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TW201510134A - 光學膜用黏著劑組合物、光學膜用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、液晶顯示裝置及積層體 - Google Patents

光學膜用黏著劑組合物、光學膜用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、液晶顯示裝置及積層體 Download PDF

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TW201510134A
TW201510134A TW103122415A TW103122415A TW201510134A TW 201510134 A TW201510134 A TW 201510134A TW 103122415 A TW103122415 A TW 103122415A TW 103122415 A TW103122415 A TW 103122415A TW 201510134 A TW201510134 A TW 201510134A
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optical film
adhesive layer
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film
meth
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TW103122415A
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Mizuho Nagata
Toshitaka Takahashi
Yousuke Makihata
Kayo Shimokawa
Kenichi Okada
Toshitsugu Hosokawa
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Abstract

本發明之目的在於提供一種光學膜用黏著劑層，其即便於加熱加濕下保存包含經由黏著劑層於透明導電層上積層有偏光板等光學膜之構成的積層體之情形時，亦抑制上述透明導電層之表面電阻值上升；及可形成該光學膜用黏著劑之光學膜用黏著劑組合物。又，本發明之目的亦在於提供：附黏著劑層之光學膜，其特徵在於在光學膜之一面具有上述光學膜用黏著劑層；液晶顯示裝置，其特徵在於使用上述附黏著劑層之光學膜；積層體，其特徵在於使上述附黏著劑層之光學膜之黏著劑層與透明導電性膜之透明導電層貼合而成。本發明係關於一種光學膜用黏著劑組合物，其特徵在於：包含使含有具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分的單體成分聚合而獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物及磷酸酯系化合物。

Description

光學膜用黏著劑組合物、光學膜用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、液晶顯示裝置及積層體
本發明係關於一種光學膜用黏著劑組合物、光學膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學膜、液晶顯示裝置及積層體。
近年來，於各種用途中業界廣泛使用在包含透明樹脂膜或玻璃板之透明基材之一面形成有氧化銦錫(ITO)薄膜等透明導電層之透明導電性積層體。
已知上述透明導電層例如係形成於使用有橫向電場效應(IPS，In-Plane Switching)方式等之液晶單元之液晶顯示裝置的構成液晶單元之透明基板之與接觸液晶層之側相反之側而作為抗靜電層。又，亦已知將於透明樹脂膜上形成有上述透明導電層之透明導電性膜用於觸控面板之電極基板。於此種透明導電層上，有時經由黏著劑層而形成有偏光板。
作為光學構件用黏著劑，已知有各種光學構件用黏著劑，例如已知有抗靜電丙烯酸系黏著劑，其特徵在於：含有側鏈上具有羥基及環氧烷鏈之丙烯酸系共聚物、離子化合物、硬化劑及磷酸酯化合物(例如參照專利文獻1)。關於專利文獻1之黏著劑，記載有其適合作為偏光板等光學構件之表面保護黏著膜用黏著劑之情況。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2007-2111號公報
如上所述，經由黏著劑層而於透明導電層上積層有偏光板。作為該偏光板，現廣泛使用碘系偏光板，其係使未配向之聚乙烯醇系膜於膨潤浴中膨潤後吸附碘，進而於含有硼酸之水溶液中實施交聯、延伸等處理，並於由此獲得之偏光元件之至少單面貼合透明保護膜而成。然而，於經由黏著劑而於ITO薄膜等透明導電層上積層碘系偏光板並於加熱加濕下進行保存之情形時，有透明導電層之表面電阻值變高之問題。
認為其原因在於，偏光元件中之碘轉移至透明導電層上，透明導電層因該碘而腐蝕，於構成偏光板之偏光元件之與黏著劑層接觸之側不存在透明保護膜，或者即便存在時透明保護膜之膜厚亦較薄(例如50μm以下)之情形時，該現象明顯。
專利文獻1對上述透明導電層之表面電阻值未作任何研究，又，專利文獻1之抗靜電丙烯酸系黏著劑係用作表面保護黏著膜用黏著劑用途，作為光學膜用途，於接著力或接著可靠性等方面並不充分。
因此，本發明之目的在於提供：光學膜用黏著劑層，其即便於加熱加濕下保存包含經由黏著劑層於透明導電層上積層有偏光板等光學膜之構成的積層體之情形時，亦抑制上述透明導電層之表面電阻值上升；及可形成該光學膜用黏著劑層之光學膜用黏著劑組合物。又，本發明之目的亦在於提供：附黏著劑層之光學膜，其特徵在於在光學膜之一面具有上述光學膜用黏著劑層；液晶顯示裝置，其特徵在於使用上述附黏著劑層之光學膜；積層體，其特徵在於使上述附黏著劑層之光學膜之黏著劑層與透明導電性膜之透明導電層進行貼合。
本發明者等人為了解決上述問題而進行努力研究，結果發現藉由製成包含磷酸酯系化合物之黏著劑組合物，可達成上述目的，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種光學膜用黏著劑組合物，其特徵在於：包含使含有具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分的單體成分聚合而獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物、及磷酸酯系化合物。
較佳為上述磷酸酯系化合物相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份而為0.005~2重量份。
較佳為上述單體成分進而包含含磷酸基之單體。
較佳為上述含磷酸基之單體相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份而為0.1~10重量份。
又，本發明係關於一種光學膜用黏著劑層，其特徵在於：其係由上述光學膜用黏著劑組合物所形成；及附黏著劑層之光學膜，其特徵在於：在光學膜之至少一面具有上述光學膜用黏著劑層。
較佳為上述光學膜係於偏光元件之雙面具有保護膜之偏光板，至少單側之保護膜之厚度為50μm以下，至少上述光學膜用黏著劑層接觸該保護膜。
上述光學膜亦可為於偏光元件之單面具有保護膜之偏光板，且上述光學膜用黏著劑層至少接觸上述偏光元件之不具有保護膜之面。
又，本發明係關於一種液晶顯示裝置，其特徵在於：使用上述附黏著劑層之光學膜。
進而，關於一種積層體，其特徵在於：使上述附黏著劑層之光學膜之黏著劑層與透明導電性膜之透明導電層進行貼合。
經由利用本發明之光學膜用黏著劑組合物所形成之光學膜用黏 著劑層而將偏光板等光學膜與透明導電層加以積層，藉此可抑制透明導電層之表面電阻上升。認為其原因為，本發明之光學膜用黏著劑組合物由於含有磷酸酯系化合物，故而該磷酸酯系化合物會選擇性地吸附於透明導電層表面而形成覆膜，防止由碘等可腐蝕透明導電層之物質所引起之透明導電層之腐蝕，而可抑制表面電阻值之上升。
1‧‧‧光學膜
2‧‧‧光學膜用黏著劑層
3‧‧‧透明導電層
4‧‧‧液晶單元
5‧‧‧黏著劑層
6‧‧‧光學膜
圖1係表示本發明之附黏著劑層之光學膜的剖面圖。
圖2係表示本發明之液晶顯示裝置的剖面圖。
1.光學膜用黏著劑組合物
本發明之光學膜用黏著劑組合物之特徵在於：包含使含有具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分的單體成分聚合而獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物、及磷酸酯系化合物。
作為上述磷酸酯系化合物，例如可列舉下述通式(1)所表示之磷酸酯系化合物及其鹽。
(式中，R1為碳數2~18之烷基或烯基，R2為氫原子或-(CH2CH2O)nR3(R3為碳數2~18之烷基或烯基)，n為0~15之整數)
R1為碳數2~18之烷基或烯基，較佳為碳數2~18之烷基，更佳為碳數4~15之烷基。又，R1可為直鏈狀，亦可為支鏈狀，較佳為直鏈 狀。
R2為氫原子或-(CH2CH2O)nR3，作為R3，可列舉與R1相同者。若R2為氫原子，則通式(1)之化合物為單酯，若R2為-(CH2CH2O)nR3，則通式(1)之化合物為二酯。又，於R2為-(CH2CH2O)nR3之情形時，R1與R3可相同亦可不同。
n為0~15之整數，較佳為0~10之整數。又，於本發明中，作為通式(1)所表示之磷酸酯系化合物，可將2種以上之R1不同者混合而使用，又，亦可使用單酯(R2：H)與二酯(R2：-(CH2CH2O)nR3)之混合物。一般而言，通式(1)所表示之磷酸酯系化合物係以單酯與二酯之混合物之形式獲得。
於本發明中，亦可適宜地使用通式(1)所表示之磷酸酯化合物之鹽(鈉、鉀及鎂等金屬之鹽、銨鹽等)。
作為上述通式(1)所表示之磷酸酯系化合物之市售品，可列舉：大八化學工業(股份)製造之「MP-4」(R1=C4H9、R2=H、n=0)、「MP-10」(R1=C10H21、R2=H、n=0)、東邦化學工業(股份)製造之「Phosphanol SM-172」(R1=R3=C8H17、單酯-二酯混合物、n=0)、「Phosphanol GF-185」(R1=R3=C13H27、單酯-二酯混合物、n=0)、「Phosphanol BH-650」(R1=R3=C4H9、單酯-二酯混合物、n=1)、「Phosphanol RS-710」(R1=C13H27、R3=C13H27、單酯-二酯混合物、n=10)、「Phosphanol ML-220」(R1=R3=C12H25、單酯-二酯混合物、n=2)、「Phosphanol ML-200」(R1=R3=C12H25、單酯-二酯混合物、n=0)、「Phosphanol ED-200」(R1=R3=C8H17、單酯-二酯混合物、n=1)、「Phosphanol RL-210」(R1=R3=C18H37、單酯-二酯混合物、n=2)、「Phosphanol RS-410」(R1=R3=C13H27、單酯-二酯混合物、n=3)、「Phosphanol GF-339(R1=R3=C6H13~C10H21之混合、單酯-二酯混合物、n=0)、「Phosphanol GF-199」(R1=R3=C12H25、單 酯-二酯混合物、n=0)、「Phosphanol RL-310」(R1=R3=C18H37、單酯-二酯混合物、n=3)、日光化學(股份)製造之「Nikkol DDP-2」(R1=R3=C12H25~C15H31之混合物、n=2)等及該等之鹽。再者，所謂上述「單酯-二酯混合物」係指單酯(R2=H)與二酯(R2=-(CH2CH2O)nR3)之混合物。
於本發明中，經由利用包含上述磷酸酯系化合物之光學膜用黏著劑組合物所形成之光學膜用黏著劑層而積層偏光板等光學膜與透明導電層，藉此可抑制透明導電層之表面電阻上升。認為其原因在於，黏著劑層中所含之磷酸酯系化合物會選擇性地吸附於透明導電層表面而形成覆膜，故而碘等腐蝕透明導電層之物質不會轉移至透明導電層表面，其結果為，防止透明導電層之腐蝕。尤其是於光學膜為碘系偏光板之情形時，上述效果顯著。
上述磷酸酯系化合物之添加量相對於單體成分100重量份而較佳為0.005~2重量份，更佳為0.01~1.5重量份，進而較佳為0.01~1.2重量份。藉由磷酸酯系化合物之添加量為上述範圍內，可進一步抑制透明導電層之表面電阻值上升，故而較佳。
本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物係使含有具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分的單體成分聚合而獲得。此處，所謂「主成分」係指相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而為50重量份以上，較佳為60重量份以上，更佳為70重量份以上，進而較佳為80重量份以上，尤佳為90重量份以上。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，含義與本發明之(甲基)相同。
作為具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之該烷基，可使用直鏈狀或支鏈狀之各種烷基。作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，例如可例示：(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲 基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯(isopentyl(metha)acrylate)、(甲基)丙烯酸異戊酯(isoamyl(metha)acrylate)、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、或(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。該等可單獨或組合使用。該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，更佳為(甲基)丙烯酸正丁酯。
又，於本發明中使用之單體成分中，就透明導電層之表面電阻值上升抑制效果之觀點而言，較佳為包含含磷酸基之單體。作為含磷酸基之單體，可無特別限定地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有磷酸基者。作為含磷酸基之單體，例如可列舉下述通式(2)：
(式中，R4表示氫原子或甲基，R5表示碳數1~4之伸烷基，m表示2以上之整數，M1及M2分別獨立地表示氫原子或陽離子)所表示之含磷酸基之單體。
再者，通式(2)中，m為2以上之整數，較佳為4以上之整數，通常 較佳為40以下之整數。該m表示氧基伸烷基之聚合度。又，作為聚氧伸烷基，例如可列舉聚氧伸乙基、聚氧伸丙基等，該等聚氧伸烷基亦可為該等之無規、嵌段或接枝單元等。又，磷酸基之鹽之陽離子並無特別限定，可列舉：例如鈉、鉀等鹼金屬；例如鈣、鎂等鹼土金屬等之無機陽離子；例如四級胺類等之有機陽離子等。
上述含磷酸基之單體之添加量相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為10重量份以下，更佳為0.1~10重量份，進而較佳為0.1~8重量份，尤佳為0.2~5重量份。藉由含磷酸基之單體之添加量為上述範圍，可進一步抑制透明導電層之表面電阻值上升，故而較佳。
如上所述，於本發明中，藉由使用磷酸酯系化合物，可抑制透明導電層之表面電阻值上升，藉由於單體成分中含有含磷酸基之單體，可獲得更進一步之抑制效果。認為其原因在於，由包含無助於聚合之含磷酸基之單體或含磷酸基之單體的單體成分所形成之低聚物或聚合物亦與磷酸酯系化合物同樣地吸附於透明導電層表面而形成覆膜。其中，於本發明中，於僅含有含磷酸基之單體之情形時，無法獲得充分之抑制效果。
又，於本發明中使用之單體成分中，可包含含羧基之單體。作為含羧基之單體，可無特別限定地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羧基者。作為含羧基之單體，例如可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等，該等可單獨或組合使用。該等之中，較佳為丙烯酸、甲基丙烯酸，更佳為丙烯酸。
含羧基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為0~10重量份，更佳為0~8重量份，進而較佳為0~6 重量份。又，含羧基之單體由於可成為腐蝕因素之一，故而於本發明中進而較佳為不添加含羧基之單體。
本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物係使含有上述具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分並任意地含有上述含磷酸基之單體、含羧基之單體的單體成分聚合而獲得者，除上述具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯、上述含磷酸基之單體以外，亦可使用含羧基之單體、或可與上述單體共聚合之共聚合單體作為單體成分。
上述共聚合單體只要為具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等有不飽和雙鍵之聚合性官能基者，則無特別限定，可列舉：例如具有碳數1~3或19以上之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異酯等(甲基)丙烯酸酯環式烴酯；例如(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳酯；例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；例如苯乙烯等苯乙烯系單體；例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等含環氧基之單體；例如丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯等含羥基之單體；例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎啉、(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等含氮原子之單體；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基之單體；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基之單體；例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等官能性單體；例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；例如乙烯醚等乙烯醚系單體；例如氯乙烯等含鹵素原子之單體；此外，例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯啶酮、N-乙烯基 吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌、N-乙烯基吡、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基唑、N-乙烯基嗎啉等含乙烯基之雜環化合物；N-乙烯基羧醯胺類等。
又，作為共聚合性單體，可列舉：例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺基丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體。
又，作為共聚合性單體，可列舉：例如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；此外，例如(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯等含有雜環或鹵素原子之丙烯酸酯系單體等。
進而，作為共聚合性單體，可使用多官能性單體。作為多官能性單體，可列舉具有2個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之化合物等。可列舉：例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；此外，新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸 酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反應性不飽和雙鍵之化合物等。又，作為多官能性單體，亦可使用於聚酯、環氧化合物、胺基甲酸酯等骨架上加成2個以上之作為與單體成分相同之官能基的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵而成之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
上述含羧基之單體、含磷酸基之單體以外之共聚合單體之比率相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為40重量份以下，更佳為30重量份以下，進而較佳為20重量份以下，尤佳為10重量份以下。若上述共聚合單體之比率過多，則有由本發明之光學膜用黏著劑組合物所形成之黏著劑層對玻璃、膜或透明導電層等各種被黏著體的密接性降低等黏著特性降低之虞。
本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物通常使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮到耐久性、尤其是耐熱性，則重量平均分子量較佳為70萬~270萬，更佳為80萬~250萬。若重量平均分子量小於50萬，則有時於耐熱性方面欠佳，又，若重量平均分子量大於300萬，則為了調整至用於塗佈之黏度，需要大量稀釋溶劑，就成本之觀點而言欠佳。上述重量平均分子量係指利用GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)進行測定並根據聚苯乙烯換算而算出之值。其中，藉由乳化聚合所獲得之黏著劑通常凝膠分較多而無法利用GPC進行測定，因此多數情況下難以於關於分子量之實際測定中加以證明。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法，並無特別限定。 例如於本發明中，可製成於水中分散含有(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液，例如可使用藉由使含有具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯的單體成分於下述乳化劑、自由基聚合起始劑等之存在下進行乳化聚合而獲得之聚合物乳膠。又，於本發明中，亦可使用藉由使含有(甲基)丙烯酸酯之單體成分進行溶液聚合而獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物。
所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一種。
再者，於溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應係於氮氣等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑且通常於50~70℃之程度、5~30小時之程度之反應條件下進行。
自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可根據聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而加以控制，根據該等之種類而適當調整其使用量。
作為聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057、和光純藥工業(股份)製造)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三 丁酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等組合過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等；但並不限定於該等。
上述聚合起始劑可單獨使用，亦可將2種以上混合而使用，整體之含量相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為0.005~1重量份左右，更佳為0.005~0.5重量份左右。
再者，作為聚合起始劑，例如使用2,2'-偶氮雙異丁腈，製造上述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，聚合起始劑之使用量較佳為相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而設為0.01~0.2重量份左右。
作為鏈轉移劑，例如可列舉月桂基硫醇、縮水甘油基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合而使用，整體之含量相對於單體成分之總量100重量份而為0.1重量份左右以下。
又，於利用乳化聚合製備(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，與上述單體成分一起於水中適當調配下述乳化劑、上述自由基聚合起始劑、視需要之鏈轉移劑等。更具體而言，例如可採用一次添加法(一次聚合法)、單體滴下法、單體乳膠滴下法等公知之乳化聚合法。再者，於單體滴下法中，適當選擇連續滴加或分割滴加。該等方法可適當地組合。反應條件等可適當選擇，聚合溫度例如為20~90℃之程度。
作為乳化劑，例如可列舉：月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑；聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧 乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用，亦可併用2種以上。
又，作為乳化劑，亦可使用於分子內具有1個以上之可自由基聚合之不飽和雙鍵的反應性乳化劑，例如可列舉Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上，均由第一工業製藥(股份)製造)、Adeka Reasoap SE10N(旭電化工業(股份)製造)等。
又，作為反應性乳化劑，例如亦可適宜地使用下述通式(3)：[化3]M3O3S-R6-CH=CH2 (3)
(式中，R6為包含3個以下或不包含氧基伸烷基重複單位之可含氧原子之2價有機基，M3為Na、K、NH4)所表示之化合物。此處，所謂氧基伸烷基重複單位係指
(式中，R7為碳數1~20之伸烷基)所表示之基，上述反應性乳化劑不包含上述氧基伸烷基重複單位，或者上述氧基伸烷基重複單位數為3以下(較佳為2以下)。作為上述2價有機基，並無特別限定，可列舉可包含醚鍵或酯鍵之2價烴基等。
作為上述反應性乳化劑之具體例，例如可列舉下述通式(4)：[化5]
(式中，M3與上述相同，R8為碳數1~20之烷基)、下述通式(5)：
(式中，M3與上述相同，R9為碳數1~20之烷基)所表示之化合物。
上述通式(3)~(5)中，作為M3，較佳為Na、K、NH4。又，作為R8、R9，為碳數1~20之烷基，其中，較佳為碳數10~20之烷基。
作為上述通式(3)所表示之反應性乳化劑之具體例，例如可列舉Eleminol JS-20(三洋化成工業(股份)製造)、Latemul S-180A(花王(股份)製造)等。
上述乳化劑之調配比率相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份而較佳為10重量份以下，更佳為0.1~10重量份，進而較佳為0.5~8重量份。
藉由上述乳化聚合，可製備作為水分散液(乳膠)之水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物。關於此種水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，其平均粒徑例如較佳為調整為0.05~3μm，更佳為0.05~1μm。
於本發明之水分散型光學膜用黏著劑組合物中，除上述水分散 型(甲基)丙烯酸系聚合物以外，亦可含有水溶性鹼性成分。水溶性鹼性成分係可藉由與上述水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物所具有之羧基的酸.鹼中和反應而形成鹽之化合物，通常於溶解於水中之水溶液狀態下為顯示鹼性之化合物。作為水溶性鹼性成分，可列舉：例如2-二甲基胺基乙醇、二乙醇胺、三乙醇胺、胺基甲基丙醇等烷醇胺類；三甲基胺、三乙基胺、丁基胺等烷基胺類；乙二胺、二伸乙基三胺、三伸乙基四胺、四伸乙基五胺等聚伸烷基聚胺類；此外，伸乙基亞胺、聚伸乙基亞胺、咪唑、2-甲基咪唑、吡啶、苯胺、嗎啉等有機胺系化合物等。又，作為水溶性鹼性成分，可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀等氫氧化鹼金屬類；氫氧化鋇、氫氧化鈣、氫氧化鋁等氫氧化鹼土金屬類等無機鹼系化合物或銨等。該等之中，根據由水溶性鹼性成分之添加所產生之中和作用，就上述水分散液之分散穩定化之效果、由水分散型丙烯酸系黏著劑所引起的塗佈條紋、未產生不均等之適當之黏度控制之容易性、及塗佈乾燥後之黏著劑層之耐腐蝕性及耐久性等的平衡之方面而言，較佳為銨。
作為具體例，對使用銨或氫氧化鈉作為水溶性鹼性成分之情形進行說明。銨係以銨水之形式使用，關於上述銨水之調配量，通常較佳為相對於含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液之水中所含的固形分100重量份而以銨水所含之銨成為0.1~20重量份左右之方式、進而成為0.2~5重量份之方式調配。氫氧化鈉係以氫氧化鈉水溶液之形式使用，關於上述氫氧化鈉水溶液之調配量，通常較佳為相對於含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液之水中所含的固形分100重量份而以氫氧化鈉水溶液所含之氫氧化鈉成為0.05~5重量份左右之方式、進而成為0.1~3重量份之方式調配。
於本發明之光學膜用黏著劑組合物中，為了提昇高溫多濕條件下之密接性，可添加各種矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，可使用具有 任意之適當之官能基者。作為官能基，例如可列舉乙烯基、環氧基、胺基、巰基、(甲基)丙烯醯氧基、乙醯乙醯基、異氰酸酯基、苯乙烯基、聚硫基等。具體而言，例如可列舉：乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等含乙烯基之矽烷偶合劑；γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷等含巰基之矽烷偶合劑；對苯乙烯基三甲氧基矽烷等含苯乙烯基之矽烷偶合劑；γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑；雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫化物等含多硫基之矽烷偶合劑等。
於上述矽烷偶合劑中，較佳為具有乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基、苯乙烯基等可藉由自由基聚合而與上述單體成分共聚合者，尤其是就反應性之方面而言，較佳為具有(甲基)丙烯醯氧基者。可列舉：例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丁氧基矽烷等(甲基)丙烯醯氧基烷基-三烷氧基矽烷；例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧 基甲基-甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等(甲基)丙烯醯氧基烷基-烷基二烷氧基矽烷、或對應於該等之(甲基)丙烯醯氧基烷基-二烷基(單)烷氧基矽烷等。
上述矽烷偶合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合而使用，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，整體之含量較佳為1重量份以下，更佳為0.01~1重量份，進而較佳為0.02~0.8重量份，尤佳為0.05~0.7重量份。若矽烷偶合劑之調配量超過1重量份，則產生未反應偶合劑成分，就耐久性之方面而言欠佳。
再者，於上述矽烷偶合劑可藉由自由基聚合而與上述單體成分共聚合之情形時，可使用該矽烷偶合劑作為上述單體成分。其比率相對於上述(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份而較佳為0.005~0.7重量份。
進而，於本發明之光學膜用黏著劑組合物中，視需要亦可於不脫離本發明目的之範圍內適當使用黏度調整劑、交聯劑、剝離調整劑、黏著賦予劑、塑化劑、軟化劑、包含玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH值調整劑(酸或鹼)、抗氧化劑、紫外線吸收劑等各種添加劑。該等添加劑亦可以乳膠之形式調配。
尤其是交聯劑可賦予與黏著劑之耐久性相關之凝聚力，故而較佳。作為交聯劑，使用多官能性之化合物，可列舉有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、亞胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑等。作為有機系交聯劑，較佳為異氰酸酯系交聯劑。多官能性金屬螯合物係多價金屬原子與有機化合物共價鍵結或配位鍵結者。作為多價金屬原子，可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
異氰酸酯系交聯劑係指於1分子中具有2個以上異氰酸酯基(包括藉由嵌段劑或數量體化等而暫時保護異氰酸酯基之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等酯環族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。
更具體而言，例如可列舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、環己二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等酯環族異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(商品名：Coronate L、日本聚胺基甲酸酯工業(股份)製造)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(商品名：Coronate HL、日本聚胺基甲酸酯工業(股份)製造)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(商品名：Coronate HX、日本聚胺基甲酸酯工業 (股份)製造)等異氰酸酯加成物；苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D110N、三井化學(股份)製造)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D160N、三井化學(股份)製造)；聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、及該等與各種多元醇之加成物、經異氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等多官能化之聚異氰酸酯等。該等之中，就反應速度較快之方面而言，較佳為使用脂肪族異氰酸酯。
光學膜用黏著劑組合物中之交聯劑之調配比率並無特別限定，通常相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形分)100重量份而以交聯劑(固形分)10重量份左右以下之比率進行調配。上述交聯劑之調配比率較佳為0.01~10重量份，進而較佳為0.01~5重量份左右。
2.光學膜用黏著劑層
本發明之光學膜用黏著劑層之特徵在於由上述光學膜用黏著劑組合物所形成。
本發明之光學膜用黏著劑層之製造方法並無特別限定，可於各種基材上塗佈上述光學膜用黏著劑組合物，利用熱烘箱等乾燥器進行乾燥，使溶劑、水分、多餘之水溶液鹼性成分等揮散而形成黏著劑層。作為上述基材，並無特別限定，例如可列舉脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材，又，下述光學膜亦可較佳地用作基材。
作為上述光學膜用黏著劑組合物於基材上之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸輥式塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、利用模具塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
乾燥條件(溫度、時間)並無特別限定，可根據光學膜用黏著劑組合物之組成、濃度等而適當設定，例如為80~170℃之程度，較佳為 90~150℃，為1~60分鐘，較佳為2~30分鐘。
黏著劑層之厚度(乾燥後)例如較佳為10~100μm，更佳為15~80μm，進而較佳為20~60μm。若黏著劑層之厚度未達10μm，則有對被黏著體之密接性變差，高溫、高溫多濕下之耐久性不充分之傾向。另一方面，於黏著劑層之厚度超過100μm之情形時，有形成黏著劑層時之光學膜用黏著劑組合物之塗佈、乾燥時未充分地乾燥而殘留氣泡，或於黏著劑層之面產生厚度不均，或者外觀上之問題變得明顯之傾向。
作為上述脫模膜之構成材料，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等樹脂膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、起泡片、金屬箔、及該等之層壓體等適當之薄葉體等，就表面平滑性優異之方面而言，可較佳地使用樹脂膜。
作為該樹脂膜，例如可列舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述脫模膜之厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm之程度。對於上述脫模膜，視需要亦可進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉末等之脫模及防污處理或塗佈型、混練型、蒸鍍型等之抗靜電處理。尤其是藉由對上述脫模膜之表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進而提高自上述黏著劑層之剝離性。
作為上述透明樹脂膜基材，並無特別限定，可使用具有透明性之各種樹脂膜。該樹脂膜係藉由1層膜而形成。例如作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞 胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
上述膜基材之厚度較佳為15~200μm，更佳為25~188μm。
又，於上述樹脂膜基材上形成有本發明之黏著劑層之附黏著劑層之樹脂膜可藉由於樹脂膜基材的不與黏著劑層接觸之側進而形成透明導電層而用作觸控面板之電極用途。
3.附黏著劑層之光學膜
本發明之附黏著劑層之光學膜係於光學膜之至少一面形成有上述光學膜用黏著劑層者。該附黏著劑層之光學膜具有本發明之黏著劑層，故而即便貼合於由金屬氧化物所形成之透明導電層上，亦可抑制透明導電層之腐蝕。
使用圖1詳細地說明本發明之附黏著劑層之光學膜，圖1係表示本發明之附黏著劑層之光學膜之一例者，並不限定於此。
本發明之附黏著劑層之光學膜係於光學膜1之一面具有光學膜用黏著劑層2(以下，有時亦稱為黏著劑層2)(圖1)。
作為本發明之附黏著劑層之光學膜所使用之光學膜1，係用於形成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置，其種類並無特別限定。例如作為光學膜1，可列舉偏光板。偏光板通常使用於偏光元件之單面或雙面具有透明保護膜者。於本發明中，在為僅於偏光元件之單側具有透明保護膜之單面保護偏光板且上述偏光元件之不具有保護膜之面與光學膜用黏著劑層接觸之情形或者為於偏光元件之雙面具有保護膜之偏光板且上述偏光元件之與光學膜用黏著劑層接觸之側的保護膜之厚度為50μm以下之情形時，本發明之效果顯著。於使用單面保護偏光板之情形時，上述黏著劑層可直接設置於不具有上述透明保護膜之側之偏光 元件表面。
偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：使碘或二色性染料之二色性物質吸附於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上並進行單軸延伸而成者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等之中，較佳為包含聚乙烯醇系膜及碘等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限定，通常為5~80μm之程度。
以碘對聚乙烯醇系膜染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例如可藉由如下方式製作：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中進行染色，延伸至原長度之3~7倍。視需要亦可浸漬於可包含硼酸、硫酸鋅或氯化鋅等的碘化鉀等之水溶液中。進而視需要亦可於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗，可將聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨，此外，藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，亦有防止染色不均等不均之效果。延伸可於利用碘進行染色後進行，亦可一面染色一面延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。
又，於本發明中，亦可使用厚度為10μm以下之薄型偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1~7μm。此種薄型偏光元件由於厚度不均較少，而視認性優異，又，由於尺寸變化較少而耐久性優異，進而作為偏光板之厚度亦可實現薄型化，故而較佳。
作為薄型偏光元件，代表性而言，可列舉日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、國際公開第2010/100917號手冊、國際公開第2010/100917號手冊或日本專利4751481號說明書或者日本專利特開2012-073563號公報中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括於積層體之狀態下對聚乙烯醇 系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層及延伸用樹脂基材進行延伸之步驟及染色之步驟的製造方法而獲得。根據該製造方法，即便PVA系樹脂層較薄，亦可藉由被延伸用樹脂基材所支持而於並無由延伸所引起之斷裂等不良情形之情況下進行延伸。
作為上述薄型偏光膜，就於包括在積層體之狀態下進行延伸之步驟及染色之步驟的製造方法中，可延伸至高倍率而提昇偏光性能之方面而言，較佳為藉由如國際公開第2010/100917號手冊、國際公開第2010/100917號手冊或日本專利4751481號說明書或者日本專利特開2012-073563號公報中所記載之包括在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製造方法而獲得者，尤佳為藉由日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之包括在硼酸水溶液中進行延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟的製造方法而獲得者。
作為形成設置於上述偏光元件之單面或雙面之透明保護膜的材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等優異者。例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，作為形成上述透明保護膜之聚合物之例，亦可列舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。透明保護膜亦可以丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層之形 式形成。
保護膜之厚度可適當地決定，通常就強度或操作性等作業性、薄膜性等方面而言，為1~500μm之程度。又，於本發明中，即便於與光學膜用黏著劑層接觸之側的保護膜之厚度為50μm以下而較薄之情形時，亦可充分獲得透明導電層之表面電阻值之上升抑制效果。
上述偏光元件與保護膜通常經由水系接著劑等而密接。作為水系接著劑，可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。除上述以外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，亦可列舉紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對於上述各種透明保護膜顯示出適宜之接著性。又，於本發明中使用之接著劑中，可含有金屬化合物填料。
對於上述透明保護膜之未接著偏光元件之面，亦可實施硬塗層或抗反射處理、抗黏處理或者以擴散或抗眩為目的之處理。
又，作為偏光板以外之光學膜，例如可列舉：反射板或反透射板、位相差板(包含1/2或1/4等之波長板)、視角補償膜、亮度提昇膜等成為用於形成液晶顯示裝置等之光學層者。該等可單獨用作光學膜，除此以外，亦可於實用時積層於上述偏光板上而使用1層或2層以上。
又，可對上述光學膜實施活化處理。活化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV處理、電漿處理等。
黏著劑層於光學膜上之形成方法如上所述。
又，於上述黏著劑層露出之情形時，亦可以脫模膜(隔片)保護黏著劑層直至供於實用。作為脫模膜，可列舉如上所述者。於製作上述黏著劑層時使用脫模膜作為基材之情形時，將脫模膜上之黏著劑層與光學膜貼合，藉此該脫模膜可用作附黏著劑層之光學膜之黏著劑層的 脫模膜，可進行步驟上之簡化。
又，於光學膜1與光學膜用黏著劑層2之間，亦可具有增黏層(未圖示)。形成增黏層之材料並無特別限定，例如可列舉各種聚合物類、金屬氧化物之溶膠、矽溶膠等。該等之中，尤其是可較佳地使用聚合物類。上述聚合物類之使用形態可為溶劑可溶型、水分散型、水溶解型中之任一者。
作為上述聚合物類，例如可列舉：聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂等。該等之中，尤佳為聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。於該等樹脂中，可適當地調配交聯劑。該等其他黏合劑成分可根據其用途而適當地使用1種或組合2種以上。
於利用水分散型材料形成增黏層之情形時，係使用水分散型聚合物。作為水分散型聚合物，可列舉：使用乳化劑使聚胺基甲酸酯、聚酯等各種樹脂乳化而成者；或於上述樹脂中導入水分散性之陰離子基、陽離子基或非離子基進行自我乳化而成者等。
又，於上述增黏劑中，可含有抗靜電劑。抗靜電劑只要為可賦予導電性之材料，則無特別限定，例如可列舉離子性界面活性劑、導電性聚合物、金屬氧化物、碳黑、及碳奈米材料等，該等之中，較佳為導電性聚合物，更佳為水分散性導電聚合物。
作為水溶性導電性聚合物，可列舉聚苯胺磺酸(經聚苯乙烯換算之重量平均分子量150000、三菱麗陽(股份)製造)等，作為水分散性導電聚合物，可列舉聚噻吩系導電性聚合物(長瀨化成公司製造、Denatoron Series)等。
上述抗靜電劑之調配量例如相對於用於增黏劑之上述聚合物類100重量份而為70重量份以下，較佳為50重量份以下。就抗靜電效果 之方面而言，較佳為設為10重量份以上，進而設為20重量份以上。
增黏層之厚度並無特別限定，較佳為5~300nm。
作為上述增黏層之形成方法，並無特別限定，可藉由通常公知之方法而進行。又，於形成增黏層時，可對上述光學膜實施活化處理。活化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV處理、電漿處理等。
黏著劑層於光學膜上之增黏層上之形成方法如上所述。
又，關於本發明之附黏著劑層之光學膜之用途，除上述液晶顯示裝置用途以外，例如亦可將上述附黏著劑層之光學膜之黏著劑層貼附於用於觸控面板之電極基板的透明導電性膜之透明導電層而用作觸控面板用途。
4.液晶顯示裝置
本發明之附黏著劑層之光學膜可較佳地用於各種液晶顯示裝置中。
於液晶顯示裝置中，尤其是於採用IPS方式之液晶單元之液晶顯示裝置中，有時在構成液晶單元之透明基板之與接觸液晶層之側相反之側形成有透明導電層作為抗靜電層，藉由於該透明導電層上貼附本發明之附黏著劑層之光學膜之黏著劑層，可抑制作為抗靜電層的透明導電層之腐蝕，故而較佳。
將使用本發明之附黏著劑層之光學膜的液晶表裝置之一例示於圖2。圖2之液晶顯示裝置包括光學膜1、光學膜用黏著劑層2、透明導電層3、液晶單元4、黏著劑層5、光學膜6。其中，本發明之液晶顯示裝置並不限定於此，亦可於該構成中包含用於液晶顯示裝置之各種層。
上述光學膜1及透明導電用黏著劑層2適合於上述附黏著劑層之光學膜。又，光學膜6可列舉與上述光學膜1相同者。
作為液晶單元，並無特別限定，例如可使用TN(Twisted Nematic，扭轉向列)型、STN(Super Twisted Nematic，超扭曲向列型)型、π型、VA(Vertical Alignment，垂直配向)型、IPS(In-Plane Switching，橫向電場效應)型等任意類型者，於本發明中，基於上述原因，尤其是於使用IPS方式之液晶單元之情形時發揮優異之效果。
又，黏著劑層5亦可為本發明之黏著劑層，只要為通常用於液晶圖像顯示裝置之黏著劑層，則無特別限定。例如可使用包含以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醚、氟系或合成橡膠系等之聚合物作為基礎聚合物之黏著劑的黏著劑層，該等之中，尤其是丙烯酸系黏著劑可較佳地使用光學透明性優異，顯示適當之潤濕性、凝聚性及接著性之黏著特性，耐候性或耐熱性等優異者。
又，作為設置於液晶單元上之透明導電層3之構成材料，並無特別限定，例如可列舉金屬氧化物。作為金屬氧化物，較佳為含有氧化錫之氧化銦。該金屬氧化物較佳為含有氧化銦80~99重量%及氧化錫1~20重量%。
透明導電層3之厚度並無特別限定，較佳為設為厚度10nm以上。若膜厚過厚，引起透明性之降低等，故而較佳為15~35nm，更佳為20~30nm之範圍內。若厚度未達15nm，則表面電阻變高，且難以成為連續覆膜。又，若超過35nm，則引起透明性之降低等。
作為透明導電層3之形成方法，並無特別限定，可採用先前公知之方法。具體而言，例如可例示真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍著法。又，亦可根據所需之膜厚而採用適當之方法。
又，於形成透明導電層3時，亦可設置底塗層，底塗層可由無機物、有機物、或無機物與有機物之混合物所形成。例如作為無機物，可列舉：NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、 Al2O3(1.63)等無機物〔上述各材料之( )內之數值為光之折射率〕。該等之中，可較佳地使用SiO2、MgF2、Al2O3等。尤佳為SiO2。除上述以外，可使用相對於氧化銦而包含氧化鈰10~40重量份左右、氧化錫0~20重量份左右之複合氧化物。
由無機物所形成之底塗層可藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍著法等乾法、或濕法(塗佈法)等而形成。作為形成底塗層之無機物，如上所述，較佳為SiO2。於濕法中，可藉由塗佈矽溶膠等而形成SiO2膜。
又，於本發明之液晶顯示裝置中，除上述構成以外，亦可於圖2所示之各層間及/或外側包含任意之光學補償層、接著層等通常用於液晶顯示裝置之各種層。
5.積層體
本發明之積層體之特徵在於使上述附黏著劑層之光學膜之黏著劑層與透明導電性膜之透明導電層進行貼合。
上述附黏著劑層之光學膜可使用如上所述者。
作為上述透明導電性膜，並無特別限定，可使用公知者，通常使用於透明基材上具有透明導電性層者。
作為透明基材，只要為具有透明性者即可，例如可列舉包括樹脂膜或玻璃等之基材(例如片狀、膜狀或板狀之基材等)等，尤佳為樹脂膜。透明基材之厚度並無特別限定，較佳為10~200μm之程度，更佳為15~150μm之程度。
作為上述樹脂膜之材料，並無特別限定，可列舉具有透明性之各種塑膠材料。例如作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙 烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
又，對於上述透明基材，亦可對表面預先實施濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理或底塗處理而提昇設置於其上之透明導電層對於上述透明基材之密接性。又，於設置透明導電性層前，視需要亦可利用溶劑洗淨或超音波洗淨等進行除塵、淨化。
作為上述透明導電性層，可列舉與「4.液晶顯示裝置」中所說明之透明導電層相同者。
[實施例]
以下，使用實施例對本發明進行詳細說明，但只要不超過其主旨，則本發明並不限定於以下之實施例。又，各例中，份、%均為重量基準。
實施例1
(單體乳膠之製備)
於容器中，添加作為原料之丙烯酸丁酯785份、甲基丙烯酸甲酯160份、含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)5份、含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)1份、丙烯酸50份、3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(商品名：KBM-503、信越化學工業(股份)製造)0.5份、Eleminol JS-20(三洋化成工業(股份)製造)20份、及水1381份，使用均質攪拌機(特殊機化工業(股份)製造)以6000rpm攪拌5分鐘而製備單體乳膠。
(水分散型丙烯酸系黏著劑之製備)
其次，於具備冷卻管、氮導入管、溫度計、滴液漏斗及攪拌翼之反應容器中，添加以上述方式製備之單體乳膠，其次，對反應容器 進行充分氮置換後，將內浴溫度調整至65℃，添加銨過氧硫酸鈉(APS)0.1份並進行5小時聚合而獲得固形分濃度40%之水分散液(乳膠)。於該水分散液(乳膠)100重量份中添加濃度10%之銨水3份而製備水分散型丙烯酸系黏著劑。
(光學膜用黏著劑層之形成)
利用敷料器以乾燥後之厚度成為25μm之方式將上述水分散型丙烯酸系黏著劑塗佈於脫模膜(商品名：Diafoil MRF-38、聚對苯二甲酸乙二酯基材、三菱化學聚酯(股份)製造)上後，利用熱風循環式烘箱於135℃下乾燥2分鐘而形成光學膜用黏著劑層。
(附黏著劑層之偏光板之製作)
藉由延伸溫度130℃及延伸倍率2倍之空中補助延伸而使於A-PET(非晶質-聚對苯二甲酸乙二酯)膜(商品名：Novaclear SH046、厚度：200μm、三菱樹脂(股份)製造)上對9μm厚之PVA層進行製膜之積層體生成延伸積層體，其次，藉由染色而使延伸積層體生成著色積層體，進而藉由延伸溫度65℃下之硼酸水中延伸而將著色積層體以總延伸倍率成為5.94倍之方式與A-PET膜一體延伸，而生成包含4μm厚之PVA層的光學膜積層體。藉由上述2段延伸，可生成構成高功能偏光層之包含厚度4μm之PVA層的光學膜積層體，該高功能偏光層係使經製膜之PVA層之PVA分子高次配向於A-PET膜上，因染色而吸附之碘與PVA形成錯合物並作為PVA-碘錯合物而高次配向於一方向上。進而，經由聚乙烯醇系接著劑而使40μm厚之丙烯酸系膜貼合於該光學膜積層體之偏光層表面後，立即將A-PET膜剝離而製作使用薄型偏光層之偏光板。將其稱為單面保護偏光板(1)。
將上述(光學膜用黏著劑層之形成)中所獲得之光學膜用黏著劑層貼合於上述單面保護偏光板(1)之偏光元件(未積層保護膜之面)上而製作附黏著劑層之偏光板。
實施例2
於實施例1之(附黏著劑層之偏光板之製作)中，使用以下之雙面保護偏光板(1)，且於上述雙面保護偏光板之偏光元件之厚度40μm之保護膜側貼合上述(光學膜用黏著劑層之形成)中所獲得之光學膜用黏著劑層之黏著劑層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
(雙面保護偏光板(1)之製作)
藉由延伸溫度130℃及延伸倍率2倍之空中補助延伸而使於A-PET(非晶質-聚對苯二甲酸乙二酯)膜(商品名：Novaclear SH046、厚度：200μm、三菱樹脂(股份)製造)上對12μm厚之PVA層進行製膜之積層體生成延伸積層體。其次，藉由染色而使延伸積層體生成著色積層體，進而藉由延伸溫度65℃之硼酸水中延伸而使著色積層體以總延伸倍率成為5.94倍之方式與A-PET膜一體延伸而生成包含5μm厚之PVA層的光學膜積層體。藉由上述2段延伸，可生成構成高功能偏光層之包含厚度5μm之PVA層的光學膜積層體，該高功能偏光層係使經製膜之PVA層之PVA分子高次配向於A-PET膜上，因染色而吸附之碘與PVA形成錯合物而作為PVA-碘錯合物高次配向於一方向上。進而，經由聚乙烯醇系接著劑而將40μm厚之丙烯酸系膜貼合於該光學膜積層體之偏光層之表面後，立即將A-PET膜剝離而製作使用薄型偏光元件的單面保護偏光板(2)。經由UV硬化型接著劑將25μm厚之降烯系膜(商品名：ARTON、JSR(股份)製造)貼合於所製作之單面保護偏光板(2)之偏光元件面而製作雙面保護偏光板(1)。
實施例3
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為10份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例4
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為790份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為2份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例5
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為790份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為10份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例6
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為770份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為20份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為0.3份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例7
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為770份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造))自5份變更為20份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為10份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例8
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為 740份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為50份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例9
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為780份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為10份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為MP-4(商品名、大八化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例10
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為770份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為20份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為MP-4(商品名、大八化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例11
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為790份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為Phosphanol GF-185(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例12
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為 780份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為10份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為Phosphanol GF-185(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例13
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為790份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為Phosphanol BH-650(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例14
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為780份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為10份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造))變更為Phosphanol BH-650(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例15
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為780份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為10份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為Phosphanol RS-710(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例16
(單體乳膠(1)之製備)
於容器中添加作為原料之丙烯酸丁酯180份、甲基丙烯酸甲酯800份、丙烯酸20份、3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(商品名：KBM-503、信越化學工業(股份)製造)0.5份、Eleminol JS-20(三洋化成工業(股份)製造)75份、及水4150份，使用均質攪拌機(特殊機化工業(股份)製造)以6000rpm攪拌5分鐘而製備單體乳膠(1)。
(單體乳膠(2)之製備)
於容器中添加作為原料之丙烯酸丁酯917.5份、含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)25份、含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)1.25份、丙烯酸57.5份、3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(商品名：KBM-503、信越化學工業(股份)製造)0.5份、Eleminol JS-20(三洋化成工業(股份)製造)6.25份、及水1080份，使用均質攪拌機(特殊機化工業(股份)製造)以6000rpm攪拌5分鐘而製備單體乳膠(2)。
(水分散型丙烯酸系黏著劑之製作)
其次，於具備冷卻管、氮導入管、溫度計、滴液漏斗及攪拌翼之反應容器中，添加以上述方式製備之單體乳膠(1)中之860份，其次，對反應容器進行充分氮置換後，將內浴溫度調整至65℃，添加銨過氧硫酸鈉(APS)0.1份而進行2小時聚合。其次，添加銨過氧硫酸鈉(APS)0.5份後，一面使內浴溫度保持於65℃一面歷經3小時滴加單體乳膠(2)中之1643份後，進而進行3小時聚合而獲得固形分濃度40%之水分散液(乳膠)。於該水分散液(乳膠)100重量份中添加濃度10%之銨水3份而製備水分散型丙烯酸系黏著劑。
(光學膜用黏著劑層之形成)
利用敷料器以乾燥後之厚度成為25μm之方式將上述水分散型丙 烯酸系黏著劑塗佈於脫模膜(商品名：Diafoil MRF-38、聚對苯二甲酸乙二酯基材、三菱化學聚酯(股份)製造)上後，利用熱風循環式烘箱於150℃下乾燥10分鐘而形成光學膜用黏著劑層。
(附黏著劑層之偏光板之製作)
於實施例1之(附黏著劑層之偏光板之製作)中，使用以上述方式獲得之光學膜用黏著劑層，除此以外，以與實施例相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例17
於實施例16之(單體乳膠(2)之製備)中，將丙烯酸丁酯自917.5份變更為942.5份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自25份變更為0份，除此以外，以與實施例16相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例18
於實施例16之(單體乳膠(2)之製備)中，將丙烯酸丁酯自917.5份變更為930份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自25份變更為12.5份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為MP-4(商品名、大八化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例16相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例19
於實施例16之(單體乳膠(2)之製備)中，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為MP-4(商品名、大八化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例16相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例20
(黏著劑溶液之製備)
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，添加含有丙烯酸丁酯944份、丙烯酸50份、含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)5份、丙烯酸2-羥基乙酯1份之單體混合物。進而，相對於上述單體混合物(固形分)100份而投入作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.2重量份、及作為聚合溶劑之乙酸乙酯133重量份，一面緩緩地攪拌一面導入氮氣而進行氮置換後，使燒瓶內之液溫保持於60℃附近而進行7小時聚合反應，製備固形分濃度30%之丙烯酸系聚合物溶液。於上述丙烯酸系聚合物溶液中，添加相對於聚合物固形分100份之含異氰酸酯基之化合物(商品名：Coronate L、日本聚胺基甲酸酯工業(股份)製造)0.6份、相對於聚合物固形分100份之矽烷偶合劑(商品名：KBM-403、信越化學工業(股份)製造)0.075份、相對於聚合物固形分100份之含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)0.1份、用於調整黏度之溶劑(乙酸乙酯)，而製備黏著劑溶液(固形分11%)。
(光學膜用黏著劑層之形成)
利用反向輥式塗佈法以乾燥後之厚度成為25μm之方式將該黏著劑溶液塗佈於脫模膜(商品名：Diafoil MRF-38、聚對苯二甲酸乙二酯基材、三菱化學聚酯(股份)製造)上後，利用熱風循環式烘箱於130℃下乾燥3分鐘而形成光學膜用黏著劑層。
(附黏著劑層之偏光板之製作)
於實施例1之(附黏著劑層之偏光板之製作)中，使用以上述方式獲得之光學膜用黏著劑層，除此以外，以與實施例相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例21
於實施例20之(附黏著劑層之偏光板之製作)中，使用實施例2中所獲得之雙面保護偏光板(1)，且於上述雙面保護偏光板之偏光元件 的厚度40μm之保護膜側貼合上述(光學膜用黏著劑層之形成)中所獲得之光學膜用黏著劑層之黏著劑層，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例22
於實施例20中，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為Phosphanol GF-185(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例23
於實施例20中，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為Phosphanol BH-650(商品名、東邦化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例24
於實施例20中，將丙烯酸丁酯自944份變更為949份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自0.1份變更為0.03份，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例25
於實施例20中，將丙烯酸丁酯自944份變更為949份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自0.1份變更為1份，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
實施例26
於實施例20中，將丙烯酸丁酯自944份變更為949份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)變更為MP-4(商品名、大八化學工業(股份)製造)，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
比較例1
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為790份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為0份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
比較例2
根據與比較例1相同之組成而形成光學膜用黏著劑層。將所獲得之光學膜用黏著劑層之黏著劑層貼合於實施例2中所獲得之雙面保護偏光板(1)的厚度40μm之保護膜側而製作附黏著劑層之偏光板。
比較例3
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為770份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為20份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為0份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
比較例4
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，將丙烯酸丁酯自785份變更為740份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為50份，將含磷酸基之酯(商品名： Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自1份變更為0份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
比較例5
於實施例20中，將丙烯酸丁酯自944份變更為949份，將含磷酸基之單體(商品名：SimpomerPAM200、Rhodia Nicca(股份)製造)自5份變更為0份，將含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172、東邦化學工業(股份)製造)自0.1份變更為0份，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光板。
對實施例及比較例中所獲得之光學膜用黏著劑層之厚度、耐腐蝕性進行評價。將結果示於表1、2。
<對於晶質ITO薄膜之耐腐蝕性>
於作為膜基材之厚度25μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(以下，稱為PET膜)的一面，利用三聚氰胺樹脂：醇酸樹脂：有機矽烷縮合物之重量比2：2：1之熱硬化型樹脂形成厚度為180nm之第一層底塗層。其次，於第1層底塗層上，利用電子束加熱法以1.33×10-2~2.67×10-2Pa之真空度對SiO2進行真空蒸鍍而形成厚度40nm之第二層底塗層(SiO2膜)。
其次，於第二層底塗層上，在包含氬氣80%及氧氣20%之5.33×10-2Pa之環境下，利用使用氧化銦90重量%、氧化錫10重量%之反應性濺鍍法形成厚度22nm之ITO膜而獲得具有ITO薄膜之膜。所獲得之ITO膜為非晶質。藉由於140℃下進行90分鐘加熱處理而使具有上述ITO薄膜之膜晶質化，獲得晶質ITO薄膜。
將實施例及比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光板切割成8mm×8mm。又，製備於具有上述晶質ITO薄膜之膜(15mm×15mm)之晶質ITO膜上積層有附黏著劑層之偏光板之黏著劑層面的樣品。於該樣品中，藉由霍耳效應測定裝置(產品名：HL5500PC、nano metrics製 造)而測定具有晶質ITO薄膜之膜的晶質ITO膜之電阻值(將其稱為投入前電阻值)。又，將該樣品於60℃、95%RH之環境下放置500小時。對於上述放置後之樣品，以與上述相同之方式測定具有晶質ITO薄膜之膜的晶質ITO膜之電阻值(將其稱為投入後電阻值)。使用上述結果並根據以下之式而算出於上述環境下投入樣品前後之電阻值之上升率。
電阻值之上升率(%)=(投入後電阻值/投入前電阻值)×100
上述電阻值之上升率越低越好，若上述電阻值之上升率為120%以下，則判斷滿足耐腐蝕性，按照下述基準進行評價。
○：電阻值之上升率為120%以下
×：電阻值之上升率超過120%
<對非晶質ITO薄膜之耐腐蝕性>
作為具有厚度22nm之非晶質ITO薄膜之膜，使用日東電工(股份)製造之Elecrysta P400L-TNME。具有該非晶質ITO薄膜之膜係於評價試驗前於140℃下進行90分鐘加熱處理。處理後之膜之ITO薄膜為非晶質。
將實施例1、9、16、18、20及比較例1、5中所獲得之附黏著劑層之偏光板切割成8mm×8mm。又，製備於具有上述非晶質ITO薄膜之膜之非晶質ITO膜上積層有附黏著劑層之偏光板的黏著劑層面之樣品。對於該樣品，利用霍耳效應測定裝置(產品名：HL5500PC、nano metrics製造)測定具有非晶質ITO薄膜之膜的非晶質ITO膜之電阻值(將其稱為投入前電阻值)。又，將該樣品於60℃、95%RH之環境下放置500小時。對於上述放置後之樣品，以與上述相同之方式測定具有非晶質ITO薄膜之膜的ITO膜之電阻值(將其稱為投入後電阻值)。使用上述結果並按照以下之式而算出於上述環境下投入樣品前後之電阻值之上升率。
電阻值之上升率(%)=(投入後電阻值/投入前電阻值)×100
上述電阻值之上升率越低越好，若上述電阻值之上升率為130%以下，則可判斷滿足耐腐蝕性。
○：電阻值之上升率為130%以下
×：電阻值之上升率超過130%
表1、2中之簡稱分別如下所述。
SM-172：Phosphamol SM-172(東邦化學工業(股份)製造)
GF-185：Phosphanol GF-185(東邦化學工業(股份)製造)
BH-650：Phosphanol BH-650(東邦化學工業(股份)製造)
RS-710：Phosphanol RS-710(東邦化學工業(股份)製造)
MP-4：商品名、大八化學工業(股份)製造
又，表1、2中之添加量(重量份)係相對於單體成分100重量份者。其中，表1、2之實施例20~26之酯之添加量(重量份)係相對於(甲基)丙烯酸系聚合物固形分100重量份者。
1‧‧‧光學膜
2‧‧‧光學膜用黏著劑層

Claims (10)

  1. 一種光學膜用黏著劑組合物，其特徵在於：包含使含有具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分的單體成分聚合而獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物、及磷酸酯系化合物。
  2. 如請求項1之光學膜用黏著劑組合物，其中上述磷酸酯系化合物相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份為0.005~2重量份。
  3. 如請求項1或2之光學膜用黏著劑組合物，其中上述單體成分進而包含含磷酸基之單體。
  4. 如請求項3之光學膜用黏著劑組合物，其中上述含磷酸基之單體相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份為0.1~10重量份。
  5. 一種光學膜用黏著劑層，其特徵在於：其係由如請求項1至4中任一項之光學膜用黏著劑組合物所形成。
  6. 一種附黏著劑層之光學膜，其特徵在於：於光學膜之至少一面具有如請求項5之光學膜用黏著劑層。
  7. 如請求項6之附黏著劑層之光學膜，其中上述光學膜係於偏光元件之雙面具有保護膜之偏光板，至少單側之保護膜之厚度為50μm以下，上述光學膜用黏著劑層至少接觸該保護膜。
  8. 如請求項6之附黏著劑層之光學膜，其中上述光學膜係於偏光元件之單面具有保護膜之偏光板，上述光學膜用黏著劑層至少接觸上述偏光元件之不具有保護膜之面。
  9. 一種液晶顯示裝置，其特徵在於：使用如請求項6至8中任一項之附黏著劑層之光學膜。
  10. 一種積層體，其特徵在於：使如請求項6至8中任一項之附黏著 劑層之光學膜之黏著劑層與透明導電性膜之透明導電層進行貼合。
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