TW201308425A - 光罩淨化裝置及光罩淨化方法 - Google Patents
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Abstract
一種光罩淨化裝置，包含一個光罩單元，及一個膜壓控制單元。該光罩單元包括一個光罩、一個安裝在該光罩周圍的框架，及一個設置在該框架上的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔。該膜壓控制單元包括一個導氣管。而其光罩淨化方法則是交替進行排氣步驟與進氣步驟，利用該導氣管間歇擾動氣體，使氣流快速通過該透氣孔外側或該防護膜外側，令該光罩空間的壓力產生變化，並讓該光罩空間內的氣體排出且讓淨化氣體進入，故能有效達到提升光罩潔淨度與增進產品良率的功效。
Description
本發明是有關於一種光罩淨化裝置及光罩淨化方法，特別是指一種迫使位於光罩與防護膜間之光罩空間進氣與排氣，以淨化該光罩空間的光罩淨化裝置及光罩淨化方法。
在半導體裝置和液晶顯示裝置的積體電路(integrated circuits，ICs)製作過程中，常需藉由微影製程，將一個光罩上的圖案，經由曝光而轉移至一個感光材料層上，接著再繼續進行後續製程。然而一旦光罩圖案受到污染物例如顆粒、微塵或氣態分子污染物(Airborne Molecular Contaminants，AMCs)等的污染時，就會在曝光過程中，於晶圓上形成一個與原始電路設計不符的成像，造成晶片的瑕疵與缺陷，進而會降低晶片的生產良率，因此在進行光罩的運送、使用及保存時皆需注意淨化問題。
雖然多數業者會利用一個框架將一片防護膜(pellicle)罩蓋在該光罩的圖案面上，以期阻隔外界污染物，但是，為了平衡防護膜的內外壓力，其另須在該框架上設有透氣孔，如此一來，該防護膜僅能阻隔顆粒、微塵，至於外界的AMCs則仍可以經由透氣孔進入防護膜與光罩間，導致光罩之圖案面受到污染。所以目前業者大都會將上述光罩與防護膜存放在一個光罩盒中，並利用一個充排氣設備或過濾設備來淨化該光罩盒內的氣體，以避免AMCs進入而污染光罩。惟其並無法有效地消除防護膜與光罩間之微污染物，如氨氣(NH3)、硫化物(SO2)、水氣(H2O)…等，難以進一步提昇光罩潔淨度與產品良率。
因此，本發明之目的，即在提供一種能有效提升光罩潔淨度與產品良率的光罩淨化裝置及光罩淨化方法。
於是，本發明光罩淨化裝置，包含一個光罩單元，及一個膜壓控制單元。該光罩單元包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔，且該透氣孔具有一個靠近該光罩空間的內孔部，及一個遠離該光罩空間的外孔部。該膜壓控制單元包括一個設置在該框架外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該透氣孔之外孔部且能使氣流快速通過該外孔部外側的氣嘴。
本發明光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟，及一個進氣步驟。該排氣步驟是啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管朝一個光罩單元之一個透氣孔外側吹氣，使氣流快速通過該透氣孔外側，造成該透氣孔外側的壓力降低，讓位於該透氣孔內側之一個光罩空間內的氣體，因壓力差而相對由該透氣孔排出。該進氣步驟是關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止吹氣，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因壓力差進入該光罩空間內。上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
本發明光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟，及一個進氣步驟。該排氣步驟是啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管抽氣，使氣流快速通過一個光罩單元之一個透氣孔外側，造成該透氣孔外側的壓力降低，讓位於該透氣孔內側之一個光罩空間內的氣體，因壓力差而相對由該透氣孔排出。該進氣步驟是關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止抽氣，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓淨化氣體因壓力差進入該光罩空間內。上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
本發明光罩淨化裝置，包含一個光罩單元，及一個膜壓控制單元。該光罩單元包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔，且該防護膜為一可撓性薄膜，並具有一個靠近該光罩空間的內膜面，及一個遠離該光罩空間的外膜面。該膜壓控制單元包括一個設置在該防護膜外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該外膜面且能使氣流快速通過該外膜面外側的氣嘴。
本發明光罩淨化方法，包含下列步驟：一個進氣步驟，及一個排氣步驟。該進氣步驟是啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管朝一個光罩單元之一個防護膜外側吹氣，使氣流快速通過該防護膜外側，造成該防護膜外側的壓力降低，而令該防護膜往外拱凸，並使位於該防護膜內側之一光罩空間膨脹，導致該光罩單元之一個透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓淨化氣體因此壓力差而進入該光罩空間內。該排氣步驟是關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止吹氣，使得該防護膜外側的壓力回復，並使該防護膜回復原狀，此時由於該透氣孔內側之壓力高於該透氣孔外側的壓力，相對使得該光罩空間內的氣體因壓力差而由該透氣孔排出該光罩空間。上述該進氣步驟與該排氣步驟交替進行，讓淨化氣體進入該光罩單元之光罩空間，再使該光罩空間內的氣體排出，藉以循環淨化該光罩單元。
本發明光罩淨化方法，包含下列步驟：一個進氣步驟，及一個排氣步驟。該進氣步驟是啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管朝一個光罩單元之一個防護膜外側抽氣，使氣流快速通過該防護膜外側，造成該防護膜外側的壓力降低，而令該防護膜往外拱凸，導致該光罩單元之一個透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓淨化氣體因此壓力差進入一個光罩空間內。該排氣步驟是關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止抽氣，使得該防護膜外側的壓力回復，並使該防護膜回復原狀，此時由於該透氣孔內側之壓力高於該透氣孔外側的壓力，相對使得該光罩空間內的氣體因壓力差而由該透氣孔排出該光罩空間。上述該進氣步驟與該排氣步驟交替進行，讓淨化氣體進入該光罩單元之光罩空間，再使該光罩空間內的氣體排出，藉以循環淨化該光罩單元。
本發明光罩淨化裝置，包含一個光罩單元、一個加熱單元，及一個膜壓控制單元。該光罩單元包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔。該加熱單元用於改變該光罩單元之溫度。該膜壓控制單元包括一個設置在該框架外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該透氣孔且能使氣流快速通過該透氣孔外側的氣嘴。
本發明光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟，及一個進氣步驟。該排氣步驟是啟動一個膜壓控制單元，令一個導氣管朝一個光罩單元之一個透氣孔外側吹氣，使氣流快速通過該透氣孔外側，讓透氣孔外側的壓力降低，同時並啟動一個加熱單元對該光罩單元進行加熱，藉以擾動該光罩單元之一個光罩空間內的氣流，促使該光罩空間內的氣體排出該透氣孔外。該進氣步驟是關閉該膜壓控制單元及該加熱單元，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因壓力差由該透氣孔進入該光罩空間內。上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
本發明光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟，及一個進氣步驟。該排氣步驟是啟動一個膜壓控制單元，令一個導氣管朝一個光罩單元之一個透氣孔外側抽氣，使氣流快速通過該透氣孔外側，讓透氣孔外側的壓力降低，同時並啟動一個加熱單元對該光罩單元進行加熱，藉以擾動該光罩單元之一個光罩空間內的氣流，促使該光罩空間內的氣體排出該透氣孔外。該進氣步驟是關閉該膜壓控制單元及該加熱單元，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因壓力差由該透氣孔進入該光罩空間內。上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
本發明光罩淨化裝置，包含一個光罩單元、一個加熱單元，及一個膜壓控制單元。該光罩單元包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔。該加熱單元用於改變該光罩單元之溫度。該膜壓控制單元包括一個設置在該防護膜外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該防護膜且能使氣流快速通過該防護膜外側的氣嘴。
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本發明之功效在於：藉由該導氣管對該透氣孔外側或該防護膜外側間歇吹氣或抽氣，以應用白努力定律控制壓力變化，讓該光罩空間內的氣體排出並讓淨化氣體進入，故能達到有效提升光罩潔淨度與增進產品良率的功效。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之八個較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。
在本發明被詳細描述之前，要注意的是，在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。
參閱圖1與圖2，本發明光罩淨化裝置之第一較佳實施例，包含一個密封單元1、一個光罩單元2，及一個膜壓控制單元3。
該密封單元1包括一個界定出一個存放空間11的腔體12，該腔體12具有一個供淨化氣體進入該存放空間11的進氣孔121，及一個供該存放空間11內之氣體排出的排氣孔122。本實施例之腔體12可以是一個光罩儲存盒(Mask Package)或是一個光罩傳送盒(Reticle SMIF Pod，RSP)，能供該光罩單元2存放其中，用以隔離外界環境污染，俾利於儲存或運送。當然，該密封單元1還可以包括一個連接該進氣孔121的充氣器(圖未示)，能適時適量地充灌氮氣(N2)、乾淨乾燥空氣(CDA)、極度乾淨乾燥空氣(XCDA)或惰性氣體…等淨化氣體，以維持該存放空間11的正壓狀態與高潔淨度，此外，該密封單元1亦可以再包括一個連接該排氣孔122的抽氣器(圖未示)，用以抽出該存放空間11內的氣體，可搭配該充氣器維持該存放空間11內之氣體循環。亦即該密封單元1可讓該光罩單元2保存在淨化環境中，以確保潔淨度，惟其構造並非本發明之重點，實施上只要讓該光罩單元2處於充滿淨化氣體之淨化環境中即可，所以亦可視使用情況省略該密封單元1的設置，在此不再詳細說明。
該光罩單元2包括一個具有一個圖案面211的光罩21、一個圍繞安裝在該光罩21之圖案面211周圍的框架22，及一片設置在該框架22遠離該光罩21之一側且對應覆蓋該圖案面211的防護膜23。該光罩21、該框架22及該防護膜23共同界定出一個光罩空間24。該框架22具有數個彼此相鄰且分別連通該光罩空間24的透氣孔221，所述透氣孔221可用於平衡該光罩空間24與其外側空間之間的壓差，在本實施例中是用於平衡該光罩空間24與該存放空間11間之壓差，每一透氣孔221具有一個靠近該光罩空間24的內孔部222，及一個遠離該光罩空間24的外孔部223，在實施上透氣孔221之數量亦可以增減，例如僅設置一個，不以本實施例為限。該防護膜23為一片可撓性薄膜。此外，由於該光罩單元2的結構與功能，為一般現有的技術，所以在此不再詳細說明。
該膜壓控制單元3包括一個設置在該框架22外側的導氣管31，及一個可控制該導氣管31重複開啟與關閉的控制器32。該導氣管31具有一個鄰近所述透氣孔221之外孔部223且能吹氣通過該外孔部223外側的氣嘴311。本實施例之導氣管31可連接上述光罩單元2之充氣器(圖未示)，能夠將氮氣(N2)、乾淨乾燥空氣(CDA)或惰性氣體…等淨化氣體，噴出該氣嘴311外，當然也可以連接至另一個獨立的N2/CDA氣體淨化單元(圖未示)，不以本實施例為限。至於該控制器32控制該導氣管31之開啟，關閉、出氣量及流速等作動原理則為一般設計，並非本發明重點，所以在此不再詳細說明。
如圖1與圖3所示，本發明之光罩淨化方法的第一較佳實施例，將該光罩單元2放置在該密封單元1內，並利用該膜壓控制單元3來淨化該光罩單元2。而該光罩淨化方法包含下列步驟：一個排氣步驟41，及一個進氣步驟42。
如圖3、圖4及圖5所示，該排氣步驟41是啟動該控制器32，驅動該導氣管31朝該光罩單元2之透氣孔221外側吹氣，使氣流快速通過所述透氣孔221之外孔部223外側，而依據白努力定律，氣體速度越快壓力越低，造成外孔部223的壓力相對低於內孔部222，而兩者間之相對壓力差，將會吸引該光罩空間24內的氣體由所述透氣孔221向外排出，使得該防護膜23呈中央逐漸向內往該光罩21方向弧凹的曲面狀。
如圖1、圖2與圖3所示，該進氣步驟42是關閉該控制器32，令該導氣管31停止吹氣，讓透氣孔221外側之壓力恢復正常，而由於該光罩空間24內的部分氣體已向外排出，所以其壓力低於存放空間11，此時透氣孔221之內孔部222壓力低於外孔部223，兩者間之相對壓力差，會讓位於透氣孔221外之存放空間11內的淨化氣體，經所述透氣孔221進入該光罩空間24，使得該防護膜23逐漸回復成平面狀。
上述該排氣步驟41與該進氣步驟42交替進行，令該光罩單元2之光罩空間24內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間24內，藉以快速、有效地循環換氣並去除微污染物如氨氣(NH3)、硫化物(SO2)、水氣(H2O)…等，使該光罩單元2能維持高潔淨度。
如圖6所示，為本發明之光罩淨化裝置的第二較佳實施例，本實施例與第一較佳實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3的作動方式不同，亦即其導氣管31可被控制而令氣嘴311抽氣，本實施例之導氣管31可連接上述光罩單元2之抽氣器(圖未示)，將該存放空間11(見圖1)內之氣體吸入該氣嘴311內，同樣能讓氣體快速通過所述透氣孔221外側，造成所述透氣孔221外側壓力降低，故在重複地抽氣與停止的控制作動下，可用以控制該光罩空間24之壓力變化，達到氣體循環淨化該光罩空間24的目的。
如圖7所示，為本發明之光罩淨化裝置的第三較佳實施例，本實施例與第一較佳實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3的裝設位置不同。須先說明的是，該光罩單元2之防護膜23具有一個靠近該光罩空間24的內膜面231，及一個遠離該光罩空間24的外膜面232。而該膜壓控制單元3之導氣管31則是設置在鄰近於該防護膜23外側，且其導氣管31之氣嘴311同樣能吹氣通過該防護膜23外膜面232外側。
如圖3所示，本發明光罩淨化方法，同樣包含一個進氣步驟42與一個排氣步驟41，本實施例與第一實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3(見圖7)的施行對象稍有改變。
如圖3與圖8所示，該進氣步驟42是啟動該膜壓控制單元3，令該導氣管31朝該光罩單元2之防護膜23外側吹氣，氣流會快速通過該外膜面232外側，造成該防護膜23外側的壓力降低，而吸引該防護膜23往外拱凸，同時使得該光罩空間24體積膨脹，導致透氣孔221內側之壓力低於透氣孔221外側的壓力，兩者間之相對壓力差，會讓存放空間11內的淨化氣體，經所述透氣孔221進入該光罩空間24。
如圖3與圖7所示，接著，該排氣步驟41是關閉該膜壓控制單元3，令該導氣管31停止吹氣，使得該防護膜23外側的壓力回復，並使該防護膜23回復原狀，進而導致該光罩空間24的氣體壓力上升，此時由於透氣孔221內側之壓力高於透氣孔221外側的壓力，兩者間之相對壓力差，將使得該光罩空間24內的氣體由所述透氣孔221排出。
上述該進氣步驟42與該排氣步驟41同樣會交替進行，讓淨化氣體進入該光罩單元2之光罩空間24，再使該光罩空間24內的氣體排出，藉以循環淨化該光罩單元2，能有效去除該光罩空間24內的微污染物。
如圖9所示，為本發明之光罩淨化裝置的第四較佳實施例，本實施例與第三較佳實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3的作動方式不同，亦即其導氣管31可被控制抽氣，用以抽吸該存放空間11內之氣體，同樣能讓氣體快速通過該防護膜23外側，導致透氣孔221內側之壓力低於透氣孔221外側的壓力，故在重複地抽氣與停止的控制作動下，可用以控制該光罩空間24之壓力變化，達到氣體循環淨化該光罩空間24的目的。
如圖10所示，本發明之光罩淨化裝置的第五較佳實施例，與第一較佳實施例之區別在於：該光罩淨化裝置還包含一個用於加熱該光罩單元2的加熱單元5，本實施例之加熱單元5包括一片電熱板51，是設置在鄰近於該防護膜23且遠離該光罩21之一側，當然在實施上，電熱板51可以置換成一支紅外線燈管(圖未示)，也可以由多片電熱板51或多支紅外線燈管彼此並聯而成，使用時可以控制所有電熱板51或紅外線燈管一起作動，對該光罩單元2進行全區式加熱，也可以控制部分電熱板51或紅外線燈管輪替作動，以對該光罩單元2進行分區式加熱，藉以強化該光罩空間24中的氣體擾動程度，增進清除污染物的效果。當然該加熱單元5之設置位置亦可以改變，不以本實施例為限。
如圖3、圖11與圖12所示，本發明之光罩淨化方法的第五較佳實施例，是利用該加熱單元5搭配該膜壓控制單元3，來進行該排氣步驟41與該進氣步驟42。
該排氣步驟41是啟動該膜壓控制單元3，令導氣管31朝該光罩單元2之透氣孔221外側吹氣，使氣流快速通過透氣孔221外側，讓透氣孔221外側的壓力降低，同時並啟動該加熱單元5對該光罩單元2進行加熱，藉以擾動該光罩空間24內的氣流，促使該光罩空間24內的氣體快速排出透氣孔221外，此時該防護膜23會往內凹入。
如圖3與圖10所示，該進氣步驟42是關閉該膜壓控制單元3及該加熱單元5，此時透氣孔221之內側壓力低於外側壓力，而讓存放空間11內的淨化氣體，經所述透氣孔221進入該光罩空間24，該防護膜23即會逐漸回復正常。
上述該排氣步驟41與該進氣步驟42同樣會交替進行，讓淨化氣體進入該光罩單元2之光罩空間24，再使該光罩空間24內的氣體排出，藉以循環淨化該光罩單元2，能有效去除該光罩空間24內的微污染物。
如圖13所示，為本發明之光罩淨化裝置的第六較佳實施例，本實施例與第五較佳實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3的作動方式不同，亦即其導氣管31可被控制抽氣，用以抽吸該存放空間11內之氣體，同樣能讓氣體快速通過透氣孔221外側，導致透氣孔221外側之壓力低於透氣孔221內側，故在重複地抽氣與停止的控制作動下，可用以控制該光罩空間24之壓力變化，達到氣體循環淨化該光罩空間24的目的。
如圖14所示，為本發明之光罩淨化裝置的第七較佳實施例，本實施例與第五較佳實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3的裝設位置不同，其導氣管31是設置在鄰近於該防護膜23外側。而本發明之光罩淨化方法的第七較佳實施例，同樣是利用該加熱單元5搭配該膜壓控制單元3，來進行該排氣步驟41與該進氣步驟42(見圖3)。
如圖3與圖15所示，該進氣步驟41是啟動該膜壓控制單元3，令該導氣管31朝該防護膜23外側吹氣，使氣流快速通過該防護膜23外側，造成該防護膜23外側的壓力降低，令該防護膜23往外拱凸，而使透氣孔221內側之壓力低於外側的壓力，將導致存放空間11內的淨化氣體，因此壓力差而進入該光罩空間24內。
如圖3與圖14所示，該排氣步驟42是關閉該膜壓控制單元3，使得該防護膜23外側的壓力回復，讓該防護膜23回復原狀，同時並啟動該加熱單元5對該光罩單元2進行加熱，藉以擾動該光罩空間24內的氣流，促使該光罩空間24內的氣體排出透氣孔221外。
上述該進氣步驟41與該排氣步驟42交替進行，使該光罩空間24內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間24內，藉以循環淨化該光罩單元2。
如圖16所示，為本發明之光罩淨化裝置的第八較佳實施例，本實施例與第七較佳實施例不同之處在於：該膜壓控制單元3的作動方式不同，亦即其導氣管31可被控制抽氣，同樣能讓氣體快速通過該防護膜23外側，導致透氣孔221內側之壓力低於外側的壓力，故在重複地抽氣與停止的控制作動下，可用以控制該光罩空間24之壓力變化，達到氣體循環淨化該光罩空間24的目的。
綜上所述，本發明應用白努力定律，在該光罩單元2外側設置該膜壓控制單元3，利用該導氣管31對透氣孔221外側或防護膜23外側間歇吹氣或抽氣，藉以控制氣體壓力的升降，使得該光罩空間24交替循環地進行排氣與吸氣，可以有效地更換該光罩空間24的氣體，排除該光罩空間24中的污染物，能防止該光罩21之圖案面211受到污染，能確保該光罩單元2維持高潔淨度，並增進晶片生產良率，當然本發明還可以額外增設該加熱單元5，用以搭配該膜壓控制單元3作動，增加氣體循環的效率，以達到更佳的潔淨效果，故確實能達成本發明之目的。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
1．．．密封單元
11．．．存放空間
12．．．腔體
121．．．進氣孔
122．．．排氣孔
2．．．光罩單元
21．．．光罩
211．．．圖案面
22．．．框架
221．．．透氣孔
222．．．內孔部
223．．．外孔部
23．．．防護膜
231．．．內膜面
232．．．外膜面
24．．．光罩空間
3．．．膜壓控制單元
31．．．導氣管
311．．．氣嘴
32．．．控制器
41．．．排氣步驟
42．．．進氣步驟
5．．．加熱單元
51．．．電熱板
圖1是本發明光罩淨化裝置的一第一較佳實施例的一側視剖視示意圖；
圖2是該第一較佳實施例的一部份仰視示意圖，說明一膜壓控制單元與一光罩單元間之相對關係；
圖3是本發明應用該第一較佳實施例所施行之光罩淨化方法的一方塊流程圖；
圖4是類似於圖2的一視圖，說明該膜壓控制單元的使用狀態；
圖5是類似於圖1的一視圖，說明該膜壓控制單元的使用狀態；
圖6是本發明光罩淨化裝置的一第二較佳實施例的一部份仰視示意圖；
圖7是本發明光罩淨化裝置的一第三較佳實施例的一側視剖視示意圖；
圖8是類似於圖7的一視圖，說明一膜壓控制單元的使用狀態；
圖9是本發明光罩淨化裝置的一第四較佳實施例的一側視剖視示意圖；
圖10是本發明光罩淨化裝置的一第五較佳實施例的一側視剖視示意圖；
圖11是該第五較佳實施例的一正視剖視示意圖，說明一膜壓控制單元的使用狀態；
圖12是類似於圖10的一視圖，說明該膜壓控制單元的使用狀態；
圖13是本發明光罩淨化裝置的一第六較佳實施例的一正視剖視示意圖，說明一膜壓控制單元的使用狀態；
圖14是本發明光罩淨化裝置的一第七較佳實施例的一側視剖視示意圖說明一加熱單元的使用狀態；
圖15是類似於圖14的一視圖，說明一膜壓控制單元的使用狀態；及
圖16是本發明光罩淨化裝置的一第八較佳實施例的一側視剖視示意圖。
1．．．密封單元
11．．．存放空間
12．．．腔體
121．．．進氣孔
122．．．排氣孔
2．．．光罩單元
21．．．光罩
211．．．圖案面
22．．．框架
221．．．透氣孔
222．．．內孔部
223．．．外孔部
23．．．防護膜
24．．．光罩空間
3．．．膜壓控制單元
31．．．導氣管
Claims (19)
- 一種光罩淨化裝置，包含：一個光罩單元，包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔，且該透氣孔具有一個靠近該光罩空間的內孔部，及一個遠離該光罩空間的外孔部；及一個膜壓控制單元，包括一個設置在該框架外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該透氣孔之外孔部且能使氣流快速通過該外孔部外側的氣嘴。
- 依據申請專利範圍第1項所述之光罩淨化裝置，其中，該膜壓控制單元還包括一個可控制該導氣管重複開啟與關閉的控制器。
- 根據申請專利範圍第1項所述的光罩淨化裝置，還包含一個密封單元，該密封單元包括一個中空且用於容納該光罩單元與該膜壓控制單元的腔體，該腔體具有一個供淨化氣體進入的進氣孔，及一個供氣體排出的排氣孔。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管朝一個光罩單元之一個透氣孔外側吹氣，使氣流快速通過該透氣孔外側，造成該透氣孔外側的壓力降低，讓位於該透氣孔內側之一個光罩空間內的氣體，因壓力差而相對由該透氣孔排出；及一個進氣步驟：關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止吹氣，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因壓力差進入該光罩空間內；上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管抽氣，使氣流快速通過一個光罩單元之一個透氣孔外側，造成該透氣孔外側的壓力降低，讓位於該透氣孔內側之一個光罩空間內的氣體，因壓力差而相對由該透氣孔排出；及一個進氣步驟：關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止抽氣，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓淨化氣體因壓力差進入該光罩空間內；上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化裝置，包含：一個光罩單元，包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔，且該防護膜為一可撓性薄膜，並具有一個靠近該光罩空間的內膜面，及一個遠離該光罩空間的外膜面；及一個膜壓控制單元，包括一個設置在該防護膜外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該外膜面且能使氣流快速通過該外膜面外側的氣嘴。
- 根據申請專利範圍第6項所述的光罩淨化裝置，還包含一個密封單元，該密封單元包括一個中空且用於容納該光罩單元與該膜壓控制單元的腔體，該腔體具有一個供淨化氣體進入的進氣孔，及一個供氣體排出的排氣孔。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個進氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管朝一個光罩單元之一個防護膜外側吹氣，使氣流快速通過該防護膜外側，造成該防護膜外側的壓力降低，而令該防護膜往外拱凸，並使位於該防護膜內側之一光罩空間膨脹，導致該光罩單元之一個透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓淨化氣體因此壓力差而進入該光罩空間內；及一個排氣步驟：關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止吹氣，使得該防護膜外側的壓力回復，並使該防護膜回復原狀，此時由於該透氣孔內側之壓力高於該透氣孔外側的壓力，相對使得該光罩空間內的氣體因壓力差而由該透氣孔排出該光罩空間；上述該進氣步驟與該排氣步驟交替進行，讓淨化氣體進入該光罩單元之光罩空間，再使該光罩空間內的氣體排出，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個進氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，驅動一個導氣管朝一個光罩單元之一個防護膜外側抽氣，使氣流快速通過該防護膜外側，造成該防護膜外側的壓力降低，而令該防護膜往外拱凸，導致該光罩單元之一個透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓淨化氣體因此壓力差進入一個光罩空間內；及一個排氣步驟：關閉該膜壓控制單元，令該導氣管停止抽氣，使得該防護膜外側的壓力回復，並使該防護膜回復原狀，此時由於該透氣孔內側之壓力高於該透氣孔外側的壓力，相對使得該光罩空間內的氣體因壓力差而由該透氣孔排出該光罩空間；上述該進氣步驟與該排氣步驟交替進行，讓淨化氣體進入該光罩單元之光罩空間，再使該光罩空間內的氣體排出，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化裝置，包含：一個光罩單元，包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔；一個加熱單元，用於改變該光罩單元之溫度；及一個膜壓控制單元，包括一個設置在該框架外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該透氣孔且能使氣流快速通過該透氣孔外側的氣嘴。
- 依據申請專利範圍第10項所述之光罩淨化裝置，其中，該加熱單元包括至少一片對該光罩單元進行加熱的電熱板。
- 依據申請專利範圍第10項所述之光罩淨化裝置，其中，該加熱單元包括至少一支對該光罩單元進行加熱的紅外線燈管。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，令一個導氣管朝一個光罩單元之一個透氣孔外側吹氣，使氣流快速通過該透氣孔外側，讓透氣孔外側的壓力降低，同時並啟動一個加熱單元對該光罩單元進行加熱，藉以擾動該光罩單元之一個光罩空間內的氣流，促使該光罩空間內的氣體排出該透氣孔外；及一個進氣步驟：關閉該膜壓控制單元及該加熱單元，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因壓力差由該透氣孔進入該光罩空間內；上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個排氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，令一個導氣管朝一個光罩單元之一個透氣孔外側抽氣，使氣流快速通過該透氣孔外側，讓透氣孔外側的壓力降低，同時並啟動一個加熱單元對該光罩單元進行加熱，藉以擾動該光罩單元之一個光罩空間內的氣流，促使該光罩空間內的氣體排出該透氣孔外；及一個進氣步驟：關閉該膜壓控制單元及該加熱單元，此時該透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因壓力差由該透氣孔進入該光罩空間內；上述該排氣步驟與該進氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化裝置，包含：一個光罩單元，包括一個具有一個圖案面的光罩、一個圍繞安裝在該光罩之圖案面周圍的框架，及一片設置在該框架遠離該光罩之一側且對應覆蓋該圖案面的防護膜，該光罩、該框架及該防護膜共同界定出一個光罩空間，該框架具有一個連通該光罩空間的透氣孔；一個加熱單元，用於改變該光罩單元之溫度；及一個膜壓控制單元，包括一個設置在該防護膜外側的導氣管，該導氣管具有一個鄰近該防護膜且能使氣流快速通過該防護膜外側的氣嘴。
- 依據申請專利範圍第15項所述之光罩淨化裝置，其中，該加熱單元包括至少一片對該光罩單元進行加熱的電熱板。
- 依據申請專利範圍第15項所述之光罩淨化裝置，其中，該加熱單元包括至少一支對該光罩單元進行加熱的紅外線燈管。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個進氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，令一個導氣管朝一個光罩單元之一個防護膜外側吹氣，使氣流快速通過該防護膜外側，造成該防護膜外側的壓力降低，令該防護膜往外拱凸，此時該光罩單元之一個透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因此壓力差進入該光罩單元之一個光罩空間內；及一個排氣步驟：關閉該膜壓控制單元，使得該防護膜外側的壓力回復，而讓該防護膜回復原狀，同時並啟動一個加熱單元對該光罩單元進行加熱，藉以擾動該光罩空間內的氣流，促使該光罩空間內的氣體排出該透氣孔外；上述該進氣步驟與該排氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
- 一種光罩淨化方法，包含下列步驟：一個進氣步驟：啟動一個膜壓控制單元，令一個導氣管朝一個光罩單元之一個防護膜外側抽氣，使氣流快速通過該防護膜外側，造成該防護膜外側的壓力降低，令該防護膜往外拱凸，此時該光罩單元之一個透氣孔內側之壓力低於該透氣孔外側的壓力，而讓一淨化氣體因此壓力差進入該光罩單元之一個光罩空間內；及一個排氣步驟：關閉該膜壓控制單元，使得該防護膜外側的壓力回復，而讓該防護膜回復原狀，同時並啟動一個加熱單元對該光罩單元進行加熱，藉以擾動該光罩空間內的氣流，促使該光罩空間內的氣體排出該透氣孔外；上述該進氣步驟與該排氣步驟交替進行，使該光罩單元之光罩空間內的氣體排出，再讓淨化氣體進入該光罩空間內，藉以循環淨化該光罩單元。
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