TW201007205A - Optical film and method of manufacturing same, glare-proof polarizer, and display - Google Patents

Description

201007205 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學薄膜及其製造方法、防眩性偏光 元件、以及顯示裝置。詳細而言，係關於一種具備硬塗層 之光學薄膜。 【先前技術】 近年來，液晶顯不 (Liquid Crystal Display : LCD)戍電 漿顯示器（Plasma Display Panel : PDP)等各種顯示裝置廣 泛普及。該等顯示裝置之畫面中，由於太陽光或室内照明 等之外光映入，尤其係亮處之視認性明顯受到阻礙，因此 多使用在畫面表面使外光擴散反射之防眩性薄膜等光學薄 膜。 先前，該光學薄膜中，為於畫面表面使外光擴散反射， 而使用在表面構成微細凹凸結構之方法。具體而言，考慮 到擦傷性而將硬塗層塗料中分散有透明微粒子之擴散層塗 佈於透明塑膠基材上之方法成為當前液晶顯示裝置之主 流。 然而，對於以近來之薄型電視為代表之上述各種顯_裝 而。旦質之長1而、尚精細化急速發展，像素不斷小型 化。因此存在如下問題：透過光學薄膜之光因防眩層尹之 微粒子或表面凹凸結構引起之折射或擴散而變形，圖像變 y导不^晰或產生作為亮度不均現象之炫光，或者表面成為 暗淡之晝質而品質顯著劣化。因&，使用微粒子形成表面 凹凸結構之當前的光學薄膜無法充分追隨如上所述之畫質 139457.doc 201007205 之提南或高精細化， 凹凸結構之光學薄膜 而期望實現不使用微粒子來形成表面 再者先則，作為於表面形成微細凹凸結構以於晝面表 面使外光擴散反射之方法’研究出：如下述曰本專利特公 平4-5娜號公報、日本專利第337侧號公報日本專利 特開20G4-29240號公報、及日本專利特開細5_⑸615號公 報所示藉由壓花（形狀轉印）形成微細凹凸結構之方法。 於日本專利特公平4_596〇5號公報中提出有如下方法： 藉由壓花加卫於纖維素系祕之偏光板㈣薄膜表面形成 微、-凹凸粗面，進而利用有機溶劑將微細凹凸粗面表層之 部分溶解’藉此製造高清晰度無反射偏光板。 ^曰本專利第3 3 7 4 2 9 9號公報中提出有如下防眩薄膜之 製造方法：該防眩薄膜係於透明塑膠薄膜上具有電離放射 線硬化型樹脂之粗大凹凸層、及沿著其表面之細小凹凸， 利用壓花法、喷砂法、及乾燥時之樹脂對流法之任一者來 形成該粗大凹&，並藉由薄膜狀塗層、或升高效果來形成 於曰本專利特開2004-29240號公報中提出有如下防眩性 抗反射薄膜之製造方法：於藉由壓花加工對薄膜表面賦予 凹凸之抗反射薄膜中，使壓花加工t使用之版之凹凸的算 術平均粗度為〇·05 μηι以上且2〇〇 μιη以下，使凹凸之平均 週期為5 0 μηι以下。 於曰本專利特開2005_156615號公報中提出有如下防眩 薄膜之製造方法：於熱塑性樹脂薄膜之製膜步驟中，在將 139457.doc 201007205 模板按塵於薄臈面而於表面形成凹凸之前或之後，利用拉 幅機進行延伸，並於所猶π η 业％所獲侍之凹凸面上形成硬塗層。 【發明内容】 發明所欲解決之問題 如上所述’於日本專利特公平4-596G5號公報中，作為 偏光板保護薄膜，係利用有機溶劑將藉由麼花加工而形成 . 於纖維素系塑膠表面之微細凹凸粗面部分地溶解，製作平 φ ⑨之凹凸面’而形成高清晰度無反射偏光板、然而，因表 ' Φ上未形成有硬塗層’因此擦傷性較差，難以用於液晶電 視等需要耐久性之液晶顯示產品。又，於日本專利特公平 ' 4-59605號公報中’關於表現出防眩性之表面形狀並盔圮 . 載。 ’’、 於日本專利第3374299號公報、及日本專利特開細心 29240號公報中，以表面粗度來規定表面形狀，但算術平 均粗度統計地包含大小之複雜之凹凸。因此，存在擴散反 • 射特性完全未得到控制，形成暗淡之防眩薄膜，導致畫質 明顯惡化之問題。 於日本專利特開2005-156615號公報中提出有如下防眩 薄模：於熱塑性樹脂薄膜之製膜步驟巾，按壓模板而將凹 凸狀轉印於薄膜表面，並於薄膜表面塗佈形成硬塗層。然 而，關於表面形狀，僅將熱塑性樹脂之凹凸面之中心線平 均粗度Ra限定於0·05〜10 μιη之範圍（例如參照請求項丨丨）， 關於表現出防眩性之表面形狀並無任何記載。因此，存在 擴散反射特性完全未得到控制，形成暗淡之防眩薄膜，導 139457.doc 201007205 致晝質明顯惡化之問題。 如上所述，不使用微粒子而藉由表面形狀來表現防眩性 之先前光學薄膜中，使表面性簡單地為凹凸狀，僅藉由面 粗度（算術平均粗度）來規定表面形狀、或者以擴散反射特 性（光學特性）來規定表面形狀，關於明確之表面形狀並無 規定。 因此’本發明之目的在於提供一種不使用微粒子而可獲 得高防眩性及高對比度之光學薄膜及其製造方法、防眩性 偏光元件、以及顯示裝置。 解決問題之技術手段 為解決先前技術所具有之上述問題而進行了努力研究， 結果提出了本發明。以下說明其概要。 本發明者們藉由實驗對可維持防眩性並且抑制白濁感之 不使用微粒子之防眩性光學薄膜進行了努力研究。 首先，藉由實驗對下述内容進行了努力研究：是否可藉 由利用輥表面上實施有雷射雕刻之壓花輥進行輥壓而使 半球狀等之所需之結構體轉印形成於基材上。結果發現， 可藉由調整壓花輥之溫度與壓力，而轉印形成半球狀等之 結構體。 轉印溫度與轉印壓力係根據透明基材之物性決定。例如 使用TAC作為透明基材之情形時，轉印溫度較好的是 170°C至19(TC之範圍。其原因在於，若小於17〇它則轉= 量變得不充分而產生平坦部分。若超過19代則容易產生 熱皺摺。轉印壓力較好的是15〇 kg/cm以上。其原因在 139457.doc 201007205 於，當小於該轉印壓力時，若不將轉印速度下降至數m/分 鐘以下則會產生平坦部分，因此處理速度提不高而生產性 較差。 進而發現，僅藉由在其轉印面上塗佈硬塗劑並進行乾 燥、硬化，並且控制硬塗劑之塗佈厚度，就可仿照基材之 結構體而獲得連續且平滑之波面，獲得近乎理想之擴散反 射特性。 塗佈异度較好的是3 μιη至20 μιη。其原因在於，若、於3 μηΐ則表面硬度較小而容易受傷，若超過20 μιη則翹曲變 大，製成偏光板後亦容易殘留翹曲。 - 本發明係基於以上研究而提出者。 . 為解決上述課題，第1發明係一種光學薄膜，其具備： 凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及 於基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層； 於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之 ^ 波面， 連續之波面之最大振幅Α及最小波長λ大致固定， 最大振幅Α與最小波長λ之比率（Α/λ)超過0.002且為〇.〇 u ^ 以下。 第2發明係一種光學薄膜之製造方法，其具備： 於基材表面呈二維且規則地形成凸狀之結構體之步驟；及 於基材之形成有結構體之面上塗佈硬塗劑並使盆硬彳匕， 藉此形成硬塗層之步驟；且 於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之 139457.doc 201007205 波面， 連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定， 最大振幅Α與最小波長λ之比率（Α/λ)超過0.002且為0.011 以下。 第3發明係一種防眩性偏光元件，其具備： 偏光元件，及 設置於偏光元件上之光學薄膜；且 光學薄膜具備： 凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及 於基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且 於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之 波面， 連續之波面之最大振幅Α及最小波長λ大致固定， 最大振幅Α與最小波長λ之比率（Α/λ)超過0.002且為〇·〇η 以下。 第4發明係一種顯示裝置，其具備： 顯示圖像之顯示部，及 設置於顯示部之顯示面側之光學薄膜；且 光學薄膜具備： 凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及 於基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且 於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之 波面， 連續之波面之最大振幅Α及最小波長λ大致固定， 139457.doc 201007205 最大振幅A與最小波長λ之比率（Α/λ)超過0.002且為o.oii 以下。

於本發明中，仿照基材表面之結構體而於硬塗層表面形 成連續之波面，連續之波面之最大振幅Α及最小波長λ大致 固定，並且將最大振幅Α與波長λ之比率（Α/λ)設定為超過 0.002且為o.oii以下之範圍内，因此可於硬塗層表面形成 平滑之波紋’並利用該波紋使光擴散。又，硬塗層不含微 粒子’因此與藉由使微粒子自表面突出而表現出防眩性之 先前光學薄膜相比，可提高光之透射性，獲得較高之對比 度。 發明之效果 如以上所說明般，根據本發明，可藉由硬塗層表面之平 滑波紋使光擴散，並且硬塗層之光透射性較高，因此可實 現具有高防眩性及高對比度之光學薄膜。 【實施方式】 以下，一面參照圖式一面對本發明之實施形態進行說 明。再者，於以下實施形態之所有圖中’對相同或對應部 分附記相同符號。 (1)第1實施形態 (1 -1)液晶顯示裝置之構成 置之構成的一 出射之背光源 圖1表示本發明第1實施形態之液晶顯示袭 例。如圖1所示，該液晶顯示裝置具備使光 3、及對自背光源3出射之光進行時間空問裀 j 1間碉變而顯示圖搞 之液晶面板2。於液晶面板2之兩面分别袖·里 印刀別5又置有偏光元讲 139457.doc 201007205 2a、2b。設置於液晶面板2之顯示面側之偏光元件2b上設 置有光學薄膜1。於本發明中，將於一個主面上形成有光 學薄膜1之偏光元件2b稱為防眩性偏光元件4。 作為背光源3，例如可使用直下型背光源、邊緣型背光 源、平面光源型背光源。背光源3例如具備光源、反射 板、光學薄膜等。作為光源，例如可使用冷陰極螢光管 (Cold Cathode Fluorescent Lamp : CCFL)、熱陰極螢光管 (Hot Cathode Fluorescent Lamp : HCFL)、有機電致發光 (Organic ElectroLuminescence : OEL)、發光二極體（Light Emitting Diode : LED)等。 作為液晶面板2，例如可使用扭轉向列（Twisted Nematic : TN)模式、超扭轉向列（Super Twisted Nematic : STN)模式、垂直配向（Vertically Aligned: VA)模式、水平 排列（In-Plane Switching : IPS)模式、光學補償彎曲配向 (Optically Compensated Birefringence : OCB)模式、鐵電 性（Ferroelectric Liquid Crystal : FLC)模式、高分子分散型 液晶（Polymer Dispersed Liquid Crystal : PDLC)模式、相 變型賓主（Phase Change Guest Host : PCGH)模式等顯示模 式者。 於液晶面板2之兩面，例如以使透射軸相互正交之方式 而設置偏光元件2a、2b。偏光元件2a、2b係僅使入射光中 正交之偏光成分中之一方通過，並藉由吸收而遮蔽另一方 者。作為偏光元件2a、2b，例如可使用：使聚乙烯醇系薄 膜、部分曱縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共 139457.doc 201007205 聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性 染料等二色性物質並加以單軸延伸者。 (1-2)光學薄膜之構成 圖2表示本發明第1實施形態之光學薄膜之構成的一例。 如圖2所示，該光學薄膜丨具備基材丨丨、及設置於該基材^ 上之硬塗層12。 全部光線透射率較好的是92%以上。其原因在於，若為 92%以上，則不會使透明基材之透射性劣化，而保持來自 背光源之光量。霧度較好的是15%以下。其利在於，若 為1.5。/。以下’則可抑制背光源之光之散射、及表面反射光 之散射’可視覺確認到黑色作為黑。内部霧度較好的是 0.5%以下。其原因在於，若為〇5%以下，則同樣可抑制背 光源之光之散射，可視覺確認到更接近自然之顏色。白濁 度較好的是0.7%以下。其原'因在於，若為〇7%以下，則同 樣地可視覺確認到更黑之顏色作為黑。再者，霧度係將表 面霧度與内部霧度相加所得者。 (基材） 基材11係具有透明性之塑膠基材。作為基材11之形狀， 例如可使用具有透明性之薄膜、薄片、基板等。作為基材 U之材料，例如可使用公知之高分子材料。作為公知之高 为子材料’具體而言’例如可列舉：三乙醯纖維素（TAC， triacetyl cellulose)、聚酉旨（τρεε，thermoplastic polyester elastomer，熱塑性聚酿彈性體）、聚對苯二甲酸乙二醋 (PET，P〇lyethylene terephthalate)、聚酿亞胺（ρι， 139457.doc 201007205 polyimide)、聚醯胺（PA，polyamide)、芳族聚醯胺、聚乙 稀（PE，polyethylene) '聚丙浠酸酯、聚醚礙、聚颯、聚丙 稀（PP，polypropylene)、二乙醯纖維素、聚氣乙烯、丙稀 酸系樹脂（PMMA，polymethylmethacrylate，聚曱基丙稀酸 甲S旨）、聚石炭酸醋（PC，polycarbonate)、環氧樹脂、脲樹 脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環烯烴系樹脂（例 如Zeonor)、苯乙烯-丁二烯共聚物（SBC，styrene-butadiene

copolymer)等》自生產性之觀點考慮，基材u之厚度較好 的是38〜100 μιη，但並不特別限定於該範圍。 又’基材11較好的是具有作為偏光元件2b之保護薄膜之 功能。其原因在於，無需於偏光元件21)上另外設置保護薄 膜，因此可使具有光學薄膜1之偏光元件2b薄型化。 圖3表示基材表面之凹凸狀之一例。如圖3所示基材工 係於*又置有硬塗層12之一個主面上具有凹凸狀。具體而 吕，凸狀結構體Ua呈二維且規則地配設於基材u之表 面。具體而言’例如作為結構體Ua之配設圖案p，可列舉

四角形狀、六角狀、八角形狀等。再者，圖3中表示將結 :體11a,設為六角狀之例。結構體Ua較好的是具有大致 相同之面度。結構體lu係規則地配設於自任意結構體川 之頂點觀察為不同 Θ传椒秘巧不门之兩個方向a、匕上。方向a、b所成之角 w係根據所需之配設 圖案p而適且選擇。例如於配設圖案ί 如圖3所示般為六角

声^ 月狀之障形時方向a、b所成之角θ為6C 及。又，外基丁 m 化者不同之兩個方向切斷硬 是連續波形。 β室層之剖面較好的 139457.doc •12· 201007205 作為凸狀結構體m之形狀，例如可列舉半球 =光錐二 =’但並不限定㈣等形狀，可根據所 子特r而任意選擇。作為錐體狀 狀爽圓雜台狀、多角錐狀等。作為多角錐之形狀，I; 歹^四㈣'六角錐、八角錐等形狀。作為柱狀，例如可 ;=狀、多角柱狀等。作為多角柱之形狀，例如可列 牛四角柱、六角柱、八角柱等形狀。又，可對結構趙山 賦予形狀異向性，自調整顯示裝置之水平方向及垂直方向 之先學特性的觀點考慮，例如較好的是對基材η之面内方 向中正交之兩個方向賦予形狀異向性。具體而言，作為具 :形：異向性之結構體lla之形狀，例如可列舉橢團柱 狀、半精圓球狀、橢圓錐台狀、於—個方向上經延伸 角柱狀或多角錐狀等。 作為結構體間m之形狀，例如可使用剖面v字狀、到面 ::狀等形狀’但並不限定於該等形狀，可根據所需之光 予、J·生而任意選擇。又’可對結構體間爪之形狀賦予形 狀異向性’自調整顯示裝置之水平方向及垂直方向之光學 特性的觀點考慮，例如較好的是對基材u之面内方向尹正 =之兩個方向賦予形狀異向性。具體而言，例如可使结構 體間叫之距離視方向而不同。例如，可使於面内正交之 兩個方向中的一個方向之結構體間llb的距離大於另一方 向之結構體間11 b的距離。 (硬塗層） 硬塗層12係用以對基材^表面即光學薄膜或顯示裝置 139457.doc -13- 201007205 等之表面一併賦予耐擦傷性與防眩性者，係較基材η更硬 之高分子樹脂層。於硬塗層表面，仿照基材u之結構體 lla而形成有連續之波面。硬塗層12之凹部及凸部的位置 分別與基材11之凹部及凸部的位置相對應。硬塗層表面之 凹凸量小於基材表面之凹凸量，硬塗層之塗佈厚度越厚則 凹凸量越小。 連續之波面之最大振幅八及最小波長λ大致固$。藉此， 可於塗佈硬塗層時於整個塗佈面抑制平坦部之產生，維持 防眩性。X，最Α振幅Α與最小波長λ之比率（构超過 0.002且為0.011以下。其原因在於，若為〇〇〇2以下，則有 防眩性下降之傾向’若超過0.011，則有白濁度上升之傾 向。於本發明中，所謂連續波之波面，係指於硬塗層表面 並無不連續點或階差而平滑地延伸，具體而言表示於硬塗 層表面之任意點可進行微分。又，最小波長λ係指相鄰接 之結構體lla之頂點間之距離中最小的距離。丨，最大振 幅Α係指將波面之凹部底面作為基準時的波面之凸部頂點 的向度。 通過鄰接之結構體Ua之頂點而切斷之硬塗層12的剖面 較好的是連續波形，進而好的是正弦波狀。其原因在於， 可獲得優異之擴散反射特性。於本發明中，正弦波狀亦包 含大致正弦波狀。 (1-3)壓花轉印裝置 其次，參照圖4，對成形具有上述構成之基材u的壓花 轉印裝置進行說明。如圖4所示’該壓花轉印裝置具備壓 139457.doc 201007205 花輥21、及背壓軋輥22。 作為壓花輥21，例如可蚀田# @A ^ 了使用感應發熱套輥、熱媒循環 輕、内置加熱器之觀等加熱輕。作為輥表面之壓花加工之 方法，可使用雷射雕刻、噴砂、機械雕刻、光㈣等各種 方法，較好的是雷射雕刻。其原因在於，噴砂時，難以使 凹部21a之深度相同並且呈二維且規則地形成凹部η，機 械雕刻或光㈣等時，難以實施超過250線/ineh之高密度 雕刻。又’超過500線/inch之超高密雕刻較好的是利用 C〇2雷射、或YAG雷射進行雕刻。作為表面處理，就長時 間使用之磨損耐久性優異之方面而言，較好的是硬質錢絡 或陶瓷喷塗。 對於背壓軋輥22，為於基材表面轉印微細壓花而必需較 南之壓力，因此較好的是將具有例如JIS_D8〇度以上之橡 膠硬度之橡膠層、或硬度與其相當之樹脂層施加於鐵輥表 面’並對表面進行研磨精加工。 又，較好的是於背壓軋輥22之鐵輥内部進行冷媒循環而 加以冷卻’或者使用冷卻輥或冷卻喷嘴將橡膠層、或樹脂 層之表面冷卻。其原因在於，可防止背壓軋輥22之橡膠 層、或樹脂層於壓花處理中受到來自壓花輥21之連續傳熱 而溫度上升，導致基材11軟化或熔化，可進行連續之璧花 轉印。 圖5表示壓花輥表面之凹凸狀之一例。如圖5所示，g花 輥21於其圓柱面具有凹凸狀（壓花形狀）。具體而言，用以 於基材11上形成結構體1 la之凹部21a形成於壓花輥21之表 139457.d〇c -15- 201007205 面凹〇P2U係呈二維且規則地配設於壓花棍21之表面。 具體，例如作為凹部21a之配設圖案p，可列舉四角形 狀:、角狀、八角形狀等。再者，圖5中表示將結構體 配設為六角狀之例。又，結構體Ua係規則地配設於自任 意結構體…之頂點觀察為不同之兩個方向a、b上 a、b所成之角0係根據所需之配設圖案p而適宜選擇

如，於配設圖牵p如国ς ^ J 闺茱P如圖5所不般為六角形之情形時， a、b所成之角0為6〇度。 向 作為形成結構體lla之凹部21a之形狀，例如可列舉 球狀（圓頂狀）、錐體狀或柱狀，但並不限定於該等形狀， ==需之光學特性而任意選擇。作為錐體狀，例如可 列舉圓錐狀、圓錐台狀、多角錐㈣。Θ 狀，例如可列舉四角錐、 形 抽m "八角錐、八角錐等形狀。作為柱 狀’例如可列舉圓柱狀、多角柱狀等。作為多角柱之开 狀，例如可列舉四角柱、六角柱、八角柱等之形狀形 〇 = = 21a賦予形狀異向性，自調整顯示裝置 向向之光學特性的觀點考慮’較好的是對 !之面内方向中正交之兩個方向例如圓周方向*高 予:狀異向性。具體而言’作為具有形狀異向性 ::狀個例如可列舉橢圓柱狀、半橢圓球 錐 口^於—個方向上經延伸之多角柱狀或多角錐狀等。

作為凹部間2lb之形狀，例如可使 字抽楚：其彡ttb y 2 予狄、剖面U 狀，但並不限定於該等形狀，可根據所需之光與 之光學特性而任意選擇。又，凹部間叫之形狀可^ I39457.doc -16- 201007205 需形狀異向性’自調整顯示I置之水平方向及垂直方向之 光學特性的觀點考慮，較好的是例如對壓魏21之面内方 向中正交之兩個方向例如圓周方向與高度方向賦予形狀異 向性。具體而t ’例如凹部間21b之距離視方向而不同。 例如可使於面内正交之兩個方向中的一個方向之凹部間 2 lb的距離大於另一方向之凹部間21^的距離。 (1-4)光學薄膜之製造方法 其次，參照圖6’對具有上述構成之光學薄膜之製造方 法的一例進行說明。為提高生產性、降低成本，以下說明 之各步驟較好的是藉由捲對捲進行。 (轉印步驟） 首先，使用圖4所示之壓花轉印裝置，使壓花輥2ι與背 壓軋輥22於其間夾持有基材丨丨之狀態下連續旋轉並且對 基材11進行加熱及加壓，藉此於基材丨丨之表面轉印凹凸 狀。藉此，如圖6A所示，結構體Ua呈二維且規則地形成 於基材11之表面。 (塗料製備步驟） 其次，例如將樹脂'光聚合起始劑及溶劑混合而製備硬 塗劑（塗料）。又，視需要亦可添加光穩定劑、紫外線吸收 劑、抗靜電劑、阻燃劑、抗氧化劑及黏度調整劑等。 作為樹脂，自製造容易性之觀點考慮，較好的是將藉由 光或電子束等而硬化之電離放射線硬化型樹脂、及藉甴熱 而硬化之熱硬化型樹脂的至少—種作為主成分者，最好的 是藉由紫外線而硬化之感光性樹脂。作為此種感光性樹 139457.doc -17. 201007205 脂’例如可使用丙烯酸胺基甲酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯 丙烯酸酯、多元醇丙稀酸酯、聚醚丙稀酸酯、三聚氰胺丙 稀酸酯等丙烯酸酯系樹脂。例如丙烯酸胺基曱酸酯樹脂可 藉由使異氰酸酯單體或預聚物與聚酯多元醇進行反應，並 使具有經基之丙稀酸酯或甲基丙烯酸酯系單體與所獲得之 產物進行反應而獲得。硬化後之特性可適宜選擇，例如自 圖像透射性之觀點考慮，較好的是透光性優異者，自耐擦 傷性之觀點考慮，較好的是具有高硬度者。再者，感光性 樹脂並不特別限定於上述例，只要為具有透光性者則可使 用，但較好的是不會由於著色或霧度而使透射光之色調或 透射光量顯著變化者。尤其好的是使用與所用之基材 折射率差較小的樹脂。其原因在於，若使用折射率差較大 之樹脂則會於基材界面發生反射而導致白濁。 較好的疋於感光性樹脂中適宜混合藉由乾燥而成為固體 之胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、苯乙 烯樹脂、三聚氰胺樹脂、纖維素系樹脂，it而適宜混合電 離放射線硬化型低聚物、熱硬化型低聚物而使用。藉由適 宜昆合上述樹脂’可調整硬塗層12之硬度或捲曲。樹脂並 不限定於上述例，例如作為聚合物，可使用具有丙婦雙鍵 之類的電離放射線官能基、领基等熱硬化性基者。 作為感光f生樹月曰中所含之光聚合起始劑，例如可將二苯 甲銅衍生物、笨乙酿I相# 生物、蒽醌衍生物等單獨使用或併 用。該感光性樹脂中可冷工、Α 丈月曰干了進而適宜選擇調配更好地形成皮膜 之成分例如丙烯酸系樹脂等。 139457.doc 201007205 麝 ❹ 作為溶劑’較好的是將所使用之樹脂原料溶解並且與其 材11之潤濕性良好、且不會使基材丨i變白者，例如可列 舉：包含丙酮、二乙基酮、二丙基酮、曱基乙基酮、甲基 丁基酮、甲基異丁基_、環己網、甲酸曱酯、甲酸乙西t 甲酸丙酯、甲酸異丙酯、甲酸丁酯、乙酸甲酯、乙酸乙 酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯、乙 酸第二丁酯、乙酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸第二戊酯、丙 酸曱醋、丙酸乙醋、丁酸甲醋、丁酸乙醋、乳酸甲醋等綱 類或羧酸酯類之溶劑，甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、第 -丁醇、第三謂等醇類。該等溶劑可為單—成分亦可為 2種以上之成分之混合物’進而’亦可於不損及樹脂組成 物之性此之範圍内添加上述例示者以外之溶劑。 作為抗靜電劑，例如可使用導電性碳、無機微粒子、無 機微粉末、界面活性劑、離子性液體等。該等抗靜電劑可 :獨使用或將2種以上併用。作為無機微粒子及無機微粉 末之材料’例如可列舉將導電性金屬氧化物作為主成分之 ^斗。作為導電性金屬氧化物，例如可使用氧化錫、氧化 銦、AT〇(_im〇ny doped tin 〇伽，捧錄氧化錫）、 摻銦氧化錫)、錄氧化辞等。 备 舉.羧酸系化合物及磷酸鹽 ^ ^ 『糸化合物、胺系化合物或四級 銨鹽之類的陽離子系化合物、 7 ^ 月9肪酸多元醇酯系化合物或 X巩乙烯加成物之類的非 夕鈾从^ 于糸化合物、聚丙烯酸衍生物 之類的咼分子系化合物。離 雕于性液體係於室溫下呈液狀之 139457.doc •19- 201007205 溶鹽。作為離子性液體，較好的是與溶劑及樹脂具有相溶 性：且於後述乾燥步驟中使溶劑揮發後亦以相溶於樹脂之 狀態而存在者。具體而言，作為離子對之陽離子種，例如 可列舉·包含含氮鏽之脂肪族四級銨陽離子、含氮雜環結 構之四級銨陽離子、包含含磷鏘之鱗陽離子、包含含硫鏽 之銃陽離子等。作為離子對之陰離子種，例如可列舉·· _ 素陰離子、有機羧基陰離子、有機氟系陰離子等。尤其若 陰離子為三（三氟甲基磺醯基）硝酸之類的有機氟系陰離 子，則於常溫下容易成為液態離子對，因此較好。又，離 子性液體不僅可單獨使用亦可併用數種。 (塗敷步驟） 其次，如圖6B所示，將所製備之硬塗劑13塗敷於基材u 上。所塗敷之硬塗劑13之液面流平，但由於與基材表面之 凹凸狀之間有厚度分布，因此藉由乾燥時之體積變化而形 成平滑之凹凸狀氣液界面，而可獲得硬塗層12之表面凹凸 量小於基材11之表面凹凸量的光學薄膜丨。又，基材"之 表面凹凸量可藉由塗敷之硬塗劑13之厚度來控制擴散反射 特性。進而，由於自塗佈至硬化為止之所有製程中能以非 接觸之方式形成表面，故可提供無缺陷之品質較高的光學 薄膜1。 塗敷方法並無特別限定，可使用公知之塗敷方法。作為 公知之塗敷方法，例如可列舉微凹版塗佈法、線棒塗佈 法、直接凹版塗佈法、模塗法、浸潰法、噴射塗佈法、反 向輥塗佈法、簾幕式塗佈法、刮刀式塗佈法、刀塗佈法、 139457.doc 20· 201007205 旋轉塗佈法等。 (乾燥步驟）

其次’藉由使塗敷於基材11上之硬塗劑13乾燥，而使溶 劑揮發。乾燥條件並無特別限定’可為自然乾燥，亦可為 調整乾燥溫度或乾燥時間等之人工乾燥。其中，於乾燥時 對塗料表面吹風之情形時，較好的是塗膜表面不產生風成 波痕。其原因在於，若產生風成波痕，則存在於防眩層表 面難以形成所需之平滑波紋之微細凹凸狀的傾向，而難以 兼具防眩性與對比度。又，乾燥溫度及乾燥時間可根據塗 料中所含溶劑之㈣來適宜決定。該情料，乾燥溫度及 乾燥時間較好的是考慮基材W财熱性而於不會由於熱收 縮引起基材11變形之範圍内選定。 (硬化步驟） 其次，藉由例如電離放射線照射或加熱，而使於基材U 上乾燥之樹&硬化。藉此，如圖6C所示，可將結構趙11 a 作為-個凸起，於硬塗層12之表面形成平滑之波面。作為 電離放射線，例如可使用電子束、紫外線、可見光線、伽 瑪線 '電子束等’自生產設備之觀點考慮，較好的是紫外 二量較好的是考慮_之硬化特性、樹脂或基 立之,變抑制等而適宜選擇。又，作為照射之氣體環 楗，可根據樹脂硬化之情 ' m产 叩迥且選擇，例如可列舉空 轧、虱乳、虱氣等惰性氣體之環境。 藉由以上操作，可獲得目標光學薄膜。 於本發明之第！實施形態中，仿照基材表面之結構體山 139457.doc -21- 201007205 而於硬塗層表面形成連續之波面，使連續波面之最大振幅 A及最小波長人大致固定，並且將最大振幅A與波長λ之比 率（Α/λ)设定為0.0025〜(^丨丨之範圍内，因此可形成硬塗層 表面之平滑波紋，並利用該波紋來使光擴散。又，硬塗層 12不含微粒子，因此與藉由使微粒子自表面突出而表現出 防眩性之先前光學薄膜相比，光之透射性提高，可獲得更 咼之對比度。因此，可實現可不使用微粒子而維持防眩性 並且抑制白濁感之防眩性光學薄膜。又，可藉由表面之凹 凸狀而自由地設計光學薄膜之防眩性。 又，利用藉由雷射雕刻對輥表面以^⑼線/丨以^(直徑約為 50 μηι)施加有深度為5〜1〇 μιη之蜂窩狀孔的壓花輥2ι進行 輥壓之情形時，藉由調整壓花輥21之溫度與壓力，可轉印 形成轉印凸量為2〜6 μηι之圓頂狀結構體lla。進而，若於 其轉印面塗佈硬塗劑13並使其乾燥、硬化，則可獲得沿著 基材11之凹凸狀而具有正弦曲線狀之平滑波紋的表面形 狀。此時，僅控制塗佈厚度就可獲得近乎理想之擴散反射 特性。藉由如上所述般操作，可於硬塗層表面形成對高防 眩及低白濁而言較為重要之平滑波紋。又，可簡單地控制 擴散反射特性。進而，作為光學薄膜，期望無缺陷，此方 面亦可同時滿足。 又，為明確防眩性（擴散反射特性），而於壓花觀之表 面形成規則排列之凹凸圖案。通常所使用之噴砂之情形 時，凹凸為三維，因此除了以算術平均粗度來表現表面形 狀以外無其他方法。進而，若於其喷砂面塗佈硬塗層，則 139457.doc -22· 201007205 雖可確認防眩性，但存在由於硬塗層塗料之黏度及表面張 力而導致基材上之較小凹凸被硬塗層埋沒之弊端，因此迄 今為止難以規定表現出防眩性之表面形狀。相對於此，於 該第1實施形態中，藉由使用深度固定且規則排列之凹凸 圖案版進行壓花轉印，而使高度相同之突起形成於基材表 面’藉由使硬塗劑13之塗佈厚度變化，可使與表面所產生 之振幅A/波長λ所對應之防眩性（擴散反射特性）的關係明 確。 又，藉由喷砂進行轉印之情形時，表面凹凸量容易變得 不均勻’相對較小之凹凸部分容易由於硬塗層塗佈被埋沒 而變平坦。因此，不得不嚴密控制用以表現防眩性之塗佈 厚度，自生產性之觀點考慮，更好的是使用凹凸高度固定 之壓花輥進行轉印。 (2)第2實施形態 圖7係表示本發明第2實施形態之光學薄膜之構成之一例 的剖面圖。如圖7所示，該光學薄膜於在基材1]L與硬塗層 U之間設置有抗靜電層14之方面與第1實施形態不同。基 材11及硬塗層12與上述第1實施形態相同，因此附記相同 符號並省略其說明。 抗静電層14含有樹脂及抗靜電劑。視需要可於抗靜電層 中含有光穩定劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、難燃劑、抗 氧化劑及黏度調整劑等添加劑。作為樹脂及抗靜電劑，可 使用與第1實施形態之硬塗層12相同者。 於該第2實施形態中，於基材11與硬塗層12之間設置抗 139457.doc -23- 201007205 靜電層14，因此可獲得具有高防眩性、高對比度、耐擦傷 性及抗靜電功能之光學薄膜。 (3)第3實施形態 圖8係表示本發明第3實施形態之光學薄膜之構成之一例 的剖面圖。如圖8所示，該光學薄膜丨於硬塗層12上具備抗 反射層15之方面與第丨實施形態不同。基材n及硬塗層12 與上述第1實施形態相同，因此附記相同符號並省略其說 明。 ' 作為抗反射層15，例如可使用含有中空微粒子之低折射 率層、或含有氟系樹脂之低折射率層。作為中空微粒子， 可列舉：二氧化矽、氧化鋁等之無機微粒子，或苯乙烯、 丙稀酸等之有機微粒子，尤其好的是：氧化⑦微粒子。該 中空微粒子於内部含有空氣，因此其自身之折射率低於通 常之粒子。例如二氧切微粒子之折射率= 1.46，相對於 此，中空二氧化矽微粒子之折射率$〖Μ。 於汶第3貫施形態中，於硬塗層12上設置抗反射層〗5, 因此與第1實施形態相比可提高防眩性。 [實施例] 以下，利用貫施例對本發明進行具體說明，但本發明並 非僅限定於該等實施例。 於本實施例中’使用圖4所示之壓花轉印裝置，對作為 基材之薄膜轉印壓|匕。以下，對本實施例中使用之壓花轉 印裝置進行說明。 於壓彳b輥之表面進行氧化鉻之陶瓷喷塗，研磨後實施 139457.doc 201007205 500線/inch之C〇2雷射雕刻，藉此形成平均直徑約為π μπι、深度為10 μπι之蜂窩孔壓花版。又，壓花輥中内置加 熱用加熱器，可將溫度調節至200。(：以上。 背壓軋輥係於鐵輥表面繞上硬度為JIS_D90度之橡膠並 進行研磨精加工，使用水冷之冷卻輥及空氣冷卻喷嘴。以 於壓花輥與背壓軋輥之間夾持有8〇 μιη厚之三乙醯纖維素 (TAC)薄膜之狀態連續旋轉，並且進行加熱、加壓。若以 • 低溫、低壓之條件進行壓花，則無法沿著接觸之壓花壁以 • 薄膜表面附有壓痕之程度而形成圓頂狀突起。另一方面， 高溫、高壓下，雖轉印量大但薄膜發生熱變形，無法擭得 . 良好之產品。線壓越高則轉印量越增加，但輥之彎曲增 ， 大，由此寬度方向上無法獲得均勻之線壓，故伴隨有經濟 性的判斷。因此，重要的是找出基材之物性、尺寸方面最 佳之壓花條件。 .凹凸圖案係形成於壓花輥之表面，於本實施例中，為明 籲 確防眩〖生（擴散反射特性）而形成規則排列之凹凸圖案:通 常所使用之喷砂之情形時，凹凸係三維地形成，因此除了 以算術平均粗度來表現表面形狀以外無其他方法。進而， 若於其噴砂面塗佈硬塗層，則雖可確認防眩性，但存在由 於硬塗劑之黏度及表面張力而薄膜上之較小凹凸被硬塗層 埋沒之弊端’因此迄今為止難以規定表現出防眩性之表面 形狀。 於本實施例中，藉由使用深度固定且規則排列之凹㈣ 案版進行壓花轉印，而使高度相同之結構體形成於薄膜表 139457.doc -25- 201007205 面’藉由使硬塗層之塗佈厚度變化，可明確與表面所產生 之最大振幅A/最小波長λ所對應之防眩性（擴散反射特性）的 關係。 (實施例1) 首先’於加熱至180°C之壓花輥與冷卻至50^之背壓軋 輥之間夾持有80 μπι厚之三乙醯纖維素（TAC)薄膜之狀態下 連續旋轉輥’並且以2000 N/cm之線壓夾持而將壓花棍之 凹凸狀連續轉印至TAC薄膜表面。其後，將80重量份之丙 烯酸胺基甲酸酯低聚物、20重量份之乾燥硬化型丙烯酸聚 合物、及5重量份之反應起始劑IRG-184混合於乙酸丁酯 中’製備硬塗劑，利用線棒將該硬塗劑塗佈於TAC薄膜之 凹凸面上。此時’藉由選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固 形物之組合，而使硬塗劑乾燥、硬化後最大振幅A/最小波 長λ為0.0108。其次’於8〇°C乾燥爐中使溶劑揮發後，搬 送至紫外線硬化爐中，以功率為丨6〇 w、累計光量為3〇〇 mJ/cm2而進行紫外線硬化，藉此製作目標光學薄膜。 (實施例2) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 取大振幅A/最小波長λ為0.0098以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 (實施例3) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅Α/最小波長λ為0.0071以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 139457.doc -26- 201007205 (實施例4) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅入/最小波長λ為0.0051以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄臈。 (實施例5) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅Α/最小波長λ為0.0027以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 -胃 （實施例6) 首先’以與實施例1相同之方式獲得轉印有凹凸狀之薄 膜。其次’以1 : 1之體積比將粒徑為3〇 nm之ΑΤΟ(摻绨氧 化錫）與作為UV(ultraviolet ’紫外線）樹脂之胺基甲酸酯丙 烯酸低聚物混合而獲得分散塗料（IPA分散體）。以使乾燥後 之平均膜厚為300 nm之方式將該分散塗料塗佈於TAC薄膜 上並進行乾燥’藉此形成抗靜電層。其次’以與實施例1 相同之方式將硬塗劑塗佈於TAC薄膜上並進行硬化，製作 光學薄膜。 (實施例7) 以使固形物為40%之方式將1 〇〇重量份之uv硬化胺基甲 酸醋丙烯酸低聚物、5重量份之反應起始劑IRG·丨84、及4〇 重罝伤之五氧化一録微粒子（粒徑為30 nm)添加於 MIBK(methyl isobutyl ketone’ 甲基異 丁基酮）/IPA(is〇pr〇pyl alcohol，異丙醇）=1/1之混合溶劑中，進行混合攪拌而獲 得硬塗劑。除使用該硬塗劑以外’以與實施例1相同之方 139457.doc -27- 201007205 式製作光學薄膜。 (比較例1) 將5重量份之粒徑為5〜7 μιη且平均粒徑為6 μιη之苯乙烯 微粒子、100重量份之紫外線硬化型四官能胺基甲酸酯丙 烯酸低聚物、及5重量份之作為光反應起始劑2Irgacure 184添加至第三丁醇中，進行攪拌，製備4〇%丁醇溶液。 其後，以孔徑為50 μιη之篩網過濾器進行過濾而製作塗 料。其次，利用凹版塗佈機將過濾之塗料塗佈於厚度為8〇 μηι之TAC薄膜上後，使薄臈於乾燥溫度設定為8(Γ(：之乾燥 爐中乾燥。其後，將薄膜自乾燥爐連續搬送至紫外線硬化 爐’以功率為160 W、累計光量為3〇〇 mj/cm2之條件照射 紫外線’於TAC薄膜上形成硬化後之平均膜厚為8 μηι之防 眩層。藉由以上操作而製作目標光學薄膜。 (比較例2) 除了省略塗佈硬塗劑之步驟以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 (比較例3) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅Α/最小波長λ為〇.〇 162以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 (比較例4) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅Α/最小波長λ為0.0137以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 139457.doc -28 - 201007205 (比較例5) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅A/最小波長χ為0 0! 27以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 (比較例6) 除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使 最大振幅A/最小波長χ為0 0〇2〇以外，以與實施例1相同之 方式製作光學薄膜。 對以如上方式製作之實施例、及比較例的光學薄膜測定 評價凹凸狀（最大振幅Α/最小波長λ)、擴散反射特性、白濁 度、防眩性、全部光線透射率、霧度、及内部霧度。 <凹凸狀之評價> 使用Lasertec公司製造之雷射顯微鏡，測定凹凸狀、高 度差、振幅、最大振幅A/最小波長λ。其結果記於表1。 又，作為代表形狀例，將實施例3、比較例2、比較例3之 測定形狀示於圖9。又，對TAC薄膜之壓花轉印所使用之 壓花輥之壓花形狀、及實施例丨之光學薄膜之壓花形狀拍 攝照片。其結果示於圖1〇、圖丨j。 <擴散反射特性之評價> 為抑制背面反射之影響，將光學薄膜經由黏著劑貼合於 黑色壓克力板而作為評價樣品。將其安裝於配光測定器 GP-l-3D(0ptec公司製造）中’對樣品面自_5。方向照射寧直 之入射光，將正反射方向設為〇。而自_5。至3〇。進行掃插， 於暗室條件下求出反射錢度，評價擴散反射特性。作為 139457.doc -29- 201007205 代表例，將實施例3、比較例丨、比較例3之結果示於圖 12。计算表示反射光強度之縱軸之增益時，對由硫酸鋇構 成之標準擴散板進行相同評價，將其正反射方向上之反射 光強度设為1，將實施例i、比較例丨、比較例3之光學薄膜 之偏離正反射方向20。之方向上的反射光強度加以標準化 而求出。 <白濁度之評價> 為抑制背面反射之影響，將光學薄膜經由黏著劑貼合於 黑色壓克力板而作為評價樣品。其次，使用X Rite公司製 化之積分球型分光光譜儀SP64，將擴散光照射至試料表 面，利用d/8。光學系統進行測定，即，使用自試料法線方 向朝8方向傾斜之位置上所存在之檢測器來測定反射光。 測疋值係採用除去正反射成分而僅檢測擴散反射成分之 SPEX模式’以2。之檢測視角來進行。再者，本測定之白 屬度係藉由實驗來確認與視覺上感受到之白濁感相關。其 結果不於表1。又，最大振幅A/最小波長λ與白濁度之關係 示於圖13。 <防眩性之評價> 使明露之螢光燈映在光學薄膜上，以下述基準對反射像 之模糊情況進行評價。其結果示於表1。 ◎:螢光燈之輪廓不清楚（2根螢光燈看成丨根） 〇 :可於某種程度上辨別出螢光燈，但輪廓模糊 χ·螢光燈直接映出 <全部光線透射率、霧度、内部霧度之評價> 139457.doc 201007205 依據JIS Κ-7361、JISK Κ-7136，使用村上色彩製造之 ΗΜ-1 50測定全部光線透射率、霧度。内部霧度係經由透 明黏著劑將TAC薄膜貼合於光學薄膜表面後測定霧度，並 減去所貼合之TAC之霧度而進行測定（去除表面之霧度部 分）。其結果示於表1。 <鉛筆硬度之評價> 將光學薄膜貼附於玻璃板上，依據JIS Κ-5400之鉛筆硬 度試驗方法進行評價。其結果示於表1。

〈電阻之評價> 使用電阻率計（三菱化學公司製造，商品名：Hiresta UP)，將MCP探針按壓於防眩層表面，藉此測定表面電 阻。再者，電阻之測定環境為23°C、60% RH，施加電壓 為1000 V。其結果示於表2。 表1及表2中表示上述各評價之結果。 (表1) 比率 Α/λ 防眩性 白濁度 (%) 全部光線透 射率(°/。） 霧度 (%) 内部霧 度(％) 鉛筆硬度 實施例1 0.0108 ◎ 0.64 92.3 1 0.2 2Η 實施例2 0.0098 ◎ 0.57 92.3 1.1 0.3 2Η 實施例3 0.0071 ◎ 0.42 92.3 0.9 0.2 2Η 實施例4 0.0051 〇 0.28 92.2 1.1 0.3 2Η 實施例5 0.0027 〇 0.22 92.2 1 0.2 2Η 比較例1 〇 0.65 91.3 11.2 5.9 2Η 比較例2 0.125 ◎ 3.85 90.8 15.1 0.3 Β 比較例3 0.0162 ◎ 1.05 92.2 1.3 0.2 2Η 比較例4 0.0137 ◎ 0.88 92.2 1.3 0.2 2Η 比較例5 0.0127 ◎ 0.85 92.2 1.2 0.2 2Η 比較例6 0.002 X 0.17 92.5 1 0.3 2Η 139457.doc •31 · 201007205 (表2) 表面電阻(Ω/sq) 實施例1 1014以上 實施例6 1.30X1010 實施例7 3.80X109 由上述評價結果可知以下情況。 若比較實施例3、比較例1、比較例3之白濁度（表1)與擴 散反射特性（圖12)，則白濁感可藉由減少自、 « i久射方向朝 廣角擴散之光成分強度而減少。

可知，實施例3、t匕較例3之擴散反射特性與藉由微粒子 於表面形成凹凸狀之比較例i相比，於某個角度光強度急 遽減少。其表示，實施例3之光學薄膜與比較例丨所示之^ 學薄膜相比，更可於維持防眩度之狀態下抑制白濁感。 ▲藉由使樹m塗佈厚度變化，可於維持波㈣狀之狀 態下簡單地控制最大振幅A/最小波長λ。 由實施例卜5、比較例2〜6可知，藉由將該最大振幅竭

小波長λ設為0.00254^，可於維持防眩性之狀態下使白 濁度為0.7以下。 於實施例1〜5中’硬塗層中不含微粒子，因此必然霧度 較小，全部光線透射率變大。如此，實施例卜5之光學薄 膜藉由高透明性與白濁度之組合而表現純高之對比 度。 對於位於顯示器最表面之八(5薄膜而言，為保護顯示器 表面而亦需求作為硬塗層之特十生，而如表】之鉛筆強度之 評價結果所示’ TAC薄膜柔軟(比較例2)，因此必需硬塗 139457.doc -32- 201007205 層。若於形狀轉印之TAC薄膜表面塗佈硬塗劑，則凹凸差 減少，故為獲得所需之防眩性、白濁度，必須預先使轉印 TAC薄膜之凹凸差大於最表面之凹凸差。 若如實施例6、7所述般，則可製造賦予有抗靜電功能之 光學薄膜》 (試驗例） 將壓花輥改為（通過2〇〇線/吋之網格而製作）噴砂輕進行 轉印後，同樣地塗佈硬塗劑。將喷砂輥、雷射雕刻輥之防 眩性與塗佈厚度之關係示於圖14並比較兩者。 <塗佈厚度之評價> 於未轉印之平坦TAC薄膜上塗佈樹脂，使用接觸式厚度 測定器（TESA股份有限公司製造）進行測定。 由圖14可知對於利用喷砂輥轉印之光學薄膜之防眩性 而言’於塗佈厚度為4〜6 μιη附近防眩性急遽消失，相對於 此，利用凹凸高度固定之雷射雕刻輥轉印之光學薄膜的防 眩性係於塗佈厚度7〜12 μπΐ2間穩定地維持。因此，自容 易以較高之狀態維持防眩性且生產性佳之觀點考慮，更理 想的是利用雷射雕刻輥轉印之光學薄膜。 由以上内容可知，根據本發明之光學薄膜及其製造方 法’可實現高防眩且高對比度、表面硬度亦優異之理想光 學薄膜。 以上’對本發明之實施形態及實施例進行了具體說明， 但本發明並不限定於上述實施形態及實施例，可根據本發 明之技術思想進行各種變形。 139457.doc -33· 201007205 例如，上述實施形態及實施例中列舉之數值、形狀、及 構成等僅為例示，視需要亦可使用與其不同之數值、形 狀、及構成等。 又，只要不偏離本發明之主旨，上述第丨〜第3實施形態 之各構成可互相組合。 又，於上述實施形態中，以對液晶顯示器之顯示面所具 備之光學薄膜及其製造方法應用本發明之情形為例進行了 說明，但本發明並不限定於此，可應用於cRT(Cath〇de 尺叮TUbe，陰極射線管）顯示器、電漿顯示器（Plasma Display Panel : PDP)、電致發光（Electr〇 EL) ,‘„員不盗、表面傳導型電子發射元件顯示器（^以^卜 C〇ndUCt_ Electr〇n_emiUer Display : sed)等各種顯示裝 置之顯示面所使用之光學薄膜及其製造方法。X，本發明 對顯7F裝置之大小並無特別限定，本發明可應用於小型至 大型之所有顯示裝置。 又，於上述實施形態中，亦可於壓花轉印步驟後、塗敷 硬塗齊!步驟别’對轉印有壓花形狀之基材i 1實施單抽延伸 處或雙軸延伸處理。藉由如此般實施延仲處理，可將結 構體1 1 a於一個方十—/m -1-， 内成一個方向上延伸，對結構體11a賦予 开v H 。例如’可藉由單轴延伸處理而使結構體U a 之形狀自圓錐台狀變形成橢圓錐台狀。 【圖式簡單說明】 圖係表tf本發明第i實施$ u㈣ 一例的概略剖面圖； 139457.doc 201007205 圖2係表示本發明第1實施形態之光學薄膜之構成之一例 的概略剖面圖； 圖3 A係表示基材之凹凸狀之一例的平面圖，圖3B係圖 3 A所示之基材之沿著B-B線的剖面圖’圖3C係圖3 A所示之 基材之沿著C-C線的刮面圖； 圖4係表示本發明第1實施形態之光學薄膜之製造方法中 使用的壓花轉印裝置之構成之一例的概略圖； 圖5A係表示壓花輥之凹凸狀之一例的平面圖，圖5B係 圖5A所示之壓花輥之沿著B-B線的剖面圖，圖5C係圖5A所 示之壓花輥之沿著C-C線的剖面圖； 圖6A〜圖6C係表示本發明第1實施形態之光學薄膜之製 造方法之一例的步驟圖； 圖7係表示本發明第2實施形態之液晶顯示裝置之構成之 一例的概略剖面圖； 圖8係表示本發明第3實施形態之液晶顯示裝置之構成之 一例的概略剖面圖； 圖9A〜圖9C係表示實施例3、比較例2、及比較例3之光 學薄膜之剖面形狀的圖； 圖1〇係表示壓花輥之壓花形狀之照片； 圖11係表示實施例1之光學薄膜之壓花形狀的照片； 圖12係表示實施例3 '比較例1、及比較例3之擴散反射 特性的圖表； 圖13係表示最大振幅A/最小波長人與白濁度之關係的圖 表；及 139457.doc •35· 201007205 圖14係表示塗佈厚度與防眩性之關係的圖表。 【主要元件符號說明】 1 光學薄膜 2 液晶面板 2a ' 2b 偏光元件 3 背光源 11 基材 11a 結構體 lib 結構體間 12 硬塗層 13 硬塗劑 14 抗靜電層 15 抗反射層 21 壓花輥 22 背壓軋輥 139457.doc -36-

Claims (1)

1. 201007205 七、申請專利範圍： 1. 一種光學薄膜，其具備： 凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及 於上述基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且 於上述硬塗層表面，仿照上述基材表面之結構體而形 成有連續之波面： 上述連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定； • 上述最大振幅Α與上述最小波長λ之比率（Α/λ)超過 ·· 0.002且為 〇.〇11 以下。 2 ·如叫求項1之光學薄膜，其中沿著將鄰接之上述結搆體 • 之頂點連結的線段而切斷之硬塗層的剖面為連續波形。 .3·如請求項2之光學薄膜，其中上述剖面為正弦波狀。 4.如請求項丨之光學薄膜，其中上述結構體係配設為六角 狀。 5_如凊求項1之光學薄膜，其中上述結構體係規則地配設 φ 於自任意結構體之頂點觀察為不同之兩個方向上， 沿著上述不同之兩個方向切斷之硬塗層的剖面為連續 波形。 6. 如叫求項i之光學薄膜，其中上述結構體為半圓球狀、 錐體狀或柱狀。 7. 如咕求項i之光學薄膜，其中全部光線透射率為以 上，霧度為1.5%以下，内部霧度為〇.5%以下，白濁度為 0.7%以下。 8. 如4求項i之光學薄膜，其中上述基材表面之結構體係 139457.doc 201007205 壓花形成， 上述結構體之高度大致相同。 9·如請求们之光學薄膜’其中上述基材之折射率大於上 述硬塗層之折射率。 10.如請求項丨之光學薄膜，其中上述基材係以三乙醯纖維 素聚對苯一曱酸乙二酯、環烯烴、及苯乙烯_丁二烯共 聚物中之任一種作為主成分。 11 ·如明求項1之光學薄膜，其中上述硬塗層係以熱硬化型 樹脂及紫外線硬化型樹脂之至少一種作為主成分。 12. 如凊求項i之光學薄膜，其中上述硬塗層含有抗靜電 劑。 13. 如睛求項丨之光學薄膜，其進而具備形成於上述基材與 上述硬塗層之間之抗靜電層。 14. 如請求項1之光學薄膜’其進而具備形成於上述硬塗層 上之抗反射層。 15. 如請求項丨之光學薄膜，其中上述基材表面之凹凸量大 於上述硬塗層表面之凹凸量。 16. —種光學薄膜之製造方法，其具備以下步驟： 將凸狀之結構體呈二維且規則地形成於基材表面；及 於上述基材之形成有結構體之面上塗佈硬塗劑並使其 硬化，藉此形成硬塗層；且 於上述硬塗層表面，仿照上述基材表面之結構體而形 成有連續之波面； 上述連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定； I39457.doc 201007205 上述最大振幅A與上述最小波長人之比率（Α/χ)超過 0.002且為o.oii以下。 17. 如請求項16之光學薄膜之製造方法，其中於形成上述硬 塗層之步驟中，係藉由塗佈於上述基材之形成有結構體 之面上的硬塗劑之厚度以控制上述比率（Α/λ)。 18. 如請求項16之光學薄膜之製造方法，其中於上述基材表 面形成結構體之步驟中，係以壓花輥於上述基材表面轉 印凹凸狀’藉此於上述基材表面形成結構體。 19· 一種防眩性偏光元件，其具備： 偏光元件，及 設置於上述偏光元件上之光學薄膜；且 上述光學薄膜具備： 凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及 於上述基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且 於上述硬塗層表面，仿照上述基材表面之結構體而 形成有連續之波面； 上述連續之波面之最大振幅Α及最小波長λ大致固 定； 上述最大振幅Α與上述最小波長λ之比率（Α/λ)超過 0.002且為0.011以下。 20. —種顯示裝置，其具備： 顯示圖像之顯示部，及 設置於上述顯示部之顯示面側之光學薄膜；且 上述光學薄膜具備： 139457.doc 201007205 凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及 於上述基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且 於上述硬塗層表面，仿照上述基材表面之結構體而 形成有連續之波面； 上述連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固 定； 上述最大振幅Α與上述最小波長人之比率（Α/λ)超過 0.002且為0.011以下。 139457.doc