TW201227007A - Light-diffusing polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents

Description

201227007 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光擴散性偏光板（light_diffuSing polarizing plate)及使用其之液晶顯示裝置。 【先前技術】 近年來，液晶顯示裝置於行動電話、電腦用螢幕、電 視、液晶投影儀等中之用途擴展急速發展。通常，液晶顯 示裝置係包括背光裝置、與包含液晶單元、配置於該液晶 單元之背光側之背面側偏光板及配置於該液晶單元之視認 側之前面側偏光板的液晶面板而構成。 先前’指出於液晶顯示裝置中存在如下問題：於自斜視 方向觀察顯示畫面之情形時無法獲得高對比度，進而，由 於圖像之明暗發生反轉之灰階反轉現象（gradati〇n inversion phenomenon)等，而無法獲得良好之顯示特性 荨’即視野角狹窄。 作為用以解決該視野角特性之問題之方法，先前已知有 對前面側偏光板賦予光擴散功能之技術。例如於日本專利 特開2009-301014號公報（專利文獻1)及曰本專利特開2〇1 〇_ 160527號公報（專利文獻2)中’揭示有於液晶單元之前面側 配置具有相對較高之光擴散性之偏光板（專利文獻1及2中 表示為「第2光擴散層」）^該第2光擴散層例如包含偏光 板、與設置於該偏光板之前面側且含有相對較多量之填料 (filler)(光擴散劑）的被賦予光擴散功能之樹脂層（光擴散 層）〇 159068.doc 201227007 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]曰本專利特開2009-301014號公報 [專利文獻2]曰本專利特開2010-160527號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 另一方面’為進一步改善液晶顯示裝置之視認性，有時 於液晶顯示裝置之最表面、即前面側偏光板之最表面實施 用以防止或減少外光映入顯示面之防眩（anti-glare)處理、 或用以防止或減少入射至顯示面之外光之反射的抗反射處 理等光學處理。 然而’如上述專利文獻1中記載之前面側偏光板所包含 之光擴散層般含有相對較多量之填料之光擴散層形成極大 之突起’於以依據JIS B 0601之中心線平均粗糙度Ra表示 時，其表面粗糙度有時成為〇·1 μηι以上◊於此情形時，有 時難以於該光擴散層之表面直接實施如上所述之光學處 理’或者即使本身可直接實施光學處理，亦無法良好地呈 現防眩功能或抗反射功能等特定之功能。 又’亦考慮藉由使用黏著劑將於成為基材之樹脂膜之表 面實施光學處理之表面處理膜貼合於光擴散層上，而賦予 防眩功能或抗反射功能等特定之功能，但於如上述般光擴 散層之表面粗糙度為〇. 1 μιη以上之情形時，於貼合時氣泡 混入至光擴散層之表面凹凸中’於應用於液晶顯示裝置 時，有於顯示晝面中產生點狀之失色而視認性下降之情 159068.doc 201227007 形。 因此，本發明之目的在於提供一種光擴散性偏光板及使 用其之液晶顯示裝置，該光擴散性偏光板係經由黏著劑層 而於光擴散膜之光擴散層上積層顯示防眩功能或抗反射功 . 能等之表面處理膜者，且即使於光擴散層之表面粗糙度較 • 大為〇.1 μπι以上之情形時，亦抑制氣泡混入至光擴散層之 表面凹凸中，結果難以產生失色而視認性良好。 [解決問題之技術手段] ^ 本發明提供如下之光擴散性偏光板，其包含偏光膜、積 層於該偏光膜上之光擴散膜、及積層於該光擴散膜上之表 面處理膜，且光擴散膜包含表面之中心線平均粗糙度Ra為 0.1 μπι以上且未連丨μηι之光擴散層’表面處理膜為於一方 之表面實施有光學處理之透明樹脂膜，光擴散膜之光擴散 層與表面處理膜經由25°C下之儲存彈性模數（st〇rage elastic modulus)未達ιοΜοβ pa之黏著劑層而相互貼合。 黏著劑層之於25t下之儲存彈性模數較佳為i 〇χ丨〇5 pa以 上。 於本發明之光擴散性偏光板中，較佳為光擴散層、與表 • 面處理膜之與實施有光學處理之面為相反側之面經由上述 . 黏著劑層而相互貼合。 表面處理膜例如可為於透明樹脂膜之一方之表面實施防 眩處理之防眩膜、或於透明樹脂膜之一方之表面實施抗反 射處理之抗反射膜。 光擴散膜較佳為包含透明基材膜、與積層於該透明基材 159068.doc 201227007 膜上之光擴散層’且上述光擴散層係包含透光性樹脂、與 分散於上述透光性樹脂中之透光性微粒子者。該光擴散膜 之光擴散層可藉由將分散有透光性微粒子之樹脂液塗佈於 透明基材膜上而形成。x ’光擴散層亦可藉由將分散有透 光性微粒子之樹脂液塗佈於透明基材膜上後，於包含該樹 脂液之層之表面轉印模具之鏡面或凹凸面而形成。 又，本發明提供一種依序積層有背光裝置、光擴散機 構、月光側偏光板、液晶單元、及上述光擴散性偏光板之 液晶顯示裝置。於本發明之液晶顯示裝置中，光擴散性偏 光板係以其偏光膜側與液晶單元相對向之方式進行配置。 於本發明之液晶顯示裝置中，較佳為自光擴散機構之出 射光具有自液晶單元之光入射面之法線方向傾斜7〇。之方 向的π度相對於該法線方向之亮度為2〇%以下之配光特 性’且包含非平行光。 光擴散機構可為包含位於背光裝置侧之光擴散板、及相 對於光擴散板位於與上述背光裝置為相反側之光偏向板 者作為液晶單元’可使用TN(Twisted Nematic，扭轉向 列）方式液晶單元、IPS(In_piane Switching，共平面切換） 方式液aa單元或VA(Vertical Alignment，垂直配向）方式液 晶單元等。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種光擴散性偏光板及使用其之液 晶顯不裝置，該光擴散性偏光板係經由黏著劑層而於光擴 散膜之光擴散層上積層表面處理膜者，且抑制氣泡混入至 159068.doc 201227007 光擴散層之表面凹凸中，結果難以產生失色而視認性良 好。 【實施方式】 <光擴散性偏光板> 圖1係表示本發明之光擴散性偏光板之較佳例的概略剖 面圖。本發明之圖丨所示之光擴散性偏光板10〇包含偏光膜 101、積層於偏光膜101上之光擴散膜102、及積層於光擴 散膜102上之表面處理膜103。光擴散膜1〇2包含光擴散層 106。表面處理膜1〇3包含於一方之表面實施有光學處理 (具體為賦予表面處理層108)之透明樹脂膜1〇7。光擴散膜 102之光擴散層1 〇6與表面處理膜1 〇3係經由黏著劑層1 〇4而 相互貼合。 於圖1所示之光擴散性偏光板1 〇〇中，光擴散膜i 02包含 透明基材膜105、與積層於透明基材膜1〇5上之光擴散層 106，且光擴散層1〇6包含於透光性樹脂1〇6b中分散有透光 性微粒子l〇6a之樹脂層。光擴散膜1〇2係以其透明基材膜 105側與偏光膜1〇1相對向之方式積層於偏光膜1〇1上。於 光擴散膜102中，光擴散層1〇6之表面之依據JIS B 〇6〇1之 中心線平均粗糙度Ra為H μηι以上且未達1 μπι〇 表面處理膜103包含透明樹脂膜1 〇7、與積層於透明樹脂 膜107之一方之表面之表面處理層1〇8。表面處理膜1〇3係 經由黏著劑層104而以其透明樹脂膜1〇7之與表面處理層 108為相反側之面（表面處理膜ι〇3之未實施光學處理之面） 貼合於光擴散膜102之光擴散層1〇6上。 159068.doc 201227007 再者’保護膜109係用以保護偏光膜ιοί之另一方之表面 之膜’並不一定需要，故可省略。又，亦可貼合相位差膜 (相位差板）等光學補償膜（〇ptical Compensation Film)等代 替保護膜109。 根據具有上述構成之本發明之光擴散性偏光板，由於光 擴散膜102之光擴散層丨〇6、與於透明樹脂膜1〇7上形成表 面處理層108而成之表面處理膜1〇3係經由25。(：下之儲存彈 性模數相對較小為未達i.OxiO6 Pa之黏著劑層1〇4而貼合， 故即使於光擴散層106之表面之中心線平均粗糙度Ra為0>1 μηι以上之情形時’亦可抑制氣泡混入至光擴散層ι〇6之表 面凹凸與黏著劑層104之間，結果於應用於液晶顯示裝置 時’難以產生點狀之失色而可獲得良好之視認性。又，由 於光擴散層106與表面處理膜1〇3可密接性良好地接合，故 可提高光擴散性偏光板之耐久性。 進而’利用黏著劑層之表面處理膜103之貼合可確實地 並且一面完全排除由光擴散層106之表面形狀引起之對表 面處理層108之結構、形狀之影響，一面將具有所需之光 學功能之表面處理膜103積層於光擴散層1〇6上。因此，本 發明之光擴散性偏光板成為良好地顯示光擴散功能、及由 表面處理層108獲得之特定之光學功能者。 以下’對本發明之光擴散性偏光板進行更加詳細之說 明。 (偏光膜） 作為偏光膜101，例如可列舉使二色性染料（dichr〇ic 159068.doc 201227007 dye)或碘吸附配向於包含聚乙烯醇系樹脂、聚乙酸乙稀酯 樹脂、乙烯/乙酸乙烯酯（EVA)樹脂、聚醯胺樹脂、聚g旨系 樹脂等之膜中而成者、或於分子配向之聚乙烯醇膜中含有 ^^乙稀醇之 一·色性脫水產物（dichroic dehydration product) (聚伸乙烯）配向而成之分子鏈的聚乙烯醇/聚伸乙稀共聚物 等。尤其是’使二色性染料或碘吸附配向於單軸延伸 (uniaxial drawing)之聚乙烯醇系樹脂膜中而成者可較佳地 用作偏光膜。偏光膜101之厚度並無特別限制，就光擴散 性偏光板之薄型化等之觀點而言’較佳為10 〇 以下，更 佳為10~5 0 μηι，進而較佳為25~3 5 μηι。 (光擴散膜） 如圖1所示般，本發明中使用之光擴散膜較佳為包含透 明基材膜105、與積層於透明基材膜105上之光擴散層ι〇6 者。又，光擴散層106較佳為包含於透光性樹脂1〇讣中分 散有透光性微粒子（光擴散劑）l〇6a之樹脂層者。 作為透明基材膜105 ’只要光學上透明，便無特別限 制’例如可使用玻璃或塑膠膜等。作為塑膠膜，較佳為具 有適度之透明性、及機械強度者，具體可列舉：TAC(二乙 酿纖維素）等乙酸纖維素系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚碳酸 酯樹脂、及聚對苯二曱酸乙二酯等聚酯系樹脂等。透明基 材膜105之厚度例如為1〇〜5〇〇 μΓη，較佳為2〇〜3〇〇 μιη。 光擴散層106係將透光性樹脂i〇6b作為基材之層，且係 於透光性樹脂l〇6b中分散透光性微粒子1〇6a而成。作為透 光性樹脂106b，只要為具有透光性者，便無特別限制，例 159068.doc 201227007 如可使用：紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等電離 放射線硬化型樹脂之硬化物；熱硬化型樹脂之硬化物；熱 塑性樹脂；以及金屬烷氧化物之硬化物等。其中，就可賦 予較高之硬度及财擦傷性之方面而言，較佳為電離放射線 硬化型樹脂之硬化物。於使用電離放射線硬化型樹脂之情 形時，藉由照射電離放射線使該樹脂硬化而形成透光性樹 脂106b。於使用熱硬化型樹脂或金屬烷氧化物之情形時， 藉由進行加熱使該樹脂硬化而形成透光性樹脂丨06b。 作為電離放射線硬化型樹脂，可列舉：多元醇之丙稀酸 或曱基丙烯酸酯之類的多官能性之丙烯酸酯、由二異氰酸 酯與多元醇及丙烯酸或曱基丙烯酸之羥基酯等合成之多官 能之丙烯酸胺基曱酸酯等。又，除該等以外，作為電離放 射線硬化型樹脂，亦可使用：具有丙烯酸酯系之官能基之 聚醚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹 脂、聚丁二烯樹脂、及多硫醇多烯樹脂等。 作為熱硬化型樹脂，除包含丙稀酸多元醇與異氰酸酯預 聚物之熱硬化型胺基甲酸酯樹脂以外，可列舉：酚樹脂、 脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、及聚矽氧 樹脂。 作為熱塑性樹脂，可列舉：乙醯纖維素、硝化纖維素、 乙醯丁基纖維素、乙基纖維素、&曱基纖維素等纖維素衍 生物，乙酸乙烯酯及其共聚物、氣乙烯及其共聚物、以及 偏二氣乙烯及其共聚物等乙烯系樹脂，聚乙烯縮曱醛、及 聚乙烯縮丁醛等縮醛系樹脂，丙烯酸系樹脂及其共聚物、 159068.doc 201227007 以及甲基丙烯酸系樹脂及其共聚物等丙烯酸系樹脂，聚苯 乙烯系樹月曰，聚醯胺系樹脂，聚酯系樹脂，聚碳酸酯系樹 脂等。 作為金屬烷氧化物，可使用以矽烷氧化物系材料作為原 料之氧化矽系基質等。具體而言為四甲氧基矽烷、及四乙 氧基矽烷等，可藉由水解或脫水縮合製成無機系或有機無 機複合系基質（透光性樹脂）。 又，作為透光性微粒子1 〇6a，可使用包含具有透光性之 有機微粒子或無機微粒子之光擴散劑。例如可列舉包含丙 烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯、聚苯乙烯、有機聚 矽氧樹脂、及丙烯酸-苯乙烯共聚物等之有機微粒子，或 包含碳酸鈣、二氧化矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸鋇、氧化 鈦、及玻璃等之無機微粒子等。又，亦可使用有機聚合物 之氣球（balloon)或玻璃中空珠（bead)。透光性微粒子〗〇6a 可包含1種微粒子，亦可含有2種以上微粒子。透光性微粒 子l〇6a之形狀可為球狀、扁平狀、板狀、針狀、及不定形 狀等中任一者，較佳為球狀或略球狀。 透光性微粒子！ 06a之重量平均粒徑（weight averse diameter)較佳為〇·5〜15 μιη，更佳為4〜8 μιη。若透光性微 粒子106a之重量平均粒徑未達〇.5 μπι，則光擴散膜ι〇2之 光擴散性變得不充分，結果於將光擴散性偏光板應用於液 晶顯示裝置時，有無法獲得充分之廣視野角性能之情形。 又，於重量平均粒徑超過15 μηΐ2情形時，有無法獲得充 分之光擴散性之情形。X，透光性微粒子1G6a較佳為其粒 159068.doc 201227007 徑之標準偏差與重量平均粒徑之比（標準偏差/重量平均粒 徑）為0.5以下，更佳為〇.4以下。於該比超過0.5之情形 時’作為透光性微粒子，包含其粒徑極大者，結果有光擴 散層106之表面之中心線平均粗链度Ra成為1 μιη以上，或 光擴散膜102之表面霧度（haze)脫離下述較佳範圍之情形。 透光性微粒子l〇6a之重量平均粒徑及粒徑之標準偏差係使 用基於庫爾特原理（細孔電阻法）之庫爾特粒子計數器 (Beckman Coulter公司製造）而測定》 光擴散層106中之透光性微粒子i〇6a之含量較佳為相對 於透光性樹脂106b之100重量份，為20重量份以上、1〇〇重 量份以下，更佳為20重量份以上、70重量份以下，進而較 佳為25重量份以上、60重量份以下，尤佳為25重量份以 上、50重量份以下。若透光性微粒子1〇6&之含量相對於透 光性樹脂100重量份未達20重量份，則光擴散膜102之光擴 散性變得不充分，結果於將光擴散性偏光板應用於液晶顯 示裝置時’難以獲得充分之廣視野角性能。又，若透光性 微粒子106a之含量相對於透光性樹脂！ 〇〇重量份超過丨〇〇重 里伤，則光擴散膜102之霧度變得過大，結果光擴散膜1〇2 之透明性降低，將光擴散性偏光板應用於液晶顯示裝置 時，導致正面對比度之下降。於本發明令，由於經由黏著 劑層104而將表面處理膜103與光擴散層1〇6貼合，故即使 於光擴散層中含有相對較多量之透光性微粒子（光擴散劑） 之情形時’亦可抑制氣泡混入而抑制失色之產生，又，可 確實且容易地、並且不損害為使表面處理層表現特定之光 l5906S.doc •12-

S 201227007 予功妃而必的之結構或形狀而將表面處理層賦予至光擴散 性偏光板。 透光性微粒子106a與透光性樹脂1 06b之折射率差較佳為 0·04〜0.15mj。藉由將透光性微粒子驗與透光性樹脂 6b之折射率差没為上述範圍内，可產生由該折射率差引 起之適度之内部散射而獲得光擴散性適度高之光擴散性 膜》 又，光擴散層106之表面（與透明基材膜1〇5為相反側之 表面）較佳為僅由透光性樹脂l〇6b形成。即，透光性微粒 子106a較佳為不自光擴散層ι〇6表面突出而完全埋沒於光 擴散層106内。因此，光擴散層1〇6之厚度較佳為相對於透 光性微粒子106a之重量平均粒徑為1倍以上、3倍以下。於 光擴散層106之厚度未達透光性微粒子1〇6a之重量平均粒 徑之1倍之情形時’於將光擴散性偏光板應用於液晶顯示 裝置時’有產生由於光擴散層之表面漫反射而感覺整個晝 面泛白之所謂「發白（whitening)」之情形。再者，所謂發 白（Whitening)，係指液晶顯示裝置之畫面之表面看起來泛 白之現象’且為尤其是明亮處容易發生之現象。又，於光 擴散層106之厚度超過透光性微粒子106a之重量平均粒徑 之3倍之情形時，由於光擴散層106之厚度變得過大，伴隨 此’光擴散膜102之光擴散性變得過強，故而結果於將光 擴散性偏光板應用於液晶顯示裝置時，有正面對比度下降 之情形。 光擴散層106之厚度較佳為1〜30 μηι之範圍。於光擴散層 159068.doc -13· 201227007 106之厚度未達！ μιη之情形時，有無法賦予配置於液晶顯 不裝置之視認侧表面之光擴散膜所要求的充分之耐擦傷性 之情形。又，於厚度超過3〇 μϊη之情形時，於所製作之光 擴散膜中產生之捲曲量變大，光擴散性偏光板之製造製程 中之操作性可能降低。 光擴散層106之表面（與透明基材膜1〇5為相反側之表面） 之依據JIS β 0601的中心線平均粗糙度以為〇 ι μιη以上且 未達1 μϊη ’較佳為〇 · 2 μηι以上且未達〇 · 5 μϊη。於光擴散層 106表面之中心線平均粗糙度！^為1 μΓη以上之情形時，發 白變得明顯。根據本發明，即使中心線平均粗糙度Ra為 0· 1 μϊη以上、進而為〇.2 μπι以上，亦難以產生由氣泡混入 所導致之失色之問題，可將顯示良好之光學功能之表面處 理層賦予至光擴散性偏光板。所謂依據JIS Β 0601之中心 線平均粗糙度Ra ’係指自粗糙度曲線中於其平均線之方向 僅抽出標準長度1(厄爾），將該抽出部分之平均線之方向作 為X轴、縱倍率之方向作為y軸，並由Y=f(x)表示粗糙度曲 線時，以微米（μϊη)單位表示根據下述式（〇而求出之值者。 [數1]

Ra = — Γ {f(x)}dx (l) I J〇 中心線平均粗糙度Ra可使用依據ns Β 0601之共軛焦干 涉顯微鏡（c〇nf〇cal interference microscope)(例如 Optical Solution股份有限公司製造之「PLp2300」），根據上述計 算式（1)並利用可計算出Ra之程式軟體而算出。

159068.doc •14- S 201227007 光擴散膜102較佳為總霧度（haze)為40%以上、70%以下 且内部霧度為40%以上、70%以下。又，起因於光擴散層 106之表面形狀之表面霧度較佳為未達6%。所謂「總霧 度」，係根據表示對光擴散膜照射光而穿透之光線總量之 總光線穿透率（Tt)、與藉由光擴散膜而擴散並穿透之擴散 光線穿透率（Td)之比，由下式（2): 總霧度（°/〇)=(Td/Tt)xl00 (2) 而求出。 總光線穿透率（Tt)係以與入射光同軸之狀態穿透之平行 光線穿透率（Tp)與擴散光線穿透率（Td)之和。總光線穿透 率（Tt)及擴散光線穿透率（Td)係依據JIS κ 7361而測定之 值。 門部務度」，係指於總霧度中 又’所謂光擴散膜 除起因於光擴散層106之表面形狀之霧度（表面霧度）以外之 霧度。 於總霧度及/或内部霧度未達4〇%之情形時，有光散射性 不充分’難以獲得充分之廣視野角性能之傾向。又，於總 霧度及/或内部霧度超過70%之情形時，有光散射變強，於 將光擴散性偏光板應用於液晶顯Μ置時，正面對比度下 t之情況。又，於總霧度及/或内部霧度超過70%之情形 ，有光擴散膜1 〇2之透明性受指 又才貝之傾向。總霧度及内部 祷度刀別較佳為50%以上、65〇/〇以下。 又，於起因於光擴散層1〇6 以上之情形時，有由於表面^狀之表面霧度為6% 有由於表面戌反射而容易產生發白之傾 159068.doc -15· 201227007 向。為更有效地防止發白，表面霧度較佳為3%以下》 具體而言’光擴散膜102之總霧度、内部霧度及表面霧 度係以如下方式進行測定。即，首先為防止膜之翹曲，使 用光學透明之黏著劑，以光擴散層106成為表面之方式， 將光擴散膜102之透明基材膜1〇5側貼合於玻璃基板上而製 作測定用樣品’對該測定用樣品測定總霧度值。總霧度值 係使用依據JIS K 7136之霧度穿透率計（例如村上色彩技術 研究所股份有限公司製造之霧度計「HM-150」），測定總 光線穿透率（Tt)及擴散光線穿透率（Td)，並由上述式（2)而 算出。 繼而，使用甘油將霧度大致為〇%之三乙醯纖維素膜貼 合於光擴散層106之表面，以與上述總霧度之測定相同之 方式測定霧度。由於起因於光擴散層106之表面形狀之表 面霧度因所貼合之三乙醯纖維素膜而大致抵消，故而該霧 度可視為光擴散膜102之「内部霧度」。因此，光擴散膜 102之「表面霧度」可由下述式（3): 表面霧度（％)=總霧度（％)-内部霧度（％) (3) 而求出。 再者，光擴散膜102亦可於透明基材膜1〇5與光擴散層 10 6之間包含其他層（包括接著劑層）。 繼而，對用以製造光擴散膜102之方法進行說明。光擴 散膜102可藉由將分散有透光性微粒子i〇6a之樹脂液塗佈 於透明基材膜105上之方法而形成。 上述樹脂液包含透光性微粒子106a、構成光擴散層1 〇6 159068.doc

S 201227007 之透光性樹脂1 〇6b或形成其之樹脂（例如電離放射線硬化 型樹脂、熱硬化型樹脂或金屬烷氧化物）、及視需要之溶 劑等其他成分。於使用紫外線硬化型樹脂作為形成透光性 樹脂106b之樹脂之情形時’上述樹脂液包含光聚合起始劑 (自由基聚合起始劑）。作為光聚合起始劑，例如可使用： 苯乙酮系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、二苯甲 酮系光聚合起始劑、9-氧硫P山p星系光聚合起始劑、三β井系 光聚合起始劑、及嘮二唑系光聚合起始劑等。又，作為光 聚合起始劑’例如亦可使用：2,4,6-三甲基苯曱酿基二苯 基氧化膦、2,2'-雙（鄰氯苯基）_4,4’，5,5'-四苯基- l，2，-聯咪 0坐、10- 丁基-2-氣。丫咬酮、2-乙基蒽g昆、苯偶酿、9, ι〇_菲 酿、樟腦醌、苯基乙醛酸曱酯、及二茂鈦化合物等。光聚 合起始劑之使用量通常相對於樹脂液中所含之樹脂1〇〇重 量份為0.5〜20重量份’較佳為id重量份。再者，為使光 擴散膜102之光學特性及表面形狀成為均質者，樹脂溶液 中之透光性微粒子106a之分散較佳為等向分散。 上述樹脂液於透明基材膜1 〇 5上之塗佈例如可藉由凹版 印刷塗佈法（gravure coating method)、微凹版印刷塗佈法 (micro gravure coating method)、棒式塗佈法（r〇d ⑶州％ method)、刀刃塗佈法（knife coating method)、氣刀塗佈法 (air knife coating method)、吻合式塗佈法（kiss c〇ating method)、模塗法（die coating method)等而進行。於進行樹 脂液之塗佈時，較佳為如上述般以光擴散層1〇6之厚度相 對於透光性微粒子106a之重量平均粒徑成為i倍以上、3倍 159068.doc •17- 201227007 以下之方式調整塗佈膜厚。 為改良樹脂液之塗佈性或改良與光擴散層1〇6之接著 性’亦可於透明基材膜1〇5之表面（光擴散層側表面）實施各 種表面處理。作為表面處理，可列舉··電暈放電處理、輝 光放電處理、酸表面處理、鹼表面處理、及紫外線照射處 理等°又’亦可於透明基材膜1〇5上形成例如底塗（primer) 層（易接著層）等其他層，並將樹脂液塗佈於該其他層上。 又’為提高透明基材膜105與偏光膜1〇1之接著性，較佳 為於透明基材膜105之與光擴散層106為相反側之表面實施 如上所述之表面處理。 光擴散膜102亦可藉由將分散有透光性微粒子1〇6a之樹 脂液塗佈於透明基材膜1〇5上後，於包含樹脂液之層之表 面轉印模具之鏡面或凹凸面之方法而形成。即，具有上述 中〜線平均粗糙度Ra之光擴散層106亦可藉由在塗佈上述 樹脂液後，根據需要使具有鏡面之模具（鏡面模具）之該鏡 面或具有凹凸面之模具（壓紋加工用模具）之該凹凸面密接 於包含該樹脂液之層之表面來轉印鏡面或凹凸面而形成。 鏡面模具可為鏡面金屬製輥，又，壓紋加工用模具可為壓 紋加工用金屬製觀。 於使用電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂或金屬烷 氧化物作為形成透光性樹脂⑺牝之樹脂之情形時，形成包 含上述樹脂液之層，根據需要進行乾燥（溶劑之去除），並 於根據需要使模具之鏡面或凹凸面密接於包含該樹脂液之 層之表面的狀態下或密接後，藉由電離放射線之照射（使 159068.doc

S -18 - 201227007 用電離放射線硬化型樹脂之情形）或加熱（使用熱硬化型樹 月曰或金屬烧氧化物之情形）而使包含樹脂液之層硬化。作 為電離放射線’可根據樹脂液中所含之樹脂種類’而自紫 外線、電子束、近紫外線、可見光、近紅外線、紅外線、 及X射線等中適當選擇，於該等中，較佳為紫外線、及電 子束，尤其就操作簡便且可獲得高能量之方面而言，較佳 為紫外線。 作為紫外線之光源，例如可使用低壓水銀燈、中壓水銀 燈、南壓水銀燈、超高壓水銀燈、碳狐燈、金屬画化物 燈、及亂氣燈等。又，亦可使用ArF準分子雷射、KrF準分 子雷射、準分子燈或同步加速器放射光等。於該等中，可 較佳地使用超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、氣 弧、及金屬齒化物燈。 又，作為電子束’可列舉具有自柯克勞夫-沃耳吞型 (Cockcroft-Walton type)、凡得格拉夫型（Van de Graaff type)、共振變壓型、絕緣芯變壓型、直線型、地那米型 (Dynamitron type)、及高頻型等各種電子束加速器中釋放 之50〜1000 keV、較佳為1〇〇〜3〇〇 keV之能量的電子束。 繼而，對用以製造光擴散膜102之較佳之實施形態進行 忒明。该較佳之實施形態之製造方法包括；為連續地製造 光擴散膜102而連續地送出繞成輥狀之透明基材膜〖Μ之步 驟，將分散有透光性微粒子l〇6a之樹脂液塗佈於透明基材 膜105上，並根據需要進行乾燥之步驟；使包含樹脂液之 層硬化之步驟；及捲取所獲得之光擴散膜1〇2之步驟。 159068.doc -19- 201227007 該製造方法可使用例如圖2所示之製造裝置而實施。 首先，藉由捲出裝置（unwinder)301連續地捲出透明基材 膜105。繼而，使用塗佈裝置302及與其相對向之支承輥 303，將分散有透光性微粒子i〇6a之樹脂液塗佈於所捲出 之透明基材膜105上。繼而’於樹脂液中含有溶劑之情形 時，藉由使其通過乾燥機304而乾燥。繼而，將設置有包 含樹脂液之層之透明基材膜105以其包含樹脂液之層與鏡 面金屬製輥或壓紋加工用金屬製輥305密接之方式捲置於 鏡面金屬製輥或壓紋加工用金屬製輥305與夾輥（nip r〇ller)306之間。藉此’將鏡面金屬製輥之鏡面或壓紋加工 用金屬製棍之凹凸面轉印至包含樹脂液之層之表面。繼 而’於透明基材膜105捲置於鏡面金屬製輥或壓紋加工用 金屬製輥305之狀態下通過透明基材膜105，自紫外線照射 裝置308照射紫外線，藉此使包含樹脂液之層硬化。由於 紫外線照射而使照射面成為高溫，故而鏡面金屬製輥或壓 紋加工用金屬製輥3〇5較佳為於其内部包含用以將其表面 溫度調整為室溫〜80°C左右之冷卻裝置。又，紫外線照射 裝置308可使用1台’或使用複數台。形成有光擴散層ι〇6 之透明基材膜105(光擴散膜1〇2)藉由剝離輥307而自鏡面金 屬製輥或壓紋加工用金屬製輥305剝離。如以上般製作之 光擴散膜102捲取於捲取裝置309上。 此時’為保護光擴散層106，亦可經由具有再剝離性之 黏著劑層，將包含聚對苯二曱酸乙二酯或聚乙烯等之表面 保護膜貼附於光擴散層1 〇6表面並進行捲取。 159068.doc •20· 201227007 再者’亦可於藉由剝離輥3〇7自鏡面金屬製輥或壓紋加 工用金屬製報305剝離後’進行追加之紫外線照射。又， 亦可將形成有包含未硬化之樹脂液之層之透明基材膜⑻ 自鏡面金屬製輥或壓紋加工用金屬製輥305剝離後照射紫 ••象使其硬化，來代替於捲置於鏡面金屬製輥或壓紋加工 用金屬製輥305之狀態下進行紫外線照射。 光擴散膜102與偏光膜1〇1係經由接著劑層等而相互貼 合。光擴散膜102亦發揮作為偏光膜1〇1之保護膜之功能， 該構成對光擴散性偏光板之薄膜化有利。作為接著劑，可 較佳地使用含有包含環氧樹脂之硬化性樹脂組合物等活性 能量線硬化性樹脂組合物或熱硬化性樹脂組合物之接著 劑、或含有聚乙烯醇系樹脂或胺基甲酸酯樹脂作為接著劑 成分之水系接著劑等。其甲，就可實現無需乾燥步驟等生 產效率之提高且獲得良好之接著強度之方面而言，更佳為 使用含有包含環氧樹脂之硬化性樹脂組合物之接著劑。 使用含有包含環氧樹脂之硬化性樹脂組合物之接著劑的 光擴散膜102與偏光膜101之貼合可藉由如下方式進行：將 該接著劑塗佈於光擴散膜102或偏光膜1〇1之貼合面，經由 未硬化之接著劑層而積層兩膜後，藉由照射活性能量線或 進行加熱使未硬化之接著劑層硬化。接著劑之塗佈方法並 無特別限定，例如可利用刮板（d〇ctor blade)、線棒…匕 bar)、模塗佈機（die coater)、刮刀式塗佈機 coater)、凹版印刷塗佈機（gravure coater)等各種塗佈方 式。由於各塗佈方式各自具有最佳之黏度範圍，故而亦可 159068.doc -21· 201227007 使用有機溶劑進行接著劑之黏度調整。硬化後之接著劑層 之厚度通常為0.1〜20 μΓη，較佳為〇 2〜10 μιη，進而較佳為 0.5〜5 μιη 〇 (表面處理膜） 表面處理膜103為於透明樹脂膜107之一方之面上實施光 學處理之膜。作為表面處理膜1〇3，具體而言可使用於透 明树知膜107之一方之面上形成具有所需之光學功能之表 面處理層108的膜。作為透明樹脂膜丨，例如可使用包含 TAC(三乙醯纖維素）等乙酸纖維素系樹脂、聚曱基丙烯酸 甲酯等丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、及聚對苯二甲酸乙 二酯等聚酯系樹脂等之樹脂膜。透明樹脂膜1〇7之厚度例 如為10〜500 μιη，較佳為20〜3〇〇 μιη。 作為表面處理膜1〇3，例如可列舉：包含防眩層作為表 面處理層1G8(即上述光學處理為防眩處理）之防眩膜、或包 含抗反射層作為表面處理層1Q8(即上述光學處理為抗反射 處理）之抗反射膜。所謂防自’係指具有表面凹凸，利用 表面之光之漫反射而減少或防止於顯示畫面中之映入者。 又，所謂抗反射，係指藉由減少或防止入射至顯示晝面之 外光之反射而減少或防止於顯示畫面中之映入者。 作為防眩膜，例如可使用如下者，其藉由在透明樹脂膜 107上塗佈含有或不含有微粒子之紫外線硬化型樹脂組合 物後，將具有特定之表面凹凸形狀之模具之該凹凸面擠壓 於所形成m線硬化型樹脂層上，並使紫外線硬化型樹 脂層硬化’藉此對防眩層賊予特定之表面凹凸。又，亦可 159068.doc •22- 201227007 使用如下者，其藉由在將含 組合物塗佈於透明_㈣7=子之紫外線硬化型樹脂 線硬化型樹脂層硬化，藉此對：使用模具而使紫外 方眩層賦予由微粒子引起之 特疋之表面凹凸。作為防眩臈， 作為抗反射膜，例如可列舉含=市售之防眩膜。 β 10_ ^ 4 舉3有包含折射率低於光擴散 層106之材料之低折射率層 机夂射層者，或具有包含 折射率而於錢散層⑽之材料之高折射率層、與包含折 ρ低於該高折射率層之材料之低折射率層的積層結構作 為抗反射層者等。低折射率層例如可為含有二氧化石夕、金 =化物微粒子（LiF、MgF、3歸·績、續、仏高 仆於内部具有空隙之微粒子（中空二氧化石夕微粒子等）、 含氣之聚合物等低折射率材料及黏合劑樹脂者。黏合劑樹 脂形成材料亦可為先前公知者，可使用：聚石夕 矽烷氧化物之水解物、光或熱硬化性 化注夕支化合物（樹枝狀 聚合物或超支化聚合物等）、及其他光或熱硬化性樹脂。 於透明樹脂膜與低折射率層或高折射率層之間亦可介在i 種或2種以上硬塗層或抗靜電層等其他層。作為抗反射 膜’亦可使用市售之抗反射膜。 於本發明之光擴散性偏光板中，表面處理膜1〇3通常暖 由黏著劑層104而以該透明樹脂膜1〇7之與表面處理層ι〇8 為相反側之面（表面處理膜103之未實施光學處理之面）與光 擴散膜102之光擴散層1〇6貼合。 '、 (黏著劑層） 黏著劑層104包含25°C下之儲存彈性模數未達丨〇χΐ〇6 159068.doc ·23· 201227007 之黏著劑層β藉由經由顯示該範圍内之儲存彈性模數之黏 者劑層，將表面處理膜103貼合於光擴散層1〇6上，可有效 地抑制產生由氣泡混入至光擴散層106之表面凹凸與黏著 劑層ίο:之間所引起之失色。若25t下之儲存彈性模數為 1 0 1 〇 Pa以上，則於貼合時氣泡混入至光擴散層106之表 面凹凸與黏著劑層104中，於應用於液晶顯示裝置時，產 生與該氣泡對應之點狀之失色。就更加有效地抑制貼合時 之氣泡混入之觀點而言，：黏著劑層1〇4之於25它下之儲存 彈性模數較佳為5.〇xl〇5 Pa以下，更佳為3·7χ1〇5 以下。 又，黏著劑層104之於25°C下之儲存彈性模數較佳為 5.〇xl04 Pa以上’更佳為丨〇xl〇5 pa以上。藉此，可確保光 擴散性偏光板之最表面（表面處理108之表面）之良好之硬度 (鉛筆硬度）。若儲存彈性模數未達i 〇x 1〇5 Pa，則有時最表 面變得容易凹陷而無法維持充分之硬度。 所謂儲存彈性模數（動彈性模數），係指通常所使用之黏 彈性測定之m㈣彈性難可藉由對試料賦予根據時 間而變化（振動）之應變或應力，測定由此所產生之振動應 力或應變，藉此評價試料之力學性質之方法（動黏彈性測 定）而求出。此時，將所產生之應變分成與振動應力為同 相位之成分、及相對於振動應力相位偏移9〇度之成分的2 種成分之波時，與振動應力位於同相位之成分為儲存彈性 模數。儲存彈性模數可使用市售之黏彈性測定裝置、例如 以下揭示之實施例中所示之動黏彈性測定裝置（Dy_ic Analyzer RDA Π : RE0METRIC股份有限公司製造）而進行 159068.doc -24 - 201227007 測疋。於黏彈性測定裝置之溫度控制中使用循環恆溫槽、 電加熱器、珀爾貼元件等各種公知之溫度控制裝置，藉此 可設定測定時之溫度。 作為形成顯示上述儲存彈性模數之黏著劑層之黏著劑， 例如可列舉將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、 聚胺基甲酸酯、及聚醚等作為基底聚合物之黏著劑。其 中，就透明性、黏著力、可靠性、二次加工性（rew〇rkability) 等疋觀點而言，較佳為使用將丙烯酸系聚合物作為基底聚 合物之丙烯酸系黏著劑。於丙烯酸系聚合物中，使具有甲 基、乙基、丁基等碳數為20以下之烷基之丙烯酸之烷基 S曰·與包含（曱基）丙烯酸或（曱基）丙稀酸經乙酯等之含官 能基之丙烯酸系單體以玻璃轉移溫度較佳為成為25<>c以 下、進而較佳為成為ot以下之方式進行共聚而成的重量 平均分子量為10萬以上之丙烯酸系共聚物可用作基底聚合 物。 作為丙稀酸系基底聚合物，並無特別限定，可較佳地使 用（甲基）丙烯酸丁酯、（曱基）丙烯酸乙酯、（曱基）丙烯酸異 辛酯、（甲基）丙烯酸2·乙基己酯等（甲基）丙烯酸酯系基底 聚δ物、或使用2種以上該等（甲基）丙烯酸酯之共聚合系基 底聚合物。又，亦可於該等基底聚合物中共聚合極性單 體。作為極性單體，例如可列舉：（甲基）丙烯酸、（甲基） 丙烯酸2-羥丙酯、（甲基）丙烯酸2_羥乙酯、（甲基）丙烯醯 胺、（曱基）丙烯酸2-Ν，Ν-二甲基胺基乙酯、（甲基）丙烯酸 縮水甘油酯等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等 159068.doc -25- 201227007 極性官能基之單體。 該等丙烯酸系聚合物亦可單獨用作黏著劑.，於用作黏著 劑之情形時，通常調配交聯劑。作為交聯劑，可例示.為 二價或多價金屬離子且與羧基之間形成羧酸金屬鹽I、為 聚胺化合物且與羧基之間形成醯胺鍵者、為聚環2化合物 或多元醇化合物且與羧基之間形成酯鍵者、為聚異氰^酯 化合物且與叛基之間形成腺鍵者等。 例如藉由適當選擇交聯劑之種類或數量使基底聚合物之 父聯密度相對變低，或適當選擇形成基底聚合物之單體之 種類等使其酸值相對變小，或者降低基底聚合物之聚合度 使低分子量成分之含量相對變大，可將黏著劑層之儲存彈 性模數降低至上述範圍内。另一方面，藉由在黏蓍劑組合 物中調配低聚物（丙烯酸胺基甲酸酯系低聚物等），或對上 述調配有低聚物之黏著劑組合物進而照射能量線使其硬 化，可提尚儲存彈性模數，故而為調整儲存彈性模數，亦 可併用上述方法。 為調整黏著劑之黏著力、凝聚力、黏性、彈性模數、玻 璃轉移溫度等，於黏著劑中，除上述基底聚合物及交聯劑 以外，亦可根據需要調配例如作為天然物或合成物之樹脂 類、黏著性賦予樹脂'抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、 顏料、消泡劑、抗腐蚀劑、及光聚合起始劑等適宜之添加 劑。作為紫外線吸收劑，可列舉：水揚酸酯系化合物、二 本甲酮系化合物、笨并三唾系化合物、氰基丙烯酸酯系化 合物及鎳錯鹽系化合物等。 159068.doc

-26· 201227007 黏著劑層可藉由將上述黏著劑例如製成有機溶劑溶液， 藉由模塗佈機或凹版印刷塗佈機等將其塗佈於透明樹脂膜 107上，並使其乾燥之方法進行設置。又，黏著劑層亦可 藉由將形成於實施脫模處理之塑膠膜（稱為分隔膜）上之片 狀勒著劑轉印至光擴散層1 〇6或透明樹脂膜1 〇7上之方法進 行設置。黏著劑層之厚度通常為2〜4〇 μηι之範圍，較佳為 5〜3 0 μ :ηι之範圍。 亦可於利用黏著劑之貼合前，對透明樹脂膜1〇7及/或光 擴散層106之貼合面實施電暈放電處理、底塗處理（底塗層 之形成）等易接著處理（adhesion improving treatment)。 (保護膜） 如圖1所示般，本發明之光擴散性偏光板亦可包含經由 接著劑層等而積層於偏光膜101之與光擴散膜1〇2為相反側 之保護膜109 ^保護膜109較佳為包含低雙折射性且透明性 或機械強度、熱穩定性或防水性等優異之聚合物之膜。作 為該膜’例如可列舉包含TAC(三乙醯纖維素）等乙酸纖維 素系樹脂，丙烯酸系樹脂’日敦乙烯/六敗丙烯系共聚物 之類的氟系樹脂，聚碳酸酯樹脂，聚對苯二甲酸乙二酯等 «系樹脂，聚醯亞胺系樹脂，聚砜系樹脂，聚心樹 脂’聚苯乙料樹脂，聚乙婦⑽樹脂，聚氯乙稀系樹 脂’聚稀烴㈣脂或聚醯胺系樹脂等之樹㈣。於該等 中’就偏光特性或耐久性等之方面而t，較佳為使用三乙 醯纖維素膜或降搐烯系熱塑性樹 ]如臊降伯烯系熱塑性樹 月曰膜由於耐渴孰性（resj . —t〇 heat)較高，故而可 159068.doc •27- 201227007 大ί田度地提同偏光板之耐久性，並且由於吸濕性較低，故 寸穩疋性較尚而尤佳。上述樹脂之向膜之成形加工可 使用;堯鑄法m、擠出法之先前公知之方法，保護膜 109之厚度並無特別限定’就偏光板之薄膜化等之觀點而 3，較佳為500 μιη以下，更佳為5〜3〇() μηι之範圍，進而較 佳為5〜150 μπι之範圍。 偏光膜101與保護膜1〇9之使用接著劑之貼合可使用與關 於表面處理膜103與光擴散膜1〇2之貼合所上述者相同之接 著劑’藉由相同之方法而進行。 於偏光膜101中，亦可貼合相位差膜（相位差板）等光學 補償膜等代替保護膜109。 如上構成之光擴散性偏光板典型的是於應用於液晶顯示 裝置之情形時，以表面處理膜i 〇3成為視認側之方式經 由黏著劑層等貼著於液晶單元之玻璃基板上而組入液晶顯 示裝置中。 <液晶顯示裝置> 繼而’對本發明之液晶顯示裝置進行說明。本發明之液 晶顯不裝置為依序包含背光裝置、光擴散機構、背光側偏 光板、液晶單元、及上述本發明之光擴散性偏光板者。圖 3係表示本發明之液晶顯示裝置之較佳之一例的概略剖面 圖。圖3之液晶顯示裝置4〇〇為常時亮態模式（norrnally white mode)之TN方式之液晶顯示裝置，且係依序配置背 光裝置402、光擴散機構403、背光側偏光板404、及於一 對透明基板411a、411b之間設置液晶層412而成之液晶單 159068.doc • 28 ·

201227007 元401、及作為視認側偏光板之本發明之光擴散性偏光板 405而成。背光側偏光板404與光擴散性偏光板4〇5係以該 4之透射軸成為正交偏光（crossed nicols)之關係之方式進 行配置。 背光裝置402為包含上面開口之長方體形狀之盒體421、 及於盒體421内並列配置複數根之作為線狀光源之冷陰極 管422的直下型背光裝置。又，光擴散機構403包含配置於 背光裝置402上之光擴散板4〇3a、及設置於光擴散板403a 之前面側（光擴散板403a與背光側偏光板404之間）之光偏向 板（稜鏡片）403b。 於該構成之液晶顯示裝置400中，自背光裝置402放射之 光藉由光擴散機構403之光擴散板403a擴散後，藉由光偏 向板403b而賦予對液晶單元4〇 1之光入射面之法線方向的 特疋之指向性。對該法線方向之指向性設定為高於先前之 裝置。並且’賦予特定之指向性之光藉由背光側偏光板 404而形成偏光併入射至液晶單元4〇ι ^入射至液晶單元 401之光藉由液晶層412而控制偏光狀態並自液晶單元4〇 1 出射。並且，自液晶單元401出射之光藉由光擴散性偏光 板405而擴散。 如此般，於本發明之液晶顯示裝置中，可形成光擴散機 構403中之向入射至液晶單元401之光之法線方向的指向性 高於先前、即較先前更能聚集向液晶單元4〇1之入射光 者’並藉由光擴散性偏光板405使其進一步擴散。藉此， 與先前之裝置相比，可獲得色再現性等優異之圖像品質。 159068.doc -29- 201227007 又，應用本發明之光擴散性偏光板的本發明之液晶顯示裝 置具有較高之視野角特性，並且兼具有賦予光擴散性偏光 板之其他光學功能，視認性優異。 以下，對構成本發明之液晶顯示裝置之構成構件進行更 詳細之說明。 (液晶單元） 液晶單元401包含藉由間隔件隔出特定距離而對向配置 之一對透明基板411a、411b、及於該一對透明基板4Ua、 41 lb之間填充液晶而成之液晶層412。於一對透明基板 411a、411b中分別積層形成透明電極或配向膜，並對透明 電極間施加基於顯示資料之電壓，藉此使液晶配向。液晶 單元401之顯示方式於上述例中為TN方式，亦可採用ips方 式、VA方式等顯示方式。 (背光裝置） 背光裝置402包含上面開口之長方體形狀之盒體421、及 於盒體421内並列配置複數根之作為線狀光源之冷陰極管 422 »盒體421由樹脂材料或金屬材料成形而成，就使自冷 陰極笞422放射之光於盒體421内周面反射之觀點而言，較 理想為至少盒體421内周面為白色或銀色。作為光源，除 冷陰極管以外，亦可使用線狀形狀等各種形狀之led等。 於使用線狀光源之情形時，所配置之線狀光源之根數並無 特別限定’就《抑制發光面之亮度不均等之觀點而言，較佳 為鄰接之線狀光源之中心間距離為15 111111至15〇 mm之範 圍。再者，本發明所使用之背光裝置4〇2並不限定於圖3所 159068.doc •30· 201227007 示之直下型者，可使用於導光板之侧面配置線狀光源或點 狀光源之側光型（side light type)、或者平面狀光源型 (planar light source type)等各種者。 [光擴散機構] 如圖4所示般，光擴散機構403較佳為包含配置於背光裝 置402上之光擴散板403a、及設置於光擴散板4〇3a之前面 側（光擴散板403a與背光側偏光板404之間）之光偏向板（棱 鏡片）403b。光擴散板403 a例如圖4所示般’可為於基材 430中分散混合光擴散劑440而成之膜或片材。作為基材 430 ’可使用：聚碳酸酯系樹脂、甲基丙烯酸系樹脂、甲 基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物樹脂、丙烯腈_苯乙烯共聚物 樹脂、曱基丙烯酸_苯乙烯共聚物樹脂、聚苯乙烯系樹 月曰、聚氯乙烯系樹脂、聚丙烯或聚甲基戊烯等聚烯烴系樹 脂、環狀聚烯烴系樹脂、聚對苯二▼酸乙二酯或聚對苯二 甲酸丁二酯、聚萘二曱酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚醯胺系 樹脂、聚芳酯系樹脂、及聚醯亞胺系樹脂等。 又，混合分散於基材430中之光擴散劑44〇只要為包含與 成為基材43 0之材料不同折射率之材料的微粒子，便無特 別限制例如可列舉包含與成為基材430之材料不同種類 之丙烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯 樹脂、有機聚矽氧樹脂及丙烯酸·苯乙烯共聚物樹脂等之 有機微粒子，以及包含碳_氧切、氧化铭、碳酸 鋇、硫酸鋇、氧化鈦及玻璃等之無機微粒子。所使用之光 擴散劑440可僅為1種，亦可併用2種以上。又’有機聚合 159068.doc -31· 201227007 物之氣球或破璃中空珠亦可用作光擴散劑44〇。光擴散劑 440之重里平均粒控較佳為〇5〜3〇叫之範圍。又，光擴散 劑440之形狀可為球形、爲平狀、板狀、針狀等，較佳為 球形。 另一方面，光偏向板（棱鏡片）403b係光入射面側（背光裝 置4〇2側）為平坦面且於光出射側之面（與背光側偏光板404 相對向之表面）平行地形成複數個剖面為尖頂端之多角形 狀、較佳為三角形狀之線狀稜鏡45〇者。作為光偏向板 403b之材料，例如可列舉：聚碳酸酯系樹脂、abs (Acrylonitrile-Butadiene-Styrene，丙烯腈 _ 丁二烯 _ 苯乙烯） 樹脂、甲基丙烯酸系樹脂、曱基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚 物樹月曰、聚苯乙烯系樹脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物樹脂、 及聚乙烯或聚丙烯等聚烯烴系樹脂等。作為光偏向板4〇3b 之製作方法，可使用通常之熱塑性樹脂之成形法，例如可 列舉使用模具之熱壓成形、或擠出成形等。光偏向板4〇3b 之厚度通常為0.1-15 mm ’較佳為0.5-10 mm。 光擴散板403a與光偏向板403b可成形為一體，亦可於分 別製作後進行接合。又，於分別製作並接合之情形時，可 使光擴散板403a與光偏向板403b之間經由空氣層而接觸。 又’光擴散板403a與光偏向板403b亦可相隔而配置。 如圖5所示般’光擴散機構403可為使光擴散劑440分散 混合於發揮光偏向功能之光偏向板403b中而賦予光擴散功 能者。 進而，如圖6所示般，光擴散機構403亦可為包含配置於 I59068.doc -32- 201227007 光擴散板403a之前面側之2片光偏向板（稜鏡片）者。於此情 形時，參照圖6，較佳為配置於接近光擴散板4〇3a之側之 光偏向板403b以其線狀棱鏡450之脊線451之方向實質上與 背光側偏光板404之透射軸方向平行之方式進行配置，且 配置於光偏向板403b之前面側之光偏向板4〇儿，以其線狀稜 鏡45 0'之脊線45Γ之方向實質上與光擴散性偏光板4〇5之透 射轴方向平行之方式進行配置。藉由該構成，可進一步提 高液晶顯示裝置中之正面方向之亮度。其中，亦可以光偏 向板403b，之線狀稜鏡450,之脊線451，的方向實質上與背光 侧偏光板404之透射轴方向平行之方式進行配置，且以光 偏向板403b之線狀稜鏡450之脊線451的方向實質上與光擴 散性偏光板405之透射軸方向平行之方式進行配置。 通迺无獷散機構403之光 液 〜W .1工干乂 Ί王砀如卜者： 晶單元401之光入射面之法線方向傾斜7〇。之方向的亮 值相對於正面亮度值、即液晶單元4〇1之光入射面之法 方向的亮度值為20%以下，且自光擴散機構4()3之出射 包含非平行光。更佳之配光特性為不存在相對於液晶單 401之光入射面之法線超過6〇。之光。通常如圖3所示# 由於光擴散機構403之背面、與液晶單元姻之光入射面又 行地配置，故而所謂相對於液晶單元4〇1之光入射面之 線成7 0。方向的亮度值，& 幻儿度值係指例如圖7所示般，於將光 機構403之長度方向作為\方向、與光擴散機構之背1 、’名面作為Xy面時，成為與相對於該巧面之法線即^ 成70。方向之亮度值，較佳為於χζ面上與z軸所成之角成〆 159068.doc •33· 201227007 70之方向的亮度值。為設為上述配光特性，只要例如調 整光偏向板403b之剖面三角形狀之線狀棱鏡45〇(及/或線狀 稜鏡450’）的形狀即可。線狀稜鏡45〇、45〇,之頂角參照圖 4及圖5)較佳為60〜12〇〇之範圍，更佳為9〇〜11〇。。該三角形 之形狀為等邊、不等邊之任意形狀，於欲聚光至液晶單元 4〇1之法線方向（液晶顯示裝置之正面方向）之情形時較佳 為等腰二角形。又，包含線狀稜鏡之稜鏡面較佳為形成以 與二角形之頂角相對之底邊相互鄰接之方式依序配置且以 複數個線狀稜鏡大致相互平行之方式進行排列之結構。於 此情形時，只要聚光能力未明顯減退，則由線狀稜鏡之頂 點及鄰接之線狀稜鏡所形成之V字狀溝亦可成為曲線形 狀。線狀稜鏡之脊線問之距離（圖4及圖5所示之距離d)通常 為10 μιη〜500叫之範圍，較佳為3〇卿〜2〇〇叫之範圍。 如圖8所示般，所謂非平行光，係指將自光擴散機構4〇3 之出射面中之直徑i cm之圓内出射的光作為離該出射面之 法線方向1m之與該出射面平行之觀察面中的投影像而觀 察時，具有該投影像之面内亮度分佈之最小半值寬度為3〇 cm以上之出射特性的光。 (背光側偏光板） 作為背光側偏光板404,通常可使用於偏光膜之單面或 雙面貼合保護膜者。作為偏光膜及保護臈，可使用關於光 擴散性偏光板所上述者。 (相位差板） 如圖9所示般’本發明之液晶顯示裝置可包含相位差板 159068.doc

• 34 · 201227007 中’相位差板406配置

差板406可配置於背光側偏光板404與液晶 刊6‘>於圖9所示之液晶顯示裝置4〇〇 於背光側偏光板404與液晶單元4〇1 為於相對於液晶單元401之表面而達 為零者，且為自正前方不產生任材4 單元401之間、或光擴散性偏光板4〇5與液晶單元4〇ι之間 之一者、或兩者。相位差板4〇6可積層於背光側偏光板4〇4 之保護膜上，或者亦可直接積層於偏光膜上兼作保護膜之 功能。關於光擴散性偏光板4〇5，亦相同。 作為相位差板406 ,例如可列舉將聚碳酸酯樹脂或環狀 烯烴系聚合物樹脂製成膜，進而使該膜進行雙軸延伸者， 或將液晶性單體塗佈於膜上，藉由光聚合反應使其分子排 列固定化者等。相位差板4〇6為光學地補償液晶之排列 者，故而使用與液晶排列相反之折射率特性者。具體而 a ’於TN模式之液晶單元中，例如可較佳地使用「WV Film」（Fuji Film股份有限公司製造），於STN模式之液晶 顯示單元中’例如可較佳地使用r lc Film」（新曰本石油 股份有限公司製造），於IPS模式之液晶顯示單元中，例如 可較佳地使用雙轴性相位差膜，於VA模式之液晶顯示單 元中’例如可較佳地使用組合A板及C板之相位差板或雙 軸性相位差膜’於π單元模式之液晶顯示單元中，例如可 較佳地使用「OCB用WV Film」（Fuji Film股份有限公司製 159068.doc -35· 201227007 造）等。 [實施例] 以下’列舉實施例對本發明進行更詳細之說明，但本發 明不限定於該等實施例。再者，以下例中之光擴散膜之霧 度及表面之中心線平均粗糙度Ra、光擴散層之厚度及光擴 散層所使用之透光性微粒子之重量平均粒徑、黏著劑層之 儲存彈性模數、以及表面處理膜之表面（表面處理層表面） 之船筆硬度的測定方法如下所述。 Ο)霧度 藉由使用光學透明之黏著劑將光擴散膜之透明基材膜側 與玻璃基板進行貼合而製作測定用樣品。使用該測定用樣 品進行霧度之測定。於總霧度值及内部霧度之測定中使用 依據JIS K 7136之霧度穿透率計（村上色彩技術研究所股份 有限公司製造之霧度計「HM-150」根據該結果並由上 述式（3)算出表面霧度。 (b)中心線平均粗糙度Ra 使用依據JIS B 0601之共軛焦干涉顯微鏡（例如〇pUcal Solution股份有限公司製造之「ρ]^μ23〇〇」）進行測定，根 據上述式（1)算出光擴散膜之光擴散層表面之中心線平均粗 縫度Ra。 (0光擴散層之厚度 使用NIKON公司製造之DIGIMICRO MH-15(本體）及ZC- 101 (汁數器）測定光擴散膜之厚度’並自測定層厚中減去透 明基材膜之厚度（80 μιη)，藉此測定光擴散層之厚度。 159068.doc •36·

S 201227007 (d) 透光性微粒子之重量平均粒徑及粒徑之標準偏差 根據庫爾特原理（細孔電阻法），使用庫爾特粒子計數器 (Beckman Coulter公司製造）進行測定。 (e) 黏著劑層之儲存彈性模數（25 °C ) 製作測定對象之包含黏著劑之直徑8 mmx厚度丨之圓 柱狀n式片，使用動黏彈性測定裝置RDa II : RE〇METRIC股份有限公司製造），藉由扭轉剪切法 (torsional shearing method)進行測定。測定條件設為頻率1 Hz、初始應變1 N、溫度25°C。 (0表面處理膜表面之鉛筆硬度 依據JIS K 5600-5-4(鉛筆刮痕試驗法），於荷重5〇〇 g下 進行5次刮痕測定，將2次以上未負傷之情形時之最硬之鉛 筆硬度作為表面處理膜表面之硬度^鉛筆硬度之測定係於 將表面處理膜貼合於光擴散膜前及貼合後（貼合有各實施 例、比較例中製作之表面處理膜之光擴散性偏光板中的表 面處理膜表面之硬度）進行。 [表面處理膜之製作] (製造例1 :防眩膜之製作） 準備於直徑200 mm之鐵輥（依據JIS之STKM13A)之表面 貫施有重鍍銅（copper ballard plating)者。重鍍銅為包含鍍 鋼層/薄鐘銀層/表面鍵銅層者，鑛敷層整體之厚度為約2〇〇 對該鍍銅表面進行鏡面研磨，進而使用喷射裝置（不 二製作所股份有限公司製造）’於噴射壓力為〇 〇5 Mpa(錶 壓，以下相同）、微粒子使用量為16 g/cm2(輥之表面積每1 159068.doc -37· 201227007 cm2之使用量’以下相同）之條件下，將氧化錯珠τζ-B125(Tosoh股份有限公司製造，平均粒徑：125 μιη)噴射 至該研磨面上’於表面形成凹凸》使用噴射裝置（不二製 作所股份有限公司製造），於喷射壓力為O.i MPa、微粒子 使用量為4 g/cm2之條件下，將氧化錘珠TZ-SX-17(Tosoh股 份有限公司製造’平均粒徑：20 μιη)噴射至該凹凸面上， 並對表面凹凸進行微調整。利用氯化銅液，對所獲得之附 有凹凸之鍍銅鐵輥進行蝕刻處理（蝕刻量：3 μιη)。其後， 進行鐘鉻加工（鍍絡層之厚度：4 μιη)，製造金屬製壓紋 輥。所獲得之金屬製壓紋輥之鍍鉻面的維氏硬度為1〇〇〇。 維氏硬度係使用超音波硬度計MIClO(Krautkramer公司製 造），依據JIS Z 2244而測定。 將季戊四醇三丙烯酸酯60重量份、及多官能胺基曱酸酯 化丙稀酸酿（六亞曱基二異氰酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯 之反應產物）40重量份混合於丙二醇單甲醚溶液中，以固

形物成分濃度成為6 0重量％之方式進行調整而獲得紫外線 硬化性樹脂組合物D 繼而，相對於上述紫外線硬化性樹脂組合物之固形物成 分100重量份而添加作為光聚合起始劑之「Lucirin τρ〇 (BASF公司製造，化學名：2,4,6_三甲基苯甲酿基二笨基氧 化膦）5重量份，以固形物成分濃度成為6〇重量％之方式利 用丙一醇單曱驗進行稀釋而製備塗佈液。 將該塗佈液塗佈於厚度80叫之作為三乙I纖維素（tac) 膜之透明樹脂膜上，並於設定為8Qt之乾燥機中乾⑻分 159068.doc

201227007 鐘。繼而，利用橡膠輥，將乾燥後之透明樹脂膜以紫外線 硬化性樹脂組合物層成為輥側之方式，擠壓於上述金屬製 壓紋輥之凹凸面使其密接。於該狀態下，以h射線換算光 置成為300 mj/cm2之方式，自透明樹脂膜側照射來自強度 20 mW/cm2之高壓水銀燈之光，使紫外線硬化性樹脂組合 物層硬化，從而獲得於透明樹脂膜上形成有防眩層之防眩 膜。所獲得之防眩膜之防眩層表面之鉛筆硬度為3H〇 (製造例2 :抗反射膜之製作） 將二季戊四醇三丙烯酸酯1〇重量份、季戊四醇四丙烯酸 酯10重量份、丙烯酸胺基甲酸酯（共榮社化學股份有限公 司製造’「UA-306T」）30重量份、作為光聚合起始劑之 「IRGACURE 184」（Ciba japan股份有限公司製造）2 5重 量份、作為溶劑之甲基乙基酮5〇重量份、及乙酸丁醋5〇重 量份加以混合，製備紫外線硬化性樹脂組合物之硬塗層形 成用塗佈液。藉由線棒塗佈機將該塗佈液塗佈於厚 μηι之作為TAC膜之透明樹脂膜（折射率149)上，並於設定 為80 C之乾燥機中乾燥1分鐘。使用金屬鹵化物燈，以I” W之輸出，自20⑽之距離對乾燥後之透明樹脂膜進行1〇 秒鐘之紫外線照射’藉此形成硬塗層。所獲得之硬塗層之 厚度為5 μιη，折射率為1.5 2 » 繼而’於四乙氧基碎院中加入異丙醇、〇in_酸，進 行水解，藉此獲得含有包含低聚物之四乙氧基人 物的溶液。於該溶液中混合-次粒徑為8 nm之播雜錄4 化錫（ΑΤΟ)微粒子並加人異丙醇，藉此獲得含有四乙氧基 159068.doc -39· 201227007 石夕烧之聚合物2.5重量％、4參雜錄之氧化錫微粒子2 5重量％ 的抗靜電層形成用塗佈液。另一方面，使形成有硬塗層之 TAC膜於5〇t之1·5 N-NaOH水溶液中浸潰2分鐘進行鹼處 理，水洗後，於室溫下將其於〇 5重量％2H2S〇4水溶液中 浸潰30秒，藉此加以中和，進而進行水洗並進行乾燥處 理。藉由線棒塗佈機，將上述抗靜電層形成用塗佈液塗佈 於經鹼處理之硬塗層上，並於設定為12〇<t之乾燥機中乾 燥1刀鐘藉此形成抗靜電層。所獲得之抗靜電層之厚度 為163nm，折射率.為L53,光學膜厚為25〇nm。 繼而，於四乙氧基矽烷與汨，^211，2沁全氟辛基三甲氧 基矽烷為95 . 5(莫耳比）之混合物中加入異丙醇、0.1 N鹽 酸，進行水解，藉此獲得含有包含低聚物之有機矽化合物 之聚合物的溶液。於該溶液中混合於内部具有空隙之低折 射率二氧化矽微粒子並加入異丙醇，藉此獲得含有有機矽 化a物2重量％、低折射率二氧化矽微粒子2重量％之低折 射率層形成用塗佈液。藉由線棒塗佈機，將所獲得之低折 射率層形成用塗佈液塗佈於抗靜電層上，並於設定為 120 C之乾燥機中乾燥丨分鐘，藉此形成低折射率層。所獲 得之低折射率層之厚度為91 nm，折射率為丨3 7，光學膜 厚為125 nm。根據以上，製作於透明樹脂膜上包含硬塗 層、抗靜電、及⑯折射率層之抗反射膜。戶斤獲得之抗反 射膜之低折射率層表面之錯筆硬度為2 Η。 [光擴散膜之製作] (製造例3 :光擴散膜a之製作） 159068.doc 201227007 將季戊四醇二丙烯酸酯60重量份、及多官能胺基甲酸酯 化丙烯酸酯（六亞曱基二異氰酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯 之反應產物）40重量份混合至丙二醇單甲醚溶液中，以固 形物成力/農度成為6 0重量。/。之方式進行調整而獲得紫外線 硬化性樹脂組合物。再者，自該組合物中去除丙二醇單曱 縫並進行务、外線硬化後之硬化物之折射率為1 · 5 3 β 繼而，相對於上述紫外線硬化性樹脂組合物之固形物成 分100重量份添加作為第i透光性微粒子之重量平均粒徑為 3.0 }xm且標準偏差為〇·39 μιη之聚苯乙烯系粒子1〇重量份、 作為第2透光性微粒子之重量平均粒徑為7.2 且標準偏 差為0.73 μιη之聚本乙稀系粒子3〇重量份、及作為光聚合 起始劑之「Lucirin ΤΡΟ」（BASF公司製造，化學名： 2’4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦）5重量份，以固形物 成分率成為60重量％之方式利用丙二醇單甲醚進行稀釋而 製備塗佈液。 將該塗佈液塗佈於厚度80 μηΐ2ΤΑ〇：膜（透明基材膜）上， 並於設定為80°C之乾燥機中乾燥丨分鐘後，自透明基材膜 側，以h射線換算光量成為3〇〇 mJ/cm2之方式照射來自強 度2〇 mW/cm2之高壓水銀燈之光，使紫外線硬化性樹脂組 合物層硬化，從而獲得包含光擴散層與透明基材膜之光擴 散膜A。 所獲得之光擴散膜A之總霧度、内部霧度、表面霧度分 別為6(M%、59.3%、〇.8%。又，表面之中心線平均粗链度 Ra為0.31 μιη ’光擴散層之厚度為1〇 5 μιη。 159068.doc -41 - 201227007 <實施例1〜3、比較例ι> 於製造例3中獲得之光擴散膜A之透明基材膜表面實施電 暈處理後，以4 μιη之厚度將包含紫外線硬化性環氧樹脂與 光陽離子聚合起始劑之紫外線硬化性接著劑塗佈於電暈處 理面上。另一方面，於作為保護膜之TAC膜（厚度8〇 pm)之 單面實施電暈處理後，以4 μιη之厚度將與上述相同之紫外 線硬化性接著劑塗佈於電暈處理面上。繼而，於單軸延伸 之聚乙稀醇系樹脂膜中吸附配向破而成之偏光膜之一方之 面上經由該接著劑層而積層上述光擴散膜A，並且於另一 方之面上經由該接著劑層而積層上述保護膜，藉由一對爽 輥夾持而施加壓力。其後’自保護膜側照射紫外線，使兩 側之接著劑層硬化而獲得光擴散性偏光板。 繼而’經由具有表1所示之儲存彈性模數及厚度之片狀 黏著劑’將製造例1中獲得之防眩膜以透明樹脂膜側成為 貼合面之方式貼合於上述光擴散性偏光板中之光擴散膜A 之光擴散層上，從而獲得實施防眩處理之光擴散性偏光 板。以目視觀察貼合時之向光擴散層之表面凹凸之氣泡混 入。將評價結果一併示於表1。又，將所獲得之實施防眩 處理之光擴散性偏光板的防眩層表面之鉛筆硬度一併示於 表1。 〈實施例4~6、比較例2> 除使用製造例2中獲得之抗反射膜代替防眩膜以外，以 與實施例1〜3、比較例1相同之方式獲得實施抗反射處理之 光擴散性偏光板❶將氣泡混入之評價結果示於表1。又， 159068.doc • 42· 201227007 將所獲得之實施抗反射處理之光擴散性偏光板的低折射率 層表面之鉛筆硬度一併示於表1。 [表1] 於光擴散層 上之貼合膜 片狀黏著劑 鉛筆硬度 有無混 入氣泡 儲存彈性模數 (25°〇 (MPa) 厚度 (μιη) 實施例1 防眩膜 5.00χ104 25 Η 無 實施例2 3.7〇χ105 15 3Η 無 實施例3 3.7〇xl05 5 3Η 無 比較例1 1.00x106 25 3 Η 有 實施例4 抗反射膜 5.00χ104 25 未達Η 無 實施例5 3.7〇χ105 15 2Η 無 實施例6 3.7〇χ105 5 2Η 無 比較例2 Ι.ΟΟχΙΟ6 25 2Η 有 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之光擴散性偏光板之較佳之一例的概 略剖面圖。 圖2係表示用以製造光擴散膜之裝置之一例的概略圖。 圖3係表示本發明之液晶顯示裝置之較佳之一例的概略 剖面圖。 圖4係表示光擴散機構之一例之概略剖面圖。 围丨5係表示光擴散機構之另一例之概略剖面圖。 圖6係用以說明2片光偏向板（稜鏡片）所包含之線狀稜鏡 之脊線方向、與偏光板之透射軸方向之關係的概略立體 圖0 159068.doc •43· 201227007 圖7係對光擴散機構測定相對於液晶單元之光入射面之 法線成7 0 °方向之亮度值的方法之一例。 圖8係說明非平行光之定義之圖。 圖9係表不本發明之液晶顯示裝置之其他較佳之一例的 概略剖面圖。 【主要元件符號說明】 100 光擴散性偏光板 101 偏光膜 102 光擴散膜 103 表面處理膜 104 黏著劑層 105 透明基材膜 106 光擴散層 106a 透光性微粒子 106b 透光性樹脂 107 透明樹脂膜 108 表面處理層 109 保護膜 301 捲出裝置 302 塗佈裝置 303 支承輥 304 乾燥機 305 鏡面金屬製輥或壓紋加工用金屬製報 306 夾輥

159068.doc S 201227007 307 剝離輥 308 紫外線照射裝置 309 捲取裝置 400 液晶顯示裝置 400' 液晶顯不裝置 401 液晶早元 402 背光裝置 403 光擴散機構 403a 光擴散板 403b 光偏向板 403b' 光偏向板 404 背光側偏光板 405 光擴散性偏光板 406 相位差板 411a 透明基板 411b 透明基板 412 液晶層 421 盒體 422 冷陰極管 43 0 基材 440 光擴散劑 4:50 線狀棱鏡 450' 線狀棱鏡 451 線狀稜鏡之脊線 451' 線狀稜鏡之脊線 159068.doc： • 45·

Claims (1)

1. 201227007 七、申請專利範圍： 1. 一種光擴散性偏光板，其包含： 偏光膜； 積層於上述偏光膜上之光擴散膜；及 積層於上述光擴散膜上之表面處理膜；且 上述光擴散膜包含表面之中心線平均粗糙度以為〇」 J·1111以上且未達1 μηι之光擴散層； 上述表面處理膜為於一方之表面實施有光學處理之透 明樹脂膜； 上述光擴散膜之光擴散層與上述表面處理膜經由25。〇 下之儲存彈性模數未達1〇xl〇6 pa之黏著劑層而相互貼 合。 2. 如請求項1之光擴散性偏光板，其中上述黏著劑層之於 25C下之儲存彈性模數為i〇xi〇5pa以上。 3. 如請求項1之光擴散性偏光板，其中上述光擴散層、與 上述表面處理膜之與實施有光學處理之面為相反側之面 經由上述黏著劑層而相互貼合。 4. 如晴求項1之光擴散性偏光板，其中上述表面處理膜為 於透明樹脂膜之一方之表面實施防眩處理之防眩膜、或 於透明樹脂膜之一方之表面實施抗反射處理之抗反射 膜。 5·如請求項1之光擴散性偏光板，其中上述光擴散膜包含 透明基材膜、與積層於上述透明基材膜上之上述光擴散 層，且 159068.doc 201227007 上述光擴散層包含透光性樹脂、與分散於上述透光性 樹脂中之透光性微粒子。 6.如請求項5之光擴散性偏光板，其中上述光擴散層為將 分散有上述透光性微粒子之樹脂液塗佈於上述透明基材 膜上而形成者。 7. :請求項5之光擴散性偏光板，其中上述光擴散層為將 分散有上述透光性微粒子之樹脂液塗佈於上述透明基材 膜上後，於包含上述樹脂液之層之表面轉印模具之鏡面 或凹凸面而形成者。 8. —種液晶顯示裝置，其依序積層有背光裝置、光擴散機 構、背光側偏光板、液晶單元、及如請求項丨至7中任一 項之光擴散性偏光板，且 上述光擴散性偏光板係以其偏光膜側與上述液晶單元 相對向之方式進行配置。 9. 如請求項8之液晶顯示裝置’其中自上述光擴散機構之 出射光具有自上述液晶單元之光入射面之法線方向傾斜 7〇°之方向的亮度相對於上述法線方向之亮度為2〇%以下 之配光特性，且包含非平行光。 10. 如請求項8之液晶顯示裝置，纟中上述光擴散機構包含 位於上述背光裝置側之光擴散板、與相對於上述光擴散 板位於與上述背光裝置為相反側之光偏向板。 i π求項8之液曰$顯示裝置’其中上述液晶單元為方 式液Β曰單几、IPS方式液晶單元或VA方式液晶單元申之 任一者0 159068.doc S -2 - .