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TW201201218A - Stacked semiconductor memory device, memory system including the same, and method of repairing defects of through silicon vias - Google Patents

Stacked semiconductor memory device, memory system including the same, and method of repairing defects of through silicon vias Download PDF

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TW201201218A
TW201201218A TW100115493A TW100115493A TW201201218A TW 201201218 A TW201201218 A TW 201201218A TW 100115493 A TW100115493 A TW 100115493A TW 100115493 A TW100115493 A TW 100115493A TW 201201218 A TW201201218 A TW 201201218A
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TW
Taiwan
Prior art keywords
buffer
tsv
memory
stacked
memory chip
Prior art date
Application number
TW100115493A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI532051B (zh
Inventor
Tae-Young Oh
Kwang-Il Park
Yun-Seok Yang
Young-Soo Sohn
Si-Hong Kim
Seung-Jun Bae
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of TW201201218A publication Critical patent/TW201201218A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI532051B publication Critical patent/TWI532051B/zh

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    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
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Description

201201218 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明概念之實施例係關於一種半導體記憶體裝置,且 更特定言之,係關於一種以三維方式堆疊有複數個記憶體 晶片之堆疊式半導體記憶體裝置’及一種包括其之記憶體 . 系統。 【先前技術】 已研究了以三維方式堆疊有記憶體晶片之堆疊式半導體 記憶體裝置,其使用直通矽穿孔(TSV)作為通信構件以用 於半導體積體電路之間的超高速通信。 在製造TSV以連接堆疊式半導體記憶體裝置中之記憶體 曰曰片的程序中,可能出現缺陷。因此,製造具有較高製造 良率之TSV係有益的。 【發明内容】 本發明概念之貫例貫施例係關於一種能夠修復tsv缺陷 及改良製造良率之堆疊式半導體記憶體裝置。 本發明概念之實例實施例另外係關於一種包括一堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統。 . 本發明概念之實例實施例進一步係關於一種修復一堆疊 • 式半導體記憶體裝置中之TSV缺陷的方法。 應理解,本發明概念不限於本文中具體揭示之彼等内 容。更確切而言,對於-般熟習此項技術者,其他態樣可 基於以下描述而變得顯而易見。 根據本發明概念之非限制性態樣,一種堆疊式半導體纪 155483.doc 201201218 憶體裝置可包括複數個堆疊式記憶體晶片。複數個直通矽 穿孔(TSV)可穿過所有該等記憶體晶片。1/〇緩衝器可耦接 於該等記憶體晶片中之全部或部分與該等TSV中之全部或 部分之間。該等I/O緩衝器可經組態以基於該等TSV之缺陷 狀態而選擇性地啟動。 在一些實施例中,該等I/O緩衝器可包括於該等記憶體 晶片内部。 在一些實施例中’當該等TSV中之部分存在缺陷時,可 啟動連接至一缺陷TSV之I/O緩衝器之中的位於一缺陷點下 方之一記憶體晶片中所包括的一 I/O緩衝器。 在一些實施例中,當該等TSV中之部分存在缺陷時,可 不啟動連接至一缺陷TSV之I/O緩衝器之中的位於一缺陷點 上方之一記憶體晶片中所包括的I/O緩衝器。 在一些實施例中,該等記憶體晶片中之每一者可包括一 緩衝器控制電路’該緩衝器控制電路用於基於該等τ§ν之 該等缺陷狀態而啟用該等記憶體晶片中之每一者内部的 I/O緩衝器。 在一些實施例中’該緩衝器控制電路可包括一非揮發性 記憶體裝置。 在一些實施例中,該緩衝器控制電路可為〇ΤΡ或 EEPROM 〇 在一些實施例中’該等記憶體晶片中之每一者可針對每 一 I/O緩衝器獨立地具有一緩衝器控制電路,該緩衝器控 制電路用以基於該等TSV之s玄專缺陷狀態而啟用該等記憶 155483.doc 201201218 體晶片中之每一者内部的ι/ο緩衝器。 在一些實施例t ’當包括針對-位址/命令之複數個tsv 及針對資料之複數個Tsv且該資料匯流排映射歸因於針對 該資料之該等TSV中之部分的一缺陷而改變時,該位址/命 令匯流排映射亦可改變。 在一些實施财’當包括針對—絲/命令之複數個TSV 及針對資料之複數個TSV且該位址/命令匯流排映射歸因於 針對該位址/命令之該等TSV中之部分的一缺陷而改變時, 該資料匯流排映射亦可改變。 在根據本發明概念之另一非限制性實施例中,一種堆疊 式半導體記憶體裝置可包括:複數個記憶體晶片,其堆疊 於一第一方向上;複數個1/0緩衝器,其安置於該複數個 記憶體晶片中之每-者中;及複數個直通石夕穿孔(TSV), 其在》玄第-方向上延伸穿過該複數個記憶體晶片,該複數 個TSV中之每-者麵接至該複數個1/()緩衝器中之至少兩 者’該複數個I/O緩衝器經組態以在該複數個TSV中之一或 多者中存在一缺陷的情況下選擇性地啟動。 根據本發明概念之另一非限制性態樣,一種記憶體系統 可包括一處理器晶片。複數個記憶體晶片可堆疊於該處理 器晶片上方。複數個TSV可穿過所有該等記憶體晶片,且 可連接至該處理器晶片。1/0緩衝器可輕接於該等記憶體 晶片中之全部或部分與該等Tsv中之全部或部分之間。該 等I/O緩衝器可經組態以基於該等Tsv之缺陷狀態而選擇性 地啟動。 155483.doc 201201218 在-些實施例中’當包括針對-位址/命令之複數個咖 及針對資料之複數個TSV且該資料匯流排映射歸因於針對 該資料之該等TSV中之部分的一缺陷而⑼日夺,該位址/命 令匯流排映射亦可改變。 在一些實施例中,該處理器晶片可包括—修復電路,該 修復電路用於將該經改變之資料匯流排映射恢復至一原始 資料匯流排映射。 在一些實施例中,該修復電路可包括於該處理器晶片内 部之一記憶體控制器中。
根據本發明概念之又一非限制性態樣,一種修復一堆疊 式半導體記憶體裝置中之TSV缺陷的方法可包括將1/0緩2 器耦接於複數個記憶體晶片中之全部或部分與複數個T s V 中之全部或部分之間。可基於該等TSV之缺陷狀態而選擇 性地啟動該等I/O緩衝器。 在一些實施例中,選擇性地啟動該等I/C)緩衝器可包 括:啟動連接至一缺陷TSV之該等I/C)緩衝器之中的位於一 缺陷點下方之一 s己憶體晶片中所包括的一 I/O緩衝器;及 啟動連接至非缺陷TSV之I/O緩衝器。 在一些實施例中,選擇性地啟動該等1/0緩衝器可包 括:歸因於針對資料之TSV中之部分的一缺陷而改變該資 料匯流排映射’且亦改變該位址/命令匯流排映射。 【實施方式】 本發明概念之前述及其他特徵及優點將自如隨附圖式中 所說明的本發明概念之非限制性實施例之更特定描述而顯 155483.doc 201201218 而易見’其中相同參考字元貫穿不同視圖指代相同部件β »亥·#圖式未必按比例繪製’而是重點說明本發明概念之原 理。 現將參看隨附圖式更充分地描述各種實施例,在該等隨 附圖式中展示一些實例。然而’此等本發明概念可以不同 形式體現’且不應被解釋為限於本文中所闡述之實施例。 更確切而言,僅提供此等實施例以確保本發明為透徹且完 整的’且向熟習此項技術者充分地傳達本發明概念。在該 等圖式令’可能為清晰起見而誇示層及區域之大小及相對 大小。 應理解,當一元件或層被稱作「在另一元件或層上」、 「連接至另一元件或層」或「耦接至另一元件或層」時, 該元件或層可直接位於另一元件或層上、連接至或耦接至 另一元件或層’或可存在介入元件或層,相比而言,當一 元件被稱作「直接在另一元件或層上」、「直接連接至另一 元件或層」或「直接耦接至另一元件或層」時,不存在介 入元件或層。在全文中相似數字指代相似元件。如本文中 所使用,術語「及/或」包括相關聯之所列項目中之一或 多者的任何及所有組合。 應理解,雖然可能在本文申使用術語「第一」、「第 一」、「第二」等來描述各種元件、組件、區域、層及/或 區段,但此等元件、組件、區域、層及/或區段不應受此 等術語限制。此等術語僅用以區分一個元件、組件、區 域層或區段與另一區域、層或區段。因此,在不偏離本 155483.doc 201201218 發明概念之教示的情況下,可將下文所論述之第一元件、 組件、區域、層或區段稱為第二元件、組件、區域 區段。 為了便於描述,本文中可能使用諸如「在之下」、 「在.··下方」、「下部」、「在…上方」、「上部」及其類似」者 之空間相對術語來描述如諸圖中所說明之一個元件或特徵 與另(另-些)7〇件或特徵之關係。應理解,除諸圖中所 描繪之定向之外,該等空間相對術語亦意欲涵蓋使用或操 作中之裝置之不同定向。舉例而言,若將圖中之裝置翻 轉,則描述為在其他元件或特徵「下方」或「之下」之元 :則將定向於該等其他元件或特冑「上方」。因此,術語 「在…下方」可涵蓋上方與下方兩種定向。可以其他方式 來疋向裝置(旋轉90度或處於其他定向)且可相應地解譯本 文中所使用之空間相對描述詞。 本文中所使用之術語僅用於達成描述特定實施例之目 的,且不意欲限制本發明概念。如本文中所使用,除非上 下文另外清楚指示,否則單數形式「一」及「該」意欲亦 包括複數形式。應進一步理解,術語「包含」、「包括」在 用於本說明書中時指定輯述之特徵、整數、步驟二操 作、7G件及/或組件之存在,但不排除一或多個其他特 徵、整數、步驟、操作、元件、組件及/或其群組之存在 或添加。 在本文中參考橫截面說明來描述實施例,該等橫截面說 明為理想化實施例(及中間結構)之示意性說明。因而,預 155483.doc 201201218 期由於(例如)製造技術及/或容差而存在的該等說明之形狀 的變化^因此’實施例不應被解釋為限於本文中所說明之 特定區域形狀,而應包括由於(例如)製造引起之形狀偏 差。舉例而言’說明為矩形之植入區域通常將具有修圓或 彎曲之特徵及/或在其邊緣處之植入濃度的梯度而非自植 入區域至非植入區域之二元改變。同樣,藉由植入形成之 内埋區域可導致在内埋區域與藉以進行植入之表面之間的 區域中的一些植入。因此,諸圖中所說明之區域本質上為 示意性的且該等區域之形狀並不意欲說明裝置之區域之實 際形狀且並不意欲限制本發明概念之範_。 除非另外定義,否則本文中所使用之所有術語(包括技 術及科學術語)具有與一般熟習本發明概念所屬之技術者 通常所理解之意義相同的意義。應進一步理解,應將術語 (諸如,常用辭典中所定義之彼等術語)解譯為具有與其在 相關技術背景中之意義一致的意義,且除非在本文中如此 明確地定義,否則將並不以理想化或過度正式意義來進行 解譯。 亦應注意,在一些替代實施中’所述功能/動作可能不 按諸圖中所述之次序發生。舉例而言,取決於所涉及之功 能性/動作,連續展示之兩張圖實際上可大體上同時執行 或有時可按相反次序執行。 現將參看隨附圖式來描述本發明概念之非限制性實施 例0 圖1為展示根據本發明概念之第一實施例的包括堆疊式 155483.doc 201201218 半導體記憶體裝置之記憶體系統100的示意性橫截面圖。 參看圖1,記憶體系統100包括一處理器晶片110、記憶 體晶片120、130、140及150,以及TSV 161。記憶體晶片 120、130、140及150堆疊於處理器晶片110上方,且構成 堆疊式半導體記憶體裝置。TSV 161穿過所有記憶體晶片 12〇、13〇、14〇及150,且連接至處理器晶片11()。記憶體 晶片120、130、140及150包括耦接於該等記憶體晶片 120、130、140及150中之全部或部分與該等TSV 161中之 全部或部分之間的輸入/輸出(I/O)緩衝器。基於該等TSv 161之狀態而選擇性地啟動該等I/O緩衝器。 圖2為展示圖1之記憶體系統1 〇〇中所包括的記憶體晶片 之結構之一實例的平面圖。 參看圖2 ’記憶體晶片120a包括TSV 1 61 a,及包括記憶 體組121、122、123及124之記憶體核心。如圖1中所展示 之I/O緩衝器連接於記憶體組121、122、123及124與TSV 161 a之間,但為方便描述起見在圖2中省略該等"〇緩衝 器。内部電極配置於記憶體組121、122、123及124上,該 等内部電極將TSV 161電連接至該等記憶體組121、122、 123及124内之電路區塊。為方便起見,在圖2中針對每一 s己憶體組展示一個内部電極。在圖丨中將TSv丨6丨配置於記 憶體晶片120、130、140及150之中央部分中,但該等TSV 161可配置於記憶體晶片12〇、13〇、14〇及15〇之其他位置 中〇 圖3為展示圖1之記憶體系統之三維結構的示意性透視 155483.doc -10- 201201218 圖。 參看圖3 ’記憶體系統100a包括處理器晶片110 ’以及藉 由TSV 161而電連接之記憶體晶片U0、130、140及150 » 雖然在圖3中展示配置成兩列之TSV 161,但應理解,記憶 體系統100a可具有TSV之其他合適組態。 ' 圖4為展示根據本發明概念之第二實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統200的橫截面圖。 參看圖4 ’記憶體系統200包括一處理器晶片210,及一 半導體記憶體裝置,該半導體記憶體裝置包括堆疊於該處 理器晶片210上方之記憶體晶片220、230、240及250。處 理器晶片210可包括一記憶體控制器211。 第1記憶體晶片220堆疊於處理器晶片210上方,第2記憶 體晶片230堆疊於第1記憶體晶片220上方,第3記憶體晶片 240堆疊於第2記憶體晶片230上方,且第4記憶體晶片250 堆疊於第3記憶體晶片240上方。TSV TSV1、TSV2、TSV3 及TSV4自第4記憶體晶片250穿過至第1記憶體晶片220, 且連接至處理器晶片210 » 第1至第4 I/O缓衝器221、222、223及224包括於第1記憶 體晶片220中’其分別連接至第1至第4 TSV TSVI、 • TSV2、TSV3及TSV4,且藉由作為4位元信號之第1緩衝器 啟用信號EN_BUF一1<0:3>而選擇性地啟動。 第5至第8 I/O緩衝器231、232、233及234包括於第2記憶 體晶片230中’其分別連接至第1至第4 TSV TSV1、 TSV2、TSV3及TSV4,且藉由作為4位元信號之第2緩衝器 155483.doc 201201218 啟用信號EN_BUF_2<0:3>而選擇性地啟動。 第9至第12 I/O緩衝器241、242、243及244包括於第3記 憶體晶片240中,其分別連接至第1至第4 TSV TSV1、 TSV2、TSV3及TSV4,且藉由作為4位元信號之第3缓衝器 啟用信號EN_BUF_3<0:3>而選擇性地啟動。 第13至第16 I/O緩衝器251、252、253及254包括於第4記 憶體晶片250中,其分別連接至第1至第4 TSV TSV1、 TSV2、TSV3及TSV4,且藉由作為4位元信號之第4緩衝器 啟用信號EN_BUF_4<0:3>而選擇性地啟動。 圖4之記憶體系統在第2 TSV TSV2之點DPI中具有缺陷 (諸如,斷開狀態),且在第4 TSV TSV4之點DP2中具有缺 陷。在第2 TSV TSV2之DPI與處理器晶片210之間可能存 在通信。因此,在連接至具有缺陷之第2 TSV TSV2的I/O 缓衝器222、232、242及252之中,啟動位於缺陷點DPI正 下方之第1記憶體晶片220中所包括的第2 I/O緩衝器222。 又,在第4 TSV TSV4之DP2與處理器晶片210之間可能存 在通信。因此,在連接至具有缺陷之第4 TSV TSV4的I/O 緩衝器224、234、244及254之中,啟動位於缺陷點DP2正 下方之第3記憶體晶片240中所包括的第12 I/O緩衝器244。
由於第1記憶體晶片220中所包括之第2 I/O緩衝器222已 啟動,因此在連接至第1 TSV TSV1之I/O緩衝器221、 231、241及251之中,啟動第2記憶體晶片230中所包括的 第5 I/O緩衝器231。又,由於第3記憶體晶片240中所包括 之第12 I/O緩衝器244已啟動,因此在連接至第3 TSV 155483.doc -12- 201201218 TSV3之I/O緩衝器223、233、243及253之中,啟動第4記憶 體晶片250中所包括的第15 I/O緩衝器253。 圖5為展示根據本發明概念之第三實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖。 • 參看圖5 ’記憶體系統200a包括一處理器晶片210a及一 • 半導體記憶體裝置,該半導體記憶體裝置包括堆疊於該處 理器晶片210a上方之記憶體晶片220a、230a、240a及 250a。處理器晶片210a可包括一記憶體控制器211。TSV TSV1、TSV2、TSV3及TSV4自第4記憶體晶片250a穿過至 第1記憶體晶片220a,且連接至處理器晶片210a。 在圖5之堆疊式半導體記憶體裝置及包括該堆疊式半導 體記憶體裝置之記憶體系統中,一緩衝器控制電路包括於 記憶體晶片220a、230a、240a及250a中之每一者内部。包 括於第1記憶體晶片220a中之第1緩衝器控制電路225產生 一第1緩衝器啟用信號EN_BUF_1 ’且啟動或撤銷啟動包括 於第1記憶體晶片220a中之I/O緩衝器221、222、223及 224。包括於第2 §己憶體晶片230a中之第2緩衝器控制電路 235產生一第2緩衝器啟用信號抓』^一2,且啟動或撤銷 • 啟動包括於第2記憶體晶片230a中之I/O緩衝器231、232、 - 233及234。包括於第3記憶體晶片24〇a中之第3緩衝器控制 電路245產生一第3緩衝器啟用信號en_BUF_3,且啟動或 撤銷啟動包括於第3記憶體晶片240a中之I/O緩衝器241、 242、243及244。包括於第4記憶體晶片250a中之第4緩衝 器控制電路255產生一第4緩衝器啟用信號EN_BUF-4,且 155483.doc •13· 201201218 啟動或撤銷啟動包括於第4記憶體晶片250a中之I/O緩衝器 251 、 252 ' 253及254 〇 圖6為展示構成圖5中所示之堆疊式半導體記憶體裝置的 一個晶片之結構之一實例的示意性電路圖。 參看圆6,第1記憶體晶片220a之緩衝器控制電路225經 由第1連接線CL1而連接至I/O緩衝器buFII、BUF21、...、 BUFnl。該等 I/O緩衝器 BUF11、BUF21、…、BUFnl 分別 連接至TSV TSV11、TSV21、…、TSVnl »緩衝器控制電 路225經由第2連接線CL2而連接至I/O緩衝器BUF12、 BUF22 、…、BUFn2 。該等 I/O 緩衝器 BUF12、 BUF22、…、BUFn2分別連接至TSV TSV12 ' TSV22、...、 TSVn2。緩衝器控制電路225經由第3連接線CL3而連接至 I/O緩衝器BUF13、BUF23、…、BUFn3。該等I/O緩衝器 BUF13、BUF23、…、BUFn3 分別連接至 TSV TSV13、 TSV23、…、TSVn3。緩衝器控制電路225經由第4連接線 CL4而連接至I/O緩衝器BUF14、BUF24、…、BUFn4。該 等I/O緩衝器BUF14、BUF24、…、BUFn4分別連接至TSV TSV14、TSV24、…、TSVn4。 該等I/O緩衝器BUF11、BUF21、…、BUFnl經由TSV TSV11、TSV21、...、TSVnl 而輸出輸出資料 DQ0_0、 DQ0_1 、…、DQ0_n 。該等 I/O 缓衝器 BUF12 、 BUF22、…、BUFn2經由 TSV TSV12、TSV22、…、TSVn2 而輸出輸出資料DQ1_0、DQ1_1、…、DQl_n。該等I/O緩 衝器 BUF13、BUF23、…、BUFn3 經由 TSV TSV13、 155483.doc 201201218 TSV23、…、TSVn3而輸出輸出資料DQ2_0、DQ2_1、…、 DQ2_n。該等 I/O緩衝器 BUF14、BUF24、…、BUFn4經由 TSV TSV14、TSV24、...、TSVn4 而輸出輸出資料 DQ3_0、DQ3一1、…、DQ3 η 〇 緩衝器控制電路225產生4位元之第1緩衝器啟用信號 EN_BUF_1<0:3>。該第 1緩衝器啟用信號 EN_BUF_1<0:3> 之第1位元EN_BUF_l<〇>經由第1連接線CL1而啟動I/O緩 衝器BUF11、BUF21、…、BUFnl。該第1緩衝器啟用信號 EN_BUF_1<0:3>之第2位元EN_BUF_1<1>經由第2連接線 CL2而啟動I/O緩衝器BUF12、BUF22、…、BUFn2。該第1 緩衝器啟用信號EN__BUF_1<0:3>之第3位元EN_BUF_1<2> 經由第3連接線CL3而啟動I/O缓衝器BUF13、BUF23、...、 BUFn3。該第1緩衝器啟用信號EN一BUF_1<0:3>之第4位元 EN_BUF_1<3>經由第4連接線CL4而啟動I/O缓衝器 BUF14、BUF24 ' …、BUFn4。 圖7及圖8為展示圖6之電路圖中所包括的緩衝器控制電 路之非限制性實施例的電路圖。 參看圖7,可使用單次程式化(OTP)來實施緩衝器控制電 路225a。或者,參看圖8,可使用電可抹除可程式化唯讀 記憶體(EEPROM)來實施緩衝器控制電路225b » 圖9為展示構成圖5中所示之堆疊式半導體記憶體裝置的 一個晶片之結構之另·一貫例的不意性電路圖。 參看圖9,記憶體晶片220b針對每一 I/O緩衝器獨立地包 括一緩衝器控制電路。舉例而言,I/O緩衝器BUF11由緩衝 155483.doc 201201218 益控制電路B CC11控制’ I/O緩衝器BUF12由緩衝器控制電 路BCC12控制,I/O緩衝器BUF13由緩衝器控制電路BCC13 控制’且I/O緩衝器BUF14由緩衝器控制電路BCC14控制。 類似地’ I/O緩衝器BUF21由緩衝器控制電路bcC2 1控制, I/O緩衝器BUF22由緩衝器控制電路BCC22控制,I/O緩衝 器BUF23由緩衝器控制電路BCC23控制,且I/O緩衝器 BUF24由緩衝器控制電路BCC24控制。同樣地,1/0緩衝器 BUFnl由緩衝器控制電路BCcnl控制,1/0緩衝器BUFn2由 緩衝器控制電路BCCn2控制,I/O緩衝器BUFn3由緩衝器控 制電路BCCn3控制’且I/O緩衝器bUFn4由緩衝器控制電路 BCCn4控制。 圖10及圖11為展示圖9之電路圖中所包括的緩衝器控制 電路之非限制性實施例的電路圖。參看圖1 〇,可使用OTp 來貫施緩衝器控制電路BCC11。或者,參看圖η,可使用 EEPROM來實施緩衝器控制電路BCC11。 圖12為展示根據本發明概念之第四實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統3〇〇的橫截面圖。 參看圖12 ’記憶體系統300包括一處理器晶片3 1 〇及一半 導體記憶體裝置,該半導體記憶體裝置包括堆疊於該處理 器晶片310上方之記憶體晶片320、330、340及350。處理 器晶片3 10可包括一記憶體控制器3 11。 第1記憶體晶片320堆疊於處理器晶片31〇上方,第2記憶 體晶片330堆疊於第1記憶體晶片32〇上方,第3記憶體晶片 340堆壁於第2記憶體晶片330上方,且第4記憶體晶片350 155483.doc -16· 201201218 堆疊於第3記憶體晶片340上方。TSV TSVl、TSV2、TSV3 及TSV4自第4記憶體晶片350穿過至第1記憶體晶片320, 且連接至處理器晶片3 10。 第1 I/O緩衝器321及第2 I/O缓衝器322包括於第1記憶體 晶片320中,其分別連接至第1 TSV TSV1及第2 TSV TSV2,且藉由作為2位元信號之第1緩衝器啟用信號 EN_BUF_1<0:1>而選擇性地啟動。 第3 I/O緩衝器331及第4 I/O缓衝器332包括於第2記憶體 晶片330中,其分別連接至第3 TSV TSV3及第4 TSV TSV4,且藉由作為2位元信號之第2缓衝器啟用信號 EN_BUF_2<0:1>而選擇性地啟動。 第5 I/O缓衝器341及第6 I/O緩衝器342包括於第3記憶體 晶片340中,其分別連接至第1 TSV TSV1及第2 TSV TSV2,且藉由作為2位元信號之第3緩衝器啟用信號 EN_BUF_3<0:1>而選擇性地啟動。 第7 I/O緩衝器351及第8 I/O緩衝器352包括於第4記憶體 晶片350中,其分別連接至第3 TSV TSV3及第4 TSV TSV4,且藉由作為2位元信號之第4緩衝器啟用信號 EN_BUF_4<0:1>而選擇性地啟動。 因此,包括圖12之堆疊式半導體記憶體裝置的記憶體系 統可不同於圖4之實例《舉例而言,記憶體晶片320、 330、340及350並未連接至所有該等TSV TSVl、TSV2、 TSV3及TSV4。實情為,記憶體晶片320、330、340及350 中之每一者連接至該等TSV TSVl、TSV2、TSV3及TSV4 155483.doc -17- 201201218 中之兩者,但實例實施例不限於此。 圖12之記憶體系統在第2 TSV TSV2之點DPI中具有缺陷 (諸如,斷開狀態),且在第4 TSV TSV4之點DP2中具有缺 陷。在第2 TSV TSV2之DPI與處理器晶片310之間可能存 在通信。因此,在連接至具有缺陷之第2 TSV TSV2的I/O 緩衝器322及342之中’啟動位於缺陷點DPI正下方之第1記 憶體晶片320中所包括的第2 I/O緩衝器322。又,在第4 TSV TSV4之DP2與處理器晶片310之間可能存在通信。因 此’在連接至具有缺陷之第4 TSV TSV4的I/O緩衝器332及 352之間,啟動位於缺陷點DP2正下方之第2記憶體晶片330 中所包括的第4 I/O緩衝器332。 由於第1 s己憶體晶片320中所包括之第2 I/O緩衝器322已 啟動,因此在連接至第1 TSV 緩衝器321及341 之間’啟動第3記憶體晶片340中所包括的第5 I/O緩衝器 341。由於第2記憶體晶片330中所包括之第4 I/O緩衝器3 3 2 已啟動’因此在連接至第3 TSV TSWiPO緩衝器331及 35 1之間’啟動第4記憶體晶片350中所包括的第7 I/O緩衝 器 351。 圖13為展示根據本發明概念之第五實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統400的橫截面圖。 參看圖1 3,記憶體系統4〇〇包括一處理器晶片4丨〇及一堆 疊式半導體記憶體裝置,該堆疊式半導體記憶體裝置包括 堆疊於s亥處理器晶片410上方之記憶體晶片42〇、43〇 ' 44〇 及45 0。處理器晶片41 〇可包括一記憶體控制器4丨!。 155483.doc • 18 · 201201218 第1記憶體晶片42;)堆疊於處理器晶片41 〇上方,第2記憶 體晶片430堆疊於第1記憶體晶片420上方,第3記憶體晶片 440堆疊於第2 §己憶體晶片430上方,且第4記憶體晶片450 堆疊於第3記憶體晶片440上方。TSV TSV11、TSV12、 TSV13、TSV14、TSV15、TSV16、TSV17 及 TSV18 自第 4 記憶體晶片450穿過至第1記憶體晶片420,且連接至處理 器晶片 410。TSV TSV11、TSV12、TSV13 及 TSV14 傳送位 址/命令 ADD/CMD,且 TSV TSV15、TSV16、TSV17 及 TSV18傳送資料DQ。 第1至第4 I/O緩衝器421、422、423及424包括於第1記憶 體晶片420中,其分別連接至第1至第4 TSv TSV11、 TSV12、TSV13及TSV14 ’且藉由作為4位元信號之第1緩 衝1§啟用4s遗EN一ABUF_1 <0:3>而選擇性地啟動。第5至第 8 I/O緩衝器425、426、427、428包括於第1記憶體晶片420 中,其分別連接至第5至第8 TSV TSV15、TSV16、TSV17 及TSV18 ’且藉由作為4位元信號之第2緩衝器啟用信號 EN_DBUF_1<0:3>而選擇性地啟動。 第9至第12 I/O緩衝器431、432、433及434包括於第2記 憶體晶片430中,其分別連接至第1至第4 TSV TSV11、 TSV12、TSV13及TSV14 ’且藉由作為4位元信號之第3緩 衝器啟用信號EN_ABUF_2<0:3>而選擇性地啟動β第13至 第16 I/O缓衝器435、436 ' 437、438包括於第2記憶體晶片 430中,其分別連接至第5至第8 TSV TSV15、TSV16、 ltSV17及TSV18 ’且藉由作為4位元信號之第4緩衝器啟用 155483.doc -19- 201201218 信號EN_DBUF_2<0:3>而選擇性地啟動。 第17至第20 I/O緩衝器441、442、443及444包括於第3記 憶體晶片440中,其分別連接至第1至第4 TSV TSV11、 TSV12、TSV13及TSV14,且藉由作為4位元信號之第5緩 衝器啟用信號EN_ABUF_3<0:3>而選擇性地啟動。第21至 第24 I/O緩衝器445、446 ' 447、448包括於第3記憶體晶片 440肀,其分別連接至第5至第8 TSV TSV15、TSV16、 TSV17及TSV18,且藉由作為4位元信號之第6緩衝器啟用 信號EN_DBUF_3<0:3>而選擇性地啟動。 第25至第28 I/O緩衝器451、452、453及454包括於第4記 憶體晶片450中,其分別連接至第1至第4 TSV TSV11、 TSV12、TSV13及TSV14,且藉由作為4位元信號之第7缓 衝器啟用信號£1^_八丑1^_4<0:3>而選擇性地啟動。第29至 第32 I/O緩衝器455、456、457、458包括於第4記憶體晶片 450中,其分別連接至第5至第8 TSV TSV15、TSV16、 TSV 17及TSV 1 8,且藉由作為4位元信號之第8緩衝器啟用 信號EN_DBUF_4<0:3>而選擇性地啟動。 在圖13之實施例中,第1緩衝器啟用信號EN-ABUF-1 <0:3>、第3緩衝器啟用信號EN_ABUF_2<0:3>、第5緩衝器 啟用信號EN—ABUF一3<0:3>及第7緩衝器啟用信號 EN_ABUF_4<0:3>控制連接至針對命令/位址之第1至第4 TSV TSV11、TSV12、TSV13及 TSV14的 I/O緩衝器。第 2緩 衝器啟用信號EN_DBUF一 1<0:3>、第4緩衝器啟用信號 EN DBUF 2<0:3>、第 6緩衝器啟用信號EN_DBUF_3<0:3> 155483.doc •20- 201201218
及第8缓衝器啟用信號EN_DBUF_4<〇:3>控制連接至針對資 料之第 5至第 8 TSV TSV15、TSV16、TSV17及 TSV18 的 I/O 缓衝器。 若第6 TSV TSVI6在第1記憶體晶片420與第2記憶體晶片 430之間的點DPI中存在缺陷,且第8 TSV TSV18在第3記 憶體晶片440與第4記憶體晶片450之間的點DP2中存在缺 陷,則啟動連接至第6 TSV TSV16之第1記憶體晶片420的 第6 I/O緩衝器426,且啟動連接至第8 TSV TSV18之第3記 憶體緩衝器440的第24 I/O缓衝器448。 由於第1記憶體晶片420中所包括之第6 I/O緩衝器426已 啟動,因此在連接至第5 TSV TSV15之I/O缓衝器425、 435、445及455之中,啟動第2記憶體晶片430中所包括的 第13 I/O緩衝器435。又,由於第3記憶體晶片440中所包括 之第24 I/O緩衝器448已啟動,因此在連接至第7 TSV TSV17之I/O緩衝器427、437、447及457之中,啟動第4記 憶體晶片450中所包括的第31 I/O緩衝器457。 若資料映射由於缺陷TSV而改變,則位址/命令 (ADD/CMD)映射亦根據該經改變之資料映射而改變。在圖 13之實例中,在連接至針對資料之TSV的I/O緩衝器之中, 啟動連接至第5 TSV TSV15之第13 I/O緩衝器435,啟動連 接至第6 TSV TSV16之第6 I/O緩衝器426,啟動連接至第7 TSV TSV17之第31 I/O緩衝器457,且啟動連接至第8 Tsv TSV18之第24 I/O緩衝器448。因此,在連接至針對位址/ 命令(ADD/CMD)之TSV的I/O緩衝器之中,可啟動連接至 155483.doc -21· 201201218 第1 TSV TSV11之第9 I/O緩衝器431,可啟動連接至第12 TSV TSV12之第2 I/O緩衝器422,可啟動連接至第3 TSV TSV13之第27 I/O緩衝器453,且可啟動連接至第4 TSV TSVI4之第20 I/O緩衝器444。 圖14為展示根據本發明概念之第六實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統400a的橫截面圖。 在圖14之記憶體系統400a中,用於產生緩衝器啟用信號 之緩衝器控制電路429、439、449及459分別建置於記憶體 晶片420a、430a、440a及450a中。可如結合圖13之處理器 晶片410來描述圖14之處理器晶片410a。由於圖14之記憶 體系統400a之操作類似於圖13中所展示之記憶體系統400 的操作,因此為簡潔起見已省略對圖14之記憶體系統400a 之操作的描述。 圖1 5為展示根據本發明概念之第七實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統400b的橫截面圖。 可如結合圖13之處理器晶片41 0來描述圖1 5之處理器晶 片410b。又,可如結合圓13之記憶體晶片420、430、440 及450來描述記憶體晶片420b、430b、440b及450b。參看 圖15 ’若在記憶體系統400b中針對位址/命令(ADD/CMD) 之TSV存在缺陷,則資料映射改變。 圖15之記憶體系統400b在第2 TSV TSV12之點DP3及第4 TSV TSV14之點DP4中存在缺陷。在連接至針對位址/命令 (ADD/CMD)之TSV的I/O緩衝器之中,啟動連接至第1 tsV TSV11之第9 I/O緩衝器431,啟動連接至第2TSV TSV12之 155483.doc -22- 201201218
第2 I/O緩衝器422 ’啟動連接至第3 TSV TSV13之第27 I/O 緩衝器453 ’且啟動連接至第4 TSV TSV14之第2〇 I/c>緩衝 器444。因此’在連接至針對資料之丁8¥的〗/〇緩衝器之 中’可啟動連接至第5 TSV TSV15之第13 I/O緩衝器435, 可啟動連接至第6 TSV TSV16之第6 I/O緩衝器426,可啟 動連接至第7 TSV TS VI7之第31 I/O緩衝器457,且可啟動 連接至第8 TSV TSV18之第24 I/O緩衝器448。 若堆疊式半導體記憶體裝置之資料映射改變,則處理器 晶片410b應將經改變之資料匯流排映射恢復至原始資料匯 流排映射。 圖16為展示圖13、圖14及圖15之記憶體系統中用於將經 改變之資料映射恢復至原始資料匯流排映射的修復電路 412之電路圖。 參看圖16 ’修復電路412包括連接至TSV TSV15、 TSV16、TSV17 及 TSV18 之解多工器 DM1、DM2、DM3 及 DM4。回應於控制信號CTRL,修復電路412將資料DQ〇、 DQ1、DQ2 及 DQ3 提供至 TSV TSV15、TSV16、TSV17 及 TSV18中之一者。該控制信號CTRL可基於映射表而獲 得,且可由處理器晶片41〇對記憶體晶片執行訓練操作而 獲得。 圖17為展示根據本發明概念之實例實施例的修復堆疊式 半導體記憶體裝置中之TSV缺陷之方法的流程圖。 參看圖17,可經由以下步驟來修復堆疊式半導體記憶體 裝置之TSV缺陷。 155483.doc •23· 201201218 在步驟S10中,將I/O緩衝器耦接於記憶體晶片中之全部 或部分與TSV中之全部或部分之間。
在步驟S20中,基於該等TSV之狀態而選擇性地啟動I/O 緩衝器。 圖18為展示圖17之丁8¥缺陷修復方法中的選擇性地啟動 I/O緩衝器之步驟之一實例的流程圖。 參看圖18 ’選擇性地啟動1/0緩衝器之步驟可包括以下 步驟。 在步驟S21中,在連接至缺陷7^¥之1/〇緩衝器之中,啟 動位於缺陷點下方之記憶體晶片中所包括的I/O緩衝器。 在步驟S22中,啟動連接至非缺陷TSV之I/O緩衝器。 圖19為展示圖π之TSV缺陷修復方法中的選擇性地啟動 I/O緩衝器之步驟之另一實例的流程圖。 參看圖19 ’選擇性地啟動1/〇緩衝器之步驟可包括以下 步驟。 在步驟S23中,歸因於針對資料之TSV中之部分的缺陷 而改變資料匯流排映射。 在步驟S24中’改變位址/命令匯流排映射。 在步驟S25中,將經改變之資料匯流排映射恢復至原始 資料匯流排映射。 如本文中所論述,本發明概念之若干實施例可應用於包 括堆疊式半導體記憶體裝置之記憶體系統。 根據本發明概念之非限制性實施例,堆疊式半導體裝置 基於TSV之缺陷狀態而選擇性地啟動連接至Tsv之記憶體 155483.doc • 24 - 201201218 晶片中所包括的I/O緩衝器。 根據本發明概念之非限制性實施例,堆疊式半導體記憶 體裝置及包括其之記憶體系統可增加製造良率。 刖述内容僅說明各種實施例,且不應被解釋為限於該等 實施例。雖然已描述了 一些非限制性實施例,但熟習此項 技術者將易於瞭解,在實質上不脫離本文中之新穎教示及 優點的情況下,許多修改係可能的。因此,所有此等修改 均意欲包括於如申請專利範圍中所界定之本發明概念之範 疇中。在申請專利範圍中,裝置附加功能子句意欲涵蓋本 文中經描述為執行所述功能之結構,且不僅涵蓋結構等效 物而且亦涵蓋等效結構。因此,應理解,前述内容僅說明 各種實施例,且不應被解釋為限於所揭示之特定實施例, 且對所揭不實施例之修改以及其他實施例意欲包括於隨附 申請專利範圍之範疇中。 【圖式簡單說明】 圖1為展示根據本發明概念之第一實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的示意性橫截面圖; 圖2為展示圖1之記憶體系統令所包括之記憶體晶片的結 構之一實例的平面圖; 圖3為展示圖1之記憶體系統之三維結構的示意性透視 圖; 圖4為展示根據本發明概念之第二實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖; 圖5為展示根據本發明概念之第三實施例的包括堆疊式 155483.doc -25- 201201218 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖; 圖6為展示構成圖5中所展示之堆疊式半導體記憶體裝置 的晶片之結構之一實例的示意性電路圖; 圖7為展不圖6之電路圖中所包括的緩衝器控制電路之一 非限制性實施例的電路圖; 圖8為展示圖6之電路圖中所包括的緩衝器控制電路之另 一非限制性實施例的電路圖; 圖9為展示構成圖5中所展示之堆疊式半導體記憶體裝置 的晶片之結構之另一實例的示意性電路圖; 圖10為展示圓9之電路圖中所包括的緩衝器控制電路之 一實例的電路圖; 圖11為展示圖9之電路圖中所包括的緩衝器控制電路之 另一實例的電路圆; 圖12為展示根據本發明概念之第四實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖; 圖13為展示根據本發明概念之第五實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖; 圖14為展示根據本發明概念之第六實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖; 圖1 5為展示根據本發明概念之第七實施例的包括堆疊式 半導體記憶體裝置之記憶體系統的橫截面圖; 圖16為展示圖13、圖14及圖15之記憶體系統中的用於將 經改變之資料映射恢復至原始資料匯流排映射之修復電路 的電路圖; 155483.doc •26· 201201218 圖17為展示根據本發明概念之實施例的修復堆疊式半導 體記憶體裝置中之TSV缺陷之方法的流程圖; 圖18為展示圖172TSV缺陷修復方法中的選擇性地啟動 I/O缓衝器之步驟之一實例的流程圓;及 圖19為展示圖17之TSV缺陷修復方 一 成甲的選擇性地啟動 I/O缓衝器之步驟之另一實例的流程圖。 【主要元件符號說明】 100 記憶體系統 100a 記憶體系統 110 處理器晶片 120 記憶體晶片 120a 記憶體晶片 121 記憶體組 122 記憶體組 123 記憶體組 124 記憶體組 130 記憶體晶片 140 記憶體晶片 150 記憶體晶片 161 直通矽穿孔(TSV) 161a 直通矽穿孔(TSV) 200 記憶體系統 200a 記憶體系統 210 處理器晶片 155483.doc -27- 201201218 210a 處理器晶片 211 記憶體控制器 220 記憶體晶片 220a 記憶體晶片 220b 記憶體晶片 221 第1 I/O緩衝器 222 第2 I/O緩衝器 223 第3 I/O緩衝器 224 第4 I/O緩衝器 225 第1缓衝器控制電路 225a 緩衝器控制電路 225b 緩衝器控制電路 230 記憶體晶片 230a 記憶體晶片 231 第5 I/O緩衝器 232 第6 I/O緩衝器 233 第7 I/O緩衝器 234 第8 I/O緩衝器 235 第2緩衝器控制電路 240 記憶體晶片 240a 記憶體晶片 241 第9 I/O緩衝器 242 第10 I/O緩衝器 243 第11 I/O緩衝器 155483.doc -28- 201201218 244 第12 I/O缓衝器 245 第3緩衝器控制電路 250 記憶體晶片 250a 記憶體晶片 251 第13 I/O緩衝器 252 第14 I/O緩衝器 253 第15 I/O緩衝器 254 第16 I/O緩衝器 255 第4緩衝器控制電路 300 記憶體糸統 3 10 處理晶片 311 記憶體控制器 320 記憶體晶片 321 第1 I/O緩衝器 322 第2 I/O緩衝器 330 記憶體晶片 331 第3 I/O緩衝器 332 第4 I/O緩衝器 340 記憶體晶片 341 第5 I/O緩衝器 342 第6 I/O缓衝器 350 記憶體晶片 351 第7 I/O缓衝器 352 第8 I/O緩衝器 155483.doc -29- 201201218 400 記憶體系統 400a 記憶體系統 400b 記憶體系統 410 處理器晶片 410a 處理益晶片 410b 處理器晶片 411 記憶體控制器 412 修復電路 420 記憶體晶片 420a 記憶體晶片 420b 記憶體晶片 421 第1 I/O緩衝器 422 第2 I/O緩衝器 423 第3 I/O緩衝器 424 第4 I/O緩衝器 425 第5 I/O緩衝器 426 第6 I/O緩衝器 427 第7 I/O緩衝器 428 第8 I/O緩衝器 429 緩衝器控制電路 430 記憶體晶片 430a 記憶體晶片 430b 記憶體晶片 431 第9 I/O缓衝器 155483.doc -30· 201201218 432 第10 I/O緩衝器 433 第11 I/O緩衝器 434 第12 I/O缓衝器 435 第13 I/O缓衝器 436 第14 I/O緩衝器 437 第15 I/O缓衝器 438 第16 I/O缓衝器 439 緩衝器控制電路 440 記憶體晶片 440a 記憶體晶片 440b 記憶體晶片 441 第17 I/O緩衝器 442 第18 I/O緩衝器 443 第19 I/O缓衝器 444 第20 I/O緩衝器 445 第21 I/O緩衝器 446 第22 I/O緩衝器 447 第23 I/O緩衝器 448 第24 I/O緩衝器 449 緩衝器控制電路 450 記憶體晶片 450a 記憶體晶片 450b 記憶體晶片 451 第25 I/O緩衝器 155483.doc -31 - 201201218 452 第26 I/O緩衝器 453 第27 I/O緩衝器 454 第28 I/O緩衝器 455 第29 I/O緩衝器 456 第30 I/O緩衝器 457 第31 I/O緩衝器 458 第32 I/O緩衝器 459 緩衝器控制電路 BCC11 緩衝器控制電路 BCC12 緩衝器控制電路 BCC13 緩衝器控制電路 BCC14 緩衝器控制電路 BCC21 緩衝器控制電路 BCC22 緩衝器控制電路 BCC23 緩衝器控制電路 BCC24 緩衝器控制電路 BCCnl 緩衝器控制電路 BCCn2 緩衝器控制電路 BCCn3 緩衝器控制電路 BCCn4 緩衝器控制電路 BUF11 I/O緩衝器 BUF12 I/O緩衝器 BUF13 I/O缓衝器 BUF14 I/O緩衝器 -32- 155483.doc 201201218 BUF21 I/O緩衝器 BUF22 I/O緩衝器 BUF23 I/O緩衝器 BUF24 I/O緩衝器 BUFnl I/O緩衝器 BUFn2 I/O緩衝器 BUFn3 I/O緩衝器 BUFn4 I/O緩衝器 CL1 第1連接線 CL2 第2連接線 CL3 第3連接線 CL4 第4連接線 DM1 解多工器 DM2 解多工器 DM3 解多工器 DM4 解多工器 DPI 缺陷點 DP2 缺陷點 DP3 缺陷點 DP4 缺陷點 TSV1 第1直通矽穿孔(TSV) TSV11 直通矽穿孔(TSV) TSV12 直通矽穿孔(TSV) TSV13 直通矽穿孔(TSV) -33· 155483.doc 201201218 TSV14 直通矽穿孔(TSV) TSV15 直通矽穿孔(TSV) TSV16 直通矽穿孔(TSV) TSV17 直通矽穿孔(TSV) TSV18 直通矽穿孔(TSV) TSV2 第2直通矽穿孔(TSV) TSV21 直通矽穿孔(TSV) TSV22 直通矽穿孔(TSV) TSV23 直通矽穿孔(TSV) TSV24 直通矽穿孔(TSV) TSV3 第3直通矽穿孔(TSV) TSV4 第4直通矽穿孔(TSV) TSVnl 直通矽穿孔(TSV) TSVn2 直通矽穿孔(TSV) TSVn3 直通矽穿孔(TSV) TSVn4 直通矽穿孔(TSV) 34- 155483.doc

Claims (1)

  1. 201201218 七、申請專利範圍: 1. 一種堆疊式半導體記憶體裝置,其包含: 複數個堆疊式記憶體晶片; 複數個直通矽穿孔(TSV),其穿過該等記憶體晶片;及 複數個I/O緩衝器,每一 I/O緩衝器耦接於該等記憶體 晶片中之至少一者與該等TSV中之至少一者之間,該等 I/O緩衝器經組態以基於該等TSV之缺陷狀態而選擇性地 啟動。 2·如請求項1之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該等1/〇緩 衝器包括於該等記憶體晶片内部。 3.如請求項1之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該等I/O緩 衝器經組態以使得當該等TSV中之至少一者包括一缺陷 點時’啟動位於該缺陷點下方之一記憶體晶片中所包括 的一 I/O緩衝器。 4·如請求項3之堆疊式半導體記憶體裝置’其中該等I/O緩 衝益經組態以使得當該等TSV中之至少一者包括一缺陷 點時’不啟動位於該缺陷點上方之一記憶體晶片中所包 括的— I/O緩衝器。 5·如晴求項1之堆疊式半導體記憶體裝置’其中該等I/O緩 衝器經組態以使得當該等TSV中之至少一者包括一缺陷 點 gi., 不啟動位於該缺陷點上方之一記憶體晶片中所包 括的—ί/〇緩衝器。 如明求項1之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該複數個 堆疊式記憶體晶片中之每一者包括一缓衝器控制電路, 155483.doc 201201218 該緩衝器控制電路經組態以基於該等TSv之該等缺陷狀 態而啟用該複數個堆疊式記憶體晶片中之每—者内部的 I/O緩衝器。 7.如請求項6之堆整式半導體記憶體裝置,其中該緩衝器 控制電路包括一非揮發性記憶體裝置。 8·如請求項6之堆叠式半導體記憶體裝置,其中該緩衝器 控制電路包括一單次程式化(〇Tp)記憶體或一電可抹除 可程式化唯讀記憶體(ΕΕΡΚΌΜ)。 9. 如請求項!之堆φ式半導體記憶體襄置,其中該複數個 堆疊式記憶體晶片中之每一者針對每一1/〇緩衝器包括一 獨立緩衝器控制電路,該緩衝器控制電路經組態以基於 δ亥專TS V之該等缺陷狀態而啟用j/ο緩衝器。 10. 如請求項1之堆#式半導體記憶體裝置,其中該複數個 堆疊式記憶體晶片包括: 一第1記憶體晶片; 一第2記憶體晶片,其堆疊於該第丨記憶體晶片上方; 一第3記憶體晶片,其堆疊於該第2記憶體晶片上方; 一第4記憶體晶片,其堆疊於該第3記憶體晶片上方; 其中該複數個TS V包括第j TS ν至第4 TS ν,該第i TSV至該第4 TSV延伸穿過該第4記憶體晶片到達該第j記 憶體晶片; 其中該等I/O緩衝器包括第1 I/O緩衝器至第16 1/〇緩衝 32. · 翁, 該第1 Ϊ/0緩衝器至5玄第4 I/O緩衝器包括於該第1記憶 155483.doc 201201218 體晶片中,其分別連接至該第i Tsv至該第4 TSV,且經 、’且1、以藉由一第1緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第5 I/O緩衝器至該第8 1/0緩衝器包括於該第2記憶 體B曰片中,其分別連接至該第i Tsv至該第4 TS V,且經 組態以藉由一第2緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第9 I/O緩衝器至該第12 1/〇緩衝器包括於該第3記憶 體b曰片中,其分別連接至該第i Tsv至該第4 tsv,且經 組態以藉由一第3緩衝器啟用信號而選擇性地啟動;且 該第13 I/O緩衝器至該第16 1/〇緩衝器包括於該第4記 L體曰曰片中,其分別連接至該第〖v至該第4 v,且 經組態以藉由一第4緩衝器啟用信號而選擇性地啟動。 11.如請求項1之堆疊式半導體記憶體裝置,其_該複數個 堆疊式記憶體晶片包括: 一第1記憶體晶片; 一第2記憶體晶片,其堆疊於該第丨記憶體晶片上方; 一第3記憶體晶片,其堆疊於該第2記憶體晶片上方; 一第4記憶體晶片,其堆疊於該第3記憶體晶片上方; 其中s亥複數個TSV包括第1 TSV至第4 TSV,該第1 TSV至該第4 TSV延伸穿過該第4記憶體晶片到達該第i記 - 憶體晶片; 其中該等I/O緩衝器包括第i 1/0緩衝器至第8 1/0緩衝 ?§ , 該第1 I/O緩衝器及該第2 I/O緩衝器包括於該第i記憶 體晶片中,其分別連接至該第1 TSV至該第2 TSV,且經 155483.doc 201201218 組態以藉由一第1緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第3 I/O緩衝器及該第4 1/0緩衝器包括於該第2記憶 體晶片中,其分別連接至該第3 TSV及該第4 TS V,且經 組態以藉由一第2緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第5 I/O緩衝器及該第6 I/O緩衝器包括於該第3記憶 體晶片中,其分別連接至該第1 TSV及該第2 TS V,且經 組態以藉由一第3緩衝器啟用信號而選擇性地啟動;且 該第7 I/O緩衝器及該第8 1/0緩衝器包括於該第4記憶 體晶片中’其分別連接至該第3 TSV及該第4 TSV,且經 組態以藉由一第4緩衝器啟用信號而選擇性地啟動。 12. 如請求項1之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該複數個 tsv包括位址/命令TSV及資料TSV,該等位址/命令tsv 及該等資料TSV經組態以使得歸因於該等資料Tsv中之 至者之一缺陷的一資料匯流排映射改變導致一位址/ 命令匯流排映射改變。 13. 如請求項丨之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該複數個 堆疊式記憶體晶片包括: 一第1記憶體晶片; 一第2記憶體晶片,其堆疊於該第i記憶體晶片上方; 一第3記憶體晶片,其堆疊於該第2記憶體晶片上方; 一第4記憶體晶片,其堆疊於該第3記憶體晶片上方; 其中該複數個TSV包括第1 TSV至第8 TSV, 該第1 TSV至該第4 TSV延伸穿過該第4記憶體晶片到 達該第1記憶體晶片; 155483.doc 201201218 *亥第5 TSV至該第8 TSV延伸穿過該第4記憶體晶片到 達該第1記憶體晶片; 其中該等I/O緩衝器包括第! I/O緩衝器至第32 1/〇緩衝 器’ 該第1 I/O緩衝器至該第4 1/0緩衝器包括於該第!記憶 體晶片中’其分別連接至該第1 TSV至該第4 TS V,且經 組態以藉由一第1緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第5 I/O緩衝器至該第8 1/〇緩衝器包括於該第i記憶 體晶片中,其分別連接至該第5 TSV至該第8 TSV,且經 組態以藉由一第2緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 该第9 I/O緩衝器至該第12 1/〇緩衝器包括於該第2記憶 體晶片中,其分別連接至該第1 TSV至該第4 TSV,且經 組態以藉由一第3緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 该第13 I/O緩衝器至該第丨6 I/O緩衝器包括於該第2記 憶體晶片中,其分別連接至該第5 TSV至該第8 TSV,且 經組態以藉由一第4緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; s亥第17 I/O緩衝器至該第2〇 I/O緩衝器包括於該第3記 憶體晶片中’其分別連接至該第1 TSv至該第4 TSV,且 經組態以藉由一第5緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第21 I/O緩衝器至該第24 1/〇緩衝器包括於該第3記 憶體晶片中,其分別連接至該第5 TSV至該第8 TSV,且 經組態以藉由一第6缓衝器啟用信號而選擇性地啟動; 該第25 I/O緩衝器至該第28 1/0緩衝器包括於該第4記 憶體晶片中,其分別連接至該第1 TSV至該第4 TSv,且 155483.doc 201201218 經組態以藉由一第7緩衝器啟用信號而選擇性地啟動; 且 該第29 I/O緩衝器至該第32 I/O緩衝器包括於該第4記 憶體晶片中,其分別連接至該第5 TSV至該第8 TSV,且 經組態以藉由一第8緩衝器啟用信號而選擇性地啟動。 14. 如請求項13之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該等1/〇緩 衝器經組態以使得··當該第1記憶體晶片與該第2記憶體 晶片之間的該第6 TSV之一部分存在缺陷且該第3記憶體 晶片與該第4記憶體晶片之間的該第8 TSV之一部分存在 缺陷時’啟動該第1記憶體晶片之連接至該第6 TSv的該 第6 I/O緩衝器且啟動該第3記憶體晶片之連接至該第8 TSV的該第24 I/O緩衝器。 15. 如請求項14之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該等1/〇缓 衝器經組態以使得亦啟動該第1記憶體晶片之連接至針 對該位址/命令之該第2 TSV的該第2 I/O緩衝器,且亦啟 動β亥第3記憶體晶片之連接至針對該位址/命令之該第4 TSV的該第20 I/O緩衝器。 16. 如請求項丨之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該複數個 TSV包括位址/命令TSv及資料TSv,該等位址/命令TSV 及該等資料TSV經組態以使得歸因於該等位址/命令TSV 中之至少一者之一缺陷的一位址/命令匯流排映射改變導 致一資料匯流排映射改變。 17. —種記憶體系統,其包含: 一處理器晶片; 155483.doc 6 - 201201218 複數個記憶體晶片,其堆疊於該處理器晶片上方; 複數個直通矽穿孔(TSV),其延伸穿過該複數個記憶 體晶片且連接至該處理器晶月;及 複數個I/O緩衝器,每一 1/0緩衝器耦接於該複數個記 憶體晶片中之至少一者與該複數個TSV中之至少一者之 間,且經組態以基於該複數個TSV之缺陷狀態而選擇性 地啟動。 18. 如請求項17之記憶體系統,其中該複數個TSV包括位址/ 命令TSV及資料TSV,該等位址/命令TSV及該等資料 TSV經組態以使得歸因於該等資料TSV中之至少一者之 一缺陷的一資料匯流排映射改變導致一位址/命令匯流排 映射改變。 19. 如請求項18之記憶體系統,其中該處理器晶片包括一修 復電路,該修復電路經組態以將該資料匯流排映射改變 恢復至一原始資料匯流排映射。 20. 如清求項19之記憶體系統,其中該修復電路包括於該處 理器晶片内部之一記憶體控制器中。 21. —種修復一堆疊式半導體記憶體裝置中之直通矽穿孔 (TSV)之缺陷的方法,其包含: 將複數個I / 0緩衝器中之每一者耦接於複數個記憶體晶 片中之至少一者與複數個TSV中之至少一者之間;及 基於該等TSV之缺陷狀態而冑擇性地啟動該等1/〇緩衝 器。 22. 如請求項21之方法’其中該等1/〇緩衝器形成於該等記憶 155483.doc 201201218 體晶片内部。 23 ·如請求項2 1之方法,其中選擇性地啟動該等1/〇緩衝器包 括: 啟動位於一缺陷TSV之一缺陷點下方之一記憶體晶片 中所包括的一 I/O緩衝器,而不啟動連接至該缺陷TSV之 其他I/O緩衝器;及 啟動連接至非缺陷TSV之I/O緩衝器。 24. 如請求項21之方法’其中選擇性地啟動該等1/〇緩衝器包 括: 當一 TSV具有一缺陷點且1/〇緩衝器連接至具有該缺陷 點之該TSV時,不啟動位於該缺陷點上方之一記憶體晶 片中所包括的I/O緩衝器。 25. 如請求項21之方法,其中選擇性地啟動該等1/〇緩衝器包 括: 歸因於針對資料之TSV中之至少一者的一缺陷而改變 資料匯流排映射;及 改變位址/命令匯流排映射。 26. 如清求項25之方法,其中選擇性地啟動該等緩衝器進 一步包括: 將该經改變之資料匯流排映射恢復至一原始資料匯流 排映射^ 27. —種堆疊式半導體記憶體裝置,其包含: 複數個記憶體晶片,其堆疊於一第一方向上; 複數個I/O緩衝器’其安置於該複數個記憶體晶片中之 155483.doc 201201218 28. 29. 30. 每一者中;及 複數個直通矽穿孔(TSV),其在該第一方向上延伸穿 過該複數個記憶體晶片,該複數個TSV中之每一者柄接 至S亥複數個I/O緩衝器中之至少兩者,該複數個1/〇緩衝 器經組態以在該複數個T S V中之一或多者中存在一缺陷 的情況下選擇性地啟動。 如請求項27之堆疊式半導體記憶體裝置,其中一相關聯 之I/O緩衝器經組態以在該複數個TSV中之一缺陷TSv中 存在該缺陷的情況下啟動,該相關聯之1/〇緩衝器耦接至 該缺陷TS V且位於該缺陷下方。 如請求項28之堆疊式半導體記憶體裝置,其中該相關聯 之I/O緩衝器安置於該複數個記憶體晶片中之一相鄰記憶 體晶片中,s亥相鄰記憶體晶片為位於該缺陷下方且最接 近該缺陷的一記憶體晶片。 如請求項28之堆疊式半導體記憶體裝置,其中耦接至該 缺陷TSV且位於該缺陷上方之其他1/〇緩衝器經組態以便 不被啟動。 155483.doc
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