TW201318771A - 用於化學機械拋光清潔裝置之刷盒模組 - Google Patents

Abstract

本發明之實施例一般係與用於清潔基板之方法與設備有關。具體而言，本發明之實施例是與用於使用洗滌刷來清潔基板之設備與方法有關。一個實施例提供了用於清潔基板之刷盒組件。該組件包含一腔室主體、一可旋轉夾盤與一邊緣清潔器模組，該腔室主體具有配置於其中之清洗腔室，該可旋轉夾盤係配置於該清洗腔室中，該邊緣清潔器模組係安置在鄰接於該夾盤。

Description

用於化學機械拋光清潔裝置之刷盒模組

本發明之實施例一般是與用於處理基板的設備與方法有關。更具體而言，本發明之實施例提供了用於清潔半導體基板之設備與方法。

在半導體元件的製造期間，需要對各層(例如氧化物以及如銅與鎢之金屬)進行平坦化以在形成後續層之前先移除階部或起伏處。平坦化一般是藉由在一拋光液(例如一研磨化合物)的存在下，將一半導體基板的元件側壓抵一拋光墊並使該拋光墊相對於該半導體基板而移動，而機械式、化學式及/或電氣式地進行。一般會使用不同的拋光墊與拋光液來執行多個拋光步驟，以於基板的元件側上達到所需的平坦性與平滑性。

平坦化製程後可接以一清潔製程，清潔製程係移除基板上的殘餘拋光液及/或顆粒。傳統的清潔製程一般包含以機械洗滌裝置洗滌基板表面，該機械洗滌裝置具有由多孔性或海綿狀材料所製成的刷子或刷毛。當以刷子清潔時，刷子一般會從前側與後側兩者接近基板以接觸基板，並且對基板施加一力。然而，對基板施加過剩的力則會破壞基板。此外，在傳統清潔設備中基板的動作控制是由接觸該基板之一邊緣的驅動輥件所提供。然而， 基板的旋轉速度的控制有時會因刷子對基板所施加的過剩力而不穩定。過剩的力會導致驅動輥件與基板之間的滑動，因而產生無效率或不良的清潔結果。

因此，需要一種用於清潔基板之改良設備與方法。

本文所述之實施例一般係關於一種用於拋光製程之後清潔基板的方法與設備。具體而言，本發明之實施例與一種使用洗滌刷來清洗基板之設備與方法有關。

一個實施例提供了一種用於基板之刷盒組件。該組件包含一腔室主體，該腔室主體具有配置在其中之一清洗腔室；一可旋轉夾盤，該可旋轉夾盤係配置在該清洗腔室中；以及一邊緣清潔器模組，安置在鄰接於該夾盤。

另一個實施例提供了一種用於清潔基板之刷盒組件。該組件包含一腔室主體，該腔室主體具有配置在其中之一清洗腔室；一可旋轉夾盤，該可旋轉夾盤係配置在該清洗腔室中；一洗滌刷，該洗滌刷係配置在該清洗腔室中而鄰接於該可旋轉夾盤；以及一可線性移動之基板固持件，該基板固持件係配置在該清洗腔室中而鄰接於該可旋轉夾盤。

另一實施例提供了一種用於清潔基板之刷盒組件。該組件包含：一基部；至少一第一腔室主體，其係配置在該基部上，該腔室主體具有容置在其中之一清洗腔室；一 可旋轉真空夾盤，該可旋轉真空夾盤係配置在該清洗腔室中；一基板固持件，該基板固持件係配置在該清洗腔室中而鄰接於該可旋轉夾盤，該基板固持件係可相對於該可旋轉夾盤而移動於一第一方向中，以及可相對於該可旋轉夾盤而移動於一第二方向中，該第一方向係實質正交於該第二方向；以及一邊緣清潔器模組，該邊緣清潔器模組安置在該清洗腔室中而鄰接於該可旋轉夾盤。

第1A圖是根據本發明的一個實施例之刷盒組件100的示意立體圖。該刷盒組件100包含固定於一支撐基部104上的兩個刷盒模組102A、102B。每一刷盒模組102A、102B都包含一腔室主體103，該腔室主體103圍繞且限定一清洗腔室，一基板即於清洗腔室中進行處理。各刷盒模組102A、102B係裝配為於一垂直取向中從一機器人(未示於第1A圖)接收一基板。刷盒組件100或刷盒模組102A、102B中的一或多者係可用於為同時清潔多個基板而裝配的系統中。

每一刷盒模組102A、102B包含一開口106，該開口106係形成於刷盒模組102A、102B的一蓋體107中。裝配開口106以容許一基板通行至一清洗腔室中，該清洗腔室包含於刷盒模組102A、102B的腔室主體103內部。在處理期間，開口106可由一外蓋108予以關閉，以避 免清潔液濺出清洗腔室，並避免外部顆粒進入清洗腔室中。裝配一單一外蓋108以關閉兩刷盒模組102A、102B的開口106。一致動器(未示)係耦接至外蓋108，且該致動器係裝配以促進外蓋108的開啟與關閉。

每一刷盒模組102A、102B可為實質上彼此相同，且在此視圖中係繪示了某些共同裝置而隱藏了其他的。配置在各刷盒模組102A、102B的共同裝置包含一驅動系統110、一致動器112與一致動器組件114，該驅動系統110係耦接至一基板固持件(未示於第1A圖中)以於處理期間固定一基板，該致動器112係使一洗滌刷於處理期間旋轉，該致動器組件114係用於控制洗滌刷對基板的施力。致動器組件114係與一固定框架116結合運作，該固定框架116係支撐一洗滌刷(未示於第1A圖中)的相對端部。固定框架116係藉由一樞軸軸承組件118而可移動地耦接至基部104，該樞軸軸承組件118係使固定框架116可相對於腔室主體103而樞轉。每一刷盒模組102A、102B也包含一驅動組件120與流體通口122，這兩者將於下文中更詳細加以說明。

第1B圖是第1A圖所示之刷盒組件100的背側示意立體圖。第1B圖中所繪示的共同特徵係與第1A圖中所示者相同，且將不再贅述以求簡潔。各刷盒模組102A、102B包含一邊緣清潔器模組124，該邊緣清潔器模組124係於處理期間促進基板邊緣之清潔。邊緣清潔器模組124的運作將於下文中更詳細解釋。

第2圖是第1B圖之刷盒組件100的側截面圖。每一刷盒模組102A、102B都含有一清洗腔室200。清洗腔室200包含一內部體積，該內部體積具有一夾盤202與一洗滌刷204配置於其中。清洗腔室200也包含一輥組件220、一或多個噴霧棒214(在第2圖之截面圖中僅繪示出一個)、以及一基板固持件226。夾盤202係可運作地耦接至驅動系統110(繪示於第1A圖中)。裝配夾盤202以夾持一基板203(繪示於刷盒模組102B中)的背側，以促進基板203相對於洗滌刷204的旋轉動作。基板203的裝置側係與洗滌刷204的一表面相接，以產生基板203的清潔。夾盤202的旋轉係由驅動系統110予以控制，使得夾盤202係以每分鐘0轉(0 RPM)至每分鐘約1000轉(1000 RPM)的旋轉速度旋轉。在一實施例中，夾盤202係一真空夾盤，夾盤中形成有複數個真空孔206(示於刷盒模組102A中)。從夾盤202施以真空，以夾持基板203的背側。對基板203的背側所施加之真空可靠地夾持基板203至夾盤202，並在處理期間避免基板203的滑動。雖然在刷盒模組120B中係僅繪示有一個基板203，但在刷盒模組102A中也可同時處理一第二基板以增加產量。

各洗滌刷204係由致動器112加以旋轉。各洗滌刷204附接在一對支撐臂208的每一端部上，該對支撐臂208是配置在各刷盒模組102A、102B的固定框架116的部件。施加至各洗滌刷204的力是受各別致動器組件114 所控制。各致動器組件114係耦接於刷盒模組102A、102B的腔室主體103以及一各別固定框架116的至少其中一個支撐臂208之間。致動器組件114係適於使洗滌刷204的至少一端部210側向地(X方向)移向基板203或移動離開基板203。因此，致動器組件114可有效控制洗滌刷204施加至基板203的壓力，以促進基板203的有效清潔。當基板203由夾盤202予以可靠地固持時，可對基板施加比傳統系統而言更提高之壓力，而無基板203之滑動。致動器112可為一旋轉致動器所啟動之旋轉驅動裝置。支撐臂208係耦接至樞軸軸承組件118，樞軸軸承組件118係提供支撐臂208相對於基部104之相對移動，藉此使洗滌刷204相對於基板203之樞轉移動。

洗滌刷204可為一多孔性聚合物材料，例如聚乙烯乙酸酯(PVA)，或是洗滌刷204也可為具有刷毛(未示)之刷子類型的輥件。洗滌刷204的芯部包含複數個噴嘴212，用以在處理期間對洗滌刷204提供一清潔液或去離子水。

噴霧棒214係耦接至一流體通口122(繪示於第1A圖與第1B圖中)。噴霧棒214包含複數個噴嘴216，噴嘴216的取向係可將一清潔流體引導至安置在清洗腔室200中之基板203的表面。噴霧棒214所供應的清潔流體可包含去離子水、酸、過氧化氫、臭氧、異丙醇(ISA)、及其組合。每一噴嘴216或噴嘴216之組合係與一分離的流體供應源218A、218B相通，以經由一單一噴霧棒 214來提供多種清潔流體。可經由該噴霧棒214來提供單一清潔流體，或是經由噴霧棒214、同時經由不同的噴嘴216來提供清潔流體之組合。

基板固持件226係耦接至驅動組件120(示於第1A圖中)。基板固持件226包含一支架228，該支架228具有至少一夾持器230以接收基板203的一周邊邊緣224。利用基板固持件226於基板203往返夾盤202的傳送。支架228係適於至少在垂直(Z方向)或側向(X方向)相對於夾盤202移動，以促進基板203往返於機器人的端效器(兩者皆未示)與夾盤202之傳送。

當機器人將一進入基板傳送至腔室主體103中，利用夾持器230自機器人的端效器接收基板，並且垂直(Z方向)固持及支撐基板。當端效器已經完全地回縮退出開口106時，基板固持件226係使基板相對於夾盤202而安置。基板的安置需要在Z方向中的垂直移動以及側向移動(例如在X方向中)，以使基板朝向夾盤202的接收表面移動。當基板與夾盤202對準時，夾盤202係被致動以固持基板，使得基板固持件226移動離開夾盤202而自夾持器230釋放基板。基板固持件226可垂直(Z方向)向下移動並離開基板的周邊邊緣224，使得基板與夾盤202旋轉而不受夾持器230的干擾。當一經處理基板要被傳送出腔室主體103時，基板固持件226的移動會反向以促進自夾盤202之基板接收、以及傳送至機器人的端效器。基板固持件226也包含一感測器裝置232，用 以偵測基板的存在與否。基板固持件226與驅動組件120的運作係於第3A圖至第4圖之說明中進一步詳細解釋。

輥組件220係耦接至邊緣清潔器模組124(示於第1B圖中)。各輥組件220包含一或多個輥件222，輥件222係安置在圍繞基板203的周邊邊緣224。各輥件222係由邊緣清潔器模組124予以控制，以適於作為惰輪或相對於基板203而旋轉。當基板203被安置在夾盤202上時，利用各輥件222以清潔基板203的周邊邊緣224。在基板203的傳送期間，輥組件220係適於移動遠離基板203與夾盤202，以使基板203垂直(Z方向)通行通過開口106。輥組件220與邊緣清潔器模組124的運作係於第3B圖的說明中進一步詳細解釋。

第3A圖是第1A圖之刷盒模組102A的側截面圖。夾盤202係以截面圖來繪示，且包含與一洗滌刷204相對的一基板接收表面300。夾盤202係耦接至一馬達305，馬達305係適於使基板接收表面300沿一第一旋轉軸旋轉，同時洗滌刷204係以與該第一旋轉軸正交的一第二旋轉軸旋轉。洗滌刷204也側向地朝向基板接收表面300移動及離開基板接收表面300。洗滌刷204的移動係受致動器112與致動器組件114(兩者皆繪示於第2圖中)控制。

驅動組件置120係以部分截面圖來繪示。驅動組件120包含一支撐構件310，該支撐構件310係耦接於支架228與一驅動組件315之間。支架228包含夾持器230，夾持 器230中係形成有一狹槽320。狹槽320之大小係可於傳送製程期間接收一基板(未示)的周邊邊緣。驅動組件315包含一或多個致動器，致動器係可運作以使支架228上升與下降，同時使支架228相對於夾盤202的基板接收表面300側向移動。支架228是繪示為在一個不會干擾第3A圖中基板或夾盤202之旋轉的位置。

邊緣清潔器模組124的一部分係繪示於第3A圖中。邊緣清潔器模組124包含一控制器330，控制器330係裝配以使輥件222(在第3A圖中僅繪示出一個輥件222)相對於腔室主體103而線性移動。在一實施例中，控制器330包含一第一致動器335與一第二致動器340。第一致動器335係可運作以使輥件222垂直移動，而第二致動器340係可運作以使輥件222水平移動。各輥件222係耦接至一軸桿外殼337(在第3A圖中僅繪示出一個)。各軸桿外殼337係耦接至一支架342。支架342係使各軸桿外殼337與輥件222一齊移動。第一致動器335與第二致動器340中每一個的一端部係耦接於支架342與腔室主體103之間。在一實施例中，第二致動器340係耦接至一引導構件339，引導構件339係耦接至腔室主體103，當第二致動器340隨支架342移動時，引導構件339提供了第二致動器340之支撐。第一致動器335與第二致動器340兩者都包含一汽缸或一線性馬達。該汽缸或線性馬達係由電氣式、水力或氣動式供以動力。第一致動器335與第二致動器340兩者也都可包含一滑 動裝置、一螺旋驅動器、齒輪、或其他適合裝置，以給予支架228線性移動。

第3B圖是在一傳送期間之第3A圖的刷盒模組102A的截面圖。基板203是由一端效器325而通過開口106傳送至刷盒模組102A中。在傳送期間，支架228係側向(X方向)移動以接合基板203的邊緣並促進基板203自端效器325移除。端效器325係可釋放基板203，並在夾持器230支撐基板203之後縮回。支架228係朝向基板接收表面300側向(X方向)移動及/或垂直(Z方向)移動，以促進基板203相對於基板接收表面300之對準。夾盤202可被致動以固持基板203，且支架228係移動以釋放正受夾盤202支撐之基板203。支架228係進一步被致動而離開基板203與夾盤202的鄰近處，而至一個與第3A圖所示位置類似的位置。

此外，邊緣清潔器模組124係使輥件222側向(X方向)移動，如第3B圖所示。輥件222的移動可於傳送期間促進端效器325與基板203的退出。在一實施例中，邊緣清潔器模組124包含控制器330與支架342，支架342係使輥件222垂直地(Z方向)移動及水平地(X方向)移動。當基板203被固持在夾盤202的基板接收表面300上時，邊緣清潔器模組124係使輥件222移動至一個與第3A圖所示位置類似的位置。

各輥件222可由一聚合物製成，例如化學機械研磨(CMP)系統中常用的聚氨酯材料。在處理期間，一基 板係被固持在夾盤202上並且旋轉。當基板旋轉時，輥件222被迫抵於基板的周邊邊緣。第一致動器335係提供一向下力，例如每平方英吋約2磅(2 psi)至約4 psi、或更高。在一實施例中，至少某些輥件222的旋轉並非受外部控制(亦即，有一或多個輥件可被裝配為惰輪)。這會使輥件222的旋轉取決於基板的旋轉。在一態樣中，係利用第一致動器335所提供的向下力在輥件222的表面與基板的邊緣之間產生滑動。在一個實例中，夾盤202係以約每分鐘120轉(120 rpm)旋轉，且對輥件222提供約3 psi之一向下力，其產生約20%的滑動，係利用該滑動以清潔基板的邊緣。在另一實施例中，輥件222的旋轉係受一可選的扭矩控制器345所控制，係可利用扭矩控制器345對輥件222施加一制動力或額外的旋轉力。扭矩控制器345可包含配置在軸桿外殼337中或上之一馬達。

如第3A圖與第3B圖所示，其繪示了兩個噴霧棒214。每一噴霧棒214係可於清潔製程前、中、後單獨使用或彼此結合使用。舉例而言，噴霧棒214中的一或兩者係可於清潔期間用以施用一清洗液。當清洗製程完成時，係於在端效器325上傳送期間利用噴霧棒214中的一或兩者來對基板203施加流體。過剩的流體可經由配置在刷盒模組102A上的一排水口移除。

第4圖是可使用於第3A圖與第3B圖之刷盒模組102A中的驅動裝置315與支架228的等角視圖。驅動裝置315 包含一垂直致動器組件400與一水平致動器組件405。垂直致動器組件400與水平致動器組件405兩者都可包含耦接至一驅動組件之一汽缸或一線性馬達。汽缸或馬達可為電氣式、水力式或氣動式供以動力。驅動裝置315可包含一滑動裝置、一螺旋驅動器裝置、齒輪或其他適合裝置，以給予支架228線性移動。支架228也包含一適於偵測基板存在的感測器系統410。感測器系統410可包含一鄰近感測器或裝配以傳送及接收一光束415之通過光束偵測系統。感測器系統410可包含一感測器裝置，該感測器裝置具有裝配以使用遠紅外線或雷射光的一傳送器420A與一接收器420B。當夾持器230中支撐有一基板時，光束415會被中斷，這就表示有基板存在。

第5圖是可用於第3A圖與第3B圖之刷盒模組102A中的邊緣清潔器模組124的等角視圖。邊緣清潔器模組124包含一主體500，該主體500係至少部分封住軸承外殼337與第一致動器335。主體500包含一表面505，該表面505係裝配以固定至腔室主體103(示於第3A圖與第3B圖)的一內部表面。主體500也包含緊固件(例如螺拴或螺絲)之開口510。

第6圖為可用於第3A圖與第3B圖之刷盒模組102A上的固定框架116之等角視圖。固定框架116包含兩個支撐臂208，支撐臂208係由一支撐構件600耦接在一起。各支撐臂208包含一固定孔604，一洗滌刷(示於第2圖中)係固定在固定孔604中。各支撐臂208係耦 接至樞軸軸承組件118的一樞軸軸承602。支撐構件600可穩定支撐臂208，並且容許支撐臂208一齊移動。致動器組件114包含了藉由一支撐構件610而固定至基部(未示)之一致動器組件605。致動器組件605包含一線性驅動裝置615，該線性驅動裝置615可為電氣式、水力式或氣動式運作之一馬達或一汽缸。線性驅動裝置615係可耦接至一傳輸構件620，以傳送原動力至配置在其中一個支撐臂208上的一可調整固定塊625。傳輸構件620可為一軸桿、一滑動裝置、一螺旋機構、或其他線性驅動機構。線性驅動裝置615的致動係使傳輸構件620可對該可調整固定塊625施加一拉力或推力，使得支撐臂208可沿著樞軸軸承602樞轉並側向移動。

第7圖是一示例拋光系統700的示意平面圖，第1A圖之刷盒組件100的實施例係可被利用於該系統。可推知刷盒組件100係可用於具有其他型態的拋光系統中。

拋光系統700一般包含一工廠介面702、一清潔器模組704、與一拋光模組706。係提供一濕式機器人708於工廠介面702與拋光模組706之間傳送基板203。也可裝配濕式機器人708以於拋光模組706與清潔器模組704之間傳送基板。在一個操作模式中，通過拋光系統700的基板(例如半導體晶圓或其他工作件)的流向以箭頭709來表示。

工廠介面702一般包含一乾式機器人710，係裝配乾式機器人710於一或多個匣體714間傳送基板203以存 儲基板。工廠介面702也包含一或多個傳送平台716。在一實施例中，乾燥機器人被固定在一滑軌712上，以使乾式機器人710移動於匣體714及清潔器模組704之間。

一般係配置濕式機器人708以一面向上之水平取向自工廠介面702擷取基板203，將基板203翻轉為一面向下之水平取向至拋光模組706，並使基板203旋轉為一垂直取向而至清潔器模組704。濕式機器人708被固定於一滑軌720上，且可促進濕式機器人708的線性平移。

拋光模組706一般是包含裝配用以保持基板203之複數個拋光頭726、裝配用以自濕式機器人708接收基板203並將基板203傳送至拋光頭726之負載杯722、以及裝配用以拋光在拋光頭726上所支撐的基板203之兩個以上的拋光站724。

在一實施例中，拋光頭726係耦接至一高架滑軌728。高架滑軌728係配置以傳送拋光頭726，並選擇性地將拋光頭726安置於拋光站724與負載杯722上。高架滑軌728具有一般的圓形配置，該配置使得拋光頭726可選擇性地於負載杯722與拋光站724上方旋轉及/或退出。

在處理期間，基板203係藉由乾式機器人710而從匣體714傳送至傳送平台716。接著由濕式機器人708拾取基板203並將基板203傳送至負載杯722。經處理之基板203係返送回拋光模組706的負載杯722，以供濕 式機器人708傳送至清潔器模組704。清潔器模組704一般包含一搬運梭740以及在清潔器模組704內的一或多個清洗站744。搬運梭740包含一傳送機構742，傳送機構742係可促進經處理之基板從濕式機器人708吊掛至該一或多個清洗站744。

經處理之基板係藉由一高架傳送機構(未示)從搬運梭740傳送通過該一或多個清洗站744。在第7圖所示的實施例中，各清洗站744係包含一超音波清潔器746、如本文所述之兩個刷盒組件100、一噴流清潔器模組750與一乾燥器752。離開乾燥器752的經乾燥之基板係旋轉至一水平取向，以由乾式機器人710加以擷取，該乾式機器人710係將經乾燥之基板203返送至其中一個匣體714中的一空槽。

可適用且受利於本文所述之刷盒組件100及/或一或多個刷盒模組102A、102B的一清潔器模組704的實施例係一DESICA^®清潔器、或一REFLEXION^® GT拋光系統，兩者皆由位於加州聖大克勞拉市的應用材料公司所供應。可知刷盒組件100及/或一或多個刷盒模組102A、102B可被利用於其他的清潔器模組，包括來自其他製造商者。

在一實施例中，係使用一傳送裝置(未示)依序通過清潔器模組704來擷取及前送基板203：從超音波清潔器746而至刷盒組件100、然後至噴流清潔器模組750與乾燥器752。裝配超音波清潔器746以使用超音波能 量來執行一有效清潔步驟。裝配噴流清潔器模組750以使用加壓液體來進行一清潔步驟。裝配乾燥器752以在清潔之後快速乾燥一基板，以移除水浴殘留物並避免蒸發所導致的條紋與斑點。裝配刷盒模組748以使用機械式接觸(例如洗滌動作)執行一清潔步驟。刷盒模組的實施例係說明於本發明之第1A圖至第2圖中。

本文所述之刷盒組件100的實施例係增加了清潔運作的效率，並提供維修期間減短之停工期。使用夾盤202係提供了穩定的基板固持件，其支撐基板的背側，同時避免清潔期間之基板滑動。此外，可在清潔期間對基板施加較大的洗滌刷壓力，這可促進更有效清洗，並使清洗時間最小化。單一洗滌刷204及/或每一洗滌刷204之單一致動器裝置114的使用係於清潔期間提供了提昇之施力管理。此外，如同某些傳統清潔器使用了多個刷子(各刷子都具有多個施力致動器)，減少了部件的維修與替換。更甚者，可裝配整合之邊緣清潔器模組124以利用輥件222與一基板之間的滑動促進邊緣清潔，提高刷盒組件100的效率。

前述說明是針對本發明之實施例，然可在不背離本發明之基本範疇下推知本發明之其他與進一步之實施例，且本發明之範疇係由如附申請專利範圍所定義。

100‧‧‧刷盒組件

102A、102B‧‧‧刷盒模組

103‧‧‧腔室主體

104‧‧‧基部

106‧‧‧開口

107‧‧‧蓋體

108‧‧‧外蓋

110‧‧‧驅動系統

112‧‧‧致動器

114‧‧‧致動器組件

116‧‧‧固定框架

118‧‧‧樞軸軸承組件

120‧‧‧驅動組件

122‧‧‧流體通口

124‧‧‧邊緣清潔器模組

200‧‧‧清洗腔室

202‧‧‧夾盤

203‧‧‧基板

204‧‧‧洗滌刷

206‧‧‧真空孔

208‧‧‧支撐臂

210‧‧‧端部

212‧‧‧噴嘴

214‧‧‧噴霧棒

216‧‧‧噴嘴

218A、218B‧‧‧清洗流體供應源

220‧‧‧輥組件

222‧‧‧輥件

224‧‧‧周邊邊緣

226‧‧‧基板固持件

228‧‧‧支架

230‧‧‧夾持器

232‧‧‧感測器裝置

300‧‧‧基板接收表面

305‧‧‧馬達

310‧‧‧支撐構件

315‧‧‧驅動組件

320‧‧‧狹槽

325‧‧‧端效器

330‧‧‧控制器

335‧‧‧第一致動器

337‧‧‧軸桿

339‧‧‧引導構件

340‧‧‧第二致動器

342‧‧‧支架

345‧‧‧扭矩控制器

400‧‧‧垂直致動器組件

405‧‧‧水平致動器組件

410‧‧‧感測器系統

415‧‧‧光束

420A‧‧‧傳送器

420B‧‧‧接收器

500‧‧‧主體

505‧‧‧表面

510‧‧‧開口

600‧‧‧支撐構件

602‧‧‧樞軸軸承

604‧‧‧固定孔

605‧‧‧致動器組件

610‧‧‧支撐構件

615‧‧‧線性驅動裝置

620‧‧‧傳輸構件

625‧‧‧可調整之固定塊

700‧‧‧拋光系統

702‧‧‧工廠介面

704‧‧‧清潔器模組

706‧‧‧拋光模組

708‧‧‧濕式機器人

709‧‧‧箭頭

710‧‧‧乾式機器人

712‧‧‧滑軌

714‧‧‧匣體

716‧‧‧傳送平台

720‧‧‧滑軌

722‧‧‧負載杯

724‧‧‧拋光站

726‧‧‧拋光頭

728‧‧‧高架滑軌

740‧‧‧搬運梭

742‧‧‧傳送機構

744‧‧‧清洗站

746‧‧‧超音波清潔器

750‧‧‧噴流清潔器模組

752‧‧‧乾燥器

為能更詳細理解本發明之上述特徵，可參照實施例來 詳述本發明之一更特定說明(如上簡要說明者)，其係已部分說明於如附圖式中。然應注意，如附圖式僅說明了本發明的一般實施例，且因而不能被視為對其範疇之限制，因為本發明也允許其他等效實施例。

第1A圖是根據本發明一實施例之刷盒組件的示例立體圖。

第1B圖是第1A圖所示之刷盒組件背側的示意立體圖。

第2圖是第1B圖之刷盒組件的側截面圖。

第3A圖是第1A圖之刷盒模組的側截面圖。

第3B圖是第3A圖之刷盒模組的截面圖。

第4圖是可用於第3A圖與第3B圖之刷盒模組中之驅動組件與支架的等角視圖。

第5圖是可用於第3A圖與第3B圖之刷盒模組中之邊緣清潔器模組的等角視圖。

第6圖是可用於第3A圖與第3B圖之刷盒模組上之刷子固定框架的等角視圖。

第7圖是一拋光系統的示意平面圖，其中可使用第1A圖之刷盒組件的實施例。

為助於理解，盡可能在圖式中使用相同的元件符號來代表相同的元件。可知在一實施例中所揭露的元件，係可有利地使用在其他實施例中，而無需特別載明。

102A‧‧‧刷盒模組

103‧‧‧腔室主體

104‧‧‧基部

106‧‧‧開口

108‧‧‧外蓋

110‧‧‧驅動系統

114‧‧‧致動器組件

120‧‧‧驅動組件

124‧‧‧邊緣清潔器模組

200‧‧‧清洗腔室

202‧‧‧夾盤

204‧‧‧洗滌刷

208‧‧‧支撐臂

214‧‧‧噴霧棒

220‧‧‧輥組件

222‧‧‧輥件

226‧‧‧基板固持件

228‧‧‧支架

230‧‧‧夾持器

300‧‧‧基板接收表面

305‧‧‧馬達

310‧‧‧支撐構件

315‧‧‧驅動組件

320‧‧‧狹槽

330‧‧‧控制器

335‧‧‧第一致動器

337‧‧‧軸桿

339‧‧‧引導構件

340‧‧‧第二致動器

342‧‧‧支架

Claims (25)

1. 一種用於清潔一基板之刷盒組件，該組件包含：一腔室主體，該腔室主體具有配置在其中之一清洗腔室；一可旋轉夾盤，該可旋轉夾盤係配置在該清洗腔室中；以及一邊緣清潔器模組，安置在該清洗腔室中而相鄰於該夾盤。
2. 如請求項1所述之組件，其中該可旋轉夾盤是一真空夾盤。
3. 如請求項1所述之組件，其中該邊緣清潔器模組安置在相鄰於該可旋轉夾盤的一上部部分，該組件更包含一基板固持件，該基板固持件安置在該清洗腔室中而相鄰於該可旋轉夾盤的一下部部分。
4. 如請求項3所述之組件，其中該基板固持件係耦接至一致動器，該致動器係可運作以使該基板固持件相對於該可旋轉夾盤而移動。
5. 如請求項3所述之組件，其中該基板固持件包含一感測器元件。
6. 如請求項1所述之組件，其中該邊緣清潔器模組包含一輥件裝置，該輥件裝置具有兩個輥件。
7. 如請求項6所述之組件，其中該兩個輥件是耦接至一控制器，該控制器係可運作以使所述輥件相對於該夾盤而移動。
8. 如請求項7所述之組件，其中該控制器包含一線性致動器。
9. 如請求項7所述之組件，其中該控制器包含一第一線性致動器以使該等輥件移動於一第一方向中，以及一第二線性致動器以使該等輥件移動於一第二方向中，該第二方向係正交於該第一方向。
10. 如請求項1所述之組件，進一步包含：一單一洗滌刷，安置在相鄰於該可旋轉夾盤。
11. 一種用於清潔一基板之刷盒組件，該組件包含：一腔室主體，該腔室主體具有配置在其中之一清洗腔室；一可旋轉夾盤，該可旋轉夾盤係配置在該清洗腔室中；一洗滌刷，該洗滌係配置在該清洗腔室中而相鄰於該可旋轉夾盤；以及一可線性移動之基板固持件，該基板固持件係配置在該清洗腔室中而相鄰於該可旋轉夾盤。
12. 如請求項11所述之組件，其中該可旋轉夾盤是一真空夾盤。
13. 如請求項11所述之組件，其中該基板固持件是耦接至一致動器，以使該基板固持件相對於該夾盤而移動。
14. 如請求項11所述之組件，其中該基板固持件包含一感測器系統，該感測器系統係可操作以偵測在該基板 固持件中之一基板的存在。
15. 如請求項11所述之組件，其中該基板固持件係安置在相鄰於該可旋轉夾盤的一下部部分，且該組件進一步包含一邊緣清潔器模組，該邊緣清潔器模組係安置在該清洗腔室中而相鄰於該可旋轉夾盤的一上部部分。
16. 一種用於清潔一基板之刷盒組件，該組件包含：一基部；至少一第一腔室主體，其係配置在該基部上，該腔室主體具有容置在其中的一清洗腔室；一可旋轉真空夾盤，該可旋轉真空夾盤係配置在該清洗腔室中；一基板固持件，該基板固持件係配置在該清洗腔室中而相鄰於該可旋轉夾盤，該基板固持件係可相對於該可旋轉夾盤而移動於一第一方向中，以及可相對於該可旋轉夾盤而移動於一第二方向中，該第一方向係實質正交於該第二方向；以及一邊緣清潔器模組，該邊緣清潔器模組安置在該清洗腔室中而相鄰於該可旋轉夾盤。
17. 如請求項16所述之組件，其中該基板固持件是耦接至一致動器，以使該基板固持件相對於該夾盤而移動。
18. 如請求項16所述之組件，其中該基板固持件包含一感測器系統，該感測器系統係可操作以偵測該基板固 持件中之一基板的存在。
19. 如請求項16所述之組件，其中該邊緣清潔器模組安置在相鄰於該可旋轉夾盤之一上部部分，且該基板固持件安置在相鄰於該可旋轉夾盤的一下部部分。
20. 如請求項16所述之組件，進一步包含：一第二腔室主體，其配置在該基部上，該第二腔室主體係與該第一腔室主體實質相同。
21. 如請求項16所述之組件，其中該可旋轉夾盤是一真空夾盤。
22. 如請求項16所述之組件，其中該基板固持件是耦接至一致動器，該致動器係可運作以使該基板固持件相對於該可旋轉夾盤而移動，且該基板固持件包含一感測器裝置，該感測器裝置係可操作以偵測該基板固持件中之一基板的存在。
23. 如請求項16所述之組件，其中該邊緣清潔器模組包含耦接至一控制器的兩個輥件，該控制器係可運作以使該等輥件相對於該夾盤而移動。
24. 如請求項23所述之組件，其中該控制器包含一線性致動器。
25. 如請求項23所述之組件，其中該控制器包含一第一線性致動器以使該等輥件移動於一第一方向中，以及一第二線性致動器以使該等輥件移動於一第二方向中，該第二方向係正交於該第一方向。