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TW201800744A - 缺陷檢查用攝影裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查方法及膜的製造方法 - Google Patents

缺陷檢查用攝影裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查方法及膜的製造方法

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TW201800744A
TW201800744A TW105141211A TW105141211A TW201800744A TW 201800744 A TW201800744 A TW 201800744A TW 105141211 A TW105141211 A TW 105141211A TW 105141211 A TW105141211 A TW 105141211A TW 201800744 A TW201800744 A TW 201800744A
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TW
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defect inspection
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area
photographing
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尾崎麻耶
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住友化學股份有限公司
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Abstract

提供可統合不同的檢查系列而削減檢查系列數之缺陷檢查用攝影裝置。本發明之一實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20，係用來檢查具有偏光特性的膜110的缺陷之攝影裝置，具備有：光照射手段21，係照射光至膜110的拍攝區域R；攝影手段22，係將膜110的拍攝區域R拍攝成二維影像；第一偏光濾光器231，以與膜110形成正交偏光狀態之形態配置於光照射手段21與膜110的拍攝區域R之間；以及搬送手段，係將膜110相對於光照射手段21、攝影手段22及偏光濾光器23往搬送方向Y相對地搬送，拍攝區域R包含沿搬送方向Y分割出的第一拍攝區域R1及第二拍攝區域R2，第一偏光濾光器231配置於光照射手段21與第一拍攝區域R1之間。

Description

缺陷檢查用攝影裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查方法及膜的製造方法
本發明係關於用來檢查膜(film)的缺陷之缺陷檢查用攝影裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查方法及膜的製造方法。
用來檢查出偏光膜及相位差膜等之光學膜、用於電池的隔離板(separator)之膜等的缺陷之缺陷檢查系統為已知的。此種缺陷檢查系統，係利用搬送手段搬送膜，且利用光照射手段照射光至膜的拍攝區域，並利用攝影手段拍攝膜的拍攝區域，再根據拍攝的影像進行缺陷檢查。採用此種缺陷檢查系統之缺陷檢查方法的種類，可大致區分為透射法及反射法。更詳言之，透射法有正透射法、正交偏光(crossed Nichol)透射法、透射散射法，反射法有正反射法、正交偏光(crossed Nichol)反射法、反射散射法。 專利文獻1中揭示了在透射法方面採用正透射法、透射散射法之缺陷檢查系統，在反射法方面採用正反射法、反射散射法之缺陷檢查系統，專利文獻2中揭示了在透射法方面採用正交偏光透射法之缺陷檢查系統。
舉例來說，正透射法適合用於由於在膜貼合工序中發生混入或附著所造成的黑色異物之檢出，正交偏光透射法適合用於由於在黏著材塗佈工序中發生混入或附著所造成的亮點之檢出，透射散射法適合用於由於在膜搬送工序中附著的異物所造成的傷痕經過轉印後形成的變形之檢出，另一方面，反射法(正反射法、正交偏光反射法、反射散射法)則是適合用於在貼合工序中封入的空氣所造成的氣泡之檢出。
[先前技術文獻] [專利文獻]
(專利文獻1)日本特開2012-167975號公報
(專利文獻2)日本特開2007-212442號公報
為了檢查出黑色異物、亮點、變形、氣泡這些不同種類的複數種缺陷，可考慮採用不同的複數種檢查方法(檢查系列)。然而，檢查系列數變多，導入成本及管理成本就會變高，所以希望能夠削減檢查系列數。
因此，本發明之目的在於提供可統合不同 的檢查系列而削減檢查系列數之缺陷檢查用攝影裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查方法及膜的製造方法。
本發明之缺陷檢查用攝影裝置，係用來檢查具有偏光特性的膜的缺陷之攝影裝置，具備有：光照射手段，係照射光至膜的拍攝區域；攝影手段，係將膜的拍攝區域拍攝成二維影像；第一偏光濾光器(filter)，係以與膜形成正交偏光(crossed Nichol)狀態或第一半正交偏光(half crossed Nichol)狀態之形態，配置於光照射手段與膜的拍攝區域之間，或膜的拍攝區域與攝影手段之間；以及搬送手段，係將膜相對於光照射手段、攝影手段及第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送；拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，第一偏光濾光器係配置於光照射手段與第一拍攝區域之間，或第一拍攝區域與攝影手段之間。
本發明之缺陷檢查用攝影方法，係使用具備有光照射手段、攝影手段、第一偏光濾光器、及搬送手段之缺陷檢查用攝影裝置，進行為了檢查具有偏光特性的膜的缺陷所需的攝影之攝影方法，包含：第一偏光濾光器配置程序，係將第一偏光濾光器(filter)以與膜形成正交偏光(crossed Nichol)狀態或第一半正交偏光(half crossed Nichol)狀態之形態配置於光照射手段與膜的拍攝區域之間，或膜的拍攝區域與攝影手段之間；搬送程序，係利用 搬送手段來將膜相對於光照射手段、攝影手段及第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送；光照射程序，係利用光照射手段照射光至膜的拍攝區域；以及攝影程序，係利用攝影手段將膜的拍攝區域拍攝成二維影像；拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，第一偏光濾光器配置程序係將第一偏光濾光器配置於光照射手段與第一拍攝區域之間，或第一拍攝區域與攝影手段之間。
此處，所謂的正交偏光狀態，係表示偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)實質地正交之狀態，亦即偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)以實質上90度之角度交叉之狀態。另一方面，所謂的半正交偏光狀態，係表示偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)並不是實質的正交而交叉之狀態，亦即偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)以實質上90度以外之角度交叉之狀態。
根據此缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法，因為例如第一偏光濾光器在光照射手段與第一拍攝區域之間，或第一拍攝區域與攝影手段之間配置成與膜形成正交偏光狀態，攝影手段將包含第一拍攝區域及第二拍攝區域之拍攝區域拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域的正交偏光透射檢查用影像(或正交偏光反射檢查用影像)，及第二拍攝區域的例如正透射檢查用影像(或正反射檢查用影像)。亦即，可統合正交偏光透射檢查 用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)及例如正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)。結果，就可統合正交偏光透射檢查系列(或正交偏光反射檢查系列)及例如正透射檢查系列(或正反射檢查系列)，而可削減檢查系列數。
上述的缺陷檢查用攝影裝置，可為將第一偏光濾光器配置於光照射手段與第一拍攝區域之間之形態。上述的缺陷檢查用攝影方法，可為在第一偏光濾光器配置程序中將第一偏光濾光器配置於光照射手段與第一拍攝區域之間之形態。
然而，正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)及例如正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)其適當的光的亮度值並不相同。
因此，上述的缺陷檢查用攝影裝置可為另外再具備有下述構件之形態：亮度調整手段，係用來調整照射至第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方，或透射第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方或者在第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
根據此形態，可利用亮度調整手段來調整照射至第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方，或透射第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方或者在第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的 亮度值，所以可在第一拍攝區域及第二拍攝區域的攝影設定適當的光的亮度值，可用與正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)及例如正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)對應之光的亮度值進行檢查。
上述的亮度調整手段可調整照射至第二拍攝區域或透射第二拍攝區域或者在第二拍攝區域反射之光的亮度值。
會有正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)的適當的光的亮度值較大，正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)的適當的光的亮度值較小之情況。即使在如此的情況，也只要如上述為亮度調整手段調整照射至第二拍攝區域或透射第二拍攝區域或者在第二拍攝區域反射之光的亮度值之形態，就可藉由例如從光照射手段輸出較大的亮度值之光，而使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)之照射至第一拍攝區域之光的亮度值變得較大，另外利用亮度調整手段來使得用於正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)之照射至第二拍攝區域或透射第二拍攝區域或在第二拍攝區域反射之光的亮度值變得較小。
上述的亮度調整手段可為配置於光照射手段與第二拍攝區域之間，或第二拍攝區域與攝影手段之間之衰減濾光器。
又，上述的亮度調整手段可配置於光照射手段，且個別地調整照射至第一拍攝區域之光的亮度值及照射至第二拍攝區域之光的亮度值。
上述的缺陷檢查用攝影裝置可為下述形態：第一偏光濾光器係與膜的第一拍攝區域形成正交偏光狀態，亮度調整手段係包含在光照射手段與第二拍攝區域之間，或在第二拍攝區域與攝影手段之間配置成與膜的第二拍攝區域形成第一半正交偏光狀態之第一亮度調整用偏光濾光器。
此處，本申請案的發明人等雖然得出了正透射法適合用於黑色異物的檢出，正交偏光透射法適合用於亮點的檢出之結論，但發現正交偏光透射法雖可檢查出強的亮點但較難檢查出一部分之較弱的亮點。關於此點，本申請案的發明人等發現：對於以正交偏光透射法難以檢查出之黑色異物或一部分之較弱的亮點，可採用半正交偏光透射法來進行檢查。
關於此點，根據本缺陷檢查用攝影裝置，第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)與膜的第二拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
又，上述的缺陷檢查用攝影裝置可為下述形態：第一偏光濾光器係與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，亮度調整手段係配置於光照射手段與第二拍攝區域之間，或第二拍攝區域與攝影手段之間之衰減濾 光器。
根據此缺陷檢查用攝影裝置，第一偏光濾光器與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述局部較弱的亮點之檢出。
又，上述的缺陷檢查用攝影裝置可為下述形態：第一偏光濾光器係與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，亮度調整手段係配置於光照射手段，且個別地調整照射至第一拍攝區域之光的亮度值及照射至第二拍攝區域之光的亮度值。
此缺陷檢查用攝影裝置也因為第一偏光濾光器係與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述局部較弱的亮點之檢出。
又，上述的缺陷檢查用攝影裝置可為下述形態：拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第三拍攝區域，亮度調整手段係包含有在光照射手段與第三拍攝區域之間，或第三拍攝區域與攝影手段之間配置成與膜的第三拍攝區域形成第二半正交偏光狀態之第二亮度調整用偏光濾光器，來調整照射至第三拍攝區域之光的亮度值。
根據此缺陷檢查用攝影裝置，第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)與膜的第二拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)與膜的第三拍攝區域形成第二半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述局部較弱的亮點之檢出。
又，上述的缺陷檢查用攝影裝置可為下述 形態：拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第三拍攝區域，且缺陷檢查用攝影裝置另外再具備有配置於光照射手段與第三拍攝區域之間、或第三拍攝區域與攝影手段之間，與膜的第三拍攝區域形成第二半正交偏光狀態之第二偏光濾光器。
根據此缺陷檢查用攝影裝置，第一偏光濾光器與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，第二偏光濾光器與膜的第三拍攝區域形成第二半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
又，上述的缺陷檢查用攝影裝置可為下述形態：第一偏光濾光器係與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，亮度調整手段係包含有在光照射手段與第二拍攝區域之間，或第二拍攝區域與攝影手段之間配置成與膜的第二拍攝區域形成第二半正交偏光狀態之第一亮度調整用偏光濾光器。
根據此缺陷檢查用攝影裝置，第一偏光濾光器與膜的第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)與膜的第二拍攝區域形成第二半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
本發明之另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置，係用來檢查不具有偏光特性的膜的缺陷之攝影裝置，具備有：光照射手段，係照射光至膜的拍攝區域；攝影手 段，係將膜的拍攝區域拍攝成二維影像；一對第一偏光濾光器(filter)，係以形成正交偏光(crossed Nichol)狀態或第一半正交偏光(half crossed Nichol)狀態之形態，分別配置於光照射手段與膜的拍攝區域之間，以及膜的拍攝區域與攝影手段之間；以及搬送手段，係將膜相對於光照射手段、攝影手段及一對第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送；拍攝區域係包含往搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，一對第一偏光濾光器係分別配置於光照射手段與第一拍攝區域之間，以及第一拍攝區域與攝影手段之間。
本發明之另一態樣的缺陷檢查用攝影方法，係使用具備有光照射手段、攝影手段、一對第一偏光濾光器、及搬送手段之缺陷檢查用攝影裝置，進行為了檢查不具有偏光特性的膜的缺陷所需的攝影之攝影方法，包含：第一偏光濾光器配置程序，係以形成正交偏光(crossed Nichol)狀態或第一半正交偏光(half crossed Nichol)狀態之形態，將一對第一偏光濾光器(filter)分別配置於光照射手段與膜的拍攝區域之間，以及膜的拍攝區域與攝影手段之間；搬送程序，係利用搬送手段來將膜相對於光照射手段、攝影手段及一對第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送；光照射程序，係利用光照射手段照射光至膜的拍攝區域；以及攝影程序，係利用攝影手段將膜的拍攝區域拍攝成二維影像；拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，第一偏光濾光器配置程序係將一對第一偏光濾光器分別配置於光照射手段與第一拍攝區域之 間，或第一拍攝區域與攝影手段之間。
根據此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法，因為例如一對第一偏光濾光器於光照射手段與第一拍攝區域之間，以及第一拍攝區域與攝影手段之間，分別以形成正交偏光狀態之方式配置，攝影手段將包含第一拍攝區域及第二拍攝區域之拍攝區域拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域的正交偏光透射檢查用影像(或正交偏光反射檢查用影像)，及第二拍攝區域的例如正透射檢查用影像(或正反射檢查用影像)。亦即，可統合正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)及例如正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)。結果，就可統合正交偏光透射檢查系列(或正交偏光反射檢查系列)及例如正透射檢查系列(或正反射檢查系列)，而可削減檢查系列數。
然而，如上述，正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)及例如正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)其適當的光的亮度值並不相同。
因此，上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置可為另外再具備有下述構件之形態：亮度調整手段，係用來調整照射至第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方，或透射第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方或者在第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
根據此形態，可利用亮度調整手段來調整照射至第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方，或透射第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方或者在第一拍攝區域及第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值，所以可在第一拍攝區域及第二拍攝區域的攝影設定適當的光的亮度值，可用與正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)及例如正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)對應之光的亮度值進行檢查。
上述的亮度調整手段可調整照射至第二拍攝區域或透射第二拍攝區域或者在第二拍攝區域反射之光的亮度值。
如上述，會有正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)的適當的光的亮度值較大，正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)的適當的光的亮度值較小之情況。即使在如此的情況，也只要如上述為亮度調整手段調整照射至第二拍攝區域或透射第二拍攝區域或者在第二拍攝區域反射之光的亮度值之形態，就可藉由例如從光照射手段輸出較大的亮度值之光，而使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列(或正交偏光反射檢查用攝影系列)之照射至第一拍攝區域之光的亮度值較大，另外利用亮度調整手段來使得用於正透射檢查用攝影系列(或正反射檢查用攝影系列)之照射至第二拍攝區域或透射第二拍攝區域或在第二拍攝區域反射之光的亮度 值較小。
上述的亮度調整手段可為配置於光照射手段與第二拍攝區域之間，或第二拍攝區域與攝影手段之間之衰減濾光器。
又，上述的亮度調整手段可配置於光照射手段，且個別地調整照射至第一拍攝區域之光的亮度值及照射至第二拍攝區域之光的亮度值。
上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置亦可為下述形態：一對第一偏光濾光器係形成正交偏光狀態，亮度調整手段係包含有以形成第一半正交偏光狀態之形態配置於光照射手段與第二拍攝區域之間，及第二拍攝區域與攝影手段之間之一對第一亮度調整用偏光濾光器。
根據此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置，一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
又，上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置亦可為下述形態：一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，亮度調整手段係配置於光照射手段與第二拍攝區域之間或第二拍攝區域與攝影手段之間之衰減濾光器。
根據此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置，一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，所以可 提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
又，上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置亦可為下述形態：一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，亮度調整手段係配置於光照射手段，且個別地調整照射至第一拍攝區域之光的亮度值及照射至第二拍攝區域之光的亮度值。
此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置也因為一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
又，上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置亦可為下述形態：拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第三拍攝區域，亮度調整手段係包含有以形成第二半正交偏光狀態之形態，配置於光照射手段與第三拍攝區域之間及第三拍攝區域與攝影手段之間之一對第二亮度調整用偏光濾光器，來調整照射至第三拍攝區域之光的亮度值。
根據此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置，一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)係形成第一半正交偏光狀態，一對第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)係形成第二半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述局部較弱的亮點之檢出。
又，上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置可為下述形態：拍攝區域係包含沿搬送方向分割出的第三拍攝區域，且缺陷檢查用攝影裝置另外再具備有以形成 第二半正交偏光狀態之形態分別配置於光照射手段與第三拍攝區域之間及第三拍攝區域與攝影手段之間之一對第二偏光濾光器。
根據此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置，一對第一偏光濾光器形成第一半正交偏光狀態，一對第二偏光濾光器形成第二半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
又，上述的另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置亦可為：一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，亮度調整手段係包含有以形成第二半正交偏光狀態之形態分別配置於光照射手段與第二拍攝區域之間及第二拍攝區域與攝影手段之間之一對第一亮度調整用偏光濾光器之形態。
根據此另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置，一對第一偏光濾光器形成第一半正交偏光狀態，一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)形成第二半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及上述一部分之較弱的亮點之檢出。
本發明之缺陷檢查系統係具備有：上述的缺陷檢查用攝影裝置或另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置；以及檢出部，係根據利用上述的缺陷檢查用攝影裝置或另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置而拍攝到的二維影像，來檢查出存在於膜中的缺陷。本發明之缺陷檢查方法係包含上述的缺陷檢查用攝影方法或另一態樣的缺陷檢查用攝影方 法，且包含根據採用上述的缺陷檢查用攝影方法或另一態樣的缺陷檢查用攝影裝置方法而拍攝到的二維影像，來檢查出存在於膜中的缺陷之缺陷檢出程序。
本發明之膜製造裝置，係具備有上述的缺陷檢查系統。本發明之膜的製造方法，係包含上述的缺陷檢查方法。
根據本發明，可在膜的缺陷檢查中統合不同的檢查系列而削減檢查系列數。
10、10A、10B、10C、10D、10E‧‧‧缺陷檢查系統
20、20A、20B、20C、20D、20E‧‧‧缺陷檢查用攝影裝置
21‧‧‧光源(光照射手段)
21A‧‧‧光源(亮度照射手段)
22‧‧‧面型感測器(攝影手段)
22a‧‧‧CCD或CMOS
22b‧‧‧透鏡
231、241‧‧‧第一偏光濾光器
232、242‧‧‧第二偏光濾光器
251、253‧‧‧第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)
252、254‧‧‧第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)
26‧‧‧衰減濾光器(亮度調整手段)
30‧‧‧影像分析部
40‧‧‧標記裝置
100‧‧‧製造裝置(膜製造裝置)
101、102、103‧‧‧原料捲筒
104、105‧‧‧貼合滾輪
106‧‧‧搬送滾輪
110‧‧‧膜
111‧‧‧偏光膜本體部
112‧‧‧附有分離式膜之黏著材
113‧‧‧表面保護膜
R‧‧‧拍攝區域
R0‧‧‧中間拍攝區域
R1‧‧‧第一拍攝區域
R2‧‧‧第二拍攝區域
R3‧‧‧第三拍攝區域
第1圖係顯示與本發明之一實施形態有關之膜的製造裝置及製造方法之圖。
第2圖係顯示與本發明之實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法之圖。
第3圖係顯示與本發明之第一實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第4圖係顯示與本發明之第二實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第5圖係顯示與本發明之第三實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第6圖係顯示與本發明之第四實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第7圖係顯示與本發明之第五實施形態有關之缺陷檢 查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第8圖係顯示與本發明之第六實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第9圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第10圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第11圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第12圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第13圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第14圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第15圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第16圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第17圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第18圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第19圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用 攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第20圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第21圖係顯示第二實施形態之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法的驗證結果之圖。
第22圖係顯示與本發明之實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法之圖。
第23圖係顯示與本發明之第七實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第24圖係顯示與本發明之第八實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第25圖係顯示與本發明之第九實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第26圖係顯示與本發明之第十實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第27圖係顯示與本發明之第十一實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第28圖係顯示與本發明之第十二實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第29圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第30圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第31圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用 攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第32圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第33圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第34圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第35圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第36圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第37圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第38圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第39圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第40圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第41圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第42圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第43圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用 攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第44圖係顯示與本發明之變形例有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第45圖係顯示第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法的驗證結果之圖。
以下，參照圖式來詳細說明本發明的較佳實施形態。各圖中相同或相當的部分都標以相同的符號。
與本發明的實施形態有關之膜的製造裝置及製造方法，係用來製造具有偏光特性的偏光膜(光學膜)、及不具有偏光特性的相位差膜(光學膜)及電池用隔離膜(separator film)等之裝置。第1圖顯示具有偏光特性之膜(偏光膜)的製造裝置及製造方法的一例，以下只就此進行說明，而省略不具有偏光特性的相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法之說明。
第1圖顯示的製造裝置(膜製造裝置)100，係首先在偏光鏡(polarizer)的主面兩側黏貼上保護膜，來產製出偏光膜本體部(光學膜本體部)111。接著，製造裝置100從原料捲筒101拉出於黏著材黏貼有可剝離膜(離型膜)之附有分離式膜(separate film)之黏著材112，並利用貼合滾輪104將附有分離式膜之黏著材112黏貼在偏光膜本體部111的一方的主面側。接著，製造裝置100從原料捲筒102拉出表面保護膜113，並利用貼合滾輪105將表面保護膜113黏貼在偏光膜本體部111的另一方的主面側，而產製 出具有偏光特性之膜110。然後，製造裝置100利用搬送滾輪106搬送所產製出的膜110且利用原料捲筒103將之捲收起來。
偏光膜本體部111中的偏光鏡的材料係為例如PVA(PolyvinylAlcohol，聚乙烯醇)等，偏光膜本體部111中的保護膜的材料係為例如TAC(Triacetylcellulose，三醋酸纖維)等。附有分離式膜之黏著材112中的分離式膜及表面保護膜113的材料係為例如PET(Polyethylene Terephthalate，聚對酞酸乙二酯)等。將分離式膜撕掉，就可藉由黏著材而將膜110黏貼在液晶面板或其他的光學膜等上。
又，製造裝置100係具備有：進行膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10、以及進行偏光膜本體部111的缺陷檢查之缺陷檢查系統10。因為此兩個缺陷檢查系統10相同，所以以下僅就進行膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10進行說明。
[第一實施形態]
與本發明之第一實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的具有偏光特性之膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法。第2圖係顯示與本發明之第一實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法之圖，第3圖係顯示與本發明之第一實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第2圖所示之缺陷檢查系統10係具備有缺陷檢查用攝影裝置20、影像分析部(檢出部)30、及標記(marking)裝置40，第3圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20係具備有光源(光照射手段)21、複數個面型感測器(area sensor)(攝影手段)22、及第一偏光濾光器231。第2及第3圖中都標示有XYZ正交座標系，X方向表示偏光膜的寬度方向，Y方向表示偏光膜的搬送方向。
本實施形態中，主要由第1圖所示之搬送滾輪106及原料捲筒103發揮作為搬送手段之機能。利用此等搬送手段，可將膜110往搬送方向Y相對於光源21、面型感測器22及第一偏光濾光器231相對地搬送。
光源21係設於膜110的另一方的主面側，照射光至膜110的拍攝區域R。舉例來說，光源21係在寬度方向X延伸之線狀的光源。
面型感測器22係配置於膜110的一方的主面側，係沿寬度方向X排列配置。面型感測器22包含CCD(Charge Coupled Device，電荷耦合元件)或CMOS(Complememtary Metal-Oxide-Semiconductor，互補式金屬氧化物半導體)22a及透鏡(lens)22b。面型感測器22係藉由感測透射過膜110之光，而以時間連續的之方式將膜110的拍攝區域R拍攝成二維影像。
各面型感測器22所拍攝到的二維影像的搬送方向Y的長度，最好為在從各面型感測器22拍攝了二維影像之後到拍攝下一個二維影像之區間搬送膜110的搬 送距離的至少兩倍以上。換言之，對於膜110的同一區域最好拍攝兩次以上。如此，使二維影像的搬送方向Y的長度比影像拍攝區間中的搬送距離大，使膜110的同一部分的拍攝數增加，就可高精度地檢查缺陷。
此處，拍攝區域R係包含沿搬送方向Y分割出的第一拍攝區域R1及第二拍攝區域R2。而且，拍攝區域R包含在第一拍攝區域R1與第二拍攝區域R2之間之中間拍攝區域R0。
第一偏光濾光器231係配置於光源21與膜110之間。具體而言，第一偏光濾光器231係配置於光源21與拍攝區域R的第一拍攝區域R1之間。在本實施形態中，第一偏光濾光器231係配置成讓搬送方向Y的拍攝區域R的一半從面型感測器22看不到(刀緣(knife edge))。而且，第一偏光濾光器231與膜110形成正交偏光狀態。此處，所謂的正交偏光狀態，係表示偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)實質地正交之狀態，亦即偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸以實質的90度之角度交叉之狀態。上述所謂的「實質的90度」係指例如85度以上不到95度，更佳者為90度。
如此，就可在第一拍攝區域R1拍攝正交偏光透射檢查用影像，在第二拍攝區域R2拍攝正透射檢查用影像，在中間拍攝區域R0拍攝透射散射檢查用影像。
影像分析部30，係根據來自面型感測器22之二維影像來檢查出膜110中存在的缺陷。影像分析部30 係根據二維影像的像素座標、與在影像拍攝間隔當中膜被搬送的距離，將二維影像上的座標位置轉換為膜110上的座標位置而產生缺陷位置資訊。影像分析部30根據缺陷位置資訊來合成與膜110的整個區域對應之影像而製作出缺陷圖(map)。
標記裝置40係根據來自影像分析部30之缺陷圖而在膜110上進行標記。
接著，針對與本發明之第一實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231在光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。
接著，利用搬送手段將膜110對於光源21、面型感測器22及第一偏光濾光器231相對地往搬送方向Y搬送(搬送程序)，利用光源21照射光至膜110的拍攝區域R(光照射程序)，利用面型感測器22將膜110的拍攝區域R拍攝成二維影像(攝影程序)。
接著，利用影像分析部30，根據來自面型感測器22之二維影像來檢查出膜110中存在的缺陷，並根據缺陷位置資訊來製作出缺陷圖(缺陷檢出程序)。接著，利用標記裝置40，根據來自影像分析部30之缺陷圖而在膜110上進行標記(標記程序)。
根據此第一實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法，第一偏光濾光器231在光源 21(光照射手段)與第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成正交偏光狀態，且面型感測器22(攝影手段)將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光透射檢查用影像、第二拍攝區域R2的正透射檢查用影像及中間拍攝區域R0的透射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光透射檢查用攝影系列、正透射檢查用攝影系列、及透射散射檢查用攝影系列。
結果，根據第一實施形態之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法，就可統合正交偏光透射檢查系列、正透射檢查系列、及透射散射檢查系列。
因此，根據第一實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法，就可削減檢查系列數。
[第二實施形態]
與本發明之第二實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的具有偏光特性之膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法。
與本發明之第二實施形態有關之缺陷檢查系統10A，係在將第2圖所示之缺陷檢查系統10中的缺陷檢查用攝影裝置20置換為缺陷檢查用攝影裝置20A之構成與第一實施形態不同。而且，第4圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20A係在於第3圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中更具備衰減濾光器(亮度調整手段)26之構成與第一實施 形態不同。
衰減濾光器26係配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。因此，衰減濾光器26可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。衰減濾光器26亦可配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來使透射過第二拍攝區域R2之光的亮度減低。
接著，針對與本發明之第二實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，進行上述之第一偏光濾光器配置程序。接著，將衰減濾光器26配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。藉此而可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來使透射過第二拍攝區域R2之光的亮度減低。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第二實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20A、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10A、及缺陷檢查方法，也可得到與第一實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
不過，正交偏光透射檢查用攝影系列及正透射檢查用攝影系列其適當的光的亮度值並不相同。更具體地說，正交偏光透射檢查用攝影系列的適當的光的亮度 值較大，正透射檢查用攝影系列的適當的光的亮度值較小。
關於此點，根據此第二實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法，可利用衰減濾光器(亮度調整手段)26來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值，所以可藉由例如從光源(光照射手段)21輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，另外利用衰減濾光器(亮度調整手段)26來使得用於正透射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小。如前述，將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來調整透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值也可期待會有同樣的效果。
以下，進行上述效果的驗證。第21圖(a)顯示在正交偏光透射法及正透射法中使光源光量變化時之各種缺陷(黑色異物、弱的亮點、強的亮點)的檢出影像。第21圖(b)顯示將第21圖(a)之採用正交偏光透射法得到的檢出影像的缺陷訊號予以圖表(graph)化所畫出的圖，第21圖(c)顯示將第21圖(a)之採用正透射法得到的檢出影像的缺陷訊號予以圖表化所畫出的圖。光源光量係以影像上的亮度值為128時之光源光量(在正透射的情況為最適當的光量)為基準而顯示為1倍至40倍。
根據第21圖(a)及第21圖(c)，在正透射法方面，光源光量以1倍的程度較佳，光源光量到達2倍以上，影像上的亮度就會過高，導致影像整體變白。另一方 面，根據第21圖(a)及第21圖(b)可知：在正交偏光透射法方面，光源光量在1倍的程度，影像上的亮度會過低而無法辨識出缺陷，光源光量以20倍以上較佳，在40倍以上更佳。
上述的驗證，雖藉由調整照射至拍攝區域之光源的光量來調整影像上的亮度值，惟就亮度調整方法而言，如前述採用衰減濾光器之方法也可期待會有同樣的效果。
[第三實施形態]
與本發明之第三實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的具有偏光特性之膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法。
與本發明之第三實施形態有關之缺陷檢查系統10B，係在將第2圖所示之缺陷檢查系統10中的缺陷檢查用攝影裝置20置換為缺陷檢查用攝影裝置20B之構成與第一實施形態不同。而且，第5圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20B係在替換第3圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中的光源21而具備光源21A之構成上與第一實施形態不同。
光源21A係具有可個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值之亮度調整機能。因此，可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小。
接著，針對與本發明之第三實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，進行上述之第一偏光濾光器配置程序。接著，利用光源21A個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。藉此而可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小(亮度調整程序)。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第三實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20B、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10B、及缺陷檢查方法，也可得到與第一實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
此外，根據此第三實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20B及缺陷檢查用攝影方法，可利用光源21A來個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值，所以可使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，使得用於正透射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。
[第四實施形態]
與本發明之第四實施形態有關之缺陷檢查 系統及缺陷檢查方法，係進行上述的不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法。第四實施形態之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法可用於不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法。在不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法中，除了將在第四實施形態中說明的缺陷檢查系統及缺陷檢查方法以外的點都為公知的，所以省略如前述之說明。至於與進行不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法有關之其他的實施形態及變形例，也都基於同樣的觀點而將關於不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法之說明予以省略。在第4實施形態中，膜110係不具有偏光特性之膜。
與本發明之第四實施形態有關之缺陷檢查系統10C，係在將替換第2圖所示之缺陷檢查系統10中的缺陷檢查用攝影裝置20而具備缺陷檢查用攝影裝置20C之構成上與第一實施形態不同。而且，第6圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C係在將第3圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中的第一偏光濾光器231置換為一對第一偏光濾光器231、241之構成與第一實施形態不同。
第一偏光濾光器231係與第一實施形態一樣配置於光源21與膜110之間。具體而言，第一偏光濾光器231係配置於光源21與拍攝區域R的第一拍攝區域R1之間。在本實施形態中，第一偏光濾光器231係配置成讓搬 送方向Y的拍攝區域R的一半從面型感測器22看不到(刀緣)。
另一方面，第一偏光濾光器241係配置於膜110與面型感測器22之間。具體而言，第一偏光濾光器241係配置於拍攝區域R的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。在本實施形態中，第一偏光濾光器241係配置成讓搬送方向Y的拍攝區域R的一半從面型感測器22看不到(刀緣)。
而且，第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241係形成正交偏光狀態。藉此而可在第一拍攝區域R1拍攝出正交偏光透射檢查用影像，在第二拍攝區域R2拍攝出正透射檢查用影像，在中間拍攝區域R0拍攝出透射散射檢查用影像。
接著，針對與本發明之第四實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。而且，將第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241配置成形成正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
根據此第四實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C及缺陷檢查用攝影方法，一對第一偏光濾光器231、 241分別配置於光源(光照射手段)21與第一拍攝區域R1之間，及第一拍攝區域R1與面型感測器(攝影手段)22之間，且配置成兩者形成正交偏光狀態，面型感測器(攝影手段)22係將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光透射檢查用影像、第二拍攝區域R2的正透射檢查用影像、及中間拍攝區域R0的透射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光透射檢查用攝影系列、正透射檢查用攝影系列、及透射散射檢查用攝影系列。
結果，根據第四實施形態之缺陷檢查系統10C及缺陷檢查方法，就可統合正交偏光透射檢查系列、正透射檢查系列、及透射散射檢查系列。
因此，根據第四實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法，可削減檢查系列數。
[第五實施形態]
與本發明之第五實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法。第五實施形態中，膜110為不具有偏光特性之膜。
與本發明之第五實施形態有關之缺陷檢查系統10D，係在替換第2圖所示之缺陷檢查系統10C中的 缺陷檢查用攝影裝置20C而具備缺陷檢查用攝影裝置20D之構成上與第四實施形態不同。而且，第7圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20D係在第6圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C中更具備衰減濾光器(亮度調整手段)26之構成與第四實施形態不同。
衰減濾光器26係配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。因此，衰減濾光器26可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。衰減濾光器26亦可配置於第二拍攝區域R2與面型感測器(攝影手段)22之間，來使透射過第二拍攝區域R2之光的亮度減低。
接著，針對與本發明之第五實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，進行上述之第一偏光濾光器配置程序。接著，將衰減濾光器26配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。藉此而可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器(攝影手段)22之間，來使透射過第二拍攝區域R2之光的亮度減低。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第五實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20D、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10D、及缺陷檢查方法，也可得到與第四實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢 查方法一樣之效果。
此外，根據第五實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20D及缺陷檢查用攝影方法，可利用衰減濾光器(亮度調整手段)26來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值，所以可藉由例如從光源(光照射手段)21輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，另外利用衰減濾光器(亮度調整手段)26來使得用於正透射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小。另外，將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器(攝影手段)22之間，來調整透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值也可期待會有同樣的效果。
[第六實施形態]
與本發明之第六實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法。第六實施形態中，膜110為不具有偏光特性之膜。
與本發明之第六實施形態有關之缺陷檢查系統10E，係在替換第2圖所示之缺陷檢查系統10C中的缺陷檢查用攝影裝置20C而具備缺陷檢查用攝影裝置20E之構成上與第四實施形態不同。而且，第8圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20E係在替換第6圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C中的光源21而具備光源21A之構成上與第四 實施形態不同。
光源21A係具有可個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值之亮度調整機能。因此，可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。
接著，針對與本發明之第六實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，進行上述之第一偏光濾光器配置程序。接著，利用光源21A個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。藉此而可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小(亮度調整程序)。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第六實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20E、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10E、及缺陷檢查方法，也可得到與第四實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
此外，根據此第六實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20E及缺陷檢查用攝影方法，可利用光源21A來個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射 至第二拍攝區域R2之光的亮度值，所以可使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，且另一方面使得用於正透射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。
本發明並不限定於上述的實施形態而是可做各種的變形。例如，第一、第二及第三實施形態所顯示的例子都是採用透射法之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法，但本發明的特徵亦如第9、10及11圖所示之採用反射法之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法。
根據第9、10及11圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法，第一偏光濾光器231在光源(光照射手段)21與第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成正交偏光狀態，面型感測器(攝影手段)22將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光反射檢查用影像，第二拍攝區域R2的正反射檢查用影像及中間拍攝區域R0的反射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光反射檢查用攝影系列、正反射檢查用攝影系列、及反射散射檢查用攝影系列。結果，在缺陷檢查系統10、10A、10B及缺陷檢查方法中，可統合正交偏光反射檢查系列、正反射檢查系列、及反射散射檢查系列，而可削減檢查系列數。
然而，正交偏光反射檢查用攝影系列與正 反射檢查用攝影系列其適當的光的亮度值並不相同。更具體地說，正交偏光反射檢查用攝影系列的適當的光的亮度值較大，正反射檢查用攝影系列的適當的光的亮度值較小。
關於此點，根據第10及11圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20A、20B及缺陷檢查用攝影方法，可利用衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值，所以可藉由例如從光源(光照射手段)21及光源(亮度調整手段)21A輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光反射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，另外利用衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來使得用於正反射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。在利用衰減濾光器(亮度調整手段)26之情況(例如第10圖所示之形態)，可將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器(攝影手段)22之間，來調整在第二拍攝區域R2反射之光的亮度值。
同樣的，第四、第五及第六實施形態所顯示的例子都是採用透射法之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法，但本發明的特徵如第12、13及14圖所示，亦適用於採用反射法之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法。
根據第12、13及14圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法，一對第一 偏光濾光器231、241係於光源(光照射手段)21與第一拍攝區域R1之間，及第一拍攝區域R1與面型感測器(攝影手段)22之間，且分別配置成形成正交偏光狀態，面型感測器(攝影手段)22將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光反射檢查用影像、第二拍攝區域R2的正反射檢查用影像及中間拍攝區域R0的反射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光反射檢查用攝影系列、正反射檢查用攝影系列、及反射散射檢查用攝影系列。結果，在缺陷檢查系統10C、10D、10E及缺陷檢查方法，可統合正交偏光反射檢查系列、正反射檢查系列、及反射散射檢查系列，而可削減檢查系列數。
另外，根據根據第13及14圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20D、20E及缺陷檢查用攝影方法，可利用衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值，所以可藉由例如從光源(光照射手段)21及光源(亮度調整手段)21A輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光反射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，另外利用衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來使得用於正反射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。在利用衰減濾光器(亮度調整手段)26之情況(例如第13圖所示之形態)，可將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器 (攝影手段)22之間，來調整在第二拍攝區域R2反射之光的亮度值。
又，第一、第二及第三實施形態以及第9、10及11圖所示之形態所顯示的例子都是將第一偏光濾光器231配置於光源(光照射手段)21與膜110的第一拍攝區域R1之間之形態，但亦可為如第15、16、17、18、19及20圖所示之將第一偏光濾光器231配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器(攝影手段)22之間之形態。
[第七實施形態]
與本發明之第七實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的具有偏光特性之膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法。第22圖係顯示與本發明之第七實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法之圖，第23圖係顯示與本發明之第七實施形態有關之缺陷檢查用攝影裝置及缺陷檢查用攝影方法之圖。
第22圖所示之缺陷檢查系統10係具備有缺陷檢查用攝影裝置20、影像分析部(檢出部)30、及標記裝置40，第23圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20係具備有光源(光照射手段)21、複數個面型感測器(攝影手段)22、第一偏光濾光器231、及第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251。第22及第23圖中都標示有XYZ正交座標，X方向表示偏光膜的寬度方向，Y方向表示偏光膜的搬送方向。
本實施形態中，主要由第1圖所示之搬送滾輪106及原料捲筒103發揮作為搬送手段之機能。利用此等搬送手段，可將膜110往搬送方向Y對於光源21、面型感測器22及第一偏光濾光器231相對地搬送。
光源21係設於膜110的另一方的主面側，照射光至膜110的拍攝區域R。舉例來說，光源21係在寬度方向X延伸之線狀的光源。
面型感測器22係配置於膜110的一方的主面側，係在寬度方向X排列配置。面型感測器22包含CCD(Charge Coupled Device)或CMOS(Complememtary Metal-Oxide-Semiconductor)22a及透鏡22b。面型感測器22係藉由感測透射過膜110之光，而以時間連續的之方式將膜110的拍攝區域R拍攝成二維影像。
各面型感測器22所拍攝到的二維影像的搬送方向Y的長度，最好為在從各面型感測器22拍攝了二維影像之後到拍攝下一個二維影像之區間搬送膜110的搬送距離的至少兩倍以上。換言之，對於膜110的同一區域最好拍攝兩次以上。如此，使二維影像的搬送方向Y的長度比影像拍攝區間中的搬送距離大，使膜110的同一部分的拍攝數增加，就可高精度地檢查缺陷。
此處，拍攝區域R係包含在搬送方向Y分割而分割出的第一拍攝區域R1及第二拍攝區域R2。而且，拍攝區域R包含在第一拍攝區域R1與第二拍攝區域R2之間之中間拍攝區域R0。
第一偏光濾光器231係配置於光源21與膜110之間。具體而言，第一偏光濾光器231係配置於光源21與拍攝區域R的第一拍攝區域R1之間。在本實施形態中，第一偏光濾光器231係配置成讓搬送方向Y的拍攝區域R的一半從面型感測器22看不到(刀緣)。而且，第一偏光濾光器231與膜110形成正交偏光狀態。此處，所謂的正交偏光狀態，係表示偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)實質地正交之狀態，亦即偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸以實質的90度之角度交叉之狀態。上述所謂的「實質的90度」係指例如85度以上不到95度，更佳者為90度。
第一偏光濾光器231只要與膜110形成正交偏光狀態即可，亦可配置於第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。
第一亮度調整用偏光濾光器251係在光源21與第一偏光濾光器231之間，以及光源21與第二拍攝區域R2之間，配置成與膜110形成第一半正交偏光狀態。此處，所謂的半正交偏光狀態，係表示偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)並不是實質的正交而交叉之狀態，亦即偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸以實質的90度以外的角度交叉之狀態。形成半正交偏光狀態之偏光濾光器的偏光軸(偏光吸收軸)與膜的偏光軸(偏光吸收軸)之角度係依屬於攝影手段的拍攝對象之膜的透射率及從光源射出的光的亮度值等而異，惟例如光透射 過拍攝區域R的預定區域(第23圖的例子為第二拍攝區域R2)而由面型感測器22加以拍攝之際之影像上的亮度值會在200以下之角度，且以影像上的亮度值會在130以下之角度為佳。舉例來說，如後述，第一亮度調整用偏光濾光器251的偏光軸與膜110的偏光軸之交叉角度係在75度以上不到85度，或在95度以上105度以下。藉此，第一亮度調整用偏光濾光器251可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。本說明書中，「亮度值」係指在8位元灰階(gray scale)影像上的各像素具有的值。
第一亮度調整用偏光濾光器251亦可只配置於光源21與第二拍攝區域R2之間來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度，亦可配置於膜110與面型感測器22之間來調整透射過第二拍攝區域R2之光的亮度。
如此，就可在第一拍攝區域R1拍攝正交偏光透射檢查用影像，在第二拍攝區域R2拍攝半正交偏光(第一半正交偏光)透射檢查用影像，在中間拍攝區域R0拍攝透射散射檢查用影像。
影像分析部30係根據來自面型感測器22之二維影像來檢查出膜110中存在的缺陷。影像分析部30係根據二維影像的像素座標與在影像拍攝間隔當中膜被搬動的距離，將二維影像上的座標位置轉換為膜110上的座標位置而產生缺陷位置資訊。影像分析部30根據缺陷位置資訊來合成與膜110的整個區域對應之影像而製作出缺陷圖(map)。
標記裝置40，係根據來自影像分析部30之缺陷圖而在膜上進行標記。
接著，針對與本發明之第七實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231在光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。亦可將第一偏光濾光器231配置於第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。接著，將第一亮度調整用偏光濾光器251在光源21與第一偏光濾光器231之間、以及光源21與第二拍攝區域R2之間配置成與膜110形成第一半正交偏光狀態。藉此而可減低照射至第二拍攝區域之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將第一亮度調整用偏光濾光器251只配置於光源21與第二拍攝區域R2之間，配置於膜110與面型感測器22之間亦可。
接著，利用搬送手段，將膜110對於光源21、面型感測器22及第一偏光濾光器231相對地往搬送方向Y搬送(搬送程序)，利用光源21照射光至膜110的拍攝區域R(光照射程序)，利用面型感測器22將膜110的拍攝區域R拍攝成二維影像(攝影程序)。
接著，利用影像分析部30，根據來自面型感測器22之二維影像來檢查出膜110中存在的缺陷，並根據缺陷位置資訊來製作出缺陷圖(缺陷檢出程序)。接著，利用標記裝置40，根據來自影像分析部30之缺陷圖而在 膜110上進行標記(標記程序)。
根據此第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法，第一偏光濾光器231在光源21(光照射手段)與第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成正交偏光狀態，面型感測器22(攝影手段)將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光透射檢查用影像、第二拍攝區域R2的半正交偏光(第一半正交偏光)透射檢查用影像、及中間拍攝區域R0的透射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光透射檢查用攝影系列、半正交偏光透射檢查用攝影系列、及透射散射檢查用攝影系列。
結果，根據第七實施形態之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法，就可統合正交偏光透射檢查系列、半正交偏光透射檢查系列、及透射散射檢查系列。
因此，根據第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法，就可削減檢查系列數。
根據此第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法，可利用第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。因此，可藉由例如從光源(光照射手段)21輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較 大，另外利用第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251來使得用於半正交偏光(第一半正交偏光)透射檢查用攝影系列之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。
然而，本申請案的發明人等雖然得出了正透射法適合用於黑色異物的檢出，正交偏光透射法適合用於亮點的檢出之結論，但發現正交偏光透射法雖可檢查出強的亮點但較難檢查出一部分之較弱的亮點。關於此點，本申請案的發明人等發現：對於以正交偏光透射法難以檢查出之黑色異物或局部較弱的亮點，可採用半正交偏光透射法來進行檢查。
關於此點，根據第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法，第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251與膜110的第二拍攝區域R2形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及弱的亮點(包含上述的一部分之較弱的亮點)之檢出。在本說明書中，以下所謂的弱的亮點都包含上述「一部分之較弱的亮點」之概念。
以下，進行上述效果之驗證。第45圖(a)顯示光源光量40倍時之使相對於膜之偏光濾光器的交叉角度變化時之各種缺陷(黑色異物、弱的亮點、強的亮點)的檢出影像。第45圖(b)顯示將第45圖(a)之檢出影像的亮度值予以圖表(graph)化的圖。同樣地，第45圖(c)顯示將光源光量20倍時之使相對於膜之偏光濾光器的交叉角度變 化時之各種缺陷(黑色異物、弱的亮點、強的亮點)的檢出影像的亮度值予以圖表化的圖，第45圖(d)顯示將光源光量10倍時之使相對於膜之偏光濾光器的交叉角度變化時之各種缺陷(黑色異物、弱的亮點、強的亮點)的檢出影像的亮度值予以圖表化的圖。所謂的光源光量40倍、20倍、10倍，係以影像上的亮度值為128時之光源光量(在正透射的情況為最適當的光量)為1倍所顯示者。
根據第45圖(a)、(b)可知：在光源光量為40倍之情況，對於強的亮點之缺陷的檢出，交叉角度以實質的90度，亦即正交偏光透射法較適合，對於弱的亮點之缺陷的檢出，交叉角度以105度，亦即半正交偏光透射法較適合。另外，交叉角度在70度以下及110度以上，影像上的亮度就會過高，導致影像整體變白。另外，雖然已知對於黑色異物之缺陷的檢出，以正透射法較適合，但在正透射法中使用偏光濾光器來調整亮度之情況，交叉角度以75度以上不到85度、或95度以上105度以下，亦即半正交偏光透射法較適合。
又，根據第45圖(b)、(c)、(d)可知：依光源光量而定，對於弱的亮點之缺陷的檢出及對於黑色異物之缺陷的檢出，在半正交偏光透射法中的最適當的交叉角度並不相同。
由此可知，在正透射法中使用偏光濾光器來調整亮度之情況，亦即採用半正交偏光透射法之情況，對於交叉角度在實質的90度以外缺陷訊號就會變高之缺 陷，例如弱的亮點、黑色異物之檢出很有利。
另外，可總合地考慮以兩個交叉角度進行之檢查，來判斷缺陷等級的高低。例如，可在交叉角度為實質的90度之正交偏光透射法、以及交叉角度在75度以上不到85度、或95度以上105度以下之半正交偏光透射法這兩個方法都確認有缺陷訊號，換言之在廣角度範圍都確認有缺陷訊號之情況，判斷為缺陷等級高，在只有於交叉角度為實質的90度之正交偏光透射法確認有缺陷訊號之情況，判斷為缺陷等級低。
上述的驗證，雖在光源與拍攝區域之間配置偏光濾光器，調整照射至拍攝區域之光的亮度，但就算是以使用偏光濾光器之半正交偏光透射法對於透射過拍攝區域之光進行亮度調整之情況也可期待會有同樣的效果。
[第七實施形態的變形例]
第七實施形態說明的是組合了正交偏光透射法及半正交偏光透射法之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合正交偏光透射法與兩個以上不同的半正交偏光透射法。以下，以組合正交偏光透射法與兩個不同的半正交偏光透射法之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法作為第七實施形態的變形例來進行說明。
第39圖所示之變形例的缺陷檢查用攝影裝置20係在另於第23圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中加上第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252之構成 與第七實施形態不同。
此處，拍攝區域R還包含有在搬送方向Y分割而分割出的第三拍攝區域R3，此第三拍攝區域R3係與第二拍攝區域R2鄰接之區域。
第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252係在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一亮度調整用偏光濾光器251鄰接且與膜110形成第二半正交偏光狀態。此處，所謂的第二半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度不同。因此，第二亮度調整用偏光濾光器252可減低照射至第三拍攝區域R3之光的亮度值。第二亮度調整用偏光濾光器252只要是與膜110形成第二半正交偏光狀態即可，亦可配置於第三拍攝區域R3與面型感測器22之間，來調整透射過第三拍攝區域R3之光的亮度。
接著，針對第七實施形態的變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，進行上述的第一偏光濾光器配置程序。接著，如上所述，將第一亮度調整用偏光濾光器251在光源21與第一偏光濾光器231之間，以及光源21與第二拍攝區域R2之間配置成與膜110形成第一半正交偏光狀態。接著，將第二亮度調整用偏光濾光器252在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與膜110形成第二半正交 偏光狀態。藉此而可減低照射至第二拍攝區域R2及第三拍攝區域R3之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將第二亮度調整用偏光濾光器252配置於第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第七實施形態的變形例之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法，也可得到與第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第八實施形態]
與本發明之第八實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的具有偏光特性之膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10及缺陷檢查方法。
與本發明之第八實施形態有關之缺陷檢查系統10A，係在替換第22圖所示之缺陷檢查系統10中的缺陷檢查用攝影裝置20而具備缺陷檢查用攝影裝置20A之構成上與第七實施形態不同。而且，第24圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20A係在替換第23圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中的第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251而具備衰減濾光器(亮度調整手段)26之構成上與第七實施形態不同。另外，缺陷檢查用攝影裝置20A還在使得缺陷檢查用攝影裝置20中相對於膜110之第一偏光濾光器231的偏光軸(偏光吸收軸)的交叉角度不同之點與第七 實施形態不同。
第一偏光濾光器231係與膜110的第一拍攝區域R1形成第一半正交偏光狀態。舉例來說，如後述，第一偏光濾光器231的偏光軸與膜110的偏光軸之交叉角度係在75度以上不到85度，或在95度以上105度以下。第一偏光濾光器231只要與膜110的第一拍攝區域R1形成第一半正交偏光狀態即可，亦可配置於第一拍攝區域R1與面型感測器22之間(參照第35圖)。
衰減濾光器26係配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。因此，衰減濾光器26可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。衰減濾光器26亦可配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來使透射過第二拍攝區域R2之光的亮度減低。
接著，針對與本發明之第八實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231在光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。亦可將第一偏光濾光器231配置於第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。接著，將衰減濾光器26配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。藉此而可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將衰減濾光器26配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、 攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第八實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20A、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10A、及缺陷檢查方法，也可得到與第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第八實施形態的第一變形例]
第八實施形態說明的是組合了半正交偏光透射法及正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法與正透射法。以下，以組合兩個不同的半正交偏光透射法與正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法作為第八實施形態的第一變形例來進行說明。
第40圖所示之第一變形例的缺陷檢查用攝影裝置20A係在第24圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20A中更具備第二偏光濾光器232之構成上與第八實施形態不同。
此處，拍攝區域R還包含有沿搬送方向Y分割出的第三拍攝區域R3，且此第三拍攝區域R3係與第一拍攝區域R1鄰接。
第二偏光濾光器232係在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一偏光濾光器231鄰接且與膜110形成第二半正交偏光狀態。此處，所謂的第二半正交 偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度，係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度不同。第二偏光濾光器232只要配置成與第三拍攝區域R3形成第二半正交偏光狀態，則亦可與第一偏光濾光器231相互獨立而配置於第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。
接著，針對第八實施形態的第一變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，如上所述，將第一偏光濾光器231在光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110的第一拍攝區域R1形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將第二偏光濾光器232在光源21與膜110的第三拍攝區域R3之間配置成與膜110形成第二半正交偏光狀態(第二偏光濾光器配置程序)。亦可使第二偏光濾光器232與第一偏光濾光器231相互獨立而配置於第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。接著，進行上述之亮度調整程序、搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第八實施形態的第一變形例之缺陷檢查用攝影裝置20A、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10A、及缺陷檢查方法，也可得到與第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第八實施形態的第二變形例]
第八實施形態雖例示了組合了半正交偏光透射法及正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法。以下，以組合兩個不同的半正交偏光透射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法作為第八實施形態的第二變形例來進行說明。
第二變形例的缺陷檢查用攝影裝置20A係在替換第24圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20A中的衰減濾光器(亮度調整手段)26而具備第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251之構成上與第八實施形態不同。
第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251係在光源21與第二拍攝區域R2之間配置成與膜110形成第二半正交偏光狀態。此處，所謂的第二半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度，係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度不同。因此，第一亮度調整用偏光濾光器251可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。
第一亮度調整用偏光濾光器251只要與膜110形成第二半正交偏光狀態即可，亦可配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來減低透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值。
接著，針對第八實施形態的第二變形例之 缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，如上所述，將第一偏光濾光器231在光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將第一亮度調整用偏光濾光器251在光源21與第一偏光濾光器231之間，以及光源21與第二拍攝區域R2之間配置成與膜110形成第二半正交偏光狀態。藉此而可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將第一亮度調整用偏光濾光器251配置於第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來減低透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值。接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第八實施形態的第二變形例之缺陷檢查用攝影裝置20A、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10A、及缺陷檢查方法，也可得到與第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第九實施形態]
與本發明之第九實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的具有偏光特性之膜110的缺陷檢查之缺陷檢查系統10B及缺陷檢查方法。
與本發明之第九實施形態有關之缺陷檢查系統10B，係在替換第22圖所示之缺陷檢查系統10中的缺陷檢查用攝影裝置20而具備缺陷檢查用攝影裝置20B 之構成上與第七實施形態不同。而且，第25圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20B係在替換第23圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中的光源21及第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251而具備光源21A之構成上與第七實施形態不同。另外，缺陷檢查用攝影裝置20B還在使得缺陷檢查用攝影裝置20中相對於膜110之第一偏光濾光器231的偏光軸(偏光吸收軸)的交叉角度不同之點與第七實施形態不同。
第一偏光濾光器231係與膜110的第一拍攝區域R1形成第一半正交偏光狀態。舉例來說，如後述，第一偏光濾光器231的偏光軸與膜110的偏光軸之交叉角度係在75度以上不到85度，或在95度以上105度以下。第一偏光濾光器231只要與膜110的第一拍攝區域R1形成第一半正交偏光狀態即可，可配置於光源21A與第一拍攝區域R1之間(參照第25圖)，或第一拍攝區域R1與面型感測器22之間(參照第36圖)。
光源21A係具有可個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值之亮度調整機能。因此，可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小。
接著，針對與本發明之第九實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231在光源21與 膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。亦可將第一偏光濾光器231配置於第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。接著，利用光源21A個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。藉此而可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小(亮度調整程序)。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第九實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20B、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10B、及缺陷檢查方法，也可得到與第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第九實施形態的變形例]
第九實施形態說明的是組合了半正交偏光透射法及正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20B及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法與正透射法。以下，以組合兩個不同的半正交偏光透射法與正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20B及缺陷檢查用攝影方法作為第九實施形態的變形例來進行說明。
第41圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20B係在第25圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20B中加上第二偏 光濾光器232之構成與第九實施形態不同。
此處，拍攝區域R還包含有沿搬送方向Y分割出的第三拍攝區域R3，此第三拍攝區域R3係與第一拍攝區域R1鄰接之區域。
第二偏光濾光器232係在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一偏光濾光器231鄰接且與膜110形成第二半正交偏光狀態。此處，所謂的第二半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸與膜的偏光軸的交叉角度不同。第二偏光濾光器232只要是與膜110形成第二半正交偏光狀態即可，亦可配置於第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。
接著，針對第九實施形態的變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，如上所述，將第一偏光濾光器231在光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間配置成與膜110的第一拍攝區域R1形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將第二偏光濾光器232在光源21與膜110的第三拍攝區域R3之間配置成與膜110形成第二半正交偏光狀態(第二偏光濾光器配置程序)。亦可將第二偏光濾光器232配置於第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。接著，進行上述之亮度調整程序、搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第九實施形態的變形例之缺陷檢查用攝影裝置20B、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10B、及缺陷檢查方法，也可得到與第七實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第十實施形態]
與本發明之第十實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法。第十實施形態之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法可用於不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法。在不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法中，除了將在第十實施形態中說明的缺陷檢查系統及缺陷檢查方法以外的點都為公知的，所以省略如前述之說明。至於與進行不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法有關之其他的實施形態及變形例，也都基於同樣的觀點而將關於不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的製造裝置及製造方法之說明予以省略。在第十實施形態及其變化例的說明中，膜110係為不具有偏光特性之膜。
與本發明之第十實施形態有關之缺陷檢查系統10C，係在替換第22圖所示之缺陷檢查系統10中的缺陷檢查用攝影裝置20而具備缺陷檢查用攝影裝置20C 之構成上與第七實施形態不同。而且，第26圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C係在替換第23圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20中的第一偏光濾光器231而具備一對第一偏光濾光器231、241，且在第一亮度調整用偏光濾光器251之外再加上與第一亮度調整用偏光濾光器251成對的第一亮度調整用偏光濾光器253之構成上與第七實施形態不同。
第一偏光濾光器231係與第七實施形態一樣配置於光源21與膜110之間。具體而言，第一偏光濾光器231係配置於光源21與拍攝區域R的第一拍攝區域R1之間。在本實施形態中，第一偏光濾光器231係配置成讓搬送方向Y的拍攝區域R的一半從面型感測器22看不到(刀緣)。
另一方面，第一偏光濾光器241係配置於膜110與面型感測器22之間。具體而言，第一偏光濾光器241係配置於拍攝區域R的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。在本實施形態中，第一偏光濾光器241係配置成讓搬送方向Y的拍攝區域R的一半從面型感測器22看不到(刀緣)。
另外，一對第一亮度調整用偏光濾光器251、253之中的第一亮度調整用偏光濾光器251係與第七實施形態一樣配置於光源21與膜110之間。另一方面，第一亮度調整用偏光濾光器253係配置於膜110與面型感測器22之間。具體而言，第一亮度調整用偏光濾光器253係配置於拍攝區域R的第二拍攝區域R2與面型感測器22之 間。在第十實施形態中，第一亮度調整用偏光濾光器253係配置成讓搬送方向Y的拍攝區域R的一半(在第26圖的例子中係第二拍攝區域R2側的部分)從面型感測器22看不到。
而且，第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241係形成正交偏光狀態。第一亮度調整用偏光濾光器251係與第一亮度調整用偏光濾光器253形成第一半正交偏光狀態。舉例來說，第一亮度調整用偏光濾光器251與第一亮度調整用偏光濾光器253的偏光軸之交叉角度係在75度以上不到85度，或在95度以上105度以下。藉此而可在第一拍攝區域R1拍攝出正交偏光透射檢查用影像，在第二拍攝區域R2拍攝出半正交偏光透射檢查用影像，在中間拍攝區域R0拍攝出透射散射檢查用影像。
接著，針對與本發明之第十實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。而且，將第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241配置成使兩者形成正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。
接著，將第一亮度調整用偏光濾光器251配置於光源21與第一偏光濾光器231之間以及光源21與第二拍攝區域R2之間，將第一亮度調整用偏光濾光器253配置於膜110的第二拍攝區域R2與面型感測器22之間。 而且，將第一亮度調整用偏光濾光器251與第一亮度調整用偏光濾光器253配置成形成第一半正交偏光狀態。藉此而可減低透射過第二拍攝區域R2而由面型感測器22觀測到的光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將第一亮度調整用偏光濾光器251只配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。
另外，亦可省略掉第一亮度調整用偏光濾光器253而使第一偏光濾光器241擴張到第二拍攝區域R2。在此情況，只要使第一亮度調整用偏光濾光器251相對於第一偏光濾光器241形成第一半正交偏光狀態即可。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
根據此第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C及缺陷檢查用攝影方法，一對第一偏光濾光器231、241分別配置於光源(光照射手段)21與第一拍攝區域R1之間及第一拍攝區域R1與面型感測器(攝影手段)22之間，且配置成兩者形成正交偏光狀態，面型感測器(攝影手段)22將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光透射檢查用影像、第二拍攝區域R2的半正交偏光透射(第一半正交偏光透射)檢查用影像、及中間拍攝區域R0的透射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光透射檢查用攝影系列、半正交偏光(第一半正交偏光)透射檢查用攝影系列、及透射散射檢查用攝影系列。
結果，根據第十實施形態之缺陷檢查系統10C及缺陷檢查方法，就可統合正交偏光透射檢查系列、半正交偏光透射檢查系列、及透射散射檢查系列。
因此，根據第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法，可削減檢查系列數。
又，根據此第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C及缺陷檢查用攝影方法，利用一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253可調整透射過第二拍攝區域R2而由面型感測器22觀測到的光的亮度值。因此，可藉由例如從光源(光照射手段)21輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光透射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，另外利用一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253來使得用於半正交偏光透射檢查用攝影系列之透射過第二拍攝區域R2而由面型感測器22觀測到的光的亮度值較小。
又，根據此第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C及缺陷檢查用攝影方法，一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253形成第一半正交偏光狀態，所以可提高黑色異物及弱的亮點之檢出。
[第十實施形態的變形例]
第十實施形態說明的是組合了正交偏光透射法及半正交偏光透射法之缺陷檢查用攝影裝置20C及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合正交偏光透射法與 兩個以上的不同的半正交偏光透射法。以下，以組合正交偏光透射法與兩個不同的半正交偏光透射法之缺陷檢查用攝影裝置20C及缺陷檢查用攝影方法作為第十實施形態的變形例來進行說明。
第42圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C係在第26圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C中加上一對第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252、254之構成上與第十實施形態不同。
此處，拍攝區域R還包含有沿搬送方向Y分割出的第三拍攝區域R3，且此第三拍攝區域R3係與第二拍攝區域R2鄰接。
第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252係在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一亮度調整用偏光濾光器251鄰接，第二亮度調整用偏光濾光器254係在第三拍攝區域R3與面型感測器22之間配置成與第一亮度調整用偏光濾光器253鄰接。一對第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252、254係配置成兩者形成第二半正交偏光狀態。此處，一對第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252、254所形成的第二半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度不同，而且第二亮度調整用偏光濾光器252、254因此而可減低透射過第三拍攝區域R3而由面型感測器22觀測到的光的亮度 值。
接著，針對第十實施形態的變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，進行上述的第一偏光濾光器配置程序。接著，如上述，將第一亮度調整用偏光濾光器251配置於光源21與第一偏光濾光器231之間以及光源21與第二拍攝區域R2之間，並且將第一亮度調整用偏光濾光器253配置於膜110的第二拍攝區域R2與面型感測器22之間。而且，第一亮度調整用偏光濾光器251、253係配置成兩者形成第一半正交偏光狀態。接著，將第二亮度調整用偏光濾光器252配置於光源21與第三拍攝區域R3之間，並且將第二亮度調整用偏光濾光器254配置於膜110的第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。此時，第二亮度調整用偏光濾光器252、254係配置成兩者形成第二半正交偏光狀態。藉此而可減低透射過第二拍攝區域R2及第三拍攝區域R3而由面型感測器22觀測到的光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將第一亮度調整用偏光濾光器251只配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。
另外，亦可省略掉第一亮度調整用偏光濾光器253而使第一偏光濾光器241擴張到第二拍攝區域R2，在此情況，只要使第一亮度調整用偏光濾光器251相對於第一偏光濾光器241形成第一半正交偏光狀態即可。或者，可省略掉第二亮度調整用偏光濾光器254而使第一亮度調整用偏光濾光器253擴張到第三拍攝區域R3，在此 情況，只要使第二亮度調整用偏光濾光器252相對於第一亮度調整用偏光濾光器253形成第二半正交偏光狀態即可。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第十實施形態的變形例之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法，也可得到與第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第十一實施形態]
與本發明之第十一實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法。在第十一實施形態及其變化例的說明中，膜110係為不具有偏光特性之膜。
與本發明之第十一實施形態有關之缺陷檢查系統10D，係在替換第22圖所示之缺陷檢查系統10C中的缺陷檢查用攝影裝置20C而具備缺陷檢查用攝影裝置20D之構成上與第十實施形態不同。而且，第27圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20D係在將第26圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C中的第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251置換為衰減濾光器(亮度調整手段)26之構成與第十實施形態不同。另外，缺陷檢查用攝影裝置20D還在使得缺陷檢查用攝影裝置20C中的一對第一偏光濾光器 231、241的偏光軸(偏光吸收軸)的交叉角度不同之點與第十實施形態不同。
第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241係形成第一半正交偏光狀態。舉例來說，第一偏光濾光器231的偏光軸與第一偏光濾光器241的偏光軸之交叉角度係在75度以上不到85度，或在95度以上105度以下。
衰減濾光器26係配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。因此，衰減濾光器26可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。
接著，針對與本發明之第十一實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。此時，將第一偏光濾光器231及第一偏光濾光器241配置成兩者形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將衰減濾光器26配置於光源21與第二拍攝區域R2之間。藉此而可減低照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值(亮度調整程序)。亦可將衰減濾光器26配置於膜110的第二拍攝區域R2與面型感測器22之間，來減低透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第十一實施形態之缺陷檢查用攝影裝置 20D、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10D、及缺陷檢查方法，也可得到與第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第十一實施形態的第一變形例]
第十一實施形態說明的是組合了半正交偏光透射法及正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20D及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法與正透射法。以下，以組合兩個不同的半正交偏光透射法與正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20D及缺陷檢查用攝影方法作為第十一實施形態的第一變形例來進行說明。
第43圖所示之第一變形例的缺陷檢查用攝影裝置20D係在第27圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20D中加上一對第二偏光濾光器232、242之構成上與第十一實施形態不同。
此處，拍攝區域R還包含有沿搬送方向Y分割出的第三拍攝區域R3，且此第三拍攝區域R3係與第一拍攝區域R1鄰接。
第二偏光濾光器232係在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一偏光濾光器231鄰接，第二偏光濾光器242係在第三拍攝區域R3與面型感測器22之間配置成與第一偏光濾光器241鄰接。一對第二偏光濾光器232、242係形成第二半正交偏光狀態。此處，所謂的第二 半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度不同。
接著，針對第十一實施形態的第一變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，如上所述，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。而且，將第一偏光濾光器231及第一偏光濾光器241配置成兩者形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將第二偏光濾光器232配置於光源21與膜110的第三拍攝區域R3之間，將第二偏光濾光器242配置於膜110的第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。而且，將第二偏光濾光器232及第二偏光濾光器242配置成兩者形成第二半正交偏光狀態(第二偏光濾光器配置程序)。接著，進行上述之亮度調整程序、搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第十一實施形態的第一變形例之缺陷檢查用攝影裝置20D、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10D、及缺陷檢查方法，也可得到與第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第十一實施形態的第二變形例]
第十一實施形態說明的是組合了半正交偏光透射法及正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20D及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法。以下，以組合兩個不同的半正交偏光透射法之缺陷檢查用攝影裝置20D及缺陷檢查用攝影方法作為第十一實施形態的第二變形例來進行說明。
第二變形例的缺陷檢查用攝影裝置20D係在替換第27圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20D中的衰減濾光器(亮度調整手段)26而具備一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253之構成上與第十一實施形態不同。
第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251係配置於光源21與第二拍攝區域R2之間，第一亮度調整用偏光濾光器253係配置於膜110的第二拍攝區域R2與面型感測器22之間。此時，一對第一亮度調整用偏光濾光器251、253係配置成兩者形成第二半正交偏光狀態。此處，所謂的第二半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度不同。因此，一對第一亮度調整用偏光濾光器251、253可減低透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值。
接著，針對第十一實施形態的第二變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，如上述，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。此時，將第一偏光濾光器231及第一偏光濾光器241配置成兩者形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將第一亮度調整用偏光濾光器251配置於光源21與第二拍攝區域R2之間，將第一亮度調整用偏光濾光器253配置於膜110的第二拍攝區域R2與面型感測器22之間。此時，將一對第一亮度調整用偏光濾光器251、253配置成兩者形成第二半正交偏光狀態。藉此而可減低透射過第二拍攝區域R2之光的亮度值(亮度調整程序)。接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第十一實施形態的第二變形例之缺陷檢查用攝影裝置20D、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10D、及缺陷檢查方法，也可得到與第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第十二實施形態]
與本發明之第十二實施形態有關之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法，係進行上述的不具有偏光特性之相位差膜及電池用隔離膜等的缺陷檢查之缺陷檢查系統及缺陷檢查方法。在第十二實施形態及其變化例的說明中，膜110係為不具有偏光特性之膜。
與本發明之第十二實施形態有關之缺陷檢查系統10E，係在替換第22圖所示之缺陷檢查系統10C中的缺陷檢查用攝影裝置20C而具備缺陷檢查用攝影裝置20E之構成上與第十實施形態不同。而且，第28圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20E係在替換第26圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C中的光源21及第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251而具備光源21A之構成上與第十實施形態不同。另外，缺陷檢查用攝影裝置20E還在使得缺陷檢查用攝影裝置20C中的一對第一偏光濾光器231、241的偏光軸(偏光吸收軸)的交叉角度不同之點與第十實施形態不同。
第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241形成第一半正交偏光狀態。舉例來說，第一偏光濾光器231的偏光軸與第一偏光濾光器241的偏光軸之交叉角度係在75度以上不到85度，或在95度以上105度以下。
光源21A係具有可個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值之亮度調整機能。因此，可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小。
接著，針對與本發明之第十二實施形態有關之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241 配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。而且，第一偏光濾光器231與第一偏光濾光器241係配置成兩者形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，利用光源21A個別地調整照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值及照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。藉此而可使照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小(亮度調整程序)。
接著，進行上述之搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第十二實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20E、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10E、及缺陷檢查方法，也可得到與第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
[第十二實施形態的變形例]
第十二實施形態說明的是組合了半正交偏光透射法及正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20E及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法與正透射法。以下，以組合兩個不同的半正交偏光透射法與正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20E及缺陷檢查用攝影方法作為第十二實施形態的變形例來進行說明。
第44圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20E係 在第28圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20E中加上一對第二偏光濾光器232、242之構成上與第十二實施形態不同。
此處，拍攝區域R還包含有沿搬送方向Y分割出的第三拍攝區域R3，且此第三拍攝區域R3係與第一拍攝區域R1鄰接。
第二偏光濾光器232係在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一偏光濾光器231鄰接，第二偏光濾光器242係在第三拍攝區域R3與面型感測器22之間配置成與第一偏光濾光器241鄰接。一對第二偏光濾光器232、242係形成第二半正交偏光狀態。此處，第二半正交偏光狀態係與第一半正交偏光狀態不同。亦即，第二半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度係與第一半正交偏光狀態中的偏光濾光器的偏光軸的交叉角度不同。
接著，針對第十二實施形態的變形例之缺陷檢查方法及缺陷檢查用攝影方法進行說明。
首先，如上所述，將第一偏光濾光器231配置於光源21與膜110的第一拍攝區域R1之間，將第一偏光濾光器241配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器22之間。此時，將第一偏光濾光器231及第一偏光濾光器241配置成兩者形成第一半正交偏光狀態(第一偏光濾光器配置程序)。接著，將第二偏光濾光器232配置於光源21與膜110的第三拍攝區域R3之間，將第二偏光濾光器242配置於膜110的第三拍攝區域R3與面型感測器22之間。此時，將第二偏光濾光器232及第二偏光濾光器242配置成 兩者形成第二半正交偏光狀態(第二偏光濾光器配置程序)。接著，進行上述之亮度調整程序、搬送程序、光照射程序、攝影程序、缺陷檢出程序、標記程序。
此第十二實施形態的變形例之缺陷檢查用攝影裝置20E、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10E、及缺陷檢查方法，也可得到與第十實施形態之缺陷檢查用攝影裝置20C、缺陷檢查用攝影方法、缺陷檢查系統10C、及缺陷檢查方法一樣之效果。
本發明並不限定於上述的實施形態而是可做各種的變形。例如，第七、第八及第九實施形態所顯示的例子都是採用透射法之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法，但本發明的特徵亦適用於如第29、30及31圖所示之採用反射法之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法。
第29圖顯示的雖然是組合了正交偏光反射法與半正交偏光反射法之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可與第39圖一樣組合正交偏光反射法與兩個以上的不同的半正交偏光反射法。第30圖顯示的雖然是組合了半正交偏光反射法與正反射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可與第40圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光反射法與正反射法。第31圖顯示的雖然是組合了半正交偏光反射法與正反射法之缺陷檢查用攝影裝置20B及缺陷檢查用攝影方法的例子，但亦可與第41圖一樣組合兩個以上的 不同的半正交偏光反射法與正反射法。
根據第29、30及31圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法，例如，第一偏光濾光器231在光源(光照射手段)21與第一拍攝區域R1之間配置成與膜110形成正交偏光狀態，面型感測器(攝影手段)22將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光反射檢查用影像、第二拍攝區域R2的正反射(或半正交偏光反射)檢查用影像、及中間拍攝區域R0的反射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光反射檢查用攝影系列、半正交偏光反射檢查用攝影系列(參照第29圖)或正反射檢查用攝影系列(參照第30、31圖)、及反射散射檢查用攝影系列。結果，在缺陷檢查系統10、10A、10B及缺陷檢查方法，可統合正交偏光反射檢查系列、半正交偏光反射檢查系列或正反射檢查系列、及反射散射檢查系列，而可削減檢查系列數。
然而，正交偏光反射檢查用攝影系列與例如正反射檢查用攝影系列其適當的光的亮度值並不相同。更具體地說，正交偏光反射檢查用攝影系列的適當的光的亮度值較大，例如正反射檢查用攝影系列的適當的光的亮度值較小。
關於此點，根據第29、30及31圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20、20A、20B及缺陷檢查用攝影方法，可利用偏光濾光器(亮度調整手段)251、衰減濾光器(亮度調 整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。因此，可藉由例如從光源(光照射手段)21及光源(亮度調整手段)21A輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光反射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值較大，另外利用偏光濾光器(亮度調整手段)251、衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來使得用於半正交偏光反射檢查用攝影系列(參照第29圖)或正反射檢查用攝影系列(參照第30、31圖)之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值較小。
同樣的，第十、第十一及第十二實施形態所顯示的例子都是採用透射法之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法，但本發明的特徵亦適用於如第32、33及34圖所示之採用反射法之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法。
第32圖顯示的例子是組合了正交偏光反射法與半正交偏光反射法之缺陷檢查用攝影裝置20及缺陷檢查用攝影方法，但亦可與第42圖一樣組合正交偏光反射法與兩個以上的不同的半正交偏光反射法。在此情況，只要相對於第42圖所例示的第三拍攝區域R3，將第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一亮度調整用偏光濾光器251鄰接，並在另一方面將與第二亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)252成對之第二亮度調整用偏光濾光器254在第三拍攝區域R3與面型感測器22之間配置成與第一亮度調 整用偏光濾光器253鄰接即可。
第33圖顯示的例子是組合了半正交偏光反射法與正反射法之缺陷檢查用攝影裝置20D及缺陷檢查用攝影方法，但亦可與第43圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光反射法與正反射法。在此情況，只要相對於第43圖中顯示的第三拍攝區域R3，如在第十一實施形態的第一變形例中說明過的，將第二偏光濾光器232在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一偏光濾光器231鄰接，將與第二偏光濾光器232成對之第二偏光濾光器242在第三拍攝區域R3與面型感測器22之間配置成與第一偏光濾光器241鄰接即可，或如在第十一實施形態的第二變形例中說明過的，替換衰減濾光器(亮度調整手段)26而將一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253配置為形成為第二半正交偏光狀態。在採用一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253之情況，將第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251配置於光源21與第二拍攝區域R2之間，將第一亮度調整用偏光濾光器253配置於膜110的第二拍攝區域R2與面型感測器22之間即可。
第34圖顯示的例子是組合了半正交偏光反射法與正反射法之缺陷檢查用攝影裝置20E及缺陷檢查用攝影方法，但亦可與第44圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光反射法與正反射法。在此情況，只要相對於第44圖中顯示的第三拍攝區域R3，將第二偏光濾光器232在光源21與第三拍攝區域R3之間配置成與第一偏光濾光器231 鄰接，將與第二偏光濾光器232成對之第二偏光濾光器242在第三拍攝區域R3與面型感測器22之間配置成與第一偏光濾光器241鄰接即可。
根據第32、33及34圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法，例如，一對第一偏光濾光器231、241係配置成在光源(光照射手段)21與第一拍攝區域R1之間及第一拍攝區域R1與面型感測器(攝影手段)22之間分別形成正交偏光狀態，面型感測器(攝影手段)22將包含第一拍攝區域R1、第二拍攝區域R2及中間拍攝區域R0之拍攝區域R拍攝成二維影像，所以可同時拍攝第一拍攝區域R1的正交偏光反射檢查用影像、第二拍攝區域R2的正反射(或半正交偏光反射)檢查用影像、及中間拍攝區域R0的反射散射檢查用影像。亦即，可統合正交偏光反射檢查用攝影系列、半正交偏光反射檢查用攝影系列(參照第32圖)或正反射檢查用攝影系列(參照第33、34圖)、及反射散射檢查用攝影系列。結果，在缺陷檢查系統10C、10D、10E及缺陷檢查方法，可統合正交偏光反射檢查系列、半正交偏光反射檢查系列或正反射檢查系列、及反射散射檢查系列，而可削減檢查系列數。
又，根據第32、33及34圖所示之缺陷檢查用攝影裝置20C、20D、20E及缺陷檢查用攝影方法，可利用一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253、衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來調整照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值。因 此，可藉由例如從光源(光照射手段)21及光源(亮度調整手段)21A輸出較大亮度值的光，而使得用於正交偏光反射檢查用攝影系列之照射至第一拍攝區域R1之光的亮度值變得較大，另外利用一對第一亮度調整用偏光濾光器(亮度調整手段)251、253、衰減濾光器(亮度調整手段)26及光源(亮度調整手段)21A來使得用於半正交偏光反射檢查用攝影系列(參照第32圖)或正反射檢查用攝影系列(參照第33、34圖)之照射至第二拍攝區域R2之光的亮度值變得較小。
又，第八及九實施形態、以及第30及31圖所示之形態，都是將第一偏光濾光器231配置於光源(光照射手段)21與膜110的第一拍攝區域R1之間之形態，但亦可為如第35、36、37及38圖所示之將第一偏光濾光器231配置於膜110的第一拍攝區域R1與面型感測器(攝影手段)22之間之形態。
第35圖顯示的例子是組合了半正交偏光透射法與正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用攝影方法，但亦可與第40圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法與正透射法、或組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法。第36圖顯示的例子是組合了半正交偏光透射法與正透射法之缺陷檢查用攝影裝置20B及缺陷檢查用攝影方法，但亦可與第41圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光透射法與正透射法。
第37圖顯示的例子是組合了半正交偏光反射法與正反射法之缺陷檢查用攝影裝置20A及缺陷檢查用 攝影方法，但亦可與第40圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光反射法與正反射法，或組合兩個以上的不同的半正交偏光反射法。第38圖顯示的例子是組合了半正交偏光反射法與正反射法之缺陷檢查用攝影裝置20B及缺陷檢查用攝影方法，但亦可與第41圖一樣組合兩個以上的不同的半正交偏光反射法與正反射法。
至此為止的說明，在與光照射手段獨立而配置亮度調整手段之情況，都是將該亮度調整手段配置成調整照射至第二拍攝區域R2之光或透射過第二拍攝區域R2或在第二拍攝區域R2反射之光的亮度。然而，在與光照射手段獨立而配置亮度調整手段之情況，亦可將亮度調整手段配置成調整照射至第一及第二拍攝區域R1、R2的至少一方之光或透射過第一及第二拍攝區域R1、R2的至少一方或在第一及第二拍攝區域R1、R2的至少一方反射之光的亮度。另外，在將亮度調整手段設置於光照射手段之形態，可在配置於光照射手段之亮度調整手段之外再設置別的亮度調整手段。
20‧‧‧缺陷檢查用攝影裝置
21‧‧‧光源(光照射手段)
22‧‧‧面型感測器(攝影手段)
22a‧‧‧CCD或CMOS
22b‧‧‧透鏡
231‧‧‧第一偏光濾光器
110‧‧‧膜
R‧‧‧拍攝區域
R0‧‧‧中間拍攝區域
R1‧‧‧第一拍攝區域
R2‧‧‧第二拍攝區域

Claims (37)

  1. 一種缺陷檢查用攝影裝置，係用來檢查具有偏光特性的膜的缺陷者，具備有：光照射手段，係照射光至前述膜的拍攝區域；攝影手段，係將前述膜的前述拍攝區域拍攝成二維影像；第一偏光濾光器，係以與前述膜形成正交偏光狀態或第一半正交偏光狀態之形態，配置於前述光照射手段與前述膜的前述拍攝區域之間，或前述膜的前述拍攝區域與前述攝影手段之間；以及搬送手段，係將前述膜相對於前述光照射手段、前述攝影手段及前述第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，第一偏光濾光器係配置於前述光照射手段與前述第一拍攝區域之間，或前述第一拍攝區域與前述攝影手段之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述第一偏光濾光器係與前述膜形成正交偏光狀態。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之缺陷檢查用攝影裝置，還具備有： 亮度調整手段，係用來調整照射至前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方，或透射前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方或者在前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述亮度調整手段係調整照射至前述第二拍攝區域，或透射前述第二拍攝區域或者在前述第二拍攝區域反射之光的亮度值。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，或前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間之衰減濾光器。
  6. 如申請專利範圍第3或4項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段，且個別地調整照射至前述第一拍攝區域之光的亮度值及照射至前述第二拍攝區域之光的亮度值。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述第一偏光濾光器係配置於前述光照射手段與前述第一拍攝區域之間。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之缺陷檢查用攝影裝置，還具備有：亮度調整手段，係用來調整照射至前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方，或透射前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方或者在前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述第一偏光濾光器係與前述膜的前述第一拍攝區域形成正交偏光狀態，前述亮度調整手段係包含有第一亮度調整用偏光濾光器，該第一亮度調整用偏光濾光器係在前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，或前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間配置成與前述膜的前述第二拍攝區域形成第一半正交偏光狀態。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述第一偏光濾光器係與前述膜的前述第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，或前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間之衰減濾光器。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其 中，前述第一偏光濾光器係與前述膜的前述第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段，且個別地調整照射至前述第一拍攝區域之光的亮度值及照射至前述第二拍攝區域之光的亮度值。
  12. 如申請專利範圍第9項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第三拍攝區域，前述亮度調整手段係包含有第二亮度調整用偏光濾光器，該第二亮度調整用偏光濾光器係在前述光照射手段與前述第三拍攝區域之間，或前述第三拍攝區域與前述攝影手段之間配置成與前述膜的前述第三拍攝區域形成第二半正交偏光狀態，而調整照射至前述第三拍攝區域之光的亮度值。
  13. 如申請專利範圍第10或11項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第三拍攝區域，前述缺陷檢查用攝影裝置還具備有：第二偏光濾光器，係配置於前述光照射手段與前述第三拍攝區域之間，或前述第三拍攝區域與前述攝影手段之間，與前述膜的前述第三拍攝區域形成第二半正交偏光狀態。
  14. 如申請專利範圍第8項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述第一偏光濾光器係與前述膜的前述第一拍攝區域形成第一半正交偏光狀態，前述亮度調整手段係包含有第一亮度調整用偏光濾光器，該第一亮度調整用偏光濾光器係在前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，或前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間配置成與前述膜的前述第二拍攝區域形成第二半正交偏光狀態。
  15. 一種缺陷檢查用攝影裝置，係用來檢查不具有偏光特性的膜的缺陷之攝影裝置，具備有：光照射手段，係照射光至前述膜的拍攝區域；攝影手段，係將前述膜的前述拍攝區域拍攝成二維影像；一對第一偏光濾光器，係以形成正交偏光狀態或第一半正交偏光狀態之形態，分別配置於前述光照射手段與前述膜的前述拍攝區域之間，以及前述膜的前述拍攝區域與前述攝影手段之間；以及搬送手段，係將前述膜相對於前述光照射手段、前述攝影手段及前述一對第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，前述一對第一偏光濾光器係分別配置於前述光照 射手段與前述第一拍攝區域之間，以及前述第一拍攝區域與前述攝影手段之間。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述一對第一偏光濾光器係形成正交偏光狀態。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之缺陷檢查用攝影裝置，還具備有：亮度調整手段，係用來調整照射至前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方，或透射前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方或者在前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述亮度調整手段係調整照射至前述第二拍攝區域，或透射前述第二拍攝區域或者在前述第二拍攝區域反射之光的亮度值。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，或前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間之衰減濾光器。
  20. 如申請專利範圍第17或18項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中， 前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段，且個別地調整照射至前述第一拍攝區域之光的亮度值及照射至前述第二拍攝區域之光的亮度值。
  21. 如申請專利範圍第15項所述之缺陷檢查用攝影裝置，還具備有：亮度調整手段，係用來調整照射至前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方，或透射前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方或者在前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述一對第一偏光濾光器係形成正交偏光狀態，前述亮度調整手段係包含有一對第一亮度調整用偏光濾光器，該一對第一亮度調整用偏光濾光器係以形成第一半正交偏光狀態之形態，配置於前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，以及前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間。
  23. 如申請專利範圍第21項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，或前述第二拍攝區域與前述攝影 手段之間之衰減濾光器。
  24. 如申請專利範圍第21項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，前述亮度調整手段係配置於前述光照射手段，且個別地調整照射至前述第一拍攝區域之光的亮度值及照射至前述第二拍攝區域之光的亮度值。
  25. 如申請專利範圍第22項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第三拍攝區域，前述亮度調整手段係包含有一對第二亮度調整用偏光濾光器，該一對第二亮度調整用偏光濾光器係以形成第二半正交偏光狀態之形態，配置於前述光照射手段與前述第三拍攝區域之間，以及前述第三拍攝區域與前述攝影手段之間，且調整照射至前述第三拍攝區域之光的亮度值。
  26. 如申請專利範圍第23或24項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第三拍攝區域，前述缺陷檢查用攝影裝置還具備有：一對第二偏光濾光器，係以形成第二半正交偏光狀態之形態，分別配 置於前述光照射手段與前述第三拍攝區域之間，以及前述第三拍攝區域與前述攝影手段之間。
  27. 如申請專利範圍第21項所述之缺陷檢查用攝影裝置，其中，前述一對第一偏光濾光器係形成第一半正交偏光狀態，前述亮度調整手段係包含有一對第一亮度調整用偏光濾光器，該一對第一亮度調整用偏光濾光器係以形成第二半正交偏光狀態之形態，配置於前述光照射手段與前述第二拍攝區域之間，以及前述第二拍攝區域與前述攝影手段之間。
  28. 一種缺陷檢查系統，具備有：申請專利範圍第1至27項中任一項所述之缺陷檢查用攝影裝置；以及檢出部，係根據利用前述缺陷檢查用攝影裝置而拍攝到的前述二維影像，來檢查出存在於前述膜中的缺陷。
  29. 一種膜製造裝置，具備有：申請專利範圍第28項所述之缺陷檢查系統。
  30. 一種缺陷檢查用攝影方法，係使用具備有光照射手段、攝影手段、第一偏光濾光器、及搬送手段之缺陷檢查用攝影裝置，進行為了檢查具有偏光特性的膜的缺陷所需的攝影之攝影方法，包含：第一偏光濾光器配置程序，係將前述第一偏光濾光 器以與前述膜形成正交偏光狀態或第一半正交偏光狀態之形態，配置於前述光照射手段與前述膜的拍攝區域之間，或前述膜的前述拍攝區域與前述攝影手段之間；搬送程序，係利用前述搬送手段將前述膜相對於前述光照射手段、前述攝影手段及前述第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送；光照射程序，係利用前述光照射手段照射光至前述膜的前述拍攝區域；以及攝影程序，係利用前述攝影手段將前述膜的前述拍攝區域拍攝成二維影像，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，在前述第一偏光濾光器配置程序中，係將前述第一偏光濾光器配置於前述光照射手段與前述第一拍攝區域之間，或前述第一拍攝區域與前述攝影手段之間。
  31. 如申請專利範圍第30項所述之缺陷檢查用攝影方法，其中，前述第一偏光濾光器係與前述膜形成正交偏光狀態。
  32. 如申請專利範圍第30項所述之缺陷檢查用攝影方法，還包含：亮度調整程序，係利用亮度調整手段來調整照射至前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方，或透射前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中 的至少一方或者在前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
  33. 一種缺陷檢查用攝影方法，係使用具備有光照射手段、攝影手段、一對第一偏光濾光器、及搬送手段之缺陷檢查用攝影裝置，進行為了檢查不具有偏光特性的膜的缺陷所需的攝影之攝影方法，包含：第一偏光濾光器配置程序，係將前述一對第一偏光濾光器以形成正交偏光狀態或第一半正交偏光狀態之形態，分別配置於前述光照射手段與前述膜的拍攝區域之間，以及前述膜的前述拍攝區域與前述攝影手段之間；搬送程序，係利用前述搬送手段將前述膜相對於前述光照射手段、前述攝影手段及前述一對第一偏光濾光器往搬送方向相對地搬送；光照射程序，利用前述光照射手段照射光至前述膜的前述拍攝區域；以及攝影程序，利用前述攝影手段將前述膜的前述拍攝區域拍攝成二維影像，前述拍攝區域係包含沿前述搬送方向分割出的第一拍攝區域及第二拍攝區域，在前述第一偏光濾光器配置程序中，係將前述一對第一偏光濾光器分別配置於前述光照射手段與前述第一拍攝區域之間，以及前述第一拍攝區域與前述攝影手段之間。
  34. 如申請專利範圍第33項所述之缺陷檢查用攝影方法，其中，前述一對第一偏光濾光器係形成正交偏光狀態。
  35. 如申請專利範圍第33項所述之缺陷檢查用攝影方法，還包含：亮度調整程序，係利用亮度調整手段來調整照射至前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方，或透射前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方或者在前述第一拍攝區域及前述第二拍攝區域之中的至少一方反射之光的亮度值。
  36. 一種缺陷檢查方法，包含申請專利範圍第30至35項中任一項所述之缺陷檢查用攝影方法，且包含缺陷檢出程序，該缺陷檢出程序係根據利用前述缺陷檢查用攝影方法而拍攝到的前述二維影像，來檢查出存在於前述膜中的缺陷。
  37. 一種膜的製造方法，包含：申請專利範圍第36項所述之缺陷檢查方法。
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