TW201626000A - 偏光板及其製造方法，以及偏光板套組、液晶面板、液晶顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供依序含有23℃時的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的保護膜、偏光片、第1黏著劑層及增亮膜之偏光板及其製造方法，以及含有該偏光板之偏光板套組、液晶面板、液晶顯示裝置。偏光板可更包含積層於保護膜的與偏光片側為相反側的面上之第2黏著劑層。

Description

偏光板及其製造方法，以及偏光板套組、液晶面板、液晶顯示裝置

本發明係關於偏光片的一側的面上積層保護膜而另一側的面上隔著黏著劑層積層增亮膜之偏光板及其製造方法。而且，本發明係關於包含該偏光板的偏光板套組、液晶面板及液晶顯示裝置。

近年，伴隨以智慧型手機為代表的液晶移動式終端的大型化，為了以有限的電池容量實現長時間的驅動，使用增亮膜以提高背光源的利用效率。另一方面，從設計、攜帶性的面向，液晶移動式終端的薄型化的要求日益提高，對於所使用的偏光板亦進一步要求薄型輕量化。

增亮膜，係在液晶顯示裝置的背光源的光或其反射光入射時，具有反射指定偏光軸的直線偏光或指定方向的圓偏光、穿透其他光的性質的膜。例如，在配置於液晶單元的背光源側的偏光片(吸收型直線偏光片)的背 光源側，藉由配置增亮膜，使背光源的光入射增亮膜時，能夠使只有指定偏光狀態(可穿透偏光片的偏光狀態)的光穿透而供應予偏光片，另一方面使指定偏光狀態以外的光不穿透而反射。若在比增亮膜更靠近背光源側設置反射層等，由該增亮膜面反射的光，藉由反射層而使其行進方向逆轉，可再入射增亮膜，此時再入射的光的一部分或全部成為指定偏光狀態的光，穿透增亮膜，可供應予偏光片。

如此，若使用增亮膜，會被偏光片吸收的偏光的光不朝偏光片側穿透而使其反射，在增亮膜-反射層之間藉由重複的反射、逆轉，將該偏光的光轉換成可穿透偏光片的偏光的光，可將其供應予偏光片。藉此，因可提高背光源的光之利用效率，可減少消耗電力，而且在相同的消耗電力(背光源的光量)進行比較的情況，與不使用增亮膜時比較，可使畫面變亮(例如日本公開專利特開平11-248941號公報、特開平11-248942號公報、特開平11-064840號公報以及特開平11-064841號公報)。

於日本專利公開特開2010-039458號公報，揭露於偏光片上，隔著黏著劑層(感壓式接著劑層)，積層厚度40~100μm的增亮膜之偏光板。

具有增亮膜的偏光板，通常隔著積層於與增亮膜側為相反側的外面的黏著劑層，貼合其他光學構件(例如液晶顯示裝置的液晶單元(liquid crvstal cell)等)後使用。此時，隔著黏著劑層將偏光板貼合於其他光學構件後， 在認知有任何缺陷的情況時，有時需要將貼合的偏光板與黏著劑層一起剝離後重新貼合新的偏光板於其他光學構件的所謂重工操作。所以，對隔著黏著劑層貼合的偏光板，要求重工性。所謂重工性，係指於該重工操作中，將偏光板與黏著劑層一起剝離去除時之剝離性。在本說書中，若偏光板及黏著劑層不破裂，用適度的力可較容易地剝離除去的話，視為具有良好的重工性。

本發明的目的，係提供在偏光片的一側的面上積層保護膜、另一側的面上隔著黏著劑層積層增亮膜之具有良好重工性的偏光板及其製造方法。而且，本發明的其他目的，係提供包含該偏光板的偏光板套組、液晶面板、及液晶顯示裝置。

本發明係提供以下所示的偏光板及其製造方法以及液晶顯示裝置。

[1]偏光板，依序包括23℃時的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的保護膜、偏光片、第1黏著劑層、及增亮膜。

[2]如[1]記載的偏光板，其中前述第1黏著劑層與前述增亮膜接觸。

[3]如[1]或[2]記載的偏光板，其中前述偏光片與前述第1黏著劑層接觸。

[4]如[1]~[3]中任一項記載的偏光板，其中前述增亮膜的前述第1黏著劑層側的表面經表面活性化處理。

[5]如[4]記載的偏光板，其中前述表面活性化處理為電暈處理。

[6]如[1]~[5]中任一項記載的偏光板，其中前述增亮膜的厚度為10~30μm。

[7]如[1]~[6]中任一項記載的偏光板，其中前述偏光片的厚度為15μm以下。

[8]如[1]~[7]中任一項記載的偏光板，其中前述第1黏著劑層，於23~80℃的溫度範圍之儲存彈性模數為0.15~1MPa，厚度為3~20μm。

[9]如[1]~[8]中任一項記載的偏光板，其中前述保護膜在波長590nm之面內相位差值為10nm以下，在波長590nm之厚度方向相位差值的絕對值為10nm以下。

[10]如[1]~[9]中任一項記載的偏光板，其中前述保護膜係由纖維素系樹脂所構成。

[11]如[1]~[10]中任一項記載的偏光板，其中更包含積層於前述保護膜的與前述偏光片側為相反側的面上之第2黏著劑層。

[12]偏光板套組，係配置於液晶單元的辨識側的辨識側偏光板與配置於液晶單元的背面側的背面側偏光板的套組；前述背面側偏光板為如[1]~[11]中任一項記載的偏光板；前述背面側偏光板中，從將其配置於前述液晶單元的 背面側時會接觸前述液晶單元的表面起，至前述增亮膜的前述黏著劑層側的表面為止之距離為100μm以下；將前述辨識側偏光板於85℃加熱100小時時在吸收軸方向的尺寸變化率、與將前述背面側偏光板於85℃加熱100小時時在吸收軸方向的尺寸變化率的比為超過1且為1.4以下。

[13]液晶面板，包含液晶單元以及如[12]記載的偏光板套組；於前述液晶單元的辨識側設置有前述辨識側偏光板，於前述液晶單元的背面側設置有前述背面側偏光板。

[14]液晶顯示裝置，包含液晶單元以及如[1]~[11]中任一項記載的偏光板或如[12]記載的偏光板套組。

[15]偏光板的製造方法，該偏光板係依序含有23℃時的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的保護膜、偏光片、第1黏著劑層、及增亮膜，該製造方法包含：對前述增亮膜的前述第1黏著劑層側的表面實施表面活性化處理的步驟，以及在已實施前述表面活性化處理的前述表面上積層前述第1黏著劑層的步驟。

根據本發明，在偏光片的一側的面上積層保護膜、在另一側的面上隔著黏著劑層積層增亮膜的偏光板，可賦予良好的重工性。關於本發明的偏光板，可適合應用於以液晶顯示裝置為代表的圖像顯示裝置，特別是中 小型移動式終端(平板、智慧型手機等)用的液晶顯示裝置。

1‧‧‧偏光板

2‧‧‧液晶單元

3‧‧‧背光源

4‧‧‧辨識側偏光板

5‧‧‧背面側偏光板

6‧‧‧液晶面板

7‧‧‧液晶顯示裝置

10‧‧‧偏光片

20‧‧‧第1黏著劑層

30‧‧‧增亮膜

40‧‧‧保護膜

50‧‧‧第2黏著劑層

51‧‧‧第3黏著劑層

60‧‧‧分隔構件

70‧‧‧分隔構件

80‧‧‧分隔構件

90‧‧‧表面保護膜

100‧‧‧積層體

200‧‧‧積層體

300‧‧‧積層體

H‧‧‧從接觸液晶單元的表面至增亮膜的第1黏著劑層側的表面之距離

第1圖係表示關於本發明的偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。

第2圖(a)及(b)係表示關於本發明的偏光板的製造方法之一例的剖面示意圖。

第3圖(a)及(b)係表示關於本發明的偏光板的製造方法之另一例的剖面示意圖。

第4圖係用以說明關於本發明的偏光板套組、液晶面板及液晶顯示裝置的構成之剖面示意圖。

以下，一邊表示實施的形態，一邊詳細地說明本發明。

〈偏光板〉

(1)偏光板的構成

第1圖係表示關於本發明的偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。第1圖所示的偏光板1，依序包括保護膜40、偏光片10、第1黏著劑層20及增亮膜30。本發明的偏光板，可再包括其他膜、層，例如第1圖所示的偏光板1，於保護膜40的外面(與偏光片10側為相反側的面)上積層第2黏著劑層50；於第2黏著劑層50的外面(與保護膜40側為相反側的面)上積層分隔構件60。第2黏著劑層50，可使用於將偏光板貼附於其他構件(例如液晶單元、其他光 學膜)。分隔構件60，係直到第2黏著劑層50貼合於其他構件為止用以保護其表面的暫時貼附的膜。

(2)偏光片

偏光片10，係具備吸收具有平行於其吸收軸的振動面的直線偏光、穿透具有垂直於其吸收軸(平行於穿透軸)的振動面的直線偏光的性質之吸收型偏光片，可適合使用二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜的偏光膜。偏光片10，例如可藉由包含一軸延伸聚乙烯醇系樹脂膜的步驟；將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色而使二色性色素吸附的步驟；吸附二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理的步驟；以及藉由硼酸水溶液處理後進行水洗的步驟之方法製造。

作為聚乙烯醇系樹脂膜，可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯外，例如乙酸乙烯酯與可共聚合的其他單體之共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體之例，包括不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類及具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85~100莫耳%的程度，98莫耳%以上較佳。聚乙烯醇系樹脂可被改質，例如可使用經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，通常為1000~10000的程度，較佳為1500~5000的程度。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，可根據JIS K 6726求得。

如此的聚乙烯醇系樹脂製作成膜者，被使用作為偏光片10(偏光膜)的原胚膜。聚乙烯醇系樹脂製膜的方法，無特別限制，可採用習知的方法。聚乙烯醇系原胚膜的厚度，無特別限制，但為了使偏光片10的厚度為15μm以下，以使用5~35μm的程度者較佳，更佳為20μm以下。欲延伸厚度超過35μm的聚乙烯醇系原胚膜以得到15μm以下的偏光片10時，必須提高延伸倍率，即使偏光片10的厚度為15μm以下的情況，在高溫環境下的尺寸收縮亦變大。而且，於厚度未達5μm的情況，延伸時的操作性差，偏光片製造時容易產生如斷裂般的缺陷。

聚乙烯醇系樹脂膜的一軸延伸，可在二色性色素的染色前、與染色同時、或在染色後進行。於一軸延伸在染色後進行的情況，該一軸延伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。而且，亦可在該等之複數階段中進行一軸延伸。

一軸延伸時，可在轉速不同的滾輪間進行一軸延伸，亦可使用熱滾輪進行一軸延伸。而且，一軸延伸，可為在大氣中進行延伸的乾式延伸，亦可為在使用溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜膨脹的狀態下進行延伸的濕式延伸。延伸倍率，通常為3~8倍的程度。

作為將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色的方法，例如可採用將該膜浸漬於含有二色性色素的水溶液的方法。作為二色性色素，可使用碘或二色性有機染料。再者，聚乙烯醇系樹脂膜，以在染色處理前先實施對 水的浸漬處理較佳。

作為藉由碘的染色處理，通常可採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀的水溶液的方法。該水溶液中碘的含量，對水每100重量份，可為0.01~1重量份的程度。碘化鉀的含量，對水每100重量份，可為0.5~20重量份的程度。而且，該水溶液的溫度，可為20~40℃的程度。另一方面，作為藉由二色性有機染料的染色處理，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性有機染料的水溶液的方法。含有二色性有機染料的水溶液，亦可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。該水溶液中二色性有機染料的含量，對水每100重量份，可為1×10^-4~10重量份的程度。該水溶液的溫度，可為20~80℃的程度。

作為藉由二色性色素染色後的硼酸處理，通常採用將染色後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液的方法。於使用碘作為二色性色素的情況，該含有硼酸的水溶液以含有碘化鉀較佳。含有硼酸的水溶液中硼酸的量，對水每100重量份，可為2~15重量份的程度。該水溶液中碘化鉀的含量，對水每100重量份，可為0.1~15重量份的程度。該水溶液的溫度，可為50℃以上，例如50~85℃。

硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜，通常進行水洗處理。水洗處理，例如藉由將硼酸處理過的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中進行。水洗處理中水的溫度，通常為5~40℃的程度。

水洗後，實施乾燥處理，得到偏光片10。乾燥處理，可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器進行。偏光片10的厚度為15μm以下較佳，更佳為10μm以下。偏光片10的厚度設定為15μm以下，有利於偏光板甚至液晶面板及液晶顯示裝置的薄膜化。偏光片10的厚度通常為4μm以上。

(3)保護膜

保護膜40，係積層於偏光片20的與第1黏著劑層20側為相反側的面上的膜。作為保護膜40，可使用23℃下的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的膜。藉由使用拉伸彈性模數為該範圍內的保護膜40，改善隔著積層於其外面的第2黏著劑層50將偏光板1貼合於其他構件時的重工性，第2黏著劑層50及偏光板1不破裂，可用適度的力較容易將偏光板1與第2黏著劑層50一起剝離除去。從重工性的觀點，保護膜40在23℃的拉伸彈性模數，較佳為3400~6500MPa。拉伸彈性模數，係根據後述實施例項下的記載進行測定。

保護膜40，只要是23℃下的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的膜，無特別限制，較佳為具有透光性，更佳為包含光學上透明的熱塑性樹脂膜。作成膜時可顯示上述範圍內的拉伸彈性模數的熱塑性樹脂，例如纖維素系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等。較佳為纖維素系樹脂。

所謂纖維素系樹脂，係指從棉籽絨或木材 紙漿(闊葉樹紙漿、針葉樹紙漿)等原料纖維素所得之纖維素的羥基之氫原子的一部分或全部，被乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代之纖維素有機酸酯或纖維素混合有機酸酯(纖維素酯系樹脂)。例如纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯及該等的混合酯等所構成者。其中，較佳為三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯。

將保護膜40的相位差值控制於適合液晶顯示裝置的值亦為有用。例如於平面切換(IPS)模式的液晶顯示裝置，使用實質上相位差值為0的膜較佳。所謂實質上相位差值為0，係指在波長590nm之面內相位差值為10nm以下，在波長590nm之厚度方向相位差值的絕對值為10nm以下。

依據液晶顯示裝置的模式，亦可對保護膜40進行延伸及/或收縮加工以賦予適合的相位差值。

保護膜40的厚度，可為1~100μm的程度，但從強度、操作性等的觀點，以5~60μm較佳、5~50μm更佳。只要是該範圍內的厚度，可在機械上保護偏光片10，縱使暴露於濕熱環境下，偏光片10不收縮，可保持安定的光學特性。

保護膜40，於其外面(與偏光片10側為相反側的面)，亦可為包含如硬塗層、抗眩層、光擴散層、相位差層、抗反射層、帶電防止層、抗污層般的表面處理層(塗覆層)或光學層者。於保護膜40為包含成為基材的熱塑性 樹脂膜及積層於其外面的表面處理層或光學層的情況，上述23℃下的拉伸彈性模數，係包含熱塑性樹脂膜及表面處理層或光學層的全體之拉伸彈性模數。

保護膜40，可隔著接著劑層貼合於偏光片10。作為形成接著劑層的接著劑，可使用水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。

作為水系接著劑，例如聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑、水系二液型胺酯(urethane)系乳化接著劑等。其中，適合使用聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑。作為聚乙烯醇系樹脂，除乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯經皂化處理所得之乙烯醇同元聚合物外，可使用乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體的共聚物經皂化處理所得之聚乙烯醇系共聚物或該等的羥基部分改質的改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑，可含有醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。

於使用水系接著劑的情況，偏光片10與保護膜40貼合後，為了除去包含於水系接著劑中的水，以實施乾燥步驟較佳。乾燥步驟後，可設置例如於20~45℃程度的溫度下熟成的熟成步驟。

所謂上述活性能量線硬化性接著劑，係指藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，例如包含聚合性化合物及光聚合起始劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。作為聚合性化合 物，例如光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體等光聚合性單體，或來自光聚合性單體的寡聚物等。作為光聚合起始劑，例如包含藉由照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性物種之物質。作為包含聚合性化合物及光聚合起始劑的活性能量線硬化性接著劑，可使用例如包含光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑者較佳。

於使用活性能量線硬化性接著劑的情況，偏光片10與保護膜40貼合後，依需要進行乾燥步驟，然後，進行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量線的光源，無特別限制，較佳為具有波長400nm以下之發光分佈之紫外線，具體而言可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。

偏光片10與保護膜40貼合時，於該等的至少一者的貼合面，可實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等。

(4)第1黏著劑層

第1黏著劑層20，係存在於偏光片10與增亮膜30之間的層。第1黏著劑層20，典型者係使偏光片10與第1黏著劑層20接觸之方式直接積層於偏光片10，亦可於偏光片10上貼合保護膜，於其上積層第1黏著劑層20。

第1黏著劑層20，可由如(甲基)丙烯酸系、 橡膠系、胺酯(urethane)系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等樹脂為主成分的黏著劑套組成物所構成。其中，適合為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為基質聚合物之黏著劑套組成物。黏著劑套組成物，可為活性能量線硬化型或熱硬化型。再者，於本說明書，所謂「(甲基)丙烯酸」係指選自丙烯酸及甲基丙烯酸中之至少一者。其他附「(甲基)」的用語亦同。

作為上述(甲基)丙烯酸系基質聚合物，適合使用例如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯系基質聚合物、或使用2種以上該等(甲基)丙烯酸酯的共聚合系基質聚合物。於基質聚合物，較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。

黏著劑套組成物，通常更含有交聯劑。作為交聯劑，例如2價以上的金屬離子，與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；聚胺化合物，與羧基間形成醯胺鍵結者；聚環氧化合物或聚醇，與羧基之間形成酯鍵結者；聚異氰酸酯化合物，與羧基之間形成醯胺鍵結者。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。

所謂活性能量線硬化型黏著劑套組成物，係指具有接受如紫外線、電子線等活性能量線的照射而硬 化的性質，照射活性能量線前也有黏著性，可與膜等被附著體密合，藉由活性能量線的照射而硬化，具有可調整密合力的性質之黏著劑套組成物。活性能量線硬化型黏著劑套組成物以紫外線硬化型較佳。活性能量線硬化型黏著劑套組成物，例如可為除基質聚合物、交聯劑外更含有活性能量線聚合性化合物。再者，依據需要，可含有光聚合起始劑、光增感劑等。

黏著劑套組成物，可包含：賦予光散射性用的微粒子；珠粒；基質聚合物以外的樹脂；黏著性賦予劑；填充劑；抗氧化劑；紫外線吸收劑；顏料；著色劑等添加劑。

第1黏著劑層20，可藉由將上述黏著劑套組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上，使其乾燥而形成。基材，可為偏光片10、增亮膜30、分隔構件等。於使用活性能量線硬化型黏著劑套組成物的情況，於所形成的黏著劑層，藉由照射活性能量線，可成為所期望的硬化物。

第1黏著劑層20以在23~80℃的溫度範圍下顯示0.15~1MPa的儲存彈性模數者較佳。藉此，於濕熱環境下可抑制伴隨偏光片10的收縮而容易產生的尺寸變化，提高偏光板的耐久性。而且，搭載偏光板的液晶面板或液晶顯示裝置(例如中小型移動式終端用的液晶顯示裝置)放置於濕熱環境下的情況，因也可抑制偏光板的移動，可提高液晶面板或液晶顯示裝置的信賴性。

所謂「23~80℃的溫度範圍下顯示0.15~1 MPa的儲存彈性模數」，係指在該範圍的任一溫度，儲存彈性模數為上述範圍內的值。儲存彈性模數，因通常隨溫度上升而遞減，23℃及80℃之儲存彈性模數只要皆在上述範圍內，於該範圍的溫度，可顯示上述範圍內的儲存彈性模數。第1黏著劑層20的儲存彈性模數，可使用市售的黏彈性測定裝置，例如REOMETRIC公司製的黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA 11」進行測定。

作為調整儲存彈性模數為上述範圍的方法，例如於包含基質聚合物及交聯劑的黏著劑套組成物中，再添加寡聚物，具體者為胺酯(甲基)丙烯酸酯系寡聚物，成為活性能量線硬化型黏著劑套組成物(較佳為紫外線硬化型黏著劑套組成物)。更佳為照射活性能量線，使黏著劑層適度地硬化。

第1黏著劑層20的厚度可為1~40μm，從一邊保持良好的加工性一邊抑制偏光板的尺寸變化的觀點，較佳為3~25μm(例如3~20μm)。

(5)增亮膜

增亮膜30，也稱為反射型偏光膜，可使用具有將來自光源(背光源)的射出光分離為穿透偏光與反射偏光或散射偏光的功能之偏光轉換元件。如上述，藉由配置增亮膜30於偏光片10上，利用反射偏光或散射偏光之遞迴光，可提高從偏光片10射出的直線偏光的射出效率。增亮膜30，通常與第1黏著劑層20接觸積層。

增亮膜30，例如可為異向性反射偏光片。 異向性反射偏光片之一例為穿透一振動方向的直線偏光而反射另一振動方向的直線偏光之異向性多重薄膜，其具體例為3M製的DBEF(特開平4-268505號公報等)。異向性反射偏光片的另一例為膽固醇液晶層與λ/4板的複合體，其具體例為日東電工製的PCF(特開平11-231130號公報等)。異向性反射偏光片的又一例為反射網格偏光片，其具體例為在金屬實施細微加工後在可見光區域也射出反射偏光之金屬格子反射偏光片(美國專利第6288840號說明書等)、添加金屬微粒子於高分子基質後進行延伸而成之膜(特開平8-184701號公報)。

增亮膜30之與第1黏著劑層20為相反側的面，可設置如硬塗層、抗眩層、光擴散層、具有1/4波長的相位差值的相位差層等光學層。藉由光學層的形成，可提高與背光膠帶的密合性、顯示圖像的均勻性。增亮膜30的厚度，可為10~100μm的程度，從偏光板的薄膜化的觀點，較佳為10~50μm，更佳為10~30μm。

關於本發明的偏光板，於增亮膜30之第1黏著劑層20側的表面，以實施表面活性化處理為佳。該表面活性化處理，係在增亮膜30與第1黏著劑層20的貼合前進行。藉此，於濕熱環境下(例如60℃、90%RH的濕熱耐久性測試下)不易產生增亮膜30與第1黏著劑層20之間的剝離，可成為濕熱耐久性佳的偏光板1。

所謂放置於濕熱環境下時，於偏光板的端部，在增亮膜30與第1黏著劑層20的界面產生剝離的問 題，係於以偏光片10與第1黏著劑層20接觸之方式直接積層第1黏著劑層20於偏光片10的情況、增亮膜30的厚度小的情況特別顯著，但即使於如此的情況，藉由對增亮膜30的表面實施表面活性化處理，可有效地消除該問題。

表面活性化處理，可為表面的親水化處理，可為乾式處理，亦可為濕式處理。作為乾式處理，例如電暈處理、電漿處理、如電弧放電等放電處理；火焰處理；臭氧處理；UV臭氧處理；如紫外線處理、電子線處理等電離活性線處理等。作為濕式處理，例如使用如水、丙酮等溶劑之超音波處理、鹼處理、錨定塗覆(anchor-coating)處理等。該等處理，可單獨進行，亦可套組合2種以上進行。

其中，從濕熱環境下增亮膜30的剝離抑制效果及偏光板的生產性的觀點，表面活性化處理以電暈處理及/或電漿處理較佳。藉由該等表面活性化處理，即使於增亮膜30的厚度小至30μm以下的情況，仍可有效地抑制第1黏著劑層20與增亮膜30之間的剝離。再者，於第1黏著劑層20之增亮膜30側的表面，亦可一併實施表面活性化處理，但即使只於增亮膜30的表面實施表面活性化處理，亦可得到充分的效果。意外的是相反地只在第1黏著劑層20之增亮膜30側的表面實施表面活性化處理的情況，缺乏效果。

(6)第2黏著劑層及分隔構件

積層於保護膜40的外面之第2黏著劑層50，係為了 偏光板貼附於其他構件(例如液晶單元、其他光學膜)而設置的層。關於構成第2黏著劑層50的黏著劑套組成物的套組成，可引用關於第1黏著劑層20的上述記載。第2黏著劑層50的儲存彈性模數，可與第1黏著劑層20相同，亦可為不同。

分隔構件60，係在第2黏著劑層50貼合於其他構件前為了保護其表面而暫時貼附的膜，可使用例如在由聚對苯二甲酸乙二酯等透明樹脂所構成的膜，實施藉由聚矽氧系等離型劑之處理者。於第1黏著劑層20的表面，為了在與增亮膜貼合前保護其表面，可貼附與上述相同的分隔構件。

〈偏光板的製造方法〉

關於本發明的偏光板的製造方法，係依序包含23℃下的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的保護膜、偏光片、第1黏著劑層及增亮膜的偏光板的製造方法，包括下述步驟：對增亮膜的第1黏著劑層側的表面，實施表面活性化處理的第1步驟；以及於實施表面活性化處理的前述表面上，積層第1黏著劑層的第2步驟。

參考第2圖，說明如第1圖所示的偏光板1的製造方法的一實施態樣係如下述。首先，於偏光片10的單面隔著接著劑層貼合保護膜40，於其上積層第2黏著劑層50，並且於偏光片10的另一面貼合第1黏著劑層20，得到第2圖(a)所示的層構成的積層體100。如圖所示，於 第2黏著劑層50的外面暫時貼附分隔構件60，於第1黏著劑層20的外面暫時貼附分隔構件70。

然後，從積層體100的第1黏著劑層20剝離除去分隔構件70後，於其剝離面，以上述第1步驟，於貼合面(積層面)積層事先實施表面活性化處理的增亮膜30，得到偏光板1(第2圖(b)、第2步驟)。於第1黏著劑層20的與增亮膜30的貼合面，亦可實施表面活性化處理。

於積層體100的製作，在可得到依序包含第2黏著劑層50/保護膜40/偏光片10/第1黏著劑層20的層構成下，積層的順序不限於上述的例。例如，可為於偏光片10的一面積層保護膜40，於其上設置第2黏著劑層50，然後於偏光片10的另一面積層第1黏著劑層20之順序，亦可為於偏光片10的一面積層保護膜40，於偏光片10的另一面積層第1黏著劑層20，然後於保護膜40上設置第2黏著劑層50之順序。

增亮膜30朝積層體100的第1黏著劑層20之貼合方法，可為單片式貼合法，亦可為日本國特開2004-262071號公報記載的薄片‧捲筒複合貼合法。此外，在可用長條狀生產，且所需數量大的情況，係選擇以其穿透軸成為寬度方向之方式經延伸者作為增亮膜，並選擇以其穿透軸成為寬度方向之方式經延伸者作為偏光片，藉此，亦可應用捲筒對捲筒(rall to roll)的貼合方法(關於下述實施態樣也相同)。

然後，參考第3圖，說明如第1圖所示的偏 光板1的製造方法的其他實施態樣係如下述。首先，於偏光片10的一面，隔著接著劑層貼合保護膜40，於其上積層第2黏著劑層50，得到第3圖(a)所示的層構成的積層體200。如圖所示，亦可於第2黏著劑層50的外面暫時貼附分隔構件60，於偏光片10的外面暫時貼附表面保護膜90。於保護膜40的與第2黏著劑層50的貼合面，以及第2黏著劑層50的與保護膜40的貼合面之至少一者，以及偏光片10的與表面保護膜90的貼合面，以及表面保護膜90的與偏光片10的貼合面之至少一者，可進行電暈處理、電漿處理等表面活性化處理。

另一方面，在上述第1步驟，於增亮膜30的表面實施表面活性化處理後，於該表面積層第1黏著劑層20，得到積層體300。第1黏著劑層20之與增亮膜30的貼合面，亦可進行如電暈處理、電漿處理等表面活性化處理。如圖所示，於第1黏著劑層20的外面，可暫時貼附分隔構件80。

然後，從積層體300的第1黏著劑層20剝離除去分隔構件80，從積層體200的偏光片10剝離除去表面保護膜90後，於偏光片10上貼合第1黏著劑層20，得到偏光板1(第3圖(b)、第2步驟)。

於具備表面保護膜90的積層體200的製作，在可得到依序包含第2黏著劑層50/保護膜40/偏光片10/表面保護膜90的層構成下，積層的順序不限於上述的例。例如，可為於偏光片10的一面積層保護膜40，於其 上設置第2黏著劑層50，然後於偏光片10的另一面積層表面保護膜90之順序，亦可為於偏光片10的一面積層保護膜40，於偏光片10的另一面積層表面保護膜90，然後於保護膜40上設置第2黏著劑層50之順序。

〈偏光板套組、液晶面板及液晶顯示裝置〉

第4圖係說明關於本發明的偏光板套組、液晶面板及液晶顯示裝置的構成的剖面示意圖。上述關於本發明的偏光板，較佳為可應用於偏光板套組、液晶面板及液晶顯示裝置。參考第4圖說明時，所謂偏光板套組，係指配置於液晶單元2的辨識側的辨識側偏光板4與配置於液晶單元2的背面側的背面側偏光板5的套組合。辨識側偏光板4係配置於液晶單元2的辨識側的偏光板，背面側偏光板5係配置於液晶單元2的背面側、亦即背光源3側的偏光板。於第4圖的例，作為背面側偏光板5，使用第1圖所示的偏光板(已剝離除去分隔構件60者)。所謂液晶面板6，係指液晶單元2與上述偏光板套組組合而成者，具體而言，係將辨識側偏光板4配置於液晶單元2的辨識側、將背面側偏光板5配置於液晶單元2的背面側而成之光學構件。於液晶面板6，辨識側偏光板4、背面側偏光板5分別貼合於液晶單元2的辨識側的表面、背面側的表面。對液晶單元2的各偏光板的貼合，可隔著黏著劑層(第4圖所示的第2黏著劑層50、第3黏著劑層51)進行。液晶顯示裝置7，係包含液晶單元2與偏光板(通常為上述偏光板套組)的套組合，亦即包含液晶面板6的圖像顯示裝置。液晶顯示裝 置7，更包含配置於液晶面板6的背面側的背光源3。液晶單元2的驅動方式，可為傳統習知的任意方式，較佳為IPS模式。根據關於本發明的偏光板，因重工性佳，可生產性良好地製造液晶面板及液晶顯示裝置。而且，使用關於本發明的偏光板的液晶面板6及液晶顯示裝置7，可成為濕熱耐久性佳者。

關於本發明的偏光板，通常使用作為背面側偏光板5。於關於本發明的偏光板被配置作為背面側偏光板5的情況，作為辨識側偏光板4，無特別限制，可選擇任意的偏光板。辨識側偏光板4，可為偏光片的單側的面具有保護膜的偏光板，亦可為偏光片的兩側的面具有保護膜的偏光板。作為辨識側偏光板4，為了抑制降低其收縮力，與背面側偏光板5同樣將偏光片的厚度設定為15μm以下較佳。在可賦予良好的光學特性(偏光特性等)的點，偏光片的厚度通常為3μm以上。

關於背面側偏光板5(關於本發明的偏光板)，將其配置於液晶單元2的背面側時，從接觸液晶單元2的表面(於第4圖的例係第2黏著劑層50的液晶單元側的表面)至增亮膜30的第1黏著劑層20側的表面(偏光片10側的表面)的距離H，由於在提高導入增亮膜30的效果上有利，較佳為100μm以下，又更佳為80μm以下，又更佳為60μm以下。距離H，通常為5μm以上，更典型者為10μm以上。

而且，於關於本發明的液晶面板6，使用辨 識側偏光板5於85℃下加熱100小時時的吸收軸方向的尺寸變化率A與背面側偏光板4於85℃下加熱100小時時的吸收軸方向的尺寸變化率B的比A/B為超過1且1.4以下之偏光板套組較佳。藉由採用如此的偏光板套組，液晶面板6的翹曲的絕對量，可降低至0.5mm以下。尺寸變化率的比A/B，更佳為1.15~1.35，於該情況，翹曲的絕對量可降低至0.3mm以下。

從降低液晶面板6的翹曲的絕對量的觀點，辨識側偏光板5於85℃下加熱100小時時的吸收軸方向的尺寸變化率A為1.0%以上較佳，1.1%以上更佳。而且，尺寸變化率A為1.4%以下較佳，1.3%以下更佳。從降低液晶面板6的翹曲的絕對量的觀點，背面側偏光板4於85℃下加熱100小時時的吸收軸方向的尺寸變化率B為1.1%以下較佳，1.0%以下更佳。而且，尺寸變化率B為0.5%以上較佳，0.8%以上更佳。

偏光板於85℃下加熱100小時時的吸收軸方向的尺寸變化率A、B，係藉由以下方式測定。首先，將偏光板裁切為長度方向(吸收軸方向)100mm×寬度方向100mm的大小，於溫度23℃、相對濕度55%的環境下靜置1天，測定長度方向(吸收軸方向)的尺寸(L₀)。然後，測定靜置於溫度85℃的高溫環境下100小時後的長度方向(吸收軸方向)的尺寸(L₁)。由該等的測定結果，藉由下述式：尺寸變化率(%)=[(L₀-L₁)/L₀]×100求得尺寸變化率(%)。

由辨識側偏光板4的尺寸變化率A與背面側偏光板5的尺寸變化率B，藉由下述式：尺寸變化率的比=A/B求得尺寸變化率的比。

關於本發明的液晶面板6，辨識側偏光板4的偏光片的吸收軸方向與具有長邊方向與短邊方向的方形形狀的液晶單元2的短邊方向平行、背面側偏光板5的偏光片的吸收軸方向與液晶單元2的長邊方向平行的情況，抑制翹曲量的效果大，所以較佳。

[實施例]

以下，顯示實施例及比較例更具體說明本發明，但本發明不限於該等例。再者，膜的厚度、拉伸彈性模數、相位差值及黏著劑層的儲存彈性模數、偏光板的尺寸變化率及液晶面板的翹曲量，係根據下述測定。

(1)厚度

使用尼康公司(Nikon)製數位測微計「MH-15M」測定。

(2)拉伸彈性模數

從膜切出2.5cm寬度×10cm長度的測試片。然後，用拉伸測試機[(股)島津製作所製AUTOGRAPH AG-1S測試機]的上下夾具，以使夾具的間隔成為5cm之方式，夾住上述測試片的長邊方向的兩端，在23℃的環境下，以拉伸速度1mm/分拉伸，從所得的應力-應變曲線的初期直線斜率，算出23℃下的拉伸彈性模數。對膜的輸送方向(MD方向)及與該輸送方向垂直的方向(TD方向)進行該測定，其平均 值作為膜的拉伸彈性模數。

(3)面內相位差值及厚度方向相位差值

使用以平行尼柯爾(Nicol)旋轉法為原理之相位差計之王子計測機器(股)公司製的「KOBRA-ADH」，於23℃，以波長590nm、483nm或755nm的光進行測定。

(4)儲存彈性模數

黏著劑層的儲存彈性模數G’，係根據以下的(I)~(III)測定。

(I)從黏著劑層取出2個25±1mg的樣品，分別成形為略球狀。

(II)所得的略球狀樣品，貼附於I型治具的上下面，上下面一起用L型治具夾住。測定樣品的構成為L型治具/黏著劑/I型治具/黏著劑/L型治具。

(III)如此製作的樣品的儲存彈性模數G’，使用IT計測制御(股)公司製的動態黏彈性測定裝置「DVA-220」，在溫度23℃、頻率1Hz、初期變形1N的條件下測定。

(5)偏光板的尺寸變化率

根據上述的測定順序，使用尼康公司(Nikon)製二維測定器「NEXIV VMR-12072」進行測定。

(6)液晶面板的翹曲量

將所製作的液晶面板靜置於85℃的環境下240小時後，使辨識側偏光板為上側，放置於尼康公司(Nikon)製二維測定器「NEXIV VMR-12072」的測定台上。然後，聚焦於測定台的表面，以此處為基準，再聚焦於液晶面板的4 角部、4邊的各中央及液晶面板表面的中央，測定從作為基準的焦點的距離後，以從測定台的距離之絕對值最長的距離作為該液晶面板的翹曲量。

(厚度7μm的偏光片A的製作)

厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約為2400、皂化度為99.9莫耳%以上)，藉由乾式延伸進行約5倍的一軸延伸，再於保持緊張的狀態下，浸漬於60℃的純水1分鐘後，於碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/5/100的水溶液，28℃下浸漬60秒。然後，於碘化鉀/硼酸/水的重量比為8.5/8.5/100的水溶液，72℃下浸漬300秒。接著於26℃的純水洗淨20秒後，於65℃下乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇膜的厚度7μm的偏光片A。

(厚度12μm的偏光片B的製作)

除使用厚度30μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約為2400、皂化度為99.9莫耳%以上)外，與偏光片A同樣進行，得到碘吸附配向於聚乙烯醇膜的厚度12μm的偏光片B。

(增亮膜C及D的準備)

準備以下2種增亮膜：

‧厚度26μm的增亮膜C；3M製「Advanced Polarized Film,Version 3」

‧厚度17μm的增亮膜D；3M製「Advanced Polarized Film,Version 4」

(保護膜E、F、G及H的準備)

準備以下4種保護膜：

‧保護膜E；柯尼卡美能達光學(股)製的三乙醯基纖維素膜(厚度20μm、在波長590nm的面內相位差值=1.2nm、在波長590nm的厚度方向相位差值=1.3nm、23℃下的拉伸彈性模數=4859MPa)

‧保護膜F；日本ZEON(股)公司製的環狀聚烯烴系樹脂膜(厚度13μm、在波長590nm的面內相位差值=0.8nm、在波長590nm的厚度方向相位差值=3.4nm、23℃下的拉伸彈性模數=2029MPa)

‧保護膜G；柯尼卡美能達光學(股)製的附硬塗層的三乙醯基纖維素膜「25KCHCN-TC」(厚度32μm)

‧保護膜H；日本ZEON(股)公司製的環狀聚烯烴系樹脂膜(厚度23μm、在波長590nm的面內相位差值=2.1nm、在波長590nm的厚度方向相位差值=2.8nm、在波長483nm的厚度方向相位差值=2.5nm、在波長755nm的厚度方向相位差值=-4.2nm)。

(黏著劑層的調製或準備)

‧調製或準備以下3種黏著劑層：

‧第1黏著劑層；將添加有(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物及異氰酸酯系交聯劑之丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物之有機溶劑溶液，用狹縫塗佈機，塗佈於實施離型處理過的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯所構成的分隔構件的離型處理面，使乾燥後的厚度成為15μm，使其乾燥，得到附有分隔構件的黏著劑層(該黏著劑層的儲存彈性模數，於23℃為0.40MPa，於80℃為0.18MPa)

‧第2黏著劑層；於實施離型處理過的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯所構成的分隔構件的離型處理面設置有厚度25μm的丙烯酸系黏著劑層之市售的附有分隔構件的黏著劑層(不調配(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物。該黏著劑層的儲存彈性模數，於23℃為0.05MPa，於80℃為0.04MPa)

‧第3黏著劑層；厚度20μm的薄片黏著劑(LINTEC公司製「NCF #KT」)。

(水系接著劑的調製)

對水100重量份，溶解羧基改質的聚乙烯醇[(股)Kuraray製「KL-318」]3重量份，調製聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液，以對水100重量份混合水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業(股)製「SUMIREZ RESIN 650(30)」、固體成分濃度30重量%]1.5重量份的比例，得到水系接著劑。

[偏光板的製作]

〈實施例1〉

用與第2圖所示的順序相同的順序，製作偏光板。首先，於偏光片A的單面，使用上述水系接著劑貼合保護膜E。貼合前，於保護膜E之與偏光片A的貼合面，實施15.9kJ/m²的電暈處理。然後，於80℃乾燥5分鐘，於40℃熟成168小時。然後，於偏光片A之與積層保護膜E的面為相反側的面，貼合第1黏著劑層。貼合前，於偏光片A的貼合面及第1黏著劑層的貼合面兩者，實施15.9kJ/m²的 電暈處理。

然後，於保護膜E的外面，貼合第2黏著劑層。貼合前，於保護膜E的貼合面及第2黏著劑層的貼合面兩者，實施15.9kJ/m²的電暈處理。最後，剝離第1黏著劑層的分隔構件，於增亮膜C的單面實施15.9kJ/m²的電暈處理後，將增亮膜C以其電暈處理面側貼合於第1黏著劑層的外面，得到偏光板。

〈實施例2〉

除使用增亮膜D取代增亮膜C外，與實施例1同樣製作偏光板。

〈實施例3〉

除使用偏光片B取代偏光片A外，與實施例1同樣製作偏光板。

〈實施例4〉

除使用偏光片B取代偏光片A外，與實施例2同樣製作偏光板。

〈實施例5〉

用與第3圖所示的順序相同的順序，製作偏光板。首先，於偏光片A的單面，使用上述水系接著劑貼合保護膜E。貼合前，於保護膜E之與偏光片A的貼合面，實施15.9kJ/m²的電暈處理。然後，於80℃乾燥5分鐘，於40℃熟成168小時。然後，於偏光片A之與積層保護膜E的面為相反側的面，貼合表面保護膜(Toray膜加工(股)公司製「TORETEC 7332」)。貼合前，於偏光片A的貼合面，實 施15.9kJ/m²的電暈處理。再者，於保護膜E的外面，貼合第2黏著劑層。貼合前，於保護膜E的貼合面及第2黏著劑層的貼合面兩者，實施15.9kJ/m²的電暈處理。

然後，於增亮膜C的單面貼合第1黏著劑層(附有分隔構件)。貼合前，於增亮膜C的貼合面及第1黏著劑層的貼合面兩者，實施15.9kJ/m²的電暈處理。最後，剝離偏光片A的表面保護膜及第1黏著劑層的分隔構件後，對因表面保護膜的剝離而露出的偏光片A的露出面(外面)，實施15.9kJ/m²的電暈處理，然後於該電暈處理面，貼合第1黏著劑層，得到偏光板。

〈實施例6〉

除使用增亮膜D取代增亮膜C外，與實施例5同樣製作偏光板。

〈實施例7〉

除使用偏光片B取代偏光片A外，與實施例5同樣製作偏光板。

〈實施例8〉

除使用偏光片B取代偏光片A外，與實施例6同樣製作偏光板。

〈實施例9〉

除了朝偏光片A的露出面(因表面保護膜的剝離而露出的面)貼合第1黏著劑層時，不實施對偏光片A的露出面之電暈處理外，與實施例5同樣製作偏光板。

〈實施例10~18〉

除了對增亮膜C或D的與第1黏著劑層的貼合面及/或第1黏著劑層的與增亮膜的貼合面兩者，不實施15.9kJ/m²的電暈處理外，分別與實施例1~9同樣製作偏光板。

〈實施例19〉

除使用第3黏著劑層取代第2黏著劑層外，與實施例1同樣製作偏光板。

〈比較例1〉

除使用保護膜F取代保護膜E外，與實施例1同樣製作偏光板。

〈比較例2〉

除使用保護膜F取代保護膜E外，與實施例5同樣製作偏光板。

〈比較例3〉

除了對增亮膜C之與第1黏著劑層的貼合面及第1黏著劑層之與增亮膜的貼合面兩者，不實施15.9kJ/m²的電暈處理外，與比較例1同樣製作偏光板。

〈比較例4〉

除增亮膜C之與第1黏著劑層的貼合面及第1黏著劑層之與增亮膜的貼合面兩者，不實施15.9kJ/m²的電暈處理外，與比較例2同樣製作偏光板。

[重工性的評價]

將所得的偏光板的吸收軸平行寬度方向的邊，裁切為寬度25mm×長度150mm的大小，作為測試片。使其在從垂直拉伸方向傾斜45度的狀態下，隔著第2黏著劑層貼合於 無鹼玻璃[康寧公司製「Eagle XG」]，於溫度50℃、壓力5kg/cm²(490.3kPa)下進行高壓釜處理20分鐘。然後，於溫度23℃、相對濕度50%的環境保持12小時後，於溫度23℃、相對濕度50%的環境下，從貼合在玻璃的樣品，將偏光板連同黏著劑層一起以1000mm/分的速度於180度方向(剝離偏光板，在表裡相反的狀態下平行玻璃基板面的方向)剝離以進行剝離測試。目視觀察剝離測試後的第2黏著劑層(於實施例19為第3黏著劑層)以及偏光板的狀態，根據下述的評價基準評價重工性。結果示於表1。

A：未確認第2黏著劑層(於實施例19為第3黏著劑層)以及偏光板破裂

B：確認第2黏著劑層(於實施例19為第3黏著劑層)以及/或偏光板破裂

[濕熱耐久性的評價]

從所得之偏光板，切出111mm×65mm大小的樣品，隔著第2黏著劑層(於實施例19為第3黏著劑層)貼合於無鹼玻璃(康寧公司製「Eagle XG」)。對該在貼合玻璃的樣品，實施投入60℃、90%RH的烤箱500小時的濕熱耐久性測試，根據下述基準，目視評價測試後的樣品的外觀。結果示於表1。再者，表1之「表面活性化處理」的欄，係表示對增亮膜的貼合面是否進行表面活性化處理。

A：於偏光板的端部未確認在增亮膜與黏著劑層的界 面之剝離，外觀良好

B：於偏光板的端部確認上述剝離

[液晶面板的製作]

(辨識側偏光板1的製作)

於保護膜G進行皂化處理，於保護膜H的一側表面進行電暈處理。以使保護膜G的三乙醯基纖維素面及保護膜H的電暈處理面分別成為與偏光片B的貼合面之方式，於偏光片B的一側的面隔著水系接著劑積層保護膜G，並且，於另一側的面隔著水系接著劑積層保護膜H後，進行乾燥處理，得到辨識側偏光板1。辨識側偏光板1的MD方向(吸收軸方向)的尺寸變化率A為1.35%。再者，藉由調整上述乾燥處理的乾燥時間，調整尺寸變化率A。再者，於辨識側偏光板1的保護膜H的外面貼合第3黏著劑層，作為附黏著劑層的偏光板。貼合第3黏著劑層時，於保護膜表面及黏著劑層表面，預先進行電暈處理。

(辨識側偏光板2~6的製作)

除調整上述乾燥處理的乾燥時間，使MD方向(吸收軸方向)的尺寸變化率A成為不同者外，與辨識側偏光板1同樣製作辨識側偏光板2~6，然後，於保護膜H的外面貼合第3黏著劑層，作為附黏著劑層的偏光板。辨識側偏光板2~6的尺寸變化率A係如下述。

辨識側偏光板2：1.25%

辨識側偏光板3：1.15%

辨識側偏光板4：1.10%

辨識側偏光板5：1.40%

辨識側偏光板6：0.95%

(背面側偏光板1的製作)

除不貼合第2黏著劑層外，與實施例2同樣製作偏光板，將其作為背面側偏光板1。背面側偏光板1的MD方向(吸收軸方向)的尺寸變化率B為0.98%。然後，於背面側偏光板1的保護膜E的外面貼合第3黏著劑層，作為附黏著劑層的偏光板。貼合前，對保護膜E的貼合面及第3黏著劑層的貼合面兩者，實施15.9kJ/m²的電暈處理。

(液晶單元的準備)

從谷歌(Google)公司製的Nexus7的液晶面板，剝離辨識側偏光板及背面側偏光板，得到液晶單元。

〈實施例20〉

以使偏光片的吸收軸對液晶單元的短邊平行之方式，裁切辨識側偏光板1成為對角7吋的大小，另以使偏光片的吸收軸對液晶單元的長邊平行之方式，裁切背面側偏光板1成為對角7吋的大小。如此製作的各偏光板，隔著黏著劑層(對辨識側偏光板，使用第3黏著劑層。實施例21~23及比較例5~6亦同)，貼合於液晶單元，製成液晶面板。於背面側偏光板1，從接觸液晶單元的表面至增亮膜的第1黏著劑層側(偏光片側)的表面之距離H為62μm。

〈實施例21~23、比較例5~6〉

除使用表2所示的辨識側偏光板外，與實施例20同樣製作液晶面板。

在實施例21~23、比較例5~6所使用的辨識 側偏光板的吸收軸方向的尺寸變化率A及背面側偏光板的吸收軸方向的尺寸變化率B、尺寸變化率的比A/B以及液晶面板的翹曲量，合併於表2。

1‧‧‧偏光板

10‧‧‧偏光片

20‧‧‧第1黏著劑層

30‧‧‧增亮膜

40‧‧‧保護膜

50‧‧‧第2黏著劑層

60‧‧‧分隔構件

Claims (16)

1. 一種偏光板，依序包含23℃時的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的保護膜、偏光片、第1黏著劑層及增亮膜。
2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述第1黏著劑層與前述增亮膜接觸。
3. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述偏光片與前述第1黏著劑層接觸。
4. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述增亮膜的前述第1黏著劑層側的表面經表面活性化處理。
5. 如申請專利範圍第4項所述之偏光板，其中前述表面活性化處理為電暈處理。
6. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述增亮膜的厚度為10~30μm。
7. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述偏光片的厚度為15μm以下。
8. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述第1黏著劑層，於23~80℃的溫度範圍之儲存彈性模數為0.15~1MPa，厚度為3~20μm。
9. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述保護膜在波長590nm之面內相位差值為10nm以下，在波長590nm之厚度方向相位差值的絕對值為10nm以下。
10. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述保護膜係由纖維素系樹脂所構成。
11. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中更包含：積層於前述保護膜的與前述偏光片側為相反側的面上之第2黏著劑層。
12. 一種偏光板套組，係配置於液晶單元的辨識側的辨識側偏光板與配置於液晶單元的背面側的背面側偏光板的套組；前述背面側偏光板為如申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述之偏光板；前述背面側偏光板中，從將其配置於前述液晶單元的背面側時會接觸前述液晶單元的表面起，至前述增亮膜的前述黏著劑層側的表面為止之距離為100μm以下；將前述辨識側偏光板於85℃加熱100小時時在吸收軸方向的尺寸變化率、與將前述背面側偏光板於85℃加熱100小時時在吸收軸方向的尺寸變化率的比為超過1且為1.4以下。
13. 一種液晶面板，包含：液晶單元以及如申請專利範圍第12項所述之偏光板套組；於前述液晶單元的辨識側設置有前述辨識側偏光板，於前述液晶單元的背面側設置有前述背面側偏光板。
14. 一種液晶顯示裝置，包含：液晶單元以及如申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述之偏光板。
15. 一種液晶顯示裝置，包含：液晶單元以及如申請專利 範圍第12項所述之偏光板套組。
16. 一種偏光板的製造方法，該偏光板依序含有23℃時的拉伸彈性模數為3400~8000MPa的保護膜、偏光片、第1黏著劑層、及增亮膜，該製造方法包含：對前述增亮膜的前述第1黏著劑層側的表面實施表面活性化處理的步驟，以及在已實施前述表面活性化處理的前述表面上積層前述第1黏著劑層的步驟。