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TW200914203A - Abrasive for blast processing and blast processing method employing the same - Google Patents

Abrasive for blast processing and blast processing method employing the same Download PDF

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TW200914203A
TW200914203A TW097122480A TW97122480A TW200914203A TW 200914203 A TW200914203 A TW 200914203A TW 097122480 A TW097122480 A TW 097122480A TW 97122480 A TW97122480 A TW 97122480A TW 200914203 A TW200914203 A TW 200914203A
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TW
Taiwan
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abrasive
product
carrier
plate
treated
Prior art date
Application number
TW097122480A
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English (en)
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TWI436861B (zh
Inventor
Keiji Mase
Original Assignee
Fuji Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Fuji Mfg Co Ltd filed Critical Fuji Mfg Co Ltd
Publication of TW200914203A publication Critical patent/TW200914203A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI436861B publication Critical patent/TWI436861B/zh

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/08Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives
    • B24C1/083Deburring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C11/00Selection of abrasive materials or additives for abrasive blasts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

200914203 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關一種在喷砂加工中所使用之研磨料及一種 使用該研磨料之喷砂加工方法。更特別地是,本發明有關 一種用於喷砂加工之研磨料,該研磨料被使用於藉由喷砂 加工而加工一工件之表面,以便提供一平滑之表面處理、 一像反射鏡之表面處理、一像發光之表面處理、一有光澤 之表面處理等,且有關一使用此研磨料之喷砂加工方法, 以便提供一平滑之表面處理、—像反射鏡之表面處理、一 像發光之表面處理、一有光澤之表面處理等。 再者,本發明之“喷砂加工方法”不只包括一空氣噴 砂方法,諸如-濕式噴砂方法或乾式喷砂方法,其中包含 壓縮空氣等之壓縮流體被利用於該研磨料之射出中,同時 本發明亦可包括廣泛的各種噴砂方法,藉此方法該研磨料 係以預定射出料及射出角度彳目料該卫件之加工表面射 :’諸如一離心式方法(推進器型式),其中-推進器被旋 =提供離心力至該研磨料供其射d沖壓式方法 私山”中—沖壓轉子被使用於往下沖壓在該研磨料上供其 射出。 【先前技術】 滚齒程中…一刀尖塊、-端銑刀、-銑刀、-割之面積係ί刀等被用作m具,可於—次操作中切 據此,當在二限於該切割卫具之齒輪齒部寬度的尺寸等。 田w卫件上之—相當大面積上進行一切割製程 200914203 寺該切割工具必需在一預定節距被反覆地進刀且該製 程必需被持續複數次’以便加寬其切割面積。 因此’於一以該方式切割的產〇口口之經加卫的切割表面 中,加工壓痕、稱為“切割痕跡”或“工具痕跡,,等回應 ;*斤,及之切割工具的進刀節距所發生,造成範圍由 數微=至1毫米的不均勻部分形成在其中(見卜4及5)。 田該產°°被組裝,而這些加工壓痕已經發生在其中, 如其零組件被纟且妒# iHr τ® ΛΑ* J- ▲ 凌成—裝置等時,於該裝置之持續使用期 等藉由加工壓痕所造成的不均勻部分之中的不規則 部分被磨平及切割,以減少其突出長度。據此,該零組件 之正個尺寸係亦減少’ #此在該產品及其他元件之間產生 過大之間隙及導致諸問冑,諸如不能達成該想要之性能。 、如此,如上面所述,於該切割製程所發生之加工壓痕 义而被移去,以便在該切害彳製程之後使該產品之表面變平 坦〇 再者,當加工之物體係一金屬模子時,此模子之加工 大致上係透過一藉由機械加工中心所施行之切割製程 放電機械加工方法所進行。,然而,既然、-藉由這些方法 所加工之模子的表面㈣度,係在透過—機械加工中 放電機器加工法加工兮y 2 k ± A ^ 加工該杈子的表面之後增加,其必需被平 滑加工至該想要之表面粗糙度。 此平滑加工製程傳統上係藉由以諸如砂紙或砂布 —研磨石等之研磨料丑 取 磨科拋先,或以一擦光輪拋光丨研光;兹 由與轉動的研磨砂教M q ’曆Η立間之接觸而拋光;藉由已被施加超音 200914203 波震動的研磨砂粒間之接觸而抛光等所進行。然而,既然 這些操作典型被手動地執行,它們需要一熟練之操作員’、、 以及一相當可觀之時間量。 再者,該製成品之條件視每一個別操作員之技巧而有 所不同。再者,當待處理之產品具有一複雜之形狀時,直 加工變得極為困難。據此,這些整平製程之自動化、其諸 項成本中之減少、及加工精確度中之變動的預防係亦需要 的。 此外’關於-用於樹脂射出成形之金屬模子,該金屬 模子之分離表面的邊緣部分有時候係喪失,從而被製圓, 此視製造該金屬模子之方、车品a m 之方去而疋。因此,當使用此模子施 行射出成形時,該樹月旨注射進入其邊緣部分,其結果是, Γ::::刀!1線性毛邊係形成在該等部分中’該樹脂在釋 放该模製產品之後注射進入該等部分。 /在該模製產品中發生之不規則部分或毛邊於模製之 後,被-操作員藉由以一铣刀切割或擦光而手動地移去。 然而’不只此手動地操作製程係、無效率的,同時1 安t的’特別是因μ於以-铣刀移去該等毛邊或不規則 部分2此操作w著對該铣刀之操作員造成傷害的風險。 康此,一此藉此安全及有效率地移去上述所述的 或不規則部分的方法之發展係亦高度想要的。 再者,藉由使用諸如拋光該金屬模子的 生在該產品中之毛邊等程序中的嘴砂加工,其允許=發 移除及透過該被射出研磨砂粒之切割力而抛光。該邊: 200914203 工可被相當輕易地應用,甚至在此待處理之產品具有一複 雜形狀之情況。 然而’關於一藉由傳統喷砂加工方法所處理之工件的 表面,當該等研磨砂粒隨其被轟擊時,壓痕係形成在該產 品之表面中。因此,既然這些壓痕造成該表面上之像緞子 般表面處理的形成,該噴砂製程不能在加工之後被應用至 理心目‘為一平滑之產品表面,或提供具有一像反射鏡之 表面處理的產品,但縱使其可被應用,其將需要一製程, 藉此在移除毛邊等之後可由該噴砂加工發生之像緞子般表 面處理等被額外地加工。 據此,當施行傳統之喷砂加工時,待處理之產品的表 面係叹有一像锻子般之表面處理,以致一平滑之表面處 理、像反射鏡之表面處理、像發光之表面處理、或有光澤 之表面處理不能施加至該I件之被加I的表面。在另一方 面不“寺處理之產品的形狀等,一能被相當輕易地施行 之喷砂加工方法具有不同之可適用的優點,甚至當待處理 之產品的形狀係一相當複雜的形狀時。 盆如&本發明提供一用於噴砂加工之新穎的研磨料, 其中-平滑之表面處理、一像反射鏡之表面處理、一像發 一 處理或一有光澤之表面處理係施加至該待處理 的表面,且提供一使用此研磨料之噴砂加工方法。 被承亦已提出—用於噴砂加卫之方法m系使用 :承載在-包括橡膠彈性體等的載體上之研磨砂粒(在下文 ,忒研磨料將被稱為“彈性研磨料,’ ’其中 200914203 係以此方式承载在該彈性載體上), 上),且藉由在一角度將此彈
處理,並允許該研磨料沿著該待處 以致此提供一平坦、赤偾g私姑 "孰此杈供一平坦、或像反射鏡之表面處理等。 再者,關於由橡膠所形成而用作該彈性體之載體係藉 由在一相對其傾斜之角度將研磨砂粒射出至一工件之表面 上,用於以研磨粉研磨工件之表面的研磨方法,該等研磨 砂粒係藉由將該研磨粉黏著至由天然植物性纖維所形成之 彈性多孔載體、且然後與一研磨液體混合所製成,以之撞 擊在該工件之表面上,造成該研磨砂粒滑動在該工件之表 面▲上’同日夺料研磨砂粒被允許變形。(見日本未審查專利 申研公開案第H9-314468號,申請專利範圍第i項)。 根據該上面所論及之方法,該等研磨砂粒藉由該研磨 液體之潤滑作用而在該工件之表面上滑動,同時當撞擊在 該工件之表面上時使該載體彈性地變形,以致該工件可遍 及該等研磨砂粒所推進之距離被平滑地表面處理(見日本未 審查專利申請公開案第Η9·3 14468號,段落[〇〇〇6])。 再者,關於該彈性研磨料之構形,問題存在於當一載 體係由橡膠所形成時,待處理之產品的表面變得像緞子般 (曰本專利第3376334號,段落[0003]),且當一載體係由植 物性纖維所形成時,即使待處理之產品的將被研磨之表面 係幾乎抛光至一像反射鏡之表面處理,當該載體包含水 200914203 時’-旦該載體内之水由在拋光之時所產生的熱量而蒸 發’如此減少該載體之彈性及黏性,該待處理之產品係設 有一像锻子般之表面處理,且該載體之回收比率係因為該 載體之破壞而減少(日本專利第3376334號,段落[〇〇〇4])。 如此,提供一使用彈性研磨料之喷砂加工方法,其中一彈 性研磨料包括保水載體,研磨砂粒係藉由與在其中包含水 有關之黏著力附著在該等保水載體上,該等保水載體係由 一包含防止蒸發劑之明膠所形成(日本專利第3376334號, 申請專利範圍第1項,與段落[0004])。 如上面所論及,於-使用上面敘述之傳統技藝的彈性 研磨料之噴砂方法中’ #由採用一彈性研磨料,其中一研 磨砂粒被承载在一載體本體上,該載體本體係一彈性本 體’甚至當該彈性研磨料以待處理之產品轟擊時’由於該 °°研磨料之彈性變形的結果,壓痕係形成在該待處理之 產品的表面上。據此’ #由沿著該待處理之產品的表面滑 動轉性研磨料’同時防止該待處理之產品的表面變成像 緞子般,一預定拋光製程能被施行。 如此’藉由使用該彈性研磨料施行該噴砂加工,一像 發光之表面處J里# •止1 次有先澤之表面處理能被提供至該待處理 之產品的後加工矣r. l 面上’且▲對一產品進行喷砂加工時, 其中回應於該切割工具之進刀節距而發生加工麼痕,由該
表面粗糖度之浊欠& + A A 皮的底部(最大波谷深度)至該波峰(最大波 )Ο度肖b被減少,以致關於該加工前的表面條件, 其表面可被製成為相當平坦的。 11 200914203 然而,關於一產品的後加工表面,其中使用該彈性研 磨料’如上面所述,即使由該波谷之底部至該波峰的頂部 之粗輪度曲線的高度能被減少,甚至在加工之後,該加工 前的粗糙度曲線的波峰及波谷之圖案的外觀保持相同。 之後’其被確認該後加工產品的表面粗縫度之波谷的 /木度係比該加工前產品的表面粗糙度之波谷的深度更深, 且因此,不只是該等波峰被移除’同時該等波谷 地切割(參考圖2及3)。 5 採用此型式之彈性研磨料的喷砂加工之問題係,為了 完全地消除該待處理之產品的表面中之所有該等不規則部 刀,隨著切割該粗糙度曲線之諸波峰,該等波谷亦不可避 免地被切除,且如此被加深。 再者,如果該加工時間係增加,以便消除該等表面不 見則邛刀,一待處理之產品的被切除數量係亦增加,因此 使侍其難以用正確之精緻的尺寸,加工該待處理之產品。 I 據此,本發明的一目的係提供用於喷砂加工之研磨料 採用此研磨料之噴砂加工方法’其已被製成解決該相關 技藝之上面問題,而能夠消除一待處理之產品的表面中之 不規則部分,該等不規則部分係難以藉由一傳統之彈性研 / ;斗斤/肖除而且如果在此使用本發明之彈性研磨料,在 該待處理之產品的表面上防止一像鍛子般表面處理之形 成。 【發明内容】 於以下發明内容的說明中,參考數字係以具體實施例 12 200914203 引作例證,以便輕易地閱讀本發明,然而,這些數字係不 欲將本發明限制於該具體實施例。 為達成上面之目的,-用於本發明之喷砂加工的研磨 料之特徵為具有一設有平坦表面之板塊形狀,其中該研磨 料之平坦表面的最大直徑(MD)係於〇.05毫米至1〇毫米之 範圍中’較佳地是於(M毫米至8毫米之範圍中,且最大直 徑為該研磨料之厚度⑺的Μ至⑽倍、較佳地係2至90 倍(MD=0.05毫米至1〇毫米=1.5至100Τ)。 具有上面構形之研磨料可包括一具有平坦表面之板形 載體、及—被承載在該載體之平坦表面的至少一側面上之 研磨砂粒。 再者,一紙張可被當作該載體使用。 去:研磨砂粒可憑藉-黏著劑被承載在該載體上。再 ’ -研磨砂粒可被分散在一具有該平坦表面之 體 中0 :該等研磨砂粒係分散在該載體中時,該載體可為一 弹本體、諸如橡膠或樹脂材料。 馨者為了目視地測定本發明中之研磨砂粒的粒徑, 於太I使7者色劑’諸如氧化鈦粉末、氧化鋅粉末、碳黑 ;:妷柘末、矽石粉末、雲母粉末、或鋁粉末、金屬 款=化鐵、偶氮染料m料(anthraquin_dye)、 -枓、硫化物染料、酞青素染料(phthai〇cyanine㈣ 心二無機或有機之顏料。再者一勞光著色劑可為盘 料化合成該研磨料,且-芳香劑或抗細菌劑也同樣 13 200914203 可被進一步化合。 —根據本發明之喷砂加工方法的特徵 T m馬具有該構形之 研磨料係以相對於一待處理之產品的表面傾斜的一 度射出。 月 一根據本發明之喷砂加工方法的特徵為包括以—個相 對於-待處理之產品的表面傾斜的_人射角度射出—具有 平坦表面之板形的研磨料,#中,該平坦表面之最大直炉 (MD)係於0.05毫米至1〇毫米之範圍中,且該最大直" 該研磨料之厚度⑺的1>5至⑽倍(M㈣〇5毫米至 米=1.5 至 100T)。 較佳地是’可使用具有該平坦表面之最大直徑的研磨 料’該最大直徑係為顯現於表面粗輪度中之不規則部分的 平均間隔(Sm)之至少三倍,該平均 〆丁叼間隔係藉由一平均線及 粗糙度曲線間之交點所決定的浊 疋旳皮合及波峰間之間隔的平 值。 特別地是,如藉由JIS'94標進恥R & 知旱所界定,4.0毫米之測量 長度、0.8毫米之截止波長、4奈半★ 4 7丄 宅水之坪估長度、及每秒0.3 毫米之測量速率被用作參數。 較佳地是’該研磨料之射屮 Μ出係以相對於待處理之產品 之小於80度的入射角度進行。 以本發明之上述構形,蕤 «由採用噴砂加工用之研磨料 及使用此研磨料之喷砂加工方、土 π # 忠可獲得以下所論及之值得 注意的效果。 當本發明之研磨料係射出 乂轟擊該待處理之產品時, 14 200914203 其一平坦表面係與該待處理之產品的表面可滑動地接觸 匕約在该存處理之產品的表面上滑動。 再者,於使用本發明之研磨料的喷砂加 … 切割,其中僅σ ·、士 Τ 月匕把灯 理產。的矣 峰之高度,而不會增加顯現於待處 的表面粗輪度中之波谷的深度,且因此,可幾2 譬如產-的表面中所形成之不規則部分, 在该切割製程期間所發生之加工壓 不規則部分。 i泯所远成之 在此用於哨·砂加工之研磨料的 磨砂粒係嬖如是蚤苷认 禋具笮研 =疋氣载於一形成在板形中之載體上的型式, =研磨=㈣承載在—形成該載體之原料上,諸如紙張、 ”曰薄膜或薄片、金屬箔片、無機材料片等,以致之 L ’ I透過此材料之切割等等而比較輕易地製成用於本發 月之嘴砂加工的研磨料。 特別地疋,於-構形中,其中該研磨砂粒係透過一黏 二—載在载體上,藉由將該等研磨砂粒嵌入或施加至 =黏著劑層,該勒著劑層係藉由將該黏著劑施加至形成該 體之原料所形成;或藉由將該等研磨砂粒施加至由一預 "的黏著劑所形成之原料,繼之以藉由該上面所論及 J製転等,用於本發明之喷砂加工的研磨料可被輕 地製成。 艮 ' 研磨構开)中,其中該載體中之研磨砂粒被分散, 其吏在發生所呷之“脫落“ hedding),,的情況下,其中在 、表面部分上之研磨砂粒由於與該待處理之產品接觸而 15 200914203 掉落田該載體係由於與該待處理之產品接觸而磨損時, 曰在"中之研磨砂粒係曝露在該表面,以致能恢復切割 力里特別地疋,如果在此本發明之彈性本體被用作該載 體:該值得注意之作用係顯現,將使其可能提供-亦能夠 耐得住重複使用之研磨料。 广再者’於本發明之喷砂加工方法中,藉由採用具有— 直仅之研磨料,該直徑係如顯現在該表面 則部分的平均間隔^ ^ n隔(Sm)之至少三倍,可為幾乎完全地防止 =:磨料之知入該等表面粗糙度的波谷’藉此防止加深該 ;谷及允許其經加工表面之平滑度被改善。 一再者’藉由以相對於該待處理之產品在5度至7〇度的 一入㈣度射出該研㈣’可促進該研磨料沿著該待處理 之產品的表面之滑動。 【實施方式】 在下文中’將參考圖式敘述本發明之 研磨料 《 e u 整體結構 一用於本發明之嗜以、Α +主 噴々加工的研磨料係形成為一具有平 旦表面之板形,且具有— .m 有千坦之形狀,將其一板塊直徑形 成為相對於其厚度是相當大的。 在此,“板塊直彳⑤,,% > "係和該研磨料之平坦表面的形狀 t之最大直徑。嬖如,兮 ^ ^ τ 口 DX板塊直徑”可分別地在如果研 磨枓之平坦表面係圓形 ^ 的隋況中代表直徑;如果在研磨料 表面係橢圓形的情況中係代表該長度;如果在研磨 16 200914203 料之平垣表面係長方形 在形狀係不規則的情況中,'中代表對角線長度;及如果 面形狀所決定的最大直徑測=藉由個別研磨料之平垣表 該板塊厚度表示該研 文中’其係“研磨砂粒之涂 千均厚度。特別是’在下 冬你一 ' 〃塗佈厚度+該載體之厚度”。 田一用於決定該板塊直徑之方 ^ 子顯微攝影(瞻顯微攝影 I W⑥一掃推電 可被取自從本發明之研磨料的:板塊直輕。譬如,該測量 貝枓的影像坐標所獲得之尺寸。 豕 再者,亦可透過隨音士 選擇之預定數目的樣本(譬如, 100個樣本)所獲得之尺寸 '置該平均值,使其結果之平均 被界疋為4板塊直輕。_類似方法亦可被使用,以決定 該板塊厚度。 ,本發明之研磨料的平均板塊直徑係於0.05毫米至10毫 米之範圍巾,且更佳地係於0.1毫米至8毫米之範圍中。 該研磨料之平坦性能藉由該板塊直徑對該研磨料的厚 度之比率所決疋’在本具體實施例中,其被稱》“板塊比 率”,而藉由“板塊直徑/厚度,,所給予。 本發明的研磨料中之想要的板塊比率係由1.5至1〇〇, 且較佳地係由2至90。 如果在此使用一具有比〇·〇5毫米較小之板塊直徑的研 磨料,縱使該研磨料係形成為一板塊形狀,既然該射出之 研磨料沿著該工件的一粗糙表面(譬如,諸如切割痕跡之不 規則部分)滑動’縱使由該表面粗糙度之波谷的底部至該等 17 200914203 波峰的頂部之局度多少γ @彳、 如 夕夕Ύ被咸上’糟由加深該等波谷的底 邛所造成之不規則部分不鈐妯由 丨刀不i破泊除,這將使得加工成一平 坦之形狀為困難的。攄舲,‘ μ工 士上面所論及,該研磨料之板 塊直徑被設定為不少於〇 〇5毫米。 再者’當所使用之研磨料的板塊直徑係超過W毫米, 此一研磨料之射出係會 f雯侍困難。譬如,如果在此隨著一 縮氣體透過—噴嘴射出此型式之研磨料,其射出中所使 用之喷嘴的直徑係回應於該研磨料之增加的板塊直徑而增 加,以致該喷嘴部公另田& # & 用於5亥喷嘴部分所需要之射出軟管 的導官直徑係亦增加。 如果在此该喷嘴係手動地操作,這 不利地影響其操作性。摅μ . 據此’ β亥研磨料之板塊直徑較佳地 係不得超出10毫米,如上面所述。 該板塊比率被表示為:板塊比率=板塊直徑,板塊厚度 ^載體之厚度+料研磨砂粒之塗佈厚度)。因此,當該板 瓜糸10宅米及該板塊厚度係0.1 «米時,板塊比率= 板塊直徑/板塊厚度=10/ /· 1 1 〇 〇。在此,所使用之研磨石少 粒的粒徑係譬如丨毫米至〇1微米。 再者,用於具有在15至1〇〇的範圍中之板塊比率的理 由為當該板塊比率传不β,c ± 糸不亞於15時,及當該研磨料係射出及 暴擊ό玄待處理之產α从圭 屋°σ的表面時,其係可能達成一滑動方 ^其中該研磨料之平坦表面與該待處理之產品的表面以 ::之或!、率造成可滑動的接觸’以致其加工可藉由在此 iL t β M S之產品的表面滑動而使該研磨 效率地施行。在另―士T ^ 另方面’當該板塊比率係少於1.5時,於 200914203 該數目:減少’該研磨料之平坦表面在 。s"地理產品碰撞而於該待處理之產品的表 :動,其藉此減少該加工效率。 當該板塊比率超過1〇〇時, 的末端時常由於空氣阻力、,:::::出:研磨料 彎曲、變形、或破裂。Ί爲擊在遠工件之表面時而 之研:ΐ,為了修平該等表面切割痕跡’藉由利用本發明 .t 其表面粗糙度計算該板塊直徑、板塊 比率、及剛性。特別地是 板鬼 鍅辩彳Q ,τ 二值了為由Rz(十點之平均粗 = 不規則部分的間隔)、s(鄰接波峰間之平 均間隔)、及(波峰計數值)pc所計算。 特別地是,對於該待處理產品的表面粗 之研磨料的板塊直徑係至少如Sm(平均之不規則部分2 隔)般大,該待處理產品係一 私n 加工之物體,其較佳地係不亞 於二:大’且更較佳地係不亞於十倍大。藉由採用 =磨料,能防止該研磨料之侵入該表面粗輪度的波谷之 底#,其藉此防止該研磨料之切割力 面粗链度之波谷的底部。再者m ι運用而加冰该表 爪觸〗-侧般界定。4㈣度形狀參數係如 此型式之彈性 之彈性或可變 該研磨料係能夠展示彈性或可變形性。 或可變形性可藉由使用—具有在下面所敘述 形的載體之研磨料所達成。 可防 藉由提供一具有彈性或可變形性的 止该專壓痕等,其係當該研磨料轟 此型式之研磨料, 擊該待處理之產品 19 200914203 的表面時形成在該待處理之產品的表面上。 本發明之研磨料的形狀係未 要其係形成在-平坦板塊形狀中,如別限制,只 形狀可選自-圓…狀或半圓形之上::返。譬如,該 角…狀、—長方形之形狀、其他多邊形之形狀 -不規則之形狀等,或採用一選自上 :、 形狀。 且口的任何 再者,任何在下面所敘述 所使用的研磨料之構形。 之構形可被用作藉由本發明 =研磨料’其形成為一板塊形狀,使該等 =具有料坦表面(在下文中…具有此型式的構形 磨料將被稱為I亥“整合式研磨砂粒型式,,); ()研磨料,纟中該等研磨砂粒係承載在具有該平坦 表面的板塊形載體之—或兩表面上(在下文中,—具有此型 、的構形之研磨料將被稱為該“承載式研磨砂粒型式” 及 ’ ’ ()研磨料,其中該等研磨砂粒係分散在形成該載體 之材料中,且具有分散在其中之研磨砂粒的載體係形成為 具有平坦表面之板塊形狀(在下文中,一具有此型式的構 形之研磨料將被稱為“分散式研磨砂粒型式,,)。 在上面所指出的研磨料型式之中,該“承載式研磨砂 ; 式 了為由不同材料所組成,諸如被承載在該載體的 表面上之砂粒型式、粒徑、分佈等可為與那些被承載在 °亥另 表面上之研磨砂粒者不同。 200914203 再者,於此“承载式研磨砂粒型式,,研磨料中,除了 被承载在該載體的僅只一側面上之研磨砂粒以外,一與這 些研磨砂粒發揮不同功能之材料可被承載在另一表面上, ^ 著色劑、一防銹劑、一潤滑劑、一具有上清漆功 t球t珠粒等’使其可能提供該研磨料具有經由此—承載 材料所擁有之功能。 再者,如5亥上述“整合式研磨砂粒型式,,研磨料,其 係可能將-金屬,諸如紹、銅、鐵、錫、鋅等,或其一ς 2 ’或纖維、樹脂、陶瓷、或其任何合成物形成為—具有 平坦表φ之形;i大,以提供本發明之研磨料。 載體 ;士上面所14組構成的本發明之研磨料的構形中,用 於承載該研磨砂叙夕哉挪& ^ „ “ 载體係被涵括於該“承載式研磨砂粒 ‘‘二人,☆散式研磨砂粒型式”研磨料中,但係由該 王&式研磨砂粒型式”研磨料省略。 :下文中’將較為詳細地敘述此型式載體之範例。 承載式研磨砂粒型式,’ 料被成I:式研磨砂粒型式,,研磨料中,其中該研磨 建口構成為使:研磨砂粒承載在板塊形載體之—或兩表 米至二+其1狀或薄膜形狀係形成為具有大約請4 制其材料等。 式之材料能被使用,而不會限 譬如’紙張、布、不織布紡 維材料、-樹脂'或另一型:…橡膠、塑膠、-纖 支式的有機材料之薄片或薄膜; 21 200914203 槿!金屬,諸如鋁、錫、銅、鋅、鐵等、或其任何合金所 :之箱片或板塊;或諸如玻璃、氧化紹 薄片,可在此型式之載體中被使用。 分散式研磨砂粒型式” 畜藉著由形成該載體之材料形成一板塊形狀而形成本 明之研磨料時,該等研磨砂粒被承載在該載體上,各種 尘式之材料可被用作該“分散式研磨砂粒型式,,研磨料之 ^ 要°亥材料係能夠使該等研磨砂粒分散在其中及能 ^形成為該板塊形狀’同時該等研磨砂粒被分散在其中, 誉如,橡膠、或塑膠等可被適當地使用。 者田作开》成§亥载體之材料,本發明之研磨料可採 用使用研磨石黏著劑之習知材料諸如玻璃熔接劑、石夕酸 鹽黏著劑、熱固性黏著劑、橡膠黏著劑、乙埽基黏著劑、 蟲膠黏著劑、金屬黏著劑、氯氧化物黏著劑等之材料,使 5亥等研磨砂粒分散在其中及形成為-板塊形狀。 研磨砂粒 、卞"亥等研磨砂粒,以及被帶來與該待處理之產品造 成接觸,以致兮·爲^ 口 > “ w待處理之產°〇可被加工成一預定狀態等, :、要&承載式研磨砂粒型式”研磨料中所使用之研磨砂 粒係能,著一黏著劑等被承載在該載體上之砂粒,且只要 該“分散式研磨砂粒型式”研磨料中所使用之研磨砂粒係 能夠分散在形成該載體的材料中之砂粒’各種研磨砂粒可 :使用’而不會以任何方式限制該材料、形狀、或其尺寸 22 200914203 可使用大致上用作研磨料之各種材料;譬如,氧化鋁, 諸如白剛鋁石(WA)或剛鋁石(A)等;綠色金剛砂、鑽石等; c-BN、硼化物、碳硼化物、鈦硼化物、黏結的碳化物合金 等,如在下面表1中所指出。 再者,亦可使用這些研磨砂粒之二或更多種的任何混 合物。 表1 可用於本發明之研磨料的研磨砂礫之範例 以植物為基礎 玉米芯;核桃之種子外殼、桃子、堅果、杏仁等;木漿 ;軟木 金屬 鐵、鋼、鑄鐵、姑、鎳、鎵、錯、銳、1目、錄、ίε、銀、 銦、錫、銻、鋅、不銹鋼、鈦、飢、絡、銘、石夕、二氧 化錳、氧化鉻、或其合金 陶瓷 玻璃、石英、剛銘石、白剛銘石、碳化石夕、綠色碳化石夕、 鍅石、氧化锆、石榴石、金剛砂、碳硼化物、鈦硼化物、 銘-鎮、硼化物、或蝴化物-氮化物 無機材料 碳酸鈣、硫酸鈣、或氟化鈣、硫酸鋇、氯化鋇、硫酸鋁、 氫氧化紹、碳酸銘、硫酸認、氣化懿、氧化鈦、驗性的 碳酸鎂、氫氧化錢、碳、石墨、氟化石墨、二硫化I目、 或—硫化鶴 該等研磨砂粒之微粒尺寸係亦未以任何特別之方式限 制,且因此,可視該加工之目的等而定作變化;譬如,具 有在1毫米至0 · 1微米的範圍中之平均粒徑的研磨砂粒可被 使用。再者,如果在此藉由使該工件之加工表面有光澤而 施加一鏡子似表面處理,具有不超過6微米(#2000或較大) 23 200914203 之平均粒徑的細微研磨砂粒之使用係較佳的。於本發明之 研磨料中,具有不超過1微米(#8000或較大)之平均粒徑的 細微研磨砂粒可被使用。 再者’如果在此一工件之加工表面將被切割及加工成 一預定形狀’具有不亞於30微米(#400或較少)之平均粒徑 的粗糙研磨砂粒可被使用,或在本發明中,具有1毫米之 平均粒徑的研磨砂粒亦可被使用。 雖然該等研磨砂粒可使其直至大約一半的粒徑曝露, 於此等案例中,由該等研磨砂粒從载體曝露的程度較佳地 係其粒徑的百分之1〇至百分之5〇。以曝露程度係少於百分 之1 0的研磨砂粒’加卫巾所涉及之研磨砂粒的長度係減 少’以致其研磨力量係減少’且其工作效率係不佳的。以 曝露程度係超過百分之50的研磨砂粒,研磨砂粒被承載(嵌 入滩該載體上之表面積係減少,這造成該載體中之研磨砂 粒的保留強度將減少,以致噠笙m _ rl a Μ 双β寺研磨砂粒於加工期間掉落 出該載體,藉此阻礙维持加工一 致性。再者,該研磨料之 耐久性係不佳的,且該成本传离 糸β的。據此,曝露之程度較 佳地係由百分之20至百分之4〇。 夂权 m 门a ” ,土八 ^磨料時,該等研 磨砂粒之固定至該裁體或承載 寸唧 施行,於此等案例中,該黏荽 黏者劑 —令 者劑可為任何傳統上使用之黏 者劑,而譬如用於將該等研磨 布上。 y拉固疋或承載在砂紙或砂 譬如 壤氧樹脂黏著劑、 —聚胺酯樹脂黏著劑、— 24 200914203 聚丙稀酸黏著劑、一石々叙菩麻丨 J 矽黏者劑、—橡膠黏著劑、一氰基丙 稀酸醋黏者劑、一教、玄彳卜斑|添,| ,» .. 熱,合化黏者劑、或一紫外線硬化黏著劑 可被用作此黏著劑。 該研磨料之製造方法 在下文中,將較詳細地敘述每一型式黏著劑之製造方 法的範例。 整合式研磨砂粒型式’, r 金屬,藉由滾軋等形成為一板塊或箔片形狀諸如 銘銅、鐵、錫、辞等、及其合金的;一樹脂,形成_板 塊形狀或薄膜形狀;-陶兗板塊;或-紡織品、不織布紡 織品等被切割,以便具有一預定之板塊直徑,以形成本發 明之研磨料。 再者,一紡織品型式之研磨料係以―預定厚度黏著性 :也固定至該上面所論及之黏著劑,以致該纖維之形狀被保 邊,而不會在該製造加工期間磨損其邊緣。之後,其被切 割成所需之形狀及尺寸。 承載式研磨砂粒型式’, 製造方法1 一傳統之塗佈裝置、諸如刀式塗佈機等被使用,以施 加成份,該成份具有1:0.2至1:2.〇之複合研磨砂粒對黏 著劑的重量比率及2微米至2〇〇〇微米之施加後的乾燥厚 度,堂佈至1微米至50〇〇微米厚箔片、薄片、或薄膜等之 —或兩表面,,,該箔片、薄片、或薄膜等具有該載體之 作用,其隨後被乾燥及切割成預定之板塊直徑,以形成本 25 200914203 發明之研磨料。 製造方法2 一黏著劑被施加,以便在該載體之一或兩側面上提供5 微米j 4〇00微米厚之塗層,且研磨砂粒係在該黏著劑的硬 化之前黏著至該黏著劑層,以將該等研磨砂粒承載在該載 體之表面上。 以此方式,承載該等研磨砂粒之載體被切割成一預定 之板塊直輕,以提供本發明之研磨料。 製造方法3 如果在此一比較地柔軟之金屬、諸如鋁等,或一彈性 體、諸如橡膠 '樹脂等被用作為該载體,料研磨砂粒之 想要數量係分散在由上面之材料形成該板塊形狀的載體 上’使該等研磨砂粒係藉由麼按分散於其上的研磨砂粒之 頂部而被嵌入該載體之表面。
以此方式,承載該等研磨砂粒之載體係切割成一預定 之板塊直徑,以提供本發明之研磨料。 分散式研磨砂粒型式” 形成該等研磨砂粒及該載體之材料,譬如,構成該載 體=樹脂材料’以相對該研磨砂粒之6〇重量百分比至 ^百分比,係在10重量百分比至4〇重量百分比之比率 ^ 係接著形成[板塊形狀,並切割成該預定之板 塊直控,以形成本發明之研磨料。 言如,如果在此該載體係由橡膠所構成,在進行最初 的粉碎製程之後,兮盾 傻4原始之橡膠材料被揉合。於該揉合责 26 200914203 驟中’:等研磨砂粒以及該混合劑亦可被加入。 s原料之塑性已藉由揉合該混合劑或該等研磨 砂粒所調整,原料使用擠«被加之形㈣ :象平坦板塊之形狀等,該擠壓機係配備有螺桿、或使用一 精由配置複數滚筒所形成之壓延機,使該模製製程係因此 隨後持續’直至該材料係於一可塑造的狀態中。 。杈製製轾期間,被加工成-板塊形狀之原料被保 子;板塊$狀中’且被切割成_預定之尺寸及形狀,以 =具有職板塊幻m之後,藉由《製製㈣ 又什之片長係藉由一硫化製程被熱處理,以開始-藉由包 Γ在該等片段内的硫化劑所造成之交聯反應,且-除了該 4研磨砂粒以外之部分係接著被加工成該彈性體。再者, :種型式之傳統裝置亦可被使用在該硫化製程中,嬖如, :擠出型式、一硫化罐型式、或一塵按型式連續之硫化器 等0 ,椒製(模製製程)成該等片段及該隨後透過硫化作 (硫化製程)之交聯亦可在該顛倒順序中施行。嬖如,由該 擠出製程或滾軋製程被加工成一板塊形狀之原料事實上亦 :被調動’如’至一硫化製程’在此其被加工成一彈性體, 之後於一模製製程期間切割。 者,如果在此一熱塑性彈性體被用作該上面所論及 二物原料’其可藉由一傳統之熱塑性彈性材料製程製 曰此’一旦該混合劑及該研磨劑已被加至一混合之聚 σ物原料,昔庄、仓—^ 仃揉合製程,然後該等被碾磨過的原 27 200914203 料被加熱至一大於或等於其炼點之溫度,其次進 製程,以致該等溶化之原料係藉由播出或射出等 = 板塊形狀,且最後,藉此所形成之板塊形體藉由判 預疋之板塊直徑,以藉此產生該研磨 处 夠被使用在上述該样合製裎中 ’月匕 揉合機、内部攪拌器等。 聖力 喷砂加工方法 本發明藉由該上面所論及的製& # 可蕤出被p 又1于 < 研磨料 曰 仃採用此研磨料之喷砂加工而遭受一整平製 諸如-平滑之表面處理、一像反射鏡之表面處理、王恭 光之表面處理、或一有光澤之表面處理等。 像發 研磨料射出方法 ,了-空氣喷砂加工方法,諸如濕式喷砂或乾式噴砂 精此該研磨料係藉由利用一壓縮流體、 體箄射山, 叩3" 屬縮氣 /寻射出’任何方法可被用作該研磨料射出方法, 係能夠關# .. ’、要,、 ^亥工件之加工表面在一預定之射出入射角声$ 射出技、玄H 月度或 、手射出該研磨料,譬如’ 一離心式方法(推進器方 藉此一推進器被旋轉至施加一離心力至該 —沖屡He、 1堪付,或 式方法,藉此使用一沖壓滾筒,以藉由沖壓等 該研磨料。 至寻射出 更特別地是,為了將該研磨料正確地射出至誃 加工部八L ^ μ曰知之 刀上,其較佳地係使用一以喷嘴為基礎之方法 該研磨粗 * 乃次射出 一 ,,使於該射出範圍及射出部分之選擇中係提供 的自由度,如此藉由經由朝向該喷嘴面對的方向之運 28 200914203 動加工待處理之產品於一固定狀態之部分,以至於提供 優點其巾其加工可被輕易地施行,甚至如果在此該待 處理之產品係重的或大尺寸的。 田》亥研磨料係經由—壓縮流體射出時,除了一壓縮氣 體'諸如壓縮空氣等’該研磨料可隨著-壓縮液體、諸如 水或研磨液體被射出。 射出壓力及速率 用於贺少加工的研磨料之射出係在每秒5公尺至每秒 200公尺之射出速率施行、較佳地是每秒2G公尺至每秒⑼ 公尺,或在〇.〇1百萬帕斯卡至i百萬帕斯卡之射出廢力、 較佳地是0.02百萬帕斯卡至G6百萬帕斯卡。 當該射出速率係超過每秒2〇〇公尺時,該待處理之產 品的表面由於來自該處之動能而變得像锻子般。再者,該 載體係損壞,該等研磨砂粒掉落 乂 丁 。 平洛以致不迠施行穩定之加 工,且該研磨料之耐久性係減少, ^ ^ ^ , /、猎此造成成本之增加。 田该射出速率係少於每秒5公 生I A尺時,該加工性能係降低, 生產力係減少,且其工業之適 Μ公尺至每秒150公尺之射:不么的°據此,每秒 射出厭射出迷率係較佳的。如果在此該 ^ “過1百萬帕斯卡,並使用壓縮空氣,兮射出 速率變成至少每秒200公尺 孔β亥射出 ,. 忒表面變得像緞子般。 此外,該載體係受損壞, 施行韁中+ λ 名ν粒掉洛,以致不能 也仃%疋之加工,且該研磨料之耐久 — 成成本中之增加。再者,當作一办 ^ >,其措此造 機係需要的,,且設借及製造廢:=給,-高壓之壓縮 °成本係增加。當該射出 29 200914203 J力=於°·。1百萬帕斯卡時,不能獲得-充分之研磨速 率,以致該加工性能係降低,該生產力係減少 之適用性係不佳的。 且/、工業 相對該待處理之產品的入射角度 產料之射出至該待處理之產品係相對該待處理之 7 <8G度之人射角度θ施行,且較佳地是在5度至 料了:之二射角度。當該入射角度變成更為銳角時,該研磨 料可在έ亥待處理之漆+ 之產。0的表面上更輕易地滑動,且致使一 平坦之像反射鏡的表面可被輕易地獲得。 表面ΓΐΓ磨料之入射方向係藉由相對該待處理之產品的 : 又戶斤給與時,垂直於該待處理之產品的表面之 面不為Vxsin0,且平行於該待處理之產品的表 、?刀里係表不為VXCGS0。為了在該待處理之產品的 表面上避免:像锻子般之表面處理,Vxsi“必需為小的, 且VxCoM必需為大的。據此,θ=9〇度必需被避免。再者, 由於加工性能,〇度之低角度方向係不想要的。 /上面所論及,當本發明之形成為-板塊形狀的研磨 料係透過一喷砂加工梦署私 待處理之產品傾斜時=之以更使該入射角度相對該 口 計呀該射出之研磨料滑動在該待處理之 產品的表面上,以拋光其表面。 田本發明之形成為具有15至⑽的板塊比率之研磨料 係經由該喷砂加工裝置射出及Α擊時,其以此-方式在該 待處理之產品的表面卜、、典紅 上α動,该方式係使得該研磨料之表 面與該待處理之產σ沾主丈1 〇〇的表面可岣動的接觸;因此,與該研 30 200914203 磨料之平坦表面接觸的該待處理之產品的表面被切割及修 平。 本發明之被形成為具有0·05毫米至1〇毫米之板塊直徑 的研磨料不會輕易地射入該待處理之產品的表面粗經度之 波谷,且因此,僅只切割該等波峰,而不會於一方向中施 加任何將增加該等波谷之深度的切割力量。據此,該待處 理之產品的表面可被輕易地修平。 特別地是,藉由使板塊直徑大於該待處理之產品的不 規則部分之節距被加工,該直 直仫奴佳地疋不亞於該不規則 邛分之節距的三倍,a Ρ龢 外 更較佳地疋不亞於該不規則部分之 郎距的十倍,對於該研磨料之運動為順著該上面所論及之 不規則部分的節距之形狀孫 料主 办狀係不可此的,且如此在增加顯現 於该表面粗糙度中之波谷的 完全地防止。 …度之方向中之切割可被幾乎 ,此,關於該待處理之產品的表面中之不規則部分, 力=該!面粗糖度的波峰上之區域被削除,以將其表面 二、=坦形狀’且按照所使用之研磨砂粒的粒徑或材 或“乍加工之物體的產品 $ X ^ ^ * 乂双忒表面能被加工 表面處理,諸如一像反射鏡之表面處理、 1豕九/睪之表面處理等。 下文中’將較大詳細地敘述本發明之範例。 摩&例1 研磨料 在本範例中所使用之研磨料 π水之牛皮紙張被 31 200914203 用作該載體,且一在其中分散有研磨砂粒之環氧樹脂黏著 劑被塗覆在其上面。該正方形研磨料的一側邊係1.5毫米。 下方之表格顯示在範例1中所使用之研磨料的細節。 表2 研磨料(範例1) 尺 寸 形狀及尺寸 1.5毫米xl.5毫米正方形平坦表面,具有0.25毫米 之厚度 等 板塊直徑 2.8毫米(隨機選擇之100個樣本的平均直徑,如藉 由SEM顯微鏡照片所決定者) 板塊比率 11.2(2.8毫米板塊直徑/0.25毫米)* 載體 石墨型式(50微米厚度;防水處理) 研磨砂粒 綠色碳化矽(GC)#2000(6.7微米之平均研磨砂粒直 徑),藉由Fuji製造股份有限公司所製成 額外之製造方法 藉由在1 : 1.5(研磨砂粒:黏著劑)之重量比率將黏著 性砂粒混合進入一環氧樹脂黏著劑所獲得之混合液 體,係以一刀式塗佈機施加至紙張載體的一側面, 以致其一乾燥厚度係0.2毫米。在乾燥之後,該載體 _被切割成1.5毫米xl.5毫米之正方形的形狀。 *該板塊比率係基於經由SEM觀察之實際測量 再者,該上面所論及之表2中之板塊直徑係基於隨機 選擇之100個樣本的SEM顯微鏡照片,使每一樣本之板塊 直徑被測量為其對角線長度,且其平均值被決定為該上面 所論及之板塊直徑。 再者,該板塊比率係藉由將該上面所論及之平均板塊 直徑值除以該厚度所決定之值。 32 200914203 待處理之產品(工件) 表3顯示-待處理之產品被用作本發明範例中之加工 的主題。 如在表3中所指出,被用作本範例之待處理產品(工 的產品係S45C鋼之圓棒(滲碳產品),其連續之切割痕跡係 平行地形成於該圓周方向中,在該縱長方向中具有大約〇 b 毫米之節距(見圖1)。 · 〆 再者,關於該待處理之產品,在採用本發明之研磨料 的噴砂加工被施行之前,為表面製備進行珠擊處理。 下方之表格顯示該上面所論及之待處理產品(工件 細節。 、 表3 待處理之產品(工件) S45C鋼之滲碳產品 圓棒(30毫米直徑) HRC45 ____ “FD4”,由Fuji製造股份有^ 射出噴嘴 射出材料 一 - 射出距離 (直接壓力空氣噴砂裝置) 战 5毫米直徑~— 鑄鐵彈丸(0.2毫米直徑) 0.3百萬帕斯卡 200毫米 採用板塊形研磨料的噴砂加工之條件 該上述研磨料被射出至該待處理之相同產品(工件 33 200914203 上,如上述用於進行喷砂加工者。此喷砂加工之加工條件 係顯示在表4中。 表4 喷砂加工條件(範例1) 射出裝置 喷砂裝置(地心引力型式“SGSR-3” ;由Fuji製造股份 有限公司所製成) 射出壓力 0.1百萬帕斯卡 射出距離 50毫米 射出角度 相對於該工件之軸心45度 處理時間 1分鐘 額外之條件 該工件的一部分係以帶子覆蓋所掩蔽,且該板塊形研磨料 由該掩蔽部分滑動至該未掩蔽部分。 比較範例 以與上面所論及之範例相同之待處理產品(工件)為該 主題,藉由採用一具有在下面所敘述之砂粒形狀的彈性研 磨料進行喷砂加工。 該加工條件及在其中所使用之彈性研磨料係如在下面 所敘述者。 34 200914203 表5 彈性研磨料(比較範例1) 狀及尺寸 具有0.6毫米粒徑之砂粒 载體 橡膠 研磨砂粒 綠色碳化石夕(GC) #8000 (1.2微米之平均研磨砂粒直捏), 由Fuji製造股份有限公司所製成 製造方法 一混合材料係藉由加入及揉合混合劑及研磨砂粒至粉碎的橡 膠所獲得,使該黏著性砂粒係相對該混合物的百分之1〇〇總 含量在百分之80的重量比率下化合。該經揉合之材料被粉 碎,以形成具有大約0_6毫米之砂粒直徑的砂粒。該結果之 砂粒係接著硫化’以產生在比較範例1中所使用之彈性研磨 料。 表6 出條件 射出裝置 射出壓力 射出距離 空氡噴砂裝置(地心引力型式“SGSR_3”;由Fuji製造股份 司所製成) 萬帕斯卡 射出角度 該工件之軸心45度
額外之條件 =工件的一部分係以帶子覆蓋所掩蔽,且該板塊形研磨料係 芝爸蔽部分滑動至該未掩蔽部分。 實驗結果 測量裝置及蜊量方法 、Seimhsu股份有限公司所製成之“Surfc〇m 35 200914203 1 3 0 A 被用作s亥形狀及表面粗链度測量裝置’且在分別雜 由範例1及比較範例1之方法處理之後’測量該待處理之 產品的橫截面形狀(無傾斜校正)。 測量結果 圖2係一曲線圖’顯示藉由範例1的方法所 處理產品的橫截面形狀,且圖4係藉由範例丨的方法所加 工之待處理產品的表面之放大照片。 圖3係一曲線圖,顯示藉由比較範例丨的方法所加工 之待處理產品的橫截面形狀,且圖5係藉由比較範例上的 方法所加工之待處理產品的表面之放大照片。 在圖2及3中之水平軸線上,由大約1.60毫米至2 〇〇 毫米之區域源自表6中所敘述之掩蔽,且代表該等掩蔽部 分及未掩蔽部分間之邊界部分。於此部分中,該掩蔽材料 =著性材料係藉由射出所擠出,以致-預先加工之表面 件之逐漸的變化Γ表面條件共存,具有由一條件至另一條
V 據此,於圖2及 掩蔽部分(該預先加工部八^副毫米之左側的區域係該 待處理之產品中顯7^於藉由採用本發明之研磨料所加工的 度被切割及修平严,、已確 < 該經加工部分之表面粗糙 上大約2.9毫米之"局,泣同時具有一例外’其為在該水平軸線 加工部分或該經加工:的區域被加深,其係亦確認於該預先 15刀兩者,其表面粗糙度之波谷的最 36 200914203 的深度 大冰度係大約-2.5微米,且在該表面粗糙度中之波谷 中幾乎無任何變化,甚至在被加工之後。 特另J地疋,噴砂加工中採用本發明形成為板塊形狀之 研磨料,其被顯示施行待處理之產品的修平經由僅只該等 峰之移除,而不會改變該表面粗链度之波谷的深度。 再者,亦可由圖4所顯示之待處理產品的表面:條件 蜂認該表面粗糙度之修平。 在另方面,比較範例1採用具有該砂粒形狀之彈性 研磨料,其確認當與該未加工部分比較時,由該待加工部 分之表面㈣度的—波谷之底部至_波峰之頂部的高度係 減少’’且確認其粗糙度係減少及修平的。然@,當與範 ,1之樣本比較日夺,該待加工部分之粗較度(由一波谷之底 部至一波峰之頂部的高度)係仍然顯著的。
再者,雖然藉由比較範例丨之方法所處理的樣本之未 加工部分的表面粗糙度之波谷係於_75微米之附近該待加 工部分中之波谷被加深至大約_12.5微米。據此,關於使用 比較範例丨之彈性研磨砂粒形狀的製程,該彈性研磨料不 只㈣該表面㈣度之波峰,但亦同樣地切割及加深該等 波谷,以致當該研磨料係能夠逐漸地修光對應於該切割工 '、的節距餵入時所形成之不規則部分’在進行該切割製程 之時,其係不能消除這些不規則部分。 再者,關於比較範例丨^所敘述之方法,該事實為待 處理產品的表面甲之不規則部分不會被完全地消除,由圖\ 斤顯示待處理產品的表面之條件係亦明顯的。 37 200914203 範例2 表7 研磨料(範例2) 尺形狀及尺寸 寸 大體上4毫米x4毫米正方形平坦表面,具有0.2毫米 之厚度 等板塊直徑 5.8毫米(隨機選擇之100個樣本的平均直徑,藉由 SEM顯微鏡照片所決定者) 板塊比率 29(5.8毫米板塊直徑/0.5毫米厚度)* 載體 分散式研磨砂粒型式之橡膠載體 研磨砂粒 綠色碳化矽(GC)#8000( 1.2微米之平均研磨砂粒直徑), 藉由Fuji製造股份有限公司所製成 製造方法等 一混合材料係藉由加入及揉合混合劑及研磨砂粒至粉 碎的橡膠所獲得,使該等黏著性砂粒係相對該混合物的 百分之100總含量在百分之70的重量比率下混合。在 該經揉合材料係藉由一開口滚子形成為一具有0.5毫米 厚的薄片之後,一硫化劑被加至該揉合之材料。該結果 之薄片被硫化,接著被切割,以產生該彈性研磨料。 *該板塊比率係基於經由SEM觀察之實際測量 再者,該表2中之板塊直徑係基於隨機選擇之100個 樣本的SEM顯微鏡照片,使每一樣本之板塊直徑被測量為 其對角線長度,且其平均值被決定為該上面所論及之板塊 直徑。 再者,該板塊比率係藉由將該平均板塊直徑值除以該 厚度所決定之值。 待處理之產品(工件) 表8顯示該待處理之產品被用作藉由本發明具體實施 38 200914203 例所加工的主題。 被用作本發明範例之待處理產品(工件)的產品係一傳 統結構之軋鋼材料的SS400圓棒,並具有30毫米之直徑及 45毫米之長度,且該圓形棒之表面係藉由一燒結碳化物合 金之切割工具在一車床上所加工。被使用之經加工的圓棒 於該圓周方向中具有連續之切割痕跡,該等切割痕跡係在 該縱長方向中以大約0.1毫米之節距平行地形成。 採用板塊形研磨料之喷砂加工的條件 : 該上述研磨料係如上述射出至該待處理之相同產品(工 件)上,且進行喷砂加工。此噴砂加工之加工條件係顯示在 表8中。 表8 喷砂加工條件(範例2) 射出裝置 空氣喷砂裝置(地心引力型式“SGSR-3” ;由Fuji製造 股份有限公司所製成) 射出壓力 0.15百萬帕斯卡 射出距離 80毫米 射出角度 相對於該工件之軸心為60度 處理時間 5分鐘 額外之條件 該工件的一部分係以帶子覆蓋所掩蔽,且該板塊形研磨 料係由該掩蔽部分滑動至該未掩蔽部分。 加工結果 該經加工部分之目視觀察確認該粗糙度係減少,且確 認該經加工之表面係設有一平滑及有光澤之表面處理。再 39 200914203 者,該等凸出部分(波峰)祐、择城 破選擇性地拋光’且其已確認該等 凹入。ρ/刀(波谷)未被加工。特 ηπ 将別地是’於噴砂加工中採用本 發月之板塊形狀形成之研磨 甘、士胳-吵 σ 僧枓,其被顯不施行待處理之產 口口的修平經由僅只該等波 _ 嗶之移除,而不會改變該表面粗 才把度之波谷的深度。圖6至R # —丄> 至8係精由該上面所論及之範例2 的噴砂加工方法所传用夕 研磨料(分散研磨砂粒型式;橡膠 載體)的表面之電子顯微鏡照片。 如由圖6至8(特別地是,圖7及8)所清楚的是,於範 例2之具有分散在該橡膠載體内之研磨砂粒的研磨料中, 該橡膠載體係一彈性體,A s + , 评體甚至在該研磨料被使用在喷砂加 工之後’其已確認大量之研磨砂粒被保留在其表面中,及 確認經由該研磨料減少等之脫落不會發生。 據此藉由維持一構形,其中大量之研磨砂粒被承載 在該載體之表面上,甚至在被使用之後,以致該載體當與 该待處理之產品接觸時被切割,甚至當與該待處理之產品 的表面接觸之曝露在表面上之研磨砂粒掉落時等,其係思 考此巍入其内之研磨砂粒最近係曝露在該載體之表面上, 以致所掉落之研磨砂粒被新鮮的研磨砂粒所替換,該等研 磨砂粒係在其表面内補充。 據此,其已確認在範例2中所使用之研磨料可被重複 地使用,而於其研磨力量或切割力量中不會有任何惡化, 甚至在被使用之後。 —如此隨後之最寬廣的申請專利範圍不會針對以一特 定方式構形之機器。反而’該最寬廣之申請專利範圍係意 200914203 欲保護此突破性發明之中心或本質。此發明係清楚地為新 =及有用的。再者,在其被製成之時,考慮到該先前技藝 虽以整體而言考慮日夺,其對於那些普通熟諸該技藝者係不 明顯的。 再者,由於本發明之革命性本質,其清楚地係一首創 ,务月如此>’ k後之申請專利範圍係,給予極寬廣之解釋, 以便依法律保護此發明之中心。 "將看出在上面所提出之目的,及那些由該前面之敘述 變得明顯者,係有效率地獲得,錢然可在上面之結構中 :成某些變化,而不會由本發明之範圍脫離,其係意欲使 ㈣面之敘述所包含或該等附加圖式中所顯示之所有事物 破解釋為說明性,且不欲為限制之意義。 係亦將了解以下之申請專利範圍係意欲涵括在此中所 攻述之本發明的所有一船沾 叙的及特疋之特色,且本發明之範 之所有依語言之陳述可被稱為落在其間。 ί 既然本發明已被敘述完成。 【圖式簡單說明】 本發明之目的及優跌政& # 。 佳ί雜# .、將由其關於所附圖式所提供之較 佳八體實施例的以下詳細敘述而變得明顯’其中: 視圖圖1係範例1及比較範例ί之待處理產品(工件)的說明 圖2係一曲線圖 工之待處理產品的表 圖3係一曲線圖 ’顯不—藉由根據範例1的方法所加 面形狀之粗糙度曲線; ’顯不一藉由根據比較範例I的方法 41 200914203 所加工之待處理產品的表面形狀之㈣度曲線; 圖4係一藉由根據範例】的方法所加工之待處理產品 的表面之放大照片(50倍之放大倍率); 2 5係一藉由根據比較範例^方法所加工之待處理 的表面之放大照片(5〇倍之放大倍率); 圖6係範例2中所使用之分今斗-=& 用之刀政式研磨砂粒型研磨料(橡 體)之表面的電子顯微鏡照片(500倍之放大倍率); 膠圖7係粑例2中所使用之分散式研磨砂粒型研磨料(橡 "體)之表面的電子顯微鏡照片(2000倍之放大倍率);及 圖8係範例2中所使用之分散式研磨砂粒型研磨料(橡 夕载體)之表面的電子顯微鏡照片(5〇〇〇倍之放大倍率)。 【主要元件符號說明】 無 42

Claims (1)

  1. 200914203 十、申請專利範圍: 1·-制於喷砂加工之研磨料,該研磨 坦表面之板塊形,其中其平坦表面之最 括-具有平 米至10毫米之範圍中,且 二係於0.05毫 至刚倍。 被大直喻研磨料之厚度的15 2·如申請專利範圍第〗項用於喷砂加 磨料包括-具有平坦表面之板塊形载體,及研磨料,該研 載體之平坦表面的至少一側面上之研磨砂粒。破承載在該 3. 如申請專利範圍第2項用於 該載體係紙張。 、/ 工之研磨料,其中 4. 如申請專利範圍第2項用於噴砂 該研磨砂粒經過1著劑被承載在該裁體^研磨科,其中 5. 如申請專利範圍第3項用於喷砂加 該研磨砂粒經過一黏著劑被承載在該载體上研磨料,其中 6. 如申請專利範圍第(項用於噴砂加 磨料包括-具有平垣表面之板塊形載體研磨料,該研 體内之研磨砂粒。 及—y刀散在該載 如申β專利知圍第6項用於喷 該载體係一彈性本體。 、力之研磨料,其中 8,如申請專利範圍第!項用 一諸如染料或顏料的著色劑被混合 之研磨料,其中 螢光著色劑及/或_μ 或在此進一步加至一 9·-種噴砂上或,劑。 理之產品的表面傾斜^ 乂加工方法包括在相對待處 斜以一入射角度射出-研磨料,該研磨 43 200914203 料具有一設有平坦表面之板塊形,其中該平坦表面之最大 直徑係於〇.〇5毫米至1〇毫米之範圍中,且最大直徑為該研 磨料之厚度的1.5至1〇〇倍。 1 〇 如申請專利範圍第9項之噴砂加工方法,其中,在 該方法中所使用之研磨料的平坦表面形狀之最大直徑,係 為該待處理之產品的經加工表面之表面粗糙度中之不規則 部分的平均間隔之至少三倍。 、
    11_如申請專利範圍第 磨料之射出係相對該待處理 下進行。 12.如申請專利範圍第10項之噴砂加 磨料之射出係相對該待處理之產品在小於 下進行。
    其中該研 入射角度 Η"一、圖式 如次頁 44
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9388330B2 (en) 2012-12-17 2016-07-12 Fuji Engineering Co., Ltd. Bag containing blasting material
TWI558509B (zh) * 2010-12-10 2016-11-21 Fuji Eng Sandblasting and sandblasting methods
US10792788B2 (en) 2013-10-22 2020-10-06 Tosoh Smd, Inc. Optimized textured surfaces and methods of optimizing
TWI732823B (zh) * 2016-03-09 2021-07-11 日商信濃電氣製鍊股份有限公司 複合粒子的製造方法

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5148183B2 (ja) * 2007-07-04 2013-02-20 株式会社不二製作所 ブラスト加工用研磨材及び前記研磨材を使用したブラスト加工方法
US20110007453A1 (en) * 2009-07-08 2011-01-13 Chen-Feng Hsieh Method for forming a concavo-convex textured structure on a housing of an electronic device and related structure
JP5421081B2 (ja) * 2009-11-27 2014-02-19 株式会社小糸製作所 車輌用部品の射出成形用金型、車輌用部品及び車輌用部品の成形方法
JP5606824B2 (ja) * 2010-08-18 2014-10-15 株式会社不二製作所 金型の表面処理方法及び前記方法で表面処理された金型
JP2012192679A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Macoho Co Ltd サポート材除去方法
US20130084190A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 General Electric Company Titanium aluminide articles with improved surface finish and methods for their manufacture
US9011205B2 (en) * 2012-02-15 2015-04-21 General Electric Company Titanium aluminide article with improved surface finish
US10022839B2 (en) 2012-05-24 2018-07-17 Sintokogio, Ltd. Shot peening method
CN103451696B (zh) * 2013-09-22 2015-10-28 叶红 一种具有镀镍层的不锈钢管材
JP6254409B2 (ja) * 2013-09-30 2017-12-27 株式会社不二製作所 弾性研磨材の製造方法,弾性研磨材の製造装置,ブラスト加工方法,及び,ブラスト加工装置
US9622483B2 (en) 2014-02-19 2017-04-18 Corning Incorporated Antimicrobial glass compositions, glasses and polymeric articles incorporating the same
US11039621B2 (en) 2014-02-19 2021-06-22 Corning Incorporated Antimicrobial glass compositions, glasses and polymeric articles incorporating the same
US11039620B2 (en) 2014-02-19 2021-06-22 Corning Incorporated Antimicrobial glass compositions, glasses and polymeric articles incorporating the same
JP6101668B2 (ja) * 2014-11-19 2017-03-22 マコー株式会社 被鍛造部材の表面処理方法
CN105778861A (zh) * 2014-12-24 2016-07-20 深圳富泰宏精密工业有限公司 弹性磨粒及其制作方法
CN105751078B (zh) * 2016-02-25 2019-04-05 苏州市永通不锈钢有限公司 精确控制粗糙度的不锈钢表面处理工艺
US10894356B2 (en) 2016-04-15 2021-01-19 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Coating part precursors
CN107267119B (zh) * 2017-06-09 2019-03-05 烟台市金奥环保科技有限公司 一种氰化尾渣生产喷砂磨料的生产方法
JP7303535B2 (ja) * 2019-03-06 2023-07-05 株式会社不二製作所 粉体接触部材および粉体接触部材の表面処理方法
JP6917643B2 (ja) * 2019-08-08 2021-08-11 マコー株式会社 ウェットブラスト加工方法において用いられるスラリ
JP7447671B2 (ja) 2020-05-18 2024-03-12 新東工業株式会社 ブラスト加工用研磨材及びその製造方法、ブラスト加工方法、並びにブラスト加工装置
CN113246919A (zh) * 2021-04-16 2021-08-13 中铁第一勘察设计院集团有限公司 利用皮丸清理机车顶部高压瓷瓶的方法
KR102526666B1 (ko) * 2021-06-17 2023-04-26 배진범 정전기 방지용 연마체
CN113927488A (zh) * 2021-09-24 2022-01-14 深圳市普盛旺科技有限公司 电池铝壳表面处理方法
CN115476424B (zh) * 2022-09-23 2024-06-11 浙江普菲特切削工具有限公司 一种金属陶瓷立铣刀的生产工艺及自动喷砂机

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2947124A (en) * 1959-09-08 1960-08-02 Bendix Aviat Corp Process for tumble finishing
US3613317A (en) * 1967-05-26 1971-10-19 Minnesota Mining & Mfg Media for finishing plastics and soft metals
US3808747A (en) * 1970-06-08 1974-05-07 Wheelabrator Corp Mechanical finishing and media therefor
JPS59124572A (ja) * 1982-12-28 1984-07-18 Toshiba Corp 研磨材
JPS611364U (ja) * 1984-06-11 1986-01-07 株式会社 不二製作所 サンドブラスト用研摩材
US4877638A (en) * 1988-06-13 1989-10-31 Usbi Company Methods for grit blasting with a u.v. detectable material
DE3844261A1 (de) * 1988-12-29 1990-07-05 Minnesota Mining & Mfg Mehrfach verwendbares haftelement, insbesondere ein haftend befestigbares schleif-, schmirgel- oder polierelement, bzw. schild fuer informationszwecke
US5140783A (en) * 1990-06-26 1992-08-25 Hoffman Steve E Method for surface finishing of articles
ZA943646B (en) * 1993-05-27 1995-01-27 De Beers Ind Diamond A method of making an abrasive compact
US5507685A (en) * 1993-08-25 1996-04-16 Hoffman; Steve E. Method for surface finishing of difficult polish surfaces
AU2498295A (en) * 1994-07-27 1996-02-08 Ethicon Inc. Method of manufacturing surgical needles having blunt tips
EP0830237A1 (en) * 1995-06-07 1998-03-25 Norton Company Cutting tool having textured cutting surface
US6165059A (en) * 1995-11-24 2000-12-26 Park; Joon Abrasive medium with selected density
JP2957492B2 (ja) 1996-03-26 1999-10-04 合資会社亀井鉄工所 ワーク表面の研削方法
JP2000210869A (ja) * 1999-01-21 2000-08-02 Sintokogio Ltd ブラスト処理用投射材及びその製造方法
JP3376334B2 (ja) 1999-11-19 2003-02-10 株式会社 ヤマシタワークス 研磨材および研磨材を用いた研磨方法
JP2003266313A (ja) * 2002-03-15 2003-09-24 Bridgestone Corp 投射材及びブラスト処理方法
JP2004243464A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Toshiba Corp 大型部品の研磨方法およびこれに用いる研磨粒
JP2005040873A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Bridgestone Corp ブラスト用研磨材
JP3800610B2 (ja) * 2003-08-19 2006-07-26 合資会社亀井鉄工所 砥材
AU2004319043B2 (en) * 2004-04-28 2008-07-03 Kabushiki Kaisha Toshiba Polishing method for large-sized part and polishing particles used for the method
JP4505307B2 (ja) * 2004-11-01 2010-07-21 株式会社不二製作所 被加工物の研磨方法及び前記方法に使用するブラスト加工装置
JP4901184B2 (ja) * 2004-11-11 2012-03-21 株式会社不二製作所 研磨材及び該研磨材の製造方法,並びに前記研磨材を用いたブラスト加工方法
KR100709587B1 (ko) * 2004-11-11 2007-04-20 가부시끼가이샤 후지세이사쿠쇼 연마재 및 동 연마재의 제조 방법, 및 상기 연마재를이용한 블라스트 가공 방법
CN1876327A (zh) * 2005-06-07 2006-12-13 大合塑胶有限公司 喷砂复合材料及其制造方法
JP5148183B2 (ja) * 2007-07-04 2013-02-20 株式会社不二製作所 ブラスト加工用研磨材及び前記研磨材を使用したブラスト加工方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI558509B (zh) * 2010-12-10 2016-11-21 Fuji Eng Sandblasting and sandblasting methods
US9388330B2 (en) 2012-12-17 2016-07-12 Fuji Engineering Co., Ltd. Bag containing blasting material
US10792788B2 (en) 2013-10-22 2020-10-06 Tosoh Smd, Inc. Optimized textured surfaces and methods of optimizing
TWI732823B (zh) * 2016-03-09 2021-07-11 日商信濃電氣製鍊股份有限公司 複合粒子的製造方法
TWI785602B (zh) * 2016-03-09 2022-12-01 日商信濃電氣製鍊股份有限公司 複合粒子

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