TW201412669A - 高透型單銀低輻射鍍膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本發明係一種高透型單銀低輻射鍍膜玻璃，所述高透型單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板，以及沉積在所述玻璃基底上的功能膜系，所述功能膜系進一步包括依次沉積在所述玻璃基底上的第一電介質層、第二電介質層、功能Ag層、第三電介質層、第四電介質層、第五電介質層。所述第一電介質層為NbOx層、所述第二電介質層為ZnAlOx層、所述功能Ag層為Ag層、第三電介質層為AZO層、第四電介質層為ZnSnO3層、第五電介質層為Si3N4層。所述電介質層使用新型陶瓷材料AZO作為銀層後的電介質層，優化了膜層架構，使本發明在保證很低輻射率的情況下，獲得與相同厚度普通透明玻璃原板相等，甚至更高的透過率，玻璃通透、自然，並且具有良好的隔熱、保溫效果。
Description
本發明涉及一種建築玻璃技術領域，尤其涉及一種高透型單銀低輻射鍍膜玻璃。
目前，市場上普通單銀低輻射鍍膜產品，由於使用金屬膜層作為銀層保護層，往往透光很低，不能滿足客戶需求。另一方面，採用金屬層保護層勢必增加功能膜層對可將光的吸收，使得幕牆玻璃通透性差、美觀性不被主流市場接受。
本發明的技術目的是針對現有技術中，傳統的低輻射鍍膜玻璃可見光透過率低、不能滿足市場需求等缺陷，提供一種高透型單銀低輻射鍍膜玻璃。
本發明之第一目的，係提供一種高透型單銀低輻射鍍膜玻璃，所述高透型單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板，以及沉積在所述玻璃基底上的功能膜系，所述功能膜系進一步包括依次沉積在所述玻璃基底上的第一電介質層、第二電介質層、功能Ag層、第三電介質層、第四電介質層、第五電介質層。
本發明之第二目的，所述第一電介質層為NbOx(0<x2.5)層、所述第二電介質層為ZnAlOx(0x2)層、所述功能Ag層為Ag層、第三電介質層為AZO層第四電介質層為ZnSnO3層第五電介質層為Si3N4層。
本發明之第三目的，所述第一電介質層為Nb2O5層。
本發明之第四目的，所述第二電介質層為摻Al的ZnO層。
綜上所述，本發明生產的產品由於使用了陶瓷材料AZO作
為銀層後電介質層，取代了現有產品中的金屬保護層，並且使用高折射率的新型材料來抵消銀層的吸收，所以使得本發明產品的透光可以達到和同厚度玻璃原板一樣，甚至更高的透過率，並且產品外觀清澈、通透，還可以保證良好的隔熱、保溫效果，符合消費者追求自然環保的需求。
為便 貴審查委員能對本發明目的、技術特徵及其功效，做更進一步之認識與瞭解，茲舉實施例配合圖式，詳細說明如下：
無
1‧‧‧高透型單銀低輻射鍍膜玻璃
11‧‧‧玻璃基底
12‧‧‧功能膜層
121‧‧‧第一電介質層
122‧‧‧第二電介質層
123‧‧‧功能Ag層
124‧‧‧第三電介質層
125‧‧‧第四電介質層
126‧‧‧第五電介質層
第1圖所示為本發明高透型單銀低輻射鍍膜玻璃之結構示意圖。
為了闡明本發明的技術方案及技術目的，下面結合附圖及具體實施方式對本發明做進一步的介紹。
請參閱第1圖，第1圖所示為本發明高透型單銀低輻射鍍膜玻璃的框架結構示意圖。所述高透型單銀低輻射鍍膜玻璃1包括玻璃基底11，以及沉積在所述玻璃基底11上的功能膜層12。其中，所述功能膜層12進一步包括依次縱向疊置在所述玻璃基底11上的第一電介質層121、第二電介質層122、功能Ag層123、第三電介質層124、第四電介質層125，以及第五電介質層126。
為了實現本發明之目的，作為具體地實施方式，在本發明中，所述第一電介質層121為NbOx(0<x2.5)層、所述第二電介質層122為ZnAlOx(0x2)層、所述功能Ag層123為Ag層、第三電介質層124為AZO層、第四電介質層125為ZnSnO3層、第五電介質層126為Si3N4層。
顯然地，在本發明中，採用AZO層作為第三電介質層124對所述功能Ag層123進行保護，可增加可見光的透過率，防止功能Ag層123氧化。
請繼續參閱第1圖，詳述本發明高透型單銀低輻射鍍膜玻璃
1的製備方法。
針對第一電介質層121：通過旋轉交流陰極的陶瓷氧化鈮靶在氧氬氛圍中濺射鍍膜，氧氣與氬氣的體積比為1：10；針對第二電介質層122：通過旋轉交流陰極的鋅鋁靶在氧、氬氛圍中濺射鍍膜，其中品質比Zn：Al=98：2，氧氣與氬氣的體積比為9：14；針對功能Ag層123：通過直流平面陰極的銀靶在氬氣氛圍中濺射鍍膜；針對第三電介質層124：通過旋轉交流陰極的AZO靶在氧、氬氛圍中濺射鍍膜，氧氣與氬氣的體積比為9：100；針對第四電介質層125：通過旋轉交流陰極的鋅錫靶在氧、氬氛圍中濺射鍍膜，其中品質比Zn：Sn=50：50，氧氣與氬氣的體積比為3：2；及針對第五電介質層126：通過旋轉交流陰極的矽鋁靶在氮、氬氛圍中濺射，其中品質比Si：Al=92：8，氮氣與氬氣的體積比為2：1。
本發明採用磁控濺射鍍膜機進行玻璃的鍍膜，所述磁控濺射鍍膜機包括19個交流旋轉雙陰極，7個直流平面陰極，本發明採用下表列出的工藝參數，使用6個交流旋轉雙陰極，1個直流平面直流陰極，製出本發明的透光單銀低輻射鍍膜玻璃，其工藝參數和靶的位置列表如下：
表中1#、2#靶鍍製第一電介質層121，3#靶鍍製第二電介質層122，4#靶鍍製功能Ag層123，5#靶鍍製第三電介質層124，6#靶鍍製第四電介質層125，7#靶鍍製第五電介質層126，玻璃基板在鍍膜前要經過清洗、乾燥和預真空過渡。
鍍膜後，產品的光學性能如下：玻璃可見光透過率T=90.8%；可見光玻璃面反射率=4.9%；可見光玻璃面色座標a*值=-2.5；可見光玻璃面色座標b*值=-5.6；可見光膜面反射率=4.8%；可見光膜面色座標a*=3.8；可見光膜面色座標b*=-7.4；及玻璃輻射率E=0.045。
按，以上所述，僅係本發明之若干較佳實施例，惟，本發明所主張之權利範圍，並不侷限於此，按凡熟悉該項技藝之人士，依據本發明所揭露之技術內容，可輕易思及之等效變化，均應屬不脫離本發明之保護範疇。
1‧‧‧高透型單銀低輻射鍍膜玻璃
11‧‧‧玻璃基底
12‧‧‧功能膜層
121‧‧‧第一電介質層
122‧‧‧第二電介質層
123‧‧‧功能Ag層
124‧‧‧第三電介質層
125‧‧‧第四電介質層
126‧‧‧第五電介質層
Claims (4)
- 一種高透型單銀低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於，所述高透型單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板，以及沉積在所述玻璃基底上的功能膜系，所述功能膜系進一步包括依次沉積在所述玻璃基底上的第一電介質層、第二電介質層、功能Ag層、第三電介質層、第四電介質層、第五電介質層。
- 如請求項1所述的高透型單銀低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於，所述第一電介質層為NbOx層、所述第二電介質層為ZnAlOx層、所述功能Ag層為Ag層、第三電介質層為AZO層、第四電介質層為ZnSnO3層、第五電介質層為Si3N4層。
- 如請求項2所述的高透型單銀低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於，所述第一電介質層為Nb2O5層。
- 如請求項2所述的高透型單銀低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於，所述第二電介質層為摻Al的ZnO層。
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|---|---|---|---|
| TW102144453A TW201412669A (zh) | 2013-12-04 | 2013-12-04 | 高透型單銀低輻射鍍膜玻璃 |
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| CN104290404A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-01-21 | 中山市亨立达机械有限公司 | 一种特殊膜系的绿色双银low-e玻璃 |
| CN105271824A (zh) * | 2015-11-06 | 2016-01-27 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品 |
| CN106746735A (zh) * | 2017-02-20 | 2017-05-31 | 揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司 | 一种绿色基调的低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
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2013
- 2013-12-04 TW TW102144453A patent/TW201412669A/zh unknown
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