200902810 六、發明說明： [優先權之主張] 本申凊案係主張2007年7月3日於韓國智慧財產局所 提出申請之韓國專利申請案第2〇〇7_〇〇66747號之優先 權，於此併入該專利申請案之内容，以供參考。 【發明所屬之技術領域】 本發_關於—種安I於空氣清潔祕之無慶室，更 詳而言之，係關於一種由垂直層流（laminar fl〇w)所引起 之壓力平均分佈在内部空間以使在内部角落發生渦流 (eddieS)之機率降至最低、使氣流被儘可能地抑制以避免 沿著-設有加工件之運輸單元流動以使外界雜質散開之程 度降至取低、及料外絲f滲人加王件而使產品缺失之 空氣清潔系統之無塵室。 【先前技術】 •广杈:且封裝件主要由例如薄膜覆晶封裝(chil： 二1 )型、晶片直接封襄（chip 〇n board，C0B) 里及晶狀寸狀（ehip seale pa _ 這些相機模組封裝型式之制^ •尸H成 似。拖1 乂、十·^ 過程與f知半導體生產線相 似換吕之，則逑的相機模組封裝件係於保持高度清料 境之空氣清潔系統裡進行高精密度製程。私
第1圖係為習知相機模組封裝^縱切面剖視示音 圖。第1圖之相機模組封裝件i包括鏡筒i〇(iens W barrel)、外罩20(_咖）及電路板4〇 ;該鏡筒1〇具有 蓋體13及位於内部之鏡片組L，該蓋體13具有鏡孔13。 94375 4 200902810 該外罩20具有母螺紋（female screw)以螺接該鏡筒10之 公螺紋（male screw);又，該電路板40之一端具有影像感 應器30，且該影像感應器30藉由結合材質固接於該外罩 20底端。 紅外線遽光器2 5設於該外罩2 0内；視窗4 2設於該電路 板40之一端，以使該影像感應器30之感應區顯露於外；又， 連接器45設於該電路板40之另一端，以電性連接顯示裝置 (未圖示）。 、 同時，在製造該相機模組封裝件1之過程中，滲透進入 該封裝件1之外界雜質，例如微塵，將附著於該紅外線濾光 器25或該影像感應器30之感應區上，導致於影像檢測時產 生黑點缺陷（black spot defect)或色塊環形缺陷（color spot defect)，而使該封裝件1之影像產生缺失，甚而需將 整組封裝件1作廢。 因此，該高精密度製程係運作於空氣清潔系統，該空 r 氣清潔系統藉由移除由外部被引進内部之空氣中之灰塵以 K,.. 保持清潔，以使最少量之外界雜質滲入加工件。此處，該 製程包含以覆晶式接合（flip chip bonding)方式將影像感 應器30設置於電路板40之一端、該附和於晶片上之影像感 應器30之打線（wire-bonding)製程、以接合材料（bonding material)接合電路板40與外罩20之底端並固化該接合材 料、組裝鏡片組L至鏡筒10中、將紅外線濾光器25黏附至外 罩20、將鏡筒10鎖附於外罩20、並且在完成對焦後以接合 材料牢固鏡筒10與外罩20。 94375 200902810 習知空氣清潔系統之内部具有複數個無塵室90，且各 該無塵室90具有加工機73，以個別進行不同的高精密度製 程。 如第2(a)、2(b)圖以及第3(a)至3(c)圖所示，無塵室 90係包含：内部設有加工機73之工作室70、及設於該工作 室70之天花板表面上之風扇過遽單元80 (fan fi Iter unit)，以提供乾淨空氣進入加工區。因此，強制地提供無 塵的乾淨空氣以使精密製程得以進行，並形成層流以確保 此種無塵狀態。 該工作室70包含運輸單元72、加工機73及前門76，該 運輸單元72係用以運輸負載加工件朝加工位置之方向移動 或將該加工件定位於加工位置上。該加工機7 3係用以進行 如接合、硬化、部件組裝及檢測加工件等製程。又該前門 76係設於該無塵室90的前側，以滑移開啟及關閉内部之加 工區。 另外，通道74a, 74b係形成於該工作室70之兩側，以 供運輸單元72穿過。此種通道可由架設於負載平台上之執 道所形成，該平台係承載該工作件。 該風扇過濾單元8 0包含藉由轉動以強制提供乾淨空氣 進入該工作室70之空氣供應風扇82、及甩以過濾來自該強 制供應之空氣中之灰塵之濾器81。 因此，移動例如晶圓及相機封裝件1等之加工件至加工 位置，以藉加工機73進行接合、組裝及硬化等製程。同時， 該風扇過濾單元80由上往下提供已過濾之乾淨空氣至該工 6 94375 200902810 作室70内部以確保無塵狀態。這步驟使得各種高精密度製 程可於無外界雜質滲入的情況下運作。 然而，該工作室70中，經由該風扇過濾單元80以供空 氣向下穿過而強制供應之空氣供應面積相對小於該工作至 70之頂面積並且距各側邊之間距不一，因而影響供應效 率，使於該工作室70之頂面全部區域之下方無法有效形成 層流。因此，如第2(b)圖及第3(a)至（c)圖所示，於該工作 室70之頂部角落將產生例如渦流現象之旋渦V。 由於此種旋渦V，外界雜質例如殘存在該運輸單兀72 或加工機73上之灰塵將向上漂浮而無法向外排出’且該些 漂浮之外界雜質將滲入加工件，而提高加工件之不良率 (defect ratio) ° 再者，因各該通道74a，74b形成之徑寬尺寸相對大於 該運輸單元72之縱切面面積，當該風扇過濾單元別強制供 應之層流L直接向下衝擊至該運輸單元72之上表面時，該層 流L將朝該工作室70之兩側流動，且通過貫穿該工作室70 之通道74a，74b而向外排出。 此時，即當該層流L朝運輸單元72流動及通過各該通道 74a，74b向外排出時，外界雜質例如殘存於運輪單元72之 灰塵將向上漂浮，且隨層流L經過位於運輸單元72上之加工 件而附著於加工件上，因而提高加工件之不良率（defect ratio) 0 此外，於該技術中，當操作員開啟設於工作室7〇前側 之前門7 6時’ _將破壞工作室7 0内部之壓力平衡，而使位於 94375 7 200902810 旋渦V區域中之外界雜質移動至該運輸單元72上之加工件。 【發明内容】 鑒於以上所述習知技術之不足，本發明之態樣提供一 種空氣清潔系統之無塵室，由垂直層流所引起之壓力平均 分佈在内部的全部空間，以使在内部角落發生渦流之機率 降至最低，並且使氣流儘最大可能地被抑制以避免沿著一 設有加工件之運輸單元流動，以使外界雜質散開之程度降 至最低，以及防止外界雜質滲入加工件而使產品產生缺陷。 為達上揭目的及其他目的，本發明之態樣提供一種空 氣清潔系統之無塵室，係包含：工作室，包含：加工機設 於加工區，且該加工區設有用以輸送加工件之運輸單元； 貫穿該工作室相對兩側之通道，以使該運輸單元通過各該 通道；及用以滑移地開啟和關閉該加工區之拉門；風扇過 濾單元，係設於該工作室之頂面上，且強制供應乾淨空氣 進入該工作室以產生垂直的層流，其中該風扇過濾單元具 有對應於該工作室頂面之全部面積之空氣供應面積，且該 工作室包括分別位於該工作室前、後侧之前通風設備及後 通風設備，而該前、後通風設備引導該風扇過濾單元所產 生之層流向相對於該運輸單元的輸送方向的方向排出。 該前、後通風設備的設置位置可分別齊平或低於該運 輸單元。 該前、後通風設備之其中一者可由吸入器所構成，該 吸入器包含當提供電源可產生吸力之吸入扇。 該前、後通風設備均可由吸入器所構成，該吸入器包 8 94375 200902810 含當提供電源可產生吸力之吸入扇。 該前、後通風設備均可由至少一個開口（opening)所構 成，且該開口係以預定尺寸形成於該工作室前、後侧上。 該前、後通風設備均可由具有複數個穿孔（pore)之多 孔平面（porous plate)所構成，該多孔平面以平行於該運 輸單元之方向被排列於該工作室之前側與後侧。 該風扇過濾單元復可包含至少一個濾器及至少一個空 氣供應風扇，該濾器跨設於該工作室頂面之全部區域，且 該空氣供應風扇設於該濾器上方，以強制供應乾淨空氣進 入該工作室。 各該通道之縱切面尺寸可大致相等於該運輸單元承載 該加工件之區域之縱切面面積。 該拉門可設於該工作室中設置有該前通風設備之前側 上、或該工作室中放置有該後通風設備之後側上。 【實施方式】 本發明之範例實施例將參考隨附之圖示以被詳細描 述。 請參閱第4、5、6圖，第4圖係為根據本發明之範例實 施例之空氣清潔系統之無塵室之架構示意圖；第5圖係為根 據本發明之範例實施例之無塵室之層流之流動示意圖；第6 圖係為根據本發明之範例實施例之無塵室之剖面示意圖， 且（a)係為上視示意圖，（b)係為前視示意圖，（c)係為側視 示意圖。 如第6(a)至（c)圖所示，本實施例之無塵室包括工作室 9 94375 200902810 . 110及風扇過濾單元120。該工作室110係設有具有預定尺寸 之加工區，以供於該加工區裡進行相對應之工作。該風扇 - 過濾單元120係提供已過濾之空氣，以保持該工作室110之 内部空間處於無塵狀態。 此工作室110包含上、下表面111，112、前、後侧113, 114及左、右侧115，116 ’以定義預定尺寸的内部空間，該 内部空間供設置加工機117及運輸單元118。在此，該上、 f 下表面HI，H2係分別被定義為平坦的天花板及地板，且 f . 1 該前、後侧113，114及左、右侧115，116係呈垂直地連接 至該上、下表面111，112。 該運輸單元118係由在執道上跑動之驅動台車所構 成，以運輸加工件朝加工機117之方向移動，並運輸該由加 工機117所加工完成之加工件至另一相鄰之工作室以進行 後續的製程。 此外，該工作室110之前侧113設有拉門119，以自由地 ς 開啟和關閉加工區，但本發明並無限制拉門119之設置位 置。該拉門119亦可設置在該工作室11〇之後側Η4。 再者’具有預定尺寸之通道115a，116a被設置以貫穿 該工作室110之左、右側115，116，使運輸加工件之運輸單 元118可自由地通過。 此處，該通道115a，116a具有大致相等於該運輸單元 118之縱切面面積之縱切面尺寸，以確保該承載該加工件之 運輸單元118無阻礙地通過該等通道115a，116a。 也就是說，該運輸單元118與該等通道115a，116a之間 94375 10 200902810 之間距均為最小化，以儘量避免該供應至該工作室110之加 工區的氣流經由該空隙而向外流出。因而抑止層流L免於被 引向該工作室110之兩側，於該工作室110中，該等通道115a 和116a沿著該運輸單元118設置。 該風扇過濾單元120係安裝於該工作室110之定義為天 花板之該頂面111上，以強制供應無外界雜質的乾淨空氣進 入該工作室11 〇，進而產生該層流L。 該風扇過濾單元120包含對應於工作室110之頂面111 全部面積之空氣供應面積，以容許該層流L得以自該工作室 110之該頂面111全部區域被直接引導向下。確保該工作室 11◦之加工區形成平均的壓力分佈。這樣的作法根本地避免 了漩渦的產生，也就是，因不平均的壓力分佈而在工作室 110之内部角落造成氣流的渦流現象。 該風扇過濾單元120包含至少一個濾器122及至少一個 空氣供應風扇124。該濾器122設置於該工作室110之全部頂 平面111上。該空氣供應風扇124設置於該濾器122上方，以 供應無外界雜質的乾淨空氣進入工作室110内。 同時，前通風設備131及後通風設備132分別被設置在 該工作室110之該前側113及該後側114,以導引進入該工作 室110之該層流L由該風扇過濾單元120往該運輸單元118之 兩側流動而排出。 該前通風設備131和該後通風設備132之設置位置大致 上齊平或低於該運輸單元118，以致於該衝擊在運輸單元 118頂面之層流L可以自然地被引導往相對於運輸單元118 11 94375 200902810 之運輸方向之方向。 此外，該前通風設備131和該後通風設備132均可由至 少一個具有預定尺寸之開口分別貫通該工作室110的該前 侧113和該後側114而構成。因此，該沿著該運輸單元Π8 的運輸方向兩側被分割和被導引的氣流L1和L2可以藉由内 部與外部間之壓力差（pressure gap)而被自然地排出。 於本實施例中，該前通風設備131和該後通風設備132 係在平行於運輸單元118之運輸方向上以方形（square)的 形狀被穿孔。但本發明並無限制穿孔之方向。該前通風設 備131和該後通風設備132均可由具有複數個貫穿孔（未圖 示）之多孔平面所構成’該多孔平面以平行於該運輸單元之 方向被排列於該工作室11 〇之前侧與後側。 再者’該前通風設備131和該後通風設備132分別可具 有吸入扇133和134’當供應電源時，吸入扇133, 134將產生 吸力以強制地將該分割之氣流L1，L2分別向外部排出。因 此’該沿著該運輸單元118的運輸方向兩側被分割和導引的 氣流L1和L2可被強制地往該工作室no之外部排出。該吸入 扇133和134係分別設置於吸入器13加與1343上，吸入器 133a與134a係延伸自該前通風設備131和該後通風設備 132 〇 當如上述所架構之無塵室1〇〇中之風扇過濾單元12〇運 作日^，外部空氣被該空氣供應風扇124強制地吸入該工作室 110内並且在通過該濾器122時將外界雜質移除，並接著形 成該層流L並強制地被供應進入該工作室11〇。 12 94375 200902810 該風扇過濾單元120具有對應於工作室11 〇之頂面111 之全部面積之空氣供應面積。因此，該層流L提供該工作室 110的内部空間平均的壓力分佈以及垂直的氣流結構。至 於本實施例中’被供應進入該工作室丨1〇之層流L之平 均壓力分佈根本地避免了在工作室11〇之内部角落發生旋 渦的情形，且避免外界雜質漂浮在工作室n〇之内部角落周 圍。因此，避免外界雜質被滲入該運輪單元118所承載之工 作件而產生缺陷。 ' 隨後，該被均勻地供應進入該工作室110内之全部内部 空間之層流L衝擊至該輪送工作室110内之該加工件之該運 輸單元118上；而接著形成沿著對應於該運輸單元ns之運 輸方向兩側之分割氣流Ll，L2。 如第5圖所示’該等分割氣流LI，L2被自然地導引向該 前通風設備131和該後通風設備132 ,其中該前通風設備131 和該後通風設備132貫穿該工作室110之該前侧113和該後 ( 側114 ;且該等分割氣流Ll·，L2僅以該前通風設備131和該 後通風設備132作為排氣路線（discharging outlet)而被 排出該工作室110。 此外，該等吸入扇133，134分別被安裝於該前通風設 備131和該後通風設備132上’該分割氣流L1，L2得以被強 制地向外排出，以確保該空氣具有較高之排出效率。 亦即，該沿著該運輸單元118的運輪方向雨側被分割的 氣流Ll，L2僅通過該前通風設備131和該後通風設備132向 外排出。係因該等通道115a和116a均具有與承載工作件之 94375 13 200902810 該運輸單元118之縱切面面積大致上相等的切面面積，該等 通道115a，116a貫穿該工作室110的該左、右侧115，116, 並且具有可自由地通過之該運輸單元118。因此使運輸單元 118及通道115a, 116a之間之間距呈最小化，而防止大量層 流L經由此處排出。此外，該前通風設備131和該後通風設 備13 2設置於該工作室110之該前側113和該後侧114上，設 置之位置低於該運輸單元118，以相對於該沿著該運輸單元 118的運輸方向兩側被分割的氣流Ll，L2。 因此，留在該運輸單元118上之該外界雜質不會沿著該 運輸單元118之運輸方向漂浮，而是與該沿著兩侧被分割的 氣流Ll，L2—同通過該前通風設備131和該後通風設備132 向外排出。以使該漂浮之外界雜質較無法滲入該加工件， 進而防止在加工、運輸過程中，該加工件發生缺陷。 綜土所述，根據本發明之實施例，供應層流進入工作 室之風扇過濾單元具有對應於該工作室之頂面之全部面積 之空氣供應面積。再者，前通風設備及後通風設備被設置 在該工作室的前後兩側，亦即對應於運輸單元之運輸方向 兩側，用以將供應自該風扇過濾單元之該層流排向外部。 因此提供了該工作室之全部内部空間中該層流的平均壓力 分佈，該層流自該工作室的頂面被往下供應。因此，確保 旋渦在該工作室之内部角落之發生機率降至最低。另外， 該層流通過設置在對應於該運輸單元之運輸方向的兩侧之 前、後通風設備而向外排出。因此，當該層流沿著該運輸 單元之兩侧被導引的同時外界雜質漂浮的情形會降至最 14 94375 200902810 低。因此有效降低因外界雜質被引入加工件而導致之產品 不良率，且增進產品之可靠度。 惟以上所述之具體實施例，僅係用以例釋本發明之特 點及功效，而非用以限定本發明之可實施範疇。在未脫離 本發明上揭之精神與技術範疇下，任何運用本發明所揭示 内容而完成之等效改變及修飾，均仍應為下述之申請專利 範圍所涵蓋。 【圖式簡單說明】 第1圖係為習知相機模組封裝件之縱切面剖視示意圖； 第2圖係為習知空氣清潔系統之無塵室之示意圖；其 中^ (a)係為架構不意圖* (b)係為氣流流動不意圖， 第3圖係為習知空氣清潔系統之無塵室之剖視示意 圖；其中，（a)係為上視示意圖，（b)係為前視示意圖，（c) 係為侧視示意圖； 第4圖係為本發明之空氣清潔系統之無塵室之架構示 意圖；. 第5圖係為根據本發明之範例實施例之無塵室之層流 之流動示意圖； 第6圖係為根據本發明之範例實施例之無塵室之剖面 示意圖；其中，（a)係為上視示意圖，（b)係為前視示意圖， (c)係為側視示意圖。 【主要元件符號說明】 1 封裝件 10 鏡筒 13 蓋體 13a 鏡孔 15 94375 200902810 20 外罩 25 紅外線濾光器 30 影像感應器 40 電路板 42 視窗 45 連接器 70 工作室 72 運輸單元 73 加工機 74a 、 74b 通道 76 前門 80 風扇過濾單元 81 滤器 82 空氣1供應風扇 90 無塵室 110 工作室 1 111 上表面 112 下表面 113 前側 114 後側 115 左侧 115a、116a 通道 116 右侧 117 加工機 118 運輸單元 119 拉門 120 風扇過濾單元 122 濾器 124 空氣供應風扇 131 前通風設備 , 132 後通風設備 133 、 134 吸入扇 133a、134a吸入器 L 鏡片組、層流 U、L2 氣流 V 旋渴 16 94375