定構件、快門葉片及光圈葉片等的可動構件、模組內壁材等中，常需要高遮光性。因此，提案各種配置具有這種高遮光性的遮光構件的透鏡單元及攝影機模組等。

作為這種遮光構件，提案有作為遮光顏料將含有碳黑、滑劑、微粒子及黏結劑樹脂等的遮光層形成於基材薄膜的兩面的遮光薄膜(參照專利文獻1~3)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]

[專利文獻1] 特開平9-274218號公報
[專利文獻2] WO2006/016555號公報
[專利文獻3] 特開2012-133071號公報

[發明所欲解決的問題]

在從前的光學機器用的遮光構件中，從遮光性、黑色度、導電性及成本等的平衡的觀點來看，作為遮光顏料使用碳黑成為了事實上的標準。

但是，根據本發明者們的見解，作為遮光顏料使用比較多量的碳黑的先前技術的遮光構件，因近紅外光的吸收而容易發熱，曝露於太陽光及疑似太陽光等例如數分到數十分以上時，判明到塗膜的表面溫度會達到數百度左右。

因此，將這種先前技術的遮光構件用於例如近紅外攝影機及近紅外光感測器及近紅外光區域的分光光度計等時，模組內部會變高溫，因為該熱的影響，會產生閃光及鬼影等，引起測定誤差變大等的問題。

又，根據本發明者們的見解，先前技術的遮光構件在塗膜的表面溫度達到數百度左右時，判明到根據情形塗膜會冒煙。若這樣產生從遮光構件的冒煙，無法得到正常的影像，得到的影像會變得不鮮明，引起得到的影像的解析度降低等的問題。

另一方面，近年在全世界的模組化持續進展，以將透鏡與遮光板在光軸方向配列的透鏡單元、在該透鏡單元再組入攝像元件的攝影機模組及感測器等的形態，在世界各國的製造工廠中，分別製造及管理。隨此，成為各模組的一部件的遮光薄膜及遮光構件，也在各地分別被搬送及製造管理。

其中，從遮光薄膜製作成所期望形狀的遮光構件時、或將遮光構件組入模組時，若沒有判明遮光薄膜及遮光構件的表裏面的話，可能會成為組入不良等的製造故障原因。接著，在橫跨世界的模組化持續進展的現在，在世界各地徹底達到遮光薄膜及遮光構件的管理(表裏面的確認)並非容易。

尤其是，因為攝影機模組的小型及薄膜化的進展，會搭載極小的尺寸的遮光構件。接著，例如在設置黑色的遮光層的遮光薄膜中，大小成為數平方公分以下的話，遮光薄膜的表裏判別會變得極為困難。特別是在光學密度高的遮光薄膜中，該傾向會變得顯著。

本發明鑑於上述課題而完成。亦即本發明的目的為提供在光學機器用途具有作為必要的遮光性及低反射性，再來，降低近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙的光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜等。又，本發明的其他目的為利用該光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜等，提供抑制檢出能力的降低、解析度的降低、測定誤差的增大等不良狀態的發生的光學機器用遮光環、光學機器用光圈構件、光學機器用快門構件、透鏡單元及攝影機模組等。

又，本發明的別的目的為提供除上述特性以外，即便具有通常難以判別表裏的高光學密度的遮光層，也能容易判別表裏面的光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、光學機器用光圈構件、光學機器用快門構件、透鏡單元及攝影機模組等。

[解決問題的手段]

本發明者們為了解決上述課題而進行鏡意檢討的結果，發現作為事實上的標準使用的碳黑的使用，尤其是較多量的碳黑的使用，是引起上述未意圖的各種不良情況的原因，而完成本發明。

亦即，本發明提供以下所示的各種具體態樣。
(1) 一種光學機器用遮光薄膜，至少具備第一遮光層；前述第一遮光層至少含有黏著劑樹脂、及分散於前述黏結劑中的顏料，且具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度；前述光學機器用遮光薄膜以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為20%以上。

(2)如(1)記載的光學機器用遮光薄膜，其中，前述第一遮光層，相對於前述黏著劑樹脂100質量份，含有遮熱顏料5～50質量份、及碳黑0～10質量份。
(3) 如(1)或(2)記載的光學機器用遮光薄膜，其中，前述第一遮光層未含有碳黑。

(4) 一種光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備基材薄膜、及設於前述基材薄膜的一主面側的第一遮光層的層積構造；前述第一遮光層至少含有黏著劑樹脂、及分散於前述黏結劑中的顏料，且具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度；前述光學機器用遮光薄膜以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為20%以上。

(5) 如(4)記載的光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備前述基材薄膜、設於前述基材薄膜的一主面側的前述第一遮光層、及設於前述基材薄膜的另一主面側的第二遮光層的層積構造。
(6) 如(5)記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度。
(7) 如(5)或(6)記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層及前述第二遮光層合計具有2.5以上的光學密度。
(8) 如(5)~(7)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的60度光澤度之差為1.5～4.0。
(9) 如上述(5)~(8)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差ΔE^* ab為0.2以上。

(10) 如(5)~(9)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層至少含有黏結劑樹脂、及分散於前述黏結劑中的顏料。
(11) 如(5)~(10)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層，相對於前述黏著劑樹脂100質量份，含有遮熱顏料5～50質量份、及碳黑0～10質量份。
(12) 如(5)~(11)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層未含有碳黑。

(13) 一種光學機器用遮光環，具備：如(1)～(3)中任一項記載的光學機器用遮光薄膜、及/或如(4)～(12)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，在俯視時具有環狀的外形形狀。
(14) 一種光學機器用快門構件，具備：如(1)～(3)中任一項記載的光學機器用遮光薄膜、及/或如(4)～(12)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜。
(15) 一種光學機器用快門構件，具備：如(1)～(3)中任一項記載的光學機器用遮光薄膜、及/或如(4)～(12)中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜。

(16) 一種透鏡單元，至少1以上的透鏡及至少1以上的遮光板配列於前述透鏡的光軸方向；前述遮光板的至少1以上，由如(13)記載的光學機器用遮光環、如(14)記載的光學機器用光圈構件、及/或如(15)記載的光學機器用快門構件構成。
(17) 一種攝影機模組，至少具有：具備至少1以上的透鏡及至少1以上的遮光板，且前述透鏡及前述遮光板配列於前述透鏡的光軸方向的透鏡單元、通過前述透鏡單元攝像被攝物體的攝像元件；前述遮光板的至少1以上，由如(13)記載的光學機器用遮光環、如(14)記載的光學機器用光圈構件、及/或如(15)記載的光學機器用快門構件構成。

其中，作為較佳的一態樣，前述第一遮光層具有在剖面視時使薄膜寬度擴展開的傾斜端面；從前述第一遮光層的主面的法線方向俯視時，前述傾斜端面露出。
又，作為其他的較佳一態樣，在前述第一遮光層設有中空部，在前述中空部的內周具有剖面視時使薄膜寬度擴展開的傾斜端面。

又，作為別的較佳一態樣，前述第一遮光層及/或前述第二遮光層具有使薄膜寬度從前述第一遮光層朝向前述第二遮光層擴展開的傾斜端面；從前述第一遮光層的主面的法線方向俯視時，前述傾斜端面露出。
又，作為其他的較佳一態樣，在前述第一遮光層及/或前述第二遮光層設有中空部，在前述中空部的內周具有傾斜端面。

[發明的效果]

根據本發明，能夠實現具有在光學機器用途中必要的遮光性及低反射性，再來，降低近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙的光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜等，且能夠實現抑制檢出能力的降低、解析度的降低、測定誤差的增大等不良狀態的發生的光學機器用遮光環、光學機器用光圈構件、光學機器用快門構件、透鏡單元及攝影機模組等。又，根據本發明的適合的一態樣，因為能夠實現即便具有通常難以判別表裏的高光學密度的遮光層，也能容易判別表裏面的光學機器用遮光薄膜及光學機器用層積遮光薄膜等，能提升模組製造現場的操作性，減輕部件管理的負擔。因此，能夠抑制組入不良等的製造故障的產生，使良率提升。因此，使用該等的透鏡單元及攝影機模組等成為生產性及經濟性佳者。

以下，參照圖式詳細地說明有關本發明的實施形態。此外，上下左右等的位置關係，只要沒特別限定，即以圖式所示的位置關係為依據。又，圖式的尺寸比例並不限於圖示的比例。但是，以下的實施形態，為用以說明本發明的例示，本發明並不限於此。此外，在本說明書中，例如「1～100」的數值範圍的表記，為包含其上限值「100」及下限值「1」的二者。又，其他的數值範圍的表記也一樣。

(第一實施形態)
圖1為示意地表示本發明的第一實施形態的遮光薄膜100(層積遮光薄膜100)及其原料滾輪200的斜視圖、圖2為表示層積遮光薄膜100的要部的剖面圖(圖1的II-II剖面)。圖3為遮光薄膜100的平面圖。

本實施形態的遮光薄膜100至少具備：基材薄膜11、設於該基材薄膜11的一主面11a側的第一遮光層21、及設於另一主面11b側的第二遮光層31。接著，遮光薄膜100成為具有至少以遮光層21、基材薄膜11、及遮光層31的順序配列的層積構造(3層構造)者。此外，在該層積構造中，將第一遮光層21配置於表側的最表面，並將第二遮光層31配置於裏側的最表面，如圖2所示，第一及第二遮光層21、31以分別露出表側及裏側的最表面的狀態配置。接著，藉由將該遮光薄膜100捲取成有芯或無芯的滾輪狀，構成作為捲繞體的滾輪原材200。

在本說明書中，所謂「設於基材薄膜的一(另一)主面側」，不只是如本實施形態在基材薄膜11的表面(例如主面11a或主面11b)直接載置遮光層21、31的態樣，也包含在基材薄膜11的表面與遮光層21、31之間隔介著任意的層(例如底塗層、黏接層等)將遮光層21、31離間配置的態樣。又，所謂至少具備遮光層21及遮光層31的層積構造，不只是僅直接層積遮光層21及遮光層31的構造，還包含上述3層構造、及將任意的層再設於3層構造的構造。

基材薄膜11只要是能夠支持遮光層21、31，其種類並沒有特別限定。從尺寸安定性、機械強度及輕量化等觀點來看，較佳為使用合成樹脂薄膜。作為合成樹脂薄膜的具體例，可以是聚酯纖維薄膜、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)薄膜、聚醯亞胺薄膜、聚醯胺薄膜、聚醯胺醯亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等。又，也可以使用丙烯酸系、聚烯烴系、纖維素系、聚碸系、聚苯硫醚系、聚醚碸系、聚醚醚酮系的薄膜。在該等之中，作為基材薄膜11，較佳為使用聚酯纖維薄膜及聚醯亞胺薄膜。尤其是一軸或二軸延伸薄膜，特別是二軸延伸聚酯纖維薄膜其機械強度及尺寸安定性佳，特別適合。又，在耐熱用途中，特佳為一軸或二軸延伸的聚醯亞胺薄膜、聚醯胺醯亞胺薄膜、聚醯胺薄膜、最佳為聚醯亞胺薄膜、聚醯胺醯亞胺薄膜。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。

基材薄膜11的厚度可以因應要求性能及用途來適宜地設定，沒有特別限定。從輕量化及薄膜化的觀點來看，基材薄膜11的厚度較佳為0.5μm以上、100μm以下、更佳為1μm以上、50μm以下、再佳為5μm以上40μm以下、特佳為10μm以上、30μm以下。此外，從使遮光層21、31間的黏接性提升的觀點來看，因應必要，也可以在基材薄膜11表面進行錨塗處理及電暈處理等各種公知的表面處理。

在本實施形態中，在基材薄膜11的外周側面(外周端面)設有傾斜端面12。藉由該傾斜端面12，基材薄膜11的剖面構造成為下底比上底還長的梯形狀，基材薄膜11的薄膜寬度成為從遮光層21朝向遮光層31擴展開的構造(參照圖2)。

傾斜端面12，在將基材薄膜11如圖2所示設為平坦狀態時，為了能從基材薄膜11的主面11a側辨視，以在從基材薄膜11的主面11a的法線方向俯視時露出的方式設置(參照圖3)。具體來說，基材薄膜11的主面11a與傾斜端面12連結的傾斜角θ(俯角θ)設定成10～87˚。以使從主面11a側俯視時的傾斜端面12的辨識性提升，並維持基材薄膜11端面的強度、及維持生產性等的觀點來看，傾斜角θ較佳為30～85˚、更佳為40～83˚、再佳為45～80˚。此外，只要傾斜端面12能從基材薄膜11的主面11a側辨視，例如為了薄膜端面的強化，在傾斜端面12設置透明乃至半透明的保護層等也可以。

此外，基材薄膜11的外觀可以是透明、半透明、不透明的任一者，並沒有特別限制。例如也可以使用發泡聚酯纖維薄膜等發泡的合成樹脂薄膜、或使其含有各種顏料的合成樹脂薄膜。以使從主面11a側俯視時的傾斜端面12的辨識性提升的觀點來看，基材薄膜11較佳為具有80.0～99.9%的全光線透過率、更佳為83.0～99.0%、再佳為85.0～99.0%。又，從抑制近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙的觀點來看，基材薄膜11以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為40%以上較佳、更佳為50%以上、再佳為60%以上、其上限值雖沒有特別限定但為99%以下。

從具備作為遮光構件的高遮光性的觀點來看，遮光層21、31的光學密度(OD)分別為1.5以上較佳。此外，本說明書中，光學密度(OD)為以JIS-K7651：1988為準據，使用光學密度計(TD-904：GretagMacbeth公司)及UV濾波器測定得到的值。從使其具備更高遮光性的觀點來看，遮光層21、31分別為以單層具有1.7以上的光學密度(OD)的遮光膜較佳、分別為以單層具有2.0以上的光學密度(OD)者更佳。又，使遮光層21、31層積時，該層積體的全體的光學密度(OD)較佳為2.5～6.0、更佳為4.5～6.0、再更佳為5.0～6.0。

又，從具備作為遮光構件的高消光性及低光澤性等的觀點來看，遮光層21、31的60度光澤度分別為未滿10%較佳。其中，60度光澤度為以JIS-Z8741：1997為準據，使用數位變角光澤計(UGV-5K：SUGA試驗機公司製)測定入射受光角60˚的遮光層21、31表面的光澤度(鏡面光澤度)(%)而得到的值。從遮光性、低光澤、低反射性、光吸收性等的平衡的觀點來看，遮光層21及遮光層31的至少一者，具有超過2%且10%以下的60度光澤度較佳。在此，設定遮光層21、31的60度光澤度之差後，表裏判別變得更容易。作為該較佳的態樣的1個，有遮光層21的60度光澤度為0.01%以上10%未滿、更佳為0.1%以上8%未滿，再更佳為0.3%以上5%未滿，遮光層31的60度光澤度為超過2%且10%以下、較佳為2.2%以上8%未滿、再更佳為2.4%以上10%未滿的態樣。又，從表裏判別的觀點來看，60度光澤度之差為以1.0～4.5%、較佳為1.5～4.0%、再佳為1.8～3.5%的方式，使遮光層21與遮光層31具有相異的60度光澤度較佳。

接著，在本實施形態的遮光薄膜100中，從人體工學的探討來看，在具有上述的光學密度及60度光澤度的遮光層21與遮光層31中，色差ΔE^* ab更為0.2以上較佳。此外，色差ΔE^* ab指的是以JIS-Z8730：2009為準據，使用色度計分別求出遮光層21及遮光層31的色相L^* 值、a^* 值、b^* 值，作為該等差分算出的值。此時，遮光層21與遮光層31的色差ΔE^* ab，考慮目視時的表裏面的判別性或光學密度(遮光性)的平衡來適宜設定即可，雖沒有特別限定，但較佳為0.4以上、更佳為0.8以上、再佳為1.6以上、特佳為3.2以上。此外，遮光層21與遮光層31的色差ΔE^* ab的上限值，雖沒有特別限定，但通常目標為25.0。

再來，使遮光層21的明度與遮光層31的明度互異，遮光薄膜100的表裏的判別會變得更容易。其中，明度之差能以CIE 1976 L^* a^* b表色系統中的明度指數L^* 來表示。具體來說，遮光層21、31的明度指數L^* 為1以上35以下、更佳為1以上30以下、再佳為2～28、特佳為3～26。接著，遮光層21與遮光層31的明度指數L^* 之差較佳為1以上30以下、更佳為2以上20以下、再佳為3以上10以下。

又，本實施形態的遮光薄膜100以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率平均為20%以上。更佳為23%以上、再佳為25%以上，其上限值沒有特別限定但較佳為99%以下、更佳為95%以下如此設為近紅外光區域中的分光反射率高的(換言之，近紅外光區域中的分光透過率高)遮光薄膜100，作為所謂的遮熱遮光薄膜作用，抑制了近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙，抑制了檢出能力的降低、解析度的降低、測定誤差的增大等不良狀態的發生。此外，在本說明書中，近紅外光區域中的分光反射率的測定表示以JIS R 3106為準據進行，使用標準白色板(Spectralon SRS99)校正的值。

其中，遮光薄膜100為遮光層21的單層薄膜時，遮光層21滿足上述分光反射率即可。另一方面，遮光薄膜100如同本實施形態那樣為層積薄膜時，為了抑制近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙等，不只是遮光層21，在層積體全體也有滿足上述分光反射率的必要。從該觀點來看，本實施形態的遮光薄膜100中，在遮光層31上述分光反射率較佳為20%以上、更佳為25%以上、再佳為30%以上，其上限值沒有特別限定但較佳為99%以下、更佳為95%以下。

又，本實施形態的遮光薄膜100以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率與分光透過率的合計較佳為60%以上、更佳為65%以上、再佳為70%以上，其上限值沒有特別限定但較佳為99%以下、更佳為95%以下。如此設為近紅外光區域中的分光反射率與分光透過率的合計高的(換言之，近紅外光區域中的吸收率低)遮光薄膜100，抑制了近紅外光的吸收造成的發熱及冒煙，抑制了檢出能力的降低、解析度的降低、測定誤差的增大等不良狀態的發生。此外，在本說明書中，近紅外光區域中的分光透過率的測定表示以JIS R 3106為準據進行，使用標準白色板(Spectralon SRS99)校正的值。

此外，遮光薄膜100的分光反射率或分光透過率，例如能夠根據基材薄膜11的分光反射率或分光透過率、遮光層21及遮光層31的分光反射率或分光透過率、基材薄膜11的厚度或素材、遮光層21及遮光層31的厚度及處方等適宜調整，該調整方法沒有特別限定。

作為構成遮光層21、31的素材，可以使用該業界所公知者，其種類沒有特別限制。作為一例，藉由使用至少含有黏結劑樹脂、及分散於該黏結劑中的顏料的遮光膜，能夠實現滿足上述各種物性的遮光層21、31。以下，再詳述該具體例。

作為黏結劑樹脂，可以是聚(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醋酸乙烯基系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚乙烯醇縮丁醛系樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂、聚氨酯系樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、環氧酯系樹脂、環氧系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯丙烯酸系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚醚丙烯酸系樹脂、酚醛系樹脂、密胺系樹脂、尿素系樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂等熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，但並沒有特別限定。又，也可以使用熱可塑性彈性體、熱硬化性彈性體、紫外光硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。此外，黏結劑樹脂因應要求性能及用途，可以適宜選擇使用。例如，在要求耐熱性的用途中，較佳為熱硬化性樹脂。

遮光層21、31中的黏結劑樹脂的含有量(總量)雖沒有特別限定，但從黏接性、遮光性、附耐傷性、滑動性及消光性等的觀點來看，較佳為40～90質量%，更佳為50～85質量%、再更佳為60～80質量%。

作為分散於黏結劑樹脂中的顏料，可以使用該業界所公知者，其種類沒有特別限制。其中，較佳為使用不吸收700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域的光或其吸收率小的顏料(遮熱顏料)。藉由使用這樣的遮熱顏料，實現抑制了近紅外光的吸收造成的發熱的近紅外光區域的分光反射率高的遮熱遮光薄膜。作為遮熱顏料，使用以JIS K 5602為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光透過率較佳為50%以上、更佳為60%以上、再佳為70%以上者。作為具有這種物性的遮熱顏料，例如已知有白色系、黃色系、紅色系、藍色系、黑色系的遮熱顏料，可以從該業界公知者中適宜選擇使用。

作為遮熱顏料的具體例，作為無機系遮熱顏料，例如可以是以氧化鋁及二氧化矽等進行表面處理的氧化鈦(例如石原產業股份公司製的鈦黑「Typek R-820N」、陶氏化學股份公司製的「Ti-Pure R706」、氧化鎂、氧化鋇、氧化鈣、氧化鋅、氧化鋯、氧化釔、氧化銦、鈦酸鈉、氧化矽、氧化鎳、氧化錳、氧化鉻、氧化鐵、氧化銅、氧化鈰、氧化鋁等金屬氧化物系遮熱顏料；鈣-鈦-錳複合氧化物(例如石原產業股份公司製的「MPT-370」、「LPC-707」)、鐵-鈷-鉻複合氧化物(例如大日精化股份公司製的「DAIPYROXIDE Color #9290」、「DAIPYROXIDE Color Black#9590」)、鐵-鉻複合氧化物(例如大日精化股份公司製的「DAIPYROXIDE Color Black#9595」、旭化成工業股份公司製的「Black6350」)、鐵-錳複合氧化物、銅-鎂複合氧化物(例如大日精化股份公司製的「DAIPYROXIDE Color Black#9598」)、鉍-錳複合氧化物(例如旭化成工業股份公司製的「Black6301」)、錳-釔複合氧化物(例如旭化成工業股份公司製的「Black6303」)、鐵-鈷-鉻複合氧化物及鐵-鈷-鋅-鉻複合氧化物(例如東罐材料科技股份公司製的「近紅外光反射型顏料」)、鐵-鈷複合氧化物(例如Shepherd Color股份公司製之「Arctic Black 10C909A」及「Arctic Black 411A」)等複合氧化物系遮熱顏料；矽、鋁、鐵、鎂、錳、鎳、鈦、鉻、鈣等金屬系遮熱顏料；鐵-鉻、鉍-錳、鐵-錳、錳-釔等合金系遮熱顏料等。

又，作為有機系遮熱顏料，例如偶氮系顏料、甲亞胺黑(大日精化工業股份公司製，商品名：Chromo fine black A1103)等甲亞胺系顏料、偶氮亞甲基偶氮系顏料、色澱系顏料、硫靛系顏料、蒽醌系顏料(蒽嵌蒽醌顏料、二氨基蒽醌顏料、陰丹酮顏料、蒽酮顏料、蒽嘧啶顏料等)、二萘嵌苯黑(BASF公司製的K0084、K0086)等苝系顏料、苝酮系顏料、二酮吡咯并吡咯系顏料、二噁嗪系顏料、酞菁系顏料、喹吖啶酮顏料、喹吖啶酮顏料、異吲哚啉顏料、異吲哚啉酮顏料等

在該等之中，作為遮熱顏料，較佳為複合氧化物顏料或有機系遮熱顏料。又，從對遮光層21、31賦予高遮光性的觀點來看，特別適合使用黑色或接近黑色的暗色系遮熱顏料。此外，遮熱顏料可以單獨使用1種、又組合2種以上來使用也可以。

遮光層21、31中的遮熱顏料的含有量(總量)雖沒有特別限定，但從分散性、製膜性、操作性、黏接性、滑動性、消光性、耐磨耗性等的觀點來看，以相對於遮光層21、31中含有的全樹脂成分的固態成分換算(phr)，較佳為5～50質量%、更佳為8～45質量%、再更佳為10～40質量%。

此外，遮光層21、31也可以包含上述遮熱顏料以外的其他顏料(之後有單稱為「其他顏料」的情形。)或染料也可以。亦即，併用1種以上的黑色、灰色、紫色、藍色、茶色、紅色、綠色等暗色系的顏料或染料，能作為光學密度高的遮光膜。例如作為黑色系的遮光膜，較佳為使用至少含有黏結劑樹脂以及遮熱顏料、及因應必要調配的暗色系的其他顏料或染料的黑色遮光膜(換言之，黑色遮光層21、32)。

作為其他顏料及染料，可以從該業界所公知者適宜選擇使用，其種類沒有特別限制。例如作為作為黑色系的其他顏料，可以是黑色樹脂粒子、磁鐵礦系黑、銅・鐵・錳系黑、鈦黑、碳黑等。在其中，因為隠蔽性佳，較佳為黑色樹脂粒子、鈦黑、碳黑。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。

作為碳黑，已知有石油爐黑、燈黑、槽黑、煤氣爐黑、乙炔黑、熱碳黑、科琴黑等以各種公知的製法製作者，但其種類沒有特別的限制。從對遮光層21、31賦予導電性而防止靜電造成的帶電的觀點來看，使用導電性碳黑特佳。從碳黑的歴史久遠的例如三菱化學股份公司、旭碳股份公司、御國色素股份公司、Resino Color工業股份公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等，市售有各種等級的碳黑單體及碳黑分散液，因應要求性能及用途，從其中適宜選擇即可。此外，碳黑的粒子大小，可以因應要求性能等來適宜地設定，沒有特別限定。碳黑的平均粒徑D₅₀ 較佳為0.01～2.0μm，更佳為0.05～0.1.0μm、再更佳為0.08～0.5μm。此外，本說明書中的平均粒徑意味著以雷射繞射式粒度分佈測定裝置(例如，島津製作所公司：SALD-7000等)測定的體積基準的中值徑(D₅₀ )。

但是，併用遮熱顏料以外其他顏料及染料時，有得到的遮光薄膜100的近紅外光區域中的分光反射率降低的情形。因此，期望不要多量使用其他顏料及染料。從該觀點來看，遮光層21、31中其他顏料及染料的含有量(總量)，相對於遮光層21、31的總量，較佳為未滿50質量%、更佳為未滿30質量%。

尤其是，作為其他顏料碳黑因為近紅外光的吸收率高，其使用量期望能留在必要最低限度。例如為了調整表面電阻值及黑色度等在遮光層21、31併用碳黑及導電性碳黑也可以。在該種情形中，各成份的調配比例，相對於黏結劑樹脂100質量份，遮熱顏料為5～50質量份、碳黑為0～10質量份、以及其他顏料及染料為0～50質量份較佳，相對於黏結劑樹脂100質量份，遮熱顏料為8～30質量份、碳黑0～5為質量份、以及其他顏料及染料為0～30質量份更佳。從將近紅外光的吸收率留在最小限的觀點來看，遮光層21、31實質上未含有碳黑較佳。

圖4表示遮光薄膜100的分光反射率的實測資料的一例的圖形。其中，表示本發明品1(具有遮光層21、基材薄膜11、及遮光層31的3層層積構造者)、本發明品2(具有遮光層21、及基材薄膜11的2層層積構造者)、從前品(具有使用碳黑的遮光層、基材薄膜11、及用碳黑的遮光層的3層層積構造者)的3個資料。此外，本發明品1的遮光薄膜100為作為基材薄膜11使用厚度25μm的聚醯亞胺薄膜、作為遮光層21及遮光層31分別使用厚度8.5μm的遮熱遮光膜(遮光顏料11.7質量%(phr)、導電填料4.24質量份、殘留部為硬化劑及黏結劑前驅體(作為黏結劑為12.9質量份)的薄膜)的總厚度42μm的層積遮光薄膜。本發明品1的遮光薄膜100的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為25%。此外，本發明品2的遮光薄膜100為作為基材薄膜11分別使用厚度25μm的聚醯亞胺薄膜、作為遮光層21使用厚度15.5μm的遮熱遮光膜(遮光顏料11.7質量%(phr)、導電填料4.24質量份、殘留部為硬化劑及黏結劑前驅體(作為黏結劑為12.9質量份)的薄膜)的總厚度42μm的層積遮光薄膜。本發明品2的遮光薄膜的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為30%。又，從前品的遮光薄膜在本發明品1中，取代遮熱顏料使用碳黑。從前品的遮光薄膜的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為5%。

遮光層21、31的厚度可以因應要求性能及用途來適宜地設定，沒有特別限定。從高光學密度、輕量化及薄膜化的觀點來看，遮光層21、31的厚度分別較佳為0.1μm以上、更佳為1.0μm以上、再佳為4.0μm以上，上限側較佳為23μm以下、更佳為20μm以下，再更佳為18μm以下。

此外，從輕量化及薄膜化的觀點來看，遮光薄膜100的總厚度較佳為0.5μm以上80μm以下、更佳為1μm以上、再佳為5μm以上、更佳為70μm以下、再更佳為60μm以下。

作為在本實施形態的遮光薄膜100的適合態樣，從人體工學的探討來看，在具有上述的光學密度及60度光澤度的遮光層21與遮光層31中，能再採用將60度光澤度之差設為1.5～4.0的構成及將色差ΔE^* ab設為0.2以上的構成。藉由這樣採用再賦予60度光澤度及/或色差ΔE^* ab的遮光層21及遮光層31，光學密度、光澤、亮感、色差等相互配合的結果，知覺色差增強，藉此，以非接觸亦即目視，判別遮光薄膜100的表裏變得極為容易。

作為遮光層21與遮光層31的色差ΔE^* ab的調整方法，例如，有使在遮光層21與遮光層31的遮熱顏料的含有量相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用黑色度不同的遮熱顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使用大小不同的遮熱顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使表面粗糙度相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用色相不同的黏結劑樹脂的方法、僅在遮光層21及遮光層31的一者併用其他顏料或染料的方法、將使用的遮熱顏料與其他顏料或染料的種類在遮光層21及遮光層31互異的方法等，但沒有特別限定。又，藉由調配用於遮光膜的各種公知的添加劑，也能調整明度、色相、及/或彩度。該等調整方法，可以使各種方法分別單獨或適宜組合而進行。

又，作為遮光層21與遮光層31的60度光澤度的調整方法，例如，有使在遮光層21與遮光層31的遮熱顏料的含有量相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用黑色度不同的遮熱顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使用大小不同的遮熱顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使表面粗糙度相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用色相不同的黏結劑樹脂的方法、僅在遮光層21及遮光層31的一者併用其他暗色系的顏料或染料的方法、將使用的遮熱顏料與其他顏料或染料的種類在遮光層21及遮光層31互異的方法等，但沒有特別限定。又，藉由調配用於遮光膜的各種公知的添加劑，也能調整60度光澤度。該等調整方法，可以使各種方法分別單獨或適宜組合而進行。

在遮光層21、31的外周側面，對應上述的傾斜端面12具有傾斜角θ的傾斜端面22、32(外周端面22、32)設於兩側面(2處所)。該等傾斜端面22、32，在將遮光層21、31如圖2所示設為平坦狀態時，為了能夠從遮光層21的主面21a側辨視，以在從遮光層21的主面21a的法線方向俯視時露出的方式設置(參照圖3)。具體來說，遮光層21的主面21a與傾斜端面22、32連結的傾斜角θ設定成10～87˚。此外，只要傾斜端面22、32能從遮光層21的主面21a側辨視，例如為了薄膜端面的強化，在傾斜端面22、32設置透明乃至半透明的保護層等也可以。以這樣構成，若利用基材薄膜11與遮光層21、31間的色相、彩度、明度、透明度、60度光澤度、全光線透過率等的差異的話，又更加提升遮光層21、31的判別性。在這裡，雖不特別限定傾斜端面22、32的傾斜角θ，但較佳為與傾斜端面12一樣為10～87˚、更佳為30～85˚、再更佳為40～83˚、特佳為45～80˚。藉由設定成與傾斜端面12相同或同程度的傾斜角，會有能容易維持於高端面強度的傾向，又有容易提升生產性的傾向。

此外，遮光層21、31，可以含有當業界公知的各種添加劑。作為該具體例，有霧化劑(消光劑)、滑劑、導電劑、阻燃劑、抗菌劑、抗黴劑、抗氧化劑、可塑劑、均勻劑、流動控制劑、消泡劑、分散劑等，但沒有特別限定。作為霧化劑，有交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交聯聚苯乙烯粒子等有機系微粒子、二氧化矽、甲基矽酸鋁酸鎂、氧化鈦等無機系微粒子等，但沒有特別限定。作為滑劑，有聚乙烯、石臘、蠟等碳化氫系滑劑；硬脂酸、12-羥基硬脂酸等脂肪酸系滑劑；硬脂酸醯胺、油酸醯胺、芥酸醯胺等醯胺系滑劑；硬脂酸丁酯、硬脂酸單甘油酯等酯系滑劑；酒精系滑劑；金屬肥皂、滑石、二硫化鉬等固體潤滑劑；矽氧樹脂粒子、聚四氟化乙烯蠟、聚氟化亞乙烯等氟樹脂粒子等，但並沒有特別限定。其中，特別適合使用有機系滑劑。又，作為黏著劑樹脂，使用紫外光硬化型樹脂或電子束硬化型樹脂時，例如使用n-丁基胺、三乙基胺、三-n-丁基膦等增感劑或紫外線吸收劑等也可以。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。其等的含有比例雖沒有特別限定，但以相對於遮光層21、31中含有的全樹脂成分的固態成分換算，一般分別為0.01～5質量%較佳。

又，遮光層21、31較佳為具有15%以下的可見光反射率。在這裡，可見光反射率指的是使用分光光度計(島津製作所公司製，分光光度計SolidSpec-3700等)及作為標準板使用硫酸鋇，對遮光層21、31以入射角8˚入射光時的相對全光線反射率。從使其具備更高遮光性等的觀點來看，遮光層21、31的可見光反射率為10%以下較佳、8%以下更佳、4%以下特佳。此外，從提高遮光層21、31的判別性的觀點來看，遮光層21與遮光層31的可見光反射率之差為1%以上較佳。

再來，遮光層21、31，以使其具備充分的抗靜電性能的觀點來看，較佳為具有未滿1.0×10¹⁰ Ω的表面電阻率、更佳為未滿1.0×10⁸ Ω、再更佳為滿5.0×10⁷ Ω。此外，在本說明書中，表面電阻率設為以JIS-K6911：1995為準據測定的值。

遮光薄膜100的製造方法，只要能夠得到上述構成，並沒有特別限定。從在基材薄膜11上將遮光層21、31以高再現性簡易且低成本地製造的觀點來看，適合使用刮刀塗佈、浸塗法、滾輪塗佈、棒塗佈、模塗佈、刮刀塗佈、空氣刀塗佈、觸壓塗佈、噴塗法、旋轉塗佈等從前公知的塗佈方法。

例如，將在溶劑中含有上述黏著劑樹脂及遮熱顏料、還有因應必要調配的作為任意成分的其他顏料或染料、或在溶劑中含有添加劑等的塗佈液，在基材薄膜11的主面上塗佈，使其乾燥後，藉由因應必要進行熱處理及加壓處理等，在基材薄膜11上製造遮光層21、31。作為在這裡使用的塗佈液的溶劑，可以使用水；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；醋酸甲基、醋酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等醚系溶劑；甲基酒精、乙基酒精、異丙醇等酒精系溶劑、以及其等的混合溶劑等。此外，為了使基材薄膜11與遮光層21、31間的黏接提升，因應必要也可以進行錨定處理及電暈處理等。再來，因應必要，在基材薄膜11與遮光層21、31之間設置底塗層層及黏接層等中間層也可以。此外，藉由壓縮成形、射出成形、吹製成形、轉移成形、壓出成形等各種公知的成形方法，也能夠簡易地得到具有所期望形狀的遮光薄膜100。又，一旦形成片狀之後，也可以進行真空成形或壓空成形等。

又，關於傾斜端面12、22、32的形成方法也沒有特別限定。適宜地適用各種公知的手法，能夠作成具有任意傾斜角θ的傾斜端面12、22、32。例如，準備在基材薄膜11上設有遮光層21及遮光層31的層積遮光薄膜，藉由將其外周側面以上述傾斜角θ切落(裁斷)，能夠簡易地設置傾斜端面12、22、32。又，不需要傾斜端面22、32時，準備預先設有任意傾斜角θ的傾斜端面12的基材薄膜11，在該基材薄膜11上設置遮光層21及遮光層31也可以。

(作用)
在本實施形態的遮光薄膜100及原料滾輪200中，使顏料分散於黏結劑樹脂中，採用具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度的遮光層21、31，將以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的遮光薄膜100的分光反射率設為20%以上。因此，本實施形態的遮光薄膜100等，具有在光學機器用途中必要的遮光性及低反射性，與使用碳黑的先前技術相比，再緩和了伴隨著近紅外光的吸收的發熱、或降低發熱量，其結果，抑制了檢出能力的降低、解析度的降低、測定誤差的增大等不良狀態的發生。

又，因為採用具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度的遮光層21、31，將本實施形態的遮光薄膜100等作為透鏡單元及攝影機模等光學機器用遮光構件使用時，能夠除去不要的入射光及反射光，能夠防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而能使攝像影像的畫質提升。

而且，在上述的層積構造中，因為如同上述調整露出表裏面的遮光層21與遮光層31的光學密度、60度光澤度之差、及色差ΔE^* ab，增強了知覺色差，藉此，能夠以非接觸亦即目視來容易地進行表裏面的判別。又，在俯視時以能辨視的方式露出的傾斜端面12，因為在薄膜外周緣，能作為具有光澤感及亮感的輝部來認知，格外容易能夠以非接觸亦即目視來進行遮光薄膜100的表裏面的判別。這是因為遮光層21或遮光層31與傾斜端面12(基材薄膜11)間的色相、彩度、明度、透明度、60度光澤度、全光線透過率等的差異所引起的。

又，將本實施形態的遮光薄膜100等在暗處進行操作時，傾斜端面12也能有效地作用。亦即，傾斜端面12(基材薄膜11)因與遮光層21或遮光層31間的差異而引起，即便僅有些微的光也能作為有光澤感或亮感的輝部明瞭地認知。又，藉由以手指等直接接觸傾斜端面12來確認傾斜方向，也能夠進行表裏面的判別。

(變形例)
然而，本發明可以在不脫離其要旨的範圍內，任意地變更並實施。例如，不設置傾斜端面22、32而僅設置傾斜端面12也可以。又，傾斜端面12的形成處所，僅設於基材薄膜11的外周側面的至少一部分即可。或者傾斜端面12的形成處所，僅設於遮光層21(遮光層31)的外周側面的至少一部分即可。再來，如本實施形態以在遮光薄膜100的MD方向延伸的方式設於基材薄膜11的兩側面(2處所)也可以、以在基材薄膜11的TD方向延伸的方式設於基材薄膜11的一側面(1處所)或兩側面(2處所)也可以。或者，在基材薄膜11的外周側面的全面(全周)設置傾斜端面12也可以。又，在MD方向及/或TD方向延伸的傾斜端面12，如本實施形態連續地形成也可以、又斷續地形成也可以。再來，在上述的實施形態中，雖示出在基材薄膜11的表裏設置遮光層21及遮光層31的態樣，但不設置基材薄膜11，而作為遮光層21及遮光層31的層積構造(2層構造)也可以、又作為僅有遮光層21(僅有遮光層31)的單層構造也可以。再來，遮熱遮光層設置1個以上即可，例如在本實施形態中，將一者作為遮光層21另一者作為(非遮熱)遮光層31也可以。又，上述的層積構造體，在遮光薄膜100的操作時，在表裏面為露出遮光層21及遮光層31的狀態即可，在之後的使用時或實裝時，以包覆遮光層21及遮光層31的露出面的方式形成保護層或其他遮光層等的追加層也可以。再來，從2個以上的遮光膜形成遮光層21、31也可以。例如將層積遮熱遮光膜21a及遮光膜21b的層積遮光層作為遮光層21也能夠適用。關於遮光層31也一樣。此時，作為遮熱遮光膜21a及遮光膜21b的層積體，滿足遮光層21所要求的上述各種性能/物性即可。關於遮光層31也一樣。

(第二實施形態)
圖5為示意地表示本發明的第二實施形態的透鏡單元41及攝影機模組51的分解斜視圖。透鏡單元41由透鏡群42(透鏡42A、42B、42C、42D、42E)、多段圓筒狀的保持具43、作為遮光性間隙物的光學機器用遮光環100A、100B、100C(遮光薄膜100)構成。保持具43的內周部設有複數段差部43a、43b、43c。接著，利用該段差部43a、43b、43c，透鏡群42及光學機器用遮光環100A、100B、100C以在配置於同軸上(相同光軸上)並堆疊的狀態，收納配置於保持具43內的預定位置。在這裡，作為透鏡42A、42B、42C、42D、42E，可以使用凸透鏡或凹透鏡等各種透鏡，其曲面可以是球面也可以是非球面。另一方面，攝影機模組51，由上述的透鏡單元41、及配置於該透鏡單元41的光軸上，通過透鏡單元41將被攝物體攝像的CCD影像感測器及CMOS影像感測器等攝像元件44構成。

圖6為示意地表示光學機器用遮光環100A的剖面圖。光學機器用遮光環100A為將上述第一實施形態的遮光薄膜100沖孔加工成環狀(中空筒狀)而得到者。因此，光學機器用遮光環100A與上述第一實施形態的遮光薄膜100具有同樣的層積構造。

光學機器用遮光環100A為於俯視時在略中央位置設置圓狀的中空部S，外形為環狀(中空筒狀)的遮光板。在本實施形態，在光學機器用遮光環100A的外周側面，沒有設置上述的傾斜端面12、22、32，該等的外周側面在剖面視時形成矩形狀。亦即，在本實施形態的光學機器用遮光環100A中，外周端面的傾斜角θ成為90˚。另一方面，在本實施形態的光學機器用遮光環100A中，於內周端面，設置有對應上述的傾斜端面12、22、32的傾斜端面13、23、33。此外，光學機器用遮光環100B、100C除了外徑的大小及中空部S的外徑大小分別不同以外，與光學機器用遮光環100A為同樣的構成，在此省略重複的說明。

(作用)
在本實施形態的光學機器用遮光環100A、100B、100C中，使遮熱顏料分散於黏結劑樹脂中，採用具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度的遮光層21、31，將以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中光學機器用遮光環100A、100B、100C的分光反射率設為20%以上。因此，藉由將其作為透鏡單元及攝影機模組等的光學機器用遮熱遮光構件使用，具有在光學機器用途中必要的遮光性及低反射性，與使用碳黑的先前技術相比，再緩和了伴隨著近紅外光的吸收的發熱、或降低發熱量，其結果，抑制了檢出能力的降低、解析度的降低、測定誤差的增大等不良狀態的發生。

又，因為採用具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度的遮光層21、31，將本實施形態的遮光薄膜100等作為透鏡單元及攝影機模等光學機器用遮熱遮光構件使用時，能夠除去不要的入射光及反射光，能夠防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而能使攝像影像的畫質提升。

而且，在上述的層積構造中，因為如同上述調整露出表裏面的遮光層21與遮光層31的光學密度、60度光澤度之差、及色差ΔE^* ab，增強了知覺色差，藉此，能夠以非接觸亦即目視來容易地進行光學機器用遮光環100A、100B、100C的表裏面的判別。因此，利用該等光學機器用遮光環100A、100B、100C的透鏡單元41及攝影機模組51，在其保管時或組入時，也抑制了基於表裏面的誤認的組入不良等的製造故障。

再來，在本實施形態的光學機器用遮光環100A中，更設置傾斜端面13、23、33，更加提高遮光層21、31的判別性。藉由這樣在光軸側的端面(內周端面)設置傾斜端面13、23、33，能夠除去不要的反射光，能夠防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而能使攝像影像的畫質提升。

(變形例)
然而，本發明可以在不脫離其要旨的範圍內，任意地變更並實施。例如，遮光薄膜100(光學機器用遮光環100A，100B，100C)的外形形狀，例如可採用俯視時為長方形狀、正方形狀、六角形狀等多角形狀、楕圓形狀、不定形狀等任意的形狀。又，光學機器用遮光環100A、100B、100C的中空部S的形狀，在本實施形態中於俯視時雖然也形成圓狀，但其外形沒有特別限定。例如可採用俯視時為長方形狀、正方形狀、六角形狀等多角形狀、楕圓形狀、不定形狀等任意的形狀。再來，在本實施形態中，雖設置上述傾斜端面12、22、32，但因應必要，也能夠適宜地設置傾斜端面12、及傾斜端面22、32中的一者或兩者。再來，在上述的實施形態中，雖示出在基材薄膜11的表裏設置遮光層21及遮光層31的態樣，但不設置基材薄膜11，而作為遮光層21及遮光層31的層積構造(2層構造)也可以、又作為僅有遮光層21(僅有遮光層31)的單層構造也可以。又，上述的層積構造體，在遮光薄膜100的操作時，在表裏面為露出遮光層21及遮光層31的狀態即可，在之後的使用時或實裝時，以包覆遮光層21及遮光層31的露出面的方式形成保護層或其他遮光層等的追加層也可以。再來，從2個以上的遮光膜形成遮光層21、31也可以。例如將層積遮光膜21a及遮熱遮光膜21b的層積遮光層作為遮光層21也能夠適用。關於遮光層31也一樣。此時，作為遮光膜21a及遮熱遮光膜21b的層積體，滿足遮光層21所要求的上述各種性能/物性即可。關於遮光層31也一樣。

(第三實施形態)
圖7為示意地表示本發明的第三實施形態的光學機器用光圈構件300的平面圖。該光學機器用光圈構件300為搭載於單眼用的照片攝影用透鏡的光量調整用的光圈構件。在本實施形態中，成為將6枚光圈葉片300A重合的彩虹光圈，藉由圖未示的光圈環及省電自動光圈驅動機構，以手動及/或通電進行預定的光量調整。

各種光學機器用光圈構件300為將上述第一實施形態的遮光薄膜100沖孔加工成預定形狀而得到者。因此，光學機器用光圈構件300與上述第一實施形態的遮光薄膜100具有同樣的層積構造。在以此方式構成的本實施形態的光學機器用光圈構件300中，也能發揮與上述第一及第二實施形態同樣的作用效果。因此，這裡省略重複的說明。

此外，在光學機器用光圈構件300中，光圈葉片300A的形狀及枚數不限於圖示者，可以是任意的形狀及枚數。又，在本實施形態中，雖舉彩虹光圈的光圈構件為例，但也可以採用Waterhouse光圈及旋轉光圈等公知的形式。又，在本實施形態中，雖舉適用於光量調整用的光圈構件為例，但上述各種實施形態的遮光薄膜100作為焦平面快門及透鏡快門等快門構件及快門葉片也一樣能使用。

[產業上的利用可能性]

本發明在精密機械領域、半導體領域、光學機器領域、電子機器等中作為高性能的光學機器用遮熱遮光構件能夠廣泛且有效的利用。尤其是，作為用於搭載於高性能單眼攝影機、小型攝影機、視訊攝影機、數位影像攝影機、行動電話、投影機、車載攝影機、車載感測器、光學感測器等的透鏡單元、攝影機模組、及感測器單元等遮光構件、光圈構件、快門構件等，還有作為用於近紅外光攝影機及近紅外光感測器等的遮光構件、光圈構件、快門構件等，能更為有效地利用。

11‧‧‧基材薄膜

11a‧‧‧表面(主面)

11b‧‧‧表面(主面)

12‧‧‧傾斜端面

13‧‧‧傾斜端面

21‧‧‧遮光層

21a‧‧‧表面(主面)

22‧‧‧傾斜端面

23‧‧‧傾斜端面

31‧‧‧遮光層

31a‧‧‧表面(主面)

32‧‧‧傾斜端面

33‧‧‧傾斜端面

41‧‧‧透鏡單元

42‧‧‧透鏡群

42A‧‧‧透鏡

42B‧‧‧透鏡

42C‧‧‧透鏡

42D‧‧‧透鏡

42E‧‧‧透鏡

43‧‧‧保持具

43a‧‧‧段差部

43b‧‧‧段差部

43c‧‧‧段差部

44‧‧‧攝像元件

51‧‧‧攝影機模組

100‧‧‧遮光薄膜

100A‧‧‧遮光環(層積遮光薄膜)

100B‧‧‧遮光環(層積遮光薄膜)

100C‧‧‧遮光環(層積遮光薄膜)

200‧‧‧原料滾輪

300‧‧‧光學機器用光圈構件

300A‧‧‧光圈葉片

θ‧‧‧傾斜角

S‧‧‧中空部

MD‧‧‧流動方向

TD‧‧‧垂直方向

[圖1] 示意地表示一實施形態的遮光薄膜100及其滾輪原材的斜視圖。

[圖2] 圖1的II-II剖面圖。

[圖3] 一實施形態的遮光薄膜100的平面圖。

[圖4] 表示遮光薄膜100的分光反射率的實測資料的一例的圖形。

[圖5] 示意地表示一實施形態的遮光環(遮光薄膜)、以及使用其的透鏡單元及攝影機模組的分解斜視圖。

[圖6] 示意地表示一實施形態的遮光環(遮光薄膜)的剖面圖。

[圖7] 示意地表示一實施形態的光學機器用光圈構件的平面圖。

Claims

一種光學機器用遮光薄膜，至少具備第一遮光層；前述第一遮光層至少含有黏結劑樹脂、及分散於前述黏結劑中的顏料，且具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度；前述光學機器用遮光薄膜以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為20%以上。
如請求項1記載的光學機器用遮光薄膜，其中，前述第一遮光層，相對於前述黏結劑樹脂100質量份，含有遮熱顏料5～50質量份、及碳黑0～10質量份。
如請求項1記載的光學機器用遮光薄膜，其中，前述第一遮光層未含有碳黑。
一種光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備基材薄膜、及設於前述基材薄膜的一主面側的第一遮光層的層積構造；前述第一遮光層至少含有黏結劑樹脂、及分散於前述黏結劑中的顏料，且具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度；前述光學機器用遮光薄膜以JIS R 3106為準據測定的700cm^-1 以上1500cm^-1 以下的近紅外光區域中的分光反射率為20%以上。
如請求項4記載的光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備前述基材薄膜、設於前述基材薄膜的一主面側的前述第一遮光層、及設於前述基材薄膜的另一主面側的第二遮光層的層積構造。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層具有1.5以上的光學密度及未滿10%的60度光澤度。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層及前述第二遮光層合計具有2.5以上的光學密度。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的60度光澤度之差為1.5～4.0。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差ΔE^* ab為0.2以上。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層至少含有黏結劑樹脂、及分散於前述黏結劑中的顏料。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層，相對於前述黏著劑樹脂100質量份，含有遮熱顏料5～50質量份、及碳黑0～10質量份。
如請求項5記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第二遮光層未含有碳黑。
一種光學機器用遮光環，具備：如請求項1～3中任一項記載的光學機器用遮光薄膜、及/或如請求項4～12中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜，在俯視時具有環狀的外形形狀。
一種光學機器用光圈構件，具備：如請求項1～3中任一項記載的光學機器用遮光薄膜、及/或如請求項4～12中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜。
一種光學機器用快門構件，具備：如請求項1～3中任一項記載的光學機器用遮光薄膜、及/或如請求項4～12中任一項記載的光學機器用層積遮光薄膜。
一種透鏡單元，至少1以上的透鏡及至少1以上的遮光板配列於前述透鏡的光軸方向；前述遮光板的至少1以上，由如請求項13記載的光學機器用遮光環、如請求項14記載的光學機器用光圈構件、及/或如請求項15記載的光學機器用快門構件構成。
一種攝影機模組，至少具有：具備至少1以上的透鏡及至少1以上的遮光板，且前述透鏡及前述遮光板配列於前述透鏡的光軸方向的透鏡單元、通過前述透鏡單元攝像被攝物體的攝像元件；前述遮光板的至少1以上，由如請求項13記載的光學機器用遮光環、如請求項14記載的光學機器用光圈構件、及/或如請求項15記載的光學機器用快門構件構成。