201204803 六、發明說明： c發明戶斤屬之技術領域3 發明領域 本發明係有關於一種黏著劑層、黏著薄膜及光學裝 置，詳言之，係有關於一種光學裝置、及適合其使用之黏 著劑層及黏著薄膜。 c先前技術3 發明背景 以往，黏著薄膜係被廣泛地使用在各種產業領域，其 係藉由在基材的表面設置黏著劑層而獲得。 例如，有提案揭示藉由將在丙烯酸系共聚物的乳液添 加丙烯酸系增黏劑而獲得之固體成分濃度為47重量％的水 分散型黏著劑組成物塗佈在脫模薄膜之後，使其乾燥而獲 得黏著劑層（例如下述專利文獻1)。 先前技術文獻 專利文獻 [專利文獻1]日本專利特開2007-248485號公報 I：發明内容3 發明概要 發明欲解決之課題 然而，依照光學領域、產業領域，黏著劑層有被要求 優良的外觀之情形，上述專利文獻1的黏著劑層有無法得到 此種優良外觀之情況。 本發明的目的係提供一種具有優良的外觀之黏著劑 201204803 層，及具有其之黏著薄膜及光學薄膜。 用以名人解決課題之手段 本發明的黏著劑層係塗佈水分散型黏著劑組成物及使 其乾燥而獲得之黏著劑層，其特徵在於：於前述黏著劑層 之表面中’厚度方向之深度為Q2〜2()_，且沿著前述表面 之最大長度為1〜lGmm之凹部數量為每平方公尺⑽”個 以下。 又本發明之黏著劑層，係以前述水分散型黏著劑組 成物之固體成分濃度為5〜32重量％，且前述黏著劑層之厚 度為3〜100仁m為佳。 而且’本發明之黏著劑層，係以含有水分散型丙稀酸 系聚合物及增黏劑’ 前述水分散型黏著劑組成物在贼 且剪切速度lsec·1下之黏度為01〜5〇Pa · s為佳。 又，本發明之黏著劑層，係以前述增黏劑為調製成^重 量％之水溶液’且進一步調整成pH8時之濁度在謂见⑽ 下為佳。 而且，本發明之黏著劑層，係以厚度23em之前述黏著 劑層之黑曾（Haze)值為1.〇%以下為佳。 又，本發明之種黏著薄膜，其特徵在於：具有基材及 層積於前述基材表面上之黏著劑層，且前述接著劑層係藉 由塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得者，於前 述黏著劑層之表面中，厚度方向之深度為〇 2〜2〇" m，且沿 著則述表面之最大長度為1〜凹部數量為每平方公 尺（lm2)5個以下。 4 201204803 又本發明之黏著薄膜，係以前述基材為光學薄膜為 佳。 而且本發明之光學農置，其特徵在於：具有光學薄 膜及層積於前述光學制表面上之黏著㈣，且前述接著 知]層係藉Φ塗佈水分散難著劑組成物及使其乾燥而獲得 者，於則述黏著劑層之表面中，厚度方向之深度為〇 2〜2〇 且沿著前述表面之最大長度為1 〜10mm之凹部數量為 每平方公尺（lm2)5個以下。 發明效果 本發明之黏著劑層係具有優良的外觀，具有其之本發 明的黏著薄膜’係能夠被使用於各種產業用途作為外觀優 良的薄膜。 尤其是具有上述本發明的黏著薄膜之本發明的光學裝 置，能夠確保優良的光學特性。 圖式簡單說明 第1圖係說明本發明的黏著劑層的一實施形態之製造 方法之步驟圖’其中（a)係顯示準備脫模薄膜之步驟，（…係 顯不在脫模薄膜的表面形成由水分散型黏著劑組成物所構 成之塗佈液層之步驟，（c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏 著劑層之步驟。 第2圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之 間存在有異物時之實施例】的黏著劑層之製造方法之步驟 圖，其令（a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形 成塗佈液層之步驟，（b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之 5 201204803 步驟，（C)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。 第3圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之 間存在有異物時之比較例1的黏著劑層之製造方法之步驟 圖’其中（a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形 成塗佈液層之步驟，（b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之 步驟，（c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。 第4圖係顯示本發明的黏著薄膜的一實施形態之黏著 型光學薄膜的剖面圖。 第5圖係說明第1圖所顯示之黏著劑層的製造方法之步 驟圖’其中（a)係顯示準備層積有底塗層之光學薄膜之步 驟，（b)係顯示在底塗層的表面形成由水分散型黏著劑組成 物所構成之塗佈液層之步驟，（c)係顯示使塗佈液層乾燥而 形成黏著劑層之步驟。 第6圖係顯示實施例1的黏著劑層的tem照片之影像處 理圖。 第7圖係顯示實施例3的黏著劑層的tem照片之影像處 理圖。 ^ j 發明之實施形態 本發明的黏著劑層，係能夠藉由在被塗構件的表面塗 佈水分散型黏著劑組成物且使其乾燥而獲得。 水分散型黏著劑組成物’係例如含有水分散型丙烯酸 系聚合物及增黏劑。 水分散型丙烯酸系聚合物，係能夠藉由例如含有具有 6 201204803 礙數4〜18的烷基之（曱基）丙烯酸烷酯及含羧基的乙烯基單 體作為必要成分，且使任意含有能夠與上述必要成分共聚 合之共聚合性乙烯基單體之單體成分進行聚合而獲得。 具有碳數4〜18的烷基之（甲基）丙烯酸烷酯，其烷基部分 係較佳是碳數4〜18的直鏈狀或分枝狀的烷基之（曱基）丙烯 酸烷酯、亦即甲基丙烯酸烷酯及/或丙烯酸烷酯，可舉出例 如（甲基）丙烯酸丁酯、（曱基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙稀酸 第二丁酯、（甲基）丙烯酸第三丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲 基）丙烯酸新戊酯、（甲基）丙烯酸異戊酯、（曱基）丙烯酸己 酯、（曱基）丙烯酸庚酯、（曱基）丙烯酸辛酯、（曱基）丙烯酸 2-乙基己醋、（曱基）丙烯酸異辛g旨、（甲基）丙稀酸壬g旨、（甲 基）丙烯酸異壬酯、（.曱基）丙烯酸癸酯、（曱基）丙烯酸異癸 酯、（甲基）丙烯酸十一烷酯、（甲基）丙烯酸十二烷酯、（甲基) 丙烯酸十三烷酯、（曱基）丙烯酸十四烷酯、（甲基）丙烯酸十 五烷酯、（甲基）丙烯酸十六烷酯、（甲基）丙烯酸十七烷酯、 (甲基）丙烯酸十八烷酯等。 該等（曱基）丙烯酸烷酯可單獨使用或併用。 (甲基）丙烯酸烷酯的調配比例，係相對於100重量份之 單體成分的總量，例如為60〜99重量份，以70〜99重量份為 佳，以80〜99重量份為更佳。 含羧基的乙烯基單體係具有羧基之乙烯基單體，可舉 出例如（曱基）丙烯酸、巴豆酸、桂皮酸等的不飽和一羧酸； 例如反丁烯二酸、順丁烯二酸、伊康酸等的不飽和二缘酸； 例如反丁烯二酸針、順丁烯二酸肝、伊康酸酐等的不飽和 201204803 二羧酸酐；例如伊康酸一曱酯、伊康酸—丁酯、酞酸2_丙 烯醯氧基乙酯等的不飽和二羧酸一酯；1，2,4_笨三甲酸2曱 基丙烯醯氧基乙醋、焦蜜石酸2-甲基丙稀醯氧基乙醋等的 不飽和三羧酸一酯；例如丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊 酯等的丙烯酸羧基烷酯等。 該等含祕紅職單體可單獨制或併用。較佳者 可舉出不飽和一羧酸。 含羧基的乙烯基單體之調配比例，係相對於1〇〇重量份 之單體成分的總量，例如為0.5〜15重量份，以〇 5〜1〇重量份 為佳，以1〜10重量份為更佳。 作為共聚合性乙烯基單體，可舉出例如含有含竣基的 乙烯基單體以外的官能基之乙烯基單體等，可舉出例如一 [一環氧院（甲基）丙烯酸酯]碟酸酯、及一[聚環氧烧（甲基） 丙烯酸酯]磷酸酯等的含磷酸基的乙烯基單體；例如乙酸乙 烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯基酯類；例如（甲基）丙稀酸環氧 丙酯、（甲基）丙烯酸甲基環氧丙酯等含環氧基的單體；例如 丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸2-羥基丁醋 等含羥基的乙烯基單體；例如（甲基）丙烯醯胺、N，N-二甲基 (曱基）丙烯醯胺、N，N-二乙基（曱基）丙烯醯胺、N-異丙基（甲 基）丙烯醯胺、N-丁基（曱基）丙烯醯胺、N-甲氧基甲基（甲基) 丙烯醯胺、N-羥甲基（甲基）丙烯醯胺、N-羥曱基丙烷（曱基) 丙烯醯胺、N-乙烯基羧醯胺等含醯胺基的乙烯基單體；例 如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基的乙烯基單體；例如異氰 酸2-曱基丙烯醯氧基乙酯等含有異氰酸酯基的乙烯基單 8 201204803 體；例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯 亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N_苯基順丁烯二醯亞胺 等的順丁烯二醯亞胺系乙烯基單體；例如N_甲基伊康醯亞 胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺' n-辛基伊康 醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、 N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺；例如N_(甲基）丙稀 醯氧基亞曱基琥珀醯亞胺、N-(曱基）丙烯醯基_6氧基六亞甲 基琥站醯亞胺、N-(甲基）丙烯醯基-8氧基八亞甲基琥珀醯亞 胺等的琥珀醯亞胺系乙烯基單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙 基磺酸、2-(曱基）丙烯醯胺_2_曱基丙烷磺酸、（曱基）丙烯醯 胺丙烷磺酸、（曱基）丙烯酸磺酸基丙酯、（曱基）丙烯醯氧基 萘石黃酸等含續酸基的乙烯基單體；例如（甲基）丙烯酸聚乙二 醇酯、（曱基）丙烯酸聚丙二醇酯、（曱基）丙烯酸甲氧基乙二 醇酯、（甲基）丙稀酸曱氧基聚丙二醇酯等的二醇系丙烯酸酯 單體等。 又，作為共聚合性乙烯基單體，可舉出例如含烷氧矽 烧基的乙稀基單體。 作為含烷氡矽烷基的乙烯基單體，可舉出例如矽烷系 (甲基）丙烯酸酯單體、矽烷系乙烯基單體等。 作為矽烷系（甲基）丙烯酸酯單體，可舉出例如（甲基）丙 烯醯氧基曱基-三曱氧基矽烷、（甲基）丙烯醯氧基甲基-三乙 氧基矽烷、2-(曱基）丙烯醯氧基乙基_三曱氧基矽烷、2_(曱 基)丙稀®1氧基乙基-三乙氧基石夕⑥、3-(甲基)丙稀酿氧基丙 基-三甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基_三乙氧基矽 201204803 烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3_(甲基）丙烯 酿氧基丙基-三異丙氧基石夕烧、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基_三 丁氧基矽烷等的（甲基）丙烯醢氧基烷基-三烷氧基矽烷等； 例如（甲基）丙烯醯氧基甲基-甲基二f氧基矽烷、（甲基）丙烯 酿氧基甲基-甲基二乙氧基石夕烧、2-(甲基）丙稀醯氧基乙基_ 甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基）丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧 基矽烧、3-(曱基）丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基石夕烧、3_(甲 基）丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧 基丙基-子基二丙氧基破烧、3-(甲基）丙稀酿氧基丙基_甲基 二異丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基 石夕烧、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基石夕烧、甲 基）丙烯醯氧基丙基-乙基二乙氧基矽烷、3_(甲基）丙烯醯氧 基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基_乙基 二異丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基 碎烧、3-(曱基）丙稀酿氧基丙基_丙基二曱氧基石夕烧' 3_(甲 基）丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等的（曱基）丙烯醯 氧基烷基-烷基二烷氧基矽烷；或對應該等之（甲基）丙烯醯 氧基烷基-二烷基（一）烷氧基矽烷等。 作為石夕烧系乙稀基單體’可舉出例如乙稀基三甲氧其 矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙 稀基二丁氧基石夕烧等的乙烯基三烧氧基石夕烧、以及對應該 等之乙烯基烷基二烷氧基矽烷、乙烯基二烷基烷氧基矽 烷；例如，乙烯基曱基三甲氧基矽烷、乙烯基甲基三乙氧 基矽烷、β-乙烯基乙基三曱氧基矽烷、β_乙烯基乙基三乙氧 201204803 « % 基石夕烧、γ_乙稀基丙基三甲氧基石夕烧、γ-乙稀基丙基三乙氧 基矽烷、γ-乙烯基丙基三丙氧基矽烷、γ_乙烯基丙基三異丙 氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三丁氧基矽烷等的乙烯基烷基三 烷氧基矽烷、以及對應該等之（乙烯基烷基)烷基二烷氧基矽 烷、或（乙烯基烷基)二烷基(一）烷氧基矽烷等。 又，作為共聚合性乙烯基單體，係除了上述含官能基 的乙烯基單體及含烷氧基矽烷基的乙烯基單體以外，亦可 舉出例如乙烯、丙烯、異戊二晞、丁二烯、異丁烯等的烯 烴系單體；例如（甲基）丙烯酸曱酯、（曱基）丙烯酸乙酯、（曱 基）丙稀酸丙酯、（甲基）丙烯酸異丙酯等具有碳數丨〜3的直鏈 狀或分枝狀的烷基之（曱基)丙烯酸烷酯；例如（甲基）丙烯酸 . 環己酯、（甲基）丙烯酸莰酯；（曱基）丙烯酸異莰酯等的（甲基) 丙烯酸酯脂環式烴酯；例如（甲基）丙烯酸苯酯等的（甲基）丙 烯酸芳酯；例如苯乙烯等的苯乙烯系單體；例如（甲基）丙烯 醯基嗎福林、（甲基）丙烯酸胺基乙酯、（曱基）丙烯酸Ν,Ν-二 甲月女基乙基、（曱基）丙烯酸第三丁基胺基乙酯等含氮原子的 乙烯基單體；例如（曱基）丙烯酸曱氧基乙酯、（甲基）丙烯酸 乙氧基乙酯等含烷氧基的乙烯基單體；例如乙烯醚等的乙 浠ϋ系單體，》乙稀等的含自素原？的乙稀基單體； 例如Ν·乙埽基。比咯啶酮、Ν_(1_甲基乙烯基）β比咯啶_、Ν_ 稀土匕定、Ν-乙稀基0底σ定_、乙烯基嘴咬' Ν_乙稀基 底畊、Ν_乙烯基吡0井、Ν_乙烯基吡咯、Ν-乙烯基咪唑' Ν_ 乙烯基5唑、Ν_乙烯基嗎福林、（甲基）丙烯酸四氫糠酯等含 乙稀基的雜環化合物；例如含有氟原子等的函素原子之丙 201204803 烯酸酯系單體等β 而且，作為上述共聚合性乙烯基單體，可舉出例如多 官能性單體。 作為多官能性單體，可舉出例如乙二醇二（甲基）丙稀酸 酯、二伸乙甘醇二（甲基）丙烯酸酯、三伸乙甘醇二（甲基）丙 烯酸酯、四伸乙甘醇二（甲基）丙烯酸酯等的（―或聚）乙二醇 二（曱基）丙烯酸酯、丙二醇二（曱基）丙烯酸酯等或聚)伸 烷基二醇二（甲基）丙烯酸酯、以及新戊二醇二（曱基）丙烯酸 酯、1，6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇二（甲基）丙稀 、二經曱基丙烧二（甲基）丙稀酸@曰、新戊四醇三（甲其） 丙稀酸酯、二新戊四醇六（甲基）丙稀酸酯、二乙稀基笨等。 又’作為多官能性單體，亦可舉出環氧丙烯酸酯、聚醋丙 烯酸酯、胺曱酸酯丙烯酸酯等。 該等共聚合性乙烯基單體可單獨使用或併用2種以上。 該等共聚合性乙烯基單體之中，較佳者可舉出含磷酸 的乙烯基單體及含烷氧基矽烷基的乙烯基單體，而且更佳 者可舉出一[聚環氧烷（甲基）丙烯酸酯]磷酸酯及矽烷系（甲 基）丙烯酸酯單體。 共聚合性乙烯基單體的調配比例係相對於100重量份 之單體成分的總量，例如為39重量份以下’以19重量份以 下為佳，以18重量份以下為更佳。 又，調配含磷酸基的乙烯基單體時，含磷酸基的乙稀 基單體的調配比例係係相對於1 〇 〇重量份之單體成分的總 量，例如為0.5~20重量份，以0·5~10重ϊ份為佳’以 12 201204803 量份為更佳。 又’調配含烧氧基石夕院基的乙稀基單體時，其調配比 例係相對於重量份之單體成分的總量，例如為㈣^ 重量份，且以0.005〜〇.1重量份為佳。 而且，為了使上述的單體成分聚合而得到水分散型丙 稀酸系聚合物，係、將單體成分以上述的調配比例調配且例 如使用乳化聚合（包含m合）等的聚合方法來使其聚合。 乳化聚合係例如將上述的單體成分與聚合起始劑、°乳 化劑等同時在水中調配而聚合。更具體地，係例如能夠採 用成批添加法（成批聚合法）、單體滴入法、單體乳液滴入法 等幕所周知的乳化聚合法。X，單體滴人法係^夠選擇連 續滴入或分割滴人。反應條件等係能夠適t地選擇，聚合 溫度係例如20〜100°c。 又，在對上述單體成分調配聚合起始劑之前，或是在 邊調配的同時 '或是在調配後’藉由氮取代，能夠減低含 有單體成分之反應液中的溶解氧濃度。 作為聚合起始劑，係沒有特别限制，能夠使用在乳化 聚合通常使用之聚合起始劑。例如2,2，_偶氮雙異丁腈 ⑷則…’-偶氮雙⑺甲基丙⑽二石泉酸鹽^^偶氮雙^ 甲基丙脒）二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2_脒基丙烷）二鹽酸鹽、 2,2’-偶氮雙[N-(2-叛乙基)-2-甲基丙脉)水合物、2,2，-偶氮雙 (N，N -一亞甲基異丁基脒）、2,2’-偶氮雙[2_(2_咪唑啉_2_基) 丙院]一鹽酸鹽#的偶氮系起始劑；例如過硫酸卸(kps)、 過硫酸銨(APS)等的過硫酸鹽系起始劑；例如過氧化苯甲醯 13 201204803 基、第三丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系起始劑； 例如，苯基取代乙烷等的取代乙烷系起始劑；例如芳香族 羰基化合物等的羰基系起始劑；例如過硫酸鹽與亞硫酸氫 鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等之氧化還原系 起始劑等。 該4聚合起始劑可單獨或併用2種以上 劑之中，較佳者可舉出過硫酸鹽系起始劑 聚合起始劑的調配比例係能夠適當地選擇，相對於10 重量份之單體成分，例如為⑴⑽〜丨重量份。 作為乳化劑’係沒有特別限制，能夠使用在乳化以 通常被使用之眾所周知的乳化劑。可舉出例如月桂基^ 納、月桂基硫酸敍、月桂基苯俩鈉、聚氧乙稀月桂基石; 酸鈉 '聚氧乙舰細硫_、聚氧乙敎基苯基峻硫趣 銨、聚氧乙雜基苯基_l_ 1氧乙触基績酸基菊 ⑽納等的陰離子系乳化劑；例如聚氧乙稀院㈣、聚韋 乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪醆能 嵌段聚合物等的非離子系乳化劑等。 Λ氧丙为 又’作為乳化劑，可舉出在上㈣ 非離子系乳化劑導入丙稀基麵 =
官能基（反應性基）而成之自由 田土眾口 W AQUARON HS_10(第—卫業 趴例士 劑）等。 衆A习製）等的反應性乳价 該等乳化劑可單獨使用或併 反應性乳化^ _上。較佳者可舉出 14 201204803 又’乳化劑的調配比例係相對於1〇〇重量份之單體成 分，例如為0.2〜10重量份，以0.5〜5重量份為佳。 而且，藉由此種乳化聚合而得到之水分散型丙烯酸系 聚合物，係調製成為乳液(水分散型）、亦即丙烯酸系聚合物 的水分散液。 又，水分散型丙烯酸系聚合物，係亦能夠藉由例如將 上述單體成分使用乳化聚合以外的方法、例如使用溶液聚 合或塊狀聚合而進行聚合，且按照必要亦可在除去溶劑或 將塊狀粉碎後，使用上述的乳化劑，以使水分散的方式進 行而調製。 在水分散型丙烯酸系聚合物之固體成分濃度，係例如 10〜90重量％，以20〜80重量％為佳。 為了將水分散型黏著劑組成物的黏度設定為所需要的 範圍（後述），係在水分散型黏著劑組成物調配增黏劑，可舉 出例如聚丙烯酸系增黏劑、胺甲酸酯系增黏劑、纖維素系 増黏劑、天然南分子系增黏劑等。 作為聚丙烯酸系增黏劑，可舉出例如聚丙烯酸、聚丙 烯酸-聚（甲基）丙烯酸烷酯共聚物（丙烯酸系共聚物）等。又， 作為聚丙烯酸系增黏劑，亦可舉出上述聚丙烯酸預先被中 和而成之中和物亦即聚丙烯酸鹽等。作為聚丙烯酸鹽，可 舉出例如聚丙烯酸鈉、聚丙烯酸鉀等。又’作為丙烯酸系 增黏劑，亦可舉出例如羧基的一部分係被苯乙烯基、烷基 等的疏水基改質而成之疏水基改質聚丙烯酸等。 聚丙烯酸系增黏劑的酸值係例如30〜30〇mg/KOH、以 15 201204803 80~280mg/KOH為佳。 胺甲酸酯系黏著劑係例如在分子中具有胺曱酸酯鍵及 聚&I鏈之胺曱酸酯化合物，係藉由胺曱酸酯之間在水中聚 集而能夠顯現增黏作用之胺甲酸酯化合物。 作為纖維素系增黏劑，可舉出例如曱基纖維素、乙基 纖維素、羥曱基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、 羥丙基甲基纖維素、羧曱基纖維素等。 作為天然高分子系增黏劑，可舉出例如三仙膠(xanthan gum)、結冷膠(Gellan gum)、瓜爾膠(guar gum)、海蕩酸納、 角叉菜膠（carageenan)、果膠等。 又，作為增黏劑，亦可舉出例如聚丙烯醯胺、聚環氧 乙烷、聚乙烯醇等。 該等增黏劑可單獨使用或併用2種以上。 作為增黏劑，從使黏著劑層的外觀提升之觀點，較佳 者可舉出聚丙烯酸系增黏劑、胺曱酸酯系增黏劑。 該等增黏劑係能夠使用市售品，具體上，作為聚丙烯 酸系增黏劑，可舉出例如PRIMAL ASE-60、PRIMAL TT-615、PRIMAL ASE-75、PRIMAL ASE-95、PRIMAL ASE-108、PRIMAL RM-5(以上Rohm and Hass公司製）、 ZOGENIOO、ZOGEN150、ZOGEN200、ZOGEN250、 ZOGEN3 50(以上 RHEOX公司製）、SN THICKENER A-815、 SN THICKENER A-818、SN THICKENER A-850(以上 SANNOPCO公司製）、RHEOVIS CR(—方社油脂化學工業 公司製）、ARON B-300K、ARON B-500K(丙烯酸系共聚 16 201204803 物）、ARON A-7070(以上東亞合成公司製）、THICKZOL Κ-15〇Β(共榮社油脂化學工業公司製）、ACRYSET WR-503、ACRYSET WR-650(以上日本觸媒公司製）等。又， 作為聚丙烯酸系增黏劑，亦可舉出SN THICKENER 640(疏 水性改質聚丙烯酸、SANNOPCO公司製）等。 又，作為胺曱酸酯系增黏劑，可舉出例如ADEKANOL UH-462、ADEKANOL UH-752、ADEKANOL UH-140S、
ADEKANOL UH-420、ADEKANOL UH-438、ADEKANOL UH-472、ADEKANOL UH-450、ADEKANOL UH-540、 ADEKANOL UH-550 、 ADEKANOL UH-541VF 、 ADEKANOL UH-526、ADEKANOL UH-530(以上 ADEKA公 司製）、RHEOLATE266、RHEOLATE288、RHEOLATE244、 RHEOLATE255、RHEOLATE278(以上 RHEOX 製）、SN THICKENER A-803、SN THICKENER A-804、SN THICKENER A-807 ' SN THICKENER A-812 ' SN THICKENER A-814(以上 SANNOPCO公司製）等。 又，上述的增黏劑係例如能夠以粉末(粒子）型、水溶液 型、乳液型等的形態調製。 而且，增黏劑係調製成為1重量％水溶液且調整為pH8 時之濁度為例如100NTU以下，以50NTU以下為佳，以 20NTU以下為更佳，通常係〇 1NTU。 將1重量°/。水溶液調整為pH8以下，係例如在增黏劑的1 重量％水溶液添加濃度5〜15重量％銨水溶液等的鹼性水溶 液。驗性水溶液的添加量係以因該添加而增黏劑的濃度減 17 201204803 少率為例如i°/〇以内的方式調整。 又’濁度係使用濁度計測定，又，NTU係濁度的單位 (Nephelometric Turbidity Unit) ° pH調整後之增黏度的1重量％水溶液的濁度為超過上 述範圍時’增黏劑會殘留不溶解物(粒子），且在黏著劑層該 狀態的增黏劑係以比較大的粒子的方式存在，有致使黏著 劑層的透明性低落而成為白濁的原因之情形。 增黏劑（的固體成分）的調配比例，係相對於1 〇〇重量份 之水分散型丙烯酸系聚合物的固體成分，例如為0 01〜20重 量份，以0.1〜10重量份為佳，以0,5〜5重量份為更佳。又， 亦能夠將增黏劑（的固體成分）的調配比例，以相對於水八散 型黏著劑組成物的固體成分以外、亦即1〇〇重量份 ⑺I，例如 設定為0.01〜20重量份，以0.1〜1〇重量份為佳，以〇 5〜5重量 份為更佳。 增黏劑的調配比例係只要在上述的範圍内，能夠將水 分散型黏著劑组成物的黏度設定在所需要的範園（後述）。 而且，調整水分散型黏著劑組成物，係使用上述的調 配比率調配水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑。具俨上 係調配水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑且將該等岣勻地 稅拌而调製水分散混合液。 隨後，按照必要藉由在水分散混合液追加水，來將水 分散型黏著劑組成物的固體成分濃度調整為例如5〜32重量 %，以7〜29重量％為佳，以1〇〜25重量〇/。為更佳。 水分散型黏著劑組成物的固體成分濃度為上述範圍 201204803 時，能夠使用塗佈時的處理性提升，且能夠將塗佈液層2的 尽度T1(後述）δ又疋在特定範圍。另一方面，水分散型黏著 劑組成物的固體成分 '濃度為超過上述範圍時，凹部5的數量 有超過所需要的範圍之情形。 隨後，按照必要而將經調整固體成分濃度之水分散型 黏著劑組成物的pH調整為例如7〜10，以7〜9為佳。 水分散型黏著劑組成物的pH，係例如藉由在經調整固 體成分濃度之水分散型黏著劑組成物，添加濃度5〜15重量 %的銨水溶液等的鹼性水溶液來調整。鹼性水溶液的添加 量，係以因該添加而在水分散型黏著劑組成物之固體成分 濃度的減少率為例如1%以内的方式調整。 而且，因為增黏劑為聚丙烯酸酯系增黏劑時，經調整 固體成分濃度之水分散型黏著劑組成物的pH係通常超過 10，係藉由將水分散型黏著劑組成物的整為上述範圍 内而將羧基中和，來使增黏作用顯現。 如此進行而調製之水分散型黏著劑組成物在扣它、·剪 切速度lsec·1的黏度係例如為O.UOPa. s，以〇2〜2〇1^. § 為佳。 水分散型黏著劑組成物在3(TC、剪切速度為之黏 度，能夠使用圓錐/平板式黏度計（c〇ne and咖化 viscometer)(流變計）來測定。 水分散型黏著劑組成物的黏度未滿上述範圍時，塗佈 時水分散型黏著劑組成物在被塗構件(後述)上有產生收縮 另一方面’水分散型 斑(cissing)致使塗佈變為困難之情形 201204803 黏著劑組成物的黏度超過上述範圍時，有凹部5的數量超過 所需要的範圍之情形。 第1圖係說明本發明的黏著劑層的一實施形態之製造 方法之步驟圖，第2圖及3圖，係說明在脫模薄膜的背面與 支撐構件的表面之間存在有異物時之黏著劑層的製造方法 之步驟圖。 隨後，參照第1圖〜3圖而說明製造本發明的黏著劑層之 一實施形態之方法。 該方法係首先準備被塗構件例如薄膜，具體上係準備 脫模薄膜1。 脫模薄膜1係例如由軟質材料所構成，具體上可舉出例 如聚乙烯、聚丙烯、聚對酞酸乙二酯（PET)等的合成樹脂薄 膜、例如布、不織布、網、發泡薄膜等、金屬箔（例如銘箔） 或將該等複數化而成之積層薄膜等。又，為了提高剝離性， 亦可在脫模薄膜1的表面按照必要而施行矽酮處理、長鏈烷 處理、氟處理等的處理（剝離處理）。 脫模薄膜1的厚度係沒有特別限定，例如為1〜1000// m，較佳是10〜100 // m。 隨後，該方法係如第1圖（b)所表示，在脫模薄膜1的表 面塗佈水分散型黏著劑組成物而形成塗佈液層2。 水分散型黏著劑組成物係例如使用吻合塗佈、凹版塗 佈、棒塗佈、喷霧塗佈、刀塗佈(knife coating)、線繼塗佈、 刮刀式塗佈（comma coating)等眾所周知的塗佈法來塗佈在 脫模薄膜1的表面。 20 201204803 將水分散難著㈣成物塗佈在脫㈣膜 時，係例如第2圖〇)及3圖（ ^ ⑻所表不，使支撐構件7的表面 接觸脫模薄膜1㈣面而支撐脫模薄膜卜 录 脫模薄膜1係形成長條狀時，作為支樓構件7’可舉出 例如塗純等。塗佈輥係配置在脫模薄膜i的長條方向途 中’且邊將脫模薄膜i通過塗佈輕邊在脫模薄膜 佈水分散型黏著劑組成物。經塗佈水分散型黏著劑組成物 之脫模薄膜1係在通過塗佈輥之後，從塗佈輥離開。 又，脫模薄膜m形成單片狀時，作為支標構件7，可 舉出例如平板狀的支樓板等。塗佈水分散型黏著劑組成物 時，係在脫模薄膜1的背面整面配置支撐板，且在形成塗佈 液層之後，係將脫模薄膜1從支撐板7剝離。 上述的支撐構件7係例如由比形成脫模薄膜丨的軟質材 料硬的硬質材料構成’具體上係由鐵、不鏽鋼等金屬等的 硬質材料所構成。 塗佈液層2的厚度T1係例如為5〜2000"m，以ι〇〜1〇〇〇 為佳。塗佈液層2的厚度T1為上述範圍時，在能夠將黏 著劑層6的厚度Τ2(後述)設定在所需要的範圍，同時能夠使 凹部5(後述' 參照第3圖）為所需要的數量以下。 隨後，該方法係如第1圖（c)所表示，使塗佈液層2乾燥。 乾燥溫度係例如90〜15〇°C且例如1〇〇〜14〇。(：，乾燥溫度 係例如0.5〜30分鐘，以1~1〇分鐘為佳。 藉此，能夠得到黏著劑層6。亦即，塗佈液層2的水分 係藉由上述的乾燥而被餾除，能夠形成由水分散型黏著劑 21 201204803 組成物的固體成分（主要是丙烯酸系聚合物與增黏劑的混 合物)所構成之黏著劑層6。 如此進行而得到之黏著劑層6的厚度T2，係相對於塗膜 層2的厚度T1，例如為10〜60% ’以例如2〇〜50%為佳，具體 上為3〜100"m，以20~40//m為佳。 黏著劑層6的厚度T2為上述範圍内時，能夠將基材（具 體上係光學薄膜11(參照第4圖）等）與被黏物（具體上係光學 裝置的玻璃基板等)確實地接著。 又，厚度23 # m的黏著劑層6之黑曾（Haze)值係例如 1.0。/。以下，以0.9%以下為佳，通常為〇1%以上。 而且，黏著劑層6的黑曾值係依據JIS反7136且使用黑 曾計量器測定。 又，黏著劑層6的黑曾值係超過上述範圍時，有黏著劑 層6的透明性低落而無法確保黏著劑層6的良好外觀之情 形。 而且，s亥黏著劑層6係在其表面，以下說明的凹部5之 凹部數量為每平方公尺（lm2)5個以下，以丨個以下為佳。 隨後，參照第2圖及3圖，詳述凹部5。 凹部5係例如參照第3圖⑷，從黏著劑層6的表面朝向背 面之凹下部分(缺陷部分），而且其係定義為厚度方向的深度 D為0.2〜20"m且沿著表面之最大長度(例如，平面視為圓形 的情況係上端的内徑)L2為1〜i〇mm的尺寸的缺陷部分。 詳έ之，如第2圖（a)及3圖（a)所示，在脫模薄膜1的表 面形成塗佈液層2時，在脫模薄膜丨的背面與支撐構件7的表 22 201204803 面之間會有異物8夾雜之情形。 異物8係最大長度係例如為1〜1000# m，進而為10〜100 fl m。 而且，異物8係如上述存在時，脫模薄膜1係以在厚度 方向與異物8相向的部分（突出部分13)的背面係朝向表側 (上側）彎曲（突出）、同時突出部分13的表面亦朝向表側（上側） 彎曲（突出）的方式形成。又，脫模薄膜1係以在突出部分13 與其周圍的部分之厚度為一定的方式形成。 此時，因為塗佈液層2係由調製成為乳液之水分散型黏 著劑組成物所構成，塗佈液層2的表面係形成平坦狀，另一 方面，在塗佈液層2的背面亦即對脫模薄膜1之相向面，係 . 形成有對應脫模薄膜1的表面的突出部分13之背側凹部9。 背側凹部9的尺寸及數量係對應上述脫模薄膜1的表面 的突出部分13的尺寸及數量。 隨後，如第2圖（b)及3圖（b)所表示，將脫模薄膜1從支 撐板7分離時，脫模薄膜1的表面及背面之兩面係復原成為 平坦狀。 與此同時，在塗佈液層2的背面，上述背側凹部9係與 其周圍同時形成平坦狀而消失，另一方面，在塗佈液層2的 表面，係形成有對應上述背面凹部9(參照第2圖（a)及第3圖 (a))之表側凹部4。 表側凹部4係從塗佈液層2的表面朝向背側凹下，其尺 寸及數量係大致對應上述突出部分13的尺寸及數量。 其次，如第2圖（c)及3圖（c)所表示，藉由塗佈液層2的 23 201204803 乾燥而形成黏著劑層6。 而且，相較於第2圖（b)的塗佈液層2的厚度T1(除了表側 凹部4部分以外的厚度）’由上述固體成分濃度的水分散型 點著劑組成物所得到之第2圖（c)的黏著劑層6的厚度（除了 表側凹部5部分以外的厚度)T2,係顯著較薄地形成。亦即， 因為黏著劑層6的厚度T2對塗佈液層2的厚度T1之比(T2/T1} 係顯著地低，因此，第2圖（c)的凹部5係小尺寸，亦即能夠 比上述定義的尺寸（最大深度D)的下限更小（淺）地形成。 另一方面，相較於塗佈液層2的厚度Τ1’，因為由比上 述固體成分濃度濃的固體成分濃度(例如超過32重量％的濃 度）的水分散蜇黏著劑組成物所得到之黏著劑層6的厚度 Τ2’ ’係無法顯著較薄地形成。亦即’因為黏著劑層6的厚 度Τ2,對塗佈液層2的厚度Τ1，之比(Τ27Τ1’)係比較大，且相 較於上述第2圖的黏著劑層6的厚度Τ2對塗佈液層2的厚度 Tl之比(Τ2/Τ1)，係比較大而容易受到表側凹部4的影響。 因此’第3圖（c)的凹部5係至少比第2圖（c)的凹部5深，具體 上係在上述定義的尺寸（最大深度D)的範圍形成。 因此，該黏著劑層6係如上述，將水分散型黏著劑組成 ，的固體成分濃度設定為較㈣特定濃度時，乾燥後的凹 之數量小，具體上，因為凹部5係所希望的數量以下， 所以能夠得到優良的外觀’此，能夠❹於各種產業用 途、較佳是被要求優良的外觀之光學用途。 第4圖係顯示本發明的黏著薄祺的—實施形態之黏著 型光學薄膜的剖面圖。 24 201204803 其次，參照第4圖而說明具有上述黏著劑層6之本發明 的黏著薄膜的一實施形態之黏著型光學薄膜之製造方法。 在第4圖’該黏著型光學薄膜10係具有：光學薄膜11， 其係作為基材；底堂層12 ,其係被層積在光學薄膜11的表 面；及黏著劑層6，其係被層積在底塗層12的表面。 光學薄膜11係具有光學特性之薄膜，例如被使用在後 面詳述之影像顯示裝置專且被視為在影像顯示裝置之光學 層。作為光學薄膜11，可舉出例如偏光薄膜、相位差薄膜、 亮度提升薄膜、視野角擴大薄膜(視野角補償薄膜）、表面處 理薄膜等。 作為偏光薄膜，係例如能夠使用如在偏光鏡的一面或 兩面，設置透明保護薄膜而成者。 作為偏光鏡，係沒有特別限制，可舉出例如在聚乙稀 醇系薄膜、部分甲雜化聚乙稀醇系薄膜、乙烯_乙酸乙稀 醋共聚合物系部分皂化薄膜等的親水性高分子薄膜，使用 蛾和二色性物質染色等的二色性物質進行染色且單轴拉伸 而成者、聚乙賴賴水處理物和聚以_脫鹽酸處理 物等多烯系配向賴等。較佳者可舉•聚乙騎系薄膜 使用峨染色且單軸拉伸而成之偏光鏡。 =透明保護薄膜，可舉出例如聚對㈣乙二醋和聚 秦二甲I乙二酿等的聚_合物薄骐 二乙酸纖維素等的纖維素系聚合物薄與、聚：嫌：σ
s旨等的丙_系聚合物薄膜、聚苯乙歸和丙:/ W 聚物(AS樹脂）等的苯乙稀系聚合物_丙稀猜-笨乙稀共 口奶浔骠、聚碳酸酯系聚合 25 201204803 物薄膜等。又，亦可舉出聚乙烯、聚丙烯、具有環或降莰 烯構造之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等的聚烯烴系聚合物薄 膜、聚氣乙烯系聚合物薄膜、耐綸、芳香族聚醯胺等的醯 胺系聚合物薄膜、酿亞胺系聚合物薄膜、礙系聚合物薄膜、 聚醚系聚合物薄膜、聚醚醚酮系聚合物薄膜、聚苯硫 (polyphenylene sulfide)系聚合物薄膜、聚乙浠醇系聚合物薄 膜、偏二氯乙烯系聚合物薄膜、乙烯基丁縮醛系聚合物薄 膜、芳香酯（arylate)系聚合物薄膜、聚甲搭 (polyoxymethylene)系聚合物薄膜、環氧系聚合物薄膜、或 上述聚合物的摻合物之薄膜等。 透明保護薄膜係亦能夠以丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙 烯酸胺曱酸酯系、環氧系、矽晒等等的熱硬化型、紫外線 硬化型的樹脂的硬化層之方式形成。 作為透明保護薄膜，較佳者可舉出纖維素系聚合物。 透明保護薄膜的厚度係沒有特別限制，例如500//m以下， 以l~300//m為佳，以5〜200//m為更佳。 將偏光鏡與透明保護薄膜進行接著處理，係例如使用 異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、 乙烯系接著劑、乳膠系接著劑、水系聚酯系接著劑等進行 接著。 作為相位差薄膜，可舉出例如λ/2波長板或λ/4波長板等 的波長板等，具體上可舉出將高分子材料進行單軸拉伸或 雙轴拉伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶性聚合物的配向 薄膜、使用薄膜支撐液晶性聚合物的配向層而成者等。相 26 201204803 位差薄膜的厚度係沒有特別限制，例如2〇~l 50 # m。 作為高分子材料’係可舉出例如聚乙烯醇、聚乙烯丁 縮醛' 聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥基乙酯、羥乙基纖維素、 羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳香酯、聚砜、 聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚砜、聚苯硫' 聚苯醚、聚烯丙基砜、聚乙烯醇、聚醯胺、聚醯亞胺 '聚 烯烴、聚氯乙烯、纖維素系共聚物 '或該等的二元系、三 元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子材 料係藉由延伸等而成為配向物（延伸薄膜）。 作為液晶性聚合物’可舉出例如在聚合物的主鏈和側 鏈，導入賦予液晶配向性之共軛性直線狀原子團（液晶基； . mesogen)而成之主鏈型或側鏈型的各種物等。作為主鏈型 • 的液晶性聚合物，可舉出例如在賦予撓曲性的間隔部鍵結 液晶基而成之結構，具體上可舉出向列配向性的聚酯系液 B曰性聚合物、碟狀聚合物和膽固醇型聚合物等。作為側鏈 型的液晶性聚合物’可舉出例如將聚碎氧炫、聚丙稀酸醋、 聚甲基丙烯酸1旨或聚丙二酸醋(㈣ymal_te)作為主鏈骨 $ 1透過由共性的原子團所構成的間隔部而具有由向 列配向職予性的對取代環狀化合物單元所構成之液晶基部 卞為側鏈者等。该等液晶性聚合物，係例如能夠藉由將在 所升v成之聚醯亞胺和聚乙烯醇等的薄膜表面進行 理5理而成者、在將氧化石夕斜方蒸鍵而成者等的配向處 又，將液晶性聚合物的溶液展開而進行熱處理來得到。 又相位差薄膜係例如將利用各種波長薄膜和液晶層 27 201204803 的雙折射所引起著色和視野角等的擴大作為目的者，亦可 以是按照其他使用目的而具有相位差者，且亦可以是將2種 以上的相位差薄膜層積而控制相位差等的光學特性而成者 等。 作為亮度提升薄膜，可舉出例如介電體的多層薄膜和 折射率異方向性不同之薄膜的多層積層體等顯示將規定偏 光軸的直線偏光透射且其他光線為反射之特性者；在薄膜 基材上支撐膽固醇型液晶聚合物的配向薄膜和其配向液晶 層者等顯示將左旋轉或右旋轉的任一者的圓偏光反射且其 他光線為透射之特性者等。亮度提升薄膜的厚度係例如 10〜200 // m。 視野角擴大薄膜係為了將視野角擴大之薄膜，使得即 便從不與晝面垂直的而稍微偏斜的方向觀看液晶顯示器的 晝面，亦能夠比較鮮明地觀看到影像，可舉出例如相位差 薄膜、液晶聚合物等的配向薄膜和在透明基材上支撐液晶 聚合物等的配向層而成者等。作為視野角擴大薄膜所使用 的相位差薄膜，係能夠使用在面方向被雙軸拉伸而成之具 有雙折射的聚合物薄膜；在面方向被單軸拉伸且在厚度方 向亦被拉伸之控制厚度方向的折射率而成之具有雙折射的 聚合物；及如傾斜配向薄膜之二方向拉伸薄膜等。視野角 擴大薄膜的厚度係例如10〜200 // m。 作為表面處理薄膜，可舉出例如用以對影像顯示裝置 的表面賦予耐擦傷性之硬塗薄膜，例如用以防止對影像顯 示裝置產生映入之抗眩處理薄膜、抗反射薄膜等的防止反 28 201204803 、 射薄膜，例如用以減低對影像顯示裝置產生映入之低反射 薄膜等的減低反射薄膜等。 又，作為光學薄膜，亦可舉出例如反射板、半透射板 等。 上述各光學薄膜係能夠使用1層或2層以上。 而且，為了得到該黏著型光學薄膜，係首先準備光學 薄膜11，隨後，在光學薄膜11的表面設置底塗層12。 底塗層12係例如含有含噚唑啉基之聚合物，及/或含有 水溶性或水分散性導電材料。 含°号唑啉基之聚合物係例如含有由丙烯酸骨架或苯乙 稀骨架所構成的主鏈且在其主鏈的側鏈具有哼唑啉基者， 較佳者可舉出含有由丙烯酸骨架所構成的主鏈且在其主鏈 • 的側鏈具有坐琳基之含噚峻淋基之聚合物。 作為噚唑啉基，可舉出例如2_噚唑啉基、3_噚唑啉基、 亏。坐琳基等，較佳者可舉出2-噚唑啉基。 作為2_噚唑啉基，通常係使用下述通式（1)表示， [化1] R2 R3
R4 R1 29 201204803 (通式（1)中，及R4係各自獨立地表示氫原子、 鹵素原子、院基、芳院基、笨基或取代苯基）。 含°圭琳基之聚合物，其ef β坐琳值係例如1500g solid/eg.以下，以 1200gsolid/eg_以下為佳。 含噚。坐琳基的聚合物係能夠使用市售品，具體上可舉 出EPOCROS WS-500(水溶液型、固體成分40%、主鏈：丙 烯酸系、pH7〜9、°号β坐琳值220g solid/eg.、日本觸媒公司 製）、EPOCROS WS-700(水溶液型、固體成分25%、主鏈： 丙稀酸系、ρΗ7~9、°号°坐琳值220gsolid/eg·、日本觸媒公司 製）等含噚唑淋基的丙烯酸系聚合物；例如EPOCROS K-1000系列（乳液型、固體成分40%、主鏈：苯乙烯/丙烯酸 系、〇号唑琳值110(^5〇仙/6§.、卩^17~9、日本觸媒公司製）、 EPOCROS K-2000系列（乳液型、固體成分40%、主鏈：苯 乙稀/丙稀酸系、ρΗ7~9、σ号。坐琳值550g solid/eg.、日本觸 媒公司製）等含含哼唑啉基的丙烯酸/苯乙烯聚合物等。從提 升密著力之觀點，較佳是使用水溶液型。 該等含噚唑啉基的聚合物係可單獨使用或併用2種以 上。 作為水溶性或水分散性導電材料，可舉出例如導電聚 合物、有機金屬化合物等。較佳者可舉出導電聚合物。 作為導電聚合物，可舉出例如聚苯胺、聚噻吩、聚比 咯、聚喹噚啉等。該等之中，從塗佈性的觀點，較佳者玎 舉出聚苯胺或聚噻吩。 聚苯胺係藉由GPC測定之換算聚苯乙烯(PS)的重量斗 30 201204803 均分子量，例如500000以下，以300000以下為佳。聚噻吩 係藉由GPC測定之換算聚苯乙烯(PS)的重量平均分子量，例 如400000以下，以300000以下為佳。 此種水溶性或水分散性導電聚合物係能夠使用市售 品，具體上，作為水溶性導電聚合物，可舉出例如聚苯胺 磺酸(三菱RAYON公司）等，作為水分散性導電聚合物，可 舉出例如聚噻吩系導電聚合物（商品名「DENATRON」： NAGASE CHEMTEX公司製、商品名「ORGACON LBS」： Agfa Materials公司製）等。 該等導電材料係可單獨使用或併用2種以上。 上述各成分（含噚唑啉基的聚合物、及/或導電材料）係 能夠溶解或分散在溶劑，來調製成為各成分的溶液或分散 液。 從防止光學薄膜的變質之觀點，較佳是調製成為各成 分係被溶解或分散在水之水溶液減水分散（以下將該等只 總稱為「塗佈液」）。 在塗佈液，係除了水以外，亦可使其含有醇類作為水 系溶劑。 作為醇類，可舉出例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、 正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、正戊醇、異戊醇、 第二戊醇、第三戊醇、丨_乙基·丨_丙醇、2-乙基-1-丁醇、正 己醇、環己醇等。 在塗佈液，含噚唑啉基的聚合物及導電材料的調配比 例係各自例如〇.〇5〜80重量％，以0.1〜50重量％為佳。 31 201204803 為了設置底塗層12，係例如在光學薄膜11的表面，將 上述塗佈液使用線纜塗佈、刀塗佈法等眾所周知的方法來 直接塗佈且乾燥。 底塗層12的厚度係例如10〜lOOOnm，以20〜500nm為佳。 其次，黏貼第1圖（c)所表示之黏著劑層6及底塗層12。 隨後，在將黏著劑層6黏貼於被黏物時，係如第4圖的 假想線所表示，將脫模薄膜1從黏著劑層6剝離。 如此進行，能夠得到在光學薄膜11的表面依照順序層 積底塗層12及黏著劑層6而成之黏著型光學薄膜10。 而且，因為該黏著型光學薄膜10係具備具有優良的外 觀之黏著劑層6，黏貼在被要求優良的外觀之光學裝置、例 如影像顯示裝置、具體上係液晶顯示器（液晶顯示裝置）、有 機電激發光裝置（有機EL顯示裝置）、有機發光二極體(有機 LED、Organic Light Emitting Diode:OLED)、電躁顯示器 (PDP)、布朗管顯示裝置(CRT)等的表面，在該等光學裝置 能夠確保良好的外觀。 又，黏著型光學薄膜10係能夠使用作為上述光學裝置 的前面板。 前面板係例如為了保護光學裝置的前面部分、或對光 學裝置賦予高級感（質感或設計性等），黏貼在光學裝置的前 面（表面）而設置。 又，前面板係例如能夠使用作為立體顯示裝置（亦即， 3D顯示裝置等的三維影像顯示裝置）等之λ/4波長板的支 撐體。 32 201204803 具體上，前面板係例如被設置在對光學裝置之視認側 (亦即前面側）。 該黏著型光學薄膜1 〇被黏貼在光學裝置之含有聚碳酸 酯及/或丙烯酸系聚合物薄膜（具體上係聚甲基丙稀酸曱酯 等）等的塑膠(樹脂）之前面部分時，亦與黏貼在含有玻璃之 前面部分的材料時同樣地，外觀優良。 而且，在上述說明，係藉由將黏著劑層6轉印至底塗層 12的表面而設置，但是亦可如第5圖所表示，直接設置在底 塗層12的表面。 將黏著劑層6直接設置在底塗層12的表面’係例如第5 圖所表示，首先準備在表面形成有底塗層12之光學薄膜^ , 隨後藉由將水分散型黏著劑組成物塗佈在底塗層i 2的表 面’來直接在底塗層12的表面形成塗佈液層2。隨後，如第 5圖⑷所表示，藉由使塗佈液層2乾燥，來將黏著劑層6直接 設置在底塗層12的表面。 在此種的黏著劑層6，亦能夠使起因於在底塗磨以的表 面或光學薄膜11的表面所存在的異物8之凹部5為所希望數 量以下。 又，上述黏著型光學薄膜10，係在光學薄膜11的表面 透過底塗層12而没置黏著劑層6，但是，雖然未圖示，例如 亦能夠不设置底塗層I2 ’而將黏著劑層6直接設置在光學薄 膜11的表面。 而且，在上述說明，係將本發明的黏著薄膜設作具有 光學薄膜11之黏著型光學薄膜10而說明，但是，雖然未圖 33 201204803 示’例如亦能夠設作具備不織布、金屬箔（金屬薄膜）等不具 有光學特性、而具有機械特性的基材薄膜11之黏著薄膜而 形成。 實施例 以下’舉出實施例及比較例而更具體地說明本發明， 但是本發明係不被該等任何限制者。 實施例1 (水分散型黏著劑組成物的調製） 在容器，調配88重量份丙稀酸丁酯、5重量份丙烯酸、 2重量份一[多（環氧丙烷）甲基丙烯酸酯]磷酸酯、〇.〇3重量份 3-甲基丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷（KBM-503、（信越 SILICONE公司製）而調製單體成分。 隨後’在388g之所調製的單體成分的一部分(單體成分 總量的20重量％)，添加46.6g反應性乳化劑（AQUARON HS-10、第一工業製藥公司製）及346g離子交換水，且使用 均化器以轉數為SOOOmin·1，強制乳化（預乳化)5分鐘而調製 單體預乳液。 又，在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之 反應容器，投入上述156g單體預乳液及219g離子交換水’ 隨後，將反應容器氮氣取代且添加0.023g過硫酸銨，並且 在65°(：其乳化聚合2.5小時。 隨後，在625g之單體成分的剩餘部分(單體成分總量的 80重量％)添加〇.217g過硫酸銨，並將其以3小時滴入至反應 容器，滴入後，藉由邊氮氣取代邊於70°C使其乳化聚合3小 34 201204803 時，而得到固體成分濃度為4〇重量％的水分散型丙烯酸系 聚合物的乳液。 隨後，將所得到的乳酸冷卻至室溫，並添加1〇重量％ 氨水而將pH調整為8，而且，相對於1〇〇重量份之乳液的固 體成分，添加2重量份SN THICKENER640(疏水基改質聚丙 烯酸、SANNOPCO公司製），而且，追加離子交換水而將固 體成分濃度調整為25重量％，來調製水分散型黏著劑組成 物。 (黏著劑層的形成） 首先’準備經剝離處理之厚度為38μηι之PET薄膜（脫 模薄膜)(參照第1圖（a)，隨後，將上述的水分散型黏著劑組 成物使用刮刀式塗佈器，均勻地塗佈在PET薄片的表面（處 理面）而形成厚度為92/zm的塗佈液層（參照第1圖（b)。 隨後，藉由將所形成的塗佈液層於12〇。〇加熱2分鐘而 使其乾燥，來形成厚度為23 /z m的黏著劑層（參照第1圖（c)。 (黏著型光學薄膜的製造） 首先’準備層積有底塗層之偏光膜(參照第5圖（a))。 亦即’藉由在400重量份（換算成固體成分為1〇〇重量 份)EPOCROSS WS-700(水溶液型、固體成分25%、主鏈： 丙稀酸系、pH7〜9、噚唾琳值22〇gS〇lid/eg.、日本觸媒公司 製）及3〇重量份ORGACON LBS(導電性聚噻吩、Agfa Materials公司製），添加水/異丙醇（重量比為3 : 1}混合溶液 且攪拌均勻而調整固體成分濃度為0.5重量％，來調製底塗 劑的塗佈液。將該塗佈液使用繞線棒Ν〇·5以乾燥後的厚度 35 201204803 為20〜30nm的方式，塗佈在厚度a180#m的偏光薄膜的表 面，隨後使其乾燥。藉此，來製造層積有底塗層之偏光膜。 隨後，藉由將黏著劑層與底塗層黏貼而得到黏著型光 學薄膜(參照第4圖）。 實施例2 除了將相對於1〇〇重量份之乳液的固體成分之SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸）的調配份數變更為 1重量份，而且，藉由追加離子交換水來將水分散型黏著劑 組成物的的固體成分濃度變更為3〇重量％以外，與實施例i 同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物，接著形成厚度 為77/zm的塗佈液層，隨後形成厚度為23 # m的塗佈液層， 隨後，得到黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。 實施例3 除了添加ARON B-500(丙烯酸系共聚物、東亞合成公 司製）代替SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸），且 將相對於100重量份之乳液的固體成分之AR〇N B_5〇〇的調 配份數變更為2.6重量份以外，與實施例}同樣地進行而調 製水分散型黏著劑組成物，接著形成厚度為92 β m的塗佈液 層，隨後，得到厚度為23 // m的黏著劑層及具有其之黏著型 光學薄膜。 實施例4 除了添加ARON B-500(丙烯酸系共聚物）代替SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙稀酸），且將相對於1 〇〇 重量份之乳液的固體成分之ARON B-500的調配份數變更 36 201204803 • 為2重量份，而且，藉由追加離子交換水來將水分散型黏著 劑組成物的的固體成分濃度變更為30重量％以外，與實施 例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物，接著形成厚 度為77/xm的塗佈液層，隨後，得到厚度為23/Xm的黏著劑 層及具有其之黏著型光學薄膜。 實施例5 除了添加ADEKANOL UH541VF(胺甲酸酯系増黏劑、 ADEKA公司製）代替SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙 烯酸），且將相對於100重量份之乳液的固體成分之 ADEKANOL UH541VF的調配份數變更為2重量份，而且， 藉由追加離子交換水來將水分散型黏著劑組成物的的固體 - 成分濃度變更為30重量％以外’與實施例1同樣地進行而調 製水分散型黏著劑組成物，接著形成厚度為77//m的塗佈液 層’隨後’得到厚度為23 μ m的黏著劑層及具有其之黏著型 光學薄膜。 比較例1 除了不添加SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙歸 西文）’且不實施藉由追加離子交換水來調整（稀釋）水分散型 黏著劑組成物的的固體成分濃度以外，與實施例1同樣地進 行而調製固體成分濃度為40重量❶/〇的水分散型黏著劑組成 物’接著形成厚度為58# m的塗佈液層，隨後，得到厚度為 23以m的黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。 比較例2 除了不添加SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙締 37 201204803 酸）’與實施例1同樣地進行而調製的水分散型黏著劑組成 物。 隨後，欲嘗試形成黏著劑層，但是因為塗佈時在pET 薄膜上產生水分散型黏著劑組成物的收縮斑而無法形成塗 佈液層及黏著劑層。 比較例3 除了將相對於100重量份之乳液的固體成分之SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸)的調配份數變更為 0.5重量份，而且，藉由追加離子交換水來將水分散型黏著 劑組成物的的固體成分濃度變更為35重量％以外，與實施 例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物，接著形成厚 度為66# m的塗佈液層’隨後，得到厚度為23//m的黏著劑 層及具有其之黏著型光學薄膜。 (評價） (1)外觀觀察 藉由從PET薄膜側目視觀察實施例卜5、比較例1及3的 黏著型光學薄膜之黏著劑層’在觀察有無上述定義的凹部 之同時，計算每平方公尺（lm2)的凹部之個數。將該等結果 顯示在表1。 亦即，實施例1〜5係完全無法觀察到存在有任何的凹 部，或是即便觀察到’其凹部的厚度方向之深度(D)為小於 0.2" m ’且上述的内徑(L)為小於lmni(亦即，比上述定義小 的凹部）。 另一方面，比較例1及3係任一者均能夠觀察到存在有 38 201204803 . 凹部，其凹部的厚度方向之深度(D)為0_2〜20#m，且上述 的内徑(L)為1〜10mm(亦即，如上述定義的凹部）。 而且，凹部的尺寸係使用非接觸三維表面形狀粗糙度 計(WykoNT9100、Veeco公司製）測得。 (2) 水分散型黏著劑組成物的黏度 使用圓錐/平板式黏度計（Rheostress RS-1型HAAKE 公司製）測定實施例1〜5及比較例1〜3的水分散型黏著劑組 成物在30°C、切斷速度1 sec·1之黏度。將其結果顯示在表1。 (3) 增黏劑的濁度 將在實施例1〜5及比較例3所使用的增黏劑，調配在水 中而調製1重量％的水溶液，而且使用氨水調整為pH8而調 製增黏劑水溶液。隨後，使用濁度計（LaMotte2020型、 ORGANO公司製）測定所調製的增黏劑水溶液之濁度。將其 結果顯示在表1。 (4) 黑曾值 將在實施例1〜5、比較例1及3的「黏著劑層的形成」所 得到之厚度為23 g m的黏著劑層，轉印至載玻板（微載玻 片、厚度為 1.3mm、Matsunami Glass公司製）’依據JIS K7136 且使用黑曾（Haze)計(HM-15 0、村上色彩技術研究所公司製) 測定如此黏著劑層的黑曾值。將其結果顯示在表1。 (5) TEM照片觀察 使用TEM(透射型電子顯微鏡)觀察實施例1及3的黏著 劑層之表面。在第6圖及第7圖各自顯示實施例1及3的黏著 劑層之TEM照片的影像。 39 201204803 從第6圖得知，在實施例1所使用之上述濁度為100NTU 以下的增黏劑（SN THICKENER 640)係均勻地分散在水分 散型聚合物中。 另一方面，從第7圖得知，在實施例3所使用之上述濁 度為超過100NTU的增黏劑(ARON B-500)係以不溶解物(粒 子）為比較大的粒子之方式殘留在水分散型聚合物中。 40 201204803 比較例3 1 1 0.10 m m v〇 0.35 〇 比較例2 1 1 1 1 (N 0.03 <N Os 0.25 (因為收縮 斑而無法 得到塗佈 液層及黏 著劑層） 比較例1 1 1 1 1 o oo oo 0.40 〇 實施例5 1 1 (N 0.10 0.30 〇 r- 〇 實施例4 1 (N 1 〇 in r- 0.30 〇 00 〇 實施例3 1 \〇 (N 1 <N 〇 <N cs On 0.25 〇 00 〇 實施例2 1 1 0.10 rn r- 0.30 〇 卜 〇 實施例1 (Ν 1 1 (N OO <N ON 0.25 〇 卜 〇 實施例-比較例 SN THICKENER 640*1 ARONB-500*2 ...1 5^· ω ^ Q X < D (NTU*4) 固體成分濃度(Wt%) 黏度(30°c、剪切速度1 see_1)Pa · s 厚度((τι)(μηΊ) 1 Τ2/Τ1 凹部的數量 (個/m2) (厚度 23μηι) ^ ^ 濁度(lwt%增黏劑水溶 | 液、pH8) i 外觀觀察 黑曾值 聚丙烯 酸系 胺甲酸 酯系 增黏劑 碟審 Φ薇 塗佈液層 黏著劑層 (厚度 (T2)： 23μιπ) 41 201204803 又，以下詳明說明在表1中，「*」所表示之增黏劑及測 定單位。 SN THICKENER 640 * 1 :商品名、疏水基改質聚丙烯 酸、SANNOPCO公司製 ARONB-500*2 :商品名、丙烯酸系共聚物、東亞合成 公司製 ADEKANOL UH-541VF*3 :商品名、胺甲酸酯系增黏 劑、ADEKA公司製 NTU*4 :濁度的单位、Nephelometric Turbidity Unit 而且，上述發明係提供作為本發明的例示實施形態， 但是其只不過是例示而已，不可限定地解釋。該技術領域 中具有通常知識者應清楚明白，本發明的改良例係被包含 在後述的申請專利範圍。 產業上之可利用性 接著劑層係能夠使用於被各種產業領域廣泛地使用之 黏著薄膜。 I：圖式簡單說明3 第1圖係說明本發明的黏著劑層的一實施形態之製造 方法之步驟圖’其中（a)係顯示準備脫模薄膜之步驟，（b)係 顯示在脫模薄膜的表面形成由水分散型黏著劑組成物所構 成之塗佈液層之步驟’（c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏 著劑層之步驟。 第2圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之 間存在有異物時之實施例1的黏著劑層之製造方法之步驟 42 201204803 圖，其中（a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形 成塗佈液層之步驟，（b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之 步驟，（c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。 第3圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之 間存在有異物時之比較例1的黏著劑層之製造方法之步驟 圖，其中（a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形 成塗佈液層之步驟，（b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之 步驟，（c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。 第4圖係顯示本發明的黏著薄膜的一實施形態之黏著 型光學薄膜的剖面圖。 第5圖係說明第1圖所顯示之黏著劑層.的製造方法之步 驟圖，其中（a)係顯示準備層積有底塗層之光學薄膜之步 驟，（b)係顯示在底塗層的表面形成由水分散型黏著劑組成 物所構成之塗佈液層之步驟，（c)係顯示使塗佈液層乾燥而 形成黏著劑層之步驟。 第6圖係顯示實施例1的黏著劑層的TEM照片之影像處 理圖。 第7圖係顯示實施例3的黏著劑層的TEM照片之影像處 理圖。 【主要元件符號說明】 1.. .脫模薄膜 7...支撐構件 2.. .塗佈液層 8...異物 4、5.··凹部 9·.·背側凹部 6.. .黏著劑層 10...黏著型光學薄膜 43 201204803 11...光學薄膜 L2. 12...底塗層 T1 13...突出部分 ΤΓ L1...突出部分最大長度 D.· .凹部最大長度 T2...厚度 、T2’...厚度 最大深度 44