201012554 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種塗佈溶液之回收設備與方法，並且特別 地，本發明之方法通過侧在線方式相連接的1收設備及一塗 佈設備回收塗佈廢液，㈣代職—基板流出之塗佈廢液轉移至 -外部定位的生產線，可最小化—最終獲得的回收塗佈溶液與一 最初提供的新塗佈溶液之間的性能差。 【先前技術】 半導體裝置或-顯不裝置例如一液晶顯示裝置（lcd)之 製造方法必須需要將複數個由不睛料製成之層沉積於—基板之 上的製程。在沉積這些由不同材料製成之層的製程巾具有一塗佈 製程’其透過通過-喷嘴減塗聽液可將—預定㈣層塗佈於 一基板之上。 此塗佈製程大致可分縣—轉塗佈製程、以及—無旋轉或 窄縫塗佈製程。在旋佈製程之情町，—塗佈雜釋放於一 旋轉基板以使得釋狀塗佈溶液均勻分佈於基板之全部表面之 上，由此在此基板之上形成-預定材料層。在無旋轉或窄縫塗佈 製程中，透過在不浦基板的情況下飾—喷嘴献基板，一塗 佈溶液可均勻塗佈於基板之全部表面之上，減在基板之上形成 一預定之材料層。 為了在塗佈製程期間在基板之全部表面上獲得均勻之層，當 執行塗佈製程時’必須通過喷嘴釋放^量的塗佈溶液。此種情泥 201012554 下，塗佈溶液可不沉積於基板之上而是由於流出此基板造成浪 費。特別地’在透過使用旋轉基板執行的旋轉塗佈製程的情況下， 可浪費相當數量之塗佈溶液。 為了提高批量生產的經濟效率，減少材料成本很重要。由於 處理塗佈溶液可增加大量的材料成本，因此提出一種基板流出的 塗佈溶液之回收方法。特別地，由於光阻抗蝕劑（PR)比較昂貴， 因此非常需要對用作形成一微電路圖案之光罩的光阻抗蝕圖案 β (PR)之回收方法。 習知技術之塗佈溶液之回收方法透過以下步驟執行，收集從 基板流出之塗佈溶液（以下稱作〃塗佈廢液〃）以及將塗佈廢液轉 移至-外部加工廠。此種情況下’由於塗佈廢液必須轉移至外部 加工廠，因此在回收塗佈廢液之前，塗佈廢液之耽誤時間比較長， 因此由於較長的延遲時間可使得塗佈廢液之質量性能發生變化。 為了解決較長的延遲時間，提出一種將一回收設備與一塗佈 設備在線相連接之新方法，不需要將塗佈廢液轉移至外部加工 廠。這種將·設備與_設備在_連接之結構能夠減少延遲 時間以使得能狗解決與塗佈廢液之質量性能改變有關的問題。 B然而，雖然習知技術之塗佈設備與时設備在線相連接，但 是在提供賴_錢與透過喊賴最終麟的·塗佈溶液 之間具有性能朗。此種情況下，如果_製程透過使用回收的 塗佈溶液執行，則可出現倒錐形圖案或中心距（CD)偏差。 【發明内容】 201012554 因此’鑒於上述問題，本發明之實施例在於提供一種塗佈溶 液之回收設備與方法，藉以消除由於習知技術之限制及缺陷產生 之一個或多個問題。 本發明之一方面在於提供一種塗佈溶液之回收設備與方法， 其能夠最小化最終獲得的回收塗佈溶液與一最初提供的新塗佈溶 液之間的性能差。 為了獲得本發明之目的的這些及其他優點，現對本發明作具 體化和概括性的描述，本發明的一種塗佈溶液之回收設備包含有 一回收箱，其與一塗佈設備相連接，用以收集塗佈設備之一塗佈 廢液，透過將收集塗佈廢液與一稀釋溶劑及一新塗佈溶液相混合 產生一回收塗佈溶液，並且將回收塗佈溶液供給至此塗佈設備； 一溶劑箱，其與回收箱相連接用以將稀釋溶劑供給至回收箱，以 便調節收集於回收箱中之塗佈廢液之黏度；以及—新溶液箱其 與回收箱相連接用以將新塗佈溶液供給至回收箱。 根據本發明之另H —種塗佈溶液之时綠包含收集 一塗饰設備之塗佈廢液於-回收箱中；產生—回收塗佈溶液，係 當通過將-轉輔供給至时箱關節塗佈紐之黏度時透 過將-新塗伽賴給至此箱實現；賤將时_溶液自 回收相供給至塗佈設触便將时塗佈溶_放於塗佈設備上裝 載的一基板之上。 【實施方式】 以下’將結合圖式部份對本發明的較佳實施方式作詳細說 201012554 明。其中在這㈣式部份中所使用__參考標號代表相同或 同類部件。 下文中’將結合圖式部份描述本發明之―種塗佈溶液之回收 設備與方法。 「第1圖」係為本發明第一實施例之一塗佈溶液之回收設備 之結構之示意圖。 如「第1圖」所示，本發明第一實施例之塗佈溶液之回收設 ❹備包含有—回收箱2⑻一溶劑箱3GG、以及-新溶液箱400。 回收箱200透過使用一第一管11〇與一塗佈設備丨相連接， 以使得塗佈設備1之塗佈廢液通過第一管11〇收集於回收箱2〇〇 中。此種情況下，塗佈設備1可為一旋轉塗佈設備或一窄縫塗佈 設備。 回收箱200透過使用一第二管130與溶劑箱3〇〇相連接，由 此回收箱200通過第二管130從溶劑箱300供給一稀釋溶劑。而 β 且，回收箱200透過使用一第三管140與新溶液箱4〇〇相連接， 以使得回收箱200通過第三管140從新溶液箱4〇〇供給一新塗佈 溶液。回收箱200中具有一混合件220 ’混合件220均勻地混合塗 佈廢液、稀釋溶劑、以及新塗佈溶液。 回收箱200透過使用一第四管160與塗佈設備1相連接。通 過第四管160，一回收塗佈溶液供給至塗佈設備1。 因此，回收箱200收集塗佈設備1之塗佈廢液；透過混合稀 釋溶劑及收集的塗佈廢液用以調節塗佈廢液之黏度，並且透過同 201012554 時將新塗佈溶液與塗佈廢液相混合，以產生回收塗佈溶液；以及 將回收塗佈溶液供給至塗佈設備1。 溶劑箱300將稀釋溶劑供給至回收箱200以便調節在回收箱 200中收集之塗佈廢液之黏度。溶劑箱300通過第二管13〇將稀釋 溶劑供給至回收箱200。 溶劑箱300容納之溶劑與新塗佈溶液中包含之溶劑相同。因 此，透過從溶劑箱300供給之稀釋溶劑調節黏度後的塗佈廢液包 含的溶劑成分與新塗佈溶液之溶劑成分相同，結果，最終獲取的 回收塗佈溶液之成分可與新塗佈溶液之成分相同。 新;谷液箱400將新塗佈溶液供給至回收箱2〇〇,以使得塗佈廢 液與新塗佈溶液在隨箱巾混合，由此產生回錄佈溶液。 新溶液箱400通過第三管140將新塗佈溶液供給至回收箱2〇〇。由 於新塗佈溶液中包含的固相成分及光引發劑在塗佈製程中可消 散，因此在塗佈製程之後獲得的塗佈廢液中包含的固相成分及光 引發劑可與碰佈溶液巾包含的_成分及光引發劑不相同。由 於此原因，透過混合塗佈廢液與新塗佈溶液可產生回收塗佈溶 液。也就是說’时塗佈雜之齡麟塗佈雜之最初成分非 常類似。 如上所述，第1圖」所示之一個塗佈設備W一個回收箱· 相連接然而’並不限制於此結構。例如，複數個回收箱200可 與一個塗佈設備1相連接。而且，「第！圖」所示之—個回收箱2〇〇 與一個溶劑箱300以及一個新溶液箱4〇〇相連接。然而，一個回 201012554 收箱2〇0可與複數個溶劑箱300及新溶液箱400相連接。 乂下職述本發明之第一實施例之塗佈溶液之回收設備之其 他結構之特性。 、 首先第管110、第二管130、以及第三管140延伸至回收 知200之内部，用以由此最小化回收箱2⑻中產生氣泡。 如「第3A圖」所示，假如第一管110未延伸至回收箱200之 内部。此種情況下，當塗佈廢液通過第一管11〇收集於回收箱2⑽ ©之+時’在將塗佈驗供給至时箱2⑻之過程巾可產生氣泡。 如第3B圖」所示，第一管110延伸至回收箱200之内部， 並且第管110之底端110a與回收箱2〇〇之内側壁相接觸，以使 得能夠最小化在回收箱2〇〇中產生氣泡。而且，如果第一管11〇 之延伸部份巾她較於第-管11G之底端nQa定位更高的預定頂 e[U10b與回收箱2〇〇之内側壁相分離時，通過第一管u〇的塗佈 廢液之壓力可適當調節以使得在回收箱2〇〇中能夠更大地減少氣 © 泡之產生。 按照與第一管110相同之方式，第二管13〇及第三管140延 伸至回收箱200之内部。而且，每一第二及第三管13〇及140之 一底端與回收箱200之内侧壁相接觸。而且，每一第二及第三管 130及140之延伸部份中相比較於每一第二及第三管13〇及ι4〇 之底端定位更高的預定頂部與回收箱200之内侧壁相分離。 可另外配設一超聲波處理器或真空處理器以去除在回收箱 2〇〇中產生之氣泡。 201012554 一溫度感測器500提供至回收箱200中，並且一恆溫控制器 配設於回收箱2㈤及新箱4G0中，以便在新塗佈溶液及回收 塗佈溶液中保持—㈣。贿溫控㈣可為—水冷型衫氣冷卻 型。 當塗佈設備1之塗佈廢液連續收集至回收箱2⑻中時，新塗 佈溶朗時自新雜箱400供給至随箱·，由此回收之塗佈溶 液之溫度可連_化。由於此朗，溫度感測器，及怔溫控制 器可配設於回收箱200中以便維持回收箱2⑽中產生的回收塗佈 溶液之恆定溫度。 而且’怪溫控制器S己設於新溶液箱400巾，由此不變地維持 供給至回收箱200的新塗佈溶液之溫度。 溫度感測器500提供至回收箱2〇〇中，並且㈣控制器可分 別提供至回收箱2〇〇及新溶液箱·中。因此新塗佈溶液及回 收塗佈溶液分縣持在-奴之下，錢得可能解決例如回收箱 中^生的回收塗佈溶液之黏度變化之問題。如果塗佈溶液之溫 度不怪疋’可產生與回收塗佈驗之黏度變化有關之問題。 一黏度計600配設於回收箱2〇〇 t，其中黏度計_透過使 用黏度差能夠計算自溶劑箱3⑽供給至回收箱的稀釋溶劑 量。使用雜計600使得能夠容易控制在回收箱200產生的回收 塗佈溶液之黏度。 透過檢測回收箱200中的黏度計6〇〇之精確度以便提高黏度 測量的可’可提供—辅助織計用以當塗佈廢液在第-管110 201012554 中f動時測量收集的少量塗佈廢液之黏度，並且當塗佈廢液在第 三管中移動時測量收集的少量塗佈廢液之黏度。也就是說， 由於供給至回收箱200之稀釋溶劑量通過使用黏度計6〇〇計算， 因此黏度計_之精確作業為黏度測量之可靠性之必要前提。 如果長時間使用黏度計600,可由於不同原因產生測量錯誤。 為了檢測是否具有測量錯誤’獅減計可狀酬量供給至回 收箱200的塗佈廢液及新塗佈溶液之黏度。輔助黏度計可與第一 ® 官110及第三管140以在線或離線之方式相連接。 隨一壓力測量裝置及壓力控制器配設於回收箱2〇〇中，可能 透過穩定地控制回收箱200内部之壓力最小化回收塗佈溶液之黏 度變化。壓力控制器可使用一空氣喷入或空氣排除法。 也就是說，混合件220配設於回收箱2〇〇中以使得將塗佈廢 液與新塗佈溶液相混合。當塗佈廢液與新塗佈溶液相混合時，回 收箱200中之壓力可變化。此種情況下，如果回收箱2〇〇内部之 ® 壓力發生變化，產生的回收塗佈溶液之黏度可比較容易改變。如 果壓力測量裝置及壓力控制器配設於回收箱2〇〇中，則可能最小 化回收箱200中之内壓變化，由此可最小化最後產生的回收塗佈 溶液之黏度變化。 「第2圖」係為本發明第二實施例之一塗佈溶液之回收設備 之結構之示意圖。 除了一收集箱700另外配設於塗佈設備1與回收箱200之間 以外，本發明第二實施例之塗佈溶液之回收設備與本發明第一實 11 201012554 施例之塗佈溶液之回收設備相同。因此，如果可能，圖式中之同 一標號表示與上述之實施例相同或類似之元件，並且將省去相同 或類似元件之詳細描述。 收集箱700位於塗佈設備1與回收箱2〇〇之間。因此，塗佈 設備1之塗佈廢液收集於收集箱700中，並且然後收集的塗佈廢 液供給至回收箱200中。 同時’一真空揮發裝置配設於收集箱700中，其中此真空揮 發裝置揮發回收塗佈廢液中存在的清潔劑。 ⑩ 真空揮發裝置由一真空泵組成，該真空泵用以將收集箱7⑻ 之内部維持在真空狀態’例如不高於_80千帕（kpa)或〇2atm。 因此，透過揮發收集箱700中收集的塗佈廢液中存在的清潔劑及 氣泡能夠控制塗佈廢液之黏度。 如果週期性地清洗塗佈設備1，清潔劑可保留於塗佈設備j 中，並且由於與空氣相接觸氣泡可出現於清潔劑中。 如果清潔劑及氣泡與塗佈廢液一起收集於回收箱2〇〇中，則 ❹ 可劣降回收塗佈溶液之質量。因此，與本發明之第一實施例中將 塗佈廢液直接收集於回收箱200中之設備不相同，本發明之第二 實施例之回收設備包含有收集箱700,收集箱700收集塗佈廢液， 揮發塗佈廢液中包含的清潔劑，從清潔劑中去除氣泡，並且僅將 沒有清潔劑及氣泡的塗佈廢液供給至回收箱200。 然後，一用以將塗佈設備1與收集箱700相連接之第一管100 延伸至收集箱700之内部以便最小化收集箱700中產生之氣泡。 12 201012554 該結構與「第3B圖」所示之結構相同，將省去其詳細描述。 以下，將結合「第1圖」及「第2圖」描述本發明之一實施 例之塗佈溶液之回收方法。 首先，收集塗佈設備1中的塗佈廢液。 塗佈設備1可為一旋轉塗佈設備或一窄縫塗佈設備。 收集塗佈廢液之製程可以直接或間接方法執行。在直接方法 的情況下，如「第1圖」所示，塗佈設備〗之塗佈廢液通過第一 Ο管11G直接收集於回收箱2GG中。在職方法之情況τ，如「第2 圖」所示，塗佈設備1之塗佈廢液首先收集於收集箱7〇〇中，並 且然後供給至回收箱200。 , 可在使用一最初提供的新塗佈溶液執行塗佈製程或使用一回 收塗佈溶液執行一塗佈製程之後產生該塗佈廢液。 也就是說，在使用最初提供的新塗佈溶液之情況下，透過以 下步驟可產生塗佈廢液··通過一第三管14〇將一新塗佈溶液自一 _ 新溶液箱400供給至回收箱2〇〇，測量供給的新塗佈溶液（回收箱 200僅谷納有新塗佈溶液）之最初黏度，以及通過一第四管 將新塗饰溶液供給至塗佈設備丨。在使用回收塗佈溶液之情況下， 透過將回收箱200之回收塗佈溶液通過第四管16〇供給至塗佈設 備1可產生塗佈廢液。 如「第2圖」所示，如果首先將塗佈設備〗之塗佈廢液收集 於收集箱700中且然後將收集之塗佈廢液供給至回收箱2〇〇，則塗 佈廢液中容納的氣泡及清潔劑透過收集箱700中的真空揮發裝置 13 201012554 被揮發，並且然後已揮發氣泡及清潔劑的塗佈廢液供給至回收箱 200。 然後，透過使用一稀釋溶劑調節塗佈廢液之黏度，並且將塗 佈廢液與新塗佈溶液相混合可產生回收塗佈溶液。 產生回收塗佈溶液之製程包含當旋轉混合件220時，將一溶 劑箱300之稀釋溶劑通過一第二管13〇供給至回收箱2〇〇，並且將 一新溶液箱400之新塗佈溶液通過一第三管14〇供給至回收箱 200。 透過使用與新塗佈溶液中包含的溶劑具有相同成分的溶劑， 可形成溶劑箱300中容納的稀釋溶劑。因此，最終護取的回收塗 佈溶液之成分與新塗佈溶液之成分相類似。 當將稀釋溶劑供給至回收箱2〇〇時，稀釋溶劑量能夠根據最 初提供的新塗佈溶液之黏度與回收塗佈溶液之黏度之間的差別確 定，該黏度差別通過使用回收箱2〇〇中配設的黏度計6〇〇測量。 也就是說，透過將稀釋溶劑供給至回收箱以調節塗佈廢液之黏度 ❹ 的製程透過將最初提供的新塗佈溶液之黏度與回收箱中收集的回 收塗佈溶液之黏度相比較，並且根據該比較結果供給與一黏度差 相對應之稀釋溶劑量實現。 通過使用溫度感測器500及恆溫控制器穩定地維持新塗佈溶 液及回收塗佈溶液之溫度，在此條件下可執行將新塗佈溶液供給 至回收箱200之製程，其中溫度感測器5〇〇配設於回收箱2〇〇中 且怪溫控制器分別配設於回收箱2〇〇及新溶液箱4〇〇中。 14 201012554 子於此口塗佈廢液與新塗佈溶液之製程而言’⑽個重量單位 塗佈廢液與10至1000個重量單位的新塗佈溶液相混合較佳。 如果混σ之新塗佈溶液之重量單位小於1G個重量單位。則在新塗 佈; 谷液與回收塗佈〉容液之間的質量性能可出現較大的差別。 在透過使用回收箱2⑻中的—壓力測量裝置及—壓力控制器 穩定地維持回收箱200内部的壓力的情況下，可執行產生回收塗 佈溶液之製程。 然後’回收塗佈溶液釋放於塗佈設備1之上裝載的一基板。 透過將自回收箱200中產生的回收塗佈溶液通過第四管16〇 供給至塗佈設備卜可執行槪回收塗佈驗之製程。 以上，已經結合「第〗圖」及「第2圖」描述了本發明之一 實施例之塗佈溶液之回收方法。然而，本發明之塗佈溶液之回收 方法並不限制於使用「第i圖」及「第2圖」所示之塗佈設備之 情況。 如上所述，本發明之塗佈溶液之回收設備與方法具有以下優 點。 在本發明中，透過將塗佈廢液與新塗佈溶液相混合以產生回 收塗佈溶液，由此可最小化回收塗佈溶液與最初提供之塗佈溶液 於之間的性能差別。 更詳細而言，透過將固相成分、光引發劑、以及溶劑一起相 混合能夠產生新塗佈溶液。由於新塗佈溶液中包含的固相成分及 光引發劑在塗佈製程中可消散，因此在塗佈製程之後獲得的塗佈 15 201012554 廢液中包含的固相成分及光引發劑可與新塗佈溶液中包含的固相 成分及光引發劑不相同。由此，在塗佈製程之後產生的塗佈廢液 與最初提供的新塗佈溶液之間具有比較大的性能差別。 在習知技術之情況下，由於不考慮上述性能差，透過使用塗 佈廢液產生回收塗佈溶液，因此可在最初提供的新塗佈溶液與回 收塗佈溶液之間產生較大的性能差。透過重複執行該回收製程， 性能差別可變得更大。同時，在本發明之情況下，在考慮塗佈製 程中塗佈廢液包含的固相成分及光引發劑之消散的基礎上，透過 將塗佈廢液與新塗佈溶液相混合可產生回收塗佈溶液，由此可能 最小化回收塗佈溶液與新塗佈溶液之間的性能差。此種情況下， 雖然重複執行回收製程，但並不增加回收塗佈溶液與新塗佈溶液 之間的性能差別。 在本發明之情況下，在揮發清潔劑之後收集塗佈廢液，以使 得可成防止清潔賴塗佈廢液收集在_起，由此最小化回收塗佈 溶液與最初提供的新塗佈溶液之間的性能差。 更詳細而言，清潔劑之成分及成分含量比與最初提供的新塗 佈溶液不相同。因此，如果清義與塗佈廢液絲在—起，可產 生增加回㈣佈溶液與新㈣溶液之間雜能差之問題。在這一 方面’本發明可揮發清潔_餘止清_與塗佈廢液收集在一 起’由此能夠最小化回收塗佈溶液與新塗佈溶液之間的性能差。 在本發明中，一與回收箱2〇〇相連接之管延伸至回收箱2〇〇 之内部以便最小化在回收箱内部產生氣泡。 201012554 而且，根據本發明，溫度感測器500配設於回收箱2〇〇中， 並且根據本發明，恆溫控制器分別配設於回收箱2〇〇及新溶液箱 400中，以使得可能不變地控制新塗佈溶液及回收塗佈溶液之溫度 且能夠最小化透過回收箱200中產生的回收塗佈溶液之溫度變化 引起的黏度變化。 根據本發明，在回收箱200中具有一黏度計6〇〇，其中黏度計 600透過使用黏度差能夠測量從溶劑箱3〇〇供給至回收箱2〇〇的稀 β 釋溶劑量。使用黏度計6〇〇使得容易控制回收箱2〇〇中產生的回 收塗佈溶液之黏度。 而且，由於壓力測置:裝置及壓力控制器配設於回收箱2〇〇中’ 因此可能透過不變地控制回收箱200内部的壓力最小化回收塗佈 溶液之黏度變化。 在本發明之情況下，從溶劑箱3〇〇供給之稀釋溶劑與新塗佈 溶液中容納的溶劑相同，由此最終護取的回收塗佈溶液之成分與 ® 新塗佈溶液之最初成分非常相類似。如果透過添加與新塗佈溶液 中之溶劑不同的稀釋溶劑產生回收塗佈溶液，則對回收塗佈溶液 之黏度的控制變得困難且回收塗佈溶液可結塊。在此方面，本發 明使用與新塗佈溶液中容納的溶劑具有相同成分的稀釋溶劑，由 此透過增加產生回收塗佈溶液的回收箱之尺寸可提高產量，並且 由於回收箱的尺寸之增加可增加替換時間，因此可用以減少維持 成本8 本領域之技術人員可以理解的是，雖然本發明以前述之實施 17 201012554 例揭露如上’财並_崎定本翻。林麟本發明之精神 和範圍内，所為之更動與潤飾，均屬本發明之專娜護範圍。關 於本發明所狀之保護範圍請參考所附之中請專利範圍。 【圖式簡單說明】 第i圖係為本發明第一實施例之一塗佈溶液之回收設備之結 構之示意圖； 之回收設備之結 第2圖係為本發明第二實施例之一塗佈溶液 構之示意圖；以及 *第3A圖及第3B圖係為本發明之實施例之一塗佈溶液之回收 叹備中的-第-管與回收箱之間連接狀態之示意圖。 【主要元件符號說明】 1 塗佈設備 110 第一管 110a 底端 110b 預定頂部 130 第二管 140 第三管 160 第四管 200 回收箱 220 混合件 300 溶劑箱 400 新溶液箱
G 18 201012554 500 溫度感測器 600 黏度計 700 收集箱
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