TW201402411A - 具有圖形資料載體的玻璃容器 - Google Patents
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Abstract
一種製造具有光學的可讀的圖形資料載體(14)的玻璃容器(10)的方法。玻璃容器係暴露於電磁輻射(28)以在容器的玻璃內產生變色,以及接著聚焦的射束能量(38)係以一對應於希望的圖形資料載體的圖案導向玻璃容器以加熱玻璃且選擇性移除對應於希望的圖形資料載體的圖案中的變色。
Description
本發明係相關於一種製造玻璃容器的方法,尤其是相關於一種玻璃容器的標記方法。
依據本發明的一觀點,本發明的一目的係提供一種製造具有輻射積分光學可讀的圖形資料載體的玻璃容器的方法,藉此消除將一分離的圖形資料載體標籤塗敷至容器的需要。
本發明揭示一些可彼此分開或可彼此組合實施的一些觀點。
依據本發明的一個觀點之一種製造具有光學可讀的圖形資料載體的玻璃容器的方法包含暴露一玻璃容器於電磁輻射以在容器的玻璃內產生變色部;以及然後以一對應於希望的圖形資料載體的圖案,導引被聚焦的射束能量於玻璃容器以加熱玻璃和以對應於希望的圖形資料載體的圖案選擇性移除變色部。
依據本發明的另一觀點,提供有一製造具有
光學可贖的圖形資料載體的玻璃容器的方法。方法包含產生一玻璃熔體,玻璃熔體包含一摻雜入有至少一種對電磁輻射敏感的摻雜物的總成分;以及從玻璃熔體形成玻璃容器。方法亦包含對玻璃容器進行退火;以及然後選擇性暴露被形成的玻璃容器於電磁輻射以產生玻璃容器的一局部化的變色部,以及然後以一對應於希望的圖形資料載體的圖案,導引被聚焦的射束輻射於玻璃容器以加熱玻璃和以對應於該希望的圖形資料載體的圖案選擇性移除被局部化的變色部的部分。
依據本發明的更一觀點,提供有一製造具有光學可讀的QR碼的玻璃容器的方法,該方法包含步驟:(a)暴露玻璃容器於X射線和γ射線輻射以在容器的玻璃內產生變色部;以及然後(b)以一對應於希望的QR碼,導引雷射能量於玻璃容器以加熱玻璃和以對應於希望的QR碼的圖案選擇性移除產生在該步驟(a)中的變色部。
10‧‧‧玻璃容器
10a‧‧‧基座
10b‧‧‧本體
10c‧‧‧口部
10d‧‧‧頸部
12‧‧‧壁
14‧‧‧光學可讀的圖形資料載體
22‧‧‧輻射站
24‧‧‧輻射頭
26‧‧‧輻射頭控制器
28‧‧‧輻射束
30‧‧‧輸送帶
32‧‧‧被聚焦射束站
34‧‧‧射束導引器
36‧‧‧射束導引器控制器
38‧‧‧被聚焦射束
第1圖係一玻璃容器的正視圖,依據本發明的一例示實施例該玻璃容器被製造以包含一圖形資料載體。
第2圖係一第1圖的玻璃容器的剖面圖,沿著第1圖的2-2線。
第3圖係一功能方塊圖,圖示依據本發明的一例示實施例的容器的一部份的選擇性輻射變色部。
第4圖一功能方塊圖,圖示依據本發明的一例示實施例的容器的被局部化變色部的部分的選擇性的被聚焦的
射束的移除。
從以下的說明、申請專利範圍和所附圖式,本發明和其附加的目的、特徵、優點和觀點會被清楚瞭解。
第1圖顯示一玻璃容器10(例如,玻璃瓶、罐或類似物)的一例示實施例,該玻璃容器10具有一玻璃容器成分,該玻璃容器成分係可依據現在此揭示於下的一玻璃製造程序的例示實施例生產。玻璃容器10包含一縱軸A、一位於容器10的一軸端的於一軸向被封閉的基座10a、一主體10b從被軸向封閉的基座10a朝軸向方向延伸以及一位於容器10的另一軸端的相對於基座10a的口部10c。因此,玻璃容器10是中空的。在圖示的實施例中,容器10亦包含一頸部10d,該頸部10d可從本體10b軸向延伸,可為一般圓錐狀的形狀,且可終結於口部10c中。然而,容器10不必包含頸部10d且口部可終結本體10b,例如在一玻璃罐實施例或相似物中。只要本體10b係周圍封閉,本體10b可為任何合適的橫切軸A的剖面形狀。
例如,如第2圖所示,本體10b可為周圍封閉的圓柱橫剖面形狀。在其它實施例中,本體10b可為一般的橢圓形、正方形、矩形、三角形或任何其它的合適的橫向剖面形狀。如在此所使用,術語周圍不但應用於圓形橫向剖面形狀而且應用於任何封閉的橫向剖面形狀。
請參閱第1圖,容器10包含一壁12,該壁
12具有一光學可讀圖形資料載體14,經由輻射該光學可讀圖形資料載體14與容器一體成形。載體14可包含一快速回應(QR)碼、條碼、兩維數據矩陣或類似物。不管怎樣,載體14可被串列化,其中複數容器中之每一個係例如依順序被提供以一獨一無二的載體14。在圖示於第1圖的實施例中,壁12係圓柱本體10b的徑向外壁。但在其它實施例中,印有圖形資料載體的壁12可以是任何其它合適的形狀,可以在基座10a上,可以在頸部上10d等。如將於下詳細說明,圖形資料載體14係藉由電磁輻射且然後被聚焦的射束輻射經由選擇性的應用一體成形進入容器10,藉此排除塗敷一分離的圖形資料載體標籤至容器的需要。玻璃容器10可藉由以下的方法產生。
方法可包含產生一玻璃熔體,該玻璃熔體包含一摻雜以至少一摻雜物的總成分,該摻雜物可包含少於玻璃容器的總成分的0.1wt%。摻雜物係對電磁輻射敏感的,其中電磁輻射應用於被摻雜的容器10會使摻雜物藉由變色容器10的被輻射的部分回應。在一例示實施例中,對電磁輻射敏感的摻雜物可包含一對離子化回應的摻雜物。對電磁輻射敏感的摻雜物可包含一種以上的過渡金屬氧化物(TMOs)。TMOs可包含一種以上的銅、銀、金或任何其它的合適的過渡金屬的氧化物。在另外的實施例,對電磁輻射敏感的摻雜物亦或代之以可包含一種以上的無機氧化物,例如,鉍氧化物或硒氧化物。在一另外的實施例中,對電磁輻射敏感的摻雜物亦或代之以可包含一種以上稀土氧化物,例如鈰氧化物等。摻雜物
可以以一氧化物,SnO2,加入總成分,且可以以SnO呈現於容器。不管怎樣,摻雜物可以以一氧化物呈現於容器中。
玻璃熔體的總成分可由一批原材料產生。例如,一批的原材料中的每一個可在配料間被秤出重量且放置於分批混合器中,該分批混合器將原材料均一混合。之後,被混合的一批原材料可藉由在熔爐上游端的一「投料池(doghouse)」或小前室(vestibule)被裝入連續操作玻璃分批熔爐。玻璃分批熔爐可包含一原材料被引入的上游端和一下游端,融化的玻璃從該下游端被分布。原材料可於一實質相同於玻璃正被退出熔爐的速率被裝入熔爐,因而在熔爐中的玻璃的量一般係固定的。
一批的原材料可包含基本玻璃形成原材料,該基本玻璃形成原材料可包含鈉鈣矽玻璃形成材料。鈉鈣矽玻璃形成材料可包含預定量的砂、純鹼、石灰石、白雲石、長石、石膏、鹽餅、碳、玻璃屑、和類似物。基本玻璃部分的主要成分可包含二氧化矽(SiO2)、碳酸鈉(氧化鈉)、石灰(氧化鈣)、氧化鋁(Al2O3)、氧化鎂(MgO)、氧化鉀(K2O)。在一實施例中,基本玻璃形成原材料可被配製以產生一批一般無色的燧石基玻璃(flint base glass)。
例如,燧石基玻璃部分可包含以下的材料,該等材料係在按玻璃批次組成的重量計的以下的量的範圍:60-75% SiO2
更特定地,僅經由事例,燧石基玻璃部分可包含以下的材料,該等材料係按玻璃批次組成的重量計的量:
玻璃批次組成可包含燧石基玻璃部分、摻雜物和其它相對小量的材料。此等材料可為添加物、來自玻璃屑的殘餘材料和/或一批原材料中的雜質,該等材料典型上係在玻璃容器製造產業。例如,其它材料中的每一個可以以極微量呈現在玻璃批次組成中,例如,少於0.2wt%。
在任何情形中,一批原材料可經由投料池被引入熔爐的槽中。熔爐槽可包含一熔化器,在熔化器中一批原材料被熔化而產生一熔化的玻璃批次。例如,在任何合適時間,例如,二至四小時,溫度在1400和1500度攝氏溫度之間,一批原材料可被熔化。之後,被熔化的玻璃可從槽流經一喉部且進入在熔爐的下游端的精鍊
爐,熔化的玻璃可在精鍊爐被調節。從熔爐,熔化的玻璃可被導向一個以上的前爐。一個以上的前爐可位於熔爐的下游且可包含一上游端,該上游端包含一冷卻區、一冷卻區下游的調節區以及一與進給器連通的下游端。
方法亦可包含從玻璃批次成分形成玻璃容器。例如,位於一個以上的前爐之一的下游端的進給器可量測玻璃塊且輸送它們至玻璃容器形成機械。之後,例如藉由壓吹(press-and-blow)或吹吹(blow-and-blow)製程和藉由個別區機械(individual section machine)或藉由任何合適的設備以任何其它合適的方式,玻璃可被形成為玻璃容器。例如,若基本玻璃部分係一燧石基玻璃,從玻璃批次成分所形成的玻璃容器起始可為一般的無色狀態。
方法更可包含以任何合適的方式將玻璃容器退火,例如以一退火徐冷窯。在退火徐冷窯的入口、熱端或上游部其中的溫度例如可以是在550和600度攝氏溫度之間。經由徐冷窯退火至退火徐冷窯的下游部、冷卻端或出口溫度可被逐漸降低例如至130度攝氏溫度和65度攝氏溫度之間的一溫度。
方法亦選擇性包含暴露已形成的玻璃容器至電磁輻射以產生玻璃容器的一局部化變色部。在整個容器10被退火後此步驟被進行。電磁輻射可包含離子輻射或任何其它的合適的形式的電磁輻射。例如,電磁輻射可包含X射線、γ射線或類似輻射。電磁輻射的例子波長可包含從0.0001奈米至10.0奈米,且電磁輻射的例子
頻率可包含大於3 x 1016赫茲(Hz)。
第3圖係本發明的實施的一例示裝置的功能方塊圖。在退火後,容器10可以藉由一輸送帶30或以任何其它合適的方式呈現在一輻射站22。一輻射頭24係設置在輻射站22且耦合至一輻射頭控制器26以導引一輻射束28於容器壁12。輻射頭24和容器壁12較佳被定位於輻射站22因而該射束28的中心軸係與容器壁12的相反外表面形成一實質角度,該實質角度最佳是接近直角。輸送帶30可以是任何合適的類型,例如一線形輸送帶或一星形輪輸送帶。當容器10係圓柱形,輻射站22可能包含一旋轉桌台、可旋轉的材料處置器、滾輪和/或任何其它合適的遞增地或連續地旋轉容器的手段,因而相對輻射頭24的壁12的表面係實質垂直於輻射束28的軸。
以容器10相對於輻射頭24,輻射頭24係被控制器26控制以導引輻射束28於容器壁12。輻射束28可被導引於容器壁12的外表面且可穿入和/或經壁12。輻射束28被操作在足以變色容器壁12的一段時間和能量階。例如,變色可開始於容器壁12的外表面且向內徑向延伸入容器壁12,向或至容器壁12的內表面。以輻射束28的容器壁12的輻射形成玻璃容器的局部化變色部。例如,為確保圖形資料載體的充分的外周邊緣或「安靜區」,局部化變色部可大於圖形資料載體的最後可視外形。藉由遮蔽容器10的其餘部分或圍繞變色部的部分,變色部可被塗佈,因而輻射僅影響未遮蔽的變色部。
任何合適的遮罩和遮蔽技術可被使用。在另一實施例中,藉由控制輻射的輸出大小和/或輻射頭24和容器10之間的距離,變色部可被無遮罩塗佈。
方法更包含以一對應於希望的圖形資料載體14的圖案導引被聚焦的射束輻射或能量於玻璃容器10以加熱容器玻璃和以對應於希望的圖形資料載體14選擇性移除局部化變色部的部分。此步驟係在輻射變色後進行,且可包含任何合適的形式的被聚焦的射束,例如由輻射(雷射)射束的受激放射所放大的光、被聚焦的離子束、或相似物。
例如,第4圖係本發明的實施的一例示裝置的一功能性方塊圖。在選擇性的輻射變色之後,容器10可藉由在一被聚焦射束站32的一輸送帶30或以任何其它合適的方式呈現。射束導引器34係設置於被聚焦射束站32且耦合於一射束導引器控制器36以導引一被聚焦射束38於容器壁12。射束導引器34和容器壁12較佳係被定向於被聚焦射束站32,因而被聚焦射束38的中心軸係與容器壁12的相反外表面形成一實質角度,該實質角度最佳是接近直角。輸送帶30可以是任何合適的類型,例如一線形輸送帶或一星形輪輸送帶。當容器10係圓柱形,被聚焦射束站32可能包含一旋轉桌台、可旋轉的材料處置器、滾輪和/或任何其它合適的遞增地或連續地旋轉容器的手段,因而相對射束導引器34的壁12的表面係實質垂直於被聚焦射束38的軸。
以容器10相對於射束導引器34,射束導引
器34係被控制器36控制以引導被聚焦射束38於容器壁12。被聚焦的射束38可被導引或聚焦於容器壁12的外表面上且/或容器壁12的內和外表面之間的一個以上的點,一般而言,被射束38的容器壁12的加熱的深度可對應在前一製程步驟中的所塗佈的變色部的滲透深度。射束38可移除在容器壁12的外表面的變色部且可移除向內徑向延伸入容器壁12的變色部,向或至容器壁12的內表面。被聚焦射束38被操作在足以加熱容器壁的一段時間和能量階。藉由重新導引被聚焦射束38於容器壁12內的不同點和/或藉由重新定位照明之間的容器10,圖形資料載體(第1圖)可被形成。在被聚焦的射束照射期間和/或之間,輸送帶30可以是固定或移動,且一或多數被聚焦的射束掃瞄可被進行以移除變色部。以被聚焦的射束38加熱容器壁12移除變色部以形成希望的圖形資料載體。
在一實施例中,加工參數可被調整或修正以最佳化局部化的變色部的選擇性移除部分和局部化的變色部的其餘部分之間的對照。對照可依賴於選擇性暴露被形成的玻璃容器於電磁輻射以產生玻璃容器的一局部變色部的步驟的持續時間,和/或依賴於在該步驟期間所供應的輻射的能量階,對照亦或代之已可依賴引導被聚焦的射束縛設於玻璃容器的步驟的持續時間,和/或依賴於在該步驟期間所供應的輻射的能量階。
控制器26、36可被使用來實施現在揭示的方法的各種觀點。在一事例中,控制器26、36可接收輸入
資料和來自使用者和/或任何其它的合適的裝置的指示,根據儲存的軟體和/或資料,處理接收的輸入,以及傳送輸出信號至對應的輻射頭24和射束導引器34。控制器26、36例如可包含一個以上的電路、電子電路或晶片,和/或計算機。在一計算機實施例中,控制器26、36中之每一個一般可包含記憶體,一種以上耦合於記憶體的處理器、一種以上耦合於處理器的介面、一種以上耦合於處理器的輸入裝置、和/或一種以上耦合於處理器的輸出裝置。當然,控制器26、36更可包含或被耦合於任何輔助裝置,例如,鐘、內部電源供應器和類似物(未圖示)。雖然未顯示,控制器26、36的電力可由公用設施電源、外部電源供應器供給,例如,一AC至DC軟換器、一種以上電池、燃料電池或類似物。在一實施例中,控制器26可包含一X射線機械控制器、γ射線機械控制器或類似物,以及控制器可包含一雷射控制器、被聚焦的離子束控制器或類似物。
因此,本發明揭示了一種玻璃容器及製造方法,其完全滿足前述之目的及目標。本發明已結合一例示用且目前較佳之實施例而被呈現,且各種不同之修改及變更型式亦已被討論。其他之修改及變更型式對熟習本技藝之人士而言均可基於前列之說明而輕易地思及。
10‧‧‧玻璃容器
10a‧‧‧基座
10b‧‧‧本體
10c‧‧‧口部
10d‧‧‧頸部
12‧‧‧壁
14‧‧‧光學可讀的圖形資料載體
Claims (13)
- 一種製造具有光學可讀的圖形資料載體(14)的玻璃容器(10)的方法,包含以下步驟:(a)暴露一玻璃容器(10)於電磁輻射(28)以在該容器的玻璃內產生變色部;以及然後(b)以一對應於希望的圖形資料載體(14)的圖案,導引被聚焦的射束能量(38)於該玻璃容器以加熱該玻璃和選擇性移除對應於該希望的圖形資料載體的圖案在步驟(a)中產生的該變色部。
- 如申請專利範圍第1項的方法,其中步驟(a)包含將至少一種對電磁輻射敏感的摻雜物摻雜入該容器玻璃。
- 如申請專利範圍第1項的方法,其中於步驟(a)中產生的該變色部係局部化為少於該容器的整個本體。
- 如申請專利範圍第1項的方法,包含:產生一玻璃熔體,該玻璃熔體包含一摻雜有至少一種對電磁輻射敏感的摻雜物的總成分;從玻璃熔體形成玻璃容器;對該玻璃容器進行退火;以及然後進行步驟(a)以及然後步驟(b)。
- 如申請專利範圍第4項的方法,其中步驟(a)包含選擇性暴露該形成的玻璃容器於電磁輻射以便以一局部化方式產生該玻璃容器的該變色部。
- 如申請專利範圍第5項的方法,其中步驟(b)包含以該對應於該希望的圖形資料載體的圖案,選擇性移除該局部化的變色部的部分。
- 如申請專利範圍第6項的方法,包含修改步驟(d)和(e)的參數以最佳化該局部化的變色部的該選擇性移除部分和該局部化的變色部的該其餘部分之間的對比。
- 如申請專利範圍第4項的方法,其中該至少一種對電磁輻射敏感的摻雜物包含少於該總成分的0.1wt%。
- 如申請專利範圍第4項的方法,其中至少一種對電磁輻射敏感的摻雜物係電離反應性的且包含一種以上的過渡金屬氧化物(TMOs)。
- 如申請專利範圍第1項的方法,其中該電磁輻射係電離輻射,該電離輻射包含X射線和γ射線輻射中的至少一者。
- 如申請專利範圍第1項的方法,其中該玻璃容器係由燧石玻璃(flint glass)組成。
- 一種玻璃容器,其係由如申請專利範圍第1項的方法所製造。
- 如申請專利範圍第12項的玻璃容器,其中該圖案對應於QR碼。
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