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TW201701316A - 鍵帽 - Google Patents

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TW201701316A
TW201701316A TW104119950A TW104119950A TW201701316A TW 201701316 A TW201701316 A TW 201701316A TW 104119950 A TW104119950 A TW 104119950A TW 104119950 A TW104119950 A TW 104119950A TW 201701316 A TW201701316 A TW 201701316A
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TW
Taiwan
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keycap
area
coating layer
atomizing
cap
Prior art date
Application number
TW104119950A
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English (en)
Inventor
何信政
葉亮達
林欽宏
Original Assignee
達方電子股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 達方電子股份有限公司 filed Critical 達方電子股份有限公司
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Abstract

鍵帽包括透光帽體、霧化結構及塗佈層。透光帽體具有內底面及外頂面。霧化結構形成於內底面。塗佈層形成於外頂面且具有鏤空圖案。鏤空圖案的區域與霧化結構的區域相對應。

Description

鍵帽
本發明是有關於一種鍵帽,且特別是有關於一種可提供霧化效果的鍵帽。
市面上的鍵盤有些具有背光功能,可以讓使用者在黑暗環境下使用。然而,由於有些鍵帽本身的顏色較淡,因此從鍵帽上方可看得到鍵帽下方的結構,影響鍵盤的外觀美感。
因此,亟需提出一種鍵帽,既可讓光線射出,同時可避免從鍵帽上方可看得到鍵帽下方的結構陰影。
因此,本發明提出一種鍵帽,具有霧化結構,可避免鍵帽下方的結構被看見。
根據本發明之一實施例,提出一種鍵帽。鍵帽包括一透光帽體、一霧化結構及一塗佈層。透光帽體具有一內底面及一外頂面。霧化結構形成於內底面。塗佈層形成於外頂面且具有鏤空圖案。鏤空圖案的區域與霧化結構的區域相對應。
根據本發明之另一實施例,提出一種鍵帽。鍵帽包括一透光帽體、一霧化結構及一塗佈層。透光鍵帽具有一外頂 面。霧化結構分布於透光鍵帽的內部。塗佈層形成於外頂面且具有一鏤空圖案,鏤空圖案的區域與霧化結構的區域相對應。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:
100、200‧‧‧鍵盤
110‧‧‧底板
110a‧‧‧破孔
120‧‧‧支撐機構
130‧‧‧薄膜開關層
131‧‧‧第一層
132‧‧‧間隔層
133‧‧‧第二層
134‧‧‧第一接點
135‧‧‧第二接點
140‧‧‧彈性體
150、250‧‧‧鍵帽
151‧‧‧透光帽體
152a‧‧‧鏤空圖案
151b‧‧‧內底面
151u‧‧‧外頂面
152‧‧‧塗佈層
153、253‧‧‧霧化結構
160‧‧‧導光板
160u‧‧‧上表面
L1‧‧‧光線
第1圖繪示依照本發明一實施例之鍵盤的局部剖視圖。
第2圖繪示依照本發明一實施例之鍵盤的局部剖視圖。
第1圖繪示依照本發明一實施例之鍵盤100的局部剖視圖。鍵盤100包括底板110、至少一支撐機構120、薄膜開關層130、至少一彈性體140、至少一鍵帽150及導光板160。為了避免圖示過於複雜,第1圖的支撐機構120、彈性體140及鍵帽150僅繪示單個,然另一實施例中,支撐機構120、彈性體140及鍵帽150個別的數量可以等於或超過二個。
支撐機構120設置於底板110與鍵帽150之間,用以升降鍵帽150。鍵帽150能上、下移動地連接於底板110之上方,致使鍵帽150相對於底板110於未按壓位置與按壓位置之間移動。如第1圖所示,支撐機構120例如是剪刀腳機構。
薄膜開關層130設於底板110上。薄膜開關層130包括第一層131、間隔層132、第二層133、第一接點134及第二接點135,其中,間隔層132位於第一層131與第二層133之間,第一接點134位於第一層131上,第二接點135位於第二層133上。當按壓鍵帽150往下時,彈性體 140抵壓薄膜開關層130,使第一接點134與第二接點135彼此電性接觸,以傳送按壓訊號給一電路板(未繪示)。
彈性體140設於鍵帽150與薄膜開關層130之間。當鍵帽150被按壓時,抵壓彈性體140使其形變,以提供鍵帽15一彈性回復力。如此一來,當釋放鍵帽150時,鍵帽150得以復位。
鍵帽150包括透光帽體151、霧化結構153及塗佈層152。透光帽體151具有內底面151b及外頂面151u。塗佈層152形成於透光帽體151的外頂面151u。塗佈層152具有鏤空圖案152a,使背光模組(未繪示)的光線L1在穿透透光帽體151後可從鏤空圖案152a出光,使鍵帽150呈現發光狀態。
此外,鏤空圖案152a的區域與霧化結構153的區域相對應;例如,霧化結構153的區域面積與鏤空圖案152a的區域面積可大致上相等,或者,霧化結構153的區域面積大於鏤空圖案152a的區域面積。在本實施例中,霧化結構153形成於透光帽體151的整個內底面151b,然亦可集中地形成於內底面151b的局部。
塗佈層152形成於外頂面151u。本實施例中,塗佈層152直接形成於外頂面151u,也就是說,塗佈層152與透光帽體151之間不具任何中介層。
塗佈層152較佳係淡色層,例如是白色、灰色、銀色等。。本實施例中,霧化結構153形成於透光帽體151的內底面151b。
霧化結構153可提供一霧化效果。詳細來說,入射至霧化結構153的光線L1會發生散射而產生霧化效果。如此一來,即使透光帽 體151及/或塗佈層152係可透光,透光帽體151內的結構(如彈性體140及/或支撐機構120)也不會從鏤空圖案152a露出。一實施例中,霧化結構153的剖面可以是圓形的一部分、橢圓形的一部分、多邊形的一部分或其組合。然,本發明實施例並不限定霧化結構153的剖面形狀,只要其可提供霧化效果即可。
霧化結構153例如是粗糙結構,其突出地形成於透光帽體151的內底面151b。另一實施例中,霧化結構153可具有咬花圖案,同樣可提供霧化效果。此外,霧化結構153與透光帽體151可於同一製程中一併形成。例如,霧化結構153與透光帽體151可採用塑膠射出製程一體成形。在射出製程中,射出模具的模穴內壁可具有對應霧化結構153的結構,使塑膠材料冷凝形成透光帽體151時,可同時形成霧化結構153。只要是可形成粗糙的霧化結構153即可,本發明實施例不限定霧化結構153的形成方式。
導光板160位於底板110下方。導光板160可引導光線L1從導光板160的上表面160u出光。上述底板110具有至少一破孔110a,從導光板160的上表面160u出光的光線L1透過破孔110a射向透光帽體151並從鏤空圖案152a出光。
第2圖繪示依照本發明一實施例之鍵盤200的局部剖視圖。鍵盤200包括底板110、至少一支撐機構120、薄膜開關層130、至少一彈性體140、至少一鍵帽250及導光板160。
鍵帽250包括透光帽體151、霧化結構253及塗佈層152。與上述實施例不同的是,本實施例的霧化結構253係顆粒狀,其分布 或摻雜於透光帽體151的內部。一實施例中,霧化結構253係二氧化鈦或其它合適的霧化顆粒。就材質而言,霧化結構253可以是純金屬、合金、塑膠或其組合。
霧化結構253的區域與透光帽體151的鏤空圖案152a的區域相對應。本實施例中,霧化結構253均勻地分布於透光帽體151的內部;另一實施例中,霧化結構253可集中地分布於透光帽體151的一局部。
霧化結構253可提供霧化效果,如此一來,即使透光帽體151及/或塗佈層152係可透光,透光帽體151內部的結構也不會從鏤空圖案152a露出。
綜合上述,由於本發明實施例的霧化結構,使透光帽體的內 部結構不致從鏤空圖案顯示出來。一實施例中,霧化結構可以是形成於透光帽體表面的粗糙結構;另一實施例中,霧化結構可以是分布於透光帽體內部的顆粒;再一實施例中,同一鍵帽可同時包含前述二種霧化結構。
綜上所述,雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾。因此,本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧鍵盤
110‧‧‧底板
110a‧‧‧破孔
120‧‧‧支撐機構
130‧‧‧薄膜開關層
131‧‧‧第一層
132‧‧‧間隔層
133‧‧‧第二層
134‧‧‧第一接點
135‧‧‧第二接點
140‧‧‧彈性體
150‧‧‧鍵帽
151‧‧‧透光帽體
152a‧‧‧鏤空圖案
151b‧‧‧內底面
151u‧‧‧外頂面
152‧‧‧塗佈層
153‧‧‧霧化結構
160‧‧‧導光板
160u‧‧‧上表面
L1‧‧‧光線

Claims (12)

  1. 一種鍵帽,包括:一透光帽體,具有一內底面及一外頂面;一霧化結構,形成於該內底面;以及一塗佈層,形成於該外頂面且具有一鏤空圖案,該鏤空圖案的區域與該霧化結構的區域相對應。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之鍵帽,其中該塗佈層直接形成於該外頂面。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之鍵帽,其中該塗佈層係白色或銀色。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之鍵帽,其中該霧化結構突出於該內底面。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之鍵帽,其中該霧化結構係粗糙結構。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之鍵帽,其中該霧化結構的剖面是圓形的一部分、橢圓形的一部分、多邊形的一部分或其組合。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之鍵帽,其中該霧化結構的區域面積大於該鏤空圖案的區域面積。
  8. 一種鍵帽,包括:一透光鍵帽,具有一外頂面;一霧化結構,分布於該透光鍵帽的內部;以及一塗佈層,形成於該外頂面且具有一鏤空圖案,該鏤空圖案的區域與該霧化結構的區域相對應。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之鍵帽,其中該塗佈層直接形成於該外頂面。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之鍵帽,其中該霧化結構係二氧化鈦。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之鍵帽,其中該塗佈層係白色或銀色。
  12. 如申請專利範圍第8項所述之鍵帽,其中該霧化結構的分布面積大於該鏤空圖案的區域面積。
TW104119950A 2015-06-22 2015-06-22 鍵帽 TW201701316A (zh)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI625751B (zh) * 2017-04-05 2018-06-01 達方電子股份有限公司 用以顯示圖像的按鍵組件
TWI669728B (zh) * 2018-07-25 2019-08-21 達方電子股份有限公司 按鍵及其鍵盤
TWI872915B (zh) * 2024-01-12 2025-02-11 群光電子股份有限公司 鍵帽結構及其製造方法

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