TW201837615A - 電子束裝置及曝光方法、以及元件製造方法 - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017034200 | 2017-02-24 | ||
| JPJP2017-034200 | 2017-02-24 |
Publications (1)
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| TW201837615A true TW201837615A (zh) | 2018-10-16 |
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ID=63253835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| TW107106158A TW201837615A (zh) | 2017-02-24 | 2018-02-23 | 電子束裝置及曝光方法、以及元件製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TW201837615A (ja) |
| WO (1) | WO2018155542A1 (ja) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07254539A (ja) * | 1994-03-15 | 1995-10-03 | Toshiba Corp | 電子ビーム露光装置 |
| JPH1197331A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Canon Inc | 電子ビーム露光装置 |
| JP2005533365A (ja) * | 2001-11-07 | 2005-11-04 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | マスクレスの光子−電子スポット格子アレイ印刷装置 |
| NL2003304C2 (en) * | 2008-08-07 | 2010-09-14 | Ims Nanofabrication Ag | Compensation of dose inhomogeneity and image distortion. |
| US20120223245A1 (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-06 | John Bennett | Electron beam source system and method |
| JP5826566B2 (ja) * | 2011-09-01 | 2015-12-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP5963139B2 (ja) * | 2011-10-03 | 2016-08-03 | 株式会社Param | 電子ビーム描画方法および描画装置 |
-
2018
- 2018-02-22 WO PCT/JP2018/006405 patent/WO2018155542A1/ja not_active Ceased
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2018155542A1 (ja) | 2018-08-30 |
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