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TW201007881A - Wafer frame and producing method therefor - Google Patents

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Publication number
TW201007881A
TW201007881A TW098121586A TW98121586A TW201007881A TW 201007881 A TW201007881 A TW 201007881A TW 098121586 A TW098121586 A TW 098121586A TW 98121586 A TW98121586 A TW 98121586A TW 201007881 A TW201007881 A TW 201007881A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
frame
upper cover
wafer
cover
contact
Prior art date
Application number
TW098121586A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Ariizumi
Shinichi Onai
Masahiro Abe
Yasutaka Fukuda
Takaaki Toyooka
Original Assignee
Jfe Techno Res Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jfe Techno Res Corp filed Critical Jfe Techno Res Corp
Publication of TW201007881A publication Critical patent/TW201007881A/zh

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    • H10P72/18

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Connection Of Plates (AREA)

Description

201007881 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種在晶圓(例如,半導體晶圓、破螭基板 晶圓等)之加工作業(例如,切割、擴展等)或搬送作業所^ 之框架(以下稱為晶圓用框架)。 、 用 【先前技術】
半導體晶圓之晶圓用框架10通常為用於收納圖2〇所示口 徑⑼職⑹响〜編匪⑴減)之半導體晶_力的= 製晶圓用框架1(),其構造為將保持半導體晶圓於該桓架 切割膜31可剝離地貼附在晶圓用框架10之背面。“之 然後’如圖21所示’貼附在該切割膜31(圖2〇)上 體晶圓W,經由切判機之镨石 導 片^ 由刀。J機之鑽石刀3〇切斷(切割)成為多個晶 架=:各半=晶圓W貼附在上述半導趙晶_ 進4丁搬運,該收纳空^哭Q I、/、台 數片為單位排列收納半導體邊納*器9以複 放大表示收响二圓用框架1〇。另外,圖22為 aa]„,r. #分的收納容器(卡昨之概略圖。 框架1〇採用將習知不銹鋼板(厚产i 5mm左右)切 出成為既定形狀而成者(所辦二板(厚度心111左右)切 098121586 有較大值之重量。(所邊固體材料)’晶圓用框架W具 近年來逐漸生產較大直徑之晶圓W,晶圓用框架财大 3 201007881 型化’在由不銹鋼板之固體材料所構成之晶圓用框架1〇 中,大型化招致重量之增大,例如,上述收納容器(卡匣)9 之總重量’在12inch晶圓用框架1〇中25片組合計達l8kg 以上’對於將收納容器(卡匣)9搬運到切割機進行設定之作 業者而言會是很大的負擔。 因此’檢討各種使晶圓用框架10輕量化之技術,例如, 專利文獻1揭示有由樹脂構成之晶圓用框架。依照該技術, 可達成晶圓用框架之輕量化,但因為使用樹脂,所以為保持 剛性而需要使厚度比習知材料厚度15mm還厚,又隨長時 間使用會有特性產生變化之問題。更進一步,在從切割臈取 出晶圓時會對框架整體加熱,因此晶圓用框架亦要求具有耐 熱性。 (專利文獻1)日本專利特開2007 —48885號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之問題) 本發明目的在於提供一種可防4主 j丨方止特性之變化,且具有充分 剛性和耐熱性之輕量晶圓用框架。 (解決問題之手段) 為了達成上述目的,本發明提俾— π „ 種以下晶圓用框架和晶 圓用框架之製造方法。 [1] 一種晶圓用框架,具有:頂部、 料構成;及空間,由上述頂部、上迷2部和側壁,由金屬材 电4和上述侧壁所形成。 098121586 4 201007881 f2J如fij之晶圓用框架 上述底部由平坦之下极構赤,,上述頂部由平坦之上板構成, 間藉由在上述上板和上 二框構成’上述空 _]之晶_架,其中===而設置成。 W如⑴之晶圓用框架,A 不之樑 /、中形成有由上述頂部和上述側 .-體絲㈣㈣狀h字形狀的上蓋,形成有由上述 底部和上述側壁經—體成形出剖面形狀為〕字形 上述空間藉由嵌合上述上蓋和上述下蓋而形成。- m如[4]之晶__ ’其中,其更具有與上述下蓋一 形而設置在上述下蓋底部之樑,該樑具有收容切斷黏著膜用 切割器之溝。 肤用 问如[4]之晶__ ’其中,其更具有 上述下蓋間之補強構件。 *上丈上蓋和 ΠΜ4]之晶_框架’其中,其更具有沿周方向以任意間 隔言^置在上述上蓋之頂部丨個以上,而與下蓋之底部相接的 凹陷、或沿周方向以任意間隔設置在上述下蓋之底部丄個以 上,而與上蓋之頂部相接的凹陷。 m如m之晶圓用框架,其中,其更具有沿周方向 隔設置在上述上蓋之項部丨個以上’而與下蓋之底部二 凹m周方向以任意間隔設置在上述下蓋之底…個以 上’而與上蓋之頂部相接的凹陷,與上述下蓋之底部相 凹陷和與上蓋之頂部相接的凹陷形成為不相接觸。、 098121586 201007881 [9] 如[4]之晶圓用框架’其中,其更具有沿周方向以任意門 隔設置在上述上蓋之頂部上’而與下蓋之底部相接的 凹陷、及沿周方向以任意間隔設置在上述下蓋之底部工個以 上’而與上蓋之頂部相接的凹陷;和與上述下蓋之底部相接 的凹陷和與上蓋之頂部相接的凹陷形成為相接觸。 [10] 如[4]之晶圓用框架,其中’其更具有沿全周設置在上述 上蓋之頂部!條以上’而與下蓋之底部相接的連續凹陷、或 沿全周設置在上述下蓋之底部1條以上,而與上蓋之頂部相 接的連續凹陷。 [11] 如[4]之晶圓用框架,其中’其更具有沿全舰置在上述 上蓋之頂部1條以上’而與下蓋之底部相接的連續凹陷、及 沿全周設置在上述下蓋之底们條以上,而與上蓋之頂部相 接的連續凹陷,與上述下蓋之底部相接的連續凹陷和盘上蓋 之頂部相接的連續凹陷之底部彼此形成為相接。 [12] 如⑴至Π1]之晶圓用框架,其中,其更具有選自經填充 在上述空間之中空金屬體和樹月旨材料所構成群組之至少一 者。 ⑽如間之晶_框架,其中,上述中空金屬體為按 空鐵球使其變形之中空金屬體。 [14] 一種晶圓用框架之製造方法,用於製造[4]之晶圓用㈣ 其具有.核裁斷加工步驟,將金屬平板沖壓裁斷出 構件和下蓋用構件;及沖壓引伸加工步驟,從上述上蓋用構 098121586 201007881 件和下蓋用構件成形出側壁。 [15] 如[14]之晶圓用框架之製造方& ’其中,其更具有繼沖 壓引伸加工步驟後成形出框架整體形狀之沖壓成形步驟。 [16] -種晶圓用框架之製造方法’具有:將薄壁鋼管沿管轴 方向成形為大致圓形,熔接管端面彼此而成形出圓筒體之步 驟;在上述圓筒體成形出晶圓用框架之定位用缺口之步驟. 及對上述圓筒體進行扁平沖壓成形之步驟。 ❹[17]如间之晶_框架之製造方法,其中,在成形上述圓 笱體之步驟則,其更具備有在上述薄壁鋼管填充中空金屬體 及/或樹脂材料之步驟。 (發明效果) 依照本發明,可獲得在維持框架之強度、剛性、耐熱性下 比習知物品更顯著達輕量化之晶圓用框架。 【實施方式】 ® 以下參照圖式說明本發明較佳之實施形態。 本發明晶圓用框架10之形狀不受特別限定,本實施形態 晶圓用框架外觀上之形狀與圖20或圖21所示具備有可裝= 一自如地黏著保持半導體晶圓W之可撓性切割膜31的環狀框 ^架1G相類似’其不只可為規格品之形狀,亦可為圓形、四 角形或橢圓形等之形狀。 本發明晶圓用框架10中,頂部、底部及侧壁由金屬材料 所構成,且在框架内部設有空間。藉由以金屬材料構成框 098121586 ^ 201007881 架,可維持耐熱性,且確保充分之強度和剛性。又藉由在 内部設置空間,可達成晶圓用框架10之輕量化。 本發明晶圓用框架10中所使用之金屬材料,最好為鐵、 不銹鋼、鋁、鈦、鎂等,但從現狀、耐熱性、耐蝕性和成本 平衡之觀點來看’最好使用不銹鋼板。 [第一實施形態] 第一實施形態之晶圓用框架1〇使用圖丨所示之外觀形狀 平坦之金屬製上板1及與上板1相同形狀之平坦金屬製下板 2。上板1和下板2之厚度不受特別限定,可依照晶圓用框 架之尺寸或金屬材料之種類而適當設定。 更進一步’使用圖2或圖3所示之型框3作為構成晶圓用 框架之内部空間3c和側壁3a之構件。該型框3可藉由將金 屬板裁斷加工或雷射切斷加工而製造,因此型框3之厚产、 侧壁3a或樑3b之寬度不受限在圖2或圖3所示者,依照所 使用金屬材料之質量或晶圓用框架10之尺寸而適當地設 定,藉此可有助於框架10之輕量化。 在型框3設置樑部3b之位置不受特別限定,例如,在圖 3所示之型框3形狀申,將樑3b設在晶圓用框架1〇之半徑 方向互隔一定間隔,同時亦設在圓周方向。如此,當欲以使 用之金屬材料提高晶圓用框架1〇之強度、剛性時,可如將 圖2、圖3或圖4、圖5所示將樑3b隔開任意間隔地設在型 框3。然而,當使用圖3所示之型框3時,與圖2之型框3 098121586 8 201007881 相較,晶圓用框架ίο之強声ra, 度、剛性提高,但質量亦會變大, 因此最好依照晶圓用框架10所要求之剛 變大 定樑3b。 里阳適备,又 2在上述上板
1、底部2及侧壁3a由金屬 出頂口P pe ^ θ _材枓構成、且在框架内部具右作 二‘二框架。另外,因為定位用缺口 %為當、工 ❹ =_機時之定位用缺。,所以在疊層上板: 及=框3時,必須使定位用缺口⑽到相同之位下板晶。 圖4(a)為本發明晶圓用 丁重a: 圓用框架1〇由圖 ^ 1〇之部分切剖俯視圖。該晶 框3_ 之上板卜下板2及圖2所示之型 瓜J风形’型框3由侧嘮 方向之樑3b所^ 地配置在框架之半徑 由上板1、 。圖4(b)為圖4⑻之A — A剖視圖。在 *門3 及側壁3a、樑3b所包圍之部位形成有 二二,由該種構成而實現輕量化。另外,上板卜下板2 之技術。接口可適當地選擇習知之黏著劑、硬焊、熔接等 圖為本發明另—實施形態之晶圓用框架,其型框3使用 圍3所示之型框2 切剖俯視圖,圖5(b^5⑷為本發明晶圓用框架1〇之部分 中,相較⑷之A —A剖視圖。本實施形態 ^ 月況’更在框架之圓周方向增加標3b, c亦細进地分布,而提高強度、剛性。 圖為本發明另—實施形態之晶圓用框架10,其為在圖 098121586 9 201007881 4、圖5所示本發明晶圓用框架10之空間3c填充中空金屬 體4之例。藉由使用中空金屬體4,而可抑制重量之増加, 可達成強度、剛性更進一步提高。 圖6(a)為本發明晶圓用框架1〇之部分切剖俯視圖,圖6卬) 為圖6(a)之A—A剖視圖。中空金屬體4之材質不受特別限 定,但由於其密閉收納在晶圓用框架之内部,因此需要選擇 可獲得相當耐蝕性、剛性之材質。一般而言,最好使用容易 取得之中空鐵球。 在使用中空鐵球等球形之中空金屬體4之情況時,最好使 用將該球形之中空金屬體4預先按壓使其變形而成之形 態。其原因在於’當保持球形使用時,因為中空金屬體4 與上板1、下板2為點接觸,因此穩定性不良,難以得到提 兩剛性之效果。當使球形中空金屬體變形而加以使用時 為中空金屬體4與上板卜下板2間接觸面積增加,因此可 期待剛性大幅提高。 另外,當在晶圓用框架1〇之内部空間填充令空 之情況時,由於使用晶__1(),致 生移動,而有在晶圓用框架1〇之内部產3=4發 此最好使用黏著材料或硬谭材料 偏移之問吨,因 著劑,最好使用兼具不會產生釋氣之規格中工金屬體,於勸 硬化型黏著劑。另外,硬焊所使用< e ° ^熱規格之加熱 焊材科或鎳系硬烊材科,除 臂踔#科最妤4銅系硬 :金屬 >98121586 、可將锡等之低融點 201007881 材料熔入於接合面。 [第二實施形態] 其次,說明本發明第二實施形態之晶圓用框架10。 圖7表示本發明第二實施形態之晶圓用框架10。圖7(a) 為表示晶圓用框架10上面側之俯視圖。圖7(b)為B — B剖 視圖。圖7(c)為表示B — B刻面下之上蓋21和下蓋22嵌合 前狀態之模式圖。上蓋21之頂部2沁和側壁21a由平板一 〇 體成形,上蓋21之框架剎面(B — B剖面)為大致:?字型。下 蓋22之底部22b與側壁22a亦與上蓋21同樣地由平板一體 成形,下蓋22之框架剖面(B_B剖面)亦為大致口字型。 因為上蓋21和下蓋22之剖面均成形為大致a字型,因此 可如圖7(b)、7(c)所示嵌合上蓋21和下蓋22,可使其剖面 成為箱型。由於如此使刹面成形為箱型,因此可達耐扭轉或 耐翹曲構造。又,因為箱内部成形出空間3c,因此可使框 ’ 架輕量化。更進一步,因為上蓋21嵌合在下蓋22之内側, 所以在下蓋22之底部22b不會出現上蓋21之侧壁21a端 部,底部22b成為平滑面’即使如圖20、21所示將切割膜 . 31貼附在晶圓用框架1〇之背面侧22b,亦不會使切割膜損 . 傷。 更進一步,在欲提高嵌合強度之情況時,上蓋21和下蓋 22之嵌合部21a、22a在圖7中顯示為直線形狀,但如圖18(a) 所示,藉由在上蓋侧壁21a或下蓋側壁22a設置缺口形狀之 098121586 11 201007881 肷合部,可較直線形狀更提高嵌合強度。又如圖18(b)所示, 藉由在下蓋側壁22a之前端部設置彎曲部,亦可提高嵌合強 度。更進一步,亦可在嵌合面塗佈黏著劑。 又,可如圖19(a)、(b)、(c)所示以熔接部42接合嵌合部, 更進-步㈣度提升。'賴方法可適當地適用電子射束溶 接、雷射熔接、微電聚熔接或TIG(tungsten inert gas,鎢極 惰性氣體)溶接等之習知炼接方法。 :又’亦可如圖剛)所示使用硬焊43取代溶接。硬焊材料 φ 最子為銅系硬知材料或錄系硬焊材料,除硬焊外亦可將錫等 之低融點金屬材料熔入在嵌合面。 ^外,在使用黏著劑之情況時,黏著劑最好為兼具不產生 釋氣之規格和耐熱規格之加熱硬化型黏著劑。 上蓋、下蓋一體成形前之材料,可依照晶圓用框架1〇之 厚度及尺寸自金料板(從縣、使財便㈣言最好為不 錄鋼板’但並不受限於此)透過沖壓裁斷加工或雷射崎加❹ 工而選擇適當加工法即可。另外,上蓋2卜下蓋22之頂部 或底部2213和側壁213、223之—體成形,藉由沖屋加 工或旋壓加工等將侧壁適當地調整至目的尺寸而製作。 沖壓加工由以金屬平板沖廢裁斷出上蓋及下蓋用構件之 - 步驟、和自上述構件成形㈣部之__伸加王步驟。在本 . 製作步驟巾’亦可在沖㈣伸加对職增加心調整 形狀之相成形步驟。更進_步,在上蓋、下蓋之嵌合部的 098121586 12 201007881 礙合精度較高之情況時,亦有時不特別需要接合材料, 防止洗淨水侵人等之觀點來看,可錢合部塗佈黏著劑 適當地加以硬焊、雷射熔接等。 % 圖8表示本發明之另一實施形態,上蓋21、下蓋^ ❹ ❹ 7同樣地’由頂部21b和侧壁21a、底部挪和側壁仏』 體成形。圖8⑷為本發明晶®用框架1G之部分切剖 圖8(b)為圖8(a)之B-B剖視圖。圖8(c)為表示 下之上蓋2i和下蓋22嵌合前狀態的模式圖。 剖面 本實施形態中如圖8(b)所示—體成形出具有溝之樑22, 用以收容切斷貼附在下蓋22底部22b之黏著膜(搭並二 晶圓W之切割膜31)的切割器㈣㈣。該樑办如圖= 所示設在晶圓用框架10之底部22b之圓周方向,其具a 止扭轉、㈣等並賦予剛性之樑功能。又當在晶圓用王防 10之底部22b貼附黏著膜(搭載並保持晶圓;之士, 3D,配合晶_框架1G之錄輯上述黏著_二= 22c之溝防止切割器之刀尖接觸在上述晶圓用框架* 此,溝之寬度、深度L之傾斜肖度料配合 = 框架大小等適當地決定。又,在未製作收容切割器之溝2 時,樑22c亦可與上蓋21 —體成形。 圖9表不本發明之更另一實施形態,上蓋 广盖22與 圖7同樣地’由頂部21b和側壁21a、底部22b和侧壁u 一體成形。圖9(a)為表示本發明晶圓用框架1〇之部分切刊 098121586 13 201007881 俯視圖,@9(b)為圖%)之卜B剖視圖。
本實施形態如圖9(b)所示,為在上蓋頂部抓和下蓋底部 ⑽之間固賴強構件23的構造。補強構件23如圖9⑷表 示外觀例之俯涵所示,為在晶®用框架10之寬部圓周方 向設置成帶狀之補強用樑。相較於當晶圓用框架10呈大S 化之情況時使框架10之壁厚增加而提高剛性,本實施形態 將壁厚設為與小直徑大,丨1 大小相同並固定1件該補強構件23方 式,在可達輕量化之情况時為較有效處理。 另外’作為補強構件,最好為金屬、尤其鐵、不錄鋼、銘、 鈦等,若為發條等之彈簧材料、或可將墊圈等保持在空間内 者,則均可使用。另外’亦可使用樹脂作為補強構件。在此 情況時’可使樹脂為環狀,亦可在上制面紐或—部分使 用樹脂板。_構件之形狀不受制之限定。 [第三實施形態] 其次’說明本發明第三實施形態之晶圓用框架10。 圖10表示本發明第三實施形態之晶圓用框架1〇。圖 為表不晶圓用框架10上面侧之俯視圖。圖1G⑼為B —B剖 視圖。上蓋21之頂部21b和侧壁…由平板一體成形,但 在本實施形態中’以任意間隔在上蓋頂部21b設置多個與下 蓋底部22b相接之凹陷21d。凹陷21d之寬度、長度為任意, 但深度設為與下蓋底部22b相接,成為在框架之周長非連續 的配置。最好使該凹陷亦與上蓋一體成形。 098121586 14 201007881 °J面形狀與第二實施例同樣地,上蓋21之框架剖面(B_ ^面)為大致37子型。下蓋22之底部22b和侧壁22a亦與 上蓋η同樣地由平板-體成形,下蓋22之框架剖面(B —B 剖面)亦為大致字型。 . 如此-來,可提高晶圓用框架10之剛性,而替代圖9所 示之補強構件23。當考慮到晶圓用框架1〇之扭轉等時,凹 陷21d最好多個均等地非連續配置在上蓋頂部训之整體 (圖10中以對角配置)。凹陷21d在圖⑺⑼中描繪為銳角, 但壁面可具有傾斜,亦可使角部為⑽、或具有圓度。又, 寬度、長度亦可經由考慮晶圓用樞架10之大小、必要剛性 或扭轉、翹曲特性而適當決定。 又,因為框架内部成形出空間3c,因此可使框架輕量化。 更進步,因為上蓋21嵌合在下蓋22之内侧,所以在下蓋 ❷22之底部22b不會出現上蓋21之側壁21a端部,因此底部 22b成為平滑面,即使如圖2〇、21所示將切割膜31貼附在 B曰圓用框架1〇之背面侧22b ’亦不會使切割膜損傷。 圖11與圖10同樣地,為在下蓋22設置多個非連續凹陷 - 22d之例,其基本構造與圖1〇相同。 圖丨2中,在上蓋、下蓋均具有凹陷21d、22d,各凹陷21d、 22d彼此被配置多個成不互相接觸。本實施形態中,設置在 各上蓋、下蓋之凹陷21d、22d數目至少就晶圓用框架1〇 整體數目倍增。此例中’在晶_框架1G之寬度較窄,且 098121586 201007881 备凹fe之沖壓成形易於發生應變之情況下,因為各上、下蓋 之凹陷數目減少,所以較為有效。 圖13中,使設置在上蓋、下蓋的凹陷21d、22d在晶圓用 框架10之周長方向位置相同,凹陷之底部互相相接。本實 施形態在凹陷21d、22d之深度無法深沉沖壓成形之情況時 較為有效。因為凹陷21d、22d彼此相接,所以具有提高剛 性、防止扭轉之效果。 圖14所示之實施形態為在上蓋21或下蓋22之一者,配 置々aa圓用框架1〇之周長方向呈連續的凹陷2 例。凹陷 之寬度為任意,當為窄寬度,亦可在寬度方向設置2條以 上。基本上,凹陷之底部與上蓋頂部或下蓋底部相接,但在 無扭轉等問題之情況時亦可不相接,而為浮起狀態。 圖15所示之實施形態,為在上蓋21及下蓋22兩者,配 置有石晶圓用框架10之周長方向呈連續的凹陷2ld、22d 例。凹陷之底部彼此互相相接。藉由如此構成,可更進一步 提高剛性,亦可有效地防止扭轉。此例中,若框架之寬度亦 容許時’可設置2條以上。 圖16與圖6例子同樣地,為在圖7〜15所示晶圓用框架 10之内部空間3c填充中空金屬體4例,以更進一步提高晶 圓用框架10之剛性。圖16(a)為本發明晶圓用框架1〇之部 分切剖俯視圖,圖16(b)為圖16(a)之B — B剖視圖。藉由使 用中空金屬體4,可抑制重量之增加並可達成剛性之提高,
098121586 1A 201007881 故較佳。 填充之中空金屬體4數量可依照晶圓用框架1〇内部空間 之尺寸或中空金屬體4之大小等而適當設定。因此,關於中 空金屬體4之材質、形狀,基本上與第一實施形態中圖6 說明所述相同。 另外,本實施例中,就中空金屬體說明,但晶圓用框架 10内部空間3c之填充材料可使用樹脂材料。關於樹脂材 ❹料,丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、矽系樹脂、聚碳酸脂樹脂、 尼龍樹脂、聚酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、PBT樹脂(聚丁烯對 苯二甲酸二丁酯樹脂)、PPS樹脂(聚苯硫醚樹脂)和ABs樹 脂等適合用作填充材料。更進一步,亦可為以玻璃纖維強化 上述樹脂材料而成之樹脂材料(以下稱為GFRP,glass fiber reinforced plastic,玻璃纖維補強塑膠)。在此情況下,不會 產生釋氣,且最好以低線膨脹係數之聚碳酸脂樹脂作為基 ® 體,含有體積百分率為10〜20%之玻璃纖維。另外,破螭纖 維更適合有剖面為圓形形狀或扁平形狀之單獨或複合添加。 (晶圓用框架之製造方法) • 在透過沖壓加工一體成形上蓋、下蓋之情況時(圖7或圖 10所示之上蓋21和下蓋22) ’對金屬平板(例如,不銹鋼 薄鋼板)沖壓裁斷加工’而作成上蓋原板或下板原板。其次, 對裁斷成之上蓋原板或下板原板進行模具引伸沖壓,而成形 侧壁21 a、22a。更進一步’最好經用來調整框架整體形狀 098121586 17 201007881 之沖壓成形步驟。另外,就圖10所示之凹陷21d,於模具 引伸沖壓步驟中,在侧壁成形後進行引伸沖壓出凹陷部、或 在侧壁成形之同時以引伸沖壓成形出凹陷部。 [第四實施形態] 以上’說明從金屬平板製造晶圓用框架之情況,但本實施 形態中,說明使用薄壁鋼管成形晶圓用框架之步驟。 根據圖17說明從薄壁鋼管具體地成形晶圓用框架之步 在圖17(a)步驟中’沿管軸方向彎曲薄壁鋼管,而作成大 致圓形之圓筒體。在(b)步驟中,溶接接合圓筒體之兩端 而成為環狀。在(c)步驟中,沖壓成形晶圓用框架 面 缺口。在(d)步驟中,沖壓成形圓筒體,而成為箱型用 狀。另外,為了提高剛性,亦可在薄壁鋼管填 架形 體 及/或樹脂材料,在此種情況,可在⑻步驟 前’於薄壁鋼管填充中空金屬體或樹脂材料。 ak ± 中空金屬 成形 之圓筒 (關於评價試驗) (測定重量比) 測定晶圓用框架10之重量,當將習知材料曰 10 曰曰圓用框牟 質量設為100之情況下,以質量比表示其比。 ” 以上未 評價結果,質量比未滿50者以◎表示,質| 戛比5〇 滿70者以〇表示,質量比70以上者以X表示。 (負載變形試驗) 098121586 18 201007881 本試驗是,將特定負載施加至晶圓用框架ίο —端一定時 間後,除去負載,評價框架所產生之翹曲量。試驗方法於圖 23表示。圖23(a)為說明晶圓用框架10之固定方法、負載 方法的模式圖。圖23(b)為說明晶圓用框架10之固定位置的 俯視圖。 ' 藉由夾具來固定離晶圓用框架10—端之全寬3/4位置或 1/4位置處,在固定3/4位置處之情況時對與固定部相對 © 之自由端部施加30N,在固定1 /4位置處之情況時則施加 10N力而經60秒後,將力釋放,將晶圓用框架10放置在平 台上,以高度規測定變形翹曲量。 試驗結果中,當變形翹曲量未滿0.3mm者以◎表示,變 形龜曲量為〇.3mm以上且未滿0.5mm者以〇表示,變形魅 曲量為0.5mm以上者以X表示。 (平坦度試驗) ® 將晶圓用框架10放置在平台上,藉由高度規測定框架上 之最高點和最低點,以此差作為平坦度。 試驗結果中,當平坦度未滿0.3mm者以◎表示,平坦度 為0.3mm以上且未滿0.4mm者以〇表示,平坦度為0.4mm 以上者以X表不。 [實施例1] 以下具體說明實施例。 試驗No.1〜7為與第1至3項發明對應之實施例,由 098121586 19 201007881 〇.2〇mm厚之不_板作成圖!所示形狀之上板卜下板2, 由LOmm厚之不錄鋼板作成圖2所示之型框3形狀(表i纪 材:型框A)或圖3所示之形狀(表丨怒材:型框B),並組合 上板1、下板2和型框3而作成框架尺寸外徑4〇〇mm、内徑 350mm、厚度l.5mm之晶圓用框架(全厚15mm)。上板〗 . 和型框3之接合、下板2和型框3之接合,透過不產生釋氣 _ 的耐熱規格之黏著劑、硬焊及雷射熔接進行接合。 試驗No.8〜21為與第4至6項發明對應之實施例,上蓋、鲁 下蓋之材料使用〇.20mm厚之不銹鋼板,透過沖壓引伸加工 而一體成形出頂部21b和側壁21a、底部22b和側壁22a。 侧壁之高度中,上蓋為l.3mm之高度,下蓋為i 之高 度’作成框架尺寸外徑40〇mm、内徑35〇mm、厚度丨5讓 之晶圓用框架(全厚1.5mm)。另外,試驗N〇13〜16之圖9(c) 所示的補強構件23(表i芯材:型框c),為從板厚i 〇腿 之鋼板裁斷出中心直徑037〇mm、寬度3mm之環者,藉由 υ 黏著劑或硬焊而接合在框架之内部。 另外,試驗Νο.Π〜21之圖8所示具有收容切割器之溝的 樑22c ’於沖壓弓|伸加工前藉由沖壓加I設在下蓋之框架。 一 ”式驗No.22〜33為與第7至15項發明對應之實施例,上 盍、下盍之材料使用〇 2〇mm厚之不錄鋼板,藉由沖壓引伸 加工一體成形出上蓋侧壁2la、上蓋頂部训和上蓋凹陷 21 d、下蓋侧壁22a、下蓋底部22b和下蓋凹陷22d。側壁之 098121586 20 201007881 高度中,上蓋為1.3mm之高度,下蓋為1.5mm之高度,作 成框架尺寸外徑400mm、内徑350mm、厚度1.5mm之晶圓 用框架(全厚1.5mm)。上蓋和下蓋、中空鐵球藉由黏著劑接 合0 ‘ 試驗No.34〜35為與第16至17項發明對應之實施例,將 ' 薄壁鋼管41沿管軸方向成形為大致圓形,將管端面彼此雷 射熔接而成形圓筒體,扁平沖壓成形圓筒體,作成高度 G 1.5mm之晶圓用框架(全厚1.5mm)。 試驗No.36為習知例,框架材料使用厚度1.5mm之不錄 鋼板,作成框架尺寸外徑400mm、内徑350mm、厚度1.5mm 之晶圓用框架。 以上,整理各種試驗材料之構造和重量測定結果、平坦度 試驗結果及負載變形試驗結果,而以表1及表2表示。 參 098121586 21 201007881 【I<1 備註 _1 發明例 發明例 發明例 發明例 發明例 發明例 丨發明例 發明例| 發明例 發明例 丨發明例 |發明例| |發明例| |發明例| |發明例1 丨發明例| |發明例| 丨發明例| 丨發明例丨 丨發明例丨 |發明例| 負載變形試驗 翹曲量評償 1/4固定 :10N 〇 ◎ 〇 ◎ 〇 ◎ 〇 〇 〇 〇 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 ◎ 〇 ◎ ◎ 3/4固定 :30N j _I 〇 ◎ 〇 ◎ 〇 ◎ 〇 〇 〇 〇 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 ◎ 〇 ◎ ◎ 平坦度 tm ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ l重量測定 輕量化 m ◎ 〇 〇 〇 〇 〇 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 ◎ ◎ ◎ 〇 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 質量比* ^Ti 接合方法 _1 黏著劑 黏著劑 黏著劑 黏著劑 .w> * W w 雷射'J容接 黏著劑 雷龄雜 黏著劑 1黏著劑 I黏著劑| |Ai 黏著劑 黏著刻 1 S w 雷射· 框架構造之 對應圖號 寸 m V〇 画 »n s 圖5+中空_ in m 圖5+中空鐵球 寸 匾 卜 画 卜 Μ r- 画 圖16 圖16 函 |圖奸中空鐵球 ON 固 圖中空鐵球1 00 画 圖8+中空鐵球 00 画 圊8+中空鐵球 〇〇 画 芯材 型框A 型框A令空鐵球 型框B 型框Β中空鐵球 型框Β 型框B中空鐵球 | 型框A 中空鐵球 中空麟 _____1 型框C 型框c中空鐵球 型框C 型框C中空鐵球 中空雜 中空鐵球 表背面薄板 形狀 平板 平板 平板 平板 平板 平板 平板 1 -舰形側壁部 -體成形側壁部 -體成形側壁部 -體成形側壁部 -體成形側壁部 一體成形側壁部 1 一触形側壁部 一鱧成形側壁部 -舰形側壁部 -體成形側壁部'欲入溝 -體成賴壁部' 欲入溝 一舰賴壁部、嵌入溝 -舰形側壁部' 欲入溝 -體成形側壁部'嵌入溝 框架大小 外徑X内徑度 (mm) 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 1 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1. 5 400x350x1.5 400x350x1.5 1 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1. 5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1.5 NO. 1 <N 寸 卜 〇〇 〇\ 〇 Cvj ΓΟ S 00 r*H qi蚌伥<-B 81 ^ f ^ s - Γ ❿ 【3< 備註 ί 1 發明例 |發明例| 發明例 1發明例I I發明例1 |發明例1 |發明例J 發明例| |發明例| |發明例| 發明例 |發明例| |發明例1 發明例 |習知例| 負載變形試驗 ί 1/4固定 :腦 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ Μ 3/4固定 :30N ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 平坦度 織 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 〇 ◎ 重量測定 輕量化 評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ X 質量比* Ρί Τ-Η cn cn S r-H 接合方法 黏著劑 黏著劑 黏著劑 I黏著劑| 黏著劑 黏著劑 I黏著劑| I黏著劑 黏著劑 I黏著劑 黏著劑 黏著劑 雷射熔接 雷射雜 黏著劑 1 框架構造之 對應圖號 圖10 圖10f中空^球 圖11 圖11+中空鐵球 圖12 圖12+中空鐵球 圖13 圖13+中空鐵球 圖14 圖14+中空求 圖15 圖15+中空鐵球 圖17 圖17+中空鐵球 1 芯材 中空鐵球 碡 中空鐵球 中空鐵球 41 中空鐵球 中空鐵球 磯 I中空鐵球 中空鐵球 1 表背面薄板 形狀 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 一體成形側壁部、凹陷 成形薄壁鋼管 成形薄壁鋼管 1 框架大小 外徑X内徑X厚度 (mm) 400x350x1.5 400x350x1. 5 400x350x1. 5 400x350x1. 5 400x350x1. 5 400x350x1.5 400x350x1.5 400x350x1. 5 400x350x1. 5 400x350x1.5 400x350x1. 5 400x350x1.5 400x350x1. 5 400x350x1. 5 400x350x1.5 g 3 CS -砘长< -當〇〇l瓣雜#鉍¥外駚维#: u s-SInss 201007881 上處,但當重作說明時,表1 (聶層、兩^ 及表2所示之「芯材」 中,型框 上羞、下盍間之材料)欄 型框 坦框^表示圖3所示 t、’型框C表示圖9⑹所示之環狀補強構件& 斤作成之晶圓用框架基本構造被記栽於表1之「框架構造 1應圖魂」攔’試驗N〇1〜7為在上、下板疊 之 構造,复it '、中圖4所示之構造為以試驗No.l、2、7試驗而得 者圖5所示之構造為以試驗No.3〜6試驗而得者。另外, 在试驗No.4和6中為在圖5所示之構造更填充有中空鐵球 4之構造’相同地在試驗No.2中為在圖4所示之構造更填 Μ +空鐵球4之構造(圖6)。 一體成形出上蓋、下蓋和侧壁部之實施例為試驗 Ν〇·8〜21。其中,試驗N〇 8〜12為不具有樑之圖7所示構造’ N〇.U、12為更填充有中线球之構造(圖16)。另外’试 驗N〇·13〜16為圖9所示之構造,其為在圖7所示之構造铁 置晶圓用樞架1〇之補強構# 23的構造。試驗NCU7〜21為 圖8所示之構造’在下蓋之框架設置有具有收容切%黏著# 31之切割器之溝的樑22c。另外,在試驗No·18和20十 為在圖8所示之構造更填充有中空鐵球4之構造。 一體成形出上蓋、下蓋、側雙部和四陷之實施例為试驗 No.22〜33。試驗Νο·22〜23為圖10所系之構造,上蓋21外 置有與下蓋22之底部Mb相接的四陷21(1成沿框架之肩喪 098121586 24 201007881 方向。No.24〜25為圖11所示之構造,下蓋22設置有與上 蓋之頂部21b相接的凹陷22d成沿框架之周長方向。 No.26〜27為圖12所示之構造,上蓋21和下蓋22設置有在 相互不同處與上蓋21之頂部21b或下蓋22之底部22b相接 ' 的凹陷21d及22d,成沿框架之周長方向。No.28〜29為圖 • 13所示之構造,上蓋21和下蓋22設置有凹陷21d及22d, 成凹陷彼此在框架周長方向同一處相接觸。No.30〜31為圖 © 14所示之構造,在上蓋21之框架周長方向設置有1條呈現 連續之凹陷21d。No.32〜33為圖15所示之構造,上蓋21 和下蓋22分別設置有各1條相互接觸之連續凹陷21d及 22d,成沿框架之周長方向。
No.34〜35為圖17所示之構造,將薄壁鋼管41沿管軸方 向成形為大致圓形,將管端面彼此雷射熔接42後成形圓筒 體,更進一步對該圓筒體進行扁平沖壓成形。 ® 試驗No.l〜35具有本案發明構造,因此當將習知例晶圓用 框架之質量設為100之情況時,可獲得質量比表示為30〜62 值之晶圓用框架。另外,即便可達如此輕量化,可獲得平坦 _ 度試驗、負載變形試驗值毫不遜色於習知例晶圓用框架之 值。 圖24表示以趣曲量評價和輕量化率(=100 —質量比)之關 係將表1及表2所示之試驗結果圖示出而成者。當框架構造 為具有側壁部一體成形、側壁部嵌入溝一體成形及侧壁部凹 098121586 25 201007881 陷一體成形之芯材時’可知翹曲量之變化比習知例之晶圓用 框架少,且輕量化率可達到48%〜62%。 (產業上之可利用性) 本發明可獲得輕量且具優異耐熱性之框架,因此可適用在 具有框架構造之構件輕量化。 - 【圖式簡單說明】 圖1為表示晶圓用框架外觀例之俯視圖。 圖2為表示本發明晶圓用框架所使用型框例之俯視圖。 ❿ 圖3為表示本發明晶圓用框架所使用型框另一例之俯視 圖。 圖4(a)為本發明第一實施形態之晶圓用框架部分切剖俯 視圖。(b)為a — A剖視圖。 圖5(a)為本發明另一實施形態之晶圓用框架部分切剖俯 視圖。(b)為a — A剖視圖。 圖6(a)為本發明填充有中空金屬體之晶圓用框架部分切 〇 剖俯視圖。(b)為A-A剖視圖。 圖7(a)為本發明第二實施形態之晶圓用框架俯視圖。⑻ 為B B剖視圖。⑷為表*B—B剖視圖中之喪合前狀態之 模式圖。 - •圖8(a)為表示本發明晶圓用框架另—例之部分切剖俯* * 圖⑼為B〜B剖視圖。⑷為表示B — B剖視圖中之嵌合前 狀態之模式圖。 098121586 26 201007881 圖9(a)為表示本發明晶圓用框架另一例部分切剖俯視 圖。(b)為B — B剖視圖。(c)為表示補強構件外觀例之俯視 圖。 圖10(a)為表示本發明第三實施形態晶圓用框架之部分切 ' 剖俯視圖。(b)為B —B剖視圖。 ' 圖11(a)為表示本發明第三實施形態晶圓用框架另一例之 俯視圖。(b)為B —B剖視圖。 ❿ 圖12(a)為表示本發明第三實施形態晶圓用框架更另一例 之俯視圖。(b)為B —B剖視圖。(c)為C —C剖視圖。 圖13(a)為表示本發明第三實施形態晶圓用框架另一例之 俯視圖。(b)為B — B剖視圖。 圖14(a)為表示本發明第三實施形態具有連續凹陷之晶圓 用框架例之俯視圖。(b)為B — B剖視圖。 圖15(a)為表示本發明第三實施形態具有連續凹陷之晶圓 ® 用框架例之俯視圖。(b)為B — B剖視圖。 圖16(a)為本發明填充有中空金屬體之晶圓用框架之部 分切剖俯視圖。(b)為B — B剖視圖。 . 圖17說明利用薄壁鋼管之晶圓用框架之製造方法。 圖18說明上蓋、下蓋之侧壁形狀。 圖19說明嵌合部之接合方法。 圖20為表示半導體晶圓切割用框架的切割作業狀態之立 體圖。 098121586 27 201007881 圖21表示將半導體晶圓切割用框架設定在擴展裝置後之 狀態。 圖22表示半導體晶圓之收納容器(卡匣)概略。 圖23(a)為說明負載變形試驗方法之模式圖,(b)為說明框 架固定位置之俯視圖。 圖24表示翹曲量和輕量化率(=100 —質量比)之關係。 【主要元件符號說明】 1 上板 la 頂部 2 下板 2a 底部 3 型框 3a 側壁 3b 樑 3c 空間 4 中空金屬體 9 收納容器 10 框架 21 上蓋 21a 上蓋側壁 21b 上蓋頂部 21d 上蓋凹陷
098121586 28 201007881 22 下蓋 22a 下蓋侧壁 22b 下蓋底部 22c 具有收容切割器之溝之樑 ' 22d 下蓋凹陷 ' 23 補強構件 26 定位用缺口 ❹ 30 鑽石刀 31 切割膜 41 鋼管 42 熔接部 43 硬焊 D 晶片 W 參 半導體晶圓 098121586 29

Claims (1)

  1. 201007881 七、申請專利範圍·· 1. 一種晶圓用框架,具有: 頂部、底部和侧壁,由金屬材料構成;及 工間由上述頂部、上述底部和上述侧壁所形成。 2·如申請專利範圍第1項之晶_框架,其中, 上述頂部由平坦之上板構成, - 上述底部由平坦之下板構成, 上述側壁由型框構成, 碜 上述工間藉由在上述上板和上述下板之間疊層上述型框 而設置成。 3·如申°月專利範圍第2項之晶圓用框架,其中, 其更具有設置在上述型框之樑。 、 ❹ 4.如申請專利範圍第1項之晶_框架,其中, 口=2=^頂部和上述侧壁經一體成形而剖面形狀為 二底部和上述側壁經-體成形而剖面形狀為 上述空間藉Μ合上述上蓋和上述下蓋而形成。 f專利範_第4項之晶圓用框架,其中, 其更具有與上迷下 樑,該樑具妹容Jr 置在切下蓋底部之 6.如㈣利二::Γ用切割器之溝。 竭弟4項之晶圓用框架,其中, 098121586 30 201007881 其更,有固疋在上述上蓋和上述下蓋間之補強構件。 7.如申$專利朗第4項之晶_域,其令, 其更具有沿周方向以任意間隔設置在上述上蓋 個以上,而與下篆夕1 盍之底。卩相接的凹陷、或沿周方向以 隔設置在上述下蓋之成细,v 惠間 之底…個以上’而與上蓋之頂部相接的 8.如U利範圍第4項之晶圓用框架,其中, G *更具有沿周方向以任意間隔設置在上述上蓋之頂部1 個以上’而與下蓋之底部相接的凹陷、及沿周方向以任魚門 =置在上述下蓋之底部1個以上,而與上蓋之頂部相二 〃上述下蓋之底部相接的凹陷和與上蓋之頂部相接的 凹陷為被形成不相接觸。 參 9♦如申請專利範圍第4項之晶圓用框架,其中, 其更具有沿周方向以任意間隔設置在上述上蓋之頂部H ^上’而與下蓋之底部相接的凹陷、及沿周方向以任意間 隔汉置在上述下蓋之底部1個以上,而與上蓋之頂部相接的 凹陷, /、上述下蓋之底部相接的凹陷和與上蓋之頂部相接的 凹陷為被形成相接觸。 1〇.如申請專利範圍第4項之晶圓用框架,其中, 其更具有沿全周設置在上述上蓋之頂部1條以上而與下 098121586 31 201007881 蓋之底部相接的連、績凹陷、或沿全周設置在上述下蓋之底部 條X上而與上蓋之頂部相接的連續凹陷。 11.如申請專利範圍第4項之晶圓用框架其中, 其更具有沿全周設置在上述上蓋之頂部^以上,而與下 羞:底部相接的連續凹陷、及沿全周設置在上述下蓋之底部 ’、、 而與上蓋之頂部相接的連續凹陷, 接蓋之底部相接的連續凹陷和與上蓋之頂部相 接的連續凹陷之底部彼此被形成為相接。 其二如申請專利範圍第…項中任一項之晶圓用框架, 參 其更具有選自麵擔亡+L丄 料所構成群組之至少_=。空間之中空金屬體和樹脂材 上圍第12項之晶圓用框架’其中, 〇 沖壓裁斷加工步, 下蓋用構件;及 沖壓引伸加工步, =種;^^按壓巾空鐵雜錢狀中空金屬體。 第4項之晶_;之其製二方法’用於製造中請專利範圍 ’將金屬平板沖壓裁斷出上蓋用構件和 成形出侧壁。’從上述上蓋用構件和上述下蓋用構件 15.如申請專利範圍第 中, 日圓用樞架之製造方法,其 098121586 32 201007881 其更具有繼沖壓引伸加工步驟後成形出框架整體形狀之 沖壓成形步驟。 16.—種晶圓用框架之製造方法,具有: 將薄壁鋼管沿管軸方向成形為大致圓形,熔接管端面彼此 ' 而成形出圓筒體之步驟; ' 在上述圓筒體成形出晶圓用框架之定位用缺口之步驟;及 對上述圓筒體進行扁平沖壓成形之步驟。 〇 17.如申請專利範圍第16項之晶圓用框架之製造方法,其 中, 在成形上述圓筒體之步驟前,其更具備有在上述薄壁鋼管 填充中空金屬體及/或樹脂材料之步驟。
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