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TW201336365A - 紫外光立體圖案轉印方法 - Google Patents

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TW201336365A
TW201336365A TW101105642A TW101105642A TW201336365A TW 201336365 A TW201336365 A TW 201336365A TW 101105642 A TW101105642 A TW 101105642A TW 101105642 A TW101105642 A TW 101105642A TW 201336365 A TW201336365 A TW 201336365A
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TW
Taiwan
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substrate
layer
dimensional pattern
ultraviolet light
transfer method
Prior art date
Application number
TW101105642A
Other languages
English (en)
Inventor
rui-fa Xie
Original Assignee
Imprinting Lithography Decoration Tech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

一種紫外光立體圖案轉印方法,其係包含下列步驟:提供一基材;對基材進行一表面處理;熱轉印一薄膜結構至基材之一側面上,薄膜結構係由一接著層、至少一印刷色層、一保護層、一離型層及一PET層所組成;分離離型層及PET層;施加一光固化膠層至印刷色層或該基材對應薄膜結構之一側;烘烤光固化膠層;對應薄膜結構於光固化膠層進行立體壓紋作業,而於基材上形成一立體圖案層;施加一保護膜至基材對應立體圖案層之一側面上。相較習知須使用多次平板印刷而言,本發明直接使用熱轉印方式製成母模來提供轉印,以減少工序。

Description

紫外光立體圖案轉印方法
一種轉印方法,特別是指一種紫外光立體圖案轉印方法。
隨著科技的進步,大量的3C產品,如智慧型手機、筆記型電腦等各項產品,已成為現代人於日常生活上不可或缺的產品。
而筆記型電腦及各式3C產品,為追求視覺美感,於其外殼上多半會作一些裝飾處理。以傳統處理方式而言,若外殼材質為塑膠時,多半以噴塗上色的方式來作處理。然而,此種製程方式均會於製程中產生或多或少的有毒廢氣,造成汙染。此外,噴塗後須額外作二次加工之程序,步驟繁鎖。
此外,亦有使用金屬表面裝飾處理的技術,對外殼作表面處理,如使用化學著色、電解著色、裝飾電鍍或金屬表面蝕刻等技術,如於金屬殼體上產生髮絲紋路。然而,此種處理方式成本較高,且具有難以回收使用的缺點。
此外,傳統裝飾處理方法,多半僅能於外殼表面作平面裝飾處理,而無法達到立體造型之裝飾效果。
為克服上述缺點,有業者提出一種印刷結構,其係於母板上形成一立體圖案,再以壓印方式印刷於子膜上,於子膜上形成立體圖案結構,其處理步驟如第1圖所示,其大致上係經前處理(S110)、三滾輪61來進行上光#1(S111)、烘烤170℃/10分鐘(S112)、平板印刷62進行印刷#1(S113)、烘烤170℃/5分鐘(S114)印刷#2(S115)、烘烤170℃/5分鐘(S116)、印刷#3(S117)、烘烤170℃/5分鐘(S118)、印刷#4(S119)、烘烤170℃/5分鐘(S120)、上光#2(S121)、烘烤170℃/10分鐘(S122)之步驟逐層進行平板印刷,而可於母板上形成立體圖案,最後再藉網印63以印刷(S123)、烘烤60℃/3~5分鐘(S124)後,使用壓印機64來壓印(S125)立體圖文至一子膜上,藉以形成一立體圖案。然而,此種製程方式雖可獲得較精細之圖文圖樣,然而製作過程複雜,成本較高。
本發明之主要目的,旨在提供一種紫外光立體圖案轉印方法,其係將具有印刷色層之薄膜結構直接熱轉印於基材上,以減少工序,降低成本。
為達上述目的,本發明之紫外光立體圖案轉印方法,其係包含下列步驟:提供一基材;對該基材進行一表面處理;熱轉印一薄膜結構至該基材之一側面上,該薄膜結構係由一接著層、至少一印刷色層、一保護層、一離型層及一聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層所組成;分離該離型層及該聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層;施加一光固化膠層至該印刷色層或該基材對應該薄膜結構之一側;烘烤該光固化膠層,以揮發內部溶劑成份,並使該光固化膠層受熱後更加穩定;對應該薄膜結構於該光固化膠層進行立體壓紋作業,而於該基材上形成一立體圖案層;施加一保護膜至該基層對應該立體圖案層之一側面上。
其中,烘烤該光固化膠層之步驟係於攝氏60~180℃,3~10分鐘之條件下所進行。
其中,該基材係為金屬材質或塑膠材質。
其中,當該基材為金屬材質時,該基材係由鋁、不銹鋼、馬口鐵或鎂板所製成。
其中,當該基材為塑膠材質時,該基材係由聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABs)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚乙烯(PE)材質所製成。
其中,當該基材為金屬材質時,該基材係進行清洗脫脂表面粗化之表面處理。
其中,當該基材為塑膠材質時,該基材係進行增加密著性之表面處理。
其中,熱轉印該薄膜結構至該基材之一側面上之步驟係藉由一轉印輪搭配一具有攝氏50~180℃之加熱源來進行轉印處理。
其中,當完成施加該保護膜至該形成該立體圖案層之一側面之步驟後,更包括照射一紫外光以固化該光固化膠層之步驟。
為使 貴審查委員能清楚了解本發明之內容,謹以下列說明搭配圖式,敬請參閱。
請參閱第2、3圖所示,其係為本發明紫外光立體圖案轉印方法步驟流程圖及轉印示意圖。
圖中,該紫外光立體圖案轉印方法包括下列步驟:S21:提供一基材5;S22:對該基材5進行一表面處理;S23:熱轉印一薄膜結構4至該基材5之一側面上,該薄膜結構4係由一接著層41、至少一印刷色層42、一保護層43、一離型層44及一聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層45所組成;S24:分離該離型層44及該聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層45;S25:施加一光固化膠層至該印刷色層42或該基材5對應該薄膜結構4之一側;S26:烘烤該光固化膠層,以揮發內部溶劑成份,使光固化膠層受熱後更加穩定;S27:對應該薄膜結構4於該光固化膠層進行立體壓紋作業,而於該基材5上形成一立體圖案層;S28:施加一保護膜至該基材5對應該立體圖案層之一側面上;及S29:照射一紫外光以固化該光固化膠層。
在本實施例中,該基材5可為金屬材質或塑膠材質。當該基材5為金屬材質時,該基材5可由鋁、不銹鋼、馬口鐵或鎂板所製成。當該基材5為塑膠材質時,該基材5可由聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚乙烯(PE)材質所製成。
而於步驟S2中,當該基材5為金屬材質時,該基材5係進行清洗脫脂表面粗化之表面處理,當該基材5為塑膠材質時,該基材5係進行增加密著性之表面處理,以增加基材5與薄膜結構之間的密著性。
此外,烘烤該光固化膠層之步驟係於60~180℃,3~10分鐘之條件下進行。
當該基材5進行熱轉印時,該基材5係通過進行送捲之薄膜結構4至一轉印輪31之下方,該轉印輪31搭配一具有50度至180度之加熱源32將該薄膜結構4之該接著層41、該印刷色層42、該保護層43、該離型層44及該聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層45轉印至該基材5之一側面上。之後,分離及收捲該薄膜結構4之該離型層44及該PET層45,而依序進行各基材5之熱轉印。
此外,當該光固化膠層照射紫外光以進行固化時,該紫外線之照射能量可為500cm/cm2~3000mj/cm2
此外,該該薄膜結構4不僅以上述PET層45為限,亦可利用凹板印刷、凸板印刷、網印印刷、平板印刷於聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚碳酸等薄膜結構4上進行印刷。
綜上所述,本發明紫外光立體圖案轉印方法,其功效在於以熱轉印方式將印刷色層直接轉印至基材上,與習知技術需作多次平板印刷及烘烤之方式相比較,其製作流程簡單,更容易生產。
唯,以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,並非用以限定本發明實施之範圍,在不脫離本發明之精神與範圍下所作之均等變化與修飾,皆應涵蓋於本發明之專利範圍內。
綜上所述,本發明之紫外光立體圖案轉印方法,係具有專利之發明性,及對產業的利用價值;申請人爰依專利法之規定,向 鈞局提起發明專利之申請。
S110~S125...步驟流程
S21~S29...步驟流程
31...轉印輪
32...加熱源
4...薄膜結構
41...接著層
42...印刷色層
43...保護層
44...離型層
45...聚對苯二甲酸乙二酯層
5...基材
61...三滾輪
62...平板印刷
63...網印
64...壓印機
第1圖,為習知技術立體圖文壓印方法步驟流程圖。
第2圖,為本發明紫外光立體圖案轉印方法步驟流程圖。
第3圖,為本發明紫外光立體圖案轉印方法之轉印示意圖。
S21~S29...步驟流程

Claims (9)

  1. 一種紫外光立體圖案轉印方法,包含下列步驟:提供一基材;對該基材進行一表面處理;熱轉印一薄膜結構至該基材之一側面上,該薄膜結構係由一接著層、至少一印刷色層、一保護層、一離型層及一聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層所組成;分離該離型層及該聚對苯二甲酸乙二酯(PET)層;施加一光固化膠層至該印刷色層或該基材對應該薄膜結構之一側;烘烤該光固化膠層;對應該薄膜結構於該光固化膠層進行立體壓紋作業,而於該基材上形成一立體圖案層;及施加一保護膜至該基材對應該立體圖案層之一側面上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,烘烤該光固化膠層之步驟係於攝氏60~180度,3~10分鐘之條件下所進行。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,該基材係為金屬材質或塑膠材質。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,當該基材為金屬材質時,該基材係由鋁、不銹鋼、馬口鐵或鎂板所製成。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,當該基材為塑膠材質時,該基材係由聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚乙烯(PE)材質所製成。
  6. 如申請專利範圍第3項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,當該基材為金屬材質時,該基材係進行清洗脫脂表面粗化之表面處理。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,當該基材為塑膠材質時,該基材係進行增加密著性之表面處理。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,熱轉印該薄膜結構至該基材之一側面上之步驟係藉由一轉印輪搭配一具有攝氏50~180度之加熱源來進行轉印處理。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之紫外光立體圖案轉印方法,其中,當完成施加該保護膜至該形成該立體圖案層之一側面之步驟後,更包括照射一紫外光以固化該光固化膠層之步驟。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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