TW201200966A - Positive photosensitive resin composition - Google Patents

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201200966 • 六、發明說明： . 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種正型感光樹脂組成物，尤其是適用 於半加成製程（Semi-Additive Process)之正型感光樹脂 組成物。 【先前技術】 習知印刷電路板，是利用減去製程（Sub tract i ve Process)對基板表面的金屬層進行蝕刻，以形成配線圖 φ 案。然而，隨著電子產品微型化的發展趨勢，縮小線寬/ 間距以提高產品密度已成為電路板製作的一個重要方向。 因此’遂發展出利用電鍍方式於基板上形成配線圖案的加 成製程（Addi t i ve Process)，以克服減去製程在細間距線 路製作時的不穩定性。加成製程包括全加成製程 (Ful 1-Additive Process)及半加成製程（Semi-Additive Process)。全加成製程係將光阻劑塗佈於基板絕緣層上， 藉由微影製程將光阻劑圖案化後作為電鍍光阻，然後，藉 ^由無電電鍍’在暴露於電鍍光阻外的絕緣層上形成配線圖 案後’钮刻移除光阻劑。而半加成製程係於基板絕緣層上 形成金屬薄層，並將光阻劑塗佈於金屬薄層上，再藉由微 影製程將光阻劑圖案化後作為電鍍光阻，接著藉由電解電 錢’在暴露於電鍍光阻外的金屬薄層上形成配線圖案後， 名虫刻移除光阻劑及其下方的金屬薄層。台灣專利第 1312649號揭示有應用半加成製程製作印刷電路板的方 法。 3 111540 201200966 目前，電路板業界普遍採用半加成製程，並使用負型 ί =來製作電路板的配線圖案。負型光阻劑經光線照射 :聯(_ Unk)，而難溶於顯影液，因此，在 tr衣負型光阻劑被光罩遮蔽的部份（未曝光的部 为），會溶解於顯影液而除去。台灣專利第2_〇6259號揭 露將負型光阻劑應用於半加成製程，以製作具有間距小於 • «η(線寬/間距=20/· πΟ的線路。負型光阻劑包括乾膜 光阻劑以及液態絲劑。乾膜光阻劑係以薄膜的形式貼附 =基板’因此，使用便利且具經濟效益，然其對基板的附 者性較差，解析度也較差。液態光阻劑則以溶液的形式塗 敷於基板上’並乾燥形成薄膜，其可對基板上的絕緣層或 金屬薄層表面提供高附著性’並具有較高的解析度。台灣 專利第I226G89號揭示乾膜光阻劑於半加成製程的應用； 台灣專利第200704297號揭露液態負型光阻劑於半加成製 程的應用；而台灣專利第200501852號則揭露同時使用液 態及薄膜之負型光阻劑，並藉由半加成製程，以形成線寬/ 間距= 15/15# m的線路（參見實施例1及2)。 惟，習知的光阻劑容易裂化或是對基板上的絕緣層或 金屬薄層的附著能力不夠良好，因此，容易導致電鍍材料 滲透至電鍍光阻下方（滲鍍）或者導致電鍍光阻剝落，從而 造成配線圖案的形成失敗。再者，因為習知的光阻劑具有 較差的對比性（c 〇 n t r a s t)或是對電鍍液具有較差的耐侵钮 性，因而易產生不良的線路形狀。此外，當欲製作具高解 析度的線路（例如：線距< 12 v m)時，習知的負型光阻劑由 4 111540 201200966 需求；或者需轉用昂責 劑製作具高解析度的綠 於技術上的限制’並不能滿足此等 的設備’才能利用習知的負型光阻 路。 因此 丄“附著能力及耐電鍍能力，且能用 於半加成製程以製作更精細線路的総劑，以滿足產孝的 需求。 、 【發明内容】 #於上述習知技術之缺點’本發明提供—種正型感光 籲樹脂組成物，包括：（A)驗可溶性齡酸樹脂，且重量平均 分子量為_0至30_，且以該正型感光樹脂組成物的總 重為基準，該鹼可溶性酚醛樹脂的含量為2〇至4〇 wt%; (B)鹼可溶性丙烯酸系樹脂，其重量平均分子量為5〇〇〇 至55000，且以該正型感光樹脂組成物的總重為基準，該 鹼可溶性丙烯酸系樹脂的含量為5至2〇 ; (c)含有醌 二疊氮基感光化合物，且以該正型感光樹脂組成物的總重 ❿為基準’違含有酿二®氮基感光化合物的含量為1至15 wt%，以及（D)其餘的溶劑。 根據本發明一具體實施例’驗可溶性丙浠酸系樹脂包 含如下式（I)、（II)及（III)所示之單元： 5 111540 201200966 ,I ch2—c

HO ch3

ch3, -ch2-c- ch3 (I) (II)

(c)含有醌二疊氮基感光化合物係由萘醌二疊氮磺酸 化物與選自於下式（C-l)、（C-2)、（C-3)或（C-4)化合物所 形成者，

OH

OH 式（C-1)

式（C-2) 6 111540 201200966

式（C-3)

,0H /0H

HO HO、

式（C-4) 根據本發明，以正型感光樹脂組成物的總重為基準， 含有醌二疊氮基感光化合物的含量為1至30 wt%，較佳為 φ 1至20 wt%，最佳為1至15 wt%。 本發明之正型感光樹脂組成物，藉由驗可溶性S分酸樹 脂、鹼可溶性丙烯酸系樹脂及含有醌二疊氮基之化合物之 組合，特別適用於半加成製程，該正型感光樹脂組成物用 於半加成製程時可製作更精細之線路，且具有良好附著能 力及对電鍍能力。 【實施方式】 以下係藉由特定的具體實施例說明本發明之實施方 式，熟習此技藝之人士可由本說明書所揭示之内容瞭解本 發明之其他優點與功效。本發明也可藉由其他不同的具體 實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節亦可基於 不同觀點與應用，在不悖離本創作之精神下進行各種修飾 與變更。 本發明之適用於半加成製程（Semi-Additive Process) 之正型感光樹脂組成物係包括： (A)驗可溶性紛酸樹脂； 7 111540 201200966 (B) 鹼可溶性丙烯酸系樹脂； (C) 含有醒二疊氮基感光化合物；以及 (D) 溶劑。 用於本發明之正型感光樹脂組成物（A)鹼可溶性齡酸 樹脂的重量平均分子量為8000至30000。 本文所使用之「重量平均分子量」，係利用凝膠滲透 層析（GPC)測量四氫呋喃（THF)溶劑中樣品相對於聚苯乙烯 標準品之測量值。 正型感光樹脂組成物中，（A)鹼可溶性酚醛樹脂的含 量’以正型感光樹脂組成物的總重為基準，為2〇至 wt% ’較佳為25至35 wt%。 驗可溶性酚醛樹脂可以習知方法由，例如，使用具有 酚系羥基之芳香族化合物（以下，簡稱「酚類」）和醛類進 行加成縮合反應而製得。上述鹼可溶性酚醛樹脂的製備方 法為本領域具有通常知識者所熟知，故不再贅述。 酚類的實例包括（但不限於）苯酚、鄰甲酚、間甲酚、 對曱酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚、鄰丁基 本盼間丁基本盼、對丁基苯紛、2，3-二甲苯g分、2，4-二曱苯酚、2，5-二曱苯酚、2，6-二甲苯酚、3，4-二甲苯 酉分、3，5-二甲苯酚、2 ’ 3，5-三曱基苯酚、3，4，5-三甲 基苯酚、對苯基苯酚、間苯二酚、氫醌、氫醌_曱基醚、焦 =酚（pyiOgallol)、間苯三酚（phloroglucin〇1)、羥基聯 苯又酚A、五倍子酸、五倍子酸酯、α _萘酚及万〜萘酚 等。醛類的實例包括（但不限於）曱醛、多聚曱醛、糠醛、 8 H1540 201200966 • 苯曱醛、硝基苯曱醛及乙醛等。 i 於一具體實施例中，用於本發明之正型感光樹脂組成 物的（A)鹼可溶性酚醛樹脂中苯基重複單元上之該曱基可 與經基係可形成間位關係（meta)或對位關係（para)，且該 鹼可溶性酚醛樹脂（A)可由兩種以上的酚醛樹脂混合而得， 例如，可由第一酚醛樹脂與第二酚醛樹脂組成本發明之鹼 可溶性盼醒·樹脂（A)。 本文所使用之術語「丙烯酸系樹脂」包含丙烯酸系樹 • 脂及曱基丙烯酸系樹脂。本文所使用之術語「（曱基）丙烯 酸」包含丙烯酸及曱基丙烯酸。 用於本發明之正型感光樹脂組成物的（B)鹼可溶性丙 烯酸系樹脂其重量平均分子量為5000至55000，較佳為 1G000至25000。根據本發明一具體實施例，用於正型感光 樹脂組成物之鹼可溶性丙烯酸系樹脂（B )的重量平均分子 量為 20000 至 35000。 正型感光樹脂組成物中，以正型感光樹脂組成物的總 重為基準，（B)驗可溶性丙烯酸系樹脂的含量為5至20 wt%，較佳為10至20 wt%，當（B)鹼可溶性丙烯酸系樹脂 小於5重量份時，將造成組成物耐電鍍能力較差，易有滲 鍍與脆裂現象產生；反之，大於30重量份時，會造成組合 物對比（contrast)下降，使得組成物顯影後線路圖像不佳。 用於本發明之正型感光樹脂組成物的（B)鹼可溶性丙 烯酸系樹脂，較佳為包含以乙烯系不飽和酸為必要單體進 行單獨聚合或共聚合而得之丙烯酸系樹脂，更佳為包含乙 9 111540 201200966 烤系不飽和酸與含有乙稀糸不飽和鍵之單體的共聚物。 乙烯系不飽和酸的實例包括（但不限於）（甲基）丙稀 酸、丁烯酸（crotonic acid)、順丁烯二酸、反丁稀二酸、 曱基順丁烯二酸（citroconic acid)、甲基反丁烯二酸、伊 康酸（itaconic acid)、己二烯酸及其組合等。於本發明一 具體實施例中，乙烯系不飽和酸為（甲基）丙烯酸。根據本 發明一具體實施例’（B)鹼可溶性丙烯酸系樹脂係含有至少 一種乙稀糸不飽和酸。 含有乙烯系不飽和鍵之單體的實例包括（但不限於） 以上的含有乙烯系不飽和鍵之單體。 經取代或未經取代之（甲基）丙烯酸C1〜C18烷基酯；較佳為 經取代或未經取代之（甲基）丙烯酸C1〜C8烷基酯。根據本 發明-具體實施例，⑻鹼可溶性丙烯酸系樹脂可使用一種

根據本發明-具體實施例，用於本發明之正型感光樹 脂組成物的（B)鹼可溶性丙烯酸系樹脂包含如下式（i)、（ii)

⑴） (111)0 (B)鹼可溶性丙烯酸系樹脂中， (I) 於一具體實施例中， 111540 10 201200966 佔該驗可溶性丙歸酸系樹脂較佳的為5至50 更佳的為1〇至3〇%重量比，當比例未滿5%重 :比2所得組成物對於驗性顯像液的溶解性有降低之傾

解117¾大方向’右超過5G重量％，則對於驗性顯像液的溶 大，以驗性顯像液予”像時，光阻圖案易由基板 ^脫^且具有易造成圖案表面膜破壞之傾向；式（⑴之 早疋佔猶可溶性丙烯酸系樹月旨㈣的為40 1 9〇%重量 比’更佳的為50至80%重量比，當比例未滿編量比， 將造成組成物耐電職力較差，㈣滲鑛㈣裂現象產 生’另-方向’若超過8G重量％，朗得組成物對於驗性 顯像液的溶解性有降低之傾向；以及式（ΙΠ)之單元佔該 驗可溶性丙烯酸系樹脂較佳的為5至3〇%重量比，更佳的 為10至20%重量比，當比例未滿5%重量比，將造成組成 物财電鍍能力較差，易有渗鑛與脆裂現象產生，另一方向，

若超過20重量％，則所得組成物對於驗性顯像液的溶解性 有降低之傾向。 —用於本發明之正型感光樹脂組成物的含有（c)醌二疊 氮基感光化合物，係為萘醌二疊氮磺酸化物與具有丨個以 上之苯酚性氫氧基化合物反應，例如，丨，2_萘醌二疊氮一4_ 石尹'齩或1，2-奈醌二豐氮—5-磺酸與苯酚性氫氧基化合物之 完全酯化合物，部份酯化化合物者。 本發明組成物中，（C)含有醌二疊氮基感光化合物， 可單獨一種使用，亦可含有2種以上混合使用。 較佳的含有醌二疊氮基感光化合物（C)為1，2-萘醌二 111540 201200966 S氮續酸與具有羥基之多元酚反應而得之酯化物，例如， 1，2-萘醌二疊氮磺酸與2, 3, 4-三羥二苯基酮、雙（4-羥基 -2, 5-二甲基苯）-3, 4-二羥苯甲烷、1，1，1-三（4-羥基苯基） 乙烧、4, 4’ -[1-[4[1-(4-羥苯基）-1-甲基乙基]苯基]亞乙 基]雙盼、或2，3, 4，4 -四經二苯基甲烧反應而得之酷化 物。根據本發明一具體實施例，可使用至少一種含有醌二 疊氮基之化合物。 根據本發明一具體實施例’用於正型感光樹脂組成物 的（C)含有醌二疊氮基感光化合物含如1，2-萘醌二疊氮 -4-磺酸、1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸等與下式（c-l)、（C-2)、 (C-3)或（04)化合物形成確酸醋化物

式（C-1)

式（C-2) 12 111540 201200966

式（C-3) 式（C-4) 正型感光樹脂組成物中’以正型感光樹脂組成物的總 重為基準（C)含有蛾二疊氮基感光化合物的含量為1至3〇 • wt% ’較佳為1至2〇 wt%，最佳為1至丨5 wt%，當（〇含 有醌二豎氮基感光化合物小於1 wt%時，會造成感光不足， 使得組成物顯影後無法形成線路圖像；反之，大於30重量 份時，會造成組合物對比（c〇ntrast)下降，使得組成物顯 影後線路圖像不佳。 根據本發明一具體實施例，正型感光樹脂組成物通常 使用溶劑以調製成液狀組成物而使用。正型感光樹脂組成 φ物所使用之溶劑並無特別限定，只要可將正型感光樹脂組 成物的成分分散或溶解，而不與這些成分起反應。 根據本發明一具體實施例，正型感光樹脂組成物令， 以正型感光樹脂組成物的總重為基準，溶劑的含量為 至90 wt%，較佳為25至80wt%，更佳為25至74 wt%。 溶劑的實例包括（但不限於）醚類，例如，乙二醇單甲 醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丙醚、乙二醇單正丁醚、 =甘醇單甲_、二甘醇單乙驗、二甘醇單正丙_、二甘醇 早正丁醚、三甘醇單甲醚、三甘醇單乙醚、丙二醇單甲醚、 111540 13 201200966 兩t!!單乙⑽、丙二醇單正丙醚、丙二醇單正丁輕、二丙 :醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單正丙醚、二丙 ，醇單正丁醚、二丙二醇單甲醚、三丙二醇單乙醚、二甘 醇一甲醚、一甘醇甲基乙醚、二甘醇二乙醚及四氳呋喃等； 酉同類’例如，甲基乙基酮、環己鲷、2一庚酮及3一庚酮等； 酉曰類，例如，乙二醇單甲醚醋酸酯、乙二醇單乙醚醋酸酯、 二甘醇單甲醚醋酸酯、二甘醇單乙醚醋酸酯、丙二醇單甲 醚醋酸酯、丙二醇單甲醚醋酸酯（PGMEA)、2_羥基丙酸甲 酸、2-羥基丙酸乙酯、2—羥基_2-甲基丙酸乙酯、3_甲氧基 丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3_乙 氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、經基醋酸乙酯、經基 一3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、甲基 一3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酸、醋酸異丙 酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、曱酸正戌酸、醋酸異戊酯、 丙酸正丁 S旨、丁酸乙醋、丁酸正丙g旨、丁酸異丙g旨、丁酸 正丁 S旨、丙S同酸曱醋、丙g同酸乙g旨、丙g同酸正丙g旨、乙酷 醋酸曱酯、乙醯醋酸乙酯及2-羥基丁酸乙酯等；芳香族 類，例如，曱苯及二曱苯等；醯胺族類，例如，N—曱基吼 嘻烷酮、N，N-二曱基曱醯胺及N，N-二甲基乙醯胺等。根據 本發明一具體實施例，可使用至少一種上述溶劑。 此外，上述溶劑亦可與苄基乙醚、二-正己醚、乙睛 丙|同、異佛爾酮、己酸、庚酸、1 -辛醇、1 _萘醇、节醇、 醋酸苄酯、笨甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ -丁内酯、碳酸乙稀酯、碳酸丙稀酯、乙二醇單苯趟醋酸酉旨 111540 201200966 等高沸點溶劑併用。 根據本發明一具體實施例，正型感光樹脂組成物可視 需要加入添加劑。添加劑的實例包括（但不限於）色素、染 料（dyes)、溶解抑制劑（dissolution inhibitors)、界面 活性劑（例如：氟系界面活性劑，；fluoro-surf actant)、熱 聚合物抑制劑、增稠劑、防沫劑、增感劑（sens i t i zers)、 抗氧化劑及偶聯劑。正型感光樹脂組成物中，添加劑的含 量，以正型感光樹脂組成物的總重為基準，通常不超過5 參 wt%。 將本發明之正型感光樹脂組成物應用於半加成製程 時，可於基板上形成該正型感光樹脂組成物。 將本發明之正型感光樹脂組成物用於製作線路時，可 於基板上形成該正型感光樹脂組成物，並圖案化該正型感 光樹脂組成物，接著形成金屬線路。 實施例 I 合成例 (A )驗可溶性紛酸樹脂之合成 取（A)30克酚醛樹脂（由對-甲酚100克、間-曱酚100 克、37%曱醛120克以草酸觸媒進行縮合所得到的酚醛樹 脂，重量平均分子量約為20, 000)，此共聚合物稱為鹼可 溶性盼酸樹脂（a)。 (B)鹼可溶性丙稀酸系樹脂之合成 以附有乾冰/曱醇回流冷凝器與溫度計之燒瓶進行氮 取代後，加入起始劑2, 2’ -偶氮雙異丁基（AIBN)3. 0克， 15 111540 201200966 及做為溶劑225克之2-經基丙酸乙g旨後，授拌至聚合起始 劑=解為止。使用的單體為甲基丙稀酸2()克、甲基两婦酸 甲醋70 1、2-乙基丙烯酸己酯1〇克進行聚合反應，緩緩 進行攪拌。隨後，並升溫至約8(rc，於此溫度下進行聚合 4小時。再冷卻至室溫後，燒瓶内以空氣取代，之後再加σ 入150毫克之對甲氧基苯酚作為穩定劑。反應生成物滴入 多量曱醇後使反應物凝固之。水洗此凝固物後與凝固物同 重量之四氫呋喃中進行再溶解後，以多量甲醇再度進行凝 固。此再溶解-凝固之操作重覆進行3次後，將取得凝固物 於40°C下進行真空乾燥48小時後，取得丙烯酸共聚合物， (重量平均分子量約30000)，此共聚合物稱為丙烯酸樹脂 (b)。 (C)含有酿1 一豐氮基感光化合物之合成 (Cl) . TPPA感光化合物 以4，4’ -[1-[4[1-(4-羥苯基）-卜曱基乙基]苯基] 亞乙基]雙酚 (4, 4, ~[l-[4-[l-(4-Hydroxyphenyl)-l-methylethyl]phe nyl]ethylidene]bisphenol) 1 莫耳與 2. 0 莫耳之萘酉分 -1,2-二疊氮-4-續醯氣化物之酯化反應生成物，此生成物 稱為TPPA感光化合物。 (C2) : THPE感光化合物 以1，1,1-三（4-經基苯基）乙烧 (1，1，l-Tris(p-hydroxyphenyl)ethane) 1 莫耳與 2. 0 莫 耳之萘酚-1，2-二疊氮-5-磺醯氣化物之酯化反應生成物， 111540 201200966 此生成物稱為THPE感光化合物。 (C3) : MAC-4感光化合物 以2, 3, 4-三羥基二苯曱酮 (2, 3, 4-Tri-hydroxy-benzophenone) 1 莫耳與 2.0 莫耳之 萘酚-1，2-二疊氮-4-磺醯氯化物之酯化反應生成物，此生 成物稱為MAC-4感光化合物。 (C4) : THDM感光化合物 以2, 3, 4, 4’-四羥二苯基曱烷 _ (2,3,4,4’-Tetrahydroxydiphenylmethane) 1 莫耳與 2.0 莫耳之萘酚-1, 2-二疊氮-5-磺醯氣化物之酯化反應生成 物’此生成物稱為THDM感光化合物。 感光樹脂组成物的製備 實施例1 取（A) 30克鹼可溶性酚醛樹脂（a)、（β) 16克丙缔酸 樹脂（b)、（C) 6克醌二疊氮基之感光化合物ΤρρΑ、及（D)如 φ克溶劑丙二醇單曱基醚乙酸酯（PGMEA)，配成丨〇〇克的感光 樹脂組成物，將上述各成份混合均勻，然後以的過 慮态過戚此溶液’光阻劑組成物配方製備完成。 實施例2至9 重複實施例1之步驟，使用各成分如表一的配方，來 製備光阻劑組成物。 比較例1 重複實施例1之步驟，使用各成分如表一的配方，來 製備光阻劑組成物。 Π1540 17 201200966 表 實施例 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 比較例1 (A)驗可溶性西分 醛樹脂（a) 30克 30克 30克 30克 30克 30克 30克

可溶性丙 系樹脂(b) (C)含有醌二疊 氮基感光化合物 (D)溶劑 (PGMEA) 30克 30克 30克

6 克 TPPA 48克

4. 5 克 TPPA 1.5 克 THPE

3 克 TPPA 3 克 THPE 6 克 MAC-4 6 克 MAC-i 6 克 THDM 6 克 THDif ΤΧΤΡΡΑ 56克 56克 48克 特性之評估： 對上述實施例及比始賴得之感光樹脂組成物 線路形狀（prof i le)、絲竹Ba . 延仃 、复略間距（pitch)、曝光能量 能力、耐電鍍能力等之剛气。 i 附考 對上述實施例及比較例所得之感光樹脂組成物 =佈機（3Ρΐη_Γ)倉佈至_基材上’控制旋轉= 機（spin coater)之轉播 得七稀 逐’使得組成物經烘箱（oven) 110t/15min後，膜厚達 ）梃烤 埯到9至llum。接者，將組成你 出烘箱後，於室溫下靜置1小時。再透過光罩（mask)4 觸式曝光機（廠牌：群翊型號：GPE_5K進行曝光作 23°C以顯影液EPD2000(2. 38w%TMAH含界面活性劑）以4 方式（dipping)進行顯影作業。之後再進行下列測試，迷將 結果記錄於表一，其中，各符號之說明如下： 111540 201200966 (1)線路形狀 於上述顯影作業完成後，裁切成適當大小，以場發射 電子顯微鏡SEM(廠牌^Hitachi型號：S-4200)來觀察其線 路形狀；並量測其上幅（top)與下幅（bottom)寬度 ◎:線路上幅除於下幅>0.83 〇：線路上幅除於下幅介於0. 70至0. 83 △:線路上幅除於下幅介於0. 60至0. 69 X :線路上幅除於下幅< 0 · 60，或是剝落（pee 1 i ng) φ (2)線路間距 於上述顯影作業完成後，裁切成適當大小，以掃描式 電子顯微鏡SEM(廠牌：Hitachi型號：S-4200)來觀察其可 顯影之線路間距。 〇：線路間距可達6um以下 X :線路間距不可達6um以下，或是剝落 (3)曝光能量 將組成物以旋轉塗佈機塗佈至銅箔基材上，控制旋轉 塗佈機之轉速，使得組成物經烘箱烘烤110°C/15min後， 膜厚達到9至llum。接著，將組成物取出烘箱後，於室溫 下靜置1小時。再透過光罩以接觸式曝光機（廠牌：群翊型 號：GPE-5K進行曝光作業。而曝光能量（m j)過大，會造成 產速過慢，不利於製造生產。 ◎:曝光能量<190mj 〇：曝光能量介於190mj至220mj △:曝光能量介於221mj至250mj 19 1Π540 201200966 x :曝光能量>250mj (4) 附著能力 將組成物以旋轉塗佈機塗佈至鋼箔基材上，控制旋轉 塗佈機之轉速，使得組成物經烘箱烘烤11〇〇c/15min後， 膜厚達到9至llum。接著，將組成物取出烘箱後，於室溫 下靜置1小時。再透過光罩以接觸式曝光機（廠牌：群糊型 號：GPE-5K進行曝光作業。於23 C以顯影液EpD2〇〇〇(2. 38 w% TMAH含界面活性劑）以沉浸方式進行顯影作業。顯影 完’進行電鍍銅、電鍍金（Au(CN)2系列）測試後，再以場 發射電子顯微鏡SEM(廠牌^Hitachi型號：s_42〇〇)來觀察 組成物底部是否滲鏟而翹起。 〇：無渗鐘、無麵起 X:滲链 (5) 耐電鍍能力 將組成物以旋轉塗佈機塗佈至銅络基材上，控制旋轉 塗佈機之轉速，使得組成物經烘箱烘烤110〇C/15min後， 膜厚達到9至11 um。接著，將組成物取出烘箱後，於室| 下靜置1小時。再透過適當光罩以接觸式曝光機進行曝$ 作業。於23°C以顯影液EPD2000(2. 38w%TMAH含界面活性 劑）以沉浸方式進行顯影作業。顯影完，進行電鍍銅、電錢 金（Au(CN)2系列）測試後，再以電子顯微鏡觀察組成物表 面是否會脆裂，其中 〇：無脆裂 x :脆裂 20 111540 201200966 測試結果示於下表二。

實施例 線路形狀 線路間距 曝光能量 附著能力 耐電鍍能力 實施例1 Δ 〇 Δ 〇 〇 實施例2 〇 〇 Δ 〇 〇 實施例3 〇 〇 〇 〇 〇 實施例4 ◎ 〇 〇 〇 〇 實施例5 ◎ 〇 〇 〇 〇 實施例6 〇 〇 Δ 〇 〇 實施例7 ◎ 〇 〇 〇 〇 實施例8 〇 〇 Δ 〇 〇 實施例9 ◎ 〇 〇 〇 〇 比較例1 ◎ 〇 Δ X X 由表二可知，加入本發明之丙烯酸系樹脂可改善一般 酚醛樹酯過於硬脆的特性，使得組成物在電鍍時不易脆裂， 且可增進對基材的附著能力。 本發明之正型感光樹脂組成物具有良好的附著能力 及耐電鍍能力；再者，本發明之正型感光樹脂組成物可應 用於半加成製程，以製作精細的線路；此外，應用本發明 之正型感光樹脂組成製作的線路，具有良好的線路形狀， 因此，本發明之正型感光樹脂組成物，實能充分符合產業 利用的需求。 上述實施例僅例示性說明本發明之組成物與製備方 法，而非用於限制本發明。任何熟習此項技藝之人士均可 在不違背本發明之精神及範疇下，對上述實施例進行修飾 與改變。因此，本發明之權利保護範圍，應如後述之申請 專利範圍所載。 21 111540 201200966 【圖式簡單說明】：無 【主要元件符號說明】：無

22 111540

Claims (1)

1. 201200966 • 七、申請專利範圍： .1· 一種正型感光樹脂組成物，包括： (A)鹼可溶性酚醛樹脂，其重量平均分子量為8〇〇〇至 30000，且以該正型感光樹脂組成物的總重為基準，該 驗可溶性酚醛樹脂的含量為2〇至4〇 wt〇/〇 ; (B ) 1¾可/谷性丙稀酸糸樹脂，其重量平均分子量為5 〇 〇 〇 至55000，且以該正型感光樹脂組成物的總重為基準， 該驗可溶性丙烯酸系樹脂的含量為5至2〇 wt% ; 鲁 （C)含有酿^ 一豐氮基感光化合物，且以該正型感光樹脂 組成物的總重為基準，該含有醌二疊氮基感光化合物的 含量為1至15 wt% ;以及 (D )其餘的溶劑。 2·如申請專利範圍第1項所述之正型感光樹脂組成物，其 中，該鹼可溶性丙烯酸系樹脂包含如下式（丨）、（u)及 (III)所示之單元：

   ⑴ (II) (III)。 3.如申請專利範圍第2項所述之正型感光樹脂組成物，其 中’式（I)之單元佔該鹼可溶性丙烯酸系樹脂之至 23 111540 201200966 30重量％ ;式（I I)之單元佔該鹼可溶性丙烯酸系樹脂 之50至80重量％ ;以及式（III)之單元佔該鹼可溶性 丙烯酸系樹脂之10至20重量％。 4.如申請專利範圍第1項所述之正型感光樹脂組成物，其 中，該驗可溶性酚酸·樹脂的重量平均分子量為1 〇〇〇〇 至 25000 。 5·如申請專利範圍第1項所述之正型感光樹脂組成物，其 中，§亥驗可溶性丙稀酸系樹脂的重量平均分子量為 20000 至 35000 。 6· 2申吻專利範圍第丨項所述之正型感光樹脂組成物，其

   物所形成者

   式（C-1) J11540 24 201200966

   OH 式（C-2)

   7·如申請專利範圍第6項所述之正型感光樹脂組成物，其 中’該萘醌二疊氮磺酸化物係選自丨，2-萘醌二疊氮一4_ 磺酸或1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸。 • δ. 一種適用於半加成製程之正型感光樹脂組成物，包括： (Α)鹼可溶性酚醛樹脂，其重量平均分子量為8〇〇()至 30000，且以該正型感光樹脂組成物的總重為基準，該 驗可溶性酚醛樹脂的含量為2〇至4〇 wt% ; (B) 鹼可溶性丙烯酸系樹脂，其重量平均分子量為5〇〇〇 至55000，且以該正型感光樹脂組成物的總重為基準， 該鹼可溶性丙烯酸系樹脂的含量為5至2〇 wt% ; (C) 3有一宜氮基感光化合物，且以該正型感光樹脂 組成物的總重為基準，該含有酉昆二疊氮基感光化合物的 111540 25 201200966 含量為1至15 wt% ;以及 (D)其餘的溶劑。 9.如申請專利範圍第8項所述之正型感光樹脂組成物，其 中’ 3玄如可 >谷性丙；tfp酸糸樹脂包含如下式（I)、（ 11)及 (III)所示之單元：

   (III)。 10. 如申請專利範圍第9項所述之正型感光樹脂組成物，其 中’式（11)之單元佔該驗可溶性丙稀酸系樹脂之1Q至 30重量％ ;式（III)之單元佔該鹼可溶性丙烯酸系樹脂 之50至80重量％;以及式（IV)之單元佔該鹼可溶性丙 烯酸系樹脂之10至20重量％。 11. 如申請專利範圍第8項所述之正型感光樹脂組成物，其 中’該鹼可溶性酚醛樹脂的重量平均分子量為1〇〇〇〇 至 25000 。 如申請專利範圍第8項所述之正型感光樹脂組成物，其 中，該鹼可溶性丙烯酸系樹脂的重量平均分子量為 20000 至 35000 。 13.如申請專利範圍第8項所述之正型感光樹脂組成物，其 26 111540 201200966 中，（C)含有S昆二疊氮基感光化合物係由萘i昆二疊氮石黃 酸化物與選自於下式（C-l)、（C-2)、（C-3)或（C-4)化合 物所形成者

   OH

   式（C-1)

   OH 式（C-2)

   HO

   式（C-3) HO

   式（C-4) 0 14.如申請專利範圍第8項所述之正型感光樹脂組成物，其 中，該萘醌二疊氮磺酸化物係選自1, 2-萘醌二疊氮-4-石黃酸或1，2-萘艇二疊氮-5-磺酸。 27 111540 201200966 四、指定代表圖··無 (一) 本案指定代表圖為：第（）圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：

   (I) (II) (III) 2 111540