TW200908201A - Substrate supporting apparatus - Google Patents

Description

200908201 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 處理g描述之-個或多個制實施例顧於包含半導體基底之 【先前技術】 半導體器件與平板顯示器係由在一基底上實施 擴散沈ΐ、或其他處理4成。此等處理於具有若、t移動i件 【發明内容】 根據本發明之-方面’提供—種基底支 對提供於一下電極兩側面之框_，^ /、匕括.一 間；複數個自該等框架之上下電極介於該等框架之 至提供於該下電極兩側面之軸 &冑線，其兩端連接 降單元。 向上/向下鱗該等框架之升 接收該ίί了形成於该下電極之一上表面内，以便下降該框架時 該軸可與該框架一起整體形成。 形成，藉此可移動地結合至該框架。/ 架勿開 塗覆導體形成。或者，該電線可由非導體或由諸如叙 此外，該基底支撐裝置可進一 ^ 線短路時感測該電線之短路而中斷製=l討在该電 【實ϊϊΐί之兩面對端部可彼此連接形成一矩形形狀。 藉由-機器人）至w室；&:由二開門閥G破傳送(舉例言之， 置⑽物繼放 200908201 將該基底自該腔室退出。 具有下電極之爐頂桿如、-升降單元133。 °° 用於向上與向下升降該樞板之 Μ Η ^ ^ ;ΐίί= f下電極時，攜帶之基底s自該機器人i送 桿=5=極如_ ’該等起模頂 頂才曰模頂桿在提升與降低期間亥等 S?i== 定，且不能改變，因為在任何其他位置該ί 起模頂獅壞…齡gtiii；酬—個或多個 圖2與3顯示另一類型之基底支撐裝置3〇之一且體 此裝置包含平行提供於下電極2〇各自側面之第一與第二支 31a與31b。該下電極介於該等第—與第二支撐件之間，且第^ 苐-，合^ 31ah與31bh分別形成於該等第一與第二支樓件上:、 右干第一軸32a插入三個該等結合孔31让，且若 ίί，。舉例而言，可藉由將該等轴螺旋摔人 及4孔而貝施此插入。右干電線33被連接至各對彼此面對之 =2a與32b。在圖3中，顯示使用之三條電線。然而 且 f實施例中可使用不職量（例如…條或多條）之電線。同樣: 舉例而言’亦可根據轉結合孔之位置來決定該㈣制之 或間距。 ' 该等電線之位置可根據（例如，相應於或避開）形成於該美 底上之圖案來設定或改變。齡狀或改變該等電線之位置，& 200908201 防止該等電線接觸並因此破壞包含圖案之該基底之 置Γ包含分別連接至第一與第二支撐件叫與 =之後操作5亥私升早元來升降該等第一與第二支撐件犯與 線中5ΐίί?〒可包含一感測器34用以檢測-條或多條電 t施/r信號至該電線—端（例如，電流、

Hr 型之感測器可用於此目的。

i體降框架31a與31b時接收各個該等電㈣ 具體貫把例中，可不形成此等溝槽。 U 时叙基底支撐裝置之—具體實_。在此且 撐件對應於-對桿，而圖5 f 3中之料支 41:二可，一環繞該下_之矩形環狀#框‘。軸接 之U冓與#作類似於圖3中之彼等結構與操作。。、、、 現將參照® 6a至6e轉該基底支撐裝置之

圖6a所示，當一間門閥。打開，且—攜帶—基底H 經過該閥時，藉由該等提升單^提升該等第―盥第二支^ ^ J3ib^« , 6b„- , 士』著二亥？械手經由該閘門閥退回，且降低該等第-與第二 形成ΞΓ二内A各自溝槽中，且基底s被放= j置、其可错由使用一條或多條電線（而非起模頂 】 基底’ a祕止在-基底之接觸部分上形歧點。 〜 200908201 ^-具體實_，—基底切裝置包含—對提供於 下電 ΐ:=ίί=ΓΓ™介於該等框架之間;複數個自該 極兩側面之軸;及一:上，向;升於該下電 接收該電ί:=ϊ;二忿：=下降該框架時 ;Πί形ί ’藉此可移動地結:至=架 二者該:'ίΓ裝導體Λ成在竹 =:接感:成該— 電=而中斷製程。該 ，藉二====== 個具體實施例” 一具體實施 例” 本說明中任何涉及“一 定⑽、實施例等處皆测於該具體實施例描述之特 說明i各ϋίίΓ1涵f於本發明之至少—個具體實施例内。本 此外，,πΓί現此#短語麟必m侧之具體實施例。 何具體實關描述—特定特徵、結構或特性時， 轉频實施狀其他具體實_實現此等特 徵、Ί冓或特性之熟悉此項技藝之人士之範圍内。 好ΐ^ίΐ轩其制性具财_已描述本發明之轩且體 七神之刖提下，在該前述之揭示内容、該等附圖與所附 200908201 申請專利朗之範咖，對該料件部分與/或該目標物組合配置 之配置給予合理之變倾更改是可㈣。除料元件部分與/或配 置之麦化與更改之外，對於熟悉此項技藝之人士而言，替換使用 同樣亦為顯而易見之事。 【圖式簡單說明】 圖la至lc係顯示一種類型基底支樓裝置之圖表。 圖2至4係顯示另一種類型基底支撐裝置之一具體實施例之 圖5係,、’、員示另種類型基底支撐裝置之一具體實施例之圖表。 ㈣^秘倾基底切裝置之—滅彡個前述具 體貫施例之圖表。 【主要元件符號說明】 20 下電極 21 溝槽 22 溝槽 30 基底支撐裝置 31a 第一支撐件（框架） 31 ah 第一結合孔 31b 第二支撐件（框架） 31bh 第二結合孔 32a 第一轴 32b 第二轴 33 電線 33a 提升單元 33b 提升單元 34 感測器 41 框架 42 軸 43 電線 200908201 50 基底傳送機器人 100 腔室 110 上電極 120 下電極 130 支撐裝置 131 起模頂桿 132 框板 133 提升單元 G 閘門閥 S 基底

Claims (1)

1. 200908201 十、申請專利範圍： 1· 一種基底支撐裝置，其包括·· 過基巨離ί第—與第二軸’該距離與基底之寬度—致或超 二軸Ιϋ該基底之電線，該電線具有_至各個該等第—與第 2. 如申請專利範圍第〗項所述之裝置，苴 向上與向下料該等第—與第二軸之單元、。進y。括—用於 3. 如申請糊顧第1猶述之衫，麵-步包括. 一在該電線下方之下電極；及 /匕栝. 算第位ίί下ft各自側彼此平行之第—與第二支樓件，复中节 專弟-與第—軸分別固定至該等第—與第二支揮件。-中遠 4. 如申請專利範圍第丨項所述之裝置，其進 一在該電線下方之下電極；及 匕栝. 圍繞該下電極提供之—框架，其中該等 該框架之各自面對邊緣。 一弟一軸固疋至 矩形^申請專機圍第4項所述之裝置，射該框架實質上為 6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其進-步包括： 一在該電線下方之下電極；及 . ^於，下電極各自側彼此平行之第一與第二支 2弟二支撐件分別具有複數個第—與第二結合孔，第 轴被合孔，且該第二減插人任 7. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其進-步包括 一在該電線下方之下電極； 其中该下電極包含一溝槽，以便當降低該等第―血第_ 降低邊基底至該下電極之-表社時可接收該電線。、—’ 周表利範圍第1項所述之裝置，其中該電線之-外圓 200908201 σ 9.如申請專利範圍第1項所述之裝置，其進一步包括一感測 益用以板測該電線中之一缺陷。 10.如申請專利範圍第9項所述之裝置，其中藉由在該電線 之一端施加一電流，且探測該電線之另一端有無電流，藉此該感 測器可探測缺陷。 11·如申請專利範圍第1項所述之裝置，其進一步包括： 自複數個第二軸隔開之複數個第一軸；及 支擇该基底之複數條電線，複數條電線輕接於 包含該等第-軸之-之每i與該料二軸之—相袖之η ㈣1 一2.如申請專利範圍第11項所述之裝置，該等第一軸自該 =二軸關-距離，該距離與—基底之寬度—致或超過基底之 13.如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該等第一與第 二軸位於致使該電線避開接觸該基底上之一圖案之位置。/、 14如中請專利範圍第13項所述之裝置，其中該等轴之位 置可改、邊為致使該電線避開接觸該基底上之圖案。 ^5· 一種用於支撐一基底之方法，其包括： ，該電線具有分別祕至第一與第二軸之端 或超寬開一距離’該距離與一基底之寬度-致 支撐電線至一預定位置，該基底藉由該至少-電線 I6.如申請專利範圍第ls項所述之方法，其進一步 一該電線以放置該基底於一基底處理裝置中之一下電極之 該下範圍第16項所述之方法，射該電線縮進 表面單獨Ϊ撐 溝，以使得該基底藉由該下電極之 18.如申請專利範圍帛15項所述之方法，其進一步包括： 12 200908201 設定該等第一與第二軸之位置，以使得該至少一電線避開該 基底之一表面上之一^圖案。 I9、如申請專利範圍第18項所述之方法，其進一步包括： 自第-位置改變該等第—與第二轴至第二位置以避開該圖 戈口甲睛寻利範圍第15 耦接至第一軸與第二軸之各自對之之方法，其中複數條電線 質上彼此平行。 間以支撐該基底，該等電線實