TW201918733A - 偽裝濾光片 - Google Patents
偽裝濾光片 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201918733A TW201918733A TW107125603A TW107125603A TW201918733A TW 201918733 A TW201918733 A TW 201918733A TW 107125603 A TW107125603 A TW 107125603A TW 107125603 A TW107125603 A TW 107125603A TW 201918733 A TW201918733 A TW 201918733A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- wavelength selective
- scattering layer
- refractive index
- light
- particles
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 108
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 119
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 39
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims description 5
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 209
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 40
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 26
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 15
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 15
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 6
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 5
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 4
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000001055 reflectance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029951 Estrogen receptor beta Human genes 0.000 description 1
- 101001010910 Homo sapiens Estrogen receptor beta Proteins 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007884 disintegrant Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
- G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
- G02B5/0294—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use adapted to provide an additional optical effect, e.g. anti-reflection or filter
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
所述者係系統,其等包括一光發射器或一光接收器的一或兩者以及一濾光片,該濾光片相鄰於該光發射器或該光接收的一或兩者。該濾光片包括一波長選擇散射層,其散射小於可見光的近紅外光。該波長選擇散射層包括複數個粒子。該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
Description
光可以不同方式自表面反射(例如,作為一鏡面反射或作為一漫反射)。在不透明材料中,鏡面反射可發生在該材料之一最上部的表面層上(例如在一空氣/材料界面處),且該反射可承載一全光譜的入射光。鏡面反射可表現為反光度(shininess)或光澤度,其可佔小於4%的總反射光。相比之下,漫反射可發生在該材料之一頂部表面下方並可承載所選的波長或顏色。例如,在一非金屬物體的漫反射中可見到顏色。例如,可在混合表面(例如包括由一清透頂部塗料所覆蓋之一漆料塗料的表面)處觀察到兩種反射。因此,鏡面反射可發生在空氣/頂部塗料的界面處,而漫反射可發生在頂部塗料/漆料塗料的界面處。
濾光器係用在廣泛多樣的應用(例如,光學通訊系統、感測器、成像、科學與工業光學設備、及顯示系統)中。濾光器可包括光學層,其等管控入射電磁輻射(包括光)的透射。濾光器可反射或吸收入射光之一部分並透射入射光之另一部分。一濾光器內的光學層在波長選擇性、光學透射性、光學清晰度、光學霧度、及折射率上可有所不同。
在一態樣中,本揭露係關於一種系統。該系統包括一光發射器或一光接收器的一或兩者以及一濾光片,該濾光片相鄰於該光發射器或該光接收器的一或兩者。該濾光器包括一波長選擇散射層。該波長選擇散射層包括複數個粒子。該波長選擇散射層具有小於約0.9的一近紅外光散射比率,該近紅外光散射比率係一平均近紅外光散射對一平均可見光霧度。該波長選擇散射層亦具有大於約0.1的一可見反射霧度比率,該可見光反射霧度比率係平均可見光漫反射率對平均可見光總反射率的一比率。該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
在另一態樣中,本揭露係關於一種物品。該物品包括一濾光片。該濾光器包括一波長選擇散射層。該波長選擇散射層包括複數個粒子。該波長選擇散射層具有小於約0.9的一近紅外光散射比率,該近紅外光散射比率係一平均近紅外光散射對一平均可見光霧度。該波長選擇散射層亦具有大於約0.1的一可見反射霧度比率,該可見光反射霧度比率係平均可見光漫反射率對平均可見光總反射率的一比率。該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
於附圖及以下說明中提出本發明之一或多項態樣的細節。經由說明及圖式,並且經由申請專利範圍,本發明之其他特徵、目標、以及優點將顯而易見。
10‧‧‧濾光片
10a‧‧‧物品
10b‧‧‧物品
10c‧‧‧物品
10d‧‧‧物品
10e‧‧‧物品
12‧‧‧基材
14‧‧‧波長選擇散射層/波長選擇層/波長散射層
14a‧‧‧選擇散射區段
14b‧‧‧選擇散射區段
14c‧‧‧選擇散射區段
14d‧‧‧選擇散射區段
16‧‧‧反射層
18‧‧‧受墨層
22‧‧‧圖案層
24‧‧‧保護層/圖案層
26‧‧‧第一密封劑層
28‧‧‧第二密封劑層/第二密封劑
32‧‧‧感測器層
32a‧‧‧感測器區段/光源
32b‧‧‧感測器區段/光源
32c‧‧‧感測器區段/光源
32d‧‧‧感測器區段/光源
40‧‧‧光接收器
42‧‧‧射線
42a‧‧‧近紅外光射線
42b‧‧‧近紅外光射線/射線
42c‧‧‧近紅外光射線
42d‧‧‧近紅外光射線
42e‧‧‧近紅外光射線
44a‧‧‧可見光射線
44b‧‧‧可見光射線
44c‧‧‧可見光射線
44d‧‧‧可見光射線
44e‧‧‧可見光射線
46‧‧‧光發射器
48‧‧‧物體
52‧‧‧步驟
54‧‧‧步驟
56‧‧‧步驟
58‧‧‧步驟
60‧‧‧顯示器
62‧‧‧圖案
64‧‧‧圖案
前述者及本發明之其他態樣在下列實施方式中與隨附圖式合併閱讀時將更為顯而易見。
圖1A至圖1E係包括濾光片之實例物品的側向截面圖。
圖2A至圖2E係包括一濾光片之實例系統的概念示意圖。
圖3A至圖3D係一實例系統的示意圖,該系統包括一實例濾光片及一電子顯示器,該顯示器顯示一肉眼可察覺的圖案及一不可見的近紅外光圖案。
圖4係一實例技術的流程圖。
圖5係包括一光學介質及所具有之折射率的虛數部分小於10之複數個粒子的例示性波長選擇散射層的近紅外光散射比率依據粒徑及折射率差值而變動的圖表。
圖6係包括一光學介質及所具有之折射率的虛數部分小於10-7之之複數個粒子的例示性波長選擇散射層的近紅外光散射比率依據粒徑及折射率差值而變動的圖表。
圖7係包括一光學介質及所具有之折射率的虛數部分小於10-7之複數個粒子的例示性波長選擇散射層的940nm散射比率依據粒徑及折射率差值而變動的圖表。
圖8係包括一光學介質及所具有之折射率的虛數部分小於10之複數個粒子的例示性波長選擇散射層的940nm散射比率依據粒徑及折射率差值而變動的圖表。
圖9係包括一光學介質及所具有之折射率的虛數部分介於10與0.1之間的複數個粒子的例示性波長選擇散射層的近紅外光散射比率依據粒徑及折射率差值而變動的圖表。
圖10係包括一光學介質及所具有之折射率的虛數部分介於10與0.1之間的複數個粒子的例示性波長選擇散射層的940nm散射比率依據粒徑及折射率差值而變動的圖表。
應理解本揭露之某些圖式的特徵可不必依比例繪製,且圖式呈現本文所提出之技術的非排他性實例。
在本揭露中,「可見光(visible)」係指波長範圍介於約400nm與約700nm之間者,且「近紅外光(near-infrared)」係指波長範圍介於約700nm與約2000nm之間者(例如波長範圍介於約800nm與約1200nm之間者)。ULI(超低折射率)膜係指包括一黏合劑、複數個粒子、及複數個互連空隙的光學膜,如美國專利申請公開案第2012/0038990號中所述者,其全文係以引用方式併入本文中。
周圍的電磁輻射源可干涉經組態以接收具有特定波長或來自特定源之光的接收器或者干涉經組態以發射具有特定波長之光的光發射器。例如,可見光波長可例如藉由在一光接收器中或在一光發射器中增加雜訊來干涉接收、感測、或透射近紅外光波長。亦可非蓄意地露出電磁輻射源。例如,雖然由經組態以發射僅近紅外光波長的一光發射器所發射的光可能非肉眼可察覺的,但是負責發射該光的裝置或結構(例如該光發射器的一殼體)可能是肉眼可察覺的。遮蔽、掩蓋、或以其他方式偽裝該光發射器可存在挑戰,因為偽裝技術可非所欲地導致阻擋、干涉、或減少所欲之近紅外光波長的透射率。根據本揭露之實例的濾光片可用於防止來自可見光波長之不想要的光學干 涉或者用於偽裝電磁輻射源使其免於被肉眼察覺,同時至少部分地允許所欲之近紅外光波長經一光發射器透射或經一光接收器接收或者同時允許近紅外光波長以相對高的清晰度透射。
例如,操作以接收或感測近紅外光波長之一光接收器可受屏蔽免於可見光波長,防止可由可見光波長引起之對近紅外光波長的接收或感測的干涉。操作以透射近紅外光波長之一光傳輸器可藉由散射可見光波長而偽裝成肉眼無法察覺的。例如,經散射的可見光波長可在不阻礙近紅外光波長透射的情況下掩蓋該光傳輸器的存在。
離開一表面之鏡面反射的量可藉由空氣界面之菲涅耳反射(Fresnel reflection)來判定。針對具有一清透頂部層的一不透明表面,可假設所有鏡面反射均產生自頂部空氣界面,且反射的剩餘部分係來自一底部層的漫反射。一不透明的有色材料亦可遵循類似的模型,同時使用其折射率來計算頂部表面上的菲涅耳反射,並將所有其他反射視為漫射。實例濾光片可具有設置在一清透基材或一反射膜上的一漫射塗料。當該漫射塗料塗佈在清透基材上時,其可具有一較高霧度以隱藏底下的項目。當該塗料塗佈在一反射體上時,該塗料將藉由反射使入射光漫射兩次。在該情況下,該塗料可具有較小的霧度。
因此,實例系統可包括:一光接收器及一光發射器的一者或兩者;及一濾光片,其包括一波長選擇散射層,其可至少部分地減少可見光波長的透射,同時至少部分地允許近紅外光波長的透射。 例如,該波長選擇性散射層可散射大多數入射可見光。根據本揭露之實例系統及物品可包括實例光學物品,其包括實例波長選擇散射層, 該等波長選擇散射層以相對高的清晰度透射近紅外光同時減少可見光波長的透射(例如藉由選擇性散射或反射可見光波長)。
圖1A至圖1E係包括濾光片之實例物品的側向截面圖。圖1A展示實例物品10a的側向截面圖。物品10a包括一基材12及一波長選擇散射層14。基材12可包括玻璃、聚合物、金屬、或任何其他合適的剛性、半剛性、或軟性材料、以及其組合。雖然基材12在圖1A之實例物品10a中展示為一層,在實例中,但是基材12可呈現任何合適的三維形狀,其可具有一平坦的表面、一實質上平坦的表面、或一紋理表面。在實例中,基材12可包括一殼體、一螢幕、或一裝置(例如一電子裝置)之一表面。
波長選擇散射層14選擇性散射可見光並透射近紅外光。在實例中,該波長選擇散射層可具有小於約0.9、小於約0.8、小於約0.7、小於約0.6、或小於約0.5的一近紅外光散射比率。近紅外光散射比率係平均近紅外光散射對平均可見光散射的一比率。在實例中,波長選擇散射層14可具有大於約0.5、或大於約0.7、或大於約0.9的一可見光反射霧度比率。可見光反射霧度比率係平均可見光漫反射率對平均可見光總反射率的一比率。在實例中,波長選擇散射層14可透射小於約50%的入射可見光。在實例中,波長選擇散射層14可透射大於約50%的入射近紅外光。在實例中,波長選擇散射層14可透射小於約50%的入射可見光,並透射大於約50%的入射近紅外光。在實例中,波長選擇散射層14可散射大於約50%的入射可見光。例如,波長選擇散射層14可藉由散射多於約50%的入射可見光來透射 小於約50%的入射可見光。在實例中,波長選擇層14可散射大於約50%的入射可見光作為白光。在一些實施例中,該波長選擇散射層具有大於約0.1的一可見光反射霧度比率。在一些實施例中,該可見光反射霧度比率係大於約0.3。
波長選擇散射層14可包括一介質及複數個粒子,其等具有各別預定的折射率。該複數個粒子可包括TiO2、無機顏料、或有機顏料。該介質可包括聚合物、經塗佈聚合物、熱塑性聚合物、或黏著劑。在實例中,波長選擇散射層14可包括一珠粒狀漫射體層。例如,波長選擇散射層14可包括一介質及分散在該介質中的珠粒。該珠粒狀漫射體層的介質可包括玻璃、聚合物、或任何其他合適的光學介質、或者其組合。該等珠粒可包括二氧化矽、玻璃、聚合物、有機、無機、金屬氧化物、聚苯乙烯、或其他合適的散射材料、或者其組合。該漫射體層可包括氣孔,其等包括諸如空氣的一氣體。在實例中,包括氣體的該等氣孔可經封裝在珠粒內。該波長選擇散射層可包括一可印刷墨水。該波長選擇散射層可包括一染料。
波長選擇散射層14可包括具有一第一折射率之一光學介質。該光學介質可包括複數個粒子。該複數個粒子可具有一虛折射率分量。該虛折射率分量可小於10。該虛折射率可小於10-7。該虛折射率可介於10與10-1之間。該複數個粒子可具有一第二折射率,使得該第一折射率與該第二折射率之間的一絕對差小於約0.1。在實例中,該複數個粒子可具有小於約5μm的一平均粒度,且該第一折射率與該第二折射率之間的該絕對差可小於約0.1。在實例中,該複數個粒子 可具有小於約1μm的一平均粒度,且該第一折射率與該第二折射率之間的該絕對差可小於約0.2。在實例中,該複數個粒子可具有小於約0.5μm的一平均粒度,且該第一折射率與該第二折射率之間的該絕對差可小於約0.4。在實例中,該複數個粒子可具有小於約0.3μm的一平均粒度,且該第一折射率與該第二折射率之間的該絕對差可小於約0.6。在實例中,該複數個粒子可具有小於約0.2μm的一平均粒度,且該第一折射率與該第二折射率之間的該絕對差可小於約1.8。
波長選擇散射層14的近紅外光散射比率可小於0.2。波長選擇散射層14的近紅外光散射比率可小於0.4。波長選擇散射層14的近紅外光散射比率可小於0.6。波長選擇散射層14的近紅外光散射比率可小於0.8。在實例中,波長選擇散射層14的近紅外光散射比率可小於0.7或可小於0.5。在實例中,各別的線82、84、86、88下方的區域或任何其他區域可藉由一較低粒度界限來定界。例如,區域可僅包括高於10nm或30nm或50nm的粒度,或者大於瑞利散射(Rayleigh scattering)可在該處表現或佔優勢之粒度的粒度。
在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖5中之線[0.900]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖5中之線[0.600]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇 散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖5中之線[0.400]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖6中之線[0.900]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖6中之線[0.600]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖6中之線[0.400]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖9中之線[0.900]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖9中之線[0.600]下方的一區域。在一些實施例中,該波長選擇散射層可包括具有一第一折射率的一光學介質及具有一平均粒度及一第二折射率的複數個粒子,其中該平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖9中之線[0.400]下方的一區域。
在實例中,波長選擇散射層14可具有小於50%、或至少50%、或至少60%、或至少70%的一總可見光反射率。在實例中,該總可見光反射率可小於50%,且波長選擇散射層14可藉由可見光霧度來掩蓋物體。在實例中,該總可見光反射率可大於50%,且波長選擇散射層14可藉由可見光反射及可見光霧度的一組合來掩蓋物體。在實例中,波長選擇散射層14可具有小於60%或小於40%的一平均近紅外光散射。在實例中,該波長選擇散射層可具有大於10%、或大於25%、或大於58%的一平均可見光散射。在實例中,波長選擇散射層14之該%總可見光反射率與該%漫射可見光反射率之間的一差值可小於20。在實例中,該波長選擇散射層可具有小於40%的一平均近紅外光散射及大於58%的一平均可見光散射,且該%總可見光反射率與該%漫射可見光反射率之間的差值可小於18。
在一些實施例中,該波長選擇散射層在自800nm至1000nm的一範圍內可具有小於約0.5的一平均近紅外光透射散射。在一些實施例中,該平均近紅外光散射可小於約0.2。在一些實施例中,該平均近紅外光散射可小於約0.1。在一些實施例中,該平均近紅外光透射散射可小於約0.05。在一些實施例中,該平均近紅外光透射散射可小於約0.02。
在實例中,波長選擇散射層14可具有至少15%、或至少25%、或至少35%、或至少50%的一可見光霧度。在實例中,濾光片10a可包括表面光學微結構(例如微複製表面結構)。
在實例中,波長選擇散射層14可包括ULI層,其包括一黏合劑、複數個粒子、及複數個互連空隙。該複數個互連空隙在該濾光片中的一體積分率(volume fraction)可不小於約20%。該黏合劑對該複數個粒子的一重量比可不小於約1:2。
該濾光片可包括一保護層。該濾光片可包括一密封劑層。
圖1B展示實例物品10b的側向截面圖。物品10b可包括基材12、波長選擇散射層14、及一反射層16。雖然在物品10b中反射層16係展示為介於波長選擇散射層14與基材12之間,在實例中,物品10b可不包括基材12,且波長選擇散射層可設置在反射層16上。在實例中,基材12可例如在一主要表面處或在基材12的內部內包括反射層16。在實例中,反射層16可設置在基材12的下方。在實例中,反射層16可設置在基材12的上方。在實例中,反射層16可係有孔的。在實例中,物品10b可反射少於50%的可見光並透射多於50%的近紅外光。在實例中,反射層16可具波長選擇性(例如僅反射經選擇的波長)。反射層16可包括一多層光學膜、一二色性反射體、一干涉膜、一無機多層堆疊、一金屬介電質堆疊、一經拋光的基材、一鏡面、一反射偏振片、或一反射表面(例如一反射金屬或玻璃表面)。在實例中,物品10b可包括一染料層(未圖示),該染料層在反射層與波長選擇散射層14之間、或在波長選擇散射層14上方、或在物品10b中經定位相鄰於任何層。該染料層可包括一光譜選擇性染料(spectrally selective dye),其在近紅外光中可係透射或清透的,且 在可見光中係中性的,使得其減少反射層16的可見光反射。在實例中,該染料層可具有至少30%、50%、70%、或90%的吸收率。在實例中,該染料層可係有色的,使得其具有一可見顏色同時在近紅外光中仍係透射的。
圖1C展示實例物品10c的側向截面圖。物品10c可包括基材12及波長選擇散射層14。物品10c可選擇地包括反射層16、一受墨層(ink receptive layer)18、一印刷圖案層22、及一保護層24的一或多者,如圖1C所示。雖然圖1C展示物品10c中之層的一具體配置,但是可以任何合適的組態重新配置各別層。例如,當反射層16存在時,可省略基材12。保護層24可包括一密封劑層。在實例中,墨水圖案層22包括一墨水或顏料的印刷圖案,其可沉積在受墨層18上。在實例中,可省略該受墨層,且墨水圖案層22可沉積在波長選擇散射層14上。在實例中,保護層24可設置在墨水圖案層22與波長選擇散射層14之間。在實例中,可設置兩個保護層24,一個保護層在墨水圖案層22上方,而另一保護層相鄰於波長選擇散射層14。
圖1D展示實例物品10d的側向截面圖。物品10d可包括基材12、波長選擇散射層14、一第一密封劑層26、及一第二密封劑層28。第一密封劑層26及第二密封劑層28的一或兩者可包括一乳膠塗料。各別的密封劑層可例如藉由防止或減少濕氣或其他反應物或崩解佐劑(disintegrant)的侵入來保護波長選擇散射層14的完整性。各別的密封劑層亦可提供結構支撐及物理穩定性給波長選擇散射層14。例如,第一密封劑層26及第二密封劑28的一或兩者可允許波長選擇 散射層14自一製造基材剝離或移除、接著再經運送並施加在一產品基材上方(例如在基材12上方)。
圖1E展示實例物品10e的側向截面圖。物品10e可包括基材12;波長選擇散射層14,其相鄰於基材12;及一墨水圖案層24,其沉積在波長選擇散射層14上。可將包括各別的感測器區段32a、32b、32c、及32d之一感測器層32設置為相鄰於基材12。在實例中,可省略基材12,且波長選擇散射層14可沉積在感測器層32上。在實例中,波長選擇散射層14可包括各別的選擇散射區段14a、14b、14c、及14d,其等可與各別的感測器區段32a、32b、32c、及32d對準。可省略該等選擇散射區段的一或多者,使得波長選擇散射層14可包括至少一穿孔,該至少一穿孔可與各別的感測器區段的至少一者對準。因此,可藉由改變近紅外光散射比率、可見光霧度比率、或其他光學性質來調諧不同的選擇散射區段,其可改善與各別的選擇散射區段對準之感測器區段的效能。雖然在圖1E的波長散射層14及感測器層32中展示四個區段,但是在實例中,波長散射層14及感測器層32可具有任何合適數目個區段。雖然在圖1E的實例中說明感測器層32,但是在實例中,物品10e可包括光源32a、32b、32c、及32d,而非感測器區段。
雖然圖1A至圖1E將各別物品10a至物品10e圖示為包括平坦層,但是在各種實例中,物品10a至物品10e可呈現任何合適的形狀、周緣、或截面,且物品10a至物品10e中的層可呈現一規則曲度、不規則曲度、或複合式曲度,或者在不同區域中可呈現平坦 或彎曲的幾何,或者在層或物品10a至物品10e下方以其他方式順應一基材的輪廓。例如,物品10a至物品10e可呈現一半球狀或透鏡狀的形狀。
圖2A至圖2E係包括一濾光片之實例光學系統的概念示意圖。圖2A係包括一濾光片10及一光接收器40之一實例光學系統的概念示意圖。在實例中,光接收器40可包括一光感測器、攝影機、CCD、或經組態以感測至少一預定波長區域的光的任何其他感測器。例如,光接收器40可包括一近紅外光感測器。在實例中,光接收器40可包括一物體,其接收光(例如一太陽能電池);或一物體,其至少部分地吸收入射光(例如一太陽能加熱器);或任何其他物體,其接收光。濾光片10可包括實例濾光片的任一者,該濾光片包括一波長選擇散射層,如上文參照圖1A至圖1E所討論者;或本揭露中所述之其他實例濾光片。如圖2A所示,濾光片10可設置為相鄰於光接收器40。一入射近紅外光射線42a可包括一近紅外光波長,並可實質上透射通過濾光片10至光接收器40。一入射可見光射線44a可包括一可見光波長,並可實質上被濾光片10反射或散射,使得至少部分地屏蔽光接收器40免於可見光射線44a,同時至少部分地接收近紅外光射線42a。在實例中,可藉由濾光片10實質上或完全地屏蔽該光接收器免於可見光射線44a,且該光接收器可接收實質上全部的近紅外光射線42a。
圖2B係包括濾光片10、光接收器40、一光發射器46、及一物體48之一實例光學系統的概念示意圖。在實例中,光發射 器46可包括具有任何合適波長的一光源或電磁輻射源,包括可見光、近紅外光、或紫外光波長。在實例中,光發射器46可包括一燈泡、一白熾光源、小型螢光燈、LED、一光導、或者任何自然光源或人造光源。在實例中,光發射器46可不產生光,並可僅反射或透射由一光源所產生的光。濾光片10可設置在光接收器40與物體48之間。該光發射器可設置在與光接收器40相同之濾光片10的一側上。由光發射器46透射之一近紅外光射線42b可包括一近紅外光波長,並可實質上透射通過濾光片10至物體48。射線42b可被物體48往回反射,並可藉由物體48的光學性質來修改經反射的射線。經反射的射線42可實質上透射通過濾光片10至光接收器40。一入射可見光射線44b可包括一可見光波長,並可實質上被濾光片10來反射或散射,使得至少部分地屏蔽光接收器40與光發射器46的一或兩者免於可見光射線44a。在實例中,可藉由濾光片10實質上或完全地屏蔽該光接收器免於可見光射線44b,且該光接收器可接收實質上全部的近紅外光射線42b。
圖2C係包括濾光片10、光接收器40、及物體48之一實例光學系統的概念示意圖。濾光片10可設置在光接收器40與物體48之間。一入射近紅外光射線42c可包括一近紅外光波長,並可實質上透射通過物體48及濾光片10至光接收器40。一入射可見光射線44c可包括一可見光波長,並可實質上被濾光片10反射或散射,使得至少部分地屏蔽光接收器40免於可見光射線44c,同時至少部分地接收近紅外光射線42c。在實例中,可藉由濾光片10實質上或完全地屏 蔽光接收器40免於可見光射線44c,且該光接收器可接收實質上全部的近紅外光射線42c。
圖2D係包括濾光片10及光接收器40之一實例光學系統的概念示意圖。濾光片10可設置為相鄰於光接收器40。一入射近紅外光射線42d可包括一近紅外光波長,並可實質上經反射離開濾光片10至光接收器40。一入射可見光射線44d可包括一可見光波長,並可實質上被濾光片10反射或散射,使得光接收器40至少部分地接收可見光射線44d,同時至少部分地接收近紅外光射線42d。
圖2E係包括濾光片10、光接收器40、及光發射器46之一實例光學系統的概念示意圖。濾光片10可設置在光發射器46與光接收器40之間。自光發射器46透射之一近紅外光射線42e可包括一近紅外光波長,並可實質上透射通過濾光片10至光接收器40。一入射可見光射線44e可包括一可見光波長,並可實質上被濾光片10反射或散射,使得至少部分地屏蔽光發射器46免於可見光射線44e。在實例中,可藉由濾光片10實質上或完全地屏蔽光發射器46免於可見光射線44e。雖然在圖2E的實例光學系統中敘述光接收器40,但是在實例中,圖2E的實例光學系統可不包括一光接收器40。例如,該實例光學系統可包括光發射器46及濾光片10,且濾光片10可掩蓋光發射器46避免光發射器46的外觀可見。
在實例中,濾光片10可包括至少一個可移除或可重新定位層,或者作為一整體之濾光片10可係可移除或可重新定位的,使得其可相對於濾光片10下方或與濾光片10相鄰之一基材予以移除或 重新定位。在實例中,濾光片10的周緣可延伸超出光發射器46或光接收器40之一或兩者的周緣,或者濾光片10之一主要表面的面積可大於或小於光發射器46或光接收器40之一或兩者的一表面積。在實例中,濾光片10可經組態以藉由該濾光片屏蔽其他組件來避免其等被肉眼察覺而偽裝該等組件(例如電子設備、電路系統、基材、感測器、傳輸器)。在實例中,多於一個光發射器46或光接收器40(例如一陣列)可定位為相鄰於濾光片10。在實例中,光發射器46或光接收器40的一或兩者可相對遠離濾光片10(例如,至少相離1cm、或相離10cm、或相離1m、或相離10m、或相離100m、或相離1km、或者甚至離得更遠)。雖然在圖2A至圖2E圖示用於光之一直接路徑(例如,介於光發射器46及光接收器40之一或兩者與濾光片10之間),但是在實例中,介於光發射器46及光接收器40之一或兩者與濾光片10之間的光可遵循間接路徑,包括經光學引導的路徑、反射路徑、或包括光學操控(包括折射或濾光)的路徑、或者行進通過不同光學介質的路徑。
因此,在實例中,濾光片10可經組態以至少部分地屏蔽光接收器40免於可見光波長,同時實質上允許光接收器40接收近紅外光波長。在實例中,濾光片10可經組態以例如藉由散射可見光波長來偽裝光接收器40或光發射器46的一或兩者免於被肉眼察覺。
圖3A至圖3D係一實例系統的示意圖,該系統包括一實例濾光片及一電子顯示器,該顯示器顯示一肉眼可察覺的圖案及一不可見的近紅外光圖案。由於成像感測器(例如電荷耦合裝置 (CCD))偵測近紅外光區域,所以將可產生包括一可見的反射圖像之一標誌。該標誌可掩蓋可由攝影機偵測之一不可見的影像。例如,該影像可包括一預定圖案,其編碼一訊號或資訊(例如一條碼、一2D條碼、或一QR碼)。QR碼的實體大小可限制其等可含有的資訊量。然而,在不混雜或危及該可見圖像的情況下,一不可見的QR碼實體上可與該標誌一樣大。在一實例中,一電子顯示器60可能夠同時顯示掩蓋在顯示器60後方的各別可見光發射器及近紅外光發射器所發射的可見光圖案與近紅外光圖案。可用上文參照圖1A至圖1E所述之一實例濾光片覆蓋電子顯示器60。例如,電子顯示器60可同時顯示一可見圖案62以及一不可見的近紅外光圖案64,如圖3B所示。圖案62可包括一相對較小的QR碼或具有一相對較小的顯示器佔用面積之其他標記,而圖案64可包括一相對較大的QR碼或具有一相對較大的佔用面積之其他標記。由於可見光波長被該濾光片(未圖示)反射或散射,所以圖案62可係可見的。如圖3A中所見,僅圖案62可被肉眼察覺,且圖案64可保持無法被肉眼察覺,同時在近紅外光波長中以相對高的清晰度呈現。能夠感測近紅外光波長之一攝影機可因此以足夠的解析度(例如以足以解碼可內含於圖案64中之資訊的一解析度)感測圖案64。在圖3C所示之實例中,在顯示器60上僅一預定圖案可被肉眼察覺,而僅可藉由一近紅外光攝影機偵測之一不可見的近紅外光圖案可同時顯示在顯示器60上,如圖3D所示。因此,在3A及3B與3C及3D之各別的實例系統中,一實例濾光片可用於掩蓋或偽裝一近紅外光圖案源,同時僅暴露一預定的可見圖案。在一些實例中,不可 見的近紅外光圖案64可用於編碼受掩蓋的資訊,而肉眼可察覺的圖案62可用於呈現肉眼可察覺的資訊或至少可經編碼但在經編碼時係肉眼可察覺的資訊。例如,圖案62可編碼一第一組資訊(例如一網站),而圖案64可編碼一第二組資訊(例如顯示器60的一位置)。在實例中,電子顯示器60可顯示一可見圖案、一不可見圖案、或兩者。在實例中,電子顯示器60可顯示多個圖案。在實例中,該電子顯示器可顯示靜態圖案或動態圖案。因此,實例濾光片可提供具有高清晰度近紅外光透射的偽裝。
圖4係一實例技術的流程圖。該實例技術可包括將一濾光片10設置為相鄰於光發射器46或光接收器40的一或兩者(52)。濾光片10包括一波長選擇散射層,如上文參照圖1A至圖1E及圖2A至圖2E所討論者。該實例技術可選地進一步包括將反射層16設置在濾光片10與光發射器46或光接收器40的一或兩者之間(54)。濾光片10可選地偽裝光發射器46或光接收器40的一或兩者(56)。濾光片10可選地至少部分地屏蔽該光發射器或該光接收器的一或兩者免於可見光波長(58)。
因此,根據本揭露之實例系統、物品、及技術可包括實例光學物品,其包括實例波長選擇散射層,該等波長選擇散射層以相對高的清晰度透射近紅外光同時減少可見光波長的透射(例如藉由選擇性散射或反射可見光波長)。
根據本揭露提供之實例物品及技術將藉由下列的非限制性實例來說明。
表1中可商購的材料及設備係用於製備樣本及進行實驗。
粒子及顏料大小測量方法
樣本的粒度分布係判定如下。以體積比1:1000至1:10000使用2-丁酮或MEK稀釋樣本。使用Zetasizer Nano ZS測量粒度分布。基於動態光散射報告Z均平均大小及PDI(多分散性指數)資料。Z均(Zavg)大小係如ISO 13321及ISO 22412中所定義的累積量分析中之諧波強度平均化流體動力粒徑。PDI係自0至1之指示大小分布的一無因次數,該大小分布係由與如ISO標準文件13321:1996 E及ISO 22412:2008中所定義的關聯資料之簡單的2參數適配所計算得到的。
使用動態雷射光散射(DLS)測量用於顏料分散體的粒度。Microlith藍色顏料的折射率係在文獻(Liu等人J.Phys.D.Appl. Phys.37(2004)第678頁至第688頁中報告,而金屬偶氮染料族的折射率則在文獻(Huang等人Chin.Phys.Lett.20(2003)第2259頁至第2261頁中報告。折射率的虛數部分係針對Microlith藍色顏料在Liu等人中報告。折射率的虛數部分係針對金屬偶氮顏料族在Huang等人中報告。
光學性質測量方法
判定用於樣本的光學性質。使用霧度計(HAZE-GARD PLUS,BYK-Gardner)針對樣本判定透射率、霧度、及清晰度。霧度係定義為漫射可見光透射對總可見光透射的一比率,表示為百分率(比率*100)。使用分光計(Hunterlab Ultrascan Pro)測量總可見光及漫射可見光(400至700nm)以及NIR(800至1000nm)的透射。1000至1050nm之間的資料雜訊太多,且並未用於計算。
940nm下的NIR散射係定義為漫射透射除以940nm下的總透射。
940nm下的NIR散射比率係藉由將940nm下的NIR散射乘以100除以可見光透射霧度來判定。可見光透射霧度係根據ASTM D 1003及ISO/DIS 14782藉由BYK Haze-gard plus來進行測量。
平均NIR散射800至1000nm係定義為在800nm與1000nm之間的各波長處的NIR散射,並接著取彼等波長下之NIR散射的平均值。
NIR散射比率800至1000nm係藉由將平均NIR散射800至1000nm乘以100除以可見光透射霧度來判定。可見光透射霧度係根據ASTM D 1003及ISO/DIS 14782藉由BYK HAZE-GARD PLUS來進行測量。
可見光反射霧度比率係平均可見光漫反射率對平均可見光總反射率的一比率。
針對樣本所判定的額外光學性質包括測量包括鏡面反射光譜(SPIN)及排除鏡面反射光譜(SPEX)。此等測量係以Ultra Scan Pro分光計(Hunterlab,Reston,VA)作成,且係Hunterlab軟體所包括的標準測量選項。由SPIN及SPEX測量來計算漫反射光譜及眩光反射光譜,其中漫反射光譜係SPEX,且眩光反射光譜係SPIN減去SPEX。表4基於漫射及眩光光譜報告L、a、及b的值。所計算的漫反射光譜及眩光反射光譜係用以根據CIE 1931色彩空間計算X、Y、及Z值,隨後使用已知的Hunter Lab方法計算值L、a、及b。變量L關聯於亮度,其中0係黒色而100係白色。變量a關聯於與相反色紅色及綠色,其中正值更紅而負值更綠。變量b關聯於與相反色藍色及黃色,其中正值更藍而負值更黃。
用於X1296之黏著劑合成方法
一基礎黏著劑配方係製備如下。將40g丙烯酸2-乙基己酯、40克丙烯酸丁酯、15克丙烯酸羥乙酯、5克丙烯醯胺、克熱起始劑Vazo52、0.08克Karenx MT PE1、及60克MEK加入一反應器 容器。以氮氣噴灑(sparge)此容器5分鐘,並密封容器,而後置放在60℃的攪拌水浴中20小時。所產生的溶液聚合物接著經冷卻、以空氣噴灑10分鐘、並將0.3克甲基丙烯酸異氰基乙酯加至容器。再次將容器密封並加熱至50℃達12小時,以使IEM與所形成的丙烯酸聚合物上側接OH官能性進行反應。在此官能基化之後,將0.4克Irgacure-184及8克CN983加至容器並混合1小時。
實例1
如下述般製備樣本光學膜S01。藉由混合19.13克M1192、3.38克CN9018、2.5克Tospearl 145、12.5克SR415、12.5克42.3wt%的UV30 TITAN L-530於IBOA中、25克MEK、及0.5克TPO-L來製備一配方。將所得配方以#8 Mayer棒塗佈在可購自3M(St.Paul,MN)之ESR2膜上。所得膜係使用用於其他樣本的一基膜,其後並稱為基膜。實例1的樣本S01係以基膜製備,其中波長選擇散射層包括TiO2奈米粒子及二氧化矽微粒。
用於S01的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。
實例2
如下述般製備樣本光學膜S02。將Microlith®洋紅色4500J洋紅色顏料分散於MEK中,以產生10wt%的分散體。顏料分散體的粒度係使用Malvern Nano ZS藉由動態光散射測量,且Zavg係 140nm。一塗佈溶液係以1份所得分散體製備,並與2份X1296黏著劑溶液結合。使用#20 Meyer棒將塗佈溶液塗佈在清透PET上。塗層經乾燥,並將一離型襯墊施加至塗層以保護塗層。
用於S01的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。另外,測得的透射光譜顯示選擇性可見光吸收及高IR透射。
實例3
如下述般製備樣本光學膜S03。將實施例2中製作的塗佈溶液塗佈在實例1所述的基膜上。該具顏料的黏著劑溶液芯吸至散射ULI層。塗層經乾燥,並將一離型襯墊施加至塗層以保護塗層。
用於S03的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。測得的透射光譜顯示選擇性的一些可見光吸收、可見光散射、及IR透射。可見光透射霧度係16.7%。較高的可見光霧度來自實例1所述之ULI結構之増加的漫射散射。
實例4
如下述般製備樣本光學膜S04。將Microlith®洋紅色4500J洋紅色顏料分散於MEK中,以產生10wt%的分散體。顏料分散體的粒度係使用Malvern Nano ZS藉由動態光散射測量,且Zavg係140nm。一塗佈溶液係以1份所得分散體製備,並與2份Paraloid B66於MEK中之40wt%溶液結合。使用#20 Meyer棒將所得塗佈溶液塗佈在清透PET上。塗層經乾燥。
用於S04的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。測得的透射光譜顯示選擇性可見光吸收及高IR透射。可見光透射霧度係7.9%。
實例5
如下述般製備樣本光學膜S04。將Microlith®藍色7080KJ顏料分散於MEK中,以產生10wt%的分散體。顏料分散體的粒度係使用Malvern Nano ZS藉由動態光散射測量,且Zavg係200nm。一塗佈溶液係以1份所得分散體製備,並與2份Paraloid B66於MEK中之40wt%溶液結合。使用#20 Meyer棒將所得塗佈溶液塗佈在清透PET上。塗層經乾燥。
用於S05的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。測得的透射光譜顯示延伸至多~800nm之強可見光吸收(綠色及紅色波長)及高NIR透射。可見光透射霧度係2.2%。用於Microlith藍色顏料之折射率的虛數部分係大於0.1並小於1。實例5係關於圖9及圖10,其中折射率的虛數部分係在可見光譜內。
實例6
如下述般製備樣本光學膜S06。Orasol Black X55,染料係以20wt%溶解於MEK中。將一份染料溶液與2份40wt%的 Paraloid B66溶液於MEK中混合。使用#30 Meyer棒將所得塗佈溶液塗佈在清透PET上。塗層經乾燥,並將一離型襯墊施加至塗層以保護塗層。
用於S06的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。測得的透射光譜顯示跨所有可見光波長之強可見光吸收及高NIR透射。用於金屬偶氮染料族的折射率的虛數部分係小於10。實例6係關於圖5及圖8,其中折射率的虛數部分係在可見光譜內。
實例7
如下述般製備樣本光學膜S07。Orasol Black X55,染料係以20wt%溶解於MEK中。將一份染料溶液與2份X1296黏著劑溶液混合,以形成含有6.66wt%之Orasol black X55染料的一塗佈溶液。使用#20 Meyer棒將所得塗佈溶液塗佈在實例1中所製備的膜上。塗層經乾燥,並將一離型襯墊施加至塗層以保護塗層。
用於S06的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。測得的透射光譜顯示跨所有可見光波長之強可見光吸收及高NIR透射。用於金屬偶氮染料族的折射率的虛數部分係小於10。實例7係關於圖5及圖8,其中折射率的虛數部分係在可見光譜內。
實例8
實例8包括樣本S08至S011,其中使用Mimaki UJF-3042HG UV噴墨印表機(Mimaki,Tomi,Japan)在實例1的基膜上印刷正方形色塊。將清透乙烯基9097(3M,St.Paul,MN)過層壓體施加至樣本之各者。如上述般製備樣本光學膜S08,其中墨水顏色係四原色黑。如上述般製備樣本光學膜S09,其中墨水顏色係黃色。如上述般製備樣本光學膜S10,其中墨水顏色係洋紅色。如上述般製備樣本光學膜S11,其中墨水顏色係青色。
用於S08至S11的光學性質係以表2所述的性質基於光學性質測量方法判定。
實例9
如下述般製備樣本光學膜S12至S18。藉由將按重量為7%的CAP 504-0.2及按重量為93%的DowanolTM PM混合來製備一載體層。藉由將按重量為3.5%的CAB 381-20、按重量為1.5%的PFC 105 TiO2、及按重量為95%的DowanolTM PM混合來製備一散射層。藉由將按重量為6.99%的CAB 381-20、按重量為0.007%的BYK 333、按重量為0.007%的Tinuvin 123、及按重量為93%的DowanolTM PM混合來製備一保護層。使用3層滑動模並行地塗佈載體層、散射層、及保護層。以每分鐘80克塗佈載體層,其在乾燥時係大約0.33μm。散射層係針對S12至S18自每分鐘60克變化至每分鐘200克,其係大約0.17至0.55um的乾燥厚度。以每分鐘230克塗佈保護層, 其係大約1.0μm的乾燥厚度。塗佈期間的帶材速度係每分鐘150英呎。塗佈後,以140 F及160 F在多區烘箱中使層乾燥。
用於S12至S18的光學性質係以表3及表4所述的性質基於光學性質測量方法判定。實例9的複數個粒子在可見光譜中具有小於10-7之折射率的虛數部分。實施例9係關於圖6及圖7。
實例10
如下述般製備樣本光學膜S19。藉由將按重量為7%的CAP 504-0.2及按重量為93%的DowanolTM PM混合來製備一載體層。藉由將按重量為3.5%的CAB 381-20、按重量為1.5%的Kronos 2160 TiO2、及按重量為95%的DowanolTM PM混合來製備一散射層。藉由將按重量為6.99%的CAB 381-20、按重量為0.007%的BYK 333、按重量為0.007%的Tinuvin 123、及按重量為93%的DowanolTM PM混合來製備一保護層。使用3層滑動模並行地塗佈載體層、散射層、及保護層。以每分鐘80克塗佈載體層,其在乾燥時係大約0.33μm。以每分鐘210克塗佈散射層,其係大約0.58μm的乾燥厚度。以每分鐘230克塗佈保護層,其係大約1.0μm的乾燥厚度。塗佈期間的帶材速度係每分鐘150英呎。塗佈後,以140 F及160 F在多區烘箱中使層乾燥。
用於S19的光學性質係以表3及表4所述的性質基於光學性質測量方法判定。實例10的複數個粒子在可見光譜中具有小於10-7之折射率的虛數部分。實施例10係關於圖6及圖7。
以下為本揭露之例示性實施例:
項目1. 一種系統,其包含:一光發射器或一光接收器的一或兩者;及一濾光片,其相鄰於該光發射器或該光接收器之一或兩者,其中該濾光片包含一波長選擇散射層,其中該波長選擇散射層包含複數個粒子,其中該波長選擇散射層具有小於約0.9的一近紅外光散射比率,該近紅外光散射比率係一平均近紅外光散射對一平均可見光霧度的一比率, 其中該波長選擇散射層具有大於約0.1的一可見反射霧度比率,該可見光反射霧度比率係一平均可見光漫反射率對一平均可見光總反射率的一比率,且其中該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
項目2. 如項目1之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.6的一近紅外光散射比率。
項目3. 如項目1之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.4的一近紅外光散射比率。
項目4. 如項目1至3中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有大於約0.3的一可見光反射霧度比率。
項目5. 如項目1至3中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有大於約0.5的一可見光反射霧度比率。
項目6. 如項目1至5中任一項之系統,其中該複數個粒子具有小於10-7的一虛折射率。
項目7. 如項目1至5中任一項之系統,其中該複數個粒子具有介於10與10-1之間的一虛折射率。
項目8. 如項目1至7中任一項之系統,其中該複數個粒子包括TiO2、無機顏料、或有機顏料。
項目9. 如項目1至8中任一項之系統,其中該波長選擇散射層包含一光學介質,該光學介質包括一聚合物一經塗佈聚合物、一熱塑性聚合物、或一黏著劑。
項目10. 如項目1至9中任一項之系統,其中該波長選擇散射層包含一可印刷墨水。
項目11. 如項目1至9中任一項之系統,其中該波長選擇散射層包含染料。
項目12. 如項目1至9中任一項之系統,其中該濾光片包含一保護層。
項目13. 如項目1至9中任一項之系統,其中該濾光片包含一密封劑層。
項目14. 如項目1至11中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.5的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目15. 如項目1至11中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.2的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目16. 如項目1至11中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.1的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目17. 如項目1至11中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.05的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目18. 如項目1至11中任一項之系統,其中該波長選擇散射層具有小於約0.02的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目19. 一種物品,其包含:一濾光片,其中該濾光片包含一波長選擇散射層,其中該波長選擇散射層包含複數個粒子,其中該波長選擇散射層具有小於約0.9的一近紅外光散射比率,該近紅外光散射比率係一平均近紅外光散射對一平均可見光霧度的一比率,其中該波長選擇散射層具有大於約0.1的一可見反射霧度比率,該可見光反射霧度比率係一平均可見光漫反射率對一平均可見光總反射率的一比率,其中該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
項目20. 如項目19之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.6的一近紅外光散射比率。
項目21. 如項目19之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.4的一近紅外光散射比率。
項目22. 如項目19至21中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有大於約0.3的一可見光反射霧度比率。
項目23. 如項目19至21中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有大於約0.5的一可見光反射霧度比率。
項目24. 如項目19至21中任一項之物品,其中該複數個粒子具有小於10-7的一虛折射率。
項目25. 如項目19至21中任一項之物品,其中該複數個粒子具有介於10與10-1之間的一虛折射率。
項目26. 如項目19至21中任一項之物品,其中該複數個粒子包括TiO2、無機顏料、或有機顏料。
項目27. 如項目19至26中任一項之物品,其中該波長選擇散射層包含一光學介質,該光學介質包括一聚合物一經塗佈聚合物、一熱塑性聚合物、或一黏著劑。
項目28. 如項目19至27中任一項之物品,其中該散射層包含一可印刷墨水。
項目29. 如項目19至27中任一項之物品,其中該散射層包含染料。
項目30. 如項目19至29中任一項之物品,其中該濾光片包含一保護層。
項目31. 如項目19至29中任一項之物品,其中該濾光片包含一密封劑層。
項目32. 如項目19至29中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.5的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目33. 如項目19至29中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.2的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目34. 如項目19至29中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.1的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目35. 如項目19至29中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.05的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目36. 如項目19至29中任一項之物品,其中該波長選擇散射層具有小於約0.02的一平均近紅外光透射散射,其中一近紅外光範圍係自800nm至1000nm。
項目37. 如項目19之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖5之線[0.9線]下方的一區域。
項目38. 如項目19之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖5之線[0.6線]下方的一區域。
項目39. 如項目19之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折 射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖5之線[0.4線]下方的一區域。
項目40. 如項目24之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖6之線[0.9線]下方的一區域。
項目41. 如項目24之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖6之線[0.6線]下方的一區域。
項目42. 如項目24之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖6之線[0.4線]下方的一區域。
項目43. 如項目25之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖9之線[0.9線]下方的一區域。
項目44. 如項目25之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖9之線[0.6線]下方的一區域。
項目45. 如項目25之物品,其中該波長選擇散射層包含具有一第一折射率之一光學介質,其中該複數個粒子具有一第二折射率,其中該複數個粒子的一平均粒度、該第一折射率、及該第二折射率係選自圖9之線[0.4線]下方的一區域。
已描述了本發明的多種實施例。這些及其他實例係在以下申請專利範圍的範疇內。
Claims (10)
- 一種系統,其包含:一光發射器或一光接收器的一或兩者;及一濾光片,其相鄰於該光發射器或該光接收器之一或兩者,其中該濾光片包含一波長選擇散射層,其中該波長選擇散射層包含複數個粒子,其中該波長選擇散射層具有小於約0.9的一近紅外光散射比率,該近紅外光散射比率係一平均近紅外光散射對一平均可見光霧度的一比率,其中該波長選擇散射層具有大於約0.1的一可見反射霧度比率,該可見光反射霧度比率係一平均可見光漫反射率對一平均可見光總反射率的一比率,且其中該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
- 如請求項1之系統,其中該複數個粒子具有介於10與10 -1之間的一虛折射率。
- 如請求項1之系統,其中該複數個粒子包括TiO 2、無機顏料、或有機顏料。
- 如請求項1之系統,其中該波長選擇散射層包含一可印刷墨水。
- 如請求項1之系統,其中該波長選擇散射層包含染料。
- 一種物品,其包含:一濾光片,其中該濾光片包含一波長選擇散射層, 其中該波長選擇散射層包含複數個粒子,其中該波長選擇散射層具有小於約0.9的一近紅外光散射比率,該近紅外光散射比率係一平均近紅外光散射對一平均可見光霧度的一比率,其中該波長選擇散射層具有大於約0.1的一可見反射霧度比率,該可見光反射霧度比率係一平均可見光漫反射率對一平均可見光總反射率的一比率,其中該複數個粒子具有小於10的一虛折射率。
- 如請求項6之物品,其中該複數個粒子具有介於10與10 -1之間的一虛折射率。
- 如請求項6之物品,其中該複數個粒子包括TiO 2、無機顏料、或有機顏料。
- 如請求項6之物品,其中該散射層包含一可印刷墨水。
- 如請求項6之物品,其中該散射層包含染料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201762537381P | 2017-07-26 | 2017-07-26 | |
| US62/537,381 | 2017-07-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201918733A true TW201918733A (zh) | 2019-05-16 |
Family
ID=65039532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107125603A TW201918733A (zh) | 2017-07-26 | 2018-07-25 | 偽裝濾光片 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11360248B2 (zh) |
| EP (1) | EP3658968B1 (zh) |
| JP (1) | JP7456927B2 (zh) |
| CN (1) | CN110892295B (zh) |
| TW (1) | TW201918733A (zh) |
| WO (1) | WO2019021222A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102626262B1 (ko) | 2016-01-21 | 2024-01-16 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학 위장 필터들 |
| JP2019507899A (ja) * | 2016-01-21 | 2019-03-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光学カモフラージュフィルター |
| US11543157B2 (en) * | 2019-10-31 | 2023-01-03 | Korea University Research And Business Foundation | Radiative cooling device and method of manufacturing the same |
| US11463167B1 (en) * | 2019-12-16 | 2022-10-04 | Facebook Technologies, Llc | IR transmissive visible-light barriers and devices including the same |
| WO2021187430A1 (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-23 | 日東電工株式会社 | 光学フィルタ、その製造方法および光学モジュール |
| US12196611B2 (en) * | 2022-03-30 | 2025-01-14 | Viavi Solutions Inc. | Concealment component for an optical sensor device |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MXPA06003820A (es) | 2003-10-09 | 2006-07-03 | Koninkl Philips Electronics Nv | Medio de almacenamiento optico de datos de apilado dual para registro de escritura unica. |
| US20060003239A1 (en) | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Cooper Terence A | Multilayer optical display device |
| JP4122010B2 (ja) | 2004-11-12 | 2008-07-23 | 東海光学株式会社 | 赤外線受発光部 |
| WO2006132048A1 (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Asahi Glass Company, Limited | 光拡散板とその製造方法 |
| JP5358793B2 (ja) * | 2008-08-20 | 2013-12-04 | 東海光学株式会社 | 赤外線通信用光学物品及びその製造方法並びに赤外線通信用受光部 |
| EP2419767A1 (en) * | 2009-04-15 | 2012-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Optical film |
| JP2012089593A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Tokai Kogaku Kk | 赤外線通信用光学物品及び赤外線通信用受光部 |
| EP2630527A1 (en) | 2010-10-20 | 2013-08-28 | 3M Innovative Properties Company | Wide band semi-specular mirror film incorporating nanovoided polymeric layer |
| US9057835B2 (en) * | 2011-06-06 | 2015-06-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating compositions that transmit infrared radiation and exhibit color stability and related coating systems |
| JP2014071295A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Tokai Kogaku Kk | 赤外線受発光用光学物品及び赤外線受発光部 |
| JP6020746B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-11-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| ES2703207T3 (es) * | 2014-04-10 | 2019-03-07 | Csem Centre Suisse Delectronique Et De Microtechnique Sa | Cubiertas de transmisión de infrarrojos |
| TWI532680B (zh) * | 2014-06-24 | 2016-05-11 | 奈星科技股份有限公司 | 光遮蔽體材料、光遮蔽結構及其製造方法 |
| US9823395B2 (en) * | 2014-10-17 | 2017-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer optical film having overlapping harmonics |
| WO2016117452A1 (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-28 | 旭硝子株式会社 | 光学装置および光学部材 |
| US10222629B2 (en) * | 2015-02-06 | 2019-03-05 | Corning Incorporated | Laser light illumination systems with speckle reduction and speckle reduction methods |
| US9958700B2 (en) * | 2015-07-30 | 2018-05-01 | Eastman Kodak Company | Optical modulator for laser speckle reduction |
| EP3380876B1 (en) | 2015-11-24 | 2024-02-07 | President and Fellows of Harvard College | Atomic layer deposition process for fabricating dielectric metasurfaces for wavelengths in the visible spectrum |
| JP2019032351A (ja) | 2015-12-25 | 2019-02-28 | Agc株式会社 | 光学フィルタおよび光学装置 |
| US20180059482A1 (en) * | 2016-08-30 | 2018-03-01 | Apple Inc. | Light Diffusers for Backlit Displays |
-
2018
- 2018-07-25 US US16/630,534 patent/US11360248B2/en active Active
- 2018-07-25 EP EP18838464.8A patent/EP3658968B1/en active Active
- 2018-07-25 TW TW107125603A patent/TW201918733A/zh unknown
- 2018-07-25 CN CN201880047261.5A patent/CN110892295B/zh active Active
- 2018-07-25 WO PCT/IB2018/055567 patent/WO2019021222A1/en not_active Ceased
- 2018-07-25 JP JP2020503700A patent/JP7456927B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3658968A4 (en) | 2021-03-31 |
| WO2019021222A1 (en) | 2019-01-31 |
| EP3658968A1 (en) | 2020-06-03 |
| US20210080632A1 (en) | 2021-03-18 |
| CN110892295B (zh) | 2022-09-02 |
| JP2020528574A (ja) | 2020-09-24 |
| CN110892295A (zh) | 2020-03-17 |
| US11360248B2 (en) | 2022-06-14 |
| EP3658968B1 (en) | 2024-08-28 |
| JP7456927B2 (ja) | 2024-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW201918733A (zh) | 偽裝濾光片 | |
| JP6920507B2 (ja) | 光学カモフラージュフィルター | |
| JP7738522B2 (ja) | 光学カモフラージュフィルター | |
| JP2020507129A (ja) | 色補償光学フィルター | |
| CN111316137B (zh) | 光学制品和包括光学制品的系统 | |
| JP7580271B2 (ja) | 光学フィルム及びそれを含むシステム |