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TW201445122A - 基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及方法 - Google Patents

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TW201445122A
TW201445122A TW102135826A TW102135826A TW201445122A TW 201445122 A TW201445122 A TW 201445122A TW 102135826 A TW102135826 A TW 102135826A TW 102135826 A TW102135826 A TW 102135826A TW 201445122 A TW201445122 A TW 201445122A
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Soon-Ryong Park
Chul-Woo Jeong
Woo-Suk Jung
Tae-Eun Kim
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Samsung Display Co Ltd
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Abstract

本發明提供顯示裝置及其製造方法，根據本發明的基板彎曲裝置，包括：工作臺，形成有通孔；基板吸盤，支撐所板的彎曲物件區域的鄰接面，通過該通孔從該工作臺進出；升降部，使該基板吸盤相對於該工作臺進行上升或下降；以及覆蓋構件，以覆蓋該基板的狀態緊貼於該工作臺，利用該基板吸盤和該工作臺的高度之差彎曲該彎曲物件區域。

Description

基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及方法
本發明涉及一種基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及利用該基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查方法。
隨著電視機及顯示器等家用顯示裝置，以及筆記本電腦、手機及PMP等可擕式顯示裝置的輕量化及超薄化，廣泛使用各種平板顯示裝置。現在生產或開發的平板顯示裝置有液晶顯示裝置(liquid crystal display：LCD)，電致發光顯示裝置(electro luminescent display：LED)，場發射顯示裝置(field emission display：FED)，等離子顯示裝置(plasma display panel：PDP)，有機發光顯示裝置(Organic Light Emitting Display：OLED)等。
近年，為了方便攜帶IT設備，並實現各種顯示形態，研究開發能以曲面狀態彎曲或捲繞成捲筒型進行攜帶或保管的柔性平板顯示裝置。
尤其，柔性平板顯示裝置，不僅在平面狀態下，在 曲面狀態下也能穩定地顯示圖像，並且，需要具備即便反復彎曲，其形狀也能恢復原狀態的能力及圖像顯示能力等。
因此，在生產產品的過程中，需要對柔性基板反復進行彎曲測試，並進行彎曲區域的光學特性檢查及外觀檢查。
因此，本發明所要解決的課題是，提供一種用於彎曲基板的基板彎曲裝置、在彎曲基板的狀態下，檢查彎曲區域的基板彎曲檢查裝置以及利用該基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查方法。
本發明的技術課題並不局限於以上所述的技術課題，對於未提及的其他技術課題，本領域的技術人員可通過以下記載將會明確理解。
為達成本發明的技術課題，根據本發明的一實施例的基板彎曲裝置，包括：工作臺，形成有通孔；基板吸盤，支撐基板的彎曲物件區域的鄰接面，通過該通孔從該工作臺進出；升降部，使該基板吸盤相對於該工作臺進行上升或下降；以及覆蓋構件，以覆蓋該基板的狀態緊貼於該工作臺，利用該基板吸盤和該工作臺的高度之差彎曲該彎曲物件區域。
為達成該技術課題，根據本發明的一實施例的基板彎曲檢查裝置，包括：工作臺；基板吸盤，從該工作臺突出，用於支撐基板的彎曲物件區域的鄰接面；覆蓋構件，以覆蓋該基板的狀態緊貼於該工作臺，利用該基板吸盤和該工作臺的高度之差而彎曲該彎曲物件區域；以及攝像部，用於拍攝該彎曲物件區域。
為達成該技術課題，根據本發明的一實施例的基板彎曲檢查方法，包括：將基板的彎曲物件區域的鄰接面配置在基板吸盤上的步驟；在容納該基板吸盤的工作臺的上面配置覆蓋該基板的覆蓋構件的步驟；緊貼該覆蓋構件和該工作臺的步驟；以及使該基板吸盤從該工作臺上升，該覆蓋構件朝該基板吸盤的邊角側加壓該彎曲物件區域，從而彎曲該彎曲物件區域的步驟。
根據本發明至少具有如下效果。
對基板的局部可通過預定外力反復進行彎曲測試，通過細微地調整彎曲時所需的外力，從而，對彎曲的局部區域能夠有效地施加最小限度的應力變化。
並且，進行基板的彎曲測試的同時測量彎曲區域的微細的亮度變化等，同時還可以檢查彎曲區域的微細的破裂等。
根據本發明的效果並不局限於以上所述的內容，在本說明書中包括更多樣的效果。
1,2,3,4‧‧‧基板彎曲裝置
5‧‧‧基板彎曲檢查裝置
10‧‧‧工作臺
11‧‧‧吸引口
12‧‧‧吸引流路
13‧‧‧固定器
15‧‧‧通孔
16‧‧‧容納槽
20,201,202‧‧‧基板吸盤
30‧‧‧升降部
31‧‧‧升降驅動裝置
32‧‧‧升降銷
40‧‧‧覆蓋構件
50‧‧‧攝像檢查部
51‧‧‧圖像取得部
52‧‧‧運算部
53‧‧‧顯示部
52a‧‧‧圖像加工部
52b‧‧‧亮度測定部
52c‧‧‧外觀檢查部
52d‧‧‧處理部
S‧‧‧基板
S1‧‧‧安裝區域
S2‧‧‧彎曲物件區域
S3‧‧‧突出區域
圖1是根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖。
圖2是根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的概略側截面圖。
圖3是配置在基板吸盤的基板的示意圖。
圖4及圖5是根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的概略動作圖。
圖6是根據本發明的第一實施例的基板吸盤的概略側視圖。
圖7是根據本發明的其他實施例的基板吸盤的概略側視圖。
圖8是根據本發明的第二實施例的基板彎曲裝置的概略截面圖。
圖9是根據本發明的第三實施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖。
圖10是根據本發明的第四實施例的基板彎曲裝置的概略截面圖。
圖11是根據本發明的第二實施例的基板彎曲裝置的概略截面圖。
圖12是根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置的攝影部的框圖。
圖13是根據本發明的實施例的基板彎曲檢查方法的順序圖。
圖14至圖16是利用根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查過程的動作示意圖。
本發明的優點、特徵以及為達成這些的方法可通過附圖及後述的實施例將會明確地理解。但是，本發明並不局限於以下所述的實施例，可體現為各種不同的形態。本實施例是為使本發明更加完整，並對本發明所屬領域的技術人員提供發明範疇而提供的。本發明僅通過申請專利範圍而決定。為了明確說明，可擴張表示附圖中構成元件的大小及相對大小。
參考本發明的理想的概略圖的俯視圖及介面圖說明本說明書中所記載的實施例。因此，可根據製造技術及/或允許誤差等變形示例圖的形態。並且，本發明的實施例並不局限於圖示的特定形態，還包括因製造工程而產生的形態變化。所以，圖中所示的區域具有概略的屬性，並且，圖中所示的區域的形態是舉例說明元件的區域的特定形態而已，並不用來限定本發明的範疇。
圖1是根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖，圖2是根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的概略側截面圖，圖3是配置在基板吸盤的基板的示意圖。
如圖1及圖2所示，根據本發明的基板彎曲裝置1包括：工作臺10、基板吸盤20、升降部30以及覆蓋構件40。
工作臺10是用於安裝基板S及覆蓋構件40的平板，覆蓋構件40用於彎曲基板S，在該工作臺的中央形成有供基板吸盤20上升及下降的通孔15。
並且，工作臺可以具備用於固定覆蓋構件40的吸附單元。吸附單元，包括：多個吸引口11，以預定間隔形成在通孔15的兩側；吸引流路12，形成在工作臺10的內側，並與多個吸引口11連通。吸引流路12與真空泵(省略圖示)連接而可朝吸引口11側提供真空壓力。
如圖3所示，基板吸盤20形成為其上面幅度比基板S的幅度或長度窄，可以支撐基板S的局部。以下，為方便說明，將基板S分為安裝區域S1、彎曲物件區域S2以及突出區域S3三個區域進行說明。
彎曲物件區域S2是位於基板吸盤20的邊角，而利用基板吸盤20的邊角進行彎曲的區域，安裝區域S1是位於彎曲物件區域S2的鄰接面中的一側的區域，是位於基板吸盤20的上面的區域，突出區域S3是位於彎曲物件區域S2的鄰接面中的另一側的區域，是位於基板吸盤20的外側的區域。
如圖3所示，各基板S的彎曲物件區域S2位於基板吸盤20的兩側邊角時，兩側彎曲物件區域S2之間的區域可定義為安裝區域S1，以彎曲物件區域S2為中心位於安裝區域S1的相反側的區域可定義為突出區域S3。
一方面，基板吸盤20設置為可通過通孔15進出工作臺10的上部，使得工作臺10的上面和基板吸盤20的上面位於相同的平面，上升前和下降後的基板吸盤20成為容納于通孔15的狀態。
升降部30形成於基板吸盤20的下部，可包括用於支撐基板吸盤20的升降銷32和使升降銷32上升及下降的升降驅動裝置31。
升降驅動裝置31使升降銷32上升及下降，從而可使基板吸盤20從工作臺10進出。並且，升降驅動裝置31可控制升降銷32的升降高度及/或升降速度。
作為升降驅動裝置31可使用利用液壓的變化升降升降銷32的液壓缸。
利用液壓缸的升降驅動裝置31可微細地控制升降銷32的升降高度及/或升降速度。由此，可以提供各種各樣的彎曲環境，通過微細調整液壓量，對彎曲物件區域S2可有效地誘導最小限度的應力變化。
並且，當對經彎曲的彎曲物件區域S2施加很強的復原力時，也能通過調整液壓量，對基板吸盤20提供對應於復原力 的很強的上升力。
覆蓋構件40是隨著基板吸盤20的上升而上升並彎曲基板S的構成原件，覆蓋安裝於基板吸盤20的基板S，可位於工作臺10上面。
覆蓋構件40優選構成為覆蓋基板S的部分在基板吸盤20上升的過程中進行伸長，而在基板20下降而回到通孔15內的過程中恢復到原狀態，為此，覆蓋構件40可由伸長及恢復穩定性出色的材料的薄膜構成。
以下，說明根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的動作。圖4及圖5是根據本發明的第一實施例的基板彎曲裝置的概略動作圖。
如圖4所示，基板吸盤20可位於通孔15內以便基板吸盤20的上面與工作臺10的上面位於同一平面。以下，將其稱為基板吸盤20的原位置(home)。
彎曲物件的基板S配置於基板吸盤20的上面。如上所述，基板S可配置為彎曲物件區域S2位於基板吸盤20的邊角，安裝區域S1位於基板吸盤20的上面，突出區域S3位於基板吸盤20的外側(參照圖3)。
配置在基板吸盤20上的基板S上面可配置覆蓋構件40。覆蓋構件40的面積可對應於工作臺10的面積，覆蓋基板S的前面及形成在工作臺10的吸引口11，可安裝於工作臺10上面。
基板S及覆蓋構件40依次配置在基板吸盤20及工 作臺10上之後，可通過形成於工作臺10的吸引口11及吸引流路12進行真空排氣。由此，在覆蓋構件40和工作臺10之間形成真空壓力，從而，覆蓋構件40的兩側能以基板S為中心緊貼於工作臺10。
如圖5所示，覆蓋構件40緊貼固定於工作臺10之後，升降驅動裝置31使升降銷32上升而可以使基板吸盤20上升。
通過基板吸盤20的上升，在基板吸盤20的上面和工作臺10的上面之間產生高度差，覆蓋構件40的兩側以緊貼於工作臺10的狀態下覆蓋中央的基板S的部分隨著基板吸盤20的上升而伸長。
由覆蓋構件40的伸長而產生的彈性反作用力可以將基板S朝基板吸盤20側加壓。
並且，通過緊貼於工作臺10的兩側和覆蓋基板S的中央部的高度之差，覆蓋構件40將基板S的突出區域S3緊貼在基板吸盤20的側面側，並將基板S的彎曲物件區域朝基板吸盤20的邊角側加壓，從而可沿邊角彎曲彎曲物件區域S2。
升降驅動裝置31使升降銷32上升到事先輸入的升降高度為止之後，使升降銷32再次下降而將基板吸盤20恢復到原(home)位置。
當基板吸盤20恢復到原位置時，如圖4所示，覆蓋構件40通過自身彈性可恢復到最初安裝在工作臺10及基板S上面的平平的狀態。
隨著覆蓋構件40恢復到初期狀態，基板S也可通過自身彈力恢復到最初安裝在基板吸盤20上面的平平的狀態。
然後，如圖5所示，升降驅動裝置31使基板吸盤20再次上升而彎曲基板S的彎曲物件區域S2之後，如圖4所示，使基板吸盤20再次恢復到原位置而恢復到平平的狀態，通過反復該過程，可以進行對基板S的彎曲測試。
以下，說明根據本發明的實施例的基板吸盤。
圖6是根據本發明的一實施例的基板吸盤的概略側視圖。
如圖6所示，根據本發明的一實施例的基板吸盤201可利用多孔吸盤。
多孔吸盤是利用真空壓力吸附固定基板的真空吸盤，一般，利用以SiC粉末為主原料的多孔性陶瓷而製造。因此，多孔吸盤，在其表面形成多個氣孔，並利用通過氣孔提供的真空壓力，能夠吸附固定安裝在表面的基板等。
如本實施例，作為基板吸盤201使用多孔性多孔吸盤時，通過向基板吸盤201的上面提供真空壓力而可以穩定地支撐基板S。
通過形成在基板吸盤201的側面的多個氣孔也能向側面提供真空壓力，因此，在彎曲過程中，可通過覆蓋構件40將被折疊到基板吸盤201的側面的突出區域S3緊貼固定於基板吸盤201的側面。
在彎曲過程中，可同時將位於基板吸盤201的上面的基板S的安裝區域S1和位於基板吸盤201的側面的基板S的突出區域緊貼固定於基板吸盤201，因此，安裝區域S1和突出區域S3之間的彎曲物件區域S2利用基板吸盤201的邊角而可以更加穩定地保持被彎曲的狀態。
根據本實施例的基板吸盤201，在上升後恢復到原位置的過程中，使得彎曲物件區域S2及突出區域S33恢復到與安裝區域S1相同的平面，而可以切斷從表面的氣孔所提供的真空壓力。
圖7是根據本發明的其他實施例的基板吸盤的概略側視圖。
如圖7所示，根據本實施例的基板吸盤202形成為用於安裝基板S的上面的邊角具有預定曲率的曲面。
因此，在彎曲基板時，彎曲物件區域S2緊貼於具有預定曲率的基板吸盤202的邊角，並可根據邊角的曲率進行彎曲。
並且，對彎曲物件區域S2以特定曲率進行彎曲測試時，可利用根據本實施例的基板吸盤202。
並且，將根據本實施例的基板吸盤202形成為曲率互不相同的多個基板吸盤202，邊改變邊角的曲率，邊可進行彎曲測試。
例如，對相同的基板S進行最初彎曲測試時，在多個基板吸盤202中，將具有曲率最大的邊角的基板吸盤202安裝在基板彎曲裝置，然後，依次替換為具有曲率小的邊角的基板吸盤 202並進行彎曲測試。
通過如所述的彎曲測試，可以累積根據基板S的彎曲次數的界限曲率的數據。
根據本實施例的基板吸盤202也可以使用該多孔吸盤，此時，通過將安裝區域S1和突出區域S3分別緊貼固定於基板吸盤202的上面及側面，從而，彎曲物件區域S2可通過邊角的曲率穩定地保持彎曲狀態。
以下，說明根據本發明的其他實施例的基板彎曲裝置。
為方便說明，對與第一實施例的相似的部分標注相同的符號，並省略與第一實施例共同的部分的說明。
圖8是根據本發明的第二實施例的基板彎曲裝置的概略截面圖。
如圖8所示，根據本發明的基板彎曲裝置2可以具備多個基板吸盤20。
根據本實施例的基板彎曲裝置2中，2個以上的基板吸盤20以預定間隔隔開排列成一列，或4個以上的基板吸盤20以預定間隔隔開排列成N*M列。
在工作臺10上可以以預定間隔形成多個通孔15以與多個基板吸盤20相對應。
覆蓋構件40可以配置一個來覆蓋基板S及工作臺10 的前面，或者，以覆蓋各基板吸盤20的附近的大小，多個覆蓋構件分別配置在各基板吸盤20。
升降銷32為了支撐各基板吸盤20而可以具備多個，升降驅動裝置31控制各升降銷32同時上升或下降，或者，可單獨控制各升降銷32的上升高度及/或上升速度。
如圖8所示，根據本實施例的基板彎曲裝置2可以使用如下方式，即利用多個基板吸盤20可一次彎曲多個基板S。
或者，根據本實施例的基板彎曲裝置2還可以使用如下方式，即利用多個基板吸盤20在多個地點一次彎曲一個基板S。
此時，升降驅動裝置31統一控制各升降銷32的上升高度及/或上升速度，從而能以相同的形態進行多個地點的彎曲。
或者，升降驅動裝置31單獨控制各升降銷32的上升高度及/或上升速度而能以不同的形態進行多個地點的彎曲。當將基板吸盤20的上升高度及/上升速度控制為互不相同時，會導致基板S扭曲。因此，進行對基板S的彎曲測試的同時可以進行對基板S的扭曲測試。
圖9是本發明的第三實施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖。
如圖9所示，根據本實施例的基板彎曲裝置3，在工作臺10的兩側可進一步包括固定器13。
在工作臺10的兩側可至少具備一對固定器13，從 而，可將覆蓋構件40的兩端固定在工作臺10。
覆蓋構件40通過從形成在工作臺10的多個吸引口11提供的真空壓力緊貼於工作臺10，但是，在基板吸盤20上升的過程中，對覆蓋構件40的兩側施加向基板吸盤20側拉的張力。因此，覆蓋構件40和工作臺10之間的真空壓力弱于張力時，基板吸盤20上升的過程中，會發生覆蓋構件40被拉到基板吸盤20側的情況。
根據本實施例的基板彎曲裝置3，將覆蓋構件40的兩端用固定器13固定在工作臺10，從而，基板吸盤20上升而覆蓋構件40伸長的狀態下，也能將覆蓋構件40更加穩定地固定在工作臺10。
圖10是根據本發明的第四實施例的基板彎曲裝置的概略截面圖。
如圖10所示，根據本實施例的基板彎曲裝置4，在工作臺10可以形成容納基板吸盤20的容納槽16。
容納槽16的深度對應於基板吸盤20的高度，若基板吸盤20被安裝在容納槽16的底面，則基板吸盤20的上面可位於與工作臺10的上面相同的平面。
並且，升降銷32貫穿容納槽16的底面而支撐基板吸盤20，可從容納槽16上升及下降基板吸盤20。
根據本實施例的基板彎曲裝置4，當基板吸盤20位於原位置時，容納槽16的底面支撐基板吸盤20。
從而，減輕升降銷32及升降驅動裝置31持續支撐基板吸盤20的負擔，原位置通過容納槽16的底面保持預定，因此，即便基板吸盤20反復升降，也能使從工作臺10上升的基板吸盤20保持規定高度。
如上所述，根據本發明的各種實施例的基板彎曲裝置，利用基板吸盤20的邊角對彎曲物件區域S2的特定區域以相同的外力反復集中實施彎曲測試。
並且，控制基板吸盤20的上升速度、上升高度及上升力等而可以造成各種各樣的彎曲環境，通過微細調整彎曲所需的外力，可對彎曲區域僅有效地施加最小限度的應力變化。
以下，說明根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置。
圖11是根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置的概略截面圖，圖12是根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置的攝像部的框圖。
如圖11所示，根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置5包括工作臺10、基板吸盤20、升降部30、覆蓋構件40及攝像檢查部50。
根據本實施例的基板彎曲檢查裝置5利用該基板彎曲裝置，由於工作臺10、基板吸盤20、升降部30及覆蓋構件40的說明與所述內容重疊，因此，在此省略對其的詳細說明。
如圖11所示，根據本發明的基板彎曲檢查裝置15 的攝像檢查部50可包括圖像取得部51、運算部52及顯示部53。
圖像取得部51是為拍攝基板S的彎曲物件區域S2的構成原件，可包括CCD(Charge Coupled Device)相機和用於測定彎曲物件區域S2的亮度的亮度計。
圖像取得部51設置為指向彎曲基板S的彎曲物件區域S2的位置。例如，如圖11所示，設置在基板吸盤20的邊角部分的上部而指向垂直下方，或者傾斜地設置在工作臺11的上部而指向彎曲彎曲物件區域S2的位置。
圖像取得部51設置成可向XYZ軸移動，沿基板吸盤20的邊角移動的同時掃描並拍攝彎曲物件區域S2，或者拍攝在基板吸盤20的一側邊角被彎曲的一側彎曲物件區域S2之後移動而指向基板吸盤20的另一側邊角，然後，可以拍攝在基板吸盤20的另一側邊角被彎曲的另一側彎曲物件區域S2。
或者，圖像取得部51可包括分別指向基板吸盤20的兩側邊角部分的一對攝像頭。從而可以同時取得通過基板吸盤20的兩側邊角彎曲的彎曲物件區域S2的兩側圖像。
如圖12所示，運算部52可以包括圖像加工部52a、亮度測定部52b、外觀檢查部52c以及處理部52d。
圖像加工部52a接受從圖像取得部51拍攝的圖像，並加工成易檢查的圖像。
例如，將從圖像取得部51接受的所拍攝的圖像轉換為數位圖像，或者在攝像圖像中僅將彎曲物件區域S2的圖像分離 到檢查區域之後進行排列，或者進行去除因照明等而發生的噪音等的加工過程。
亮度測定部52b從圖像加工部52a接受經加工的圖像而測定彎曲物件區域S2的亮度。
當基板S被彎曲時，由於形成在基板S的電路圖也一起彎曲，因此，電路的電阻變大等電路特性發生變化，由此，所顯示的圖像的亮度會發生變化。
亮度測定部52b可以測定彎曲物件區域S2的彎曲前後的亮度變化及/或彎曲物件區域S2的彎曲中的亮度變化。
為了正確地測定亮度，圖像取得部51具備亮度計，該亮度計與亮度測定部52b連接，可以測定彎曲物件區域S2的亮度及亮度變化。
另外，外觀檢查部52c從圖像加工部52a接受經加工的圖像，並檢查彎曲物件區域S2是否有缺陷。
外觀檢查部52c在彎曲物件區域S2的圖像中可以檢測在表面或內部存在的破損及/或形成在基板S的電路的短路及斷線等的不良要素。
外觀檢查部52c存儲作為不良判斷的基準的參考圖像，比較參考圖像和從圖像加工部52a傳遞而來的圖像，從而可以檢查彎曲物件區域S2所存在的不良要素。
參考圖像是沒有不良要素的基板圖像，也可為在圖像取得部51拍攝的彎曲物件區域與彎曲物件區域S2相同地點的 圖像。
另外，處理部52d連接於亮度測定部52b和外觀檢查部52c，根據亮度測定部52b和外觀檢查部52c的測定/檢查結果可以判斷基板S是否為不良。
處理部52d分析從亮度測定部52b傳送的彎曲物件區域S2的彎曲前後及/或彎曲中的亮度及亮度變化量等，並可以判斷對應基板S的亮度及亮度變化量是否保持在正常範圍內。並且存儲對檢查物件基板S的亮度及亮度變化量而蓄積資料，從而可以按照彎曲程度運算平均亮度變化量。
並且，處理部52d基於從外觀檢查部52c傳遞而來的彎曲物件區域S2中所存在的不良要素的資訊，可以判斷對應基板S是否為不良。
處理部52d綜合彎曲物件區域S2記憶體在的破損與否、破損尺寸、電路的短路/斷線與否等不良要素而可以判斷對應基板S是否為不良。
顯示部53可以連接於圖像取得部51及運算部52，並可以顯示彎曲物件區域S2的圖像及彎曲物件區域S2的亮度、亮度變化量、不良要素等資訊。
具體而言，顯示部53可以顯示彎曲物件區域S2的彎曲前後的圖像、彎曲中的圖像等，在各狀態下，亮度測定部52b可以顯示所測定的亮度及亮度變化量，在各狀態下，可將外觀檢測部52c檢測的不良要素顯示在彎曲物件區域S2的圖像上。
並且，顯示部53可以顯示在處理部52d判斷的基板S是否為不良的資訊。
由此，根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置5，對基板S反復進行彎曲測試的同時，可以同時進行彎曲物件區域S2的破損及亮度等光學檢查。
而且，利用基板吸盤20的邊角對彎曲物件區域S2的特定區域以相同的外力可反復集中進行彎曲測試，因此，可以確保彎曲測試及檢查的可靠性。
以下，說明利用根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查方法。
圖13是根據本發明的實施例的基板彎曲檢查方法的順序圖，圖14至圖16是利用根據本發明的實施例的基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查過程的動作圖。
如圖13所示，根據本發明的實施例的基板彎曲檢查方法，包括：基板配置步驟(S101)；覆蓋構件的配置步驟(S102)；基板及覆蓋構件的吸附步驟(S103)；基板吸盤的上升步驟(S104)；彎曲物件區域的攝像步驟(S105)；彎曲物件區域的亮度及外觀檢查步驟(S106)；基板吸盤的下降步驟(S107，S110)；判斷反復彎曲次數的步驟(S108)以及計數步驟(S109)。
基板配置步驟(S101)是將要進行彎曲檢查的對向基板S配置在基板吸盤20的步驟，如圖14所示，可將基板S的局部配置在基板吸盤20上。此時，基板S可以配置成彎曲物件區 域S2位於基板吸盤20的邊角部分，彎曲物件區域S2的鄰接面中的一側被定義為配置於基板吸盤20上的安裝區域S1，而在彎曲物件區域S2的鄰接面中的另一側可以定義為朝基板吸盤20的外側突出的突出區域(圖3)。
基板配置步驟(S101)以後進行的覆蓋構件的配置步驟(S102)是將覆蓋構件40配置成覆蓋基板S的前面的步驟，如圖15所示，覆蓋構件40可配置成其中央部覆蓋基板S，而從中央部延長的兩側覆蓋工作臺10。
覆蓋構件40可以利用伸長及恢復穩定性出色的材料的薄膜。
基板及覆蓋構件的吸附步驟(S103)是將基板S固定在基板吸盤20，並將覆蓋構件40固定在工作臺10的步驟，如圖15所示，基板吸盤20，朝上面提供吸引力而在基板S和基板吸盤20的上面之間形成真空壓力，從而可以將基板S固定在基板吸盤20，工作臺10，朝上面提供吸引力而在覆蓋構件40的兩側和工作臺10的上面之間形成真空壓力，從而將覆蓋構件40固定在工作臺10。
基板吸盤的上升步驟(S104)是通過基板吸盤20的上升而彎曲基板S的步驟，如圖16所示，升降驅動裝置31使支撐基板吸盤20的升降銷32上升，從而可以在基板吸盤20的上面和工作臺10的上面之間形成高度差。
基板S的安裝區域S1支撐在基板吸盤20而進行上 升，在覆蓋構件40的兩側緊貼於工作臺10的上面的狀態下，覆蓋基板S的中央部通過基板吸盤20進行上升。
通過緊貼於工作臺10的兩側和覆蓋基板S的中央部的高度差，覆蓋構件40朝基板吸盤20的側面側緊貼基板S的突出區域S3，朝基板吸盤20的邊角側加壓基板S的彎曲物件區域S2，從而，可沿邊角彎曲彎曲物件區域S2。
向基板吸盤20的側面也提供吸附力時，由於知道緊貼於基板吸盤20的側面側的基板S的突出區域S3也固定於基板吸盤20，因此彎曲物件區域S2可以穩定地保持彎曲狀態。
升降驅動裝置31控制升降銷32的上升速度及高度，而可以提供各種各樣的彎曲環境。
在彎曲物件區域的攝像步驟(S105)中，如圖14至16所示，指向基板吸盤20的邊角部分的圖像取得部51可以拍攝彎曲物件區域S2。
圖像取得部51可以包括用於拍攝彎曲物件區域S2的CCD相機以及用於測定彎曲物件區域S2的亮度的亮度計。
CCD相機可以攝像彎曲前後及彎曲中的彎曲物件區域S2的圖像，亮度計也可以測定彎曲前後及彎曲中的彎曲物件區域S2的亮度。
圖像取得部51設置成可向XYZ軸移動，沿基板吸盤20的邊角移動的同時掃描並拍攝彎曲物件區域S2，或者拍攝在基板吸盤20的一側邊角被彎曲的一側彎曲物件區域S2之後移動而 指向基板吸盤20的另一側邊角，然後，可以拍攝在基板吸盤20的另一側邊角被彎曲的另一側彎曲物件區域S2。
或者，圖像取得部51具備分別指向基板吸盤20的兩側邊角部分的一對攝像頭，從而可以同時取得通過基板吸盤20的兩側邊角彎曲的彎曲物件區域S2的兩側圖像。
在彎曲物件區域的亮度及外觀檢查步驟(S106)中，運算部52加工圖像取得部51所攝像及測定的彎曲物件區域S2的圖像及亮度資訊，並將加工的資訊可通過顯示部53顯示。
運算部52可以包括圖像加工部52a、亮度測定部52b、外觀檢查部52c及處理部52d。
圖像加工部52a將從圖像取得部51接受的攝像圖像轉換為數位圖像，或者在攝像圖像中僅將彎曲物件區域S2的圖像分離到檢查區域之後進行排列，或者進行去除因照明等而發生的噪音等的加工過程，接受從圖像取得部51攝像的攝像圖像，並將其加工成容易檢查的圖像。
亮度測定部52b接受從圖像加工部52a加工的圖像或圖像取得部51的亮度計測定的亮度資訊，而可以測定彎曲物件區域S2的彎曲前後的亮度變化及/或彎曲物件區域S2的彎曲中的亮度變化。
外觀檢查部52c從圖像加工裝置52a接受經加工的圖像，並在彎曲物件區域S2的圖像可以檢測出表面或內部所存在的破損及/或形成在基板S的電路的短路及斷線等的不良要素。
處理部52d綜合亮度測定部52b和外觀檢查部52c的測定/檢查結果而可以判斷基板S是否為不良。
即，處理部52d分析從亮度測定部52b接受的彎曲物件區域S2的彎曲前後及/或彎曲中的亮度及亮度變化量等，並可以判斷對應基板S的亮度及亮度變化量是否保持在正常範圍內，綜合彎曲物件區域S2記憶體在的破損與否、破損尺寸、電路的短路/斷線與否等不良要素而可以判斷對應基板S是否為不良。
顯示部53可以顯示圖像取得部51所攝像的彎曲物件區域S2的圖像及亮度，並可以顯示通過運算部52加工的彎曲物件區域S2的圖像、彎曲物件區域S2的亮度、亮度變化量、不良要素等資訊。
具體而言，顯示部53可以顯示彎曲物件區域S2的彎曲前後的圖像、彎曲中的圖像等，在各狀態下，亮度測定部52b可以顯示所測定的亮度及亮度變化量，在各狀態下，並將外觀檢測部52c檢測的不良要素可顯示在彎曲物件區域S2的圖像上。
並且，顯示部53可以顯示在處理部52d判斷的基板S是否為不良的資訊。
在基板吸盤下降步驟(S107，S110)，使上升的基板吸盤20下降到原位置，從而解除基板S的彎曲狀態。
當升降驅動裝置31使升降銷32下降而將基板吸盤20恢復到原位置時，覆蓋構件40及基板S通過自身彈力恢復到最初安裝在工作臺10或基板S上面的平平的狀態。
然後，在判斷反復彎曲次數的步驟(S108)，可以比較基板吸盤20的升降次數和所設定的反復彎曲次數。
基板吸盤20的升降次數對應於基板S的彎曲次數，基板吸盤20的升降次數未達到已設定的反復彎曲次數時，使基板吸盤20再次上升而反復進行該基板吸盤上升步驟(S104)、彎曲物件區域攝像步驟(S105)、彎曲物件區域的亮度及外觀檢查步驟(S106)以及基板吸盤下降步驟(S107)。
計數步驟(S109)是計算基板S的彎曲次數的步驟，將最初N值設定為1，在最初彎曲基板S之後的判斷反復彎曲次數的步驟(S108)，若判斷為N值未達到已設定的反復彎曲次數，則將N值各增加1而計算基板S的彎曲次數。
在反復彎曲基板S後，若N值達到已設定的反復彎曲次數，則最後基板吸盤20下降(S110)，而結束基板彎曲檢查。
由此，根據本發明的實施例的基板彎曲檢查方法，對基板S反復進行彎曲測試的同時，可以同時進行彎曲物件區域S2的破損及亮度等的光學檢查。
並且，利用基板吸盤20的邊角，對彎曲物件區域S2的特定區域用相同的外力反復集中進行彎曲測試，從而可以確保彎曲測試及檢查的可靠性。
以上，雖參照附圖說明了本發明的實施例，但是，本發明並不限定於所述實施例，可以製造為不同的形態，本發明所屬領域的技術人員應理解在不改變本發明的技術思想或必要特 徵的情況下可以實施為其他的具體形態。因此，以上所述的實施例在所有方面用來舉例說明而已，並不限定本發明。
1‧‧‧基板彎曲裝置
10‧‧‧工作臺
11‧‧‧吸引口
12‧‧‧吸引流路
15‧‧‧通孔
20‧‧‧基板吸盤
30‧‧‧升降部
31‧‧‧升降驅動裝置
32‧‧‧升降銷
40‧‧‧覆蓋構件
S‧‧‧基板

Claims (20)

  1. 一種基板彎曲裝置，包括：工作臺，形成有通孔；基板吸盤，支撐基板的彎曲物件區域的鄰接面，通過該通孔從該工作臺進出；升降部，使該基板吸盤相對於該工作臺進行上升或下降；以及覆蓋構件，以覆蓋該基板的狀態緊貼於該工作臺，利用該基板吸盤和該工作臺的高度之差彎曲該彎曲物件區域。
  2. 根據請求項1所述的基板彎曲裝置，其中，該工作臺包括向該覆蓋構件和該工作臺之間提供真空壓力的吸引部以便該覆蓋構件緊貼於該工作臺。
  3. 根據請求項1所述的基板彎曲裝置，其中，該工作臺包括用於固定該覆蓋構件的兩側的至少一對固定器。
  4. 根據請求項1所述的基板彎曲裝置，進一步包括用於拍攝該彎曲物件區域的攝像部。
  5. 根據請求項4所述的基板彎曲裝置，其中，該攝像部包括用於測定該彎曲物件區域的亮度的亮度測定部。
  6. 根據請求項4所述的基板彎曲裝置，其中，該攝像部包括用於檢查該彎曲物件區域的外觀的外觀檢查部。
  7. 根據請求項1所述的基板彎曲裝置，其中，該基板吸盤是真 空吸附該基板的多孔吸盤，該彎曲物件區域的一側鄰接面真空吸附於該多孔吸盤的上面，該彎曲物件區域的另一側鄰接面真空吸附於該多孔吸盤的側面。
  8. 根據請求項7所述的基板彎曲裝置，其中，該多孔吸盤，在該上面和該側面之間具備具有該預定曲率半徑的曲面以便該彎曲物件區域以保持預定曲率半徑的狀態彎曲。
  9. 一種基板彎曲檢查裝置，包括：工作臺；基板吸盤，從該工作臺突出，用於支撐基板的彎曲物件區域的鄰接面；覆蓋構件，以覆蓋該基板的狀態緊貼於該工作臺，利用該基板吸盤和該工作臺的高度之差而彎曲該彎曲物件區域；以及攝像檢查部，用於拍攝該彎曲物件區域。
  10. 根據請求項9所述的基板彎曲檢查裝置，其中，該攝像檢查部包括用於測定該彎曲物件區域的亮度的亮度測定部。
  11. 根據請求項9所述的基板彎曲檢查裝置，其中，該攝像檢查部包括用於檢查該彎曲物件區域的外觀的外觀檢查部。
  12. 根據請求項9所述的基板彎曲檢查裝置，進一步包括用於升降該基板吸盤的升降部以便該基板吸盤突出到該工作臺的上部。
  13. 根據請求項9所述的基板彎曲檢查裝置，其中，該工作臺包 括向該覆蓋構件和該工作臺之間提供真空壓力的吸引部以便該覆蓋構件緊貼於該工作臺。
  14. 根據請求項9所述的基板彎曲檢查裝置，其中，該工作臺包括用於固定該覆蓋構件的兩側的至少一對固定器。
  15. 根據請求項9所述的基板彎曲檢查裝置，其中，該基板吸盤是真空吸附該基板的多孔吸盤，該彎曲物件區域的一側鄰接面真空吸附於該多孔吸盤的上面，該彎曲物件區域的另一側鄰接面真空吸附於該多孔吸盤的側面。
  16. 根據請求項15所述的基板彎曲檢查裝置，其中，該多孔吸盤，在該上面和該側面之間具備具有該預定曲率半徑的曲面以便該彎曲物件區域以保持預定曲率半徑的狀態彎曲。
  17. 一種基板彎曲檢查方法，包括：將基板的彎曲物件區域的鄰接面配置在基板吸盤上的步驟；在容納該基板吸盤的工作臺的上面配置覆蓋該基板的覆蓋構件的步驟；緊貼該覆蓋構件和該工作臺的步驟；以及使該基板吸盤從該工作臺上升，該覆蓋構件朝該基板吸盤的邊角側加壓該彎曲物件區域，從而彎曲該彎曲物件區域的步驟。
  18. 根據請求項17所述的基板彎曲檢查方法，進一步包括將配置在該基板吸盤上的該鄰接面及被朝該基板吸盤的邊角側加壓 的該彎曲物件區域吸附在該基板吸盤的步驟。
  19. 根據請求項17所述的基板彎曲檢查方法，進一步包括測定被朝該基板吸盤的邊角側加壓的該彎曲物件區域的亮度的步驟。
  20. 根據請求項17所述的基板彎曲檢查方法，進一步包括檢查被朝該基板吸盤的邊角側加壓的該彎曲物件區域的外觀的步驟。
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